JP5711588B2 - ３ｄ画像表示装置、３ｄ画像表示装置用パターン偏光板、及び３ｄ画像表示システム - Google Patents

Description

本発明は、高精細なパターンの光学異方性層を有する３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板、それを用いた３Ｄ画像表示装置、及び３Ｄ画像表示システムに関する。

立体画像を表示する３Ｄ画像表示装置には、右眼用画像及び左眼用画像を、例えば、互いに反対方向の円偏光画像とするための光学部材が必要である。例えば、かかる光学部材には、遅相軸やレターデーション等が互いに異なる領域が規則的に面内に配置されたパターン位相差板が利用されている。

このパターン位相差板を使用して３Ｄ画像表示装置を作製するには、例えば、パターン位相差板と偏光板、又はパターン位相差板と表示パネルを貼り合わせる必要があり、且つ精度の高いアライメントが要求される。
また、精度の高いアライメントが要求されるので、貼り合わせ時の位置ズレがあった場合、一度剥離して再度貼り合わせる際の作業性、すなわち、リワーク性も要求される。

例えば、特許文献１では、画像表示パネル、偏光板、位相差素子、及び反射防止膜を個別に形成し、それぞれの部材を接合剤層で貼り合わせることで画像表示装置を作製する方法が提案されている。

しかし、特許文献１では、画像表示装置を作製するために、画像表示パネルと偏光板とを貼り合わせる第１接合剤層、偏光板と位相差素子とを貼り合わせる第２接合剤層、及び位相差素子と反射防止膜とを貼り合わせる第３接合剤層と、３層の接合剤層が必要であり、画像表示装置の作製工程数が多くなるとともに、膜厚も大きくなるという問題があった。このため、精度の高いアライメントが困難となり、歩留まりが低下するという問題もあった。また、接合剤層が３層あるため、光学特性が悪化するという問題もあった。

特許第４５９１５９１号公報

本発明は、上記した問題を解決するためになされたものであり、微細なパターンを有するパターン光学異方性層を有し、リワーク性に優れるパターン偏光板を備えた３Ｄ画像表示装置の、該パターン偏光板の位置ズレに起因するクロストークを軽減することを課題とする。
具体的には、リワーク性に優れた３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板、それを用いた、クロストークが軽減された３Ｄ画像表示装置、及び３Ｄ画像表示システムを提供することを課題とする。

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置されるパターン偏光板と、を有する３Ｄ画像表示装置であって、前記パターン偏光板は、視認側表面から表面層、パターン光学異方性層、及び直線偏光層をこの順で少なくとも有し；前記パターン偏光板は、表面層とパターン光学異方性層、及びパターン光学異方性層と直線偏光層との間にそれぞれ、多くとも一つのフィルムを有し；前記パターン偏光板は、多くとも一つの粘着剤層を含み；並びに前記画像表示パネルと前記パターン偏光板との間に粘着剤層を有する；ことを特徴とする３Ｄ画像表示装置。
［２］ 前記パターン光学異方性層と前記表面層との間に、これらの層を支持する一つのフィルムを有する［１］の３Ｄ画像表示装置。
［３］ 前記パターン光学異方性層と前記直線偏光層との間に、該パターン光学異方性層を支持し、且つ前記直線偏光層を保護する一つのフィルムを有する［１］又は［２］の３Ｄ画像表示装置。
［４］ 前記パターン光学異方性層と前記直線偏光層との間に、フィルム及び粘着剤層のいずれも存在しない［１］又は［２］の３Ｄ画像表示装置。
［５］ 前記パターン光学異方性層が、互いに面内遅相軸方向が異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層であり、さらに前記表面層が反射防止層を有する［１］〜［４］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［６］ 前記第１及び第２位相差領域の面内遅相軸方向が互いに直交しており、前記第１及び第２位相差領域の遅相軸方向と、前記直線偏光層の吸収軸方向とが各々±４５°である［５］の３Ｄ画像表示装置。
［７］ 前記パターン偏光板を通過した左目用/右目用映像光が互いに異なる方向に回転した円偏光である［１］〜［６］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［８］ 前記多くとも一つのフィルムが、主成分としてセルロース誘導体を含む［１］〜［７］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［９］ 前記多くとも一つのフィルムが、下記式（Ｉ）を満たす［１］〜［８］のいずれ
かの３Ｄ画像表示装置：
（Ｉ） ０≦Ｒｅ（５５０）≦１０
式（Ｉ）中、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍの面内レターデーションを表す。
［１０］ 前記パターン光学異方性層が、液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成される［１］〜［９］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［１１］ 前記表面層が、フッ素化合物を含有する反射防止層を有する［１］〜［１０］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［１２］ さらに画像表示パネルに表示された左目用/右目用映像が複数の位相差領域を通過することを妨げるための遮光部を有する［１］〜［１１］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［１３］ 前記粘着剤層が、ポリオール化合物を含有し、ガラス転移温度が室温以下である［１］〜［１２］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［１４］ 前記画像表示パネルが、液晶セルを有する［１］〜［１３］のいずれかの３Ｄ画像表示装置。
［１５］ 表面層、パターン光学異方性層、及び直線偏光層を少なくとも有するＤ画像表示装置用パターン偏光板であって、表面層とパターン光学異方性層、及びパターン光学異方性層と直線偏光層との間にそれぞれ、多くとも一つのフィルムを有し、及び多くとも一つの粘着剤層を含むことを特徴とする３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板。
［１６］ ［１］〜［１４］のいずれかの３Ｄ画像表示装置と、前記３Ｄ画像表示装置の観察者側に配置される第２の偏光板とを少なくとも備え、第２の偏光板を通じて立体画像を視認させる立体画像表示システム。

本発明によれば、微細なパターンを有するパターン光学異方性層を有し、リワーク性に優れるパターン偏光板を備えた３Ｄ画像表示装置の、該パターン偏光板の位置ズレに起因するクロストークを軽減することができる。
具体的には、リワーク性に優れた３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板、それを用いた、クロストークが軽減された３Ｄ画像表示装置、及び３Ｄ画像表示システムを提供することができる。

本発明の３Ｄ画像表示装置の一例を示す模式断面図である。 偏光膜と光学異方性層との関係の一例の概略図である。 偏光膜と光学異方性層との関係の一例の概略図である。 本発明に係わるパターン光学異方性層の一例の上面模式図である。 低屈折率層の断面の一例を示す模式断面図である。 反射防止膜の層構成の一例を示す模式断面図である。 従来の３Ｄ画像表示装置の一例を示す模式断面図である。 実施例で行った評価方法を説明するために用いた概略図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
式（１）

上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。

式（２）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（２）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

また、本発明におけるガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により求められるガラス転移温度である。また、室温以下とは、２５℃以下であることをいう。

また、本明細書では、「偏光板」の用語は、直線偏光版、円偏光板及び楕円偏光板のいずれも含む総称として用いる。

本発明の３Ｄ画像表示装置は、
画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置されるパターン偏光板と、を有する３Ｄ画像表示装置であって、
前記パターン偏光板は、視認側表面から表面層、パターン光学異方性層、及び直線偏光層をこの順で少なくとも有し；
前記パターン偏光板は、表面層とパターン光学異方性層、及びパターン光学異方性層と直線偏光層との間にそれぞれ、多くとも一つのフィルムを有し；
前記パターン偏光板は、多くとも一つの粘着剤層を含み；並びに
前記画像表示パネルと前記パターン偏光板との間に粘着剤層を有する；
ことを特徴とする。

表面層やパターン光学異方性層は、それぞれフィルム上に塗布により形成され、支持体ごと表示装置に組み込まれるのが一般的である。また直線偏光層についても、両面に保護フィルムを積層した偏光板として組み込まれるのが一般的である。即ち、パターン偏光板を構成する表面層、パターン光学異方性層、及び直線偏光層はそれぞれ個別にフィルムと一体化した部材として作製され、それぞれを粘着剤層を介して貼り合わせて作製されるのが一般的である。パターン偏光板と画像表示パネルとを貼り合わせる際、接着時の位置ズレがあった場合、パターン偏光板と画像表示パネルとを剥離して再度接着させる際の作業性、即ち、リワーク性に優れる必要がある。発明者の鋭意研究の結果、従来のようにそれぞれの部材を粘着剤層を介して貼り合わせると、層数の増加に伴う剥離不良（表示パネル側に剥がした残りの部材が付着する）が生じ、リワーク性に劣ることを見出した。本発明では、一つのフィルムを、自己支持性のない表面層及びパターン光学異方性層の双方の支持体フィルムとして機能させることにより、又は一つのフィルムを、直線偏光層の保護フィルム及びパターン光学異方性層の支持体フィルムの双方として機能させることにより、必要な粘着剤層の数を軽減し、リワーク性を改善している。また、必要な粘着剤層の数を軽減したことにより膜厚が減少する。このため、クロストークのない３Ｄ画像表示装置を安定的に高い生産性で提供することができる。
また、必要な粘着剤層の数を軽減したことにより、製造工程数が減少し、コストダウンにもつながる。

本発明に係わるパターン偏光板では、表面層とパターン光学異方性層、及びパターン光学異方性層と直線偏光層との間には、それぞれ、２以上のフィルムは配置されておらず、多くとも一つのフィルムしか配置されていない。それぞれの間には、フィルムはなくてもよい。例えば、一つのフィルムの一方の表面に表面層を、他方の表面にパターン光学異方性層を形成した積層体を、直線偏光層の保護フィルムとして利用してもよく、この態様では、パターン光学異方性層と直線偏光層との間には、フィルムが存在しない。

また、前記パターン偏光板は、他の塗布により形成される層を含んでいてもよく、例えば、パターン光学異方性層の形成に利用される配向膜を有していてもよい。

本発明の３Ｄ画像表示装置は、画像表示パネルと、パターン偏光板とを有する。パターン偏光板は、画像表示パネルの視認側に配置され、画像表示パネルが表示する画像を右眼用及び左眼用の円偏光画像又は直線偏光画像等の偏光画像に変換する機能を有する。観察者は、これらの画像を円偏光又は直線偏光眼鏡等の偏光板を介して観察し、立体画像として認識する。また、画像表示パネルとパターン偏光板とは、粘着剤層を介して接着されている。

本発明の３Ｄ画像表示装置の一例の断面模式図を図１（ａ）に示す。なお、図中、各層の厚みの相対的関係は、実際の各層の厚みの相対的関係と必ずしも一致しているものではない。
図１（ａ）に示す例では、表面層及びパターン光学異方性層の間に、一つのフィルムのみが配置され、当該フィルムは、表面層及びパターン光学異方性層の双方の支持体フィルムとして利用されている。直線偏光層と、その両面に保護フィルムとを有する偏光板を、この積層体（表面層、フィルム及びパターン光学異方性層を有する積層体）と貼合する際は、偏光板の保護フィルムとパターン光学異方性層とを粘着剤を利用して貼り合わせればよく、即ち、図１（ａ）に示す例では、パターン偏光板は、直線偏光層の保護フィルムとパターン光学異方性層との間に１層の粘着剤層のみを有する。位相差板は、他の部材を含んでいてもよく、図１（ａ）に示す例では、フィルムとパターン光学異方性層との間に配向膜を有していてもよい。

図１（ｂ）に示す例では、パターン光学異方性層と直線偏光層との間に、一つのフィルムのみが配置され、当該フィルムは、パターン光学異方性層の支持体フィルムとして、及び直線偏光層の保護フィルムとして利用されている。直線偏光層と、その両面に保護フィルム、さらにその上にパターン光学異方性層を有する偏光板を、フィルム上に表面層が形成された表面フィルムと貼合する際は、当該偏光板のパターン光学異方性層と表面フィルムの裏面（表面層が形成されていない側の面）とを粘着剤を利用して貼り合わせればよく、即ち、図１（ｂ）に示す例では、パターン偏光板は、パターン光学異方性層と表面層の支持体フィルムとの間に１層の粘着剤層のみを有する。

図１（ｃ）に示す例では、表面層及びパターン光学異方性層の間に、一つのフィルムのみが配置され、当該フィルムは、表面層及びパターン光学異方性層の双方の支持体フィルムとして利用されている。一方、パターン光学異方性層と直線偏光層との間にはフィルムは存在せず、パターン光学異方性層の表面に直線偏光層が積層されている。図１（ｃ）に示す例では、直線偏光層と、その片面に保護フィルムを有する偏光板を、表面層、フィルム及びパターン光学異方性層を有する積層体と貼合する際は、粘着剤がなくても貼り合わせることができ、即ち、パターン偏光板は、粘着剤が存在しない。

本発明では、前記パターン偏光板は、画像表示パネルの視認側外側に配置され、当該パターン偏光板を通過した偏光画像が、偏光眼鏡等を介して右眼用又は左眼用の画像として、認識される。右眼用及び左眼用の画像は、前記パターン偏光板に含まれるパターン光学異方性層のパターンに基づいて形成される。従って、左右画像が不均一とならないように、パターン光学異方性層を構成する第１及び第２位相差領域は、互いに等しい形状であるのが好ましく、またそれぞれの配置は、均等且つ対称的であるのが好ましい。

前記パターン光学異方性層は、面内遅相軸が互いに異なる方向である又は面内レターデーションが互いに異なる、第１及び第２位相差領域を有する。一例は、第１及び第２位相差領域の面内レターデーションがそれぞれλ／４程度であり、互いに直交する面内遅相軸をそれぞれ有する光学異方性層である。この例では、図２及び図３に示す通り、光学異方性層１２を、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの面内遅相軸ａ及びｂをそれぞれ、直線偏光層１６の透過軸Ｐと±４５°にして配置する。本明細書では、厳密に±４５°であることを要求するものではなく、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂのいずれか一方については、４０〜５０°であることが好ましく、他方は、−５０〜−４０°であることが好ましい。この構成により右眼用及び左眼用の円偏光画像を分離することができる。また、λ／２板をさらに積層することで、視野角をより拡大してもよい。

第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの一方の面内レターデーションがλ／４であり、且つ他方の面内レターデーションが３λ／４である光学異方性層を利用しても同様に円偏光画像を分離することができる。

さらに、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの一方の面内レターデーションがλ／２であり、且つ他方の面内レターデーションが０である光学異方性層を利用し、これを面内レターデーションがλ／４の透明支持体と各々の遅相軸を平行又は直交して積層しても同様に円偏光画像を分離することができる。
また、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの形状及び配置パターンは、図２及び３に示すストライプ状のパターンを交互に配置した態様に限定されるものではない。図４に示す様に、矩形状のパターンを格子状に配置してもよい。

パターン光学異方性層は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。パターン光学異方性層は、重合性基を有する液晶化合物を主成分とする組成物の１種又は２種から形成することができる。前記組成物を所望の配向状態にし、該配向状態を、重合反応を進行させることで固定して形成するのが好ましい。所望の光学特性に応じて、水平配向、垂直配向、及びハイブリッド配向等を利用することができる。棒状液晶を水平配向状態に固定することで、λ／４層を安定的に形成することができる。また、ディスコティック液晶を垂直配向状態に固定することで、λ／４層を安定的に形成することができる。なお、本明細書において「垂直配向」とは、例えば、液晶化合物がディスコティック液晶の場合、ディスコティック液晶の円盤面と層面が垂直であることをいう。厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が７０度以上の配向を意味するものとする。傾斜角は８５〜９０度が好ましく、８７〜９０度がより好ましく、８８〜９０度がさらに好ましく、８９〜９０度が最も好ましい。また、前記組成物としては、液晶化合物の配向を制御する配向制御剤を含有していてもよい。液晶化合物及び配向制御剤の詳細については後述する。

また、光学異方性層の各パターンの面内遅相軸は、パターン配向膜等を利用することで、互いに異なる方向、例えば互いに直交する方向、に調整することができる。パターン配向膜としては、マスク露光によりパターニング配向膜を形成可能な光配向膜、及びマスクラビングによりパターニング配向膜を形成可能なラビング配向膜のいずれも利用することができる。また、パターン配向膜を利用せずに、ナノインプリントによる配向制御技術を利用することもできる。ナノプリントによる配向制御技術は、ナノプリント技術により、微細構造を複数種形成し、形状によって配向を制御する技術、又はナノインプリントのモールド自体に配向性を付与しておいて、直接、所望の配向状態になった光学異方性層をプリント転写する技術である。ナノプリントによる配向制御技術については、特許第４５４７６４１号等に記載があり、参照することができる。

前記パターン偏光板が有する表面層は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。外光の映り込みを防止する反射防止層や、外光に曝されることによる劣化を防止する紫外線吸収層等を含んでいるのが好ましい。

前記パターン偏光板が有する直線偏光層は、延伸フィルムからなっていても、塗布により形成される層であってもよい。前者の例には、ポリビニルアルコールの延伸フィルムをヨウ素又は二色性染料等で染色したフィルムが挙げられる。後者の例には、二色性液晶性色素を含む組成物を塗布して、所定の配向状態に固定した層が挙げられる。

本発明のパターン偏光板が有するフィルムは、光学的に等方性であっても、異方性であってもよい。光学的に等方性、具体的にはＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下で、且つＲｔｈ（５５０）が２０ｎｍ以下のフィルムを用いるのが好ましい。勿論、光学的に異方性の位相差フィルムを用いてもよく、当該態様では、前記パターン偏光板に含まれる全ての部材のトータルのＲｅが、所望の範囲になっているのが好ましく、例えば、パターン円偏光板の態様では、全ての部材のトータルのＲｅが１１０〜１４５ｎｍであるのが好ましく、１１５〜１４０ｎｍであるのがより好ましく、１２０〜１３５ｎｍであることが特に好ましい。

本発明に使用可能なフィルムを形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマーも例として挙げられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。

また、前記フィルムを形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。

また、前記フィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、セルロース系ポリマーを好ましく用いることができ、中でも、トリアセチルセルロース（以下、ＴＡＣという）に代表される、セルロースアシレートをより好ましく用いることができる。

前記フィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍが更に好ましい。

本発明では、画像表示パネルについてなんら制限はない。例えば、液晶層を含む液晶パネルであっても、有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ表示パネルであっても、プラズマディスプレイパネルであってもよい。いずれの態様についても、種々の可能な構成を採用することができる。また、透過モードの液晶パネル等は、視認側表面に画像表示のための偏光膜を有する態様では、本発明のパターン偏光板が有する直線偏光層が、画像表示パネルの画像表示のためにも利用されていてもよい。即ち、液晶表示装置の視認側の偏光板としても同時に機能しうる。

画像表示パネルが液晶表示パネルの態様では、液晶セルの構成については特に制限はなく、一般的な構成の液晶セルを採用することができる。液晶セルは、例えば、図示しない対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層とを含み、必要に応じて、カラーフィルタ層などを含んでいてもよい。液晶セルの駆動モードについても特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。ＴＮモードでは、一般的に、偏光膜の透過軸は、表示面左右方向０°に対して４５°又は１３５°に配置されるので、ＴＮモード液晶パネルとは、図２に示す態様の位相差板と組み合わせるのが好ましい。また、ＶＡモード及びＩＰＳモードでは、一般的に、偏光膜の透過軸は、表示面左右方向０°に対して０°又は９０°に配置されるので、ＶＡモード及びＩＰＳモード液晶パネルとは、図３に示す態様の位相差板と組み合わせるのが好ましい。

本発明は、３Ｄ画像表示システムにも関する。本発明の３Ｄ画像表示システムは、本発明の３Ｄ画像表示装置と、前記３Ｄ画像表示装置の観察者側に配置される第２の偏光板とを少なくとも備え、第２の偏光板を通じて立体画像を視認させる立体画像表示システムである。前記パターン偏光板が、パターン円偏光板である態様では、第２の偏光板は、λ／４層を有する円偏光板であり、互いに異なる方向の円偏光板が右眼及び左眼用に配置された円偏光眼鏡であるのが好ましい。

以下、本発明の３Ｄ画像表示装置に用いられる種々の部材について詳細に説明する。

＜粘着剤層＞
本発明の３Ｄ画像表示装置は、前記パターン偏光板と画像表示パネルを貼合するための粘着剤層を有する。また前記パターン偏光板には、多くとも一つの粘着剤層を有する。前記パターン偏光板には、粘着剤層が存在してなくてもよい。前記パターン偏光板が有する粘着剤層と、該パターン偏光板と画像表示パネルとを貼合するための粘着剤層は、互いに同一の粘着剤組成物からなっていても、また互いに異なる粘着剤組成物からなっていてもよい。また、本明細書においては、「粘着剤」の用語には、通常「接着剤」に分類されるものも含む総称で用いるものとする。なお、直線偏光層は、接着剤を介して保護フィルム又は光学異方性層と接着させる必要があるが、前記接着剤を含む層は粘着剤層とみなさず、直線偏光層であるものとする。即ち、ＰＶＡ直線偏光層をＰＶＡ接着剤で接着する場合は、ＰＶＡ接着剤を粘着剤層とみなさない。

本発明に利用可能な粘着剤層の材料の例には、動的粘弾性測定装置で測定したＧ’とＧ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質であって、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。粘着剤については特に制限はなく、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤、ガラス転移温度が室温以下である粘着剤を用いることができ、リワーク性及び粘着性の観点から、ガラス転移温度が室温以下である粘着剤を含む粘着剤層を用いることが好ましい。
以下、ガラス転移温度が室温以下である粘着剤について説明する。

前記粘着剤のガラス転移温度としては、室温以下が好ましく、−１５℃以下であることが好ましく、−３０℃以下であることが更に好ましい。粘着剤のガラス転移温度が室温を超えると、フィルムの寸法変化に対応させることが困難となる。

本発明では、貯蔵弾性率を、ガラス転移温度と同様に粘着剤組成物の硬軟の指標として用いることもできる。前記粘着剤組成物のせん断モードによる貯蔵弾性率Ｇ'は、３０℃において、１０００ＫＰａ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ＫＰａ以下、さらに好ましくは４００ＫＰａ以下である。また、前記粘着剤組成物の貯蔵弾性率は、保存性の観点から１ＫＰａ以上であることが好ましい。すなわち、前記粘着剤組成物の貯蔵弾性率は１０００ＫＰａ〜１ＫＰａの範囲であることが好ましく、より好ましくは５００ＫＰａ〜１０ＫＰａ、さらに好ましくは４００ＫＰａ〜２０ＫＰａである。前記貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定装置（例えばアイティー計測制御（株）製ＤＶＡ−２００）による周波数１Ｈｚでの測定で得られる動的粘弾性挙動から求めることができる。さらに動的粘弾性挙動によって求められる損失正接（tanδ）は、周波数１Ｈｚ、引張りモードまたはせん断モードで測定した時に３０℃において１．０〜０．００３の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．９〜０．００３５の範囲であり、さらに好ましくは０．６〜０．００４の範囲である。

粘着剤としては、常温〜４０℃において、液状であるものを用いることが好ましい。溶媒は用いないことが好ましく、用いたとしても極力少量に留めることが好ましい。粘着剤組成物としては、位相差板を動かしながら気泡が入らずにアライメントできるという点から、温度２５℃における粘度が０．１〜１０００ｃＰ（０．１〜１０００ｍＰａ・ｓ）が好ましく、１〜１００ｍＰａ・ｓがより好ましく、５〜５０ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
また、粘度調整のために、増粘剤として、質量平均分子量１万以上のポリマーを用いることができる。少量の添加で所望の粘度とするためには、より高分子量のポリマー、すなわち質量平均分子量１０万以上のポリマーが好ましく、質量平均分子量１００万以上のポリマーを用いるとさらに好ましい。ただし、例えば前述の好ましいガラス転移温度や後述の好ましい質量平均分子量を有するウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーを使用すること等により、増粘剤を使用することなく好適な粘度を有する粘着剤組成物を得ることももちろん可能である。

本発明では、前記粘着剤組成物が紫外線で硬化する紫外線硬化型組成物から形成することにより、位相差板と表示パネルとの貼りあわせにかかる装置が簡便になり、しかも貼り合わせ時間を短縮することができ、安価製造が可能になる。これにより生産性を向上することができる。そして前記紫外線硬化型組成物として、ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーを含有する紫外線硬化型組成物を使用することにより、ガラス転移温度が低いにもかかわらず接着力を高くすることができる。前述のように、従来の紫外線硬化型組成物は低Ｔｇになるほど接着力が低下する。ガラス転移温度の低い高分子とは、ミクロブラウン運動により高分子主鎖の分子内回転が起こりやすい高分子のことであり、換言すれば高分子主鎖の周りに大きな自由体積を有するポリマーである。このことから、通常、ガラス転移温度が低い高分子は凝集力が低く、接着力が低い。すなわち、ガラス転移温度が低くなることが予想されるモノマーを用いて重合させると、凝集力が低く接着力が低い粘着剤組成物が得られることとなる。これに対し、ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーを含有させることにより、ガラス転移温度が低いにもかかわらず高い接着力を有する紫外線硬化型組成物が得られることはきわめて驚くべき事実である。

本発明において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリル酸エステル（アクリレート）とメタクリル酸エステル（メタクリレート）を包含するものであり、「ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマー」とは、質量平均分子量１００〜１×１０⁷のウレタン（メタ）アクリレートであり、好ましくは質量平均分子量１０００〜１×１０⁶、より好ましくは質量平均分子量１００００〜１０００００のウレタン（メタ）アクリレートである。

前記ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーとしては、１官能から５官能のものが好ましく、より好ましくは２官能から４官能であり、さらに好ましくは２官能から３官能である。
また、良好な塗布適性を有する紫外線硬化型組成物を得るためには、ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーとして、ガラス転移温度が−１０℃以下のものを用いることが好ましい。−１０℃以下のガラス転移温度を有するウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーを用いることにより、粘度が適当で良好な塗布適性を有する紫外線硬化型組成物を得ることができる。ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーのガラス転移温度は、より好ましくは−１５℃〜−１００℃、更に好ましくは−２０℃〜−９０℃である。

前記ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーの質量平均分子量は、好ましくは１００〜１×１０⁷、より好ましくは１０００〜１×１０⁶、更に好ましくは１００００〜１０００００である。質量平均分子量が上記範囲内であれば、上記好ましい粘度を有する紫外線硬化型組成物を得ることができ、しかも硬化後のガラス転移温度が所望の範囲にある紫外線硬化型組成物を得ることができる。

前記ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーは、ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物および水酸基含有（メタ）アクリレート化合物を反応させることにより得ることができる。または市販品としても入手可能である。市販品としては、ダイセルサイテック社製ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ−２３０（２官能、質量平均分子量５０００（メーカーカタログ値）、Ｔｇ；−５５℃）、ＥＢＥＣＲＹＬ−２７０（２官能、質量平均分子量１５００、Ｔｇ；−２７℃）、ＫＲＭ８２９６（３官能、Ｔｇ；−１１℃）などが挙げられるが本発明はこれらに限るものではない。
以下に、ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーの原料として使用可能な各成分の詳細を説明する。

（ｉ）ポリオール化合物
ポリオール化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、分子中に２個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素、分子中に２個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素、分子中に２個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素等が用いられる。これらのポリオールは単独で用いることも、２種類以上併用することもできる。

上記ポリエーテルポリオールとしては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環式ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオールを挙げることができる。

ここで、脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、およびトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加トリオール、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加トリオール、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイドとプロピレンオキサイド付加トリオール、ペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加テトラオール、ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加ヘキサオール等のアルキレンオキサイド付加ポリオール等の多価アルコール、あるいは２種類以上のイオン重合性環状化合物を開環重合させて得られるポリエーテルポリオール等が挙げられる。

なお、イオン重合性環状化合物としては、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテン−１−オキシド、イソブテンオキシド、３，３−ビス（クロロメチル）オキセタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステル等の環状エーテル類が挙げられる。上記二種類以上のイオン重合性環状化合物の具体的な組み合わせとしては、テトラヒドロフランとエチレンオキシド、テトラヒドロフランとプロピレンオキシド、テトラヒドロフランと２−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフラン、エチレンオキシドとプロピレンオキシド、ブテン−１−オキシドとエチレンオキシド、テトラヒドロフランとブテン−１−オキシドとエチレンオキシド等を挙げることができる。

また、上記イオン重合性環状化合物と、エチレンイミン等の環状イミン類、β−プロピオラクトン、グリコール酸ラクチド等の環状ラクトン酸、あるいはジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させたポリエーテルポリオールを使用することもできる。

脂環式ポリエーテルポリオールとしては、例えば水添ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのアルキレンオキシド付加ジオール、１，４−シクロヘキサンジオールのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。

芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えばビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加ジオール、ビスフェノールＦのアルキレンオキシド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。

上記ポリエーテルポリオールの市販品としては、例えば脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、ＰＴＭＧ６５０、ＰＴＭＧ１０００、ＰＴＭＧ２０００（以上、三菱化学（株）製）、ＰＰＧ１０００、ＥＸＣＥＮＯＬ１０２０、ＥＸＣＥＮＯＬ２０２０、ＥＸＣＥＮＯＬ３０２０、ＥＸＣＥＮＯＬ４０２０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＥＧ１０００、ユニセーフＤＣ１１００、ユニセーフＤＣ１８００、ユニセーフＤＣＢ１１００、ユニセーフＤＣＢ１８００（以上、日本油脂（株）製）、ＰＰＴＧ１０００、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ４０００、ＰＴＧ４００、ＰＴＧ６５０、ＰＴＧ２０００、ＰＴＧ３０００、ＰＴＧＬ１０００、ＰＴＧＬ２０００（以上、保土谷化学工業（株）製）、ＰＰＧ４００、ＰＢＧ４００、Ｚ−３００１−４、Ｚ−３００１−５、ＰＢＧ２０００、ＰＢＧ２０００Ｂ（以上、第一工業製薬（株）製）、ＴＭＰ３０、ＰＮＴ４グリコール、ＥＤＡ Ｐ４、 ＥＤＡ Ｐ８（以上、日本乳化剤（株）製）、クオドロール（旭電化（株）製）が挙げられる。芳香族ポリエーテルポリオールとしてはユニオールＤＡ４００、ＤＡ７００、ＤＡ１０００、ＤＢ４００（以上、日本油脂（株）製）等を挙げることができる。

また、上記ポリエステルポリオールは、多価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られる。ここで、多価アルコールとしては、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−ビス（ヒドロキシエチル）シクロヘキサン、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのエチレンオキシドとプロピレンオキシドの付加体、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、アルキレンオキシド付加ポリオール等が挙げられる。また、多塩基酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸等を挙げることができる。これらのポリエステルポリオールの市販品としては、クラポールＰ１０１０、クラポールＰ２０１０、ＰＭＩＰＡ、ＰＫＡ−Ａ、ＰＫＡ−Ａ２、ＰＮＡ−２０００（以上、（株）クラレ製）等を使用することができる。

また、上記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば下記一般式（１）で示されるポリカーボネートジオールが挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ¹は、炭素数２〜２０のアルキレン基、（ポリ）エチレングリコール残基、（ポリ）プロピレングリコール残基または（ポリ）テトラメチレングリコール残基を示し、ｍは１〜３０の範囲の整数である。

Ｒ¹の具体例としては、次の化合物から両末端水酸基を除いた残基、すなわち１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１、７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール等から水酸基を除いた残基が挙げられる。これらのポリカーボネートポリオールの市販品としては、ＤＮ−９８０、ＤＮ−９８１、ＤＮ−９８２、ＤＮ−９８３（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、ＰＣ−８０００（ＰＰＧ社製）、ＰＮＯＣ１０００、ＰＮＯＣ２０００、ＰＭＣ１００、ＰＭＣ２０００（以上、（株）クラレ製）、プラクセル ＣＤ−２０５、ＣＤ−２０８、ＣＤ−２１０、ＣＤ−２２０、ＣＤ−２０５ＰＬ、ＣＤ−２０８ＰＬ、ＣＤ−２１０ＰＬ、ＣＤ−２２０ＰＬ、ＣＤ−２０５ＨＬ、ＣＤ−２０８ＨＬ、ＣＤ−２１０ＨＬ、ＣＤ−２２０ＨＬ、ＣＤ−２１０Ｔ、ＣＤ−２２１Ｔ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等を使用することができる。

上記ポリカプロラクトンポリオールとしては、εーカプロラクトンを例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール等のジオールに付加反応させて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられる。これらの市販品としては、プラクセル ２０５、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等を使用することができる。

分子中に２個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等が挙げられる。

分子中に２個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素としては、例えば１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−ビス（ヒドロキシエチル）シクロヘキサン、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。

分子中に２個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素としては、例えばヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端ポリイソプレン等が挙げられる。

さらにまた、上記以外のポリオールとしては、例えばβ−メチル−δ−バレロラクトンジオール、ひまし油変性ジオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ジオール等が挙げられる。

これらのポリオール化合物の好ましい質量平均分子量は１０００〜１００００、特に好ましくは１０００〜９０００である。質量平均分子量は、ポリマーの一部をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定される値とする。本発明における質量平均分子量は、ポリスチレンを標準物質とした値である。

溶解性の点から最も好ましいポリオール化合物としては、ポリプロピレングリコールを挙げることができる。

（ｉｉ）ポリイソシアネート化合物
ポリイソシアネート化合物としてはジイソシアネート化合物が好ましく、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３′−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４′−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート（例えば４、４‘−ジシクロヘキシルジイソシアナートなど）、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。これらのうち、特に２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート等が好ましい。これらのジイソシアネートは単独または２種類以上を組み合わせて用いることができる。

（ｉｉｉ）水酸基含有（メタ）アクリレート化合物
水酸基含有（メタ）アクリレートはエステル残基に水酸基を有する（メタ）アクリレートであり、すなわち（メタ）アクリル酸にエチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（質量平均分子量が、例えば２００〜９０００、好ましくは１０００〜９０００、より好ましくは２０００〜８０００）、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（質量平均分子量が、例えば２００〜９０００、好ましくは１０００〜９０００、より好ましくは２０００〜８０００）、などの二官能性アルコールを反応させて得られるモノヒドロキシ（メタ）アクリレートである。例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、または下記構造式（２）で表される（メタ）アクリレート等が挙げられ、

［一般式（２）中、Ｒ²は水素原子またはメチル基を示し、ｎは１〜１５、好ましくは１〜４の範囲の整数を示す。］、さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物も挙げることができる。これらのうち、特に２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが好ましい。

ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーの合成方法は特に制限されないが、例えば次の（ｉ）〜（iii）の方法に従って行われる。
（ｉ）（ｂ）ポリイソシアネートおよび（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いで（ａ）ポリオールの順に反応させる方法。
（ii）（ａ）ポリオール、（ｂ）ポリイソシアネート、（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートを一括に仕込んで反応させる方法。
（iii）（ａ）ポリオールおよび（ｂ）ポリイソシアネートを反応させ、次いで（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。

本発明で用いるウレタン（メタ）アクリレートの合成においては通常、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ジラウリル酸ジ−ｎ−ブチルスズ、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン、１，４−ジアザ−２−メチルビシクロ〔２．２．２〕オクタン等のウレタン化触媒を、反応物の総量１００質量部に対して０．０１〜１質量部用いることが好ましい。この反応における反応温度は、通常０〜９０℃、好ましくは１０〜８０℃である。

好適な塗布適性を有する紫外線硬化型組成物を得る観点から好ましいウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーとしては、下記（Ａ）、（Ｂ）を挙げることができる。
（Ａ）質量平均分子量１０００〜１００００のポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物および水酸基含有（メタ）アクリレート化合物の反応生成物。
（Ｂ）ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物および質量平均分子量１０００〜１００００の水酸基含有（メタ）アクリレート化合物の反応生成物。

前記ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーは、形成される中間層のガラス転移温度および紫外線硬化型組成物の粘度の点から、組成物１００質量部中１０〜８０質量部含まれることが好ましく、１５〜７５質量部含まれることがより好ましく、２０〜７０質量部含まれることが更に好ましい。なお、前記ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーは一種のみ用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

前記紫外線硬化型組成物は、前記ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーとともに、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレート等の重合性モノマー成分を含むことができる。これらは各々、単独または２種以上組み合わせて使用することができる。前記重合性モノマーとしては、下記一般式（ａ）で表されるアクリレートおよび下記一般式（ｂ）で表されるメタアクリレートを挙げることができる。

より詳しくは、本発明に使用可能な重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては例えば、一般式（ａ）、（ｂ）において置換基Ｒ¹¹がメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシエチル基、ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、ノニルフェノキシエチル基、テトラヒドロフルフリル基、グリシジル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル基、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンテニロキシエチル基等の置換基を有する（メタ）アクリレート等、さらに、（メタ）アクリル酸が挙げられる。
好ましい置換基Ｒ¹¹としてはブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、が挙げられ、さらに好ましいモノマーとしてはブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ノニルアクリレート、ドデシルメタクリレートが挙げられる。

また、多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、 ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
好ましくはビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレートであり、より好ましくはビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ（メタ）アクリレートである。

また、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミドまたはＮ−ヒドロキシエチルアクリルアミドおよびそれらのアルキルエーテル化合物等も使用できる。

更に、紫外線硬化型化合物としては、重合性オリゴマーを使用することもできる。重合性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記紫外線硬化型組成物中の併用する重合性化合物の含有量は、紫外線硬化型組成物１００質量部あたり９０〜２０質量部とすることが好ましく、８５〜２５質量部とすることがより好ましく、８０〜３０質量部とすることが更に好ましい。

紫外線硬化型組成物には、一般に光重合開始剤が添加される。光重合開始剤は、用いる重合性モノマーおよび／または重合性オリゴマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できるものであればよく、特に限定されるものではない。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明に好適である。

光重合開始剤としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、ベンジル、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が好適であり、更にこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイルエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−４'−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン等を併用してもよいし、更に水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタロフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルスルフイド等も併用できる。
好ましくは２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４'−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンであり、より好ましくは２−イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４'−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンである。

また上記光重合開始剤に対し、増感剤として、例えば、トリエチルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加重合反応を起こさないアミン類を併用することもできる。勿論、上記光重合開始剤や増感剤は、硬化型成分への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。

また、紫外線硬化型組成物には、必要であれば、さらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、硬化型成分への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。

前記紫外線硬化型組成物中の光重合開始剤、増感剤および各種添加剤の使用量は適宜設定することができる。

粘着剤組成物硬化のために照射される紫外線の照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ²超とすることが好ましい。より好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲である。硬化に使用するＵＶランプとしては、例えばメタルハライドランプＭ０２−Ｌ３１（アイグラフィックス社製、コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）やXenon Corporation社製4.2inch-SPIRAL LAMP等を用いることができる。紫外線照射時のランプ面とサンプル面との間の距離は適宜設定することが好ましい。

紫外線硬化型組成物が塗布された媒体をＵＶ照射位置へ移動させる（例えばスピンテーブルからＵＶ照射テーブルへの移動させる）ためには、媒体の外周部分または内周部分で基板を保持して持ち上げて移動させることが望ましい。吸着などの方法で上から媒体を支持して持ち上げると、紫外線硬化型組成物が未硬化であるために媒体が変形したり、粘着剤組成物に気泡が混入したりして、粘着剤組成物の膜厚変動や欠陥の原因となる可能性がある。外周部を支持して移動する場合においては、支持部材を定期的に清掃することが好ましい。外周部はスピン時に振切られた未硬化の紫外線硬化型組成物が外周縁部に付着していることがあり、支持部材に付着することがある。繰り返し同じ支持部材で媒体を移動する時に、支持部材から媒体へと付着して欠陥を生じる可能性がある。
また、ＵＶ照射位置（例えばＵＶ照射テーブル上）では、媒体を支持する部位として、基板（媒体）の内周部、外周部または中周部などの中から一つの部位、或いは複数の部位を支持することができる。プレート状の支持部材で全面を均一に支持してもよい。複数の部位を支持する場合には、各々の部位の支持高さを変更することができる。これは、例えば内周のみを支持した場合に、支持されていない媒体外周部が自重で下に垂れ、その形状で硬化されることで、硬化後の媒体の反りが生じる場合に、外周部も支持して垂れを抑制することで硬化後の反りを抑制するような場合であり、各支持部材の高さを調整して硬化後の媒体形状を調整する効果が期待できる。

前記紫外線硬化型組成物は、硬化後にも高い透過率を有し得る。前記紫外線硬化型組成物によれば、後述する実施例記載の方法で測定される値として、例えば１００〜８０％の透過率を有する粘着剤組成物を形成することができる。

粘着剤層の厚さは、光学特性と粘着力を両立する観点から、５０μｍ以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは１〜４５μｍの範囲、更に好ましくは５〜４０μｍの範囲である。

＜パターン光学異方性層＞
本発明におけるパターン光学異方性層は、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、且つ前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層である。一例は、第１及び第２位相差領域がそれぞれλ／４程度のＲｅを有し、且つ面内遅相軸が互いに直交している光学異方性層である。このような光学異方性層の形成には種々の方法があるが、本発明では、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成されることが好ましい。液晶化合物は、棒状液晶性化合物であっても、ディスコティック液晶化合物であってもよい。また、液晶化合物は、サーモトロピック液晶でもよく、リオトロピック液晶であってもよい。本発明では、重合性基を有するディスコティック液晶を垂直配向させた状態で重合させ、固定化して形成することが好ましい。

［重合性基を有するディスコティック液晶化合物］
本発明の光学異方性層の主原料として使用可能なディスコティック液晶としては、前記のとおり重合性基を有する化合物が好ましい。
前記ディスコティック液晶としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｉ）： Ｄ（−Ｌ−Ｈ−Ｑ）_n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｈは二価の芳香族環又は複素環であり、Ｑは重合性基であり、ｎは３〜１２の整数を表す。

円盤状コア（Ｄ）は、ベンゼン環、ナフタレン環、トリフェニレン環、アントラキノン環、トルキセン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が好ましく、ベンゼン環、トリフェニレン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が特に好ましい。

Ｌは、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基が好ましく、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基であることが特に好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＤに結合する位置を表す。

Ｈは、芳香族環としては、ベンゼン環及びナフタレン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。複素環としては、ピリジン環及びピリミジン環が好ましく、ピリジン環が特に好ましい。Ｈは、芳香族環が特に好ましい。

重合性基Ｑの重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。中でも、(メタ)アクリレート基、エポキシ基が好ましい。

前記一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶は、下記一般式（II）又は（III）で表されるディスコティック液晶であることが特に好ましい。

式中、Ｌ、Ｈ、Ｑは、前記一般式（Ｉ）におけるＬ、Ｈ、Ｑとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。

式中、Ｙ¹、Ｙ²、及びＹ³は、後述する一般式（IV）におけるＹ¹¹、Ｙ¹²、及びＹ¹³と同義であり、その好ましい範囲も同一である。また、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³も、後述する一般式（IV）におけるＬ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³と同義であり、その好ましい範囲も同一である。

後述するように、一般式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）で表されるように、分子内に複数個の芳香環を有しているディスコティック液晶は、配向制御剤として用いられるピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物等のオニウム塩との間に分子間π−π相互作用が起こるため、垂直配向を実現できる。特に、例えば、一般式（II）において、Ｌが、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基である場合、及び、一般式（III）において、複数個の芳香環及び複素環が単結合で連結される場合は、該連結基により結合の自由回転が強く束縛されることにより分子の直線性が保持されるため、液晶性が向上すると共に、より強い分子間π−π相互作用が起こり安定な垂直配向が実現できる。

前記ディスコティック液晶としては、下記一般式（IV）で表される化合物が好ましい。

式中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表し；Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す；

一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ¹及びＹＡ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す；

一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ¹及びＹＢ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す；

一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｑ²）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（ＩＶ）におけるＨ¹〜Ｈ³側と結合する位置を表す；Ｌ²¹は単結合又は二価の連結基を表す；Ｑ²は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す；ｎ１は、０〜４の整数を表す；Ｌ²²は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ₂−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表す；Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す；Ｑ¹は重合性基又は水素原子を表す。

前記式（IV）で表される３置換ベンゼン系ディスコティック液晶性化合物の各符号の好ましい範囲、及び前記式（IV）の化合物の具体例については、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［００７７］記載を参照することができる。但し、本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物は、前記式（IV）の３置換ベンゼン系ディスコティック液晶性化合物に限定されるものではない。

トリフェニレン化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

前記一般式（IV）で表されるディスコティック液晶は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、後述する、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる。特に、一般式（IV）で表されるディスコティック液晶は、複数個の芳香環が単結合で連結されているため、分子の回転自由度が束縛された直線性の高い分子構造を有しているため、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物との間により強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させ垂直配向状態が実現できる。

本発明では、ディスコティック液晶を垂直配向させるのが好ましい。尚、本明細書において「垂直配向」とは、ディスコティック液晶の円盤面と層面が垂直であることをいう。厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が７０度以上の配向を意味するものとする。傾斜角は８５〜９０度が好ましく、８７〜９０度がより好ましく、８８〜９０度がさらに好ましく、８９〜９０度が最も好ましい。
なお、前記組成物中には、液晶の垂直配向を促進する添加剤を添加していることが好ましく、該添加剤の例には、特開２００９−２２３００１号公報の［００５５］〜［００６３］に記載の化合物が含まれる。

なお、液晶性化合物を配向させた光学異方性層において、光学異方性層の一方の面におけるチルト角（液晶性化合物における物理的な対象軸が光学異方性層の界面となす角度をチルト角とする）θ１及び他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１及びθ２は、以下の手法で算出する。本手法は本発明の実際の配向状態を正確に表現していないが、位相差板のもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層は液晶性化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（液晶性化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ及びＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメータＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。

本発明に使用可能な棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
また、棒状液晶化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
また、棒状液晶化合物としては、市販されている各種棒状液晶、または棒状液晶の混合物、棒状液晶を含む液晶性組成物のほか、例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、同１１−５１３０１９号及び特願２００１−６４６２７号などの各公報及び明細書に記載の化合物の中から選んで用いることができる。

本発明に用いる棒状液晶化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。

前記低分子棒状液晶化合物としては、下記一般式（Ｘ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｘ）
Ｑ¹−Ｌ¹−Ｃｙ¹−Ｌ²−（Ｃｙ²−Ｌ³）_n−Ｃｙ³−Ｌ⁴−Ｑ²
式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ¹及びＬ⁴はそれぞれ独立に二価の連結基を表し、Ｌ²及びＬ³はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し、Ｃｙ¹、Ｃｙ²及びＣｙ³はそれぞれ独立に二価の環状基を表し、ｎは０、１又は２である。

［オニウム塩化合物（配向膜側配向制御剤）］
本発明では、前述のように、重合性基を有するディスコティック液晶の垂直配向を実現するために、オニウム塩を添加することが好ましい。オニウム塩は配向膜界面に偏在し、液晶分子の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる作用をする。

オニウム塩としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）
Ｚ−（Ｙ−Ｌ−）_nＣｙ⁺・Ｘ‐
式中、Ｃｙは５又は６員環のオニウム基であり、Ｌ、Ｙ、Ｚ、Ｘは、後述する一般式（２ａ）及び（２ｂ）におけるＬ²³、Ｌ²⁴、Ｙ²²、Ｙ²³、Ｚ²¹、Ｘに同義であり、その好ましい範囲も同一であり、ｎは２以上の整数を表す。

５又は６員環のオニウム基（Ｃｙ）は、ピラゾリウム環、イミダゾリウム環、トリアゾリウム環、テトラゾリウム環、ピリジニウム環、ピラジニウム環、ピリミジニウム環、トリアジニウム環が好ましく、イミダゾリウム環、ピリジニウム環が特に好ましい。

５又は６員環のオニウム基（Ｃｙ）は、配向膜材料と親和性のある基を有するのが好ましい。さらに、オニウム塩化合物は、温度Ｔ₁℃では配向膜材料との親和性が高く、一方、温度Ｔ₂℃では、親和性が低下しているのが好ましい。水素結合は、液晶を配向させる実際の温度範囲内（室温〜１５０℃程度）において、結合状態にも、その結合が消失した状態にもなり得るので、水素結合による親和性を利用するのが好ましい。但し、この例に限定されるものではない。
例えば、配向膜材料としてポリビニルアルコールを利用する態様では、ポリビニルアルコールの水酸基と水素結合を形成するために、水素結合性基を有しているのが好ましい。水素結合の理論的な解釈としては、例えば、Ｈ．Ｕｎｅｙａｍａ ａｎｄ Ｋ．Ｍｏｒｏｋｕｍａ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９９巻、第１３１６〜１３３２頁、１９７７年に報告がある。具体的な水素結合の様式としては、例えば、Ｊ．Ｎ．イスラエスアチヴィリ著、近藤保、大島広行訳、分子間力と表面力、マグロウヒル社、１９９１年の第９８頁、図１７に記載の様式が挙げられる。具体的な水素結合の例としては、例えば、Ｇ．Ｒ．Ｄｅｓｉｒａｊｕ、Ａｎｇｅｗａｎｔｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｄｉｔｉｏｎ Ｅｎｇｌｉｓｈ、第３４巻、第２３１１頁、１９９５年に記載のものが挙げられる。

水素結合性基を有する５又は６員環のオニウム基は、オニウム基の親水性の効果に加え、ポリビニルアルコールと水素結合することによって、配向膜界面の表面偏在性を高めるとともに、ポリビニルアルコール主鎖に対する直交配向性を付与する機能を促進する。好ましい水素結合性基としては、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、酸アミド基、ウレイド基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、含窒素複素環基（例えば、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、１，３，５−トリアジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、キノリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、コハクイミド基、フタルイミド基、マレイミド基、ウラシル基、チオウラシル基、バルビツール酸基、ヒダントイン基、マレイン酸ヒドラジド基、イサチン基、ウラミル基などが挙げられる）を挙げることができる。更に好ましい水素結合性基としては、アミノ基、ピリジル基を挙げることができる。
例えば、イミダゾリウム環の窒素原子ように、５又は６員環のオニウム環に、水素結合性基を有する原子を含有していることも好ましい。

ｎは、２〜５の整数が好ましく、３又は４であるのがより好ましく、３であるのが特に好ましい。複数のＬ及びＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。ｎが３以上である場合、一般式（１）で表されるオニウム塩は、３つ以上の５又は６員環を有しているため、前記ディスコティック液晶と強い分子間π−π相互作用が働くため、該ディスコティック液晶の垂直配向、特に、ポリビニルアルコール配向膜上では、ポリビニルアルコール主鎖に対する直交垂直配向を実現することができる。

前記一般式（１）で表されるオニウム塩は、下記一般式（２ａ）で表されるピリジニウム化合物又は下記一般式（２ｂ）で表されるイミダゾリウム化合物であることが特に好ましい。
一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表される化合物は、主に、前記一般式（Ｉ）〜(IV)で表されるディスコティック液晶の配向膜界面における配向を制御することを目的として添加され、ディスコティック液晶の分子の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる作用がある。

式中、Ｌ²³及びＬ²⁴はそれぞれ二価の連結基を表す。
Ｌ²³は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、ＡＬは、炭素原子数が１〜１０のアルキレン基である。Ｌ²³は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、単結合または−Ｏ−がさらに好ましく、−Ｏ−が最も好ましい。

Ｌ²⁴は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ＝Ｎ−であるのが好ましく、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。ｍが２以上のとき、複数のＬ²⁴が交互に、−Ｏ−ＣＯ−及び−ＣＯ−Ｏ−であるのがさらに好ましい。

Ｒ²²は水素原子、無置換アミノ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基である。
Ｒ²²が、ジアルキル置換アミノ基である場合、２つのアルキル基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環または６員環が好ましい。Ｒ²³は水素原子、無置換アミノ基、または炭素原子数が２〜１２のジアルキル置換アミノ基であるのがさらに好ましく、水素原子、無置換アミノ基、または炭素原子数が２〜８のジアルキル置換アミノ基であるのがよりさらに好ましい。Ｒ²³が無置換アミノ基及び置換アミノ基である場合、ピリジニウム環の４位が置換されていることが好ましい。

Ｘはアニオンである。
Ｘは、一価のアニオンであることが好ましい。アニオンの例には、ハライドイオン（フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）およびスルホン酸イオン（例、メタンスルホネートイオン、ｐ−トルエンスルホネートイオン、ベンゼンスルホネートイオン）が含まれる。

Ｙ²²及びＹ²³はそれぞれ、５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基である。
前記５又は６員環が置換基を有していてもよい。好ましくは、Ｙ²²及びＹ²³のうち少なくとも１つは、置換基を有する５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基である。Ｙ²²およびＹ²³は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい６員環を部分構造として有する２価の連結基であるのが好ましい。６員環は、脂肪族環、芳香族環（ベンゼン環）および複素環を含む。６員脂肪族環の例は、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環およびシクロヘキサジエン環を含む。６員複素環の例は、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環を含む。６員環に、他の６員環または５員環が縮合していてもよい。
置換基の例は、ハロゲン原子、シアノ、炭素原子数が１〜１２のアルキル基および炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基を含む。アルキル基およびアルコキシ基は、炭素原子数が２〜１２のアシル基または炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。置換基は、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基であるのが好ましい。置換基は２以上であってもよく、例えば、Ｙ²²及びＹ²³がフェニレン基である場合は、１〜４の炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基で置換されていてもよい。

なお、ｍは１又は２であり、２であるのが好ましい。ｍが２のとき、複数のＹ²³及びＬ²⁴は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

Ｚ²¹は、ハロゲン置換フェニル、ニトロ置換フェニル、シアノ置換フェニル、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基および炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる一価の基である。
ｍが２の場合、Ｚ²¹は、シアノ、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素原子数４〜１０のアルコキシ基であるのがさらに好ましい。
ｍが１の場合、Ｚ²¹は、炭素原子数が７〜１２のアルキル基、炭素原子数が７〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルキル基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルキル基または炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルコキシ基であることが好ましい。

アシル基は−ＣＯ−Ｒ、アシルオキシ基は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒは脂肪族基（アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基）または芳香族基（アリール基、置換アリール基）である。Ｒは、脂肪族基であることが好ましく、アルキル基またはアルケニル基であることがさらに好ましい。

ｐは、１〜１０の整数である。ｐは、１または２であることが特に好ましい。Ｃ_pＨ_2pは、分岐構造を有していてもよい鎖状アルキレン基を意味する。Ｃ_pＨ_2pは、直鎖状アルキレン基（−（ＣＨ₂）_p−）であることが好ましい。

式（２ｂ）中、Ｒ³⁰は、水素原子又は炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基である。

前記式(２ａ)又は（２ｂ）で表される化合物の中でも、下記式(２ａ')又は（２ｂ’）で表される化合物が好ましい。

式（２ａ’）及び（２ｂ’）中、式(２)と同一の符号は同一の意義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ²⁵はＬ²⁴と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ²⁴及びＬ²⁵は、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、Ｌ²⁴が−Ｏ−ＣＯ−で、且つＬ²⁵が−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましい。

Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵はそれぞれ、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基である。ｎ₂₃は０〜４、ｎ₂₄は１〜４、及びｎ₂₅は０〜４を表す。ｎ₂₃及びｎ₂₅が０で、ｎ₂₄が１〜４（より好ましくは１〜３）であるのが好ましい。
Ｒ³⁰は、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基であるのが好ましい。

一般式（２）で表される化合物の具体例としては、特開２００６−１１３５００号公報の明細書中［００５８］〜［００６１］に記載の化合物が挙げられる。

以下に、一般式（２’）で表される化合物の具体例を示す。但し、下記式中、アニオン（Ｘ^-）は省略した。

式(２ａ)及び（２ｂ）の化合物は、一般的な方法で製造することができる。例えば、式（２ａ）のピリジニウム誘導体は、一般にピリジン環をアルキル化（メンシュトキン反応）して得られる。
オニウム塩は、その添加量が、液晶化合物に対して５質量％を超えることはなく、０．１〜２質量％程度であるのが好ましい。

前記一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表されるオニウム塩は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基に、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基（一般式（２ａ）及び（２ａ’）において、Ｒ²²が無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基）が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。前記ピリジニウム誘導体は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、前述した、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、一般式（２ａ’）で表されるように、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。

さらに、前記一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表されるオニウム塩を併用すると、ある温度を超えて加熱することで、液晶が、その遅相軸を、ラビング方向に対して平行にして配向する、平行配向を促進することができる。これは、加熱による熱エネルギーでポリビニルアルコールとの水素結合が切断され、オニウム塩が配向膜に均一に分散され配向膜表面における密度が低下し、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向するためである。

［空気界面配向制御剤］
空気界面配向制御剤は、液晶、主に、前記一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶の空気界面における配向を制御することを目的として添加され、液晶の分子の空気界面近傍におけるチルト角を増加させる作用がある。さらに、ムラ、ハジキなどの塗布性も改善される。
本発明に使用可能な空気界面配向制御剤としては、特開２００４−３３３８５２号、同２００４−３３３８６１号、同２００５−１３４８８４号、同２００５−１７９６３６号、及び同２００５−１８１９７７号などの各公報及び明細書に記載の化合物の中から選んで用いることができる。特に好ましくは、特開２００５−１７９６３６号、及び同２００５−１８１９７７号の各公報及び明細書に記載の、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）₂｝｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを側鎖に含むフルオロ脂肪族基含有共重合体である。
空気界面配向制御剤は、その添加量が、液晶化合物に対して２質量％を超えることはなく、０．１〜１質量％程度であるのが好ましい。

前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、フルオロ脂肪族基の疎水性効果により空気界面への偏在性を高めると共に、空気界面側に低表面エネルギーの場を提供し、液晶、特にディスコティック液晶のチルト角を増加させることができる。さらに、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）₂｝｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを側鎖に含む共重合成分を有すると、これらのアニオンと液晶のπ電子との電荷反発により液晶化合物の垂直配向を実現することができる。

［溶媒］
光学異方性層の形成に利用する、前記組成物は塗布液として調製するのが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

［重合開始剤］
前記の重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を紫外線照射により固定する。固定化は、液晶化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。紫外線照射による、光重合反応により固定化するのが好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。

［増感剤］
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。液晶化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。

［その他の添加剤］
前記組成物は、重合性液晶化合物とは別に、非液晶性の重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が２以上の多官能モノマー、例えば、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレートを用いると、耐久性が改善されるので好ましい。前記非液晶性の重合性モノマーは、非液晶性成分であるので、その添加量が、液晶化合物に対して４０質量％を超えることはなく、０〜２０質量％程度であるのが好ましい。

この様にして形成する光学異方性層の厚みについては特に制限されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。

＜配向膜＞
光学異方性層及び透明支持体との間にパターン光学異方性層を実現できる配向膜を形成してもよい。配向膜としては、光配向膜、ラビング配向膜のいずれを利用してもよいが、ラビング配向膜を利用するのが好ましい。
本発明に利用可能な「ラビング配向膜」とは、ラビングによって、液晶分子の配向規制能を有するように処理された膜を意味する。ラビング配向膜には、液晶分子を配向規制する配向軸があり、当該配向軸に従って、液晶分子は配向する。液晶分子は、配向膜への紫外線照射部分でラビング方向に対して液晶の遅相軸が平行になるように配向し、未照射部分で液晶分子の遅相軸がラビング方向に対して直交配向するように、配向膜の材料、酸発生剤、液晶、及び配向制御剤を選択する。

ラビング配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールは、種々の鹸化度のものが存在する。本発明では、鹸化度８５〜９９程度のものを用いるのが好ましい。市販品を用いてもよく、例えば、「ＰＶＡ１０３」、「ＰＶＡ２０３」（クラレ社製）等は、上記鹸化度のＰＶＡである。ラビング配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。ラビング配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。

ラビング処理は、一般にはポリマーを主成分とする膜の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。
ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ） Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。

ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
ラビング密度と配向膜のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係がある。
長尺状の偏光膜であって、吸収軸が長手方向の偏光膜と貼り合わせるには、長尺のポリマーフィルムからなる支持体上に配向膜を形成し、長手方向に対して４５°の方向に連続的にラビング処理して、ラビング配向膜を形成するのが好ましい。

可能であれば（例えば、光酸発生剤の分解のための光照射と、光配向機能発現のための光照射を分離して実行できる場合は）、光配向膜を利用してもよい。

また、配向膜は、少なくとも一種の光酸発生剤を含有していてもよい。光酸発生剤とは、紫外線等の光照射により分解し酸性化合物を発生する化合物である。前記光酸発生剤が、光照射により分解して酸性化合物を発生すると、配向膜の配向制御能に変化が生じる。ここでいう配向制御能の変化は、配向膜単独の配向制御能の変化として特定されるものであっても、配向膜とその上に配置される光学異方性層形成用組成物中に含まれる添加剤等とによって達成される配向制御能の変化として特定されるものであってもよいし、またこれらの組み合わせとして特定されるものであってもよい。
ディスコティック液晶は、オニウム塩を添加することで、直交垂直配向状態になる場合がある。分解により発生した酸と、該オニウム塩とが、アニオン交換すると、該オニウム塩の配向膜界面における偏在性が低下し、直交垂直配向効果を低下させ、平行垂直配向状態を形成させてもよい。また、例えば、配向膜がポリビニルアルコール系配向膜である場合には、そのエステル部分が発生した酸により分解し、その結果、前記オニウム塩の配向膜界面偏在性を変化させてもよい。

前記光学異方性層は、配向膜を利用した種々の方法で形成でき、その製法については特に制限はない。
第１の態様は、ディスコティック液晶の配向制御に影響を与える複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、配向膜による配向制御能と、液晶組成物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、ディスコティック液晶を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（配向膜による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。例えば、前記一般式（２ａ）で表されるピリジニウム化合物又は一般式（２ｂ）で表されるイミダゾリウム化合物は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基に、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基（一般式（２ａ）及び（２ａ’）において、Ｒ²²が無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基）が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。前記ピリジニウム誘導体は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、前述した、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、一般式（２ａ’）で表されるように、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。しかし、その効果は、ある温度を超えて加熱すると、水素結合が切断され、前記ピリジニウム化合物等の配向膜表面における密度が低下し、その作用を消失する。その結果、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向し、液晶は平行配向状態になる。この方法の詳細については、特願２０１０−１４１３４５号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

第２の態様は、パターン配向膜を利用する態様である。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶組成物を配置し、液晶を配向させる。液晶は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって配向規制され、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１及び第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。また、配向膜を一様に形成し、配向制御能に影響を与える添加剤（例えば、上記オニウム塩等）を別途所定のパターンで印刷することによって、パターン配向膜を形成することもできる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特願２０１０−１７３０７７号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

また、第１及び第２の態様を併用してもよい。一例は、配向膜中に光酸発生剤を添加する例である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶、及び所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。前記配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０−２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

さらに、第３の態様として、重合性が互いに異なる重合性基（例えば、オキセタニル基及び重合性エチレン性不飽和基）を有するディスコティック液晶を利用する方法がある。この態様では、ディスコティック液晶を所定の配向状態にした後、一方の重合性基のみの重合反応が進行する条件で、光照射等を行い、プレ光学異方性層を形成する。次に、他方の重合性基の重合を可能にする条件で（例えば他方の重合性基の重合を開始させる重合開始剤の存在下で、マスク露光を行う。露光部の配向状態は完全に固定され、所定のＲｅを有する一方の位相差領域が形成される。未露光領域は、一方の反応性基の反応が進行しているものの、他方の反応性基は未反応のままとなっている。よって、等方相温度を超え、他方の反応性基の反応が進行可能な温度まで加熱すると、未露光領域は、等方相状態に固定され、即ち、Ｒｅが０ｎｍになる。

＜直線偏光層＞
本発明に利用可能な直線偏光層としては、一般的な偏光膜を用いることができる。例えば、ヨウ素や二色性色素によって染色されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光膜を用いることができる。また、二色性液晶性色素を含有する組成物を塗布し、所定の配向状態にした後、該配向状態を固定して形成される直線偏光層も利用できる。

＜表面層＞
本発明の３Ｄ画像表示装置は、視認側の最表面に表面層を有する。前記表面層は、外光の映り込みを防止するための反射防止層を含んでいるのが好ましく、最表層として反射防止層を有しているのが好ましい。また前記表面層は、反射防止層のみからなっていてもよい。
前記表面層としては、例えば、図６（ａ）に示したように、低屈折率層、ハードコート層、透明支持体の順で積層している態様、図６（ｂ）に示したように、低屈折率層、高屈折率層、ハードコート層、透明支持体の順で積層している態様、及び図６（ｃ）に示したように、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層、透明支持体の順で積層している態様などが挙げられる。透明支持体は、前記フィルムであって、パターン光学異方性層の支持体としても利用されていてもよい。

［反射防止層］
本発明では、光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層又は透明支持体上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。これは、特に３Ｄ画像を表示する場合に、外光反射によるフリッカが発生してしまうのを効果的に防ぐことができるからである。
以下にそれらの好ましい例を記載する。

透明支持体上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。
光散乱層にはマット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８μｍ〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１μｍ〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０度〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。
また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ＊値−２〜２、ｂ＊値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ＊値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。
また、面光源上と反射防止層との間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入して、フィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに適用したときのギラツキが低減され、好ましい。

前記反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値（比）が０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。

低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５５の範囲にある。更に、低屈折率層は下記数式（ＩＸ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（ＩＸ）：（ｍλ／４）×０．７＜ｎ１ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。

前記低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０°〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱又は電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用してもよい。

低屈折率層としては、ミクロボイドを含んでいてもよい。ミクロボイドを形成することにより、空気の屈折率１．００に、層の屈折率を近づけている。ミクロボイドは、層中に含まれる微粒子間、及び／又は微粒子内に形成される。ミクロボイドを含む低屈折率層は、有機微粒子、無機微粒子又はそれらの複合微粒子の分散液を表面に塗布して、乾燥することで形成することができる。この例の低屈折率層の形成に用いられる材料及び方法については、例えば、特開平９−２２２５０２号公報、同９−２８８２０１、及び同１１−６９０２号公報に詳細な説明があり、前記低屈折率の光学等方性層の作製において、参照することができる。

光散乱層は、表面散乱及び／又は内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、及び必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。

光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生及び脆性の悪化の抑制の観点から、１μｍ〜１０μｍが好ましく、１．２μｍ〜６μｍがより好ましい。

散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに又はそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１μｍ〜１０μｍ、好ましくは１．５μｍ〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。

更に、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、更に好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。

上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０ｍｇ／ｍ²〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００ｍｇ／ｍ²〜７００ｍｇ／ｍ²となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂及びＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０％〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０％〜８０％であり、特に好ましくは３０％〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

光散乱層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

次に透明支持体上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層について述べる。
透明支持体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい（例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等参照）。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

（高屈折率層及び中屈折率層）
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４２００１−３１０４３２号公報等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性及び／又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個有する多官能性化合物含有組成物と、加水分解性基を有する有機金属化合物及びその部分縮合体を含有する組成物とから選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の組成物が挙げられる。また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。

高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることが更に好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０ｍμであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることが更に好ましい。

低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して配置される。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５５である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５質量％〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。

架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）、アルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属フッ化物等の一次粒子平均径が１ｎｍ〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物（無機微粒子）、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができ、図５のような構成にすることができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが更に好ましく、６０ｎｍ〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

更に、ハードコート層、防湿層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

＜遮光部＞
本発明では、画像表示パネルと位相差板との間に遮光部を有していてもよい。遮光部を有することで、左目用/右目用映像が複数の位相差領域を通過することを妨げることができ、クロストークを軽減させることができる。遮光部としては、例えば、ブラックマトリックスなど公知の種々の遮光部を使用することができる。

＜液晶セル＞
本発明の３Ｄ用画像表示システムに用いられる３Ｄ用画像表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、又はＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Patterned Vertical Alignment）型、光配向型（Optical Alignment）、及びＰＳＡ（Polymer-Sustained Alignment）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。

＜３Ｄ画像表示システム用偏光板＞
本発明の立体画像表示システムでは、特に３Ｄ映像とよばれる立体画像を視認者に認識させるため、偏光板を通して画像を認識する。偏光板の一態様は、偏光眼鏡である。前記位相差板によって右眼用及び左眼用の円偏光画像を形成する態様では、円偏光眼鏡が用いられ、直線偏光画像を形成する態様では、直線眼鏡が用いられる。光学異方性層の前記第１及び第２の位相差領域のいずれか一方から出射された右眼用画像光が右眼鏡を透過し、且つ左眼鏡で遮光され、前記第１及び第２位相差領域の他方から出射された左眼用画像光が左眼鏡を透過し、且つ右眼鏡で遮光されるように構成されていることが好ましい。
前記偏光眼鏡は、位相差機能層と直線偏光子を含むことで偏光眼鏡を形成している。なお、直線偏光子と同等の機能を有するその他の部材を用いてもよい。

偏光眼鏡を含め、本発明の３Ｄ用画像表示システムの具体的な構成について説明する。まず、位相差板は、映像表示パネルの交互に繰り返されている複数の第一ライン上と複数の第二ライン上（例えば、ラインが水平方向であれば水平方向の奇数ライン上と偶数ライン上であり、ラインが垂直方向であれば垂直方向の奇数ライン上と偶数ライン上でもよい）に偏光変換機能が異なる前記第１位相差領域と前記第２位相差領域が設けられている。円偏光を表示に利用する場合には、上述の前記第１位相差領域と前記第２位相差領域の位相差は、ともにλ／４であることが好ましく、前記第１位相差領域と前記第２位相差領域は遅相軸が直交していることがより好ましい。

円偏光を利用する場合、前記第１位相差領域と前記第２位相差領域の位相差値をともにλ／４とし、映像表示パネルの奇数ラインに右眼用画像を表示し、奇数ライン位相差領域の遅相軸が４５度方向であるならば、偏光眼鏡の右眼鏡と左眼鏡にともにλ／４板を配置することが好ましく、偏光眼鏡の右眼鏡のλ／４板の遅相軸は具体的には略４５度に固定すればよい。また、上記の状況であれば、同様に、映像表示パネルの偶数ラインに左眼用画像を表示し、偶数ライン位相差領域の遅相軸が１３５度方向であるならば、偏光眼鏡の左眼鏡の遅相軸は具体的には略１３５度に固定すればよい。
更に、一度前記パターニング位相差フィルムにおいて円偏光として画像光を出射し、偏光眼鏡により偏光状態を元に戻す観点からは、上記の例の場合の右眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平方向４５度に近いほど好ましい。また、左眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平１３５度（又は−４５度）に近いほど好ましい。

また、例えば前記映像表示パネルが液晶表示パネルである場合、液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向が通常、水平方向であり、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸が該フロント側偏光板の吸収軸方向に直交する方向であることが好ましく、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸は鉛直方向であることがより好ましい。
また、前記液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向と、前記パターニング位相差フィルムの奇数ライン位相差領域と偶数ライン位相差領域の各遅相軸は、偏光変換の効率上、４５度をなすことが好ましい。
なお、このような偏光眼鏡と、パターニング位相差フィルム及び液晶表示装置の好ましい配置については、例えば特開２００４−１７０６９３号公報に開示がある。

偏光眼鏡の例としては、特開２００４−１７０６９３号公報に記載のものや、市販品として、Ｚａｌｍａｎ製、ＺＭ−Ｍ２２０Ｗの付属品を挙げることができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。なお、実施例１及び４は参考例である。

《粘着剤の調製》
水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（モノマー）が２−ヒドロキシエチルアクリレート、リイソシアネート化合物(ジイソシアネート)がイソホロンジイソシアネート、ポリオール化合物（ジオール）がポリプロピレングリコール１０００（質量平均分子量：１５８６、数平均分子量：１４４７）であるウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーＡ（ガラス転移温度：−３２℃、官能基数２）を以下のように合成した。

〈ウレタンアクリレートＡの調製法〉
イソホロンジイソシアネート２モルにジブチルスズラウリレートを１滴添加し、７０度で攪拌したのちポリプロピレングリコール１モルを滴下して３時間攪拌・反応させ、その後にヒドロキシエチルアクリレート２モルを滴下させて３時間攪拌しウレタンアクリレートＡを得た。

原料の質量平均分子量および数平均分子量は以下のように測定した。
ポリプロピレングリコール１０００（和光純薬社製）の一部をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に０．１質量％溶解させ、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって質量平均分子量および数平均分子量を測定したところ、質量平均分子量１５８６、数平均分子量１４４７であった。本発明における質量平均分子量および数平均分子量は、ポリスチレンを標準物質とした値である。

ウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーのガラス転移温度は、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により測定した。

これらのウレタン（メタ）アクリレート系マクロモノマーを利用して、下記に対応する粘着剤組成物を作製した。

［実施例１］
《パターン偏光板Ａの作製》
＜透明支持体Ａの作製＞
８０μｍの厚さのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を表面層及び光学異方性層用の支持体Ａとして使用した。

＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
透明支持体Ａを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理した透明支持体Ａを作製した。

────────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────

＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
下記のラビング配向膜用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィル
タでろ過して、ラビング配向膜用塗布液として用いる。該塗布液を透明ガラス支持体の
表面に、８番バーで塗布を行い、１００℃で１分間乾燥させた。次に、１００μｍ角の
格子マスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度
２．５ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用い
て紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第
１位相差領域用配向層を形成した。形成された配向膜の照射部（第１位相差領域）及び
未照射部（第２位相差領域）をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分
析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１位相差
領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−１の存在比が８
対９２であった。その後に、５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラ
ビング配向膜付ガラス支持体を作製した。なお、ガラス支持体のＲｅ
（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈは０ｎｍであり、配向膜の膜厚は、０．５μｍであ
った。

───────────────────────────────────────
配向層用組成
───────────────────────────────────────
配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−１） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
───────────────────────────────────────

＜パターン化された光学異方性層の作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタ
でろ過して、光学異方性層用塗布液として用いる。該塗布液を塗布、膜面温度１１０℃
で２分間乾燥して液晶相状態とし均一配向させた後、１００℃まで冷却し空気下にて２
０ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫
外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層
を形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が
平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直
交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、０．８μｍであった。

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光学異方性層用組成
───────────────────────────────────────
ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
───────────────────────────────────────

＜表面層の形成（反射防止層）の形成＞
［ハードコート層用塗布液の調製］
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇの工業用変性エタノールに溶解した。さらに光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ及び光増感剤（カヤキュアＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え、よく撹拌した後、１μｍのフィルタで濾過して塗布液を準備した。

［低屈折率層用塗布液の調製］
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）

内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ²）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ²）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。

［中空シリカ粒子分散液Ａの調製］
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。

［低屈折率層用塗布液の調製］
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度５質量％の低屈折率層用塗布液Ｌｎ６を作製した。下記各成分の質量％は、塗布液の全固形分に対する、各成分の固形分の比率である。

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・Ｐ−１：パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量％
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製） ７質量％
・ＭＦ１：国際公開第２００３／０２２９０６号パンフレットの実施例記載の下
記含フッ素不飽和化合物（重量平均分子量１６００） ５質量％
・Ｍ−１：日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ２０質量％
・分散液Ａ：前記中空シリカ粒子分散液Ａ（アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度１８．２％） ５０質量％
・Ｉｒｇ１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ（株）製） ３質量％
────────────────────────────────────────

上記作製したパターン位相差板のパターン光学異方性層が形成されていない面の上に、前記組成のハードコート層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。１２０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成した。
続いて、低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。乾燥条件は１２０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ０．１μｍの低屈折率層を形成した。

＜偏光板Ａの作製＞
ＴＡＣフィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板用保護フィルムとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＡＣフィルムと、同様のアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＡＣフィルムとＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ａを作製した。このときＶＡ用位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度が４５度になるようにした。

＜パターン偏光板Ａの作製＞
上記作製した偏光板のＴＡＣフィルムの面と、上記作製した表面層付パターン位相差板のパターン光学異方性層表面とを、上記作製した粘着剤組成物を介して貼り合わせ、図１（ａ）の構成のパターン偏光板Ａを作製した。
［実施例２］
《パターン偏光板Ｂの作製》
＜表面層の作製＞
実施例１においてパターン位相差板の作製に用いた支持体Ａ（８０μｍの厚さのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を支持体として用い、実施例１と同様にして、表面層を形成した。この様にして表面フィルムを作製した。

＜偏光板Ｂの作製＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、実施例１で作製したパターン化された光学異方性層付透明支持体の透明支持体と、実施例１と同様にアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）の鹸化した面とが偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、光学異方性層とその支持体とＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｂを作製した。このときＶＡ用位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度が４５度になるようにした。

＜パターン偏光板Ｂの作製＞
上記作製した偏光板Ｂのパターン光学異方性層の面と、上記作製した表面フィルムの支持体裏面（表面層が形成されていない側の面）とを、上記作製した粘着剤組成物を介して貼り合わせ、図１（ｂ）の構成のパターン偏光板Ｂを作製した。

［実施例３］
《パターン偏光板Ｃの作製》
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、実施例１で作製したパターン化された光学異方性層及び表面層付透明支持体の光学異方性層と、実施例１と同様にアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）の鹸化した面とが偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、光学異方性層とその支持体とＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている図１（ｃ）の構成のパターン偏光板Ｃを作製した。このときＶＡ用位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度が４５度になるようにした。

［比較例１］
《パターン偏光板Ｄの作製》
実施例２で作製した表面フィルム、実施例１で作製したパターン化された光学異方性層を有するパターン位相差板（表面層は形成してない）、及び実施例１で作製した偏光板Ａを粘着シート（リンテック株式会社製）を介して貼り合わせ、図７の構成のパターン偏光板Ｄを作製した。パターン偏光板Ｄは、表面層及びパターン光学異方性層の間にそれぞれの支持体フィルムが配置され、並びにパターン光学異方性層と直線偏光層との間には、前者の支持体フィルム及び後者の保護フィルムが配置され、且つそれぞれのフィルムが粘着剤シートで貼合されているので、２つの粘着剤層を含む構成である。

［評価］
上記で作製した各パターン偏光板について、リワーク性及びクロストークの発生について以下の通り評価した。結果を下記表に示す。
＜リワーク性＞
３００角のガラス基板（１．１ｍｍ厚）に、２５０角の各パターン偏光板Ａを、上記作製した粘着剤組成物を介して、貼り合せ、貼合品を作製した。なお貼り合せ時は、各パターン偏光板の最表面に存在するＶＡ用位相差フィルムを、ガラス基板面側にして貼り合せた。この貼合品を２０枚作製し、貼合後に剥し実験（カッター刃でコーナー部を部分剥離した後、その部分を持ち引き剥がす作業）を行った。パターン偏光板Ｂ〜Ｄについても同様に行った。

＜クロストーク＞
パターン偏光板Ａ〜Ｄをそれぞれ用いて３Ｄ表示画質の評価を実施した。市販の２２型ワイドモニター（EIZO/ナナオ製：FlexScan S2202W-T）の前面に配置されている偏光板を丁寧に剥し、各パターン偏光板を、上記作製した粘着剤組成物を介して貼り合わせた。なお、貼り合せ時は、各パターン偏光板の最表面に存在するＶＡ用位相差フィルムを、モニター側にして貼り合せた。貼り合わせは、検査顕微鏡（ミツトヨ製、ＦＳ３００）を用いて、偏光観察により、パターン光学位相差のエッジ及び液晶パネルの画素エッジの対比を画像上で行い、合せ精度を算出した。
パターン偏光板を貼り合わせた液晶表示装置の液晶表示パネルにおいて、図８に示したように液晶表示パネルの奇数ライン（水平方向）上にパターニング位相差層の右眼用画像を透過する領域（第１位相差領域）となるように配置し、偶数ライン上にパターニング位相差層の左眼用画像を透過する領域（第２位相差領域）となるように配置した。この画面に対し、全ライン白表示とした「表示０」と、奇数ラインを黒表示、偶数ラインを白表示とした「表示１」と、奇数ラインを白表示、偶数ラインを黒表示とした「表示２」の３パターンの表示を行い、正面、および正面から斜め４５度方向、極角５°の方向から、左右の眼鏡を透過した透過光の強度を測定した。このとき、各場所でのクロストーク量は下記式（１）および（２）を計算して求めたクロストーク（右眼）とクロストーク（左眼）の平均値として求めることができる。

式（１）：
クロストーク（右眼）＝（表示２での右眼鏡透過光）／（表示０での右眼鏡透過光）×１００％

式（２）：
クロストーク（左眼）＝（表示１での左眼鏡透過光）／（表示０での左眼鏡透過光）×１００％

本発明の実施例のパターン偏光板はいずれも、２０回の剥離操作で、剥離不良の発生は１回以下であり、仮に貼合時に位置ズレが発生しても、剥離可能であり、再利用可能でありリワーク性に優れることが理解できる。
一方、比較例１のパターン偏光板では、ガラス表面からの剥離が困難であり、一部の構成部材が上手く剥離できずにガラスに貼合状態のまま残るという剥離不良が、２０回に５回発生し、リワーク性が劣っていることが理解できる。
また、実施例の３Ｄ画像表示装置は、正面だけでなく、斜め方向のクロストークも良好であることがわかる。

［実施例４］
《パターン偏光板Ｅの作製》
以下のように配向膜付透明支持体及びパターン位相差板を作製した以外は実施例１と同様にして、図１（ａ）の構成のパターン偏光板Ｅを作製した。

＜配向膜付透明支持体の作製＞
上記作製した支持体Ａの、鹸化処理を施した面に、光配向膜（ＤＩＣ社製 ＬＩＡシリーズ）を用い、バー塗布にて塗布し、その後、１００℃、１分の乾燥処理をした。得られた配向膜の膜厚は約１００ｎｍであった。その後、フォトマスク（ストライプパターンマスク：遮光幅及び開口幅が２８２μｍ）を介して偏光露光照射を２度行い、光配向処理を行った。ここで、照射偏光の照射量は、２００ｍＪ（３６５ｎｍ）、偏光度は１５：１の光源を用いた。

＜パターン位相差板の作製＞
メルク社製のＲＭシリーズの液晶化合物をメチルエチルケトンに溶解した光学異方性層用塗布液を、配向膜上にバーコーターを用いて光学異方性層の膜厚が０．９μｍとなるよう塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層を形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、配向方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の面内方向のレターデーションを測定したところ、１２５ｎｍであった。この様にして、パターン位相差板を作製した。

［実施例５］
《パターン偏光板Ｆの作製》
実施例２において、パターン位相差板を実施例４で作製したパターン位相差板に変更した以外は実施例２と同様にして、図１（ｂ）の構成のパターン偏光板Ｆを作製した。

［実施例６］
《パターン偏光板Ｇの作製》
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、実施例４で作製したパターン化された光学異方性層及び表面層付透明支持体の光学異方性層と、実施例１と同様にアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）の鹸化した面とが偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、光学異方性層とその支持体とＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている図１（ｃ）の構成のパターン偏光板Ｃを作製した。このときＶＡ用位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度が４５度になるようにした。

［比較例２］
《パターン偏光板Ｈの作製》
比較例１において、実施例１で作製したパターン化された光学異方性層を有するパターン位相差板を実施例４で作製したパターン化された光学異方性層を有するパターン位相差板に変更した以外は比較例１と同様にして、図７の構成のパターン偏光板Ｈを作製した。

実施例４〜６及び比較例２について、実施例１と同様の評価を行ったところ、パターン偏光板Ｅ〜Ｇは比較例のパターン偏光板Ｈに比べ、リワーク性、斜め方向のクロストーク性に優れていることが確認できた。

１２ パターン光学異方性層
１２ａ 第１の位相差領域
１２ｂ 第２の位相差領域
１６ 直線偏光層
ａ 面内遅相軸
ｂ 面内遅相軸

Claims (16)

1. 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置されるパターン偏光板と、を有する３Ｄ画像表示装置であって、
   前記パターン偏光板は、前記画像表示パネル側から
   （ｉ）一方の面に保護フィルムを有する直線偏光層、及び
   （ｉｉ）パターン光学異方性層、フィルム及び表面層を有する積層体
   をこの順に有し、前記直線偏光層の表面上に、前記パターン光学異方性層が設けられており、
   前記パターン光学異方性層が、液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成され、
   前記パターン偏光板は、粘着剤層を含まず；
   前記画像表示パネルと前記パターン偏光板との間に粘着剤層を有することを特徴とする３Ｄ画像表示装置。
2. 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置されるパターン偏光板と、を有する３Ｄ画像表示装置であって、
   前記パターン偏光板は、前記画像表示パネル側から、
   （ｉ）一方の面に保護フィルムを有し、他方の面に第一のフィルムを有する直線偏光層と、前記第一のフィルムの表面上のパターン光学異方性層とから構成される積層体、
   （ｉｉ）前記パターン光学異方性層の表面上の粘着剤層、及び
   （iii）第二のフィルムと表面層からなる表面フィルムであって、前記粘着剤層の表面上に前記第二のフィルムが設けられている表面フィルム：
   をこの順に有し、
   前記パターン光学異方性層が、液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成され、
   前記画像表示パネルと前記パターン偏光板との間に粘着剤層を有することを特徴とする３Ｄ画像表示装置。
3. 前記パターン光学異方性層が、互いに面内遅相軸方向が異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層であり、さらに前記表面層が反射防止層を有する請求項１又は２に記載の３Ｄ画像表示装置。
4. 前記第１及び第２位相差領域の面内遅相軸方向が互いに直交しており、前記第１及び第２位相差領域の遅相軸方向と、前記直線偏光層の吸収軸方向とが各々±４５°である請求項３に記載の３Ｄ画像表示装置。
5. 前記パターン偏光板を通過した左目用/右目用映像光が互いに異なる方向に回転した円偏光である請求項１〜４のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
6. 前記フィルムが、主成分としてセルロース誘導体を含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
7. 前記フィルムが、下記式（Ｉ）を満たす請求項１〜６のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置：
   （Ｉ） ０≦Ｒｅ（５５０）≦１０
   式（Ｉ）中、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍの面内レターデーションを表す。
8. 前記表面層が、フッ素化合物を含有する反射防止層を有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
9. さらに画像表示パネルに表示された左目用/右目用映像が複数の位相差領域を通過することを妨げるための遮光部を有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
10. 前記粘着剤層が、ポリオール化合物を含有し、ガラス転移温度が室温以下である請求項１〜９のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
11. 前記画像表示パネルが、液晶セルを有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
12. 表面層、パターン光学異方性層、及び直線偏光層を少なくとも有する３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板であって、
    前記パターン偏光板は、
    （ｉ）一方の面に保護フィルムを有する直線偏光層、及び
    （ｉｉ）パターン光学異方性層、フィルム及び表面層を有する積層体
    をこの順に有し、前記直線偏光層の表面上に、前記パターン光学異方性層が設けられており、
    前記パターン光学異方性層が、液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成され、
    前記パターン偏光板は、粘着剤層を含まない：
    ことを特徴とする３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板。
13. 表面層、パターン光学異方性層、及び直線偏光層を少なくとも有する３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板であって、
    前記パターン偏光板は、
    （ｉ）一方の面に保護フィルムを有し、他方の面に第一のフィルムを有する直線偏光層と、前記第一のフィルムの表面上のパターン光学異方性層とから構成される積層体、
    （ｉｉ）前記パターン光学異方性層の表面上の粘着剤層、及び
    （iii）第二のフィルムと表面層からなる表面フィルムであって、前記粘着剤層の表面上に前記第二のフィルムが設けられている表面フィルム：
    をこの順に有し：
    前記パターン光学異方性層が、液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成される、
    ことを特徴とする３Ｄ画像表示装置用パターン偏光板。
14. （ｉ）一方の面に保護フィルムを有する直線偏光層と、（ｉｉ）パターン光学異方性層、フィルム及び表面層を有する積層体とを、粘着剤なしで貼り合せることによりパターン偏光板を製造する工程：及び
    前記パターン偏光板と画像表示パネルとを組み合わせる工程を含む、
    画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置されるパターン偏光板と、を有する３Ｄ画像表示装置であって、
    前記パターン偏光板は、前記画像表示パネル側から
    （ｉ）一方の面に保護フィルムを有する直線偏光層、及び
    （ｉｉ）パターン光学異方性層、フィルム及び表面層を有する積層体
    をこの順に有し、前記直線偏光層の表面上に、前記パターン光学異方性層が設けられており、
    前記パターン光学異方性層が、液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成され、
    前記パターン偏光板は、粘着剤層を含まず；
    前記画像表示パネルと前記パターン偏光板との間に粘着剤層を有することを特徴とする３Ｄ画像表示装置の製造方法。
15. （ｉ）一方の面に保護フィルムを有し、他方の面に第一のフィルムを有する直線偏光層と、前記第一のフィルムの表面上のパターン光学異方性層とから構成される積層体と、（iii）第二のフィルムと表面層からなる表面フィルムとを、粘着剤を用いて貼り合せることによりパターン偏光板を製造する工程：及び
    前記パターン偏光板と画像表示パネルとを組み合わせる工程を含む、
    画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置されるパターン偏光板と、を有する３Ｄ画像表示装置であって、
    前記パターン偏光板は、前記画像表示パネル側から、
    （ｉ）一方の面に保護フィルムを有し、他方の面に第一のフィルムを有する直線偏光層と、前記第一のフィルムの表面上のパターン光学異方性層とから構成される積層体、
    （ｉｉ）前記パターン光学異方性層の表面上の粘着剤層、及び
    （iii）第二のフィルムと表面層からなる表面フィルムであって、前記粘着剤層の表面上に前記第二のフィルムが設けられている表面フィルム：
    をこの順に有し、
    前記パターン光学異方性層が、液晶化合物を含む組成物の配向状態を固定化することによって形成され、
    前記画像表示パネルと前記パターン偏光板との間に粘着剤層を有することを特徴とする３Ｄ画像表示装置の製造方法。
16. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置と、前記３Ｄ画像表示装置の観察者側に配置される第２の偏光板とを少なくとも備え、第２の偏光板を通じて立体画像を視認させる立体画像表示システム。

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