WO2006098476A1 - 液晶パネルおよびその製造方法 - Google Patents
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Classifications
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
Definitions
- the present invention relates to a liquid crystal panel and a method for manufacturing the same.
- the present invention relates to a liquid crystal panel in which a liquid crystal layer is formed by a single drop filling method.
- a process for filling a liquid crystal material in the panel there is a process for filling a liquid crystal material in the panel.
- the filling method of the liquid crystal material include a dip type and a dispenser type. In these methods, after a pair of substrates are bonded together via a sealing material, a liquid crystal material is filled into the panel from the opening of the sealing material using a capillary phenomenon and a pressure difference, and the opening is further sealed. The method to stop is taken. As the screen size increases, the tact time for filling the liquid crystal material has become a problem.
- a one-drop filling method (also referred to as an ODF method or a drop bonding method) has been developed.
- the one-drop filling method is a method in which a liquid crystal material is dropped into a seal pattern frame formed on one substrate before overlapping without providing an opening in the seal pattern, and a pair of substrates are stacked under reduced pressure, and then the seal is formed. This is a method of curing the material.
- the single-drop filling method has the advantages of being able to cope with an increase in screen size and dramatically shortening the tact time for filling the liquid crystal material.
- Patent Documents 1 and 2 disclose techniques for preventing contact between an uncured sealing material and a liquid crystal material in a one-drop filling method. Specifically, it is disclosed that a seal barrier is provided on the liquid crystal layer side of the sealing material to prevent contact between the uncured sealing material and the liquid crystal material.
- Patent Document 1 JP 2002-350873 A
- Patent Document 2 JP 2004-233648 A
- the expanded bubbles may be condensed and external air may be taken into the sealing material from the edge of the substrate. Therefore, since the amount of the sealing material sandwiched between the pair of substrates is reduced from the predetermined amount, there is a possibility that the seal breakage occurs or the bonding strength is lowered. If the bonding strength is reduced, the pair of substrates may be displaced relative to each other and display quality may be impaired.
- One of the objects of the present invention is to prevent components in the sealing material from being mixed into the liquid crystal layer. Another object of the present invention is to maintain the bonding strength of the sealing material. Ultimately, it is necessary to maintain the good display quality and ensure the reliability of the liquid crystal panel.
- the seal-side surface of the partition formed on the inner side (liquid crystal layer side) of the sealing material is inclined with respect to the substrate surface.
- the liquid crystal panel of the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed opposite to the first substrate, the first substrate and the second substrate, and the first substrate and the second substrate.
- the partition wall has an inclined surface on the sealing material side.
- the sealing material in the present invention has a loop shape (closed frame shape) having no opening for injecting the liquid crystal material. In other words, this departure In a bright liquid crystal panel, a liquid crystal layer is formed by a single drop filling method.
- the liquid crystal panel of the present invention has a partition formed on the inner side (liquid crystal layer side) of the sealing material, it is possible to prevent uncured components in the sealing material from being mixed into the liquid crystal layer.
- the partition wall and the seal are compared with the case where the surface of the partition wall on the seal side is perpendicular to the first substrate surface.
- the contact area with the material becomes larger.
- the reliability of bonding between the partition walls and the sealing material is improved, so that the relative displacement between the first substrate and the second substrate can be prevented more reliably.
- the width of the sealing material can be shortened, the non-display area around the liquid crystal display panel that does not contribute to display can be reduced. That is, the liquid crystal display panel can be miniaturized.
- the sealing material is formed from a composition containing a photocuring agent, and the first substrate and the partition wall each have light transmittance.
- the partition in the liquid crystal panel of the present invention has an inclined surface on the sealing material side so that the contact area with the first substrate is larger than the contact area with the second substrate.
- light typically ultraviolet light
- the first substrate and the partition wall are each light-transmitting, by irradiating light (typically ultraviolet light) for curing the sealing material from the first substrate side (or the second substrate side).
- light includes visible light, ultraviolet rays, and X-rays.
- the sealing material is a light / heat combination curable type that undergoes a curing reaction by both light irradiation and heating, which only undergoes a light curable type of sheathing material that undergoes a photocuring reaction when irradiated with light such as ultraviolet rays. It is good even if it is a stick material.
- the sealing material may be a composition containing a thermosetting agent that consists of only a photocuring agent.
- the inclined surface may have light scattering properties. For example, an aspect in which the inclined surface is a convex surface protruding toward the sealing material and an aspect in which the inclined surface has irregularities can be given. Since the inclined surface has light scattering properties, incident light when the sealing material is cured is scattered at the interface between the partition wall and the sealing material, so that the sealing material in the vicinity of the interface can be more reliably cured.
- the partition may be formed of two or more phases having different refractive indexes.
- the partition may contain beads or bubbles. Since the partition wall is composed of two or more phases having different refractive indexes, the incident light when the seal material is cured is scattered within the partition wall. Therefore, the seal material near the interface between the partition wall and the seal material is removed. It can be hardened more reliably.
- the present invention also provides a method for producing the liquid crystal panel of the present invention, in which the sealing material is formed from a composition containing a photocuring agent, and the first substrate and the partition walls each have optical transparency.
- the manufacturing method of the present invention includes a step of forming the partition wall in a loop shape on the first substrate, a step of applying an uncured sealing material on the inclined surface side of the partition wall, and a region surrounded by the partition wall. A step of dropping a liquid crystal material; a step of bonding the first substrate and the second substrate; and irradiating the partition wall and the uncured sealing material with light from at least the first substrate side. Curing the cured sealing material to form the sealing material.
- the liquid crystal panel of the present invention is efficiently manufactured, in which the sealing material is formed from a composition containing a photocuring agent, and the first substrate and the partition walls each have light transmittance. That power S.
- the partition wall having the inclined surface is formed in a loop shape and then the sealing material is applied to the inclined surface side of the partition wall, bubbles are not easily caught in the sealing material when the sealing material is applied. In particular, a gap is less likely to occur between the inclined surface of the partition wall and the sealing material. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to prevent display quality from being deteriorated due to a decrease in bonding strength.
- the present invention it is possible to prevent the components in the sealing material from being mixed into the liquid crystal layer. Further, the bonding strength by the sealing material can be maintained. Therefore, a good table The display quality can be maintained and the reliability of the liquid crystal panel can be ensured.
- FIG. 1 is a plan view schematically showing a liquid crystal display device of Embodiment 1.
- FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.
- FIG. 4 A cross-sectional view schematically showing a manufacturing process of the liquid crystal display device of Embodiment 1.
- FIG. 5 A cross-sectional view schematically showing the partition wall of Embodiment 2.
- FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a first example of a partition wall according to Embodiment 3.
- FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a second example of the partition wall of Embodiment 3.
- a liquid crystal display device will be described as an example of a liquid crystal panel.
- the liquid crystal panel of the present invention can also be applied to liquid crystal panels other than liquid crystal display devices that display images.
- the present invention can also be applied to an image shift panel that sequentially shifts pixels optically and a parallax barrier panel that can display 3D video.
- the image shift panel has at least one combination of a liquid crystal panel that modulates the polarization state of light and a birefringent element that shifts the optical path according to the polarization state of light emitted from the liquid crystal panel.
- the parallax barrier panel can display a stereoscopic image by combining with a video display element having a left-eye pixel and a right-eye pixel.
- FIG. 1 is a plan view schematically showing the liquid crystal display device of Embodiment 1
- FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II— in FIG.
- the liquid crystal display device according to the present embodiment includes a color finisher (CF) substrate 1 as a first substrate, a thin film transistor (TFT) substrate 2 as a second substrate disposed opposite to the CF substrate 1, and a CF substrate 1
- the sealing material 3 sandwiched between the TFT substrates 2 and continuously formed along the peripheral edges of the substrates 1 and 2, and continuously formed along the sealing material 3 inside the sealing material 3. It has a partition wall 4 and a liquid crystal layer 5 surrounded by the partition wall 4.
- the CF substrate 1 has a color filter layer (not shown), a transparent electrode made of ITO (indium tin oxide) and the like, and a liquid crystal alignment film (not shown) made of polyimide or polyamic acid.
- the liquid crystal alignment film is usually used after being rubbed. However, there are cases where the vertical alignment film is used or the rubbing process is not performed in the PD LC (polymer dispersed liquid crystal) display mode.
- the TFT substrate 2 includes a plurality of gate bus lines (not shown) each extending in the row direction, a plurality of source bus lines (not shown) extending across the gate bus lines, the gate bus lines and the source bus lines. TFTs (not shown) provided in the vicinity of the intersection, pixel transparent electrodes (not shown) arranged in a matrix connected to the source bus lines (not shown) via the TFTs, and covering the pixel transparent electrodes A liquid crystal alignment film (not shown). Furthermore, terminals and drive circuits (both not shown) for inputting signals to the gate bus line and the source bus line are formed around the sealing material 3 on the TFT substrate 2.
- Both the CF substrate 1 and the TFT substrate 2 have optical transparency.
- substrates 1 and 2 include quartz glass, soda lime glass, borosilicate glass, low alkali glass, non-alkali glass, and plastics such as polyester and polyimide.
- the sealing material 3 has a function of sealing the liquid crystal material by adhering both the substrates 1 and 2 and preventing air and moisture outside the panel from entering the liquid crystal layer 5.
- an ultraviolet curable composition or a thermosetting composition is used as the sealing material 3.
- a composition containing a curing agent (polymerization initiator) that reacts with ultraviolet rays or visible light based on an attalinole-based polymer and / or an epoxy-based polymer or an acrylic-epoxy polymer is used.
- the width of the sealing material 3 depends on various conditions such as the material of the sealing material 3 and is not uniquely determined, but is typically about 0.3 mm to 3 mm.
- the partition wall 4 includes a bottom surface 41 in contact with the surface la of the CF substrate 1, a top surface 42 in contact with the surface 2a of the TFT substrate 2, a side surface 43 on the sealing material 3 side, and a side surface 45 on the liquid crystal layer 5 side.
- the contact area with the CF substrate 1 is larger than the contact area with the TFT substrate 2.
- the width W1 of the bottom surface 41 of the partition wall 4 in contact with the liquid crystal layer 5 side surface 1a of the CF substrate 1 is in contact with the surface 2a of the TFT substrate 2 on the liquid crystal layer 5 side.
- the width of the upper surface 42 of the partition wall 4 is larger than the width W2.
- the width W1 of the bottom surface 41 is 5 ⁇ or more and 500 ⁇ or less
- the width W2 of the top surface 42 is 3 / im or more and 400 / im or less
- the height L of the partition wall 4 is 1 ⁇ It is 5 ⁇ m or more and 5 ⁇ m or less.
- the inclination angle formed by the inclined surface 43 of the partition wall 4 and the surface la of the CF substrate 1 is 20 ° or more and 80 ° or less, preferably 40 ° or more and 65 ° or less, if not limited to the example.
- the partition wall 4 is preferably formed of a light transmissive material.
- the material of the partition wall 4 preferably has high adhesion to the CF substrate 1 or a film on the CF substrate 1 existing in the region where the partition wall 4 is formed.
- Examples of the material for the partition 4 include acrylic, polyimide or epoxy photosensitive organic materials, and inorganic materials such as silicon dioxide.
- the partition 4 can be formed using the same type of material as the sealing material 3 used. Thereby, the adhesive reliability between the seal material 3 and the partition wall 4 can be improved.
- the partition wall 4 can be formed by conventional means such as a photolithography method. Illustratively, a method of forming the partition 4 by photolithography will be described.
- film The solder resist is dry-bonded onto the CF substrate 1 with a laminator. Alternatively, apply a liquid solder resist uniformly on the entire surface of the CF substrate 1 by spin coating, slit coating, slit & spin, screen printing, spraying, curtain coating, etc., then calcining it with a hot plate or oven ( Pre-beta). Thereafter, a solder resist formed on the CF substrate 1 is overlaid with a photomask on a dry film, and then exposed to a desired pattern with ultraviolet rays or visible light. Further, development is performed to remove unnecessary portions, and then baking (post-beta) is performed with a hot plate or oven to form the partition wall 4.
- the inclined surface 43 can be formed by using a gradation photomask having a light-shielding portion in which part of the transmittance changes continuously.
- a photomask whose UV transmittance continuously decreases from the inside to the outside in the region corresponding to the inclined surface 43.
- a gradation photomask is disclosed in JP-A-2002-229040.
- the inclined surface 43 can also be formed by changing the exposure amount (time, illuminance) and development conditions (developer concentration, developer temperature, development time). Furthermore, when the partition 4 is formed using an inorganic material, silicon dioxide or the like can be deposited through a deposition mask. Spatter can be processed by various methods that are generally known, such as EB (electron beam) evaporation. Further, the inclined surface 43 can be formed by changing the deposition mask during the vapor deposition. It is also possible to make an inclination by oblique vapor deposition.
- FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a modification of the partition wall 4.
- the side face 45 on the liquid crystal layer 5 side of the partition wall 4 shown in FIG. 3 (a) has the edge on the CF substrate 1 side positioned on the inner side (the liquid crystal layer 5 side) than the edge on the TFT substrate 2 side.
- the side surface 45 on the liquid crystal layer 5 side of the partition wall 4 shown in FIG. 3 (b) is positioned such that the edge on the CF substrate 1 side is located outside the edge on the TFT substrate 2 side (seal material 3 side). Yes.
- the partition wall 4 is interposed between the sealing material 3 and the liquid crystal layer 5, the uncured component in the sealing material 3 is prevented from being mixed into the liquid crystal layer 5. be able to.
- the surface 43 of the partition wall 4 on the seal material 3 side is inclined, the contact between the partition wall 4 and the seal material 3 is Large touch area. Since the partition wall 4 bonded to the sealing material 3 is formed (fixed) on the CF substrate 1, the adhesion between the CF substrate 1 and the sealing material 3 is high. Therefore, relative displacement between the CF substrate 1 and the TFT substrate 2 can be prevented more reliably. As a result, the width of the sealing material 3 can be shortened, and the liquid crystal display device can be downsized.
- FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the manufacturing process of the liquid crystal display device of this embodiment. Since the CF substrate 1 and the TFT substrate 2 can be formed by conventional means such as photolithography or printing, description of the manufacturing process is omitted.
- a liquid photosensitive acrylic resin is applied on the surface la of the CF substrate 1 by using a screen printing method and dried to form a photosensitive resin film 14.
- a photosensitive resin film 14 By patterning the photosensitive resin film 14 by photolithography using a gradation photomask, a light-transmitting loop-shaped partition wall 4 is formed near the periphery of the CF substrate 1 (FIG. 4 (b)). See).
- the height of the bulkhead 4 is adjusted to a value that accounts for the expected amount (approximately 0.2 ⁇ m) and the cell gap. It is preferable to set this value.
- the manufacturing process can be simplified by forming the partition walls 4 and the columnar spacers.
- an ultraviolet ray containing an acrylic resin, an epoxy resin, or the like is formed on the peripheral edge of the CF substrate 1 and on the inclined surface 43 side of the partition wall 4 by a screen printing method or a dispenser method.
- a line-curing type uncured sealing material 13 is applied.
- the pattern of the uncured sealing material 13 is a loop shape (closed frame shape) that does not have an opening serving as a liquid crystal inlet. Since the outer surface 43 of the partition wall 4 is inclined, when the uncured sealing material 13 is applied, bubbles are not easily caught in the uncured sealing material 13, and the inclined surface 43 of the partition wall 4 and the uncured sealing material 13 It is difficult to create a gap between them.
- a liquid crystal material 15 is dropped into a region surrounded by the partition 4 on the CF substrate 1.
- the liquid crystal material 15 is sealed in the panel to form the liquid crystal layer 5 (see Fig. 4 (d)).
- the partition wall 4 and the uncured sealing material 13 are irradiated with ultraviolet rays (UV) from both sides of the CF substrate 1 side and the TFT substrate 2 side. Thereby, curing of the uncured sealing material 13 proceeds.
- UV ultraviolet rays
- the partition wall 4 has translucency, a part of the ultraviolet light incident on the bottom surface 41 of the partition wall 4 from the CF substrate 1 side is emitted from the inclined surface 43 of the partition wall 4.
- the curing also proceeds from the inclined surface 43 side of the uncured sealing material 13, so that the uncured components in the sealing material 3 are reduced, and the adhesion reliability by the sealing material 3 is increased.
- the force that irradiates ultraviolet rays from both sides of the CF substrate 1 side and the TFT substrate 2 side It is acceptable to irradiate ultraviolet rays only from the CF substrate 1 side or only from the TFT substrate 2 side.
- the irradiated light is not limited to ultraviolet rays as long as it has a wavelength that cures the uncured sealing material 13, but may be visible light or X-rays, for example.
- the force that forms the partition walls 4 on the CF substrate 1 may be formed on the TFT substrate 2 instead of the CF substrate 1.
- the CF substrate 1 and the TFT substrate 2 are used to form a panel.
- a TFT substrate having a color filter and a counter substrate may be used to form a panel.
- FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the partition wall 4 of the second embodiment.
- components having substantially the same functions as those of the liquid crystal display device of Embodiment 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- An inclined surface of the partition wall 4 shown in FIG. 5 is a convex surface 46 protruding toward the seal material 3 side.
- the uncured sealing material is cured by irradiating the ultraviolet light from the CF substrate 1 side
- a part of the ultraviolet light incident from the bottom surface 41 of the partition wall 4 enters the interface between the convex surface 46 and the uncured sealing material.
- the incident angle of the ultraviolet rays is different within the convex surface 46, it is emitted to the uncured sheet material at various angles. That is, ultraviolet rays incident from the CF substrate 1 exit from the convex surface 46 at various angles. Therefore, the amount of ultraviolet rays reaching the inside of the uncured sealing material increases, and the adhesion reliability of the sealing material 3 is improved.
- the inclined surface of the partition wall is a concave surface recessed toward the liquid crystal layer side, a gap is likely to be formed between the inclined surface and the sealing material. Therefore, the viscosity of the sealing material is adjusted to be low. It is necessary to devise measures to make it easier for seal material to enter the recess. Since the bonding area is significantly increased compared to the flat surface, the bonding strength is increased and the bonding reliability is improved.
- FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a first example of the partition wall 4 of the present embodiment
- FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a second example of the partition wall 4 of the present embodiment.
- the inclined surface of the partition wall 4 shown in FIG. 6 has a plurality of convex surfaces 47 projecting toward the sealing material 3 side
- the inclined surface of the partition wall 4 shown in FIG. 7 has an uneven surface 48 formed in a sawtooth shape in a sectional view.
- the inclined surface of this embodiment has irregularities, light scattering properties are imparted to the inclined surface as in Embodiment 2, and the adhesion reliability of the sealing material 3 is improved.
- the contact area between the inclined surface and the sealing material 3 is larger than when the inclined surface is roughened and the inclined surface is flat, the adhesion between the inclined surface and the sealing material is improved.
- FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the partition wall 4 of the present embodiment.
- the partition 4 of the present embodiment is formed of two or more phases having different refractive indexes. Specifically, a substance 6 having a refractive index different from that of the partition walls 4 such as bubbles, glass beads, and plastic beads is dispersed in the partition walls 4. Higher refractive index with partition 4 Although it is desirable to have a different difference, it is preferable that there is a difference of about 0.1.
- An example of a method for dispersing bubbles in the partition walls 4 is a method of forming the partition walls 4 using a resin in which minute bubbles are held by blowing a gas.
- the partition 4 of the present embodiment includes a phase formed of a material having a refractive index different from that of the material forming the partition 4, a plurality of interfaces exist inside the partition 4. Therefore, the ultraviolet rays that are incident from the top surface 42 and the bottom surface 41 of the partition wall 4 and are guided into the partition wall 4 are refracted when they are transmitted or reflected through a plurality of interfaces existing in the partition wall 4, so that they can be used in various directions. Scattered. As a result, as in Embodiments 2 and 3, the adhesion reliability of the sealing material 3 is improved.
- liquid crystal display device may be any of a transmission type, a reflection type, and a transmission / reflection type.
- the liquid crystal panel of the present invention can be used for all panels having a liquid crystal layer as a constituent element.
- it can be used for a liquid crystal display panel, an image shift panel, a parallax nore panel and the like. More specifically, it can be used for mobile phones, PDAs (Personal Digital Assistance), personal computers, flat-screen TVs, medical displays, car navigation systems, amusement devices, and the like.
- PDAs Personal Digital Assistance
- personal computers flat-screen TVs
- medical displays car navigation systems, amusement devices, and the like.
Landscapes
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Abstract
【解決手段】液晶表示装置は、カラーフィルタ基板と、TFT基板と、基板の周縁に沿ってループ状に形成されたシール材と、シール材の内側に、シール材に沿ってループ状に形成された隔壁と、隔壁に包囲された液晶層とを有する。隔壁はシール材側に傾斜面を有する。
Description
明 細 書
液晶パネルおよびその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は液晶パネルおよびその製造方法に関する。特に、一滴充填方式により液 晶層が形成された液晶パネルに関する。
背景技術
[0002] 液晶パネルを製造する工程の中には、パネル内に液晶材料を充填する工程がある 。液晶材料の充填方法としては、ディップ式ゃデイスペンサ式が挙げられる。これらの 方法では、シール材を介して一対の基板を貼り合わせた後に、毛細管現象と圧力差 とを利用して、シール材の開口部からパネル内に液晶材料を充填し、さらに開口部を 封止する手法が採られている。し力 画面サイズの大型化に伴って、液晶材料充填 のタクトタイムが長いことが問題となっている。
[0003] 近年、パネル内に液晶材料を充填する他の方法として、一滴充填方式 (ODF方式 や滴下貼り合わせ方式とも呼ばれている。)が開発されている。一滴充填方式とは、 シールパターンに開口を設けずに、重ね合わせる前の一方の基板に形成されたシ ールパターン枠内に液晶材料を滴下し、減圧下で一対の基板を重ね合わせた後に 、シール材を硬化させる方式である。一滴充填方式によれば、画面サイズの大型化 に対応でき、液晶材料充填のタクトタイムが飛躍的に短縮できるという利点がある。
[0004] し力、し、一滴充填方式においては、シール材が硬化するまでは未硬化のシール材 が液晶材料と接触するので、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれがあ る。したがって、液晶配向の状態が不安定になったり、滲みやムラ、フリッカーなどが 発生したりすることにより、液晶パネルの表示品位低下のおそれがある。
[0005] 一滴充填方式において未硬化のシール材と液晶材料との接触を防ぐための技術 が特許文献 1および 2に開示されている。具体的には、シール材の液晶層側にシー ノレバリアを設けることにより、未硬化のシール材と液晶材料との接触を防ぐことが開示 されている。
特許文献 1:特開 2002-350873号公報
特許文献 2 :特開 2004-233648号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] し力しながら、これら特許文献に開示された技術では、シールバリアのシール側の 面が基板面に対して垂直であるので、シール材を塗布する際にシール材中に気泡 が巻き込まれてシールバリアとシール材との間に隙間が生じるおそれがある。また、 基板の貼り合わせは典型的には減圧下で行なわれるので、シール材中に巻き込ま れた気泡が膨張して、基板端部からはみ出すシール材の量が予定量よりも多くなるこ と力 Sある。さらに、シール材中に巻き込まれた気泡が膨張や破裂することにより、シー ノレ材が飛散して表示部にまで達し、表示品位の低下を引き起こすこともある。さらにま た、シール材を硬化させる際に雰囲気を大気圧に復圧したとき、膨張した気泡が収 縮するとともに、基板端部からシール材に外部の空気が取り込まれるおそれもある。 したがって、一対の基板に挟まれたシール材の量が予定量よりも減少するので、シー ル切れが発生したり貼り合わせ強度が低下するおそれがある。貼り合わせ強度が低 下すると、一対の基板が相対的にずれて、表示品位を損なうことがある。
課題を解決するための手段
[0007] 本発明の目的の一つは、シール材中の成分が液晶層中に混入することを防ぐこと である。また本発明の他の目的は、シール材による貼り合わせ強度を保持することで ある。究極的には、良好な表示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保すること である。
[0008] 本発明の液晶パネルは、シール材の内側(液晶層側)に形成された隔壁のシール 側の面が基板面に対して傾斜している。詳細には、本発明の液晶パネルは、第 1基 板と、前記第 1基板に対向配置された第 2基板と、前記第 1基板および前記第 2基板 に挟まれ、かつ前記第 1基板および前記第 2基板の周縁に沿ってループ状に形成さ れたシール材と、前記シール材の内側に、前記シール材に沿ってループ状に形成さ れた隔壁と、前記隔壁に包囲された液晶層とを有する液晶パネルであって、前記隔 壁は前記シール材側に傾斜面を有する。本発明におけるシール材は、液晶材料を 注入するための開口を持たないループ状(閉じた枠状)である。言い換えれば、本発
明の液晶パネルは、一滴充填方式により液晶層が形成される。
[0009] 本発明の液晶パネルは、シール材の内側 (液晶層側)に形成された隔壁を有する ので、シール材中の未硬化成分が液晶層中に混入するのを防ぐことができる。また 隔壁のシール材側の面が第 1基板面に対して傾斜してレ、るので、隔壁のシール側の 面が第 1基板面に対して垂直である場合に比して、隔壁とシール材との接触面積が より大きくなる。これにより、隔壁とシール材との接着信頼性が向上するので、第 1基 板および第 2基板の相対的な位置ずれをより確実に防ぐことができる。さらに、シール 材の幅を短縮することが可能となるので、表示に寄与しない、液晶表示パネル周辺 の非表示領域の縮小が可能となる。すなわち、液晶表示パネルの小型化が可能とな る。
[0010] 本発明の液晶パネルの好ましい態様は、前記シール材が光硬化剤を含む組成物 から形成され、前記第 1基板および前記隔壁がそれぞれ光透過性を有する。本発明 の液晶パネルにおける隔壁は、第 1基板との接触面積が第 2基板との接触面積よりも 大きくなるように、シール材側に傾斜面を有する。この態様では、第 1基板および隔 壁がそれぞれ光透過性を有するので、シール材を硬化させる光(典型的には紫外線 )を第 1基板側 (もしくは第 2基板側)から照射することにより、隔壁のシール側の面が 第 1基板面に対して垂直である場合に比して、隔壁とシール材との界面に光が入射 し易くなる。したがって、隔壁を介した第 1基板との接着信頼性がさらに向上する。な お、本発明において「光」は、可視光、紫外線、 X線を包含する。
[0011] シール材は紫外線などの光を照射することで光硬化反応が進行する光硬化型シー ノレ材だけでなぐ光照射と加熱との両方で硬化反応が進行する光/熱併用硬化型シ ール材であっても良レ、。言い換えれば、シール材が光硬化剤だけでなぐ熱硬化剤 を含む組成物であっても良い。
[0012] なお、一般的に、一滴充填方式においては、シール材と液晶材料との接触時間を できる限り短くするために、光硬化性シール材よりも硬化時間が長い熱硬化性シール 材は用いられていない。しかし、本発明によれば、シール材と液晶層との接触を防ぐ ことができるので、加熱のみにより硬化させる熱硬化性シール材を用いることもできる
[0013] 本発明の液晶パネルは、前記傾斜面が光散乱性を有していても良い。例えば、前 記傾斜面が前記シール材側に突出した凸面である態様、前記傾斜面が凸凹を有す る態様が挙げられる。傾斜面が光散乱性を有することにより、シール材を硬化させる 際に入射された光が隔壁とシール材との界面で散乱するので、界面付近のシール材 をより確実に硬化させることができる。
[0014] また、前記隔壁は屈折率が互いに異なる 2種以上の相から形成されていても良い。
例えば、隔壁がビーズまたは気泡を内在していても良レ、。屈折率が互いに異なる 2種 以上の相から隔壁が構成されることにより、シール材を硬化させる際に入射された光 が隔壁内で散乱するので、隔壁とシール材との界面付近のシール材をより確実に硬 化させることができる。
[0015] 本発明は、シール材が光硬化剤を含む組成物から形成され、第 1基板および隔壁 がそれぞれ光透過性を有する、本発明の液晶パネルを製造する方法をも提供する。 本発明の製造方法は、前記第 1基板上に前記隔壁をループ状に形成する工程と、 前記隔壁の傾斜面側に未硬化シール材を塗布する工程と、前記隔壁に包囲された 領域内に液晶材料を滴下する工程と、前記第 1基板および第 2基板を貼り合わせる 工程と、前記隔壁および前記未硬化シール材に対して少なくとも前記第 1基板側か ら光を照射することによって、前記未硬化シール材を硬化させて、前記シール材を形 成する工程とを含む。
[0016] 本発明の製造方法によれば、シール材が光硬化剤を含む組成物から形成され、第 1基板および隔壁がそれぞれ光透過性を有する、本発明の液晶パネルを効率良く製 造すること力 Sできる。また、傾斜面を有する隔壁をループ状に形成した後に、隔壁の 傾斜面側にシール材を塗布するので、シール材を塗布する際に、シール材中に気 泡が巻き込まれ難い。特に、隔壁の傾斜面とシール材との間に隙間が生じ難くなる。 したがって、本発明の製造方法によれば、貼り合わせ強度の低下による表示品位の 劣化を防ぐことができる。
発明の効果
[0017] 本発明によれば、シール材中の成分が液晶層中に混入することを防ぐことができる 。またシール材による貼り合わせ強度を保持することができる。したがって、良好な表
示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保することができる。
図面の簡単な説明
[図 1]実施形態 1の液晶表示装置を模式的に示す平面図である。
[図 2]図 1中の II— II線断面図である。
園 3]隔壁の変形例を模式的に示す断面図である。
園 4]実施形態 1の液晶表示装置の製造工程を模式的に示す断面図である。 園 5]実施形態 2の隔壁を模式的に示す断面図である。
[図 6]実施形態 3の隔壁の第 1例を模式的に示す断面図である。
[図 7]実施形態 3の隔壁の第 2例を模式的に示す断面図である。
園 8]実施形態 4の隔壁を模式的に示す断面図である。
符号の説明
1 CF基板
2 TFT基板
3 シール材
4 隔壁
5 液晶層
6 気泡、ガラスビーズ、プラスチ、:ゾクビーズなど
13 未硬化シール材
14 感光性樹脂膜
15 液晶材料
41 底面
42 上面
43 傾斜面
45 側面
46 凸面
47 複数の凸面
48 凹凸面
発明を実施するための最良の形態
[0020] 以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、 液晶パネルとして液晶表示装置を例示して説明する。しかし、本発明における液晶 パネルは、画像を表示する液晶表示装置以外の液晶パネルにも適用することができ る。例えば、画素を光学的に順次シフトさせる画像シフトパネルや三次元映像を表示 可能とするパララックスバリアパネルにも適用することもできる。なお、画像シフトパネ ノレは、光の偏光状態を変調する液晶パネルと、この液晶パネルから出射された光の 偏光状態に応じて光路をシフトさせる複屈折素子との組合せを少なくとも一組有する 。またパララックスバリアパネルは、左目用画素および右目用画素を有する映像表示 素子と組み合わせることにより、立体映像を表示することができる。
[0021] (実施形態 1)
図 1は実施形態 1の液晶表示装置を模式的に示す平面図であり、図 2は図 1中の II _ Π線断面図である。本実施形態の液晶表示装置は、第 1基板としてのカラーフィノレ タ(CF)基板 1と、 CF基板 1に対向配置された第 2基板としての TFT(Thin Film Tran sistor)基板 2と、 CF基板 1および TFT基板 2に挟まれ、かつ両基板 1 , 2の周縁に沿 つて連続的に形成されたシール材 3と、シール材 3の内側に、シール材 3に沿って連 続的に形成された隔壁 4と、隔壁 4に包囲された液晶層 5とを有する。
[0022] CF基板 1は、カラーフィルタ層(不図示)と、 ITO (インジウム錫酸化物)などからなる 透明電極と、ポリイミドゃポリアミック酸などからなる液晶配向膜 (不図示)とを有する。 液晶配向膜はラビング処理を通常行って使用するが、垂直配向膜を使う場合や PD LC (ポリマ分散型液晶)表示モードではラビング処理を行わなレ、場合もある。
[0023] TFT基板 2は、それぞれが行方向に延びる複数のゲートバスライン(不図示)と、ゲ ートバスラインと交差して延びる複数のソースバスライン (不図示)と、ゲートバスライン およびソースバスラインの交差部近傍に設けられた TFT (不図示)と、 TFTを介してソ ースバスライン (不図示)に接続され、マトリクス状に配置された画素透明電極(不図 示)と、画素透明電極を覆う液晶配向膜 (不図示)とを有する。さらに、 TFT基板 2上 のシール材 3の周辺に、ゲートバスラインおよびソースバスラインにそれぞれ信号を入 力するための端子や駆動回路(いずれも不図示)が形成されている。
[0024] CF基板 1および TFT基板 2はいずれも光透過性を有する。基板 1, 2の材料として
は、石英ガラスやソーダライムガラス、ホウケィ酸ガラス、低アルカリガラス、無アルカリ ガラスなどのガラス、ポリエステルやポリイミドなどのプラスチックが挙げられる。
[0025] シール材 3は、両基板 1 , 2を接着することにより、液晶材料を封止するとともに、パ ネル外の空気や水分が液晶層 5中に混入するのを防ぐ機能を有する。シール材 3と しては、紫外線硬化性の組成物や熱硬化性の組成物が用いられる。例えば、アタリ ノレ系ポリマおよび/またはエポキシ系ポリマやアクリル一エポキシ系ポリマなどをべ ースにし、紫外線ないし可視光により反応する硬化剤(重合開始剤)を含む組成物が 用いられる。シール材 3の幅は、シール材 3の材料などの様々な条件に左右され、一 義的に決定されるものではなレ、が、典型的には、 0. 3mm以上 3mm以下程度である
[0026] 隔壁 4は、 CF基板 1の面 laに接する底面 41と、 TFT基板 2の面 2aに接する上面 4 2と、シール材 3側の側面 43と、液晶層 5側の側面 45とを有する。シール材 3側の側 面 43が傾斜面であり、液晶層 5側の側面 45が垂直面であるので、 CF基板 1との接 触面積が TFT基板 2との接触面積よりも大きい。図 2を参照しながら詳細に述べると、 CF基板 1の液晶層 5側の面 1 aに接触する隔壁 4の底面 41の幅 W1は、 TFT基板 2 の液晶層 5側の面 2aに接触する隔壁 4の上面 42の幅 W2よりも大きレ、。隔壁 4の典型 的な大きさを例示すると、底面 41の幅 W1は 5 μ ΐη以上 500 μ ΐη以下、上面 42の幅 W2は 3 /i m以上 400 /i m以下、隔壁 4の高さ Lは 1 · 5 μ m以上 5 μ m以下である。 隔壁 4の傾斜面 43と CF基板 1の面 laとがなす傾斜角度は、非限定的に例示すれば 、 20° 以上 80° 以下、好ましくは 40° 以上 65° 以下である。
[0027] 隔壁 4は光透過性を有する材料から形成されていることが好ましい。また隔壁 4の材 料は、 CF基板 1または隔壁 4の形成領域に存在する CF基板 1上の膜との接着性が 高いことが好ましい。隔壁 4の材料としては、例えば、アクリル系、ポリイミド系またはェ ポキシ系の感光性有機材料、二酸化珪素などの無機材料が挙げられる。また、使用 するシール材 3の材料と同種の材料を用いて隔壁 4を形成しても良レ、。これにより、シ ール材 3と隔壁 4との接着信頼性を向上させることができる。
[0028] 隔壁 4はフォトリソグラフィ法などの常套手段により形成することができる。例示的に 、フォトリソグラフィ法により隔壁 4を形成する方法について説明する。まず、フィルム
状ソルダレジストゃドライフィルムをラミネータにより CF基板 1上に圧着する。あるいは 液状ソルダレジストをスピンコート法、スリットコート法、スリット &スピン法、スクリーン 印刷法、スプレー法、カーテンコート法などにより CF基板 1の全面に均一に塗布した 後、ホットプレートやオーブンにより仮焼き(プリベータ)させる。その後、 CF基板 1上 に形成されたソルダレジストゃドライフィルムにフォトマスクを重ね合わせた後、紫外 線ないし可視光等によって所望のパターンに露光する。さらに、現像を行なって不要 な部分を除去し、ホットプレートやオーブンで本焼成(ポストベータ)することにより、隔 壁 4が形成される。
[0029] 露光に際しては、一部の透過率が連続的に変化する遮光部を有する階調フォトマ スクを用いることにより、傾斜面 43を形成することができる。具体的には、ネガ型のソ ルダレジストやドライフィルムを用レ、る場合には、傾斜面 43に対応する領域において 内側から外側に向かって紫外線の透過率が連続的に低下するフォトマスクを用いる 。なお、階調フォトマスクについては特開 2002-229040号公報に開示されている。
[0030] また、露光量 (時間、照度)や現像条件 (現像液濃度、現像液温度、現像時間)を変 えることによつても、傾斜面 43を形成することが可能である。さらに、無機材料を使つ て隔壁 4を形成する場合には、二酸化珪素などをデポマスク越しに蒸着を行うことも 可能である。スパッタゃ EB (電子ビーム)蒸着など通常知られてレ、る様々な方法で処 理すること力 Sできる。また、蒸着途中でデポマスクを変更していくことにより、傾斜面 4 3を形成することが可能である。また、斜方蒸着により傾斜を作ることも可能である。
[0031] 本実施形態では、図 2に示すように、隔壁 4の液晶層 5側の側面 45は CF基板 1面 に対して略垂直である力 CF基板 1面に対して傾斜していても良レ、。図 3は隔壁 4の 変形例を模式的に示す断面図である。図 3 (a)に示す隔壁 4の液晶層 5側の側面 45 は、 CF基板 1側の端縁が TFT基板 2側の端縁よりも内側 (液晶層 5側)に位置してい る。一方、図 3 (b)に示す隔壁 4の液晶層 5側の側面 45は、 CF基板 1側の端縁が TF T基板 2側の端縁よりも外側(シール材 3側)に位置している。
[0032] 本実施形態の液晶表示装置では、シール材 3と液晶層 5との間に隔壁 4が介在す るので、シール材 3中の未硬化成分が液晶層 5中に混入するのを防ぐことができる。 また、隔壁 4のシール材 3側の面 43が傾斜しているので、隔壁 4とシール材 3との接
触面積が大きい。シール材 3と接着している隔壁 4が CF基板 1上に形成(固定)され ているので、 CF基板 1とシール材 3との接着性が高い。したがって、 CF基板 1と TFT 基板 2との相対的な位置ずれをより確実に防ぐことができる。これにより、シール材 3 の幅を短縮することが可能となるので、液晶表示装置の小型化が可能となる。
[0033] 次に、本実施形態の液晶表示装置を製造する工程について説明する。図 4は本実 施形態の液晶表示装置の製造工程を模式的に示す断面図である。なお、 CF基板 1 および TFT基板 2は、フォトリソグラフィ法ゃ印刷法などの常套手段により形成するこ とができるので、製造工程の説明を省略する。
[0034] まず、図 4 (a)に示すように、スクリーン印刷法を用いて、 CF基板 1の面 la上に液状 の感光性アクリル樹脂を塗布し、乾燥させて、感光性樹脂膜 14を成膜する。階調フ オトマスクを用いたフォトリソグラフィ法により感光性樹脂膜 14をパターユングすること によって、 CF基板 1の周縁近傍に、光透過性を有するループ状の隔壁 4を形成する (図 4 (b)を参照)。
[0035] なお、両基板 1, 2を重ね合わせたときに隔壁 4が若干つぶれるので、その分の見 込量 (0. 2 β m程度)とセルギャップをカ卩えた値に隔壁 4の高さを設定することが好ま しい。また、液晶表示装置が柱状スぺーサを有する場合には、隔壁 4を形成するとと もに、柱状スぺーサを形成することにより、製造工程が簡略化される。
[0036] 図 4 (c)に示すように、 CF基板 1の周縁であって、隔壁 4の傾斜面 43側に、スクリー ン印刷法ゃデイスペンサ法によって、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等を含有する紫外 線硬化型の未硬化シール材 13を塗布する。未硬化シール材 13のパターンは、液晶 注入口となる開口を持たないループ状(閉じた枠状)である。隔壁 4の外側の面 43が 傾いているので、未硬化シール材 13を塗布するとき、未硬化シール材 13中に気泡 が巻き込まれ難くなり、隔壁 4の傾斜面 43と未硬化シール材 13との間に隙間が生じ 難い。
[0037] 未硬化シール材 13を塗布した後、 CF基板 1上の隔壁 4に包囲された領域内に、例 えば液晶材料 15を滴下する。真空チャンバ内の減圧下で両基板 1, 2を重ね合わせ ることによりパネル内に液晶材料 15が封入されて、液晶層 5が形成される(図 4 (d)を 参照)。
[0038] 図 4 (e)に示すように、隔壁 4および未硬化シール材 13に対して、 CF基板 1側およ び TFT基板 2側の両側から紫外線 (UV)を照射する。これにより、未硬化シール材 1 3の硬化が進行する。また、隔壁 4が透光性を有するので、 CF基板 1側から隔壁 4の 底面 41に入射した紫外線の一部は隔壁 4の傾斜面 43から出射する。これにより、未 硬化シール材 13の傾斜面 43側からも硬化が進行するので、シール材 3中の未硬化 成分が減少し、シール材 3による接着信頼性が高くなる。以上の工程を経て、本実施 形態の液晶表示装置が製造される。
[0039] なお、隔壁 4の未硬化シール材 13側の面が CF基板 1面に対して略垂直である場 合には、 CF基板 1側および TFT基板 2側からそれぞれ隔壁 4に入射した紫外線が未 硬化シール材 13側の面からあまり出射されないので、シール材 3の内側に未硬化成 分が残存して、シール材 3による接着信頼性が低下するおそれがある。
[0040] 本実施形態では CF基板 1側および TFT基板 2側の両側から紫外線を照射してい る力 CF基板 1側からのみ、または TFT基板 2側からのみ紫外線を照射しても良レ、。 また、照射する光は、未硬化シール材 13を硬化させる波長を有していれば良ぐ紫 外線に限らず、例えば可視光や X線であっても良レ、。未硬化シール材 13に紫外線を 照射するときには、液晶表示部分に紫外線が照射されないようにするために、液晶 表示部分を遮光するフォトマスクを介して紫外線を照射することが好ましい。
[0041] 本実施形態では、 CF基板 1上に隔壁 4を形成している力 CF基板 1に代えて TFT 基板 2上に隔壁 4を形成しても良い。また本実施形態では、 CF基板 1と TFT基板 2と を用いてパネルを構成しているが、カラーフィルタを有する TFT基板と対向基板とを 用レ、てパネルを構成しても良レ、。
[0042] (実施形態 2)
実施形態 1では隔壁 4の傾斜面 43が平坦であるが、本発明における傾斜面はこれ に限定されない。図 5は実施形態 2の隔壁 4を模式的に示す断面図である。なお、以 降の図面において実施形態 1の液晶表示装置の構成要素と実質的に同じ機能を有 する構成要素を同じ参照符号で示し、その説明を省略する。
[0043] 図 5に示す隔壁 4の傾斜面はシール材 3側に突出した凸面 46である。傾斜面をシ ール材 3側に突出させることにより、傾斜面に光散乱性が付与される。具体的に述べ
ると、 CF基板 1側から紫外線を照射して未硬化シール材を硬化させるとき、隔壁 4の 底面 41から入射した紫外線の一部が凸面 46と未硬化シール材との界面に入射する 。このとき、紫外線の入射角度が凸面 46内で異なるので、様々な角度で未硬化シー ノレ材へ出射する。すなわち、 CF基板 1側から入射した紫外線が様々な角度で凸面 4 6から出射する。したがって、未硬化シール材の内側に到達する紫外線の量が増大 し、シール材 3の接着信頼性が向上する。
[0044] なお、隔壁の傾斜面が液晶層側に凹んだ凹面である場合には、傾斜面とシール材 との間に隙間が生じ易くなるので、シール材の粘度を低く調整するなどして凹みにシ 一ル材が入りやすくなるような工夫をする必要がある。接着面積は平面に比べて格 段に増加するので、接着強度が強くなり、接着信頼性が向上する。
[0045] (実施形態 3)
実施形態 2では、傾斜面を凸面 46にすることにより、傾斜面に光散乱性を付与して いる力 傾斜面に光散乱性を付与する構成はこれに限定されない。本実施形態では 、傾斜面が凸凹を有することにより、傾斜面に光散乱性を付与した態様を示す。図 6 は本実施形態の隔壁 4の第 1例を模式的に示す断面図であり、図 7は本実施形態の 隔壁 4の第 2例を模式的に示す断面図である。図 6に示す隔壁 4の傾斜面はシール 材 3側に突出した複数の凸面 47を有しており、図 7に示す隔壁 4の傾斜面は断面視 において鋸歯状に形成された凹凸面 48を有する。
[0046] 本実施形態の傾斜面は凹凸を有するので、実施形態 2と同様に、傾斜面に光散乱 性が付与され、シール材 3の接着信頼性が向上する。また、傾斜面が粗面化され、傾 斜面が平坦な場合に比して、傾斜面とシール材 3との接触面積が大きくなるので、傾 斜面とシール材との接着性が向上する。
[0047] (実施形態 4)
実施形態 2および 3では傾斜面に光散乱性を付与しているが、本実施形態では隔 壁 4自体に光散乱性を付与した態様を示す。図 8は本実施形態の隔壁 4を模式的に 示す断面図である。本実施形態の隔壁 4は屈折率が互いに異なる 2種以上の相から 形成されている。具体的には、気泡やガラスビーズやプラスチックビーズなど隔壁 4と 異なる屈折率を持つ物質 6が隔壁 4内に分散されている。隔壁 4との屈折率がより大
きく異なる方が望ましいが、 0. 1程度の差があることが好ましい。なお、隔壁 4内に気 泡を分散させる方法としては、ガスを吹き込むことにより微小な泡が保持された樹脂 を用いて隔壁 4を形成する方法が挙げられる。
[0048] 本実施形態の隔壁 4は隔壁 4を形成する材料と屈折率が異なる材料から形成され た相を含むので、隔壁 4内部に複数の界面が存在する。したがって、隔壁 4の上面 4 2および底面 41から入射し、隔壁 4内に導かれた紫外線は、隔壁 4内に存在する複 数の界面を透過または反射する際に屈折されるので、様々な方向に散乱する。これ により、実施形態 2および 3と同様に、シール材 3の接着信頼性が向上する。
[0049] 以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明の技術的範囲は上 記実施形態に記載の範囲に限定されない。上記実施形態が例示であり、それらの各 構成要素や各処理プロセスの組合せに、さらにいろいろな変形例が可能なこと、また そうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。
[0050] 例えば、実施形態:!〜 4では、液晶駆動素子として TFTが用いられている力 S、 MIM (Metal Insulator Metal)などの他のアクティブ駆動素子を用いても良ぐあるいは駆動 素子を用いないパッシブ(マルチプレックス)駆動でも良レ、。なお、液晶表示装置は、 透過型、反射型、透過反射両用型のいずれであっても良い。
産業上の利用可能性
[0051] 本発明の液晶パネルは、液晶層を構成要素とするパネル全般に利用することがで きる。例えば、液晶表示パネル、画像シフトパネル、パララックスノ リアパネルなどに 利用することができる。より具体的には、携帯電話機、 PDA (Personal Digital Assista nce )、パーソナルコンピュータ、薄型テレビ、医療用ディスプレイ、カーナビゲーショ ンシステム、アミューズメント機器などに利用することができる。
Claims
請求の範囲
第 1基板と、前記第 1基板に対向配置された第 2基板と、前記第 1基板および前記 第 2基板に挟まれ、かつ前記第 1基板および前記第 2基板の周縁に沿ってループ状 に形成されたシール材と、前記シール材の内側に、前記シール材に沿ってループ状 に形成された隔壁と、前記隔壁に包囲された液晶層とを有する液晶パネルであって 前記隔壁は前記シール材側に傾斜面を有する液晶パネル。
前記シール材が光硬化剤を含む組成物から形成され、前記第 1基板および前記隔 壁がそれぞれ光透過性を有する請求項 1に記載の液晶パネル。
前記傾斜面が光散乱性を有する請求項 2に記載の液晶パネル。
前記傾斜面が前記シール材側に突出した凸面である請求項 3に記載の液晶パネ ル。
前記傾斜面が凸凹を有する請求項 3に記載の液晶パネル。
前記隔壁は屈折率が互いに異なる 2種以上の相から形成されている請求項 2に記 載の液晶パネル。
請求項 2に記載の液晶パネルを製造する方法であって、
前記第 1基板上に前記隔壁をループ状に形成する工程と、
前記隔壁の前記傾斜面側に未硬化シール材を塗布する工程と、
前記隔壁に包囲された領域内に液晶材料を滴下する工程と、
前記第 1基板および前記第 2基板を貼り合わせる工程と、
前記隔壁および前記未硬化シール材に対して少なくとも前記第 1基板側から光を 照射することによって、前記未硬化シール材を硬化させて、前記シール材を形成す る工程とを含む方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010224424A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Citizen Holdings Co Ltd | 液晶光学素子とその製造方法 |
DE102008051923B4 (de) * | 2007-10-24 | 2015-09-10 | Lg Display Co., Ltd. | Elektrophoresedisplay und Verfahren zum Herstellen desselben |
CN107765470A (zh) * | 2016-08-18 | 2018-03-06 | 三星显示有限公司 | 显示装置 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4944014B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2012-05-30 | シャープ株式会社 | パネルおよびその製造方法 |
JP2007114704A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Nec Lcd Technologies Ltd | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP4648422B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2011-03-09 | 東芝モバイルディスプレイ株式会社 | 表示素子の製造方法 |
KR20100000402A (ko) * | 2008-06-24 | 2010-01-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 패널 및 그 제조 방법 |
KR101495214B1 (ko) * | 2008-10-29 | 2015-03-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
WO2011004521A1 (ja) * | 2009-07-09 | 2011-01-13 | シャープ株式会社 | 表示パネル |
CN103792714A (zh) * | 2009-12-17 | 2014-05-14 | 3M创新有限公司 | 显示面板组件 |
KR101729717B1 (ko) * | 2010-08-31 | 2017-04-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 실런트 경화용 마스크와 그것을 이용한 평판 표시 장치 제조방법 |
EP2627957B1 (en) * | 2010-10-11 | 2019-11-06 | LG Electronics Inc. | Vacuum insulation glass panel and refrigerator having the same |
CN102243396A (zh) * | 2011-06-30 | 2011-11-16 | 深超光电(深圳)有限公司 | 液晶显示面板及其制造方法 |
CN103085437B (zh) * | 2011-11-02 | 2016-04-06 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 贴合结构、具有该贴合结构之电子装置及其贴合方法 |
JP6077279B2 (ja) | 2012-11-20 | 2017-02-08 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
JP6080316B2 (ja) * | 2013-01-30 | 2017-02-15 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
CN104808397B (zh) * | 2015-05-22 | 2018-04-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置 |
TWI548911B (zh) | 2015-08-26 | 2016-09-11 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板 |
JP2017116656A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
CN107577090B (zh) * | 2017-09-26 | 2021-02-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制造方法、显示装置 |
CN107731876B (zh) * | 2017-10-19 | 2020-12-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 |
CN108873497B (zh) * | 2018-05-27 | 2021-11-26 | 北京工业大学 | 一种基于光刻工艺的液晶盒及制备方法 |
US10831070B2 (en) * | 2018-10-01 | 2020-11-10 | Himax Display, Inc. | Display panel |
CN116027592B (zh) * | 2022-12-30 | 2024-12-24 | 深圳市晶相技术有限公司 | 一种液晶显示面板及液晶显示器 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002202512A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2002350873A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6357763B2 (en) * | 1998-11-04 | 2002-03-19 | National Semiconductor Corporation | Seal for LCD devices and methods for making same |
JP2004233648A (ja) | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Seiko Epson Corp | 表示装置とその製造方法 |
-
2006
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002202512A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2002350873A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008051923B4 (de) * | 2007-10-24 | 2015-09-10 | Lg Display Co., Ltd. | Elektrophoresedisplay und Verfahren zum Herstellen desselben |
JP2010224424A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Citizen Holdings Co Ltd | 液晶光学素子とその製造方法 |
CN107765470A (zh) * | 2016-08-18 | 2018-03-06 | 三星显示有限公司 | 显示装置 |
CN107765470B (zh) * | 2016-08-18 | 2022-03-29 | 三星显示有限公司 | 显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080151172A1 (en) | 2008-06-26 |
US7724341B2 (en) | 2010-05-25 |
JP4646975B2 (ja) | 2011-03-09 |
JPWO2006098476A1 (ja) | 2008-08-28 |
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