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WO2006106756A1 - 光学積層体 - Google Patents

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Publication number
WO2006106756A1
WO2006106756A1 PCT/JP2006/306511 JP2006306511W WO2006106756A1 WO 2006106756 A1 WO2006106756 A1 WO 2006106756A1 JP 2006306511 W JP2006306511 W JP 2006306511W WO 2006106756 A1 WO2006106756 A1 WO 2006106756A1
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WO
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hard coat
coat layer
weight
optical laminate
resin
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/306511
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Tomoyuki Horio
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co., Ltd. filed Critical Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority to CN2006800110823A priority Critical patent/CN101155683B/zh
Priority to JP2007512804A priority patent/JPWO2006106756A1/ja
Priority to US11/885,700 priority patent/US20080204634A1/en
Priority to KR1020077023996A priority patent/KR101224241B1/ko
Publication of WO2006106756A1 publication Critical patent/WO2006106756A1/ja

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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502Antiglare, refractive index matching layers

Definitions

  • the present invention relates to an optical laminate that has excellent antifouling properties and prevents interface reflection and interference fringes.
  • An image display surface in an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) reduces reflection due to light rays emitted from an external light source and improves its visibility. Is required.
  • an optical laminate for example, an antireflection laminate
  • an antireflection layer is formed on a light-transmitting substrate
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-104403 proposes an optical laminate in which a hard coat layer is added with an antifouling agent in order to improve the scratch resistance and contamination prevention of the image display surface.
  • the present inventors have confirmed that the interface state between the light-transmitting substrate and the hard coat layer is substantially eliminated, and the strength and antifouling property of the hard coat layer are combined.
  • Optical laminates have not yet been proposed.
  • the inventors of the present invention pay attention to the interface state between the light-transmitting base material and the hard coat layer, and find that an optical laminate having substantially no interface is obtained. Got.
  • the scratch resistance and stain resistance can be improved by adding a stainproofing agent to the hard coat layer of the present invention. Therefore, the present invention effectively prevents the occurrence of interface reflection and interference fringes by eliminating the interface between the light-transmitting substrate and the hard coat layer, improves the visibility and mechanical strength, and
  • An object of the present invention is to provide an optical laminate having both scratch resistance and stain resistance.
  • optical laminate according to the present invention is
  • a hard coat layer is provided on a light transmissive substrate
  • the interface between the light transmissive substrate and the hard coat layer is not present, and the hard coat layer has permeability to the resin, the antifouling agent, and the light transmissive substrate. It is formed by a composition comprising an osmotic solvent.
  • FIG. 1 is a laser micrograph of a cross section of an optical laminate according to the present invention.
  • FIG. 2 is a laser micrograph of a cross section of an optical laminate according to a comparative example.
  • the optical layered body according to the present invention has substantially no interface between the light transmissive substrate and the hard coat layer.
  • the interface does not exist (substantially)” means that the two layer surfaces overlap each other but the interface does not actually exist, and the interface exists on both surfaces in terms of the refractive index. It also includes cases where it is determined that it is not.
  • the interface is (substantially) absent”, for example, the cross section of the optical laminate is observed with a laser microscope, and the cross section of the laminate where the interference fringes are visually observed has an interface. Measure that no interface exists in the cross section of the laminate where no interference fringes are visible This can be done.
  • Laser microscopes allow non-destructive cross-sectional observation of materials with different refractive indexes, resulting in measurement results indicating that there is no significant difference in refractive index between the materials! . From this, it can be determined that there is no interface between the base material and the hard coat layer from the viewpoint of the refractive index.
  • Hard coat layer means a layer having a hardness of “H” or higher in the pencil hardness test specified in JIS K5600-5-4 (1999).
  • the thickness of the hard coat layer (during curing) is 0.1-100 ⁇ m, preferably 0.8-20 m.
  • the hard coat layer is formed of a resin and optional components.
  • those containing curable rosin precursors such as monomers, oligomers and prepolymers are defined as “resins”.
  • resins that are transparent are preferred, such as ionizing radiation curable resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams, ionizing radiation curable resins, and solvent-dried resins ( There are three types of mixtures, such as thermoplastic resins, and mixtures with thermosetting resins, which can be formed by simply drying a solvent for adjusting the solid content during coating. Examples include ionizing radiation curable resin.
  • the ionizing radiation curable resin include those having an acrylate functional group such as a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin having a relatively low molecular weight, Examples include urethane resins, alkyd resins, spirocetal resins, polybutadiene resins, polythiolpolyene resins, oligomers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, and prepolymers, and reactive diluents.
  • an acrylate functional group such as a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin having a relatively low molecular weight
  • examples include urethane resins, alkyd resins, spirocetal resins, polybutadiene resins, polythiolpolyene resins, oligomers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, and prepolymers, and reactive diluents.
  • photopolymerization initiators include acetophenones, benzophenones, Michlerbenzoyl benzoate, a amyl oxime ester, tetramethyl thiuram monosulfide in the case of a resin having a radical polymerizable unsaturated group.
  • photopolymerization initiators include thixanthones, propiophenones, benzyls, benzoins, and acyl phosphine oxides.
  • photopolymerization As an initiator, aromatic diazo-um salt, aromatic sulfo-um salt, aromatic ododonium salt, metatheron compound, benzoin sulfonate, etc. are used alone or as a mixture.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable composition.
  • Specific examples of the photosensitizers preferably used in combination include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.
  • thermoplastic resin As a solvent-dried resin used by mixing with ionizing radiation-curable resin (resin that forms a film by simply drying the solvent added to adjust the solid content during coating)
  • a thermoplastic resin is used, and a general one is used. By adding solvent-dried resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented.
  • a cellulose-based resin such as TAC
  • a cellulose-based resin such as -trocellulose, acetyl cellulose, senorelose Acetate propyleneate, ethinorehydroxy ethinorecenellose and the like.
  • thermoplastic resin examples include styrene resin, (meth) acrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin. , Cycloolefin-based resins, polycarbonate-based resins, polyester-based resins, polyamide-based resins, cellulose derivatives, silicone-based resins, and rubbers or elastomers.
  • a resin that is amorphous and soluble in an organic solvent especially a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds
  • moldable or film-forming, transparent and highly weatherable resin such as styrene resin, (meth) acrylic resin, alicyclic olefin resin, polyester resin, Preferred examples include cellulose derivatives (cellulose esters and the like).
  • thermosetting resins include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin.
  • examples thereof include fat, amino alkyd resin, melamine urea co-condensed resin, key resin resin, and polysiloxane oil.
  • a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be further added as necessary.
  • the permeable solvent a solvent that is permeable to the light-transmitting substrate is used.
  • the “permeability” of the osmotic solvent is intended to include all concepts such as osmosis, swelling, and wettability with respect to the light-transmitting substrate.
  • Specific examples of the osmotic solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butylacetate.
  • halogenated hydrocarbons such as black mouth form, methylene chloride, and tetrachloroethane; or a mixture thereof, preferably esters and ketones.
  • osmotic solvent examples include acetone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, chloroform, methylene chloride, trichloroethane, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methinoisobutinoleketone, and cyclohexane.
  • Xanone Nitromethane, 1,4 Dioxane, Dioxolan, N Methylpyrrolidone, N, N Dimethylformamide, Methanol, Ethanol, Isopropyl alcohol, Butanol, Isobutyl alcohol, Diisopropyl ether, Methyl sequestration solve, Ethylcetone solve, Butyl cecum solve
  • methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone and the like are mentioned.
  • more preferable permeable solvents include ketones; acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, esters; methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, Butyl acetate, ethyl lactate, nitrogen-containing compounds; nitromethane, acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N dimethylformamide, glycols; methyl dallicol, methyl dallicol acetate, ethers; tetrahydrofuran, 1,4 dioxane , Dioxolane, diisopropyl ether, halogenated hydrocarbons; methylene chloride, chloroform, tetrachloroethane, glycol ethers; methyl cellosolve, ethyl acetate solvent, butylcellulose solvent, cellosolv
  • Antifouling agents include fluorine compounds, silicon compounds, or mixtures thereof. Is mentioned.
  • a compound having a reactive group one or more functional groups, preferably two or more functional groups
  • this stain-proofing agent will also be copolymerized.
  • the agent is released in the hard coat layer, it is present in a bonded state.
  • the antifouling effect can be maintained semipermanently without the antifouling agent being peeled off or missing. Further, the hardness (scratch resistance) of the hard coat layer can be improved. Furthermore, problems such as transfer contamination of the antifouling agent to other layers or the take-up roll used in the manufacturing process can be solved.
  • the antifouling agent having a reactive group (meth) acrylate is preferably mentioned.
  • the reactive antifouling agent preferably used in the present invention is commercially available, for example, the reactive antifouling agent is commercially available, for example, SUA1900L10 (weight Average molecular weight 4200; made by Shin-Nakamura Engineering Co., Ltd.), SUA1900L6 (weight average molecular weight 2470; made by Shin-Nakamura Engineering Co., Ltd.), Ebecryll360 (produced by Daicel UCB), UT3971 (produced by Nihon Gosei Co., Ltd.), Te ', Ifensa TF3001 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Te ', Effector TF3000 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Te', Ifensa TF3028 (Dainippon Ink Co., Ltd.), KR M7039 (Daicel UCB), Light Procoat AFC3000 (Manufactured by Kyoeisha Co., Ltd.).
  • SUA1900L10
  • another reactive antifouling agent is commercially available, for example, KNS5300 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), UVHC1105 (manufactured by GE Toshiba Silicone), UVHC8550 (GE Toshiba Silicone) Co., Ltd.), Ebecryl350 (manufactured by Daicel Yushi Ibi Co., Ltd.), ACS-1122 (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.)
  • the number average molecular weight is 500 or more and 100,000 or less, preferably the lower limit is 750 or more, more preferably 1000 or more, and preferably the upper limit is 70,000 or less. More preferably, it is 50,000 or less.
  • the addition amount of the antifouling agent is 0.001 part by weight or more and 90 parts by weight or less with respect to the total weight of the composition forming the hard coat layer, preferably the lower limit is 0.01 parts by weight or more. More preferably, it is 0.1 parts by weight or more, preferably the upper limit is 70 parts by weight or less, more preferably Is less than 50 parts by weight.
  • the addition amount of the antifouling agent is in the above range since a sufficient antifouling function is exhibited and the hardness of the optical laminate is also obtained.
  • the antifouling agent is a polyfunctional or polyfunctional polyfunctional or polyfunctional group containing a polyorganosiloxane group, a polyorganosiloxane-containing graft polymer, a polyorganosiloxane-containing block polymer, a fluorinated alkyl group or the like.
  • Those containing a (meth) acrylate group are preferred.
  • a monomer, an oligomer, a polymer, a polymer and the like containing a (meth) acrylate group are collectively referred to as (meth) acrylate.
  • polyfunctional acrylate examples include tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate.
  • trifunctional acrylates include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, trimethylol propane EO-modified tri (meth) acrylate, isocyanuric acid EO-modified tri (meth) acrylate, Examples include ethoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, propoxy glyceryl tri (meth) acrylate, trifunctional polyester acrylate.
  • tetrafunctional acrylates include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and ethoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate.
  • the functionalized or higher acrylate include dipentaerythritol hydroxypenta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexacrylate.
  • urethane (meth) acrylates having functional groups such as 6, 9, 10, 12, and 15 can be used.
  • the composition forming the hard coat layer further comprises a trifunctional or higher polyfunctional acrylate.
  • the trifunctional or higher functional (meth) acrylate may be the same as those of the polyfunctional (meth) acrylate described in the section of the antifouling agent.
  • the amount of the trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 10 parts by weight or more and 99.999 parts by weight or less with respect to the total weight of the composition forming the hard coat layer, preferably
  • the lower limit is 30 parts by weight or more, more preferably 50 parts by weight or more, preferably the upper limit is 99.99 parts by weight or less, more preferably 99.9 parts by weight or less.
  • the hard coat layer according to the present invention preferably comprises an antistatic agent and a glaze or antiglare agent.
  • the antistatic agent for forming the antistatic layer include various cationic compounds having cationic groups such as quaternary ammonium salts, pyridinium salts, and primary to tertiary amino groups. , Sulfonic acid bases, sulfate ester bases, phosphate ester bases, ionic compounds having a ionic group such as phosphonate bases, amino acids, amphoteric compounds such as amino amino sulfates, amino alcohols, Nonionic compounds such as glycerin and polyethylene glycol, organometallic compounds such as tin and titanium alkoxides, and metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof.
  • Polymerizable compounds such as organometallic compounds such as coupling agents can also be used as antistatic agents.
  • Conductive ultrafine particles may also be mentioned.
  • Specific examples of the conductive fine particles include metal oxides. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, hereinafter the numerical value in Katsuko represents the refractive index), CeO (1.95), Sb 2 O (1.71), S
  • a doped acid zinc salt (abbreviation: AZO, 2.0), and the like.
  • the fine particles refer to those having a so-called submicron size of 1 micron or less, and preferably those having an average particle size of 0.1 nm to 0.3 ⁇ .
  • examples of the antistatic agent include conductive polymers.
  • examples of the antistatic agent include aliphatic conjugated polyacetylene, aromatic conjugated poly (baraphthalene), and heterocyclic conjugated. Polypyrrole, polythiophene, heteroatom-containing polyarine, and mixed conjugated poly (fermylene bilene).
  • conjugated systems with multiple conjugated chains in the molecule And a conductive complex which is a polymer obtained by grafting or block-copolymerizing the above-described conjugated polymer chain onto a saturated polymer.
  • the antiglare agent examples include fine particles, and the shape thereof may be a spherical shape or an elliptical shape, preferably a spherical shape.
  • the fine particles include inorganic and organic particles.
  • the fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent.
  • Specific examples of the fine particles include silica beads for inorganic materials and plastic beads for organic materials.
  • Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic styrene beads (refractive index 1.54), Examples include polycarbonate beads and polyethylene beads.
  • the amount of fine particles added is 2 to 30 parts by weight, preferably about 10 to 25 parts by weight, per 100 parts by weight of the transparent resin composition.
  • an anti-settling agent when adjusting the composition for the antiglare layer. This is because by adding an anti-settling agent, the precipitation of the rosin beads can be suppressed and dispersed uniformly in the solvent.
  • Specific examples of the anti-settling agent include silica beads having a particle size of 0.5 / zm or less, preferably about 0.1 to 0.25 m.
  • the light-transmitting substrate may be transparent, translucent, colorless, or colored as long as it transmits light, but is preferably colorless and transparent.
  • Specific examples of the light-transmitting substrate include a glass plate; triacetate cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), diacetylenocellulose, acetate butyratecellulose, polyetherenoresanephone, attalinole resin; polyurethane Polyester; Polycarbonate; Polysulfone; Polyether; Trimethylpentene; Polyetherketone; Thin film formed from (meth) acrylonitrile, norbornene resin, etc.
  • triacetate cellulose TAC
  • the thickness of the light-transmitting substrate is about 30 / ⁇ ⁇ to 200 ⁇ m, preferably 40 ⁇ m to 200 ⁇ m.
  • the light-transmitting substrate has smoothness, heat resistance, and excellent mechanical strength.
  • thermoplastic ketones such as polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyurethane, preferably polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate) and cellulose triacetate.
  • amorphous polyolefin polymer (Cyclo-01efin-Polymer: COP) film having an alicyclic structure, which includes a norbornene-based polymer, a monocyclic cyclic olefin-based polymer, Cyclic conjugated gen-based polymer, vinyl alicyclic hydrocarbon-based polymer resin, etc., for example, ZEONEX ZEONOR (norbornene-based resin) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Sumitite Bakelite Co., Ltd.
  • the optical layered body according to the present invention is basically composed of a light transmissive substrate and a hard coat layer formed thereon as described above. However, one or more of the following layers may be formed on the hard coat layer in consideration of the function or application as the optical layered body.
  • the antistatic layer comprises an antistatic agent and a resin.
  • the antistatic agent may be the same as described for the hard coat layer.
  • the thickness of the antistatic layer is preferably about 30 ⁇ to 1 / ⁇ .
  • thermoplastic resin thermosetting resin, ionizing radiation curable resin or ionizing radiation curable compound (including organic reactive silicon compound) can be used.
  • a thermoplastic resin can also be used as the resin, but it is more preferable to use a thermosetting resin, more preferably an ionizing radiation containing an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation curable compound. It is a curable composition.
  • the ionizing radiation curable composition is a composition in which a polymerizable unsaturated bond or a prepolymer having an epoxy group, an oligomer, and a cage or monomer are appropriately mixed in the molecule.
  • the ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.
  • prepolymers and oligomers in the ionizing radiation curable composition include unsaturated polyesters such as a condensation product of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol, polyester metatalate, polyether metatalylate, polyol Metatarylates such as metatalylate and melamine metatalylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, melamine acrylate and cation polymerization type epoxy compounds Can be mentioned.
  • Examples of the monomer in the ionizing radiation curable composition include styrene monomers such as styrene and methylstyrene, methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, butoxycyl acrylate, Butyl acrylate, methacrylic acrylate Acrylic acid esters such as sibutyl and acrylic acid methacrylate, methyl methacrylate, methacrylic acid ethyl ester, propyl methacrylate, methacrylic acid methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, methacrylic acid phenol, lauryl methacrylate, and other methacrylic acid esters Acrylic acid-2- (N, N dimethylamino) ethyl, acrylic acid 2- (N, N dimethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N dibenzylamino) methyl, acrylic acid-2- (N, N-
  • the above compounds are used as required.
  • the prepolymer or oligomer is 5% by weight or more and the monomer and Z or polythiol compound is 95% by weight or less.
  • Examples of the functional group having 3 or more include trimethylolpropane tritalylate, pentaerythritol tritalylate, pentaerythritol tetratalylate, dipentaerythritol hexaatalylate, and the like.
  • the ionizing radiation curable composition is not cured by irradiation with ionizing radiation. It is also possible to add rosin.
  • Specific examples of greaves include the following.
  • thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl propylar resin, polyester resin, acrylic resin, polychlorinated resin resin, and polyacetate resin.
  • polyurethane resin cellulose resin, polyvinyl butyral resin, etc. is preferred in terms of improving flexibility.
  • a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator is added.
  • a photopolymerization initiator in the case of a resin having a radically polymerizable unsaturated group, acetofenones, benzophenones, thixanthones, benzoin, benzoin methyl ether and the like are used alone or in combination.
  • an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodine salt, a metatheron compound, a benzoin sulfonate ester is used as a photopolymerization initiator.
  • Etc. are used alone or as a mixture.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable composition.
  • the following organic reactive silicon compound may be used in combination.
  • Organosilicon compounds have the general formula: R Si (OR ′) (wherein R and R ′ are carbon atoms of 1 to 1
  • represents an alkyl group
  • the organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation curable composition is a silane coupling agent. Specifically, ⁇ - (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ - (2aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, — (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane , ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropylmethoxysilane, ⁇ - ⁇ - ( ⁇ butylbenzylaminoethyl) ⁇ -aminopropylmethoxysilane.
  • Hydrochloride ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, Amino silane, Methyl methoxy silane, Vinyl triacetoxy silane, ⁇ -Mercaptopropyl trimethoxy silane, ⁇ Closed propyl trimethoxy silane, Hexamethyldisilazane, Vinyl tris (j8-methoxyethoxy) silane, Octadecyl dimethyl [3 — (Trimethoxysilyl) propyl] ammo-mukuro Ride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.
  • the antiglare layer may be formed between the transparent substrate and the hard coat layer or the low refractive index layer.
  • the antiglare layer may be formed of rosin and an antiglare agent, and the antiglare agent and rosin may be the same as those described in the section of the hard coat layer.
  • the film thickness (when cured) of the antiglare layer is preferably in the range of 0.1 to 100 / ⁇ ⁇ , preferably 0.8 to LO / z m. When the film thickness is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.
  • the antiglare layer has an average particle size of R ( ⁇ m) and the ten-point average roughness of the antiglare layer irregularities is Rz ( ⁇ m), and is antiglare.
  • R average particle size
  • Rz ten-point average roughness of the antiglare layer irregularities
  • ⁇ a average inclination angle of the unevenness
  • Rz, Sm, ⁇ a is a surface roughness measuring device: SE 3400Z Co., Ltd. zJ ⁇ This corresponds to the Saka Laboratory Research Manual (revised on July 20, 1995).
  • Reference length Measurement distance, described in the above description as a cut-off value.
  • An anti-glare layer that satisfies and powerfully has a haze value of 55% or less inside the anti-glare layer is preferable.
  • Each liquid composition for the antistatic layer, thin layer, hard coat layer and the like may be prepared by mixing and dispersing the components described above according to a general preparation method. For mixing and dispersing, it is possible to appropriately disperse with a paint shaker or a bead mill.
  • each liquid composition to the surface of the light-transmitting substrate and the surface of the antistatic layer
  • spin coating dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coating
  • Various methods such as a meniscus coater method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a speed coater method can be used.
  • the optical laminate produced by the production method according to the present invention is used as an antireflection laminate, and further has the following uses.
  • a polarizing plate comprising a polarizing element and the optical laminate according to the present invention can be provided. Specifically, it is possible to provide a polarizing plate provided on the surface of the polarizing element, the optical laminate according to the present invention on the surface opposite to the surface on which the antiglare layer is present in the optical laminate.
  • the polarizing element is, for example, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene film, which is dyed with iodine or a dye and stretched. N-acetate copolymer copolymer film and the like can be used. In the laminating process, it is preferable to saponify the light-transmitting substrate (preferably, triacetyl cellulose film) in order to increase adhesion or prevent electricity.
  • the light-transmitting substrate preferably, triacetyl cellulose film
  • an image display device can be provided, and the image display device includes a transmissive display body and a light source device that irradiates the transmissive display body from the back.
  • the optical laminate according to the present invention or the polarizing plate according to the present invention is formed on the surface of this transmissive display.
  • the image display device according to the present invention may basically be composed of a light source device (backlight), a display element, and an optical laminate according to the present invention.
  • the image display device is used for a transmissive display device, and is particularly used for display display of a television, a computer, a word processor, or the like. In particular, it is used on the surface of high-definition image displays such as CRTs and liquid crystal panels.
  • the image display device according to the present invention is a liquid crystal display device
  • the light source of the light source device is irradiated from the lower side of the optical laminate according to the present invention.
  • a retardation plate may be inserted between the liquid crystal display element and the polarizing plate.
  • An adhesive layer may be provided between the respective layers of the liquid crystal display device as necessary.
  • composition for hard coat layer The following composition was mixed and stirred and filtered to obtain a composition for hard coat layer.
  • “reactive” is described when the antifouling agent has a reactive group, and “non-reactive” when the antifouling agent does not have a reactive group.
  • Silicone antifouling agent reactivity 0.5 parts by weight
  • Silicone antifouling agent reactive 0.1 weight
  • Silicone antifouling agent Reactive 5.0 weight
  • Silicone antifouling agent reactivity 0.5 parts by weight
  • Hard coat layer composition 6 Urethane acrylate 9.5 parts by weight
  • Silicone antifouling agent reactivity 0.5 parts by weight
  • Hard coat layer fine product 7 Urethane Atylate 9.5 parts by weight
  • Fluorine-based antifouling agent reactive
  • Fluorine-based antifouling agent Reactive 0.25 parts by weight
  • Silicone antifouling agent (weight average molecular weight 2000-10000
  • Fluorine antifouling agent non-reactive 0.5 parts by weight
  • Silicone antifouling agent non-reactive 0.5 parts by weight
  • Toluene Z xylene lZl 15 parts by weight
  • composition for hard coat layer 11 Composition for hard coat layer 11
  • Fluorine antifouling agent non-reactive 0.5 parts by weight
  • Silicone antifouling agent reactive 0.0001 weight
  • Silicone antifouling agent Reactive 9.9999
  • Ebecryll 360 manufactured by Daisenore UCB
  • a triacetyl cellulose film (TAC) with a thickness of 80 ⁇ m was prepared as a light-transmitting substrate.
  • a wet weight of 15 gZm 2 (dry weight of 6 g / m 2 ) was applied to this TAC as composition 1 for hard coat layer.
  • the film was dried at 50 ° C. for 30 seconds and irradiated with ultraviolet lOOmiZcm 2 to prepare a desired optical laminate.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 2 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 3 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 4 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 5 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 6 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 7 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 8 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer composition 10 was used instead of the hard coat layer composition 1.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer yarn and composition 11 was used instead of the hard coat layer yarn and composition 11.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer yarn and composition 12 was used instead of the hard coat layer yarn and composition 12.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer yarn and composition 13 was used instead of the hard coat layer yarn and composition 13.
  • a desired optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer yarn and composition 14 was used instead of the hard coat layer yarn and composition 14.
  • the surface of the hard coat layer of the optical laminate is 600gZc using # 0000 steel wool. While applying a load of m 2 , it was rubbed back and forth 10 times and evaluated for scratches. Evaluation (double-circle): It was the force which cannot confirm an abrasion.
  • the contact angle with water and an artificial fingerprint liquid was measured on the surface of the hard coat layer of the optical laminate.
  • Evaluation A The contact angle of water was 90 ° or more.
  • Evaluation X The contact angle of water was less than 90 °.
  • Evaluation A The contact angle of the artificial fingerprint liquid was 40 ° or more.
  • Evaluation X The contact angle of the artificial fingerprint liquid was 40 ° or less.
  • the optical layered body according to the present invention is formed with substantially no interface between the light-transmitting substrate and the hard coat layer.
  • the interface does not exist (substantially)
  • the cross section of the optical laminate is observed with a laser microscope, and the cross section of the laminate where the interference fringes are visually observed has an interface. It was measured that no interface existed in the cross section of the laminate in which the interference fringes were not visually observed, and evaluated according to the following evaluation criteria.
  • the cross section of the optical laminate was transmitted through a confocal laser microscope (LeicaTCS-NT: Leica Co., Ltd .: magnification: 500 to 1000 times) to determine the presence or absence of an interface.

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Abstract

 本発明は、光透過性基材とハードコート層の界面を解消することにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止した光学積層体を開示する。本発明は、光透過性基材の上にハードコート層を備えてなる光学積層体であって、前記ハードコート層が、樹脂と、防汚染剤と、前記光透過性基材に対して浸透性(膨潤性・溶解性)を有する浸透性溶剤とにより形成されてなり、それによって、前記光透過性基材と前記ハードコート層の界面が存在しないものとされてなるものである。

Description

明 細 書
光学積層体
発明の背景
[0001] m^ m
本願は、日本国特許出願 2005— 98586号を基礎とするパリ条約の優先権を伴う ものである。従って、本願はこの特許出願の出願内容の全てを包含するものである。 技術分野
[0002] 本発明は、防汚性に優れ、界面反射と干渉縞を防止した光学積層体に関する。
背景技術
[0003] 液晶ディスプレイ (LCD)又は陰極線管表示装置 (CRT)等の画像表示装置におけ る画像表示面は、外部光源カゝら照射された光線による反射を少なくし、その視認性を 高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、反射防止層を形成させた 光学積層体 (例えば、反射防止積層体)を利用することにより、画像表示装置の画像 表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。
[0004] し力しながら、屈折率の差が大きい層を積層させた光学積層体にあっては、互いに 重なり合った層の界面において、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見 受けられた。特に、画面表示装置の画像表示面において黒色を再現した際に、干渉 縞が顕著に発生し、その結果、画像の視認性が低下し、また画像表示面の美観を損 ねるとの指摘がなされている。特に、光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折 率が相違する場合、干渉縞の発生が生じ易いとされている。これに対して、特開 200 3— 131007号によれば、干渉縞の発生を抑制するために、基材とハードコート層と の界面近傍の屈折率が連続的に変化することを特徴とした光学フィルムが提案され ている。
[0005] また、従来、画像表示面は、様々な使用環境に晒され、傷が付きやすぐまた汚れ が付着し易いことが指摘されている。これに対して、特開平 10— 104403号では、画 像表示面の耐擦傷性と汚染防止とを向上させるために、ハードコート層に防汚染剤 を添加した光学積層体を提案して 、る。 [0006] し力しながら、本発明者らが確認したところ、光透過型基材とハードコート層の界面 状態を実質的に解消し、かつ、ハードコート層の強度と防汚染性とを兼ね備えた光学 積層体は未だ提案されて 、な 、。
[0007] 本発明者等は、本発明時において、光透過性基材とハードコート層の界面状態に 着目し、この界面が実質的に存在しないものとした光学積層体が得られるとの知見を 得た。また、本発明時において、本発明のハードコート層に防汚染剤を添加すること により耐擦傷性と耐汚染性とを向上させることができるとの知見を得た。よって、本発 明は光透過性基材とハードコート層の界面を解消することにより、界面反射と干渉縞 の発生を有効に防止し、視認性と、機械的強度とを向上させ、かつ、耐擦傷性と耐汚 染性をも兼ね備えた光学積層体の提供を目的とするものである。
[0008] 従って、本発明による光学積層体は、
光透過性基材の上にハードコート層を備えてなるものであって、
前記光透過性基材と前記ハードコート層の界面が存在しないものとされてなり、 前記ハードコート層が、榭脂と、防汚染剤と、前記光透過性基材に対して浸透性を 有する浸透性溶剤とを含んでなる組成物により形成されてなるものである。
図面の簡単な説明
[0009] [図 1]図 1は、本発明による光学積層体の断面のレーザー顕微鏡写真である。
[図 2]図 2は、比較例による光学積層体の断面のレーザー顕微鏡写真である。
発明を実施するための最良の形態
[0010] 1.光学穑層体
rmの な
本発明による光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面が実質的に 存在しないものとされてなるものである。本発明において、「界面が(実質的に)存在 しない」とは、二つの層面が重なり合ってはいるが実際に界面が存在しないこと、およ び屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断される場合をも含むもの をいう。「界面が (実質的に)存在しない」との具体的な基準としては、例えば、光学積 層体の断面を、レーザー顕微鏡により観察し、干渉縞が目視される積層体断面には 界面が存在し、干渉縞が目視されない積層体断面には界面が存在しないことを測定 することにより行うことができる。レーザー顕微鏡は屈折率に違いのあるものを非破壊 にて断面観察できるものであることから、屈折率に大きな違 、のな 、素材同士にお!、 て界面が存在しないとの測定結果が生じる。このことから、屈折率からみても基材とハ ードコート層の間に界面が存在しないと判断しうる。
[0011] ハードコート層
「ハードコート層」とは、 JIS K5600— 5— 4 (1999)で規定される鉛筆硬度試験で 「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚 (硬化時)は 0. 1-100 ^ m、好ましくは 0. 8〜20 mの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は榭脂と任 意成分とにより形成されてなる。
[0012] 1)纖
本明細書においては、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレボリマー などの硬化性榭脂前駆体を含んだものを「榭脂」と定義する。榭脂としては、透明性 のものが好ましぐその具体例としては、紫外線または電子線により硬化する榭脂で ある電離放射線硬化型榭脂、電離放射線硬化型榭脂と溶剤乾燥型榭脂 (熱可塑性 榭脂など、塗工時に固形分を調整するための溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるよ うな榭脂)との混合物、または熱硬化型榭脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放 射線硬化型榭脂が挙げられる。
[0013] 電離放射線硬化型榭脂の具体例としては、アタリレート系の官能基を有するもの、 例えば比較的低分子量のポリエステル榭脂、ポリエーテル榭脂、アクリル榭脂、ェポ キシ榭脂、ウレタン榭脂、アルキッド榭脂、スピロァセタール榭脂、ポリブタジエン榭脂 、ポリチオールポリェン榭脂、多価アルコール等の多官能化合物の (メタ)アタリレート 等のオリゴマー又はプレボリマー、反応性希釈剤が挙げられる。
[0014] 電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開 始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ラジカル重合性不飽 和基を有する榭脂系の場合は、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーべンゾィ ルベンゾエート、 a アミ口キシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チ ォキサントン類、プロピオフエノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ァシルホスフィンォ キシド類が挙げられる。カチオン重合性官能基を有する榭脂系の場合は、光重合開 始剤として、芳香族ジァゾ -ゥム塩、芳香族スルホ -ゥム塩、芳香族ョードニゥム塩、 メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。 光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物 100重量部に対し、 0. 1〜1 0重量部である。また、光増感剤を混合して用いることが好ましぐその具体例として は、 n—ブチルァミン、トリェチルァミン、ポリ— n—ブチルホソフィン等が挙げられる。
[0015] 電離放射線硬化型榭脂に混合して使用される溶剤乾燥型榭脂 (塗工時に固形分 を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような榭脂)としては 、主として熱可塑性榭脂が挙げられ、一般的なものが利用される。溶剤乾燥型榭脂 の添カ卩により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい 態様によれば、透明基材の材料が TAC等のセルロース系榭脂の場合、熱可塑性榭 脂の好ましい具体例として、セルロース系榭脂、例えば-トロセルロース、ァセチルセ ノレロース、セノレロースアセテートプロピ才ネート、ェチノレヒドロキシェチノレセノレロース 等が挙げられる。本発明のより好ましい態様によれば、好ましい熱可塑性榭脂の具体 例としては、スチレン系榭脂、(メタ)アクリル系榭脂、酢酸ビニル系榭脂、ビニルエー テル系榭脂、ハロゲン含有榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂 、ポリエステル系榭脂、ポリアミド系榭脂、セルロース誘導体、シリコーン系榭脂、及び ゴム又はエラストマ一等が挙げられる。榭脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有 機溶媒 (特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶な榭 脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性ゃ耐候性の高い榭脂として、例 えば、スチレン系榭脂、(メタ)アクリル系榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂、ポリエステ ル系榭脂、セルロース誘導体 (セルロースエステル類等)等が好ましくは挙げられる。
[0016] 熱硬化性榭脂の具体例としては、フエノール榭脂、尿素樹脂、ジァリルフタレート榭 脂、メラニン榭脂、グアナミン榭脂、不飽和ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂、ェポ キシ榭脂、アミノアルキッド榭脂、メラミン 尿素共縮合榭脂、ケィ素榭脂、ポリシロキ サン榭脂等が挙げられる。熱硬化性榭脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重 合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用する ことができる。
[0017] 2)浔诱件溶剤 浸透性溶剤は、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤を利用する。本発明にあ つては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤 性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピ ルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルェチルケトン、メチル イソブチルケトン、シクロへキサノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチ ル等のエステル類;クロ口ホルム、塩化メチレン、テトラクロルェタン等のハロゲン化炭 化水素;またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、エステル類、ケトン類が挙げ られる。
[0018] 浸透性溶剤の具体例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル、ク ロロホルム、塩化メチレン、トリクロロェタン、テトラヒドロフラン、メチルェチルケトン、メ チノレイソブチノレケトン、シクロへキサノン、ニトロメタン、 1, 4 ジォキサン、ジォキソラ ン、 N メチルピロリドン、 N, N ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソ プロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メ チルセ口ソルブ、ェチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブが挙げられ、好ましくは酢酸メ チル、酢酸ェチル、酢酸ブチル、メチルェチルケトンなどが挙げられる。
[0019] 本発明によるより好ましい浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類;アセトン、メチル ェチルケトン、シクロへキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エス テル類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル、乳酸ェチル、含窒素化 合物;ニトロメタン、ァセトニトリル、 N—メチルピロリドン、 N, N ジメチルホルムアミド 、グリコール類;メチルダリコール、メチルダリコールアセテート、エーテル類;テトラヒド 口フラン、 1, 4 ジォキサン、ジォキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化 水素;塩化メチレン、クロ口ホルム、テトラクロルェタン、グリコールエーテル類;メチル セロソルブ、ェチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジ メチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、 好ましくはエステル類、ケトン類;酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル、メチルェチ ルケトンなどが挙げられる。
[0020] 3)防汚染剤
防汚染剤としては、フッ素系化合物、ケィ素系化合物、またはこれらの混合ィ匕合物 が挙げられる。本発明にあっては、防汚性能の耐久性を改善するために、反応基 (一 官能以上、好ましくは二官能基以上)を有する化合物が好ましくは使用される。反応 性基を有する防汚染剤を使用することにより、ハードコート層用組成物を紫外線、熱 、又は電子線等で共重合する場合、この防汚染剤もまた共重合することとなり、防汚 染剤がハードコート層内に遊離した状態ではなぐ結合した状態で存在することとな る。この結果、ハードコート層の表面の汚れを繰り返し洗浄した場合であっても、防汚 染剤が剥離又は欠落することがなぐ半永久的に防汚染効果を維持することができる 。また、ハードコート層の硬度 (耐擦傷性)を向上させることができる。さらに、製造ェ 程において、他の層または使用する巻き取りロール等への防汚染剤の転移汚染とい つた問題を解消することができる。本発明において、反応性基を有する防汚染剤とし ては、(メタ)アタリレートが好ましくは挙げられる。
[0021] 本発明において好ましく利用される反応性のある防汚染剤は市販品として入手可 能であり、例えば、反応性のある防汚染剤は市販品として入手可能であり、例えば、 SUA1900L10 (重量平均分子量 4200;新中村ィ匕学社製)、 SUA1900L6 (重量 平均分子量 2470;新中村ィ匕学社製)、 Ebecryll360 (ダイセルユーシービー社製)、 UT3971 (日本合成社製)、テ'、イフェンサ TF3001 (大日本インキ社製)、テ'、イフェ ンサ TF3000 (大日本インキ社製)、テ'、イフェンサ TF3028 (大日本インキ社製)、 KR M7039 (ダイセルユーシービー社製)、ライトプロコート AFC3000 (共栄社ィ匕学社製 )が挙げられる。本発明にあっては、反応性のある別の防汚染剤は市販品として入手 可能であり、例えば、 KNS5300 (信越シリコーン社製)、 UVHC1105 (GE東芝シリ コーン社製)、 UVHC8550 (GE東芝シリコーン社製)、 Ebecryl350 (ダイセルユーシ 一ビー社製)、 ACS- 1122 (日本ペイント社製)が挙げられる。
[0022] 防汚染剤が、有機化合物の場合、その数平均分子量は 500以上 10万以下であり、 好ましくは下限が 750以上であり、より好ましくは 1000以上であり、好ましくは上限が 7万以下であり、より好ましくは 5万以下である。
[0023] 防汚染剤の添加量は、ハードコート層を形成する組成物の全重量に対して 0. 001 重量部以上 90重量部以下であり、好ましくは下限が 0. 01重量部以上であり、より好 ましくは 0. 1重量部以上であり、好ましくは上限が 70重量部以下であり、より好ましく は 50重量部以下である。防汚染剤の添加量を上記範囲内にすることにより、防汚染 性を有効に達成することができ、基材への塗工性を向上させ、さらには積層体の着 色を有効に防止することができる。よって、防汚染剤の添加量が、上記範囲内にある ことにより、十分な防汚染機能が発揮され、かつ、光学積層体の硬度をも有するので 好ましい。
本発明の好ま 、態様によれば、防汚染剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオル ガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フ ッ素化アルキル基などを含有する 2官能以上の多官能 (メタ)アタリレート基を含んで なるものが好ましい。本発明では、(メタ)アタリレート基を含有するモノマー、オリゴマ 一、プレボリマー、ポリマーなどを、総称して (メタ)アタリレートと表記する。多官能ァク リレートとしては、例えば、 2官能アタリレートとして、トリプロピレングリコールジ (メタ)ァ タリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アタリレート、ジエチレングリコールジ(メタ )アタリレート、ポリエチレングリコールジ (メタ)アタリレート、 1, 3—ブタンジオールジ( メタ)アタリレート、 1, 4—ブタンジオールジ (メタ)アタリレート、エトキシ化ビスフエノー ル Aジ (メタ)アタリレート、エトキシ化ビスフエノール Fジ (メタ)アタリレート、 1, 6—へ キサンジオールジ (メタ)アタリレート、 1, 9—ノナンジオールジ (メタ)アタリレート、 1, 10—デカンジオールジ (メタ)アタリレート、グリセリンジ (メタ)アタリレート、ネオペンチ ルグリコールジ (メタ)アタリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アタリ レート、ペンタエリスリトールジァクリレートモノステアレート、イソシァヌル酸エトキシ変 性ジ (メタ)アタリレート (イソシァヌル酸 EO変性ジ (メタ)アタリレート)、 2官能ウレタン アタリレート、 2官能ポリエステルアタリレート等が挙げられる。 3官能アタリレートとして は、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アタリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アタリレ ート、トリメチロールプロパン EO変性トリ(メタ)アタリレート、イソシァヌル酸 EO変性トリ (メタ)アタリレート、エトキシィ匕トリメチロールプロパントリ(メタ)アタリレート、プロポキシ 化トリメチロールプロパントリ(メタ)アタリレート、プロポキシィ匕グリセリルトリ(メタ)アタリ レート、 3官能ポリエステルアタリレートなどが挙げられる。 4官能アタリレートとしては、 ペンタエリスリトールテトラ (メタ)アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)ァク リレート、エトキシィ匕ペンタエリスリトールテトラ (メタ)アタリレートなどが挙げられる。 5 官能以上のアタリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ (メタ)アタリレ ート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート等が挙げられる。また、 6、 9、 10、 12、 15等の官能基を有するウレタン (メタ)アタリレート等が挙げられる。
[0025] 三官能以上の多官能 (メタ)ァクリレート
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層を形成する組成物が、三官能以上 の多官能アタリレートをさらに含んでなるものが好ましい。三官能以上の (メタ)アタリレ ートの具体例は、先に防汚染剤の項で説明した多官能 (メタ)アタリレートと同様であ つてよい。
[0026] 三官能以上の多官能 (メタ)アタリレートの添加量は、ハードコート層を形成する組 成物の全重量に対して、 10重量部以上 99. 999重量部以下であり、好ましくは下限 が 30重量部以上であり、より好ましくは 50重量部以上であり、好ましくは上限が 99. 99重量部以下であり、より好ましくは 99. 9重量部以下である。
[0027] 4) ^ , I卜 Iあ び/または方眩剤
本発明によるハードコート層は、帯電防止剤および Ζまたは防眩剤を含んでなるも のが好ましい。
纏方 雷剤)
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第 4級アンモニゥム塩、ピリ ジ -ゥム塩、第 1〜第 3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性ィ匕合物 、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などの ァ-オン性基を有するァ-オン性化合物、アミノ酸系、ァミノ硫酸エステル系などの両 性化合物、ァミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノ-ォ ン性ィ匕合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれら のァセチルァセトナート塩のような金属キレートイ匕合物等が挙げられ、さらに上記に 列記した化合物を高分子量ィ匕した化合物が挙げられる。また、第 3級ァミノ基、第 4級 アンモ-ゥム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能な モノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基 を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性ィ匕合物もまた帯電防止 剤として使用できる。 [0028] また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸ィ匕 物カゝらなるものを挙げることができる。そのような金属酸ィ匕物としては、 ZnO (屈折率 1 . 90、以下、カツコ内の数値は屈折率を表す。)、 CeO (1. 95)、 Sb O (1. 71)、 S
2 2 2
ηθ (1. 997)、 ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1. 95) , In O (
2 2 3
2. 00)、 Al O (1. 63)、アンチモンドープ酸化錫(略称; ATO、 2. 0)、アルミニウム
2 3
ドープ酸ィ匕亜鉛 (略称; AZO、 2. 0)等を挙げることができる。微粒子とは、 1ミクロン 以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が 0. lnm 〜0. Ι πιのものである。
また、本発明にあっては、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具 体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ (バラフヱ-レン )、複素環式共役系のポリピロール、ポリチォフェン、含へテロ原子共役系のポリア- リン、混合型共役系のポリ(フエ-レンビ-レン)が挙げられ、これら以外に、分子中に 複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分 子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。
[0029] 防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであつ てよぐ好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のもの が挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよ い。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラス チックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ (屈 折率 1. 59)、メラミンビーズ (屈折率 1. 57)、アクリルビーズ (屈折率 1. 49)、アクリル スチレンビーズ(屈折率 1. 54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなど が挙げられる。微粒子の添加量は、透明榭脂組成物 100重量部に対し、 2〜30重量 部、好ましくは 10〜25重量部程度である。
[0030] 防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止 剤を添加することにより、榭脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させるこ とができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が 0. 5 /z m以下、好ましく は 0. 1〜0. 25 m程度のシリカビーズが挙げられる。 [0031] 光诱渦性某材
光透過性基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を 問わないが、好ましくは無色透明のものがよい。光透過性基材の具体例としては、ガ ラス板;トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジァセ チノレセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテノレサノレホン、アタリノレ系 榭脂;ポリウレタン系榭脂;ポリエステル;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテル ;トリメチルペンテン;ポリエーテルケトン;(メタ)アクリロニトリル、ノルボルネン榭脂等 により形成した薄膜等が挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、トリアセテート セルロース (TAC)が好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚さは、 30 /ζ πι〜200 μ m程度であり、好ましくは 40 μ m〜200 μ mである。
[0032] 本発明の好ま 、態様によれば、光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械 的強度とに優れたものが好ましぐそのような具体例としては、ポリエステル (ポリェチ レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セノレローストリアセテート、セノレロース ジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、 ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩 化ビニル、ポリビニルァセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリ力 ーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性榭脂が挙げられ、好ましくはポリエステ ル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテート が挙げられる。その他の光透過性基材として、脂環構造を有した非晶質ォレフインポ リマー(Cyclo-01efin-Polymer: COP)フィルムもあり、これは、ノルボルネン系重合体、 単環の環状ォレフィン系重合体、環状共役ジェン系重合体、ビニル脂環式炭化水素 系重合体榭脂などが用いられる基材で、例えば、 日本ゼオン社製のゼォネックスゃ ゼォノア (ノルボルネン系榭脂)、住友ベークライト社製 スミライト FS- 1700、 JSR社製 アートン (変性ノルボルネン系榭脂)、三井化学社製 アベル (環状ォレフィン共重 合体)、 Ticona社製の Topas (環状ォレフィン共重合体)、 日立化成社製 ォプトレッツ OZ-1000シリーズ (脂環式アクリル榭脂)などが挙げられる。また、トリァセチルセル口 ースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製の FVシリーズ (低複屈折率、低光弾性 率フィルム)も好ましくは使用できる。 [0033] その他の層
本発明による光学積層体は、上記した通り光透過性基材とその上に形成されてな るハードコート層とにより基本的には構成されてなる。し力しながら、光学積層体とし ての機能または用途を加味してハードコート層の上に、下記する一又は二以上の層 を形成してもよい。 帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とを含んでなるものである。帯電防止剤はハード コート層で説明したのと同様であって良い。帯電防止層の厚さは、 30ηπι〜1 /ζ πι程 度であることが好ましい。
[0034] 纖
榭脂の具体例としては、熱可塑性榭脂、熱硬化性榭脂、もしくは電離放射線硬化 性榭脂もしくは電離放射線硬化性化合物 (有機反応性ケィ素化合物を含む)を使用 することができる。榭脂としては、熱可塑性の榭脂も使用できるが、熱硬化性榭脂を 使用することがより好ましぐより好ましくは、電離放射線硬化性榭脂または電離放射 線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
[0035] 電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ 基を有するプレボリマー、オリゴマー、及び Ζ又はモノマーを適宜に混合したもので ある。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し 得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。
[0036] 電離放射線硬化性組成物中のプレボリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカ ルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタタリ レート、ポリエーテルメタタリレート、ポリオールメタタリレート、メラミンメタタリレート等の メタタリレート類、ポリエステルアタリレート、エポキシアタリレート、ウレタンアタリレート 、ポリエーテルアタリレート、ポリオールアタリレート、メラミンアタリレート等のアタリレー ト、カチオン重合型エポキシィ匕合物が挙げられる。
[0037] 電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、 ひ メチルスチレ ン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸 2—ェチルへキシル、ァク リル酸メトキシェチル、アクリル酸ブトキシェチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキ シブチル、アクリル酸フエ-ル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタタリ ル酸ェチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシェチル、メタクリル酸エトキシメ チル、メタクリル酸フエ-ル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル 酸ー2—(N, N ジェチルァミノ)ェチル、アクリル酸 2— (N, N ジメチルァミノ) ェチル、アクリル酸— 2— (N, N ジベンジルァミノ)メチル、アクリル酸— 2— (N, N ージェチルァミノ)プロピル等の不飽和置換の置換ァミノアルコールエステル類、ァク リルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアタリレ ート、プロピレングリコールジアタリレート、ネオペンチルグリコールジアタリレート、 1, 6—へキサンジオールジアタリレート、トリエチレングリコールジアタリレート等の化合物 、ジプロピレングリコールジアタリレート、エチレングリコールジアタリレート、プロピレン グリコールジメタタリレート、ジエチレングリコールジメタタリレート等の多官能性化合物 、及び Z又は分子中に 2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えば
、ペンタエリスリトールテトラチォグリコレート等を挙げることができる。
[0038] 通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応 じて、 1種若しくは 2種以上を混合して用いる力 電離放射線硬化性組成物に通常の 塗布適性を与えるために、前記のプレボリマー又はオリゴマーを 5重量%以上、前記 モノマー及び Z又はポリチオール化合物を 95重量%以下とするのが好ましい。
[0039] 電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求さ れるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が 1又は 2のアタリレートモノマーを使 用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱 性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が 3つ以上のアタリレートモノマーを使 う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が 1のものとし て、 2—ヒドロキシアタリレート、 2—へキシルアタリレート、フエノキシェチルアタリレート が挙げられる。官能基が 2のものとして、エチレングリコールジアタリレート、 1, 6 へ キサンジオールジアタリレートが挙げられる。官能基が 3以上のものとして、トリメチロ ールプロパントリアタリレート、ペンタエリスリトールトリアタリレート、ペンタエリスリトー ルテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート等が挙げられる。 [0040] 電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬 度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬 化しな 、ポリマー榭脂を添加することもできる。具体的な榭脂の例としては次のものが ある。ポリウレタン榭脂、セルロース榭脂、ポリビニルプチラール榭脂、ポリエステル榭 脂、アクリル榭脂、ポリ塩化ビュル榭脂、ポリ酢酸ビュル等の熱可塑性榭脂である。 中でも、ポリウレタン榭脂、セルロース榭脂、ポリビニルブチラール榭脂等の添加がフ レキシピリティーの向上の点で好まし 、。
[0041] 電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光 重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不 飽和基を有する榭脂系の場合は、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、チォキサント ン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、力 チオン重合性官能基を有する榭脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジァゾ ニゥム塩、芳香族スルホ -ゥム塩、芳香族ョードニゥム塩、メタセロン化合物、ベンゾ インスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量 は、電離放射線硬化性組成物 100重量部に対し、 0. 1〜10重量部である。
[0042] 電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケィ素化合物を併用しても よい。
有機ケィ素化合物は、一般式: R Si (OR') (上記式中、 Rおよび R'は炭素数 1〜1
m n
οのアルキル基を表し、
m及び nは、各々が、 m+n=4の関係を満たす整数である。 )
で表せるものが挙げられる。
[0043] 具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラー iso—プロボキシシ ラン、テトラ一 n—プロボキシシラン、テトラ一 n—ブトキシシラン、テトラ一 sec—ブトキ シシラン、テトラー tert—ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンター is o—プロポキシシラン、テトラペンター n—プロポキシシラン、テトラペンター n—ブトキ シシラン、テトラペンター sec—ブトキシシラン、テトラペンター tert—ブトキシシラン、メ チルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチル ジメトキシシラン、ジメチノレジェトキシシラン、ジメチノレエトキシシラン、ジメチノレメトキシ シラン、ジメチノレプロポキシシラン、ジメチノレブトキシシラン、メチノレジメトキシシラン、メ チルジェトキシシラン、へキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
[0044] 電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケィ素化合物は、シランカップリング剤 である。具体的には、 Ύ - (2—アミノエチル)ァミノプロピルトリメトキシシラン、 γ— (2 アミノエチル)ァミノプロピルメチルジメトキシシラン、 — (3, 4—エポキシシクロへ キシル)ェチルトリメトキシシラン、 γ ァミノプロピルトリエトキシシラン、 Ύ—メタクリロ キシプロピルメトキシシラン、 Ν— β— (Ν ビュルべンジルアミノエチル) γ アミ ノプロピルメトキシシラン.塩酸塩、 γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ァミノ シラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリァセトキシシラン、 γ—メルカプトプロピルトリメ トキシシラン、 γ クロ口プロピルトリメトキシシラン、へキサメチルジシラザン、ビニルト リス( j8—メトキシエトキシ)シラン、ォクタデシルジメチル [3— (トリメトキシシリル)プロ ピル]アンモ-ゥムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げ られる。
[0045]
防眩層は、透過性基材とハードコート層または低屈折率層との間に形成されてよい 。防眩層は榭脂と防眩剤とにより形成されてよぐ防眩剤と榭脂は、ハードコート層の 項で説明したものと同様であってよい。防眩層の膜厚 (硬化時)は 0. 1〜100 /ζ πι、 好ましくは 0. 8〜: LO /z mの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることによ り、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
[0046] 本発明の好ま 、態様によれば、防眩層は微粒子の平均粒径を R ( μ m)とし、防 眩層凹凸の十点平均粗さを Rz ( μ m)とし、防眩層の凹凸平均間隔を Sm ( m)とし 、凹凸部の平均傾斜角を Θ aとした場合に、下記数式:
30≤Sm≤600
0. 05≤Rz≤l . 60
0. 1≤ Θ a≤2. 5
0. 3≤R≤15
を全て同時に満たすものが好ましい。
[0047] 本発明において、 Rz, Sm, Θ aの定義は、表面粗さ測定器: SE 3400Z (株) zJヽ 坂研究所製取り扱い説明書(1995. 07. 20改訂)に該当するものである。
Θ aは角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものが Δ aである場合、 A a=tan Θ a
= (各凹凸の極小部と極大部の差 (各凸部の高さに相当)の総和 z基準長さ)で求め られる。基準長さ:測定距離のことで、カットオフ値として前記説明書には記載されて いる。
[0048] また、本発明の別の好ま 、様態によれば、微粒子と透明榭脂組成物の屈折率を それぞれ、 nl、 n2とした場合に、 Δη= | nl— η2 | < 0. 1を満たすものであり、力 つ、防眩層内部のヘイズ値が 55%以下である防眩層が好まし 、。
[0049] 2. 光学穑層体の 1¾告方法
:釦. )の
帯電防止層、薄層、ハードコート層等用の各液体組成物は、一般的な調製法に従 つて、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散 には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。
[0050] 塗工
光透過性基材表面、帯電防止層の表面への各液体組成物の塗布法の具体例とし ては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコ 一ター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター 法等の各種方法を用いることができる。
[0051] 学穑1¾ :の禾 llffl
本発明による製造方法によって製造される光学積層体は反射防止積層体として利 用されるが、さらに、下記の用途を有する。 本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による光学積層体とを備えてなる 偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による光学 積層体を該光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏 光板を提供することができる。
[0052] 偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコ ールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルァセタールフィルム、ェチレ ン—酢酸ビュル共重合体系ケンィ匕フィルム等を用いることができる。ラミネート処理に あたって、接着性の増加のため、または電防止のために、光透過性基材 (好ましくは 、トリァセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。
[0053] 画像表示装置
本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像 表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを 備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による光学積層体または本発明に よる偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には 光源装置 (バックライト)と表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよ い。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ 、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、 CRT,液晶パネル 等の高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。
[0054] 本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明に よる光学積層体の下側から照射される。なお、 STN型の液晶表示装置には、液晶表 示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間 には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
実施の態様
[0055] 本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実 施例に限定して解釈されるものではな 、。
ハードコート層用組成物の調整 下記組成のものを混合撹拌し、濾過してハードコート層用組成物とした。組成表中 、防汚染剤が反応性基を有する場合には、「反応性」と、防汚染剤が反応性基を有し ない場合は、「非反応性」と記載した。
ハードコート層用細.成物 1
ウレタンアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 2000、 10官能; UV1700B;日本合成製)
シリコーン系防汚染剤:反応性 0. 5重量部
(重量平均分子量 2470; SUA1900L6;新中村化学製) 重合開始剤 (ィルガキュア一 184:チハ'、スへ。リャリティーケミカルス'、 ) t部
メチルェチルケトン 15重量部 ハードコート層用組成物 2
ウレタンアタリレート 9. 9重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
シリコーン系防汚染剤:反応性 0. 1重量
(重量平均分子量 2470; SUA1900L6;新中村化学製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184:チハ'、スへ。リャリティーケミカルス'、 ) t部
メチルェチルケトン 15重量部 ハードコート層用細.成物 3
ウレタンアタリレート 5. 0重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
シリコーン系防汚染剤:反応性 5. 0重量
(重量平均分子量 2470; SUA1900L6;新中村化学製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184:チハ'、スへ。リャリティーケミカルス'、 ) t部
メチルェチルケトン 15重量部 ハードコート層用組成物 4
ジペンタエリスリトールへキサアタリレート(6官能、 DPHA) 9. 5重 シリコーン系防汚染剤:反応性 0. 5重量
(重量平均分子量 2470; SUA1900L6;新中村化学製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184:チハ'、スへ。リャリティーケミカルス'、 ) t部
メチルェチルケトン 15重量部 ハードコート層用組成物 5
ウレタンアタリレート 9. 5重量部 (重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
シリコーン系防汚染剤:反応性 0. 5重量部
(重量平均分子量 2470; SUA1900L6;新中村化学製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184 :チノ、'、スへ。リャリティーケミカルスつ 0. 重量部
酢酸メチル 15重量部
ハードコート層用組成物 6 ウレタンアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
シリコーン系防汚染剤:反応性 0. 5重量部
(重量平均分子量 2000〜10000 UT3971 ;日本合成社製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184:チハ'、スへ。リャリティーケミカルス'、 ) 0. 4重量部 メチルェチルケトン 15重量部
ハードコート層用細成物 7 ウレタンアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
フッ素系防汚染剤:反応性
(重量平均分子量 1000〜50000
ディフェンサ TF3000;大日本インキ社製) 0. 5重量部 重合開始剤 (ィルガキュア一 184 :チノ、'、スへ。リャリティーケミカルスつ 0. 重量部
メチルェチルケトン 15重量部
ハードコート層用組成物 8
ウレタンアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
フッ素系防汚染剤:反応性 0. 25重量部
(重量平均分子量 1000〜50000
ディフェンサ TF3000;大日本インキ社製) シリコーン系防汚染剤(重量平均分子量 2000〜 10000
UT3971;日本合成社製) 0. 25重量部
重合開始剤 (ィルガキュア一 184 :チノ、'、スへ。リャリティーケミカルスつ 0. t部
メチルェチルケトン 15重量部
ハードコート層用組成物 9
ウレタンアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
フッ素系防汚染剤:非反応性 0. 5重量部
(重量平均分子量 1000〜100000
メガファック F178K;大日本インキ化学工業社製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184 :チノ、'、スへ。リャリティーケミカルスつ 0. t部
トルエン 15重量部
ハードコート層用細成物 10
ポリエチレングリコールジアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 302、 2官能; M240 ;東亞合成社製)
シリコーン系防汚染剤:非反応性 0. 5重量部
(重量平均分子量 1000〜50000
TSF4460; GE東芝シリコン社製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184 :チノ、'、スへ。リャリティーケミカルスつ 0. t部
トルエン Zキシレン = lZl 15重量部
ハードコート層用組成物 11
ウレタンアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
フッ素系防汚染剤:非反応性 0. 5重量部
(重量平均分子量 20000〜200000 MCF350;大曰本インキ化学工業製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184:チハ'、スへ。リャリティーケミカルス'、 ) 4重量部
トルエン 15重量部 ハードコート層用組成物 12 ウレタンアタリレート 9. 5重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
重合開始剤 (ィルガキュア一 184:チハ'、スへ。リャリティーケミカルス'、 ) 4重量部
トルエン Zキシレン = 1Z1 15重量部 ハードコート層用細.成物 1 3
ウレタンァクジレー卜 9. 9999重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
シリコーン系防汚染剤:反応性 0. 0001重量
(重量平均分子量 2470; SUA1900L6;新中村化学製)
重合開始剤(ィルガキュア一 184 :チハ'、スへ。リャリティーケミカルス -、) 重量部
トルエン 15重量部 ハード、コート 細 14
ウレタンアタリレート 0. 0001重量部
(重量平均分子量 2000 ;UV1700B ;曰本合成製)
シリコーン系防汚染剤:反応性 9. 9999重量
(重量平均分子量 1000〜10000
Ebecryll 360;ダイセノレユーシービー社製)
重合開始剤(ィルガキュア一 184:チ /ヾ、スへ。リャリティーケミカルス-、 ) 重量部
トルエン Zキシレン =1Z1 15重量部 学穑 本の 実施例 1
光透過性基材として、厚み 80 μ mのトリアセチルセルロースフィルム (TAC)を用意 した。この TACにハードコート層用組成物 1を湿潤重量 15gZm2 (乾燥重量 6g/m2) を塗布した。 50°Cにて 30秒乾燥し、紫外線 lOOmiZcm2を照射して所望の光学積 層体を調製した。
実施例 2
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 2を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
実施例 3
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 3を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
例 4
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 4を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
例 5
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 5を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
例 6
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 6を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
実施例 7
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 7を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
実施例 8
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 8を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
比較例 1
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 9を用いた以外は、 実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
2
ハードコート層用組成物 1の代わりに、ハードコート層用組成物 10を用いた以外は 、実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
列 3
ハードコート層用糸且成物 1の代わりに、ハードコート層用糸且成物 11を用いた以外は 、実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。 ハードコート層用糸且成物 1の代わりに、ハードコート層用糸且成物 12を用いた以外は 、実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
15
ハードコート層用糸且成物 1の代わりに、ハードコート層用糸且成物 13を用いた以外は 、実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
16
ハードコート層用糸且成物 1の代わりに、ハードコート層用糸且成物 14を用いた以外は 、実施例 1と同様にして所望の光学積層体を調製した。
[0058] 評価試験
実施例および比較例で調製した光学積層体について下記の評価試験を行った。 その結果は下記表 1に記載した通りであった。
評価 1 :干渉縞有 試,験
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープ を貼り、ハードコート層の面力 光学積層体を三波長蛍光下で目視しで観察し、下記 評価基準にて評価した。
評価◎:全方位での目視観察にて干渉縞の発生はな力つた。
評価 X:全方位での目視観察にて干渉縞の発生があった。
[0059] 評価 2 :硬さの評価試験
光学積層体のハードコート層の面を # 0000のスチールウールを用いて、 600gZc m2の荷重をかけながら 10往復摩擦し、傷の有無を評価した。 評価◎:擦傷が確認できな力つた。
評価 X:擦傷が確認された。
[0060] -. ^
光学積層体のハードコート層の面に対して、水と、人工指紋液 (JIS K2246)とに よる接触角度を測定した。
人工指紋液 (JIS K 2246) :水(500ml)、メタノール(500ml)、塩ィ匕ナトリウム(7 g)、尿素(lg)、乳酸 (4g)とを混合した溶液である。
¾平 ί : τΚ の接触
評価◎:水の接触角度が 90° 以上であった。
評価 X:水の接触角度が 90° 未満であった。
Μ¾¾2)入!^旨紋液 の接触
評価◎:人工指紋液の接触角度が 40° 以上であった。
評価 X:人工指紋液の接触角度が 40° 以下であった。
Figure imgf000025_0001
光学積層体のハードコート層の面に対して、予めエタノール 0. lgをしみこませたべ ムコットンに荷重 200gZcm2の荷重をかけながら 30往復させ、さらにベムコットンに 荷重 200gZcm2の荷重をかけながら 20往復乾拭きした。その後に、評価 3 :防汚染
: と同様な方法および評価基準に従って評価した。
[0062] 評価 5 :界 rifの実皙的な消減
本発明による光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面が実質的に 存在しな ヽものとされてなるものである。「界面が(実質的に)存在しな ヽ」との具体的 な基準として、光学積層体の断面を、レーザー顕微鏡により観察し、干渉縞が目視さ れる積層体断面には界面が存在し、干渉縞が目視されない積層体断面には界面が 存在しないことを測定し、下記評価基準にて評価した。具体的な測定は、共焦点レー ザ一顕微鏡 (LeicaTCS-NT:ライカ社製:倍率 500〜1000倍 )にて、光学積層体 の断面を透過観察し、界面の有無を判断した。レーザー顕微鏡の具体的な観測条 件としては、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、 湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率 1. 518のオイルを約 2 ml乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気 層を消失させるために用いた。 評価◎:界面が観察されな力つた (注 1)。
評価 X:界面が観察された (注 2)。
注 1および注 2
注 1 :本発明による実施例の全ては図 1に示す通り、油面(上層) Zハードコート層( 下層)の界面のみが観察され、ハードコート層と光透過性基材との界面は観察されな かった。
注 2 :比較例の全ては、図 2に示す通り、油面(上層) Zハードコート層(中層) Z光 透過性基材 (下層)とのそれぞれの層の境に界面が観察された。
Figure imgf000026_0001
実施例 1 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
実施例 2 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
実施例 3 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
実施例 4 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
実施例 5 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
実施例 6 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
実施例 7 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
実施例 8 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
比較例 1 ◎ ◎
比較例 2 ◎ X
比較例 3 X ◎
比較例 4 ◎ ◎ 比較例 5

Claims

請求の範囲
[1] 光透過性基材の上にハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層が、榭脂と、防汚染剤と、前記光透過性基材に対して浸透性を 有する浸透性溶剤とにより形成されてなり、それによつて、前記光透過性基材と前記 ハードコート層の界面が存在しないものとされてなる、光学積層体。
[2] 前記防汚染剤が、フッ素系化合物、ケィ素系化合物、またはこれらの混合化合物で ある、請求項 1に記載の光学積層体。
[3] 前記防汚染剤が、数平均分子量が 500以上 10万以下の化合物である、請求項 1 に記載の光学積層体。
[4] 前記防汚染剤の添加量が、前記ハードコート層を形成する組成物の全重量に対し て、 0. 001重量部以上 90重量部以下である、請求項 1に記載の光学積層体。
[5] 前記ハードコート層を形成する組成物力 三官能以上の (メタ)アタリレートをさらに 含んでなるものである、請求項 1に記載の光学積層体。
[6] 前記防汚染剤が、二官能以上 (メタ)アタリレートをさらに含んでなるものである、請 求項 1に記載の光学積層体。
[7] 前記ハードコート層が、帯電防止剤をさらに含んでなる、請求項 1に記載の光学積 層体。
[8] 反射防止積層体として利用される、請求項 1〜7のいずれか一項に記載の光学積 層体。
[9] 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子の表面に、請求項 1〜7のいずれか一項に記載の光学積層体を該 光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板。
[10] 透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる 画像表示装置であって、
前記透過性表示体の表面に、請求項 1〜7のいずれか一項に記載の光学積層体、 または請求項 9に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011004845A1 (ja) * 2009-07-08 2011-01-13 日東電工株式会社 透明導電性フィルム、電子機器およびタッチパネル
JP2013500500A (ja) * 2009-07-23 2013-01-07 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー フッ素化ハイブリッド組成物を含有する物品
JP2016014889A (ja) * 2010-04-15 2016-01-28 日東電工株式会社 ハードコートフィルム、偏光板、及び画像表示装置

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI399566B (zh) * 2006-03-31 2013-06-21 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminated body and optical laminate
CN101493533B (zh) * 2009-02-11 2011-03-30 广东东邦科技有限公司 一种反射型防眩性偏光片、其专用涂层及其制备方法
KR20120044964A (ko) * 2009-07-31 2012-05-08 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤 수지 적층체, 및 화상 표시체
US10908322B2 (en) 2010-09-21 2021-02-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antistatic hardcoat film, process for producing same, polarizer, and image display device
JP6853016B2 (ja) * 2016-10-31 2021-03-31 東京応化工業株式会社 低屈折率膜形成用感光性樹脂組成物、低屈折率膜、光学デバイス、及び低屈折率膜の製造方法
KR102065717B1 (ko) * 2016-12-26 2020-01-13 주식회사 엘지화학 편광자 보호 필름, 이를 포함하는 편광판, 상기 편광판을 포함하는 액정 디스플레이 장치, 및 편광자 보호 필름용 코팅 조성물

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002207104A (ja) * 2000-10-17 2002-07-26 Nissha Printing Co Ltd 反射防止部材とその製造方法、反射防止転写材
JP2003066431A (ja) * 2001-08-24 2003-03-05 Alps Electric Co Ltd 液晶表示装置
JP2004107627A (ja) * 2002-07-25 2004-04-08 Toray Ind Inc 光学用積層フィルム、反射防止用積層フィルム、タッチパネル用積層フィルムおよびディスプレイ部材用積層フィルム

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2608610B1 (fr) * 1986-12-19 1989-07-21 Charbonnages Ste Chimique Procede de polymerisation de monomeres acryliques et eventuellement de co-monomeres non acryliques.
TW266301B (ja) * 1991-09-19 1995-12-21 Philips Nv
JP2003139908A (ja) * 2001-11-07 2003-05-14 Lintec Corp 光学用フィルム
WO2004080714A1 (ja) * 2003-03-10 2004-09-23 Tokuyama Corporation フォトクロミック積層体及びその製造方法
JP4544952B2 (ja) * 2004-03-31 2010-09-15 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP2005288831A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Dainippon Printing Co Ltd ハードコート積層体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002207104A (ja) * 2000-10-17 2002-07-26 Nissha Printing Co Ltd 反射防止部材とその製造方法、反射防止転写材
JP2003066431A (ja) * 2001-08-24 2003-03-05 Alps Electric Co Ltd 液晶表示装置
JP2004107627A (ja) * 2002-07-25 2004-04-08 Toray Ind Inc 光学用積層フィルム、反射防止用積層フィルム、タッチパネル用積層フィルムおよびディスプレイ部材用積層フィルム

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011004845A1 (ja) * 2009-07-08 2011-01-13 日東電工株式会社 透明導電性フィルム、電子機器およびタッチパネル
US9005750B2 (en) 2009-07-08 2015-04-14 Nitto Denko Corporation Transparent conductive film, electronic device, and touch panel
JP2013500500A (ja) * 2009-07-23 2013-01-07 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー フッ素化ハイブリッド組成物を含有する物品
JP2016014889A (ja) * 2010-04-15 2016-01-28 日東電工株式会社 ハードコートフィルム、偏光板、及び画像表示装置

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