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WO2000073832A1 - Substrat opto-electronique, carte a circuit, et procede de fabrication d'un substrat opto-electronique - Google Patents

Substrat opto-electronique, carte a circuit, et procede de fabrication d'un substrat opto-electronique Download PDF

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Publication number
WO2000073832A1
WO2000073832A1 PCT/JP2000/003440 JP0003440W WO0073832A1 WO 2000073832 A1 WO2000073832 A1 WO 2000073832A1 JP 0003440 W JP0003440 W JP 0003440W WO 0073832 A1 WO0073832 A1 WO 0073832A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
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optical
wiring board
electrical
conductive
electric
Prior art date
Application number
PCT/JP2000/003440
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Takehito Tsukamoto
Takao Minato
Kenta Yotsui
Daisuke Inokuchi
Masayuki Ode
Original Assignee
Toppan Printing Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP11150460A external-priority patent/JP2000340905A/ja
Priority claimed from JP11150461A external-priority patent/JP2000340906A/ja
Application filed by Toppan Printing Co., Ltd. filed Critical Toppan Printing Co., Ltd.
Priority to DE60037194T priority Critical patent/DE60037194T2/de
Priority to CA002375166A priority patent/CA2375166C/en
Priority to EP00931602A priority patent/EP1199588B1/en
Publication of WO2000073832A1 publication Critical patent/WO2000073832A1/ja
Priority to US09/992,892 priority patent/US6739761B2/en
Priority to HK02107577.4A priority patent/HK1047618B/zh

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    • H05K1/111Pads for surface mounting, e.g. lay-out
    • H05K1/112Pads for surface mounting, e.g. lay-out directly combined with via connections

Definitions

  • FIG. 3 is a view showing each step of a method of laminating a layer.
  • the shape of the through hole 41 through which each conductive protrusion penetrates can be selected from a mask such as a columnar type or a quadrangular prism type.
  • the height can be controlled by the thickness of the resist 45 or the time required for plating. According to the experiments of the present inventors, it is desirable that the diameter is approximately 50 to: 100 micron and the height is approximately 50 to: L00 micron.
  • each of the conductive protrusions 14, 15, 16, and 17 is a guide for alignment in laminating the optical wiring layer 11 and the electric board 12.
  • the through holes 41 of the optical wiring layer 11 are laminated so that each conductive protrusion made of a conductive metal or the like penetrates.
  • an adhesive layer 47 is applied to the side of the optical wiring layer 11 1 that comes into contact with the electric board 12, and the optical wiring layer 11 and the electric board 12 are completely bonded and fixed.
  • optical / electrical wiring board 10 obtained as described above, in particular, an optical component (laser, photo diode, etc.) and an electrical component (CPU , Memory, etc.) using solder to obtain a mounting board.
  • optical component laser, photo diode, etc.
  • electrical component CPU , Memory, etc.
  • FIGS. 14A to 14E are views showing each step of the method of manufacturing the optical / electrical wiring board 60, and are arranged in the order of execution.
  • an opening 36 is formed in the metal thin film 30 by etching, and a metal mask for mirror formation is formed. Further, the substrate is inclined at 45 °, and as shown in FIG. 16D, a mirror 115 is formed by RIE dry etching.
  • an optical / electrical wiring board 60 as shown in FIG. 16E can be obtained.
  • FIG. 17 shows an optical and electrical wiring board 62 according to the third embodiment. An example is shown from the top view of the optical component mounting.
  • a core layer 111 a serving as an optical waveguide is formed by, for example, using a fluorine-based polyamic acid solution or a polymethylmethacrylate.
  • a resin that has a refractive index suitable for the wavelength to be guided such as a latex resin solution, and apply 8 micron holes uniformly by an appropriate method.
  • the tip of the conductive protrusion is accurately accommodated in the recess of the terminal of the optical component, it is easy to optically match the optical axis of the optical component with the optical axis of the optical wiring. Therefore, the optical component and the electrical component can be automatically mounted at the same time.
  • FIG. 23 is a top view of the optical / electrical wiring board 62 according to the fourth embodiment as viewed from the optical component mounting.
  • FIG. 24 is a cross-sectional view along the C-C direction in FIG.
  • FIG. 25 is a diagram showing an optical / electrical wiring board 62 on which the laser light emitting element 22 is mounted.
  • the method for manufacturing the optical / electrical wiring board 64 according to the fourth embodiment is described as follows: (1) a method for manufacturing an optical wiring layer; (2) a method for manufacturing an electric wiring board; The method will be described in detail in the order of the manufacturing method with reference to the drawings.
  • the resist 45 is peeled off as shown in FIG. 27C.
  • the terminal of the optical component was determined by the shape of the frame and the surface tension of the molten solder. It was confirmed that the laser was fixed at an equilibrium position and that the optical axis of the laser was within the center of the mirror ⁇ 3 micron.
  • the terminals of the optical component are placed on a flat metal pad with no recess, just like the electrical component, the fixing position of the optical component is not stable and an error of about ⁇ 50 micron is required. Was confirmed. Therefore, the partition 53 secures a highly accurate alignment between the electrical conduction and the mirror for optical wiring. Z., The partition 53 can further improve the reliability of the electrical connection because of the ability to increase the area of electrical conduction between the conductive projection and the optical component.
  • the relative positional relationship between the pattern of the core 111 including the mirror 111 of the optical wiring layer 111 and each conductive protrusion for mounting an optical component is intended. What is extremely accurate is to match it can.
  • the mirror formed on the optical wiring has an incident angle of light of 45 degrees propagating through the optical wiring. It is formed to form This is for the sake of simplicity of explanation, and is not limited to this angle. Therefore, if a mirror with an incident angle of another angle is formed, design according to the angle (for example, appropriately adjust the position of each conductive protrusion, etc.) should be performed. Thus, it is possible to arbitrarily form a light propagation path.

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Description

明 細 書
光 · 電気配線基板、 実装基板及び光 · 電気配線基板の製造 方法
技術分野
本発明は、 光配線 と 電気配線 と が混在する光 · 電気配線基 板及びその製造方法、 並びに当該光 · 電気配線基板に光部品 又は電気備品を実装 した実装基板に関する。
背景技術
近年、 半導体大規模集積回路 ( L S I ) 等の電気素子では ト ラ ンジス タ ーの集積度が高ま っ てレヽる。 その中 には、 ク ロ ッ ク周波数で 1 G H z の動作速度を有する もまで存在する。
こ の高集積化 された電気素子を電気配線基板に実装する た めに、 B G A ( B a 1 1 G r i d A r r a y ) や C S P ( C h i S i z e P a c k a g e ) 等のノヽ。 ッ ケージ力、; 開発され、 実用化されている。
と こ ろで、 一般に、 電気素子内部の ク ロ ッ ク 周波数が高 く なる につれて、 電気素子外部の素子間信号速度 も高速にな る こ の素子問信号の高速化は、 各素子間をつな ぐ電気配線の形 状不良に よ る反射等の ノ イ ズ、 あ るいは、 ク ロ ス ト ーク の影 響を発生 さ せる。 ま た、 電気配線か ら さ ら に多 く の電磁波を 発生 させ、 周囲に悪影響を与え る 問題 も発生する。 こ のため 現状では、 これ ら の問題が起こ ら ない程度に電気素子間の信 号速度を落 と して、 シス テ ム が構築 さ れている。 しか し これ では、 高集積された電気素子の機能が充分生かされない。
こ の よ う な問題を解決する ために、 プ リ ン ト 基板上の銅に よ る電気配線の一部を光フ ァ イ バ又は光導波路に よ る 光配線 に置き換え、 電気信号の代わ り に光信号を利用する こ と が行 われている。 なぜな ら 、 光信号の場合は、 ノ イ ズ及び電磁波 の発生を抑え られるからである。
ま た、 高密度実装又は小型化の観点から は、 電気配線 と 光 配線 と が同一の基板上で積層 さ れている光 ■ 電気配線基板を 作製する こ と が望ま しいが、 従来の光 · 電気配線基板は、 レ 一ザ発光素子ゃ受光素子な どの光部品 を実装する と き 、 光部 品の光軸 と 光配線の光軸 と を光学的に一致させる こ と が難 し く 、 一般に熟練労働者に頼 ら なければ一致させ られなかった , 従っ て、 リ フ ロ ー炉な どで 自 動的にハ ンダ付けでき る電気部 品 と 比較 して、 光部品を光 · 電気配線基板に実装する こ と は 非常に高価なものになる と レ、 う 欠点があった。
発明の開示
本発明は係る従来技術の欠点に鑑みてな さ ; 1 た も ので、 高 密度実装又は小型化が可能で、 光部品や電気部品 を精度良 く 実装可能な光 · 電気配線基板及びその及びその製造方法、 並 びに 当該光 · 電気配線基板に光部品又は電気備品 を実装 した 実装基板を提供する こ と を 目 的 とする。
本発明の視点は、 電気配線を有する電気配線基板 と 、 当該 電気配線基板に積層 さ れ一方の面側に光部品 を実装する光配 線層 と を具備する光 · 電気配線基板であって、 前記光配線層 は、 光を伝播する コ ア と 、 前記コ ア を挟むク ラ ッ ド と 、 前記 コ ア を伝播する光を前記光部品に向けて反射する 、 或いは前 記光部品か らの光を前記コ ア中 に反射する ミ ラー と を有 し、 前記電気配線基板は、 前記光配線層を積層方向に貫通 しその 一方の端面には前記実装する光部品が設置 さ れる導電体の柱 であって、 前記実装する光部品 と 前記電気配線と の電気的導 通を と る導電性設置手段を有する こ と 、 を特徴と する光 · 電 気配線基板である。
ま た、 本発明の他の視点は、 上記光 , 電気配線基板に光部 品或いは電気部品を実装 した実装基板である。
ま た、 本発明の他の視点は、 電気配線基板の所定の電気配 線上に導電性設置手段を形成する工程 と 、 前記電気配線基板 上に第 1 ク ラ ッ ド層 を塗布する 工程と 、 前記第 1 ク ラ ッ ド層 上に コ ア層 を塗布する 工程と 、 前記第 1 ク ラ ッ ド層の一部及 び前記コ ア層に第 2 のク ラ ッ ド層を塗布 し、 光配線層 を得る 工程と 、 前記光配線層か ら前記導電性設置手段の一方の端面 を露出 させる 工程と 、 前記光配線層上に電気配線を形成する 工程 と 、 前記光配線層の所定の位置に、 穿孔に よ る ミ ラ 一を 形成する 工程と を具備する こ と を特徴 と する 光 · 電気配線基 板の製造方法である。
こ の様な構成に よれば、 高密度実装又は小型化が可能で、 光部品や電気部品を精度良 く 実装可能な光 · 電気配線基板及 びその及びその製造方法、 並びに当該光 · 電気配線基板に光 部品又は電気備品を実装 した実装基板を提供する こ と ができ る。
なお、 本発明 に係る 実施の形態には種々 の段階の発明が含 まれてお り 、 開示 さ れ る複数の構成要件におけ る適宜な組み 合わせに よ り 種々 の発明が摘出 さ れ得る。 例えば、 実施の形 態に示さ れる全構成要素か ら幾つかの構成要件が省略さ れる こ と で発明が抽出 さ れた場合、 その抽出 さ れた発明 を実施す る場合には省略部分が周知慣用技術で適宜補われる も のであ る。
図面の簡単な説明
図 1 は、 第 1 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 1 0 を光 部品実装から見た上面図を示 している。
図 2 は、 図 1 における C 一 C方向に沿った断面図である。 図 3 及び図 4 は、 第 1 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 1 0 に光部品を実装 した実装基板を示 している。
図 5 A〜図 5 0は、 光 ' 電気配線基板 1 0 の製造方法の各 工程を示 した図である。
図 6 は、 第 2 の製造方法に よ っ て得 られ る 光 · 電気配線基 板 1 0 の光部品を実装する部分の平面図を示 している。
図 7 Aは、 図 6 において C — C に沿った断面図 を示 してい 図 7 B は、 第 1 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 1 0 に 光部品を実装 した実装基板を示 している。
図 7 C は、 第 1 の実施形態に係る光 ■ 電気配線基板 1 0 の 他の例を示 している。
図 8 A〜図 8 E は 光配線層 1 1 の製造方法の各工程を示 した図である。
図 9 A〜図 9 E は 電気配線基板 1 2 の製造方法の各工程 を示 した図である。
図 1 0 A〜図 1 0 E は、 光配線層 1 1 を電気配線基板 1 2 へ積層する方法の各工程を示 した図である。
図 1 1 は、 第 2 の実施形態に係る光 ■ 電気配線基板 6 0 を 光部品実装か ら見た上面図を示 している。
図 1 2 Aは、 図 1 1 における C _ C方向 に沿っ た断面図で ある。
図 1 2 B 、 図 1 2 C は、 凹部 5 1 近傍を示 した拡大図であ る。
図 1 3 は、 第 2 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 0 を 光部品実装側から見た上面図を示 している。
図 1 4 A〜図 1 4 E は、 光配線層 1 1 の製造方法の各工程 を示 した図である。
図 1 5 A〜図 1 5 E は 電気配線基板 1 2 の製造方法の各 工程を示 した図である。
図 1 6 A〜図 1 6 E は 光配線層 1 1 を電気配線基板 1 2 積層する方法の各工程を示 した図である。
図 1 7 は、 第 3 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 2 の 一例を光部 実装から見た上面図を示 している。
図 1 8 は 図 1 7 におけ る C 一 C方向に沿っ た断面図であ る。
図 1 9 は 第 3 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 2 に 光部品を実装 した実装基板を示 している。
図 2 O A〜図 2 0 E は、 光配線層 1 1 の製造方法の各工程 を示 した図である。
図 2 1 A〜図 2 1 E は、 電気配線基板 1 2 の製造方法の各 工程を示 した図である。 図 2 2 A〜図 2 2 E は、 光配線層 1 1 を電気配線基板 1 2 へ積層する方法の各工程を示 した図である。
図 2 3 は、 第 4 の実施形態に係る光 ■ 電気配線基板 6 4 を 光部品実装から見た上面図を示 している。
図 2 4 は、 図 2 3 におけ る C 一 C方向に沿った断面図であ る。
図 2 5 は、 レーザ発光素子 2 2 を実装 した光 · 電気配線基 板 6 4 を示 した図である。
図 2 6 A〜図 2 6 E は、 光配線層 1 1 の製造方法の各工程 を示 した図である。
図 2 7 A〜図 2 7 J は、 電気配線基板 1 2 の製造方法、 及 び導電性突起部を使用 して、 光配線層 1 1 を電気配線基板 1 2 へ積層する方法を説明するための図である。
発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明 を実施する ため の最良な四つ つ形態について 図面に従つ て順番に説明する。 なお、 以下の説明 において、 略同一の機能及び構成を有する構成要素については、 同一符 号を付 し、 重複説明は必要な場合にのみ行 う 。
(第 1 の実施形態)
第 1 の実施形態を示す光 · 電気配線基板の重要な点は、 光 部品 (光素子) を実装する 光配線層 と 、 電気配線を有する基 板と を積層構造と した着想にある。
図 1 は、 第 1 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 1 ◦ を光 部品実装から見た上面図を示 している。
図 2 は、 図 1 における C C方向に沿った断面図である。 図 1 及び図 2 に示すよ う に、 光 · 電気配線基板 1 0 は、 基 板 1 2 に光配線層 1 1 を積層 した構造と なっている。
まず、 図 1 及び図 2 に基づいて、 光 . 電気配線基板 1 0 の 構成について、 光配線系、 電気配線系、 光配線層 1 1 上に実 装する光部品等 と 電気配線系 と の間の電気的接続を取る ため の接続手段、 の順に説明する。
光配線層 1 1 は、 光信号が伝搬する コ ア 1 1 1 と 、 当該コ ァ 1 1 1 に閉 じ こ め る ク ラ ッ ド 1 1 3 力 ら な る。 こ の コ ア 1 1 1 のパタ ーンは、 後述する よ う にフ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術 で形成 さ れる。 その位置は、 支持基板上に形成 したァ ラ イ メ ン ト マーク (図示せず) に よ っ て決め る こ と ができ る。 コ ア 1 1 1 を形成する材料の屈折率を ク ラ ッ ド 1 1 3 のそれに比 ベ高 く する こ と に よ り 、 光信号はコア 1 1 1 内を伝搬する。
コ ア 1 1 1 の材質 と しては、 例えばフ ッ素系ポ リ イ ミ ド樹 脂あ る いはポ リ メ チルメ タ ク リ レ ー 卜 樹脂な ど導波すべき波 長に好適な屈折率を有する樹脂を選択する こ と ができ る。
また、 ク ラ ッ ド 1 1 3 の材質 と しては、 例えばフ ッ素化ポ リ イ ミ ド系樹脂またはフ ッ 素化エポキシ系樹脂等が考え られ る。
コ ア 1 1 1 には、 光信号の入射角が 4 5 ° と 成る よ う に設 置 さ れた ミ ラー 1 1 5 が設け られてレ、る。 光信号は、 こ の ミ ラー 1 1 5 を介 して、 コ ア 1 1 1 と 光部品 ( レーザーダイ ォ — ドゃフ ォ ト ダイ オー ド等) と の間で伝搬 さ れる (図 3 、 図 4 参照) 。 この ミ ラ ー 1 1 5 は、 光配線層上にフ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 技術に よ り 形成 した メ タ ノレマス ク を も と にエ ッチング 法を用いた穿孔に よ る加工、 または レーザに よ る 穿孔に よ る 加工に よ り 形成でき る。 ま た、 その位置は基板 1 2 上に形成 したァ ラ イ メ ン ト マーク (図示せず) に よ って決め る こ と が でき る。 なお、 ミ ラ 一 1 1 5 の界面 ( コ ア 1 1 1 と反対側の 面) は、 コ ア 1 1 1 よ り 屈折率の低い樹脂を接触 させる か、 空気 と 接触 させる。 その他、 当該界面に金属薄膜を形成 して も良い。
基板 1 2 は、 その表面に電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 . 1 2 3 を有 している。 こ の基板 1 2 は、 単層の絶縁基板でも 多層電気配線基板でも 良い。 基板 1 2 の材料 と しては、 ポ リ イ ミ ドフ ィ ルム 、 ガラ ス布にエポキシ樹脂等を含浸 させた基 板、 セラ ミ ッ ク基板等を用レヽる こ と ができ る。
ミ ラ ー 1 1 5 の周辺部には、 光配線層 1 1 を積層方向 に貫 通する導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 が設け られてい る。
こ の導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 は、 光部品 ( レ 一ザ発光素子ゃ受光素子) 等 と 電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 と の電気接続を取る ための電気的接続手段であ る。 こ の導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 の光配線層 1 1 側の端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a (図 1 参照) に 直に光部品等がハ ンダ付け される。 こ の と き 、 必要に応 じて 端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a に N i / A u めっ き等 の表面処理を施 して も良い。
と こ ろで、 本発明 に係る光 · 電気配線基板は、 光部品のみ な らず I C 等の電気部品 も実装する。 この場合、 電気部品 と 基板 1 2 上の電気配線 1 2 0 1 2 1 1 2 2 1 2 3 と は . 導電性突起部 1 4 1 5 1 6 1 7 を介 して電気接続され る。
なお、 各導電性突起部は、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術と めつ き技術にて形成 さ れる。 従って、 形成 される位置は、 基板 1 2 上に形成 したァ ラ イ メ ン ト マーク (図示せず) に よ っ て決 める こ と ができ る。 ま た、 導電性突起部の数は、 光部品等の 接続端子 2 2 1 に対応する のが一般的であ る が、 必要に応 じ て増設或いは削減 して も よい。
図 3 は、 導電性突起部の端面 1 4 a 1 5 a 1 6 a 1 7 a の上に、 半導体 レーザな どの レーザ発光素子 2 2 の リ ー ド 2 2 1 を、 ヽンダ 2 4 に よ っ て半田付け した と き の断面図 であ る。 図 3 に示すよ う に、 レーザ発光素子 2 2 の レーザ発 光面 2 2 0 か ら放出 さ れた レーザ光 3 1 は、 ミ ラ ー 1 1 5 で 反射され、 コ ア 1 1 1 を伝搬する。
図 4 は、 導電性突起部の端面 1 4 a 1 5 a 、 1 6 a 1 7 a 上に、 フ ォ ト ダイ オー ドな どの受光素子 2 3 の リ ー ド 2 3 1 を、 ンダ 2 4 に よ っ て半田付け した と き の断面図であ る。 図 4 に示すよ う に、 光配線層 1 1 を伝搬する レーザ光 3 1 は、 ミ ラ ー 1 1 5 で反射され、 受光素子 2 3 の受光面 2 3 0 に入射する。
上述 した よ う に、 光配線層 1 1 におけ る 光配線コ ア 1 1 1 及び光部品 を搭載する ための導電性突起部 1 4 1 5 1 6 1 7 (或いは端面 1 4 a 1 5 a 1 6 a 1 7 a ) 、 ミ ラ 一 1 1 1 の間におけ る相対的な位置関係は、 図示 していない ァ ラ イ メ ン ト マーク を基準 と して決定される。 従って、 意図 された も の に極めて高精度で光軸を一致させる こ と ができ る, また、 光部品の リ ー ドを導電性突起部の端面 1 4 a 、 1 5 a 1 6 a 、 1 7 a に合わせて配置する だけで、 当該光部品の光 軸 と 光配線層 1 1 の コ ア 1 1 1 の光軸 と が光学的に一致する よ う にな る。 それゆえ、 光部品を リ フ ロ ー炉な どで 自 動的且 つ簡単ににハンダ付けする こ と ができ る。
なお、 光配線層 1 1 の上に、 電気部品をハ ンダ付けする た め の導電性突起部を新たに設けて も 良い。 ま た、 光配線層 1 1 上に新たに電気配線を設けて も 良い。 こ の電気部品用の導 電性突起部の構成は、 上述 した光部品用の導電性突起部 と 同 じ様にすればよい。
なお、 必要に応 じて、 光部品或いは電気部品 と 導電性突起 部 と を電気的に接続する新たな電気配線を光配線層 1 1 上に 形成する構成であって も よい。
ぐ光 · 電気配線基板の第 1 の製造方法 >
次に、 本発明 に係る光 · 電気配線基板の第 1 の製造方法に ついて説明する。
本発明 に係る光 · 電気配線基板の製造方法の概略は、 次の 通 り である。
まず、 電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 を有する 基板 1 2 上に フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術と めっ き技術にて導電 性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 を形成する。
その上力 ら、 ク ラ ッ ド層 1 1 3 a を塗布 し、 さ ら に、 コ ア 層 1 1 1 a を塗布する。 次に、 コ ア層 1 1 1 a を所定の形状にフ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術 と エ ッチング技術にて光配線 と しての コ ア 1 1 1 を形成 する。
さ ら に、 コ ア 1 1 1 上に ク ラ ッ ド層 1 1 3 b を塗布する こ と でク ラ ッ ド 1 1 3 を形成 し、 光配線層 1 1 を得る。
その後、 導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 の端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a 上にある ク ラ ッ ド 1 1 3 の一部 を除去 し、 光配線層表面から露出 させる。
さ ら に、 フォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術と めっ き 、 エ ッチング技 術にて電気配線と ミ ラ 一 1 1 5 加工のための金属マ ス ク 開 口 部を形成 し、 ドラ イ エ ッチングに よ り ミ ラ 一 1 1 5 を形成す る。
こ の製造方法で特に重要な点は、 導電性突起部を有する電 気配線基板 1 2 上に、 直接ク ラ ッ ド 1 1 3 、 コ ア 1 1 1 等を 実装 して光配線層 1 1 を形成する こ と にあ る。 こ の よ う な着 想に よ り 、 工程の簡略化を図 る こ と ができ製造効率を向上さ せる こ と ができ る。
以下、 図 2 A に示 した光 · 電気配線基板 1 0 に関する さ ら に詳 しい製造方法の説明 を、 図面に従って述べる。 特に、 基 板 1 2 上の電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 と 電気 接続する光部品搭載用 の導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 に焦点を当てて、 図 5 A〜図 5 Oを参照 しなが ら説明する 図 5 A〜図 5 0は、 光 · 電気配線基板 5 0 の製造方法の各 工程を示 した図であ り 、 実行順に並べられている。
まず、 図 5 A に示す様に、 銅配線層 1 8 を有する銅ポ リ イ ミ ド多層基板 1 2 上にス ノ、。 ッ タ に よ り C r お よび銅か ら な る 金属薄膜層 1 3 を形成する。
図 5 B に示すよ う に、 フ ォ ト レ ジス ト 1 9 と して P M E R (東京応化 (株) 製) を ロ ールコ ー ト に よ り 4 0 μ πι形成す る。 そ して、 露光、 現像処理を行い、 Ι Ο Ο μ πι径の開 口 部 2 0 を形成する。
次いで、 金属薄膜層 1 3 を陰極に して、 硫酸銅浴中、 常温 にて フ ォ ト レ ジス ト の膜厚程度ま で銅めつ き を行い、 さ ら に 無電解め つ き にて N i 2 i m、 A u O . 0 形成 し、 図
5 C に示す よ う に、 導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 (但し、 1 4 及び 1 6 については図示せず。 ) を作製する。 図 5 D に示すよ う に、 フ ォ ト レジス ト 1 9 を専用の剥離液 にて除去する。
図 5 E に示す よ う に、 金属薄膜層 1 3 をエ ッ チ ング液にて 除去する。
図 5 F に示すよ う に、 ク ラ ッ ド層 1 1 3 a と して、 ポ リ イ ミ ド O P I — N 1 0 0 5 ( 日 立化成工業 (株) 製) をス ピ ン コ ー ト し、 3 5 0 °Cにてイ ミ ド化 させた。 こ の と き の膜厚は l o /^ mであ 。
図 5 G に示すよ う に、 コ ア層 1 1 1 a と して、 ポ リ イ ミ ド O P I - N 1 3 0 5 ( 日 立化成工業 (株) 製) を同様にス ピ ンコ ー ト し、 3 5 0 °Cにてイ ミ ド化 さ せた。 こ の と き の膜厚 は 8 μ mである。
コ ア層 1 1 1 a 表面に A 1 を蒸着 し、 フ ォ ト レジス ト の所 定のノ、。 タ ー ン を形成 し、 エ ッ チ ン グ液 にて A 1 の メ タ /レマ ス ク を形成する。 さ ら に、 酸素ガス を用い、 反応性イ オ ンエ ツ チングにて コ ア層 1 1 1 a をエ ッチング し、 A 1 膜をエ ッチ ング除去 して図 5 Hに示すコア 1 1 1 を形成する。
図 5 I に示すよ う に、 その上力 ら ク ラ ッ ド層 1 1 3 b と し て〇 P I - N 1 0 0 5 を同様に コ ーテ ィ ング、 イ ミ ドィ匕 させ る 。 こ の と き の ク ラ ッ ド層 1 1 3 b の膜厚は、 コ ア 1 1 1 上 で 1 5 μ mである。
図 5 J に示すよ う に、 本基板最表面を一様に ドラ イ エ ッチ ン グ し、 各導電性突起部の端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a (但 し、 1 4 a 及び 1 6 a については図示せず。 ) を露 出 させる。
図 5 Kに示すよ う に、 ドラ イ エ ッチング した最表面にス パ ッ タ にて C r および、 銅の金属薄膜 3 0 を形成する。
図 5 L に示すよ う に、 フ ォ ト レ ジス ト 3 1 と して、 P M E R を用い、 電気配線 3 3 を形成する ための開 口 部を形成 し、 電気銅めつ き にて電気配線 3 3 を形成する。
フ ォ ト レジス ト 3 1 を専用の剥離液にて除去 した後、 図 5 Mに示すよ う に、 再度、 フ ォ ト レ ジス ト 3 4 をス ピ ン コ ー ト にて 2 /i m塗布 し、 下地の金属薄膜 3 0 にエ ッチング加工を 施すた めの開 口部 3 5 を形成する。
図 5 N に示すよ う に、 エ ッチング液にて金属薄膜 3 0 の ミ ラー形成のためのパタ ー ン 3 6 を形成 し、 専用の剥離液にて フ ォ ト レ ジス ト を除去する。 その後、 基板 1 2 を 4 5 ° に傾 斜さ せ、 酸素ガス を用いて反応性イ オンエ ッチン グにて穿孔 加工を行い、 ミ ラ一 1 1 5 を形成する。 図 5 0 に示すよ う に、 金属薄膜 3 0 をエ ッ チング除去 して、 本発明の光 · 電気配線基板 1 0 が得られる。
なお、 上述の よ う に して得 られた光 ■ 電気配線基板 1 0 、 特に各導電性突起部の各端面に、 光部品 ( レーザ、 フ ォ ト ダ ィ オー ド等) 及び電気部品 ( C P U、 メ モ リ 等) を半田 を用 いて固定する こ と で、 実装基板を得る こ と ができ る。
以上述べた構成に よれば、 以下の効果を得る こ と ができ る 第 1 に、 電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 を有す る基板 1 2 の上に光配線層 1 1 を設け る ので、 高密度実装又 は小型化が可能である と い う 効果がある。
第 2 に、 コ ア 1 1 1 のパターン と 、 光部品搭載用の導電性 突起部の端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a と 、 ミ ラ 一 1 1 5 と の間の相対的な位置関係を、 意図 した もの に極めて高 精度で一致 させる こ と ができ る。 従っ て、 光部品の光軸 と 光 配線 と しての コ ア 1 1 1 の光軸 と を光学的に -致 させる こ と が容易 と な る。 その結果、 光部品 と 電気部品 と を簡単に実装 でき る と い う 効果がある。
第 3 に、 光部品、 あ る いは、 電気部品をハンダ付けする際 . めっ き で形成された導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 に 直接に接続する ため、 ハンダ溶融熱の影響を受けず、 接続の 信頼性を向上させる こ と ができ る。 同時に、 基板 1 2 上の各 電気配線 と 光部品或いは電気部品 と の接続の信頼性も 向上す る と い う 効果がある。
第 4 に、 必要に応 じて光配線層 1 1 の上に も電気配線を設 け る こ と が可能であ る か ら 、 さ ら に電気配線間の干渉が抑え られる と レ、 う 効果がある。
ぐ光 · 電気配線基板の第 2 の製造方法 >
次に、 本発明 に係る光 · 電気配線基板 1 0 の第 2 の製造方 法について説明する。
図 6 は、 第 2 の製造方法に よ っ て得 られる 光 · 電気配線基 板 1 0 において、 光部品を実装する部分の平面図 を示 してい る。 また、 図 7 Aは、 図 6 におレヽて C 一 C に沿っ た ( コ ア 1 1 1 に沿った) 断面図を示 している。
こ の第 2 の製造方法で特に重要な点は、 光配線層 1 1 と 導 電性突起部を有する電気配線基板 1 2 と をそれぞれ個別に製 造 し、 接着層を介 して接着する こ と で光 · 電気配線基板 1 0 を製造する こ と にある。
以下、 第 2 の製造方法について 、 ( 1 ) 光配線層 の製造方 法 ( 2 ) 電気配線基板の製造方法 ( 3 ) 光 · 電気配線基板の 製造方法の順に図面に従って詳 し く 説明する。
( 1 ) 光配線層の製造方法
フ ィ ルム状の光配線層 1 1 を以下に説明する よ う に図 8 A 〜図 8 E の手順で形成する。
図 8 A に示すよ う に、 シ リ コ ン ウ エノヽー 4 0 上にク ラ ッ ド 層 1 1 3 a を厚 さ 2 0 〜 5 0 ミ ク ロ ン程度塗布する。 ク ラ ッ ド層 1 1 3 a がポ リ ア ツ ミ ク 酸溶液の場合であれば、 イ ミ ド 化する ために 3 5 0 度で 1 〜 2 時間焼成する。 ま た、 ェポキ シ系樹脂であれば U V硬化 も し く は 1 0 0 〜 2 0 0 度でポ リ マ一化する。
次に、 図 8 B に示すよ う に、 光導波路 と な る コ ア層 1 1 1 a を、 例えばフ ッ素系ポ リ イ ミ ドある レ、はポ リ メ チノレメ タ ク リ レー ト 樹脂な ど導波すべき波長に好適な屈折率を有する樹 脂を選択 して適切な方法で均一に 8 ミ ク ロ ン塗布する。
次に、 図 8 C に示すよ う に、 コ ア層 1 1 l a 力 ら コ ア 1 1 1 を形成する。 こ の コ ア 1 1 1 の形成法は、 コ ア層 1 1 l a の感光性の有無に よ っ て例えば次の二通 り に区別 さ れる。 す なわち、 コ ア層 1 1 1 a に感光性があ る場合には、 定法のフ オ ト リ ソ法でノ、。タ ニ ン グ して コ ア 1 1 1 を形成 し、 その後材 料に応 じた硬化反応を行 う 。 一方、 コ ア層 1 1 1 a に感光性 がない場合には、 硬化 させた後に所定パ タ ン の金属マ ス ク を 形成 して R I E ドラ イ エ ッチン グに よ り コ ア 1 1 1 の ノ ター ンを形成する。
その後、 先に形成 したク ラ ッ ド層 1 1 3 a と 同 じ材料を同 様に厚 さ 2 0 〜 5 0 ミ ク ロ ン程度塗布 して ク ラ ッ ド層 1 1 b を形成 し、 ク ラ ッ ド 1 1 3 を得る。
続いて、 図 8 D に示すよ う に、 コ ア 1 1 1 と ク ラ ッ ド 1 1 3 か ら成る 光配線層の所定の位置に、 当該光配線層 を貫通す る貫通孔 4 1 を形成する。 こ の孔 4 1 は、 所定のパタ ー ンを 有するマ ス ク を介 し、 エキシマ レーザを照射する こ と で形成 でき る。
次に、 図 8 E に示すよ う に、 光配線層 1 1 をシ リ コ ン ゥェ ノヽ 4 0 カゝ ら剥離する こ と で、 貫通孔 4 1 を含むフ イ ノレ ム状の 光配線層 1 1 を形成する こ と ができ る。
上記製造方法においては、 貫通孔 4 1 をシ リ コ ン ウ エ ノヽ 4 0 上にて形成 した。 従って、 高い精度で容易 に貫通孔 4 1 を 形成する こ と ができ る。 ま た、 貫通孔 4 1 の形成後に当該シ リ コ ン ウ エ ノヽ 4 0 力 ら光配線層 1 1 を剥離 した。 従っ て、 貫 通孔 4 1 の形成において生 じる カ ス を完全に除去する こ と が 可能である。
( 2 ) 電気配線基板の製造方法
次に、 電気配線基板の製造方法について、 図 9 A〜図 9 E を参照 して説明する。
図 9 A に示すよ う に、 ガラ スエポキシ基板等適切な絶縁基 板上 1 2 に メ ツ キ法あ る レ、はス ノ、。 ッ タ ある レ、は蒸着法等に よ り 2 0 ミ ク ロ ン程度の銅薄膜を形成する。 また、 定法の フ ォ ト リ ソ法に よ り 所望の金属配線 4 3 を形成する。 導電性突起 部を形成するため、 金属薄膜 4 4 を スパッ タ にて形成する。
次に、 図 9 B に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 の上か ら レジス ト 4 5 を塗布 し現像 して開 口 部 4 6 を形成する。
次に、 図 9 C に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 を陰極 と して銅 メ ツ キを行い、 開 口部 4 6 を出来るだけ銅で埋設する s
次に、 図 9 D に示すよ う に、 レジス ト 4 5 を剥離する。
続いて、 図 9 E に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 をエ ッ チング 除去する。 その結果、 電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 と 、 当該各電気配線上に設け られた導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 を形成する こ と ができ る (但 し、 電気配線 1 2 0 及び 1 2 2 、 導電性突起部 1 4 及び 1 6 について は図 示せず) 。
なお、 各導電性突起部を貫通 させる 貫通孔 4 1 の形状は、 円柱型、 4 角柱型等マス ク に よ り 選択可能であ る。 ま た、 そ の高 さ は、 レジス ト 4 5 の膜厚あ るいはメ ツ キにかけ る 時間 で制御する こ と ができ る。 本発明者 らの実験に よれば、 径は 概ね 5 0 〜 : 1 0 0 ミ ク ロ ン、 高 さ は概ね 5 0 〜 : L 0 0 ミ ク ロ ン程度が望ま しい。
( 3 ) 光 , 電気配線基板の製造方法
次に、 導電性突起部を使用 して、 光配線層 1 1 を電気配線 基板 1 2 へ積層する方法について、 図 1 O A〜図 1 0 E を参 照 して説明する。
まず、 図 1 0 Aにおいて、 各導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 は、 光配線層 1 1 と 電気基板 1 2 と の積層における ァ ラ イ メ ン ト のガイ ドを して使用 される。 即ち、 光配線層 1 1 の貫通孔 4 1 を導電性の金属等か ら なる各導電性突起部が 貫通する よ う に積層する。 こ の際、 光配線層 1 1 の電気基板 1 2 と の接触する側に接着層 4 7 を塗布 して、 光配線層 1 1 と 電気基板 1 2 を完全に接着固定する こ と が ' ま しい。 従つ て 、 各導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 は、 上下基板 (光配線層 1 1 、 電気配線基板 1 2 ) の支持ガイ ドの機能と 電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 と 光配線層 1 1 上 に設け られる光部品等 と の電気的接続機能と を有 している。
次に、 図 1 0 B に示すよ う に、 積層 した光配線層 1 1 の表 面に金属薄膜 3 0 をスパ ッ タ にて形成する。
次に、 金属薄膜 3 0 上にフ ォ ト レジス ト 3 1 を塗布 した後 図 1 0 C に示すよ う に、 露光 · 現像処理を行い、 ミ ラ ー形成 のた めの フ ォ ト レジス ト 開 口部 3 5 を形成する。
次に、 エ ッチングに よ り 金属薄膜 3 0 に開 口部 3 6 を形成 し、 ミ ラ ー形成のためのメ タルマス ク を形成する。 さ ら に、 図 1 0 D に示すよ う に、 基板を 4 5 ° に傾斜 させ、 R I E ド ライ エ ッチングによ り ミ ラー 1 1 5 を形成する。
そ して、 図 1 0 E に示すよ う に、 メ タルマ ス ク を溶解除去 する こ と に よ り 本発明の光 ■ 電気配線基板を得る こ と ができ る。
なお、 第 2 の製造方法は、 光配線層 1 1 と 導電性突起部を 有する電気配線基板 1 2 と をそれぞれ個別に製造する の で、 例えば図 7 C に示 した形状の ミ ラ ー 1 1 5 を設け る こ と も可 能である。 すなわち、 光配線層 1 1 を独立形成する際に、 例 えば図 8 E に示 した工程の後、 所定の支持体に当該光配線層 1 1 を固定 して、 エ ッ チング又はダイ シ ン グ ソ一等に よ り 図 7 C に示 した形状の ミ ラー 1 1 5 を形成すればよい。
( 4 ) 実装基板の製造方法
なお、 上述の よ う に して得 られた光 · 電気配線基板 1 0 、 特に各導電性突起部の各端面に、 光部品 ( レーザ、 フ ォ ト ダ ィ オー ド等) 及び電気部品 ( C P U、 メ モ リ 等) を半田 を用 いて固定する こ と で、 実装基板を得る こ と ができ る。
図 7 B は、 発光用 レーザを内包する 光部品 2 2 の端子 2 2 1 を導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 に半田 2 4 に よ つ てハンダ付け した実装基板 9 を示 した図である。
図 7 B に示す実装基板 9 においては、 導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 の端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a (図 6 参照) 自 体をノ ッ ド と て利用 してレ、る。 上述 した よ う に、 導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 は、 半導体 レーザ 等の光部品 と 電気配線 1 2 0 1 2 1 1 2 2 1 2 3 と の 電気的導通を と る と と も に、 ミ ラ 一 1 1 5 と のァ ラ イ メ ン ト を確保する ために用い られる。 従って、 光部品 と 光配線層の と の光導波に関する接続の信頼性を向上させる こ と ができ る 各導電性突起部の端面をパ ッ ド と して利用する こ と に よ り 精 度の高いァ ラ イ メ ン ト を確保でき 、 ま た、 ヽ ンダ接続に よ る セルファラィ メ ン ト効果を得られるか らである。
なお、 別の望ま しい構成 と して、 更にフ ォ ト リ ソ法を用レ、 て、 導電性突起部 1 4 1 5 1 6 1 7 と 導通する よ う な 新たな金属パッ ドを光配線層 1 1 上に形成 して も よい。
と こ ろで、 光配線層 1 1 や ミ ラ 一 1 1 5 は、 現実には数 ミ ク ロ ン の幅であ る。 従って、 レーザ光が こ の範囲に確実に集 光 さ れる 必要が あ る。 こ の 目 的のために、 光部品の端子 2 2
1 と 接続される金属 ッ ド と しての端面 1 4 a 1 5 a , 1
6 a 1 7 a が、 その周囲 よ り 凹むよ う な構成 と する こ と も でき る。
さ ら に、 端面 1 4 a 1 5 a 1 6 a 1 7 a の周囲に、 光部品の端子 2 2 1 の接続位置を誘導する ガイ ドを新たに形 成する こ と も 出来る。 当該ガイ ドは、 導電性でも絶縁性で も よいが、 導電性突起部 1 4 1 5 1 6 1 7 (すなわち、 端面 1 4 a 1 5 a 1 6 a 1 7 a ) を囲むよ う に形成す る。
これ ら の レーザ光 と ミ ラ ー と のァ ラ イ メ ン ト精度を向上さ せる 工夫は、 第 2 の実施形態〜第 4 の実施形態 と して後で詳 し く 説明する。 従って、 上記述べた構成に よれば、 以下の効果を得る こ と ができ る。
第 1 に、 電気配線を有する基板の上に光配線層 を設け る の で、 高密度実装又は小型化が可能である。
第 2 に、 光配線層 1 2 の コ ア 1 1 の ノ タ ー ン、 光部品搭載 用の導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 、 ミ ラ — 1 1 5 の 間の相対的な位置関係が意図 さ れた も のに極めて高精度で一 致させる こ と ができ る。 従って、 改めてァ ラ イ メ ン トするェ 程を必要 と せずに、 光部品 の光軸 と 光配線層 1 1 の光軸 と を 容易に光学的に一致 させる こ と ができ る。 さ ら に、 光部品や 電気部品を同時に 自動的実装でき る。
第 3 に、 光部品或いは電気部品をハ ンダ付けする際、 めつ き で形成 さ れた導電性突起部に直に接続する ので、 ノ、 ンダ溶 融熱の影響を受けず、 接続の信頼性を向上 させる こ と 力 Sでき る。 同時に、 基板 1 2 上の電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 1 2 3 と 光部品或いは電気部品 と の接続の信頼性 も 向上する と レ、 う 効果がある。
第 4 に、 必要に応 じて光配線層 1 1 の上に も電気配線を設 け られる の で、 電気配線間の干渉を さ ら に抑える こ と ができ る。
第 5 に、 光配線層 1 1 と 電気基板 1 2 と が別々 に製造可能 であ る。 さ ら に、 ガイ ド と しての導電性突起部を通 して光配 線層 1 1 を電気基板 1 2 容易に精度よ く 積層する こ と 力 Sでき る。
第 6 に、 光 ■ 電気基板 1 1 の製造過程において 、 導電性突 起部を形成する ための開 口 部 4 1 にカ スが溜ま ら ないので、 光配線層 1 1 と 電気配線基板 1 2 と を電気的に確実に接続す る こ と ができ る。
すなわち、 導電性突起部を形成する ための開 口 部 4 1 を形 成する際、 例えばレーザ光照射に よ る 開 口 部 4 1 形成及びメ ツ キに よ る形成に よ る方法では、 次の問題が発生する。 第 1 に、 開 口 部 4 1 の底部の金属膜上ある いは孔の側面に電気配 線基板の支持体の樹脂成分が加熱破壊 されたカ ス が付着 し、 種々 の洗浄工程を通 して も完全には除去出来ない。 第 2 に、 こ の除去でき ないカ スのため、 開 口 部 4 1 側面を覆 う 銅薄膜 では、 導電性突起部 と 下地の金属配線と の電気的導通を と る こ と ができ ない。 第 3 に、 導電性突起部の メ ツ キ銅薄膜の下 地光配線層 フ ィ ルムへの密着性が低 く 、 光部品をハンダ付け する場合、 加熱で容易 に剥離 して しま う と い う 問題が発生す る恐れ力 Sあ る。 しカゝ しな力 S ら、 上記構成に よ - ば、 その よ う な問題は発生 しない。
以上、 光 · 電気配線基板の製造に関する 二つの方法を述べ た。 こ の二つの う ち、 レヽずれの方法に よ っ て も、 これ力ゝ ら先 に述べる 第 2 の実施形態、 第 3 の実施形態、 第 4 の実施形態 に係る光配線基板及び実装基板を製造する こ と ができ る。
なお、 説明の簡略化の観点か ら、 第 2 の実施形態、 第 3 の 実施形態、 第 4 の実施形態においては、 上記第 2 の製造方法 によ る例のみ示 してある。
(第 2 の実施形態)
次に、 第 2 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 0 につい て説明する。
こ の第 2 の実施形態に係る光 · 電気配線基板の重要な点は 端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a の周囲に、 光部品の端 子 2 2 1 の接続位置を誘導する ガイ ドを新たに設けた こ と で ある。 こ のガイ ドに よ って、 光部品か ら発射される 、 或いは 光学部品に入射される レーザ光は、 所望の範囲に確実に集光 される。 そ の結果、 発光 レーザー等の光軸 と 幅が数 ミ ク ロ ン の ミ ラー 1 1 5 の光軸 と を精度良 く 一致させ、 且つ強固 に固 定でき 、 必要であれば電気配線基板 1 2 上の電気配線 と 電気 的に導通する こ と が可能である。
図 1 1 は、 第 2 の実施形態に係る光 ■ 電気配線基板 6 0 を 光部品実装か ら見た上面図を示 している。
図 1 2 Aは、 図 1 1 における C 一 C方向 に沿っ た断面図で ある。
図 1 1 及び図 1 2 A に示すよ う に、 光 · 電気配線基板 6 0 は、 第 1 の実施形態で述べた光配線層 1 0 の光配線層 1 1 上 に、 新たにガイ ド部 4 8 を設けた構成 と なっ てレヽる。 こ のガ イ ド部 4 8 は、 光配線層 1 1 の光部品等を実装する面に、 凹 部 5 1 、 5 3 等を形成する こ と に よ っ て形成 されて レ、る。 な お、 当該凹部は各導電性突起部に対応 して形成さ れる。 従つ て、 図示 していないが、 光 · 電気配線基板 6 0 は、 凹部 5 1 5 3 以外の凹部を有 している。
当該凹部は、 光部品の端子が無理な く 収容でき 、 望ま し く はハ ンダ付けでき る よ う に形成 さ れる。 さ ら に、 凹部 と 光部 品の端子の形状を相似にする と 、 端子の移動でき る範囲は限 W 00/7
24 定される 力ゝ ら、 よ り 目 的を達成する こ と ができ る。 なお、 本 実施形態に係る導電性突起部も 、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術と メ ツ キ技術にて形成する ので、 その位置は基板 1 2 上に形成 したァ ラ イ メ ン ト マーク (図示せず) に よ っ て決める こ と が でき る。
ま た、 各凹部の側面や各凹部を囲む上部周囲には、 N i Z A u メ ツ キ等の表面処理を施 した構成であって も よい。
図 1 2 B 、 図 1 2 C は、 凹部 5 1 近傍を示 した拡大図であ る。 特に、 図 1 2 C は、 凹部 5 1 の側面や凹部 5 1 の周囲に N i / A u メ ツ キ等の表面処理を施 した例を しめ してい る。 また、 図 1 3 は、 光配線基板 6 0 に レーザ発光素子 2 2 を実 装 した例を示 している。
図 1 3 に示すよ う に、 レーザ発光素子 2 2 の端子 2 2 1 の 先端は、 各凹部に収容 されて各導電性突起部の端面 と 接触 し 半田 固定 さ れる。 従っ て、 当該基板 6 0 と 光部品等 と の間の ァ ライ メ ン ト精度を よ り 向上させる こ と ができ る。
ま た、 特に図 1 2 C に示すよ う に、 凹部の側面、 近傍等を N i / A u メ ツ キ等の表面処理する こ と で、 電気的接触を と る ための面積を よ り 広 く 確保する こ と ができ 、 装置の信頼性 を向上させる こ と ができ る。
ぐ光 · 電気配線基板の製造方法 >
次に、 第 2 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 0 の製造 方法について、 ( 1 ) 光配線層の製造方法 ( 2 ) 電気配線基 板の製造方法 ( 3 ) 光 · 電気配線基板の製造方法 ( 4 ) 実装 基板の製造方法の順に図面に従って詳 し く 説明する。 ( 1 ) 光配線層の製造方法
図 1 4 A〜図 1 4 E は、 光 · 電気配線基板 6 0 の製造方法 の各工程を示 した図であ り 、 実行順に並べられている。
図 1 4 Aに示すよ う に、 シ リ コ ン ウエノ、一 4 0 上に、 ク ラ ッ ド層 1 1 3 a (光を導波する 光配線層の支持媒体であ り 、 フ ッ素化ポ リ イ ミ ド系樹脂の前駆体であ る フ ッ素化ポ リ ア ミ ッ ク 酸ま たはフ ッ素化エポキシ系樹脂等が使用 さ れる) を厚 さ 2 0〜 1 0 0 ミ ク ロ ン程度塗布する。 ポ リ ア ミ ッ ク 酸溶液 の場合であればイ ミ ド化するた め に 3 5 0 度で 1 〜 2 時間焼 成する。 エポキシ系樹脂であれば U V硬化 も し く は 1 0 0〜 2 0 0度でポ リ マー化する。
次いで、 図 1 4 B に示すよ う に、 光導波路 と な る コ ア層 1 1 1 a を、 例えばフ ッ素系ポ リ ア ミ ッ ク 酸溶液あ る いはポ リ メ チル メ タ ク リ レー ト 樹脂溶液な ど導波すべき波長に好適な 屈折率を有する樹脂を選択 して適切な方法で均一に 8 ミ ク 口 ン塗布する。
次に、 図 1 4 C に示すよ う に、 コ ア層 1 1 1 a に感光性が あれば定法のフ ォ ト リ ソ法でパタ ニング して コ ア 1 1 1 を形 成 し、 その後材料に応 じた硬化反応を行 う 。 感光性がなけれ ば硬化 させた後に所定パ タ ン の金属マ ス ク を形成 して R I E ドラ イ エ ッ チングに よ り 導波路パタ ンを形成する。 さ ら に、 先に形成 したク ラ ッ ド層 と 同 じ材料を同様に厚さ 2 0〜 1 0 0 ミ ク ロ ン程度塗布する 。
次いで、 図 1 4 D に示すよ う に、 光配線層の所望の位置に 貫通孔 4 1 を形成する。 すなわち、 所定のパタ ー ン を有する マス ク を介 し、 エキシマ レ一ザを照射 して孔を形成する。
次に、 図 1 4 E に示すよ う に、 シ リ コ ン ウ エノ、 4 0 力 ら剥 離する と 貫通孔 4 1 を含むフ ィ ルム状の光配線層 1 1 を形成 する こ と が出来る。 こ の方法では完全な貫通孔が形成でき 力 ス は全く 残らなかった。
( 2 ) 電気配線基板の製造方法
続いて、 電気配線基板 1 2 の製造方法について、 図 1 5 A 〜図 1 5 E を参照 しなが ら述べる。
まず。 図 1 5 Aに示すよ う に、 ガラ スエポキシ基板等適切 な絶縁基板 1 2 上に メ ツ キ法あ る いはス ノ、。 ッ タ あ る いは蒸着 法等に よ り 2 0 ミ ク ロ ン程度の銅薄膜を形成する。 その後、 定法のフ ォ ト リ ソ法に よ り 所望の金属配線 4 3 (すなわち、 電気配線 1 2 0 , 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 ) を形成する。 導 電性突起部を形成する ため、 金属薄膜 4 4 を スパ ッ タ に て形 成する。
続いて、 図 1 5 B に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 上に レ ジス ト 4 5 を塗布 し、 現像 して開 口部 4 6 を形成する。
続いて、 図 1 5 C に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 を陰極 と し て銅メ ツ キ を行い開 口 部 4 6 内部を出来る だけ銅で埋設 させ る。
図 1 5 D に示すよ う に、 レジス ト 4 5 を剥離する。
続いて、 図 1 5 E に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 をエ ツ チン グ除去する と 導電性突起部 1 4 , 1 5 、 1 6 、 1 7 が金属配 線上に形成でき る (但 し、 導電性突起部 1 4 , 1 6 について は図示せず。 ) 。 その結果、 電気配線基板 1 2 を得る こ と が でき る。
なお、 導電性突起部の形状は円柱型、 4 角柱型等光部品の 端子に見合った形状のマス ク を用いのが望ま しい。 ま た、 導 電性突起部高 さ は レジス ト の膜厚ある いはメ ツ キにかけ る時 間に よ つ て制御する こ と ができ る。 本発明者 らの実験に よれ ば、 導電性突起部の径は 5 0 〜 5 0 0 ミ ク ロ ン、 高 さ も 2 0 〜 2 0 0 ミ ク ロ ン程度が望ま しい。
( 3 ) 光 · 電気配線基板の製造方法
次に、 導電性突起部を使用 して、 光配線層 1 1 を電気配線 基板 1 2 へ積層する方法について、 図 1 6 A〜図 1 6 E を参 照 して説明する。
まず、 図 1 6 Aにおいて、 光配線層 1 1 を電気基板 1 2 に ァ ラ イ メ ン ト を と つて積層する ためのガイ ドを して、 複数の 導電性突起部を使 う 。
即ち、 光配線層 1 1 の貫通孔 4 6 を導電性の金属等か ら な る柱が フ ィ ルム の中程ま で貫通する よ う に して積層する。 光 配線層 1 1 の電気基板 と 接触する側に、 接着剤 1 4 を塗布 し て光配線層 1 1 と 電気基板 1 2 と を完全に接着固定する のが 望ま しい形態である。 こ の と き 、 図 1 6 Aに示すよ う に、 光 配線層 1 1 の フ ィ ルム厚 と 金属ガイ ドの高 さ は フ イ ノレム表面 か ら の凹みが、 光部品の端子を収容する のに必要な深さ 、 望 ま し く は 2 0 — 2 0 0 ミ ク ロ ンにな る よ う に一方 も し く は双 方を調整する。
次に、 図 1 6 B に示すよ う に、 光配線層 1 1 の表面に金属 薄膜 3 0 をス ノヽ。 ッ タ にて形成する。 次に、 図 1 6 C に示すよ う に、 フ ォ ト レ ジス ト 3 1 を塗布 する。 そ して、 露光 · 現像処理を行い、 ミ ラ ー形成のための フ ォ ト レジス ト開 口部 3 5 を形成する。
次に、 エ ッチングに よ り 金属薄膜 3 0 に開 口部 3 6 を形成 し、 ミ ラ ー形成のためのメ タノレマス ク を形成する。 さ ら に、 基板を 4 5 ° に傾斜 させ、 図 1 6 D に示すよ う に、 R I E ド ライ エ ッチングによ り ミ ラー 1 1 5 を形成する。
そ して、 メ タ ノレマ ス ク を溶解除去する こ と に よ り 、 図 1 6 E に示すよ う な光 · 電気配線基板 6 0 を得る こ と ができ る。
なお、 導電性突起部の別の製法 と して、 光 · 電気配線基板 の適切な位置に光配線層側か ら レーザ光照射や ド ラ イ エ ッチ ングを行 う 方法があ る。 基板 1 2 に敷設 さ れた電気配線がス ト ツ ノ、。一 と な り 、 こ の深さ まで開 口 部 3 6 ( ビアホール) を 形成でき る。 そ して、 引 き続き メ ツ キを行い開 口 部 3 6 を金 属で埋め る。 メ ツ キの時間を調整 して光配線層 1 1 の中程で メ ツ キを 中断すれば、 所望の深 さ の凹部 5 1 を形成でき る。 こ の方法に よれば、 凹部は電気配線層まで深 く する こ と も可 能である。
( 4 ) 実装基板の製造方法
次に、 第 2 の実施形態に係る 光 · 電気配線基板 6 0 に光部 品を実装 した実装基板の製造方法について説明する (図 1 3 参照) 。
まず、 光 ' 電気配線基板の各凹部 5 0 等に、 ハ ンダボール を装着 して光部品 ( レーザ、 フ ォ ト ダイ オー ド) の端子 2 2 1 を軽 く 差 し込む。 なお、 凹部 5 0 , 5 1 等の形状は、 例え ば半径 8 0 ミ ク ロ ンの 円形で深さ は 5 0 ミ ク ロ ン と する。 ま た、 例えば光部品の導通用端子 2 4 の数は 4 ケ で形状は半径 7 5 ミ ク ロ ンの円形である とする。 電気部品 ( C P U 、 メ モ リ ) 用の端子は薄く ハンダ付け された金属パッ ド上に置 く 。 発明者 ら の実験に よれば、 温度 2 5 0 度の リ フ ロ ー炉に 1 0 秒静置 した後冷却する と 、 光部品の端子は凹部の形状 と溶 融ハ ンダの表面張力で決ま る平衡位置に固定 され、 レーザー の光軸は ミ ラ ーの中心位置 ± 3 ミ ク ロ ンに収ま っ ている こ と が確認 さ れた。 電気部品 と 同 じ よ う に凹部がない平坦な金属 パ ッ ド上に光部品の端子を置いた場合は、 光部品の固定位置 が安定せず ± 5 0 ミ ク ロ ン程度の誤差が生 じた。 凹部は電気 的導通 と 光配線用の ミ ラー と の精度の高いァ ラ イ メ ン ト を確 保する だけでな く 、 導電性突起部頂部が直接パ ッ ド と してハ ン ダに よ り 光部品 と 導通 している ので接続の信頼性も 向上 し た。
従って、 以上述べた構成に よれば、 次の よ う な効果を得る こ と ができ る。
第 1 に、 電気配線を有する基板 1 2 の上に光配線層 1 1 を 設けるので、 高密度実装又は小型化が可能である。
第 2 に、 光配線層 1 1 の ミ ラ 一 1 1 5 を含むコ ア 1 1 1 の パタ ーン と 光部品搭載用の各導電性突起部 と の相対的な位置 関係を、 意図 さ れた も のに極めて高精度で一致させる こ と が でき る。
第 3 に、 光部品の端子 2 2 1 が光配線層 1 1 上の各凹部に 精度良 く 収容 さ れる ので、 光部品 の光軸 と 光配線層 1 1 の光 軸 と を光学的に一致させる こ と が容易であ り 、 それゆえ光部 品 と電気部品 と を同時に 自動的実装でき る。
第 4 に、 光部品或いは電気部品 をハ ンダ付けする際、 めつ き で形成 さ れた導電性突起部に直に接続すれば、 ハ ンダ溶融 熱の影響を受けず、 接続の信頼性が向上する。 同時に、 基板 1 2 上の電気配線と 光部品或いは電気部品 と の電気的接続の 信頼性も向上する。
(第 3 の実施形態)
次に、 第 3 の実施形態に係る 光 電気配線基板 6 2 につい て説明する。
こ の第 3 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 2 の重要な 点は、 各導電性突起部の端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a を光配線層 1 1 の実装面よ り も所定の高 さ ま で突き 出す構 成 と し、 当該突出 した各導電性突起部の先端 と 光部品等の端 子 (当該端子の形状は凹状、 さ ら には端面 1 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a と 相似であ る こ と が好ま しい) と を接続させ る着想にある。
こ の よ う に光部品等 と 導電性突起部 と を接続する こ と で、 光部品か ら発射 される 、 或いは光学部品に入射さ れる レーザ 光は、 所望の範囲に確実に集光 される。 その結果、 第 2 の実 施形態 と 同様、 発光 レーザ一等の光軸 と 幅が数 ミ ク ロ ン の ミ ラ一 1 1 5 の光軸 と を精度良 く 一致させ、 且つ強固に固定で き 、 必要であれば電気配線基板 1 2 上の電気配線 と 電気的に 導通する こ と が可能である。
図 1 7 は、 第 3 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 2 の 一例を光部品実装から見た上面図を示 している。
図 1 8 は、 図 1 7 におけ る C _ C方向に沿った断面図であ る。
図 1 7 及び図 1 8 に示すよ う に、 光 · 電気配線基板 6 2 は 第 1 の実施形態で述べた光 · 電気配線基板 1 0 の構成に加え て、 各導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 を光配線層 1 1 の実装表面か ら所定の高 さ まで突出 させた構成 と なっ ている , 各導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 は銅等の金属が好 ま しい。 基板 1 2 に形成された電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 と 導通する こ と が出来る 力 ら であ る。 し力 しな が ら、 必ず し も導通 している必要はな く 、 単なる支柱でも構 わない。
図 1 8 に示すよ う に、 光配線層 1 1 か ら突き 出た各導電性 突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 は、 光部品 2 2 に設け られた 端子 2 2 3 の凹部に無理な く 収容 されて、 導電性突起部の先 端 と 光部品凹部周辺 と ハ ンダ付け さ れる。 特に、 光部品の端 子 2 2 3 の凹部の形状 と 導電性突起部の先端の形状 と を相似 に して く い込むよ う にする と 、 光部品の移動でき る範囲を よ り 限定する こ と ができ る。 従って、 発光 レーザー 2 2 の光軸 と 幅が数 ミ ク ロ ンの ミ ラー 1 1 5 の光軸 と を精度良 く 一致さ せ、 且つ強固に固定する こ と ができ る。 ま た、 必要に応 じて 光配線基板 1 1 上に新たに設け られた電気配線と 各導電性突 起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 を電気的に導通 させる こ と も可 能である。
光部品 2 2 の端子 2 2 3 の凹部は、 バ ンプ形成等定法に よ り メ ツ キにて精度良 く 形成でき る。 ま た、 各導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 の先端には、 N i Z A u メ ツ キ等の表 面処理を施すこ と で、 電気的接続の信頼性を よ り 向上させる こ と ができ る。
と こ ろで、 図 1 9 には示 していないが、 必要に応 じて I C 等の電気部品 も光部品 と 同様に光配線層 1 1 上 (或いは、 導 電性突起部上) に設け られ、 電気配線 1 2 0 、 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 と 導電性突起部を介 して電気接続 される。 導電性 突起部はフ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術と メ ツ キ技術にて形成 され る ので、 その位置は基板 1 2 上に形成 したァ ラ イ メ ン ト マー ク (図示せず) によ って決める こ と ができ る。
ぐ光 · 電気配線基板の製造方法〉
次に、 第 3 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 2 の製造 方法について、 ( 1 ) 光配線層の製造方法 ( 2 ) 電気配線基 板の製造方法 ( 3 ) 光 · 電気配線基板の製造方法、 ( 4 ) 実 装基板の製造方法の順に図面に従って詳 し く 説明する。
( 1 ) 光配線層の製造方法
図 2 O A〜図 2 0 E は、 光 · 電気配線基板 6 2 の製造方法 の各工程を示 した図であ り 、 実行順に並べ られている。
図 2 O A に示すよ う に、 シ リ コ ンウ エ ノヽ一 4 0 上に ク ラ ッ ド層 1 1 3 a (光を導波する光配線層の支持媒体であ り 、 フ ッ素化ポ リ イ ミ ド系樹脂の前駆体であ る フ ッ素化ポ リ ア ミ ッ ク 酸またはフ ッ 素化エポキシ系樹脂等が使用 される) を厚 さ 2 0 〜 1 0 0 ミ ク ロ ン程度塗布する。 使用 した素材がポ リ ア ミ ッ ク 酸溶液の場合であれば、 ィ ミ ド化する ために 3 5 0 度 で 1 〜 2 時間焼成する。 ま た、 エポキシ系樹脂であれば U V 硬化も し く は 1 0 0 〜 2 0 0度でポ リ マー化する。
次いで、 図 2 0 B に示すよ う に、 光導波路 と な る コ ア層 1 1 1 a を、 例えばフ ッ素系ポ リ ア ミ ッ ク 酸溶液あ る いはポ リ メ チルメ タ ク リ レー ト樹脂溶液な ど導波すべき波長に好適な 屈折率を有する樹脂を選択 して適切な方法で均一に 8 ミ ク 口 ン塗布する。
次に、 図 2 0 C に示すよ う に、 コ ア層 1 1 1 a に感光性が あれば、 定法の フ ォ ト リ ソ法でパタ ニ ング して光導波路 と し て の コ ア 1 1 1 を形成 し、 その後材料に応 じた硬化反応を行 う 。 一方、 コ ア層 1 1 1 a に感光性がなければ、 硬化 させた 後に所定パ タ ンの金属マス ク を形成 して R I E ドラ イ エ ッチ ングによ り 導波路パタ ンを形成する。
さ ら に、 図 2 0 D に示すよ う に、 先に形成 した ク ラ ッ ド層 1 1 3 a と 同 じ材料の ク ラ ッ ド層 1 1 3 b を、 ク ラ ッ ド層 1 1 3 a の一部及びコ ア 1 1 1 に 2 0 〜 : L 0 0 ミ ク ロ ン程度塗 布する。 そ して、 所望の位置に貫通孔 4 1 を形成する。 当該 貫通孔 4 1 の形成は、 所定のパタ ー ンを有するマ ス ク を介 し エキシマ レーザを照射 して形成される。
次に、 図 2 0 E に示すよ う に、 シ リ コ ン ウ エノヽ 4 0 力 ら フ イ ルム状の光配線層 1 1 を剥離する こ と で、 貫通孔 4 1 を含 む光配線層 1 1 を得る こ と ができ る。
なお、 こ の方法では、 カ ス は全 く 残 さずに完全な貫通孔 4
1 を形成する こ と ができ る。 ( 2 ) 電気配線基板の製造方法
次いで、 電気配線基板 1 2 の製造方法について、 図 2 1 A 〜図 2 1 E を参照 しな力 S ら述ベる。
まず、 図 2 1 Aに示すよ う に、 ガラ スエポキシ基板等適切 な絶縁基板上 1 2 にメ ツ キ法あ る いはス ノ ッ タ あ る いは蒸着 法等に よ り 2 0 ミ ク ロ ン程度の銅薄膜を形成する。 ま た、 定 法のフ ォ ト リ ソ法に よ り 所望の金属配線 4 3 (すなわち、 電 気配線 1 2 0 , 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 ) を形成する。 さ ら に、 複数の支柱 (導電性突起部) を形成する ため、 金属薄膜 4 4 をス ノ ッ タ にて形成する。
続いて、 図 2 1 B に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 の上力ゝ ら ド ラ イ フ イ ノレム レ ジス ト 4 5 を張 り 付け、 定法の露光現像を行 い開 口部 4 6 を形成する。
続いて、 図 2 1 C に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 を陰極 と し て銅メ ツ キを行い開 口 部 4 6 内部を出来る だ: ί 銅で埋設 させ る。
図 2 1 D に示すよ う に、 レジス ト 4 5 を剥離する。
続いて、 図 2 1 Ε に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 をエ ツチ ン グ除去する と 導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 (但 し、 導電性突起部 1 4 、 1 6 については図示せず) が金属配線 4 3 上に形成でき る。
なお、 第 2 の実施形態 と 同様に、 導電性突起部の形状は円 柱型、 4 角柱型等光部品の端子に見合った形状のマ ス ク を用 いる のが望ま しい。 ま た、 導電性突起部高 さ は レ ジス ト の膜 厚あ る いはメ ツ キにかける 時間 に よ っ て制御する こ と ができ る。 本発明者 ら の実験に よれば、 導電性突起部の径は 5 0 〜 5 0 0 ミ ク ロ ン 、 高 さ も 2 0 〜 2 0 0 ミ ク ロ ン程度が望ま し レ、。
( 3 ) 光 , 電気配線基板の製造方法
次に、 導電性突起部を使用 して、 光配線層 1 1 を電気配線 基板 1 2 へ積層する方法について、 図 2 2 A〜図 2 2 E を参 照 して説明する。
まず、 図 2 2 Aにおいて、 光配線層 1 1 を電気配線基板 1 2 に積層する際のァ ラ イ メ ン ト に各導電性突起部を使用する( 即ち、 光配線層 1 1 に形成 した貫通孔 4 1 を導電性の金属等 か ら な る導電性突起部が貫通 して突き 出る よ う に、 光配線層 1 1 を電気配線基板 1 2 に積層する。 こ の と き 、 接着層 4 7 を塗布 して、 光配線層 1 1 と 電気基板 1 2 と を完全に接着固 定する のが望ま しい。
次に、 図 2 2 B に示すよ う に、 積層 した光配線層 1 1 の表 面に金属薄膜 3 0 をスパッ タ にて形成する。
次に、 図 2 2 C に示すよ う に、 フ ォ ト レ ジス ト 3 1 を塗布 する。 そ して、 露光 · 現像処理を行い、 ミ ラ ー形成のための フ ォ ト レジス ト開 口部 3 5 を形成する。
次に、 図 2 2 D に示すよ う に、 エ ッ チングに よ り 金属薄膜 3 0 に開 口 部 3 6 を形成 し、 ミ ラ ー形成のための メ タノレ マ ス ク を形成する。 さ ら に、 基板を 4 5 ° に傾斜させ、 R I E ド ラ イ エ ッチングによ り ミ ラー 1 1 5 を形成する。
そ して、 図 2 2 E に示すよ う に、 メ タノレマス ク を溶解除去 する こ と に よ り 本発明の光 · 電気配線基板 6 2 を完成させる こ と ができ る。
なお、 光 ' 電気配線基板の別の製法 と して、 ビル ドア ッ プ 工法があ る (第 1 の実施形態参照) 。 こ れは、 第 3 の実施形 態で説明 した よ う に、 光配線層 1 1 と 電気配線基板 1 2 と を 別 々 に製造 してか ら積層する方法ではない。 すなわち、 電気 配線基板 1 2 上に直接に光基板素材をパタ ニング しなが ら積 層する光 · 電気配線基板の製造方法である。 既に述べた よ う に、 こ の ビル ドア ッ プ工法に よ って光 · 電気配線基板 6 2 を 製造する場合、 導電性突起部は、 光配線基板を ビル ドア ツ プ する前に電気基板に形成 して も よ い し、 光基板を積層 してか ら ビアホール形成、 メ ツ キ埋め込みを して形成 して も よい。
( 4 ) 実装基板の製造方法
次に、 光 · 電気配線基板 6 2 に光部品を実装 した実装基板 の製造方法について説明する (図 1 9 参照) 。
まず、 各端子 2 2 3 の凹部 2 4 に薄 く ノ、ンダ付けを した後 . 各導電性突起部の先端を当該端子 2 2 3 の凹部に軽 く 差 し込 む。 こ の と き 、 例えば端子 2 2 3 の凹部の形状は半径 8 0 ミ ク ロ ンの円形で深さ は 5 0 ミ ク ロ ン と する。 また、 例えば導 電性突起部の総数は 4 本で、 そ の断面形状は半径 7 5 ミ ク 口 ン の 円 形であ る と す る 。 さ ら に、 電気部品 ( C P U 、 メ モ リ ) 用の端子を設けた場合には、 電気部品は薄く ハ ンダ付け された金属パ ッ ド上に置 く 。
発明者 ら の実験に よれば、 温度 2 5 0度の リ フ ロ ー炉に 1 0 秒静置 した後冷却する と 、 光部品の端子は凹部の形状 と 溶 融ハ ンダの表面張力で決ま る 平衡位置に固定され、 レーザー の光軸は ミ ラ ーの中心位置 ± 3 ミ ク 口 ンに収ま っ てレ、る こ と が確認さ れた。 一方、 電気部品 と 同 じ よ う に凹部がない平坦 な金属端子 と 導通用支柱間でハンダを介 して接着 した場合は 光部品の固定位置が安定せず ± 5 0 ミ ク ロ ン程度の誤差が確 認された。 こ の結果よ り 、 凹部は電気的導通 と 光配線用の ミ ラー と の精度の高いァ ラ イ メ ン ト を確保する だけでな く 、 支 柱頂部が直接パ ッ ド と してハンダに よ り 光部品側の金属端子 と 導通 している と 言え る。 従っ て、 電気接続の信頼性を向上 させる こ と ができ る。
以上述べた構成に よれば、 次の よ う な効果を得る こ と がで き る。
第 1 に、 電気配線を有する電気配線基板 1 2 の上に光配線 層 1 1 を設けるので、 高密度実装又は小型化が可能である。
第 2 に、 光配線層 1 1 の ミ ラ ー 1 1 5 を含むコ ア 1 1 1 の パタ ーン と 光部品搭載用の各導電性突起部 と の相対的な位置 関係を、 意図 さ れた も のに極めて高精度で一致させる こ と が でき る。
第 3 に、 導電性突起部の先端が光部品の端子の凹部に精度 良 く 収容 さ れる ので、 光部品の光軸 と 光配線の光軸 と を光学 的に一致させる こ と が容易であ り 、 それゆえ光部品 と 電気部 品 と を同時に 自動的実装でき る。
第 4 に、 光部品、 あ るいは、 電気部品をハンダ付けする際 めっ き で形成された導電性支柱に直に接続すれば、 ハンダ溶 融熱の影響を受けず、 接続の信頼性が向上する。 同時に、 基 板上の電気配線と の接続の信頼性も向上する。 (第 4 の実施形態)
次に、 第 4 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 4 につい て説明する。 第 4 の実施形態に係る光 · 電気配線基板の重要 な点は、 端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1 7 a の周囲に、 光 部品の端子 2 2 1 の接続位置を誘導する微少な凸状のガイ ド を新たに設けたこ と である。
図 2 3 は、 第 4 の実施形態に係 る光 · 電気配線基板 6 2 を 光部品実装から 見た上面図 を示 している。 図 2 4 は、 図 2 3 におけ る C 一 C方向に沿っ た断面図である。 図 2 5 は、 レー ザ発光素子 2 2 を実装 した光 · 電気配線基板 6 2 を示 した図 である。
図 2 3 、 図 2 4 には、 各端面 1 4 a 、 1 5 a 、 1 6 a 、 1
7 a の周囲に設け られた隔壁 5 3 を凸状ガイ ド 5 3 の一例 と して示 してある。
ま た、 図 2 5 に示すよ う に、 光部品の端子 2 2 1 は、 隔壁 5 3 で仕切 られた凹部に無理な く 収容 され、 望ま し く は こ の 凹部内で導電性突起部の端面 と ハ ンダ付け さ れる。 こ の と き 隔壁 5 3 が形成する 凹部の形状を、 隔壁は光部品の端子の形 状と 相似 と すれば、 端子 2 2 1 の移動でき る範囲は限定 され る。 従っ て、 光部品の変動範囲が規制 される ので、 発光 レ一 ザ 2 2 の光軸 と 幅が数 ミ ク ロ ンの ミ ラ 一 1 1 5 の光軸 と を精 度良 く 一致させ、 且つ強固 に固定でき 、 必要であれば電気配 線と 電気的に導通する こ と が可能である。
ま た、 こ の凸状の隔壁 5 3 は、 光部品の端子 2 2 1 が き つ ち り と 収容でき る のが望ま しい形態である が、 必ず し も土手 状につなが つている必要はな く 、 切れ切れであっ て も構わな い。 また、 隔壁 5 3 は、 光部品 と 各導電性突起部 1 4 、 1 5 1 6 、 1 7 と の電気的接続性を高める ため、 導電性を有する 構成 と する。 しか し、 光部品の位置を固定する こ と のみを 目 的に隔壁 5 3 を使用する場合には、 必ず し も導電性突起部 と 導通 してい る必要はない。 また、 こ の場合には、 設置する位 置について も必ず し も各導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 と 対応させる必要はない。
さ ら に、 例えば光部品以外の電気部品 も導電性突起部を介 して基板 1 2 上の電気配線 と 電気接続さ れる。 こ の電気部品 の実装の場合は光軸の精密なァ ラ イ メ ン ト は必要がないので 凸状の隔壁 5 3 は必ず し も必要ではない。 しか し、 電気接続 の面積確保等の観点よ り 、 必要に応 じて形成 して も構わない 凸状の隔壁 5 3 及び導電性突起部は フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 技術 と メ ツ キ技術にて形成する ので、 その位置は基板 1 2 上に形 成 したァ ラ イ メ ン ト マーク (図示せず) に よ って必要に応 じ て決める こ と ができ る。
ぐ光 ■ 電気配線基板の製造方法〉
次に、 第 4 の実施形態に係る光 · 電気配線基板 6 4 の製造 方法について、 ( 1 ) 光配線層の製造方法 ( 2 ) 電気配線基 板の製造方法 ( 3 ) 光 , 電気配線基板の製造方法の順に図面 に従って詳 し く 説明する。
( 1 ) 光配線層の製造方法
図 2 6 A〜図 2 6 E は、 光 · 電気配線基板 6 4 の製造方法 の各工程を示 した図であ り 、 実行順に並べ られている。 図 2 6 Aに示すよ う に、 シ リ コ ン ウ エノ、一 4 0 上に ク ラ ッ ド層 1 1 3 a (光を導波する光配線層の支持媒体であ り 、 フ ッ素化ポ リ イ ミ ド系樹脂の前駆体であ る フ ッ素化ポ リ ア ミ ッ ク 酸またはフ ッ素化エポキシ系樹脂等が使用 される) を厚 さ 2 0〜 1 0 0 ミ ク ロ ン程度塗布する。 こ の と き 、 ク ラ ッ ド層 1 1 3 a ポ リ ア ミ ッ ク 酸溶液の場合であればイ ミ ド化する た めに 3 5 0 度で 1 〜 2 時間焼成する。 一方、 エポキシ系樹脂 であれば U V硬化も し く は 1 0 0〜 2 0 0 度でポ リ マー化す る。
次に、 図 2 6 B に示すよ う に、 光導波路 と な る コ ア層 1 1 1 a を、 例えばフ ッ素系ポ リ ア ミ ッ ク 酸溶液あ る いはポ リ メ チルメ タ ク リ レー ト樹脂溶液な ど導波すべき波長に好適な屈 折率を有する樹脂を選択 して適切な方法で均一に 8 ミ ク 口 ン 塗布する。
次に、 図 2 6 C に示すよ う に、 コ ア層 1 1 a に感光性が あれば定法のフ ォ ト リ ソ法でパタ ニ ング して光導波路 (すな わち、 コ ア 1 1 1 ) を形成 し、 その後材料に応 じた硬化反応 を行 う 。 一方、 感光性がな ければ硬化 させた後に所定パ タ ン の金属マス ク を形成 して R I E ドラ イ エ ッチングに よ り 導波 路パタ ン を形成する。 さ ら に、 先に形成 した ク ラ ッ ド層 と 同 じ材料を同様に厚さ 2 0〜 1 0 0 ミ ク ロ ン程度塗布する。 次に、 図 2 6 D に示すよ う に、 所望の位置に貫通孔 4 1 を 形成する。 すなわち、 所定のパタ ー ン を有する マ ス ク を介 し エキシマ レーザを照射 して孔を形成する。
次 に、 図 2 6 E に示す よ う に、 シ リ コ ン ウ エノヽ 4 0 力 ら 剥 離する こ と で貫通孔 4 1 を含むフ ィ ルム状の光配線層 1 1 を 形成する こ と ができ る。
なお、 こ の方法では、 カ ス は全く 残 さずに完全な貫通孔 4 1 を形成する こ と ができ る。
( 2 ) 電気配線基板の製造方法
次に、 電気配線基板 1 2 の製造方法について、 図 2 7 A 〜 図 2 7 E を参照 しな力 ら述ベる。
まず、 図 2 7 Aに示すよ う に、 ガラ スエポキシ基板等適切 な絶縁基板 1 2 上に メ ツ キ法あ る いはス ノ、。 ッ タ あ る いは蒸着 法等に よ り 2 0 ミ ク ロ ン程度の銅薄膜を形成する。 ま た、 定 法のフ ォ ト リ ソ法に よ り 所望の金属配線 4 3 (すなわち、 電 気配線 1 2 0 , 1 2 1 、 1 2 2 、 1 2 3 ) を形成する。 さ ら に、 複数の導電性突起部を形成する ため、 金属薄膜 4 4 を ス ノヽ。 ッ タ にて形成する。
続いて、 図 2 7 B に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 の上か ら レ ジス ト 4 3 を塗布 し現像 して開 口部 4 4 を形成する
次に、 金属薄膜 4 4 を陰極 と して銅メ ツ キを行い開 口 部 4 6 を出来るだけ銅で埋設させる。
図 2 7 C に示すよ う に、 レジス ト 4 5 を剥離させる。
次に、 図 2 7 E に示すよ う に、 金属薄膜 4 4 をエ ッチング 除去する と 導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 が金属配線 4 3 上に形成でき る。
なお、 既に説明 した よ う に、 導電性突起部の形状は円柱型 4 角柱型等光部品の端子に見合っ た形状のマ ス ク を用いのが 望ま しい。 ま た、 導電性突起部高 さ は レ ジス ト の膜厚あ る い はメ ツ キに力 け る時間に よ っ て制御する こ と ができ る。 本発 明者 らの実験に よれば、 導電性突起部の径は 5 0 〜 5 0 0 ミ ク ロ ン 、 高さ も 2 0 〜 2 0 0 ミ ク ロ ン程度が望ま しレヽ。
( 3 ) 光 , 電気配線基板の製造方法
次に、 導電性突起部を使用 して、 光配線層 1 1 を電気配線 基板 1 2 へ積層する方法について、 図 2 7 F 〜図 2 7 J を参 照 して説明する。
まず、 図 2 7 F に示すよ う に、 複数の導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 を光配線層 1 1 と 電気配線基板 1 2 をァ ラ ィ メ ン ト を と つ て積層する ためのガイ ドを して使 う 。 即ち、 フ ィ ルム の各貫通孔 4 1 を複数の導電性突起部 1 4 、 1 5 、 1 6 、 1 7 が光配線層 1 1 の反対側表面まで貫通する よ う に して積層する。 こ の と き 、 光配線層 1 1 と 電気基板 1 2 と の 間に接着層 4 7 を塗布 して、 当該光配線層 1 1 と 電気基板 1 2 と を完全に接着固定する のが望ま しい。
次に、 図 2 7 G に示すよ う に、 積層 した光配線層 1 1 の表 面に金属薄膜 3 0 をスパッ タ にて形成する。
次に、 図 2 7 Hに示すよ う に、 フ ォ ト レ ジス ト 3 1 を塗布 する。 その後、 定法の露光 · 現像処理を行い、 ミ ラー形成の た めの フ ォ ト レジス ト 開 口部 3 5 を形成する。
続いて、 図 2 7 I に示すよ う に、 エ ッチングに よ り 金属薄 膜 3 0 に開 口部 3 6 を形成 し、 ミ ラー形成のためのメ タ ノレマ ス ク を形成する。 さ ら に、 基板を 4 5 ° に傾斜 さ せ、 R I E ドライ エ ッチングによ り ミ ラ一 1 1 5 を形成する。
次に、 図 2 7 J に示す凸状の隔壁 5 3 を、 次に述べる 手順 によ り 所望の位置に形成する。 先ず、 厚さ 6 0 ミ ク ロ ンの感 光性 ドラ イ フ ィ ルム を密着 した後、 定法の露光 · 現像処理を 行い、 枠形成のための フ ォ ト レ ジス ト 開 口 部を形成 した。 次 いで金属薄膜 3 0 を陰極と して銅メ ツ キ処理を行い、 レジス ト を剥離する。 枠の高 さ は ドラ イ フ ィ ルム の厚み と メ ツ キ時 間で制御でき る。 最後に薄いメ タ ルマ ス ク を溶解除去する こ と に よ り 凸状の隔壁 5 3 を有する光 · 電気配線基板を完成 さ せる こ と ができ る。
なお、 凸状の隔壁 5 3 は、 メ ツ キ法に よ る金属以外に、 グ リ ー ン シー ト を使 う 無機厚膜、 あ る いは耐熱性の フ ォ ト レジ ス ト 等 も使用可能であ る。 何れも 定法のフ ォ ト リ ソ技術で容 易に形成でき る。 枠の形は光部品の端子の形状に合わせる の が望ま しい。
ま た、 導電性突起部の別の製法 と して、 光 · 電気基板の適 切な位置に光配線層側か ら レーザ光照射や ドラ イ エ ッ チング を行 う 方法があ る。 こ の製法に よれば、 金属配線基板に敷設 された銅配線ま でがス ト ッパー と な り 、 こ の深さ ま で ビァホ —ル (開 口 部 3 6 ) が形成でき る。 こ の ビア ホールに メ ツ キ 処理を行い金属で埋め る こ と で、 導電性突起部を製造する こ と ができ る。
( 4 ) 実装基板の製造方法
次に、 光 · 電気実装基板 6 4 に発光用 レーザを内包する光 部品を実装 した実装基板の製造方法について説明する。
まず、 具体的には隔壁 5 3 に、 ハ ンダボールを装着 して光 部品 ( レーザ、 フ ォ ト ダイ オー ド) の端子 2 2 1 を軽 く 差 し 込む。 隔壁 5 3 の形状は、 例えば幅が 2 0 ミ ク ロ ンで半径 8 0 ミ ク ロ ンの円形で深さ は 5 0 ミ ク ロ ン と する。 また、 例え ば光部品の導通用端子 2 2 1 の数は 4 つであ り 、 その形状は 半径 7 5 ミ ク ロ ンの円形である と する。 なお、 必要に応 じて 設け る電気部品 ( C P U 、 メ モ リ ) 用の端子は薄 く ハ ンダ付 け された金属パッ ド上に置く もの とする。
発明者 ら の実験に よれば、 温度 2 5 0 度の リ フ ロ ー炉に 1 0 秒静置 した後冷却する と 、 光部品の端子は枠の形状 と溶融 ハ ン ダの表面張力で決ま る 平衡位置に固定 さ れ、 レーザーの 光軸は ミ ラ ーの中心位置 ± 3 ミ ク ロ ンに収ま っ ている こ と が 確認された。 一方、 電気部品 と 同 じ よ う に凹部がない平坦な 金属パ ッ ド上に光部品の端子を置いた場合は、 光部品の固定 位置が安定せず ± 5 0 ミ ク ロ ン程度の誤差が確認でき た。 従 つて、 隔壁 5 3 は電気的導通 と 光配線用の ミ ラ ー と の精度の 高いァ ラ イ メ ン ト を確保する も のであ る。 ; z.、 隔壁 5 3 は 導電性突起部 と 光部品 と の電気導通の面積を よ り 広 く する も のでる力ゝ ら 、 電気的接続の信頼性を さ ら に向上させる こ と が でき る。
以上述べた構成に よれば、 次の よ う な効果を得る こ と がで さ る。
第 1 に、 電気配線を有する電気配線基板 1 2 の上に光配線 層 1 1 を設ける ので、 高密度実装又は小型化が可能である。
第 2 に、 光配線層 1 1 の ミ ラ 一 1 1 5 を含むコ ア 1 1 1 の パタ ーン と 光部品搭載用の各導電性突起部 と の相対的な位置 関係を、 意図 さ れた も のに極めて高精度で一致さ せる こ と が でき る。
第 3 に、 光部品の端子が隔壁 5 3 が形成する 凹部に精度良 く 収容 さ れる ので、 光部品の光軸 と 光配線の光軸 と を光学的 に一致させる こ と が容易であ り 、 それゆえ光部品 と 電気部品 と を同時に 自動的実装でき る。
第 4 に、 光部品、 あ る いは、 電気部品をハンダ付けする際 めっ き で形成さ れた導電性支柱に直に接続すれば、 ハンダ溶 融熱の影響を受けず、 接続の信頼性が向上する。 同時に、 基 板上の電気配線と の接続の信頼性 も向上する。
以上、 本発明 を実施形態に基づき説明 したが、 本発明の思 想の範疇において、 当業者であれば、 各種の変更例及び修正 例に想到 し得る ものであ り 、 それ ら変形例及び修正例につい て も本発明の範囲に属する もの と 了解 される。 例えば以下に 示すよ う に、 その要旨 を変更 しない範囲で種々 変形可能であ 各実施形態中では、 光配線に形成さ れる ミ ラーは、 当該光 配線を伝播する 光の入射角 が 4 5 度をなすよ う に形成 さ れて レ、る。 これは、 説明の簡単のためであ り 、 こ の角度に限定さ れる も のではない。 従っ て、 入射角が他の角度 と なる ミ ラ ー を形成 した場合には、 当該角度に応 じた設計 (例えば、 各導 電性突起部の位置等を適切にあわせる) を行 う こ と で、 光の 伝播経路を任意に形成する こ と が可能である。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 電気配線を有する電気配線基板と 、 当該電気配線基板に 積層 され一方の面側に光部品を実装する光配線層 と を具備す る光 · 電気配線基板であって、
前記光配線層は、
光を伝播する コ ア と 、
前記コアを挟むク ラ ッ ド と 、
前記コ ア を伝播する 光を前記光部品に向けて反射する 、 或い は前記光部品か らの光を前記コ ア 中に反射する ミ ラ ー と 、 を 有 し、
前記電気線基板は、
前記光配線層 を積層方向に貫通 しその一方の端面には前記実 装する光部品が設置 さ れる導電体の柱であっ て、 前記実装す る 光部品 と 前記電気配線と の電気的導通を と る導電性設置手 段を有する こ と 、
を特徴と する光 · 電気配線基板。
2 . 前記導電性設置手段の数は、 前記実装する光部品が有す る電気的接続のための端子の数に対応 している こ と を特徴と する請求項 1 記載の光 · 電気配線基板。
3 . 前記導電性設置手段の位置は、 前記実装する 光部品が有 する電気的接続のた めの端子の位置に対応 してい る こ と を特 徴とする請求項 2 記載の光 · 電気配線基板。
4 . 前記実装する光部品が設置 さ れる 前記各導電性設置手段 の一方の端面の周囲に設け られ、 前記端子の設置位置を限定 する こ と で当該光部品の設置位置を限定する ガイ ド手段を さ らに具備する請求項 2 記載の光 · 電気配線基板。
5 . 前記ガイ ド手段は導電体であ り 、 前記前記実装する 光部 品又は前記導電性設置手段 と 電気的に接続さ れる こ と を特徴 とする請求項 4 記載の光 · 電気配線基板。
6 . 前記光配線層には、 前記各導電性設置手段の前記一方の 端面を露出 させる孔部が形成されてお り 、
前記光部品を設置する位置は、 前記端子を前記孔部に収納 する こ と で限定さ れる こ と を特徴 とする請求項 2 記載の光 · 電気配線基板。
7 . 前記ガイ ド手段又は前記孔部の深 さ は、 2 0 乃至 2 0 0 ミ ク ロ ンであ る こ と を特徴 と する請求項 4 又は請求項 6 記載 の光 · 電気配線基板。
8 . 前記各導電性設置手段の前記端面は、 前記光配線を実装 する側の前記光配線層の面か ら所定の位置ま で突出 している こ と を特徴とする請求項 2 記載の光 · 電気配線基板。
9 . 前記導電性設置手段の前記端面の径は、 5 0 乃至 5 0 0 ミ ク ロ ンである こ と を特徴 と する請求項 1 記載の光 · 電気配 線基板。
1 0 . 前記電気線基板は、
前記光配線層を積層方向に貫通 しその一方の端面には前記実 装する電気部品が設置 される導電体の柱であ っ て、 前記実装 する電気部品 と 前記電気配線と の電気的導通を と る導電性設 置手段を さ ら に有する こ と 、
を特徴と する請求項 1 記載の光 · 電気配線基板。
1 1 . 光部品が実装 さ れる 前記一方の面上に、 光部品或いは 電気部品 と 接続される電気配線を有する こ と を特徴と する請 求項 1 0 記載の光 · 電気配線基板。
1 2 . 請求項 1 記載の前記光 · 電気配線基板 と 、
前記光 · 電気配線基板に実装された光部品 と 、
を具備する実装基板。
1 3 . 前記光部品は、 前記導電性設置手段の前記端面の形状 に対応 した形状を有 し、 当該前記導電性設置手段 と接続さ れ る端子を有する こ と を特徴 と する請求項 1 2 記載の実装基板
1 4 . 請求項 1 記載の前記光 · 電気配線基板と 、
前記光 · 電気配線基板に実装された電気部品 と 、
を具備する実装基板。
1 5 . 前記電気部品は、 前記導電性設置手段の前記端面の形 状に対応 した形状を有 し、 当該前記導電性設置手段 と 接続さ れる端子を有する こ と を特徴 と する請求項 1 4 記載の実装基 板。
1 6 . 電気配線基板の所定の電気配線上に導電性設置手段を 形成する工程と 、
前記電気配線基板上に第 1 ク ラ ッ ド層を塗布する工程と 、 前記第 1 ク ラ ッ ド層上に コ ア層を塗布する工程と 、
前記第 1 ク ラ ッ ド層の一部及び前記コ ア層 に第 2 の ク ラ ッ ド層を塗布 し、 光配線層を得る工程と 、
前記光配線層か ら前記導電性設置手段の一方の端面を露出 させる工程と 、
前記光配線層上に電気配線を形成する工程と 、
前記光配線層の所定の位置に、 穿孔に よ る ミ ラ ーを形成す る工程と 、
を具備する こ と を特徴とする光 · 電気配線基板の製造方法。
1 7 . 電気配線基板の所定の電気配線上に導電性設置手段を 形成する工程と 、
支持基板に光配線層を形成する工程と 、
前記光配線層に前記導電性設置手段を貫通 させる貫通孔を 形成する工程と 、
前記支持基板か ら前記光配線層 を剥離 し、 前記前記導電性 設置手段を前記貫通孔に貫通 させて当該光配線層 を電気配線 基板に積層する工程と 、
を具備する こ と を特徴とする 光 · 電気配線基板の製造方法 1 8 . 前記前記導電性設置手段は、 メ ツ キ法で製造さ れてい る こ と を特徴と する請求項 1 7 記載の光 · 電気配線基板の製 造方法。
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