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TWI770034B - 積層透鏡構造體、相機模組及積層透鏡構造體之製造方法 - Google Patents

積層透鏡構造體、相機模組及積層透鏡構造體之製造方法 Download PDF

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TWI770034B
TWI770034B TW106121184A TW106121184A TWI770034B TW I770034 B TWI770034 B TW I770034B TW 106121184 A TW106121184 A TW 106121184A TW 106121184 A TW106121184 A TW 106121184A TW I770034 B TWI770034 B TW I770034B
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laminated lens
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山本篤志
松谷弘康
前田兼作
荻田知治
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日商索尼半導體解決方案公司
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Abstract

本發明之課題在於抑止樹脂因毛細現象而在透鏡成形時流出。 本揭示之積層透鏡構造體具備複數個透鏡構造體，該透鏡構造體具有：基板，其設置有開孔部；透鏡，其插入前述開孔部而固定於前述基板；及凹部，其設置在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位，且較前述基板之表面更為凹陷；藉由將各個前述基板接合而將前述透鏡配置排列於光軸方向。利用該構成，能夠抑止樹脂因毛細現象而在透鏡成形時流出。

Description

積層透鏡構造體、相機模組及積層透鏡構造體之製造方法
本揭示係關於一種積層透鏡構造體、相機模組、及積層透鏡構造體之製造方法。
先前，例如在下述之專利文獻1中，記載有下述技術，即：設想藉由使光硬化性樹脂與形成有轉印形狀部之轉印體彼此接觸，使光硬化性樹脂仿照轉印體之轉印形狀變形，而造形透鏡陣列等之造形物。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開2009-18578號公報
[發明所欲解決之問題] 然而，在利用上述專利文獻1所記載之方法成形透鏡陣列等之情形下，在使轉印體與光硬化性樹脂接觸時，有因毛細現象所致之光硬化性樹脂滲出之問題。 因此，業界追求抑止起因於毛細現象而在透鏡成形時之樹脂之流出。 [解決問題之技術手段] 根據本揭示，提供一種積層透鏡構造體，其具備複數個透鏡構造體，該透鏡構造體具有：基板，其設置有開孔部；透鏡，其插入前述開孔部而固定於前述基板；及凹部，其設置在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位，且較前述基板之表面更為凹陷；藉由將各個前述基板接合而將前述透鏡配置排列於光軸方向。 又，根據本揭示，提供一種相機模組，其具備積層透鏡構造體及攝像元件，前述積層透鏡構造體具備複數個透鏡構造體，該透鏡構造體具有：基板，其設置有開孔部；透鏡，其插入前述開孔部而固定於前述基板；及凹部，其設置在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位，且較前述基板之表面更為凹陷；藉由將各個前述基板接合而將前述透鏡配置排列於光軸方向；前述攝像元件具有利用前述積層透鏡構造體之前述透鏡而使被攝體像成像之攝像面。 又，根據本揭示，提供一種積層透鏡構造體之製造方法，其具有下述製程：對於具有開孔部之基板，即，在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位設置有較前述基板之表面更為凹陷之凹部的前述基板，自未設置前述凹部之側將第1模插入前述開孔部而密封前述開孔部；將樹脂填充於前述開孔部；自設置有前述凹部之側將第2模插入前述開孔部而將前述第2模壓抵於樹脂；及使前述樹脂硬化。 [發明之效果] 如以上所說明般，根據本揭示能夠抑止起因於毛細現象而在透鏡成形時之樹脂之流出。 此外，上述之效果不一定為限定性之效果，本發明可發揮上述之效果，且可替代上述之效果而發揮本說明書所示之任一效果、或發揮根據本說明書可掌握之其他之效果。
以下，一邊參照附圖一邊針對本發明之較佳之實施方式詳細地進行說明。此外，在本說明書及圖式中，針對在實質上具有相同之機能構成的構成要件，藉由賦予相同之符號而省略重複說明。 又，說明按照以下之順序進行。 1.成為前提之技術 2.本揭示之透鏡構造體之構成例 3.凹部之形狀之變化 4.基板之積層 5.具有凹部之基板之製造方法 1.成為前提之技術 首先，針對成為本揭示之一個實施形態之前提的技術進行說明。圖1係顯示利用半導體製造製程來製造之透鏡模組之製造製程之一部分的示意圖。在圖1中，構成透鏡模組之基板2000包含例如矽(Si)等之材料，在基板2000中利用半導體製造製程形成有開孔部2100。開孔部2100之側面，遵循晶體取向，形成55°左右之角度之錐形面。在開孔部2100之側面，形成有用於抑制反射之防反射膜。 圖1顯示下述製程，即：使設置有下模1100之下複製基板1000自下側與形成有開孔部2100之基板2000密著，在將樹脂R填充至開孔部2100內之後，使設置有上模3100之上複製基板3000自上側與基板2000密著。利用成為壓印之模之下複製基板1000與上複製基板3000使開孔部2100內之樹脂R成形。樹脂R係例如光(紫外線等)硬化型之樹脂，若於在下模1100與上模3100之間填充有樹脂R之狀態下照射紫外線，則在開孔部2100內，成形有仿照下模1100與上模3100之形狀的透鏡。在成形透鏡後，將下模1100與上模3100自基板2000卸下。 然而，在使用圖1所示之方法形成透鏡時，若使上複製基板3000之下表面3010靠近基板2000之上表面2010，則下表面3010與上表面2010之間隔變窄，因毛細現象導致樹脂R露出於基板2000之上表面2010。因此，若照射紫外線，則露出於基板2000之上表面2010之樹脂硬化，而在上表面2010產生凹凸。該上表面2010係在積層複數片基板2000構成透鏡陣列時，與鄰接之基板2000抵接之面。因此，在將形成有透鏡之基板2000積層而形成透鏡陣列時，若因露出之樹脂R在上表面2010形成有凹凸，則會發生接合不良，或發生在積層之透鏡之間隔上產生誤差等之問題。 2.本揭示之透鏡構造體之構成例 圖2係顯示本揭示之一個實施形態之下複製基板100、基板200、上複製基板300之構成的示意圖。與圖1相同地，在基板200形成有開孔部210，開孔部210之側面212形成朝上擴寬之錐形面。在基板200之上表面202與側面212相交之位置，設置有較上表面202凹陷之凹部220。 如圖2所示般，使設置有下模110之下複製基板100自下側與形成有開孔部210之基板200密著，在將樹脂R填充至開孔部210內之後，使設置有上模310之上複製基板300自上側與基板200密著。此時，若使上複製基板300之下表面302靠近基板200之上表面202，則下表面302與上表面202之間隔變窄，但由於在開孔部210之緣部設置有凹部220，故凹部220作為空氣之緩衝層發揮功能，而降低因毛細現象所致之樹脂R朝上表面202之滲出。因此，可抑止樹脂R露出於上表面202上。 圖3及圖4係顯示在將樹脂R硬化之後，將下複製基板100、上複製基板300拆卸後之狀態的概略剖視圖。藉由使樹脂R硬化而將透鏡400成形。藉由成形，將透鏡400之側面402與開孔部210之側面212接合(固定)。透鏡400具有仿照下模110與上模310之形狀的透鏡面404、406。圖3顯示凹部220之上表面222位於較透鏡面406之最上部更低之位置的情形。又，圖4顯示凹部220之上表面222位於較透鏡面406之最上部更高之位置的情形。如圖3所示般，在透鏡400位於開孔部210內之比較高之位置之情形下，在使上複製基板300自上側與基板200密著時，樹脂R易於在上表面222滲出，但藉由設置凹部220，能夠確實地抑制樹脂R朝上表面222滲出。 圖5係顯示本實施形態之積層透鏡構造體800、及具備積層透鏡構造體800之相機模組900的示意圖。積層透鏡構造體800係藉由將具有如圖3、圖4所示之透鏡400之基板200積層而構成。在圖5中，將上側之基板200與下側之基板200接合。再者，相機模組900具備積層透鏡構造體800及攝像元件700。積層透鏡構造體800將被攝體像在攝像元件700之攝像面成像，攝像元件700藉由光電變換而輸出與被攝體像之光量相應之圖像信號。 3.凹部之形狀之變化 圖6A～圖6H係顯示凹部220之形狀之變化的示意圖。凹部220只要是作為用於抑制樹脂R朝上表面202滲出之空氣之緩衝層發揮功能者即可，其形狀並無特別限定。圖6A顯示由平坦之上表面222與錐形之側面224構成凹部220之例。側面224之角度可設為與開孔部210之側面相同之55°左右。圖6B顯示由平坦之上表面222與垂直之側面226構成凹部220之例。特別是藉由在製造過程中使用乾式蝕刻，而可形成垂直之側面226。圖6C顯示僅由錐形面228構成凹部220之例。在圖6D之右側，顯示由槽230構成凹部220之例。圖6D之左側之凹部220與圖6B相同。 圖6E顯示由非平坦之曲面232構成凹部220之例。圖6F顯示由銳角狀之切口234構成凹部220之例。圖6G及圖6H顯示由複數個銳角狀之切口236構成凹部220之例。 圖7A～圖7D係顯示與凹部220相鄰而設有對準標記250之例的概略剖視圖。圖7A顯示與圖6B所示之凹部220相鄰而設有對準標記250之例。又，圖7B顯示與圖6A所示之凹部220相鄰而設有對準標記250之例。圖7C顯示與圖6B所示之凹部220相鄰而設有對準標記250之例，即，將開孔部210之側面212垂直地構成之例。又，圖7D顯示與圖6A所示之凹部220相鄰而設有對準標記250之例，即，將開孔部210之側面212垂直地構成之例。 圖7F係顯示設有貫通基板200之對準標記250之例的概略剖視圖。圖7E係顯示在圖7F所示之構成中，未設置對準標記250之構成的概略剖視圖。對準標記250可與凹部220之形成一起形成，或可與開孔部210之形成一起而形成。 4.基板之積層 在將矽基板用作基板200之情形下，作為一例，用作基板200之矽晶圓之1片之厚度為規格所規定之725 μm或775 μm。在透鏡400之厚度較大而基板200之厚度不足之情形下，將複數片基板200貼合而成形1片透鏡400。 圖8係顯示將2片基板200a，200b積層而形成1片基板200，且在開孔部210內成形透鏡之製程的概略剖視圖。首先，在步驟S20中，在下複製基板100上載置基板200，而將下模110插入開孔部210。在其次之步驟S22中，對開孔部210內填充樹脂R。在其次之步驟S24中，自基板200之上方載置上複製基板300，而將上模310壓抵於樹脂R。且，藉由照射紫外線，使樹脂R硬化而成形透鏡400。成形後，將上複製基板300及下複製基板100自基板200卸下。凹部220設置在與上複製基板300相接之基板200a。如此般，在將複數片基板200貼合而成形1片透鏡400之情形下，亦可藉由設置凹部220而抑制樹脂R滲出。 再者，如圖8所示般，與下側之基板200之開孔部210相比，上側之基板200之開孔部210形成得較大。藉此，在自上側照射紫外線時，紫外線不會被遮蔽，而可確實地使樹脂R硬化。 圖9A～圖9C係顯示將3片基板200積層之狀態的概略剖視圖。圖9A顯示將全部之基板200之開孔部210之錐形面(側面212)設為相同之朝向，且將錐形面朝下之例。圖9B顯示相對於圖9A、使最上方之基板200反轉而將開孔部210之錐形面朝上之例。圖9C顯示相對於圖9A、使自上方起第一片與第二片基板200反轉而將開孔部210之錐形面朝上之例。 基板200與樹脂R之熱膨脹係數不同，樹脂R之量愈多，則愈容易因兩者之熱膨脹係數之差而在基板200產生翹曲。圖10係顯示因熱膨脹係數之差而在基板200產生翹曲之情形的概略剖視圖。在圖10所示之例中，愈往基板200之上方，透鏡400之直徑愈大，而樹脂R之量增加。因此，根據樹脂R與基板200之熱膨脹係數之差，愈往基板200之上方則樹脂R牽引基板200之力F愈大，以基板200之上表面成為凹面之方式在基板200產生翹曲。 在圖9A中，由於基板200之開孔部210之錐形面全部朝下，且愈往各基板200之下方則透鏡400之體積變得愈大，因此以箭頭所示之方向的翹曲變得愈大。特別是，由於最下方之基板200較其他基板200更厚，透鏡400之體積亦更大，故翹曲亦變大。 另一方面，若如圖9B般使最上方之基板200反轉而將開孔部210之錐形面朝上，則由於在最上方之基板200中愈往上則透鏡400之體積變得愈大，故在最上方之基板200中於與第2片、第3片基板200相反方向產生翹曲。因此，藉由使最上方之基板200反轉而將開孔部210之錐形面向上，可減小所積層之基板200整體之翹曲。在圖9C中，由於相對於圖9A、使自上方起第1片與第2片基板200反轉而將開孔部210之錐形面朝上，故能夠進一步減小所積層之基板200整體之翹曲。 圖11係顯示具備2組圖9C所示之構成之透鏡400的複眼之構成的概略剖視圖。在圖11所示之構成中亦然，由於使自上方起第1片與第2片基板200反轉而使開孔部210之錐形面朝上，故能夠減小所積層之基板200整體之翹曲。 5.具有凹部之基板之製造方法 其次，針對在開孔部210之緣部設置凹部220之基板200之製造方法進行說明。此處，針對如圖12～圖14所示之3個製造方法分別進行說明。圖12～圖14係將基板200之製造方法以製程順序顯示的概略剖視圖。 圖12所示之方法係在形成凹部220時，同時使開孔部210貫通之方法。首先，在步驟S30中，在加工前之基板200之表面形成抗蝕劑500，藉由施以光微影及繼其之後之蝕刻等，將抗蝕劑500圖案化。其次，在步驟S32中，以抗蝕劑500為遮罩，利用濕式蝕刻或乾式蝕刻，對抗蝕劑500未覆蓋之基板200之區域進行蝕刻。藉此，在基板200之表面形成凹部600與對準標記250。 在其次之步驟S34中，去除抗蝕劑500，在基板200之表面形成新的抗蝕劑510並圖案化。此時，以較凹部600更廣之區域開口之方式將抗蝕劑510圖案化。 在其次之步驟S36中，利用濕式蝕刻或乾式蝕刻，以抗蝕劑510為遮罩對基板200進行蝕刻。藉此，對凹部600之底部進一步進行蝕刻，而形成貫通基板200之開孔610，開孔部210完成。而且，藉由將凹部600在水平方向上擴大，而形成凹部220。在其次之步驟S38中，去除抗蝕劑510。利用以上之步驟，可製造出在開孔部210之緣部設置有凹部220之基板200。 圖13所示之方法，係在形成相當於凹部220之凹部620之後，將凹部620貫通而形成開孔部210之方法。首先，在步驟S40中，在加工前之基板200之表面形成抗蝕劑530，藉由施以光微影及繼其之後之蝕刻等，將抗蝕劑530圖案化。其次，在步驟S42中，利用濕式蝕刻或乾式蝕刻，對抗蝕劑530未覆蓋之基板200之區域進行蝕刻。藉此，在基板200之表面形成凹部620與對準標記250。 在其次之步驟S44中，去除抗蝕劑530，在基板200之表面形成新的抗蝕劑540並圖案化。此時，以較凹部620之底部更窄之範圍開口之方式將抗蝕劑540圖案化。 在其次之步驟S46中，利用濕式蝕刻或乾式蝕刻，以抗蝕劑540為遮罩對基板200進行蝕刻。藉此，將較凹部620之底部更窄之範圍進一步進行蝕刻，而形成貫通基板200之開孔部210。藉由將較凹部620之底部更窄之範圍進一步進行蝕刻，而形成凹部220。在其次之步驟S48中，去除抗蝕劑540。利用以上之步驟，可製造出在開孔部210之緣部設置有凹部220之基板200。 圖14所示之方法係先形成開孔部210，其後在開孔部210之緣部形成凹部之方法。首先，在步驟S50中，在加工前之基板200之表面形成抗蝕劑550，藉由施以光微影及繼其之後之蝕刻等，將抗蝕劑550圖案化。其次，在步驟S52中，以抗蝕劑550為遮罩，利用濕式蝕刻或乾式蝕刻，以對抗蝕劑550未覆蓋之基板200之區域貫通之方式進行蝕刻。藉此，在基板200之表面，形成開孔部210與對準標記250。 在其次之步驟S54中，去除抗蝕劑550。在其次之步驟S56中，在開孔部210之緣部形成凹部220。另外，凹部220之形成方法可利用蝕刻，亦可利用機械加工等。 此外，在本實施形態中，係將凹部220設置在基板200中，但亦可在上複製基板300中設置具有同樣功能之凹部來抑制起因於毛細現象之樹脂R之滲出。 如以上所說明般，根據本實施形態，於在基板200之開孔部210設置有透鏡400之構成中，由於在開孔部210之緣部形成有凹部220，故在將成形用之模壓抵於填充至開孔部210之樹脂R時，能夠確實地抑止樹脂R露出於開孔部210之外。 以上係一邊參照附圖一邊針對本發明之較佳之實施方式詳細地進行了說明，但本發明之技術性範圍並不限定於上述之例。只要係具有本發明之技術領域之通常之知識的技術人員顯然可在專利申請範圍中所記載之技術性思想之範圍內想到各種變化例或修正例，應瞭解其等亦屬本發明之技術性範圍內。 又，本說明書中所記載之效果終極而言僅為說明性或例示性效果，而非限定性效果。亦即，本發明之技術除可獲得上述之效果外，還可替代上述之效果而獲得本領域技術人員根據本說明書之記載即顯而易知之其他效果。 此外，下述之構成亦屬本發明之技術性範圍內。 (1)一種積層透鏡構造體，其具備複數個透鏡構造體，該透鏡構造體具有：基板，其設置有開孔部； 透鏡，其插入前述開孔部而固定於前述基板；及 凹部，其設置在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位，且較前述基板之表面更為凹陷； 藉由將各個前述基板接合而將前述透鏡配置排列於光軸方向。 (2)如前述(1)之積層透鏡構造體，其中前述凹部設置在前述開孔部之緣部。 (3)如前述(1)或(2)之積層透鏡構造體，其中前述凹部與前述基板之表面平行，且包含較前述基板之表面更低之第一面、及將前述基板之表面與前述第一面連接之第2面。 (4)如前述(3)之積層透鏡構造體，其中前述第2面係相對於前述基板之表面具有特定角度之斜面。 (5)如前述(3)之積層透鏡構造體，其中前述第2面係相對於前述基板之表面垂直之面。 (6)如前述(1)或(2)之積層透鏡構造體，其中前述凹部包含相對於前述基板之表面具有特定角度之斜面。 (7)如前述(1)或(2)之積層透鏡構造體，其中前述凹部相對於前述基板之表面構成為槽狀。 (8)如前述(1)或(2)之積層透鏡構造體，其中前述凹部包含相對於前述基板之表面凹陷之曲面。 (9)如前述(1)或(2)之積層透鏡構造體，其中前述凹部包含形成在前述基板之表面之銳角之切口。 (10)如前述(1)之積層透鏡構造體，其中在前述基板之前述表面形成有在將前述基板積層時作為定位之對準標記。 (11)如前述(1)～(9)中任一項之積層透鏡構造體，其中與1個透鏡對應之前述基板係藉由將複數片單位基板貼合而構成，且 形成於位在前述基板之一個側之前述單位基板的前述開孔部，大於位在前述基板之另一側之前述單位基板。 (12)如前述(1)～(10)中任一項之積層透鏡構造體，其中前述基板之前述開孔部之側面形成為錐形面，且 複數片前述基板之一部分係以前述錐形面朝向前述基板之一側之方式配置， 複數片前述基板之其餘部分係以前述錐形面朝向前述基板之另一側之方式配置。 (13)一種相機模組，其具備積層透鏡構造體與攝像元件，前述積層透鏡構造體具備複數個透鏡構造體，該透鏡構造體具有：基板，其設置有開孔部；透鏡，其插入前述開孔部而固定於前述基板；及凹部，其設置在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位，且較前述基板之表面更為凹陷；藉由將各個前述基板接合而將前述透鏡配置排列於光軸方向； 前述攝像元件具有利用前述積層透鏡構造體之前述透鏡而使被攝體像成像之攝像面。 (14)一種積層透鏡構造體之製造方法，其具有下述製程：對於具有開孔部之基板，即，在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位設置有較前述基板之表面更為凹陷之凹部的前述基板，自未設置前述凹部之側將第1模插入前述開孔部而密封前述開孔部； 將樹脂填充於前述開孔部； 自設置有前述凹部之側將第2模插入前述開孔部並將前述第2模壓抵於樹脂；及 使前述樹脂硬化。
100‧‧‧下複製基板110‧‧‧下模200‧‧‧基板200a‧‧‧基板200b‧‧‧基板202‧‧‧上表面210‧‧‧開孔部212‧‧‧側面220‧‧‧凹部222‧‧‧上表面224‧‧‧側面226‧‧‧側面228‧‧‧錐形面230‧‧‧槽232‧‧‧曲面234‧‧‧切口236‧‧‧切口250‧‧‧對準標記300‧‧‧上複製基板302‧‧‧下表面310‧‧‧上模400‧‧‧透鏡402‧‧‧側面404‧‧‧透鏡面406‧‧‧透鏡面500‧‧‧抗蝕劑510‧‧‧抗蝕劑530‧‧‧抗蝕劑540‧‧‧抗蝕劑550‧‧‧抗蝕劑600‧‧‧凹部610‧‧‧開孔620‧‧‧凹部700‧‧‧攝像元件800‧‧‧積層透鏡構造體900‧‧‧相機模組1000‧‧‧下複製基板1100‧‧‧下模2000‧‧‧基板2010‧‧‧上表面2100‧‧‧開孔部3000‧‧‧上複製基板3010‧‧‧下表面3100‧‧‧上模F‧‧‧力R‧‧‧樹脂S20‧‧‧步驟S22‧‧‧步驟S24‧‧‧步驟S30‧‧‧步驟S32‧‧‧步驟S34‧‧‧步驟S36‧‧‧步驟S38‧‧‧步驟S40‧‧‧步驟S42‧‧‧步驟S44‧‧‧步驟S46‧‧‧步驟S48‧‧‧步驟S50‧‧‧步驟S52‧‧‧步驟S54‧‧‧步驟S56‧‧‧步驟
圖1係顯示利用半導體製造製程來製造之透鏡模組之製造製程之一部分的示意圖。 圖2係顯示本揭示之一個實施形態之下複製基板、基板、上複製基板之構成的示意圖。 圖3係顯示在使樹脂R硬化之後，將下複製基板、上複製基板拆卸後之狀態的概略剖視圖。 圖4係顯示在使樹脂R硬化之後，將下複製基板、上複製基板拆卸後之狀態的概略剖視圖。 圖5係顯示本實施形態之積層透鏡構造體、及具備積層透鏡構造體之相機模組的示意圖。 圖6A係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖6B係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖6C係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖6D係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖6E係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖6F係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖6G係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖6H係顯示凹部之形狀之變化的示意圖。 圖7A係顯示設置與凹部相鄰之對準標記之例的概略剖視圖。 圖7B係顯示設置與凹部相鄰之對準標記之例的概略剖視圖。 圖7C係顯示設置與凹部相鄰之對準標記之例的概略剖視圖。 圖7D係顯示設置與凹部相鄰之對準標記之例的概略剖視圖。 圖7E係顯示在圖7F所示之構成中，未設置對準標記之構成的概略剖視圖。 圖7F係顯示設置貫通基板之對準標記之例的概略剖視圖。 圖8係顯示將2片基板積層而形成1片基板，且在開孔部內使透鏡成形之樣態的概略剖視圖。 圖9A係顯示將3片基板積層之狀態的概略剖視圖。 圖9B係顯示將3片基板積層之狀態的概略剖視圖。 圖9C係顯示將3片基板積層之狀態的概略剖視圖。 圖10係顯示起因於熱膨脹係數之差而在基板產生翹曲之樣態的概略剖視圖。 圖11係顯示具備2個圖9C所示之構成之透鏡的複眼之構成的概略剖視圖。 圖12係將基板200之製造方法以製程順序顯示的概略剖視圖。 圖13係將基板200之製造方法以製程順序顯示的概略剖視圖。 圖14係將基板200之製造方法以製程順序顯示的概略剖視圖。
200‧‧‧基板
210‧‧‧開孔部
220‧‧‧凹部
400‧‧‧透鏡
700‧‧‧攝像元件
800‧‧‧積層透鏡構造體
900‧‧‧相機模組

Claims (14)

  1. 一種積層透鏡構造體，其具備複數個透鏡構造體，該透鏡構造體具有：基板，其設置有開孔部；透鏡，其插入前述開孔部而固定於前述基板；及凹部，其設置在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位，且較前述基板之表面更為凹陷；藉由將各個前述基板接合而將前述透鏡配置排列於光軸方向，且前述基板之前述開孔部之前述側面整體形成為朝上述光軸方向擴寬之錐形面；與前述基板之前述開孔部之前述側面接合之前述透鏡之側面形成為錐形面。
  2. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中前述凹部設置在前述開孔部之緣部。
  3. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中前述凹部與前述基板之表面平行，且包含較前述基板之表面更低之第一面、及將前述基板之表面與前述第一面連接之第2面。
  4. 如請求項3之積層透鏡構造體，其中前述第2面係相對於前述基板之表面具有特定角度之斜面。
  5. 如請求項3之積層透鏡構造體，其中前述第2面係相對於前述基板之表面垂直之面。
  6. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中前述凹部包含相對於前述基板之表面具有特定角度之斜面。
  7. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中前述凹部相對於前述基板之表面構成為槽狀。
  8. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中前述凹部包含相對於前述基板之表面凹陷之曲面。
  9. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中前述凹部包含形成在前述基板之表面之銳角之切口。
  10. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中在前述基板之前述表面形成有在將前述基板積層時作為定位之對準標記。
  11. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中與1個透鏡對應之前述基板係藉由將複數片單位基板貼合而構成，且形成於位在前述基板之一面側之前述單位基板的前述開孔部，大於位在前述基板之另一側之前述單位基板的開孔部。
  12. 如請求項1之積層透鏡構造體，其中複數片前述基板之一部分係以前述錐形面朝前述基板之一側之方式配置，複數片前述基板之其餘部分係以前述錐形面朝前述基板之另一側之方式配置。
  13. 一種相機模組，其具備積層透鏡構造體與攝像元件，前述積層透鏡構造體具備複數個透鏡構造體，該透鏡構造體具有：基板，其設置有開孔部；透鏡，其插入前述開孔部而固定於前述基板；及凹部，其設置在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位，且較前述基板之表面更為凹陷；藉由將各個前述基板接合而將前述透鏡配置排列於光軸方向，且前述基板之前述開孔部之前述側面整體形成為朝上述光軸方向擴寬之錐形面；與前述基板之前述開孔部之前述側面接合之前述透鏡之側面形成為錐形面；前述攝像元件具有利用前述積層透鏡構造體之前述透鏡使被攝體像成像之攝像面。
  14. 一種積層透鏡構造體之製造方法，其具有下述製程：對於具有開孔部之基板，即，在前述開孔部之側面與前述基板之表面相交之部位設置有較前述基板之表面更為凹陷之凹部的前述基板，自未設置前述凹部之側將第1模插入前述開孔部而密封前述開孔部；將樹脂填充於前述開孔部；自設置有前述凹部之側將第2模插入前述開孔部而將前述第2模壓抵於樹脂；及 藉由使前述樹脂硬化而成形透鏡；且前述基板之前述開孔部之前述側面整體形成為朝上述透鏡之光軸方向擴寬之錐形面；與前述基板之前述開孔部之前述側面接合之前述透鏡之側面形成為錐形面。
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