[go: up one dir, main page]

TWI723885B - 半導體封裝 - Google Patents

半導體封裝 Download PDF

Info

Publication number
TWI723885B
TWI723885B TW109117461A TW109117461A TWI723885B TW I723885 B TWI723885 B TW I723885B TW 109117461 A TW109117461 A TW 109117461A TW 109117461 A TW109117461 A TW 109117461A TW I723885 B TWI723885 B TW I723885B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
package
semiconductor
antenna
chip
substrate
Prior art date
Application number
TW109117461A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202044504A (zh
Inventor
吳文洲
林義傑
金家宇
劉興治
Original Assignee
聯發科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US16/867,583 external-priority patent/US11509038B2/en
Application filed by 聯發科技股份有限公司 filed Critical 聯發科技股份有限公司
Publication of TW202044504A publication Critical patent/TW202044504A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI723885B publication Critical patent/TWI723885B/zh

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49833Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers the chip support structure consisting of a plurality of insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5389Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates the chips being integrally enclosed by the interconnect and support structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10D89/00
    • H01L25/0655Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10D89/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/11Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in subclass H10D
    • H01L25/112Mixed assemblies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/11Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in subclass H10D
    • H01L25/115Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in subclass H10D the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices the devices being of types provided for in two or more different subclasses of H10B, H10D, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12Supports; Mounting means
    • H01Q1/22Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/2283Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles mounted in or on the surface of a semiconductor substrate as a chip-type antenna or integrated with other components into an IC package
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q21/00Antenna arrays or systems
    • H01Q21/0087Apparatus or processes specially adapted for manufacturing antenna arrays
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6661High-frequency adaptations for passive devices
    • H01L2223/6677High-frequency adaptations for passive devices for antenna, e.g. antenna included within housing of semiconductor device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0233Structure of the redistribution layers
    • H01L2224/02331Multilayer structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0233Structure of the redistribution layers
    • H01L2224/02333Structure of the redistribution layers being a bump
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0237Disposition of the redistribution layers
    • H01L2224/02379Fan-out arrangement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0239Material of the redistribution layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13005Structure
    • H01L2224/13008Bump connector integrally formed with a redistribution layer on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13144Gold [Au] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13147Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16237Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298Fillers
    • H01L2224/29299Base material
    • H01L2224/293Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29338Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29339Silver [Ag] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49822Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1532Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/1533Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/15331Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits
    • H05K1/141One or more single auxiliary printed circuits mounted on a main printed circuit, e.g. modules, adapters
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits
    • H05K1/144Stacked arrangements of planar printed circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • H05K1/185Components encapsulated in the insulating substrate of the printed circuit or incorporated in internal layers of a multilayer circuit

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Details Of Aerials (AREA)
  • Variable-Direction Aerials And Aerial Arrays (AREA)

Abstract

本發明提供了一種半導體封裝,該半導體封裝包括底部晶片封裝和頂部天線封裝。底部晶片封裝具有第一側以及與該第一側相對的第二側,該底部晶片封裝包括在第二側上並排佈置的第一半導體晶片和第二半導體晶片。頂部天線封裝安裝在該底部晶片封裝的該第一側上,其中,該頂部天線封裝包括輻射天線元件。本發明提供的半導體封裝可以滿足底部晶片封裝和頂部天線封裝之間不同的功能和要求,實現了較低的封裝成本、較短的前置時間和較好的設計靈活性。

Description

半導體封裝
本公開總體上涉及半導體封裝領域,更具體地,涉及一種包括分立天線(discrete antenna)裝置的半導體封裝。
如本領域已知的,晶片(chip)和天線之間較短的互連(interconnect)在毫米波(millimeter-wave,mmW)應用中越來越關鍵。為了實現晶片和天線之間更短的互連以及實現半導體封裝的更小的體積和更高的整合度,在半導體晶片封裝領域中已經開發出了在封裝內包含有積體電路(integrated circuit,IC)晶片和天線的封裝內天線(AiP,Antenna in Package)。
遺憾的是,天線和佈線之間對基板層的設計要求是非常不同。通常地,需要在基板層中使用薄的堆積層(build-up layer),以便實現薄的通孔和密集互連。然而,這種要求與天線設計的要求相矛盾,天線設計通常需要厚的、幾乎均勻間隔的基板層。
有鑑於此,本發明提供一種改進的半導體封裝,以克服現有技術的不足和缺陷。
根據本發明的一個方面,公開一種半導體封裝,該半導體封裝包括底部晶片封裝和頂部天線封裝。底部晶片封裝具有第一側以及與該第一側相對的第二側,該底部晶片封裝包括在第二側上並排佈置的第一半導體晶片和第二半導體晶片。頂部天線封裝安裝在該底部晶片封裝的該第一側上,其中,該頂 部天線封裝包括輻射天線元件。
根據本發明的一個方面,該半導體封裝還包括連接器,連接器設置在底部晶片封裝的第二側上,或者連接器設置在該頂部天線封裝的底表面上。
根據本發明的一個方面,公開一種半導體封裝,該半導體封裝包括晶片封裝、多個天線封裝。晶片封裝具有第一側和與該第一側相對的第二側,該晶片封裝包括在該第二側上並排佈置的第一半導體晶片和第二半導體晶片。多個天線封裝安裝在該晶片封裝的第一側上,其中,該多個天線封裝中的每一個均包括輻射天線元件。
本發明提供的半導體封裝可以滿足底部晶片封裝和頂部天線封裝之間不同的功能和要求,實現了較低的封裝成本、較短的前置時間和較好的設計靈活性。
1a、1b、1c、1d、1e、1f、1g、1h、1i、3a、3b、3c、3d:半導體封裝
10:底部晶片封裝
10a:第一側
10b:第二側
20、20a、20b、20c、2a、2b、2c、2d、2e:頂部天線封裝
30、30a、30b、40:半導體晶片
100:封裝基板
110:芯部
120:堆積層
112、212、322:電鍍通孔
114、124、214、614、624、634:導電跡線
122:通孔
130:阻焊層
140、240、312、312a、312b、412、640:導電元件
210:基板
210a:頂表面
210b:底表面
220、520、620:輻射天線元件
410:模塑料
410a、612:貫穿模塑通孔
300:重佈線層
320、601、603、605:電介質層
340、602、604:導電層
342、422:接觸元件
360、560:保護層
402:輸入/輸出焊盤
61:第一模塑料
62:第二模塑料
63:第三模塑料
600:重分佈層結構
502:第一無源部件
504:第二無源部件
50:模塑料
510:金屬塗層
511:金屬間壁
60:連接器
附圖被包括進來以提供對本發明的進一步理解,附圖被結合在本說明書中並構成本說明書的一部分。附圖示出了本發明的實施例,並且與說明書一起用於解釋本發明的原理。在附圖中:第1圖是示出根據本發明一個實施例的示例性半導體封裝1a的示意性橫截面圖,該半導體封裝1a包括安裝在底部晶片封裝上的分立天線裝置。
第2圖至第9圖示出了根據本發明各種實施例的如第1圖所示的半導體封裝的一些示例性變型。
第10圖至第13圖是示出根據本發明的其他實施例的示例性頂部天線封裝的示意性截面圖。
第14圖示出了頂部天線封裝的示例性扇出型晶片封裝。
第15圖是示出了根據本發明的另一實施例的示例性半導體封裝3a的示意性截面圖,該半導體封裝3a包括安裝在底部晶片封裝上的分立天線裝置。
第16圖是示出根據本發明另一實施例的示例性半導體封裝3b的示意性截面圖,該半導體封裝3b包括安裝在底部晶片封裝件上的分立天線裝置。
第17圖是示出根據本發明另一實施例的示例性半導體封裝3c的示意性截面圖,該半導體封裝3c包括安裝在底部晶片封裝上的分立天線裝置。
第18圖是示出根據本發明另一實施例的示例性半導體封裝3d的示意性截面圖,該半導體封裝3d包括安裝在底部晶片封裝上的分立天線裝置。
在下面對本發明的實施例的詳細描述中,參考了附圖,這些附圖構成本發明的一部分,並且在附圖中通過圖示的方式示出了可以實踐本公開內容的特定的優選實施例。對這些實施例進行了詳細的描述以使本領域習知技藝者能夠實踐這些實施例。也可以利用其他實施例,並且可以在不脫離本發明的精神和範圍的情況下進行結構上的、邏輯的、電氣的的改變。
術語“晶粒(die)”、“晶片(chip)”、“半導體晶片”和“半導體晶粒”在整個說明書中可互換使用,以表示積體電路晶片或晶粒。本文使用的術語“水平的”可以定義為平行於平面或表面(例如基板的表面)的方向,而不管它的朝向如何。如本文所使用的術語“垂直的”可以指與剛剛描述的水平方向正交的方向。而例如“在…上”、“在…上方”、“在…下”、“底部”、“頂部”、“側”(例如“側壁”)、“較高”、“較低”、“之上”和“之下”的術語,均可以相對於水平面。
本公開涉及一種半導體封裝,其包括安裝在底部半導體晶片封裝(或底部晶片封裝)上的至少一個分立(discrete)天線裝置(或頂部天線封裝),由 此形成天線疊層封裝(package-on-package)結構。根據本發明一些實施例,本文中各種實施例中公開的示例性半導體封裝與常規的封裝內天線相比,提供的優點包括但不限於:具有更低的封裝成本、更短的前置時間(lead-time)和/或更好的設計靈活性。
具體來說,習知技術中,包含有積體電路晶片和天線的封裝體為了相容這兩種結構,封裝體中會留出複數個較薄的薄基板層,為積體電路晶片設置更多的佈線;同時封裝體較厚也可以為天線留出較厚的厚基板層,以承載天線的設計。因此習知技術中的封裝體會製造的較厚、體積較大,從而容納數量較多的薄基板層以及較厚的厚基板層,例如封裝體可能需要12層基板層,以滿足包括積體電路晶片和天線的封裝體的需求。
而本發明中將頂部天線封裝與底部晶片封裝分離開,就可以將這兩個結構分開製造成型後再組裝在一起。這樣可以根據頂部天線封裝與底部晶片封裝各自不同的功能和要求進行設計和製造,而無需將封裝體做的較厚去相容其他的結構,所以頂部天線封裝與底部晶片封裝中每一個都可以做的較薄,例如習知的封裝體需要12層基板層,而本發明中封裝相同的晶片和天線只需要6層基板層(例如底部晶片封裝)和2層基板層(例如頂部天線封裝)即可,因此本發明中需要的材質相比習知技術更少,需要的製程也更少,從而大大降低了生產、封裝成本。此外,頂部天線封裝與底部晶片封裝可分開製造成型,這樣就可以同時生產頂部天線封裝與底部晶片封裝之後,再組裝得到半導體封裝,而習知技術中一整個封裝體僅能按照流程在一條流水線生產,因此本發明中頂部天線封裝與底部晶片封裝分離可以加快生產效率,具有更短的前置時間。並且本發明中頂部天線封裝與底部晶片封裝分離,用戶或設計人員可根據需要對封裝進行組合,以滿足不同的需求。例如可以將複數個底部晶片封裝連接在一起使用,或根據需求選擇複數個底部晶片封裝和頂部天線封裝組合在一起使用, 適應不同的應用場景和用戶需求,因此本發明的方案增加了設計彈性,具有更好的設計靈活性,可以滿足更廣泛的使用需求。
第1圖是示出根據本發明一個實施例的示例性半導體封裝1a的示意性橫截面圖,該半導體封裝1a包括安裝在底部晶片封裝(bottom chip package)上的分立天線裝置。根據一個實施例,半導體封裝可以是無線模組,分立天線裝置可以是天線封裝。如第1圖所示,半導體封裝1a包括底部晶片封裝10和安裝在底部晶片封裝10上的頂部(top)天線封裝20。底部晶片封裝10具有第一側(side)10a和與第一側10a相對的第二側10b。頂部天線封裝20可以安裝在第一側10a上。底部晶片封裝10可以包括安裝在第二側10b上的半導體晶片(或半導體晶粒)30。例如,半導體晶片30可以是RFIC(Radio Frequency Integrated Circuit,射頻積體電路)晶片、基帶(base-band)IC晶片、系統單晶片(System-in-Chip,SOC)晶粒,但不限於此。
根據一個實施例,底部晶片封裝10可以包括封裝基板100,封裝基板100具有帶有一個或多個電鍍通孔112的芯部(core)110以及具有一個或多個堆積層(build-up layer)120。堆積層120可以具有一個或多個形成在堆積層中的通孔122和/或導電跡線114,以在整個底部晶片封裝10中佈設訊號、接地和/或電源。在底部堆積層120的底表面上的導電跡線124可以採用一個或多個焊盤的形式,半導體晶片30可以利用導電元件312連接在該焊盤上。例如,導電元件312可以包括焊球、焊料凸塊、銅凸塊、金凸塊或其他任何適合的導電裝置。
例如,芯部110可以包括任何適合的材質,包括玻璃纖維片(fiberglass sheet)、預浸材質(prepreg)、FR-4材質、FR-5材質或它們的組合的環氧層壓板(epoxy laminate)。導電跡線114和124、電鍍通孔112和通孔122可以包括任何適合的導電材質,包括銅、銀、金、鎳或它們的組合。堆積層120可以包括任何適合的介電材質,包括聚醯亞胺(polyimide)、預浸材質、聚合物(polymer)等。
根據一個實施例,底部晶片封裝10可以進一步包括在第一側10a和第二側10b上的阻焊層(solder mask layer)130。為了互連的目的,阻焊層130可以包括用於暴露導電跡線124中相應焊盤的開口。根據一個實施例,導電元件140的陣列可以設置在底部晶片封裝10的第二側10b上,以便進一步與印刷電路板或主機板的互連。
頂部天線封裝20通過導電元件240電耦接到底部晶片封裝10,導電元件240以一個或多個焊盤的形式耦接到頂部堆積層120的上表面上的導電跡線124,並且導電元件240以一個或多個焊盤的形式耦接到基板210的底面上的導電跡線214。例如,導電元件240可以包括焊球、焊料凸塊、銅凸塊、金凸塊或其他任何適合的導電裝置。頂部天線封裝20可以包括基板210。基板210可以包括一個或多個電鍍通孔212以將訊號從基板210的一側路由到基板210的另一側。
例如,基板210可以是陶瓷(ceramic)基板、半導體基板、電介質(dielectric)基板、玻璃基板,但不限於此。根據本發明的實施例,頂部天線封裝20可以是低溫共燒陶瓷(low temperature co-fired ceramic,LTCC)、覆晶晶片尺寸封裝(flip-chip chip-scale-package,FCCSP)或扇出型晶片封裝(fan-out type chip package)、疊層式封裝、或者引線接合(wire-bond)型封裝等,但不限於此。
根據一個實施例,頂部天線封裝20不包括半導體晶片或晶粒。頂部天線封裝20還可以包括設置在基板210的表面上的導電跡線214中的輻射天線(radiative antenna)元件220。輻射天線元件220可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號(例如RF無線訊號或毫米波(mmW)訊號)的機構。儘管在該圖中沒有示出,但應該理解的是,根據設計要求,輻射天線元件220可以設置在基板210的底面處。例如,輻射天線元件220可以是任何適合的類型,例如貼片(patch)天線、縫隙耦合(slot-coupled)天線、堆疊式(stacked)貼片、偶極天線(dipole)、單極天線(monopole)等,並且可以具有不同的取向(orientation) 和/或極化(polarization)。在一些實施例中,輻射天線元件220可以通過設置於基板210內的一個或多個電鍍通孔212或其他導電跡線將訊號從基板210的一側路由到基板210的另一側。
此外,輻射天線元件220可以包括多個天線模組,例如雙頻帶(dual-band)天線元件和單頻帶(single-band)天線元件,並不限於此。
第2圖至第9圖示出了根據本發明各種實施例的如第1圖所示的半導體封裝的一些示例性變型,其中相同的標號表示相同的層、區域或元件。應該理解的是,除非另外特別指出,否則以下描述的各種示例性實施例的特徵可以彼此組合。
如第2圖所示,半導體封裝1b和半導體封裝1a之間的差別在於,半導體封裝1b的半導體晶片30設置在與頂部天線封裝20相同的一側上。例如,半導體晶片30和頂部天線封裝20都安裝在底部晶片封裝10的第一側10a上。同樣,半導體晶片30可以通過導電元件312與導電跡線124中相應的焊盤連接。雖然未在附圖中示出,應該理解的是,可以在半導體晶片30和底部晶片封裝10的第一側10a之間設置底部填充層。在非限制性示例中,半導體晶片30可以直接安裝在頂部天線封裝20之下。將半導體晶片30和頂部天線封裝20安裝在同一側,半導體晶片與頂部天線封裝之間的訊號傳輸距離更短,可以提高訊號的處理效率。
如第3圖所示,並簡要地參照第2圖,半導體封裝1c與半導體封裝1b之間的區別在於,半導體封裝1c還包括位於頂部天線封裝20與底部晶片封裝10之間的模塑料410。根據一個實施例,模塑料410可以包含環氧樹脂或聚合物,但不限於此。模塑料410可以覆蓋並封裝半導體晶片30。根據一個實施例,模塑料410可以填充到半導體晶片30和底部晶片封裝10的第一側10a之間的間隙中。根據一個實施例,模塑料410可以包括貫穿模塑通孔410a。導電元件240可以設置在相應的貫穿模塑通孔410a內。使用模塑料可以進一步保護半導體晶片,並且使得半 導體封裝整體的機械強度更高,以及提高半導體封裝的結構穩定性和耐用性。
如第4圖所示,並簡要地參照第2圖,半導體封裝1d和半導體封裝1b之間的區別在於,半導體封裝1d的半導體晶片30嵌入到封裝基板100的芯部110中。應該理解的是,半導體晶片30也可以直接嵌入在堆積層120中。例如,半導體晶片30可以安裝在封裝基板100的芯部110上並且嵌入在電介質層(或介電層)的層內。在另一個實施例中,可以在封裝基板100中形成空腔(圖未示),並且將半導體晶片30放置在該空腔內。半導體晶片30可以通過傳統的接合(bonding)技術接合。將半導體晶片嵌入在封裝基板內可以為半導體晶片提供更可靠的保護,並且可以節省空間,減小整體半導體封裝的體積,有助於半導體封裝的小型化。
如第5圖所示,半導體封裝1e包括多個半導體晶片,例如分別設置在底部晶片封裝10的第一側10a和第二側10b上的半導體晶片30a和半導體晶片30b。半導體晶片30a可以通過導電元件312a電連接到封裝件基板100。半導體晶片30b可以通過導電元件312b電連接到封裝件基板100。此外,還可以繼續在封裝基板100內設置半導體晶片,例如如第4圖所示的在封裝基板100的芯部110嵌入另外的半導體晶片。
如第6圖所示,半導體封裝1f包括多個半導體晶片,例如半導體晶片30a和半導體晶片30b。半導體晶片30a可以設置在底部晶片封裝10的第一側10a上。半導體晶片30b可以嵌入封裝基板100中。當然半導體晶片30a也可以設置在底部晶片封裝10的第二側10b上。半導體晶片30b嵌入到封裝基板100中可以更好的保護半導體晶片30b,並避免半導體晶片30b佔用表面位置,節省空間。
如第7圖所示,類似地,半導體封裝1g包括底部晶片封裝10和安裝在底部晶片封裝10的第一側10a上的頂部天線封裝20。根據所示實施例,頂部天線封裝20在尺寸上可以比底部晶片封裝10更大。此外,半導體晶片30可以設置在底 部晶片封裝10的第一側10a上。當然,類似於第1圖和第4圖所示,在底部晶片封裝10的第二側10b上以及在封裝基板100內設置額外的半導體晶片。較大的頂部天線封裝尺寸可以提高收發訊號的面積,提供更高的訊號強度。
如第8圖所示,半導體封裝1h包括底部晶片封裝10和安裝在底部晶片封裝10的第一側10a上的多個頂部天線封裝,例如頂部天線封裝20a和頂部天線封裝20b。半導體晶片30可以安裝在底部晶片封裝10的第二側10b上。根據所示實施例,頂部天線封裝20a和20b的尺寸可以小於底部晶片封裝10的尺寸。根據另一實施例,頂部天線封裝20a和20b的尺寸可以大於底部晶片封裝10的尺寸。具體的,可以是頂部天線封裝20a的尺寸小於底部晶片封裝10的尺寸,頂部天線封裝20b的尺寸小於底部晶片封裝10的尺寸。此外,半導體晶片30可以設置在底部晶片封裝10的第二側10b上。當然,類似於第1圖和第4圖所示,在底部晶片封裝10的第一側10a上以及在封裝基板100內設置額外的半導體晶片。在底部晶片封裝10的第一側10a上設置半導體晶片時,可以設置兩個,例如分別在頂部天線封裝20a和20b的下方設置。此外在封裝基板100內設置半導體晶片時,也可以不限制數量,例如設置兩個或更多個。頂部天線封裝20b可以具有與頂部天線封裝20a相同或相似的層級和結構,關於頂部天線封裝20b的結構可參考上述對頂部天線封裝20a的描述,因此不再贅述。設置多個頂部天線封裝,可以對不同的頂部天線封裝設置不同的功能,從而滿足多功能的要求,並且提高半導體封裝的整合度,並且可以增加半導體封裝的設計彈性,以滿足不同的需求。
如第9圖所示,半導體封裝1i包括底部晶片封裝10和安裝在底部晶片封裝10的第一側10a上的頂部天線封裝20。頂部天線封裝20可以包括設置在基板210的表面上的導電跡線214中的輻射天線元件220。輻射天線元件220可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號(例如RF無線訊號或毫米波(mmW)訊號)的機構。如第9圖所示,頂部天線封裝20的尺寸可以小於底部晶片封裝10的尺寸。
半導體封裝1i還可以包括設置在底部晶片封裝10的第一側10a上的導電跡線124中的輻射天線元件520。輻射天線元件520不與輻射天線元件220重疊(在豎直方向上的位置相互錯開)。在非限制性的示例中,輻射天線元件220可以是雙頻帶天線元件,輻射天線元件520可以是單頻帶天線元件。採用這種方式,可以綜合分離天線和整合在底部晶片封裝的天線的優勢,從而保證收發訊號的穩定,並且可以增加半導體封裝的設計彈性,以滿足不同的需求。
使用本發明是有優勢的,因為通過與底部晶片封裝10分隔開形成頂部天線封裝20,可以實現較低的封裝成本、較短的前置時間和較好的設計靈活性。頂部天線封裝20和底部晶片封裝10可以使用對於半導體封裝來說相對可能最佳的材質、結構和/或工藝來製造。例如,底部晶片封裝10可以用多層互連(例如在芯部110的任一側上多個堆積層)製造以適應密集佈線。另一方面,在本實施例中,頂部天線封裝20可以僅具有單層(例如,一側上是具有焊盤介面的電介質帶,另一側上具有輻射天線元件)。在非限制性示例中,可以在底部晶片封裝10中使用低k(low-k)電介質,從而以減少的寄生效應(例如減少的電阻-電容(resistive-capacitive,RC)延遲)來路由訊號,而相對較高k(higher-k)材質可以用於頂部天線封裝20以實現形狀係數(form factor)降低的天線。
第10圖至第13圖是示出了根據本發明的其他實施例的一些示例性封裝(例如,頂部天線封裝)的示意性截面圖,其中相同的數位標號表示相同的層、區域或元件。應該理解的是,除非另外特別指出,否則這裡描述的各種示例性實施例的特徵可以彼此組合。為了簡單起見,圖中僅示出了示例性頂部天線封裝的相關部分。
應該理解的是,如第10圖至第13圖所示的結構或特徵不限於頂部天線封裝。應該理解的是,如前面圖中所示,第10圖至第13圖所示的結構或特徵可以用於底部晶片封裝10中。還應該理解的是,在不脫離本發明的精神和範圍的 情況下,第10圖至第13圖的一個圖中描繪的一些特徵可以與第10圖至第13圖的另一個圖中的其他特徵組合。
如第10圖所示,頂部天線封裝2a包括基板210。例如,基板210可以是陶瓷基板、半導體基板、電介質基板、玻璃基板,但不限於此。導電跡線214形成在基板210的兩個相對的表面上。基板210可以包括一個或多個電鍍通孔212,以將訊號從基板210的一側路由到基板210的另一側。根據本發明的實施例,例如,頂部天線封裝2a可以是具有晶片或電子元件的封裝。在基板210的一個表面上,例如基板210的底表面上,可以在基板210的底表面上設置重佈線(re-wiring)層300。
在非限制性示例中,重佈線層300可以包括層壓在基板210的底表面上的電介質層320、在電介質層320上的導電層340以及導電層340上的保護層360。電介質層320可以包括任何適合的絕緣層,例如氧化矽、氮化矽、聚醯亞胺等。導電層340可以包括銅、銀或其他合金等,但不限於此。保護層360可以包括任何適合的鈍化層或阻焊層。導電層340可以通過電介質層320中的通孔322電連接到導電跡線214。在非限制性示例中,半導體晶片40可以安裝在重佈線層300上。半導體晶片40可以通過接觸元件(contact element)342和導電元件412電連接到導電層340。在其他一些實施例中,可以省略半導體晶片40。
輻射天線元件220可以設置在基板210的表面(例如,基板210的頂表面)上的導電跡線214中。輻射天線元件220可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號(例如RF無線訊號或毫米波(mmW)訊號)的機構。儘管在該圖中沒有示出,但應該理解的是,輻射天線元件220可以根據設計要求設置在基板210的底表面處或其他位置處。例如,輻射天線元件220可以是任何適合的類型,例如貼片天線、縫隙耦合天線、堆疊式貼片、偶極天線、單極天線等,並且可以具有不同的取向和/或極化。
如第11圖所示,類似地,頂部天線封裝2b包括芯部或基板210。例如,基板210可以是陶瓷基板、半導體基板、電介質基板、玻璃基板,但不限於此。電介質層520和導電跡線214、224分別形成在基板210的兩個相對的表面上。可以設置保護層560以覆蓋導電跡線224和電介質層520。電介質層520可以包括任何適合的絕緣層,例如氧化矽、氮化矽、聚醯亞胺等。保護層560可以包括任何適合的鈍化層或阻焊層。基板210可以包括一個或多個電鍍通孔212以將訊號從基板210的一側路由到基板210的另一側。
根據本發明的實施例,例如,頂部天線封裝2b可以是嵌入式晶片(embedded-chip)封裝,即,內置有半導體晶片40的封裝。在非限制性示例中,半導體晶片40可以嵌入在基板210中。半導體晶片40可以通過接觸元件422電連接到導電跡線214。此外還可以設置多個半導體晶片,例如可以在頂部天線封裝2b的相對的兩側分別設置半導體晶片,以及在頂部天線封裝2b的內部設置半導體晶片封裝。在其他一些實施例中,可以省略半導體晶片40。
輻射天線元件220可以設置在基板210上(例如,基板210的頂表面上)的導電跡線224中。輻射天線元件220可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號(例如RF無線訊號或毫米波(mmW)訊號)的機構。儘管在該圖中沒有示出,但應該理解的是,輻射天線元件220可以根據設計要求設置在基板210的底表面處或其他位置處。例如,輻射天線元件220可以是任何適合的類型,例如貼片天線、縫隙耦合天線、堆疊式貼片、偶極天線、單極天線等,並且可以具有不同的取向和/或極化。
如第12圖所示,頂部天線封裝2c可以是扇出型晶片封裝,其中至少一些封裝焊盤和/或用於將晶片連接到封裝焊盤的導線位於晶片輪廓(outline)的橫向外側或者至少與晶片的輪廓相交。這樣可以提高更多的導電層、導電元件,方便頂部天線封裝與其他部件如主機板、電路板等的連接。此外,頂部天線封 裝2c可以是晶圓級晶片尺寸封裝(wafer level chip scale package,WLCSP)。在非限制性示例中,頂部天線封裝2c可以包括由第一模塑料61封裝的半導體晶片40。第一模塑料61可以覆蓋半導體晶片40的非活性(inactive)底部表面和四個側壁表面,並且可以暴露半導體晶片40的活性(active)表面。在半導體晶片40的活性表面上,設置有多個接合焊盤或輸入/輸出(I/O)焊盤402。在其他一些示例中,可以省略半導體晶片40。
重分佈層(re-distribution layer,RDL)結構600可以設置在半導體晶片40的活性表面上和第一模塑料61的表面上,並且可以電連接到半導體晶片40的I/O焊盤402。在非限制性示例中,RDL結構600可以包括電介質層601、603和605以及電介質層601、603和605中的導電層602、604。至少一個導電元件640(例如焊料凸塊、焊球或金屬凸塊/柱)可以形成在電介質層605上以用於進一步地連接。電介質層601、603和605可以包括任何適合的絕緣層,例如氧化矽、氮化矽、聚醯亞胺等。導電層602、604可以包括銅、銀或其他合金等,但不限於此。
在非限制性示例中,頂部天線封裝2c可以包括第一模塑料61上的導電跡線614、第一模塑料61和導電跡線614上的第二模塑料62、第二模塑料62上的導電跡線624、第二模塑料62和導電跡線624上的第三模塑料63、以及第三模塑料63上的導電跡線634。貫穿模塑通孔612可以設置在第一模塑料61中用於RDL結構600與導電跡線614、624和634之間的訊號傳輸。採用這種結構,將重分佈層設置在半導體晶片和第一模塑料上,不僅可以保護半導體晶片,還可以讓頂部天線封裝結構的更加緊湊,提高頂部天線封裝的機械強度和穩固性。
輻射天線元件620可以設置在導電跡線624、634中。輻射天線元件620可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號(例如RF無線訊號或毫米波(mmW)訊號)的機構。儘管在該圖中沒有示出,但是應該理解的是,輻射天線元件620可以根據設計要求設置在導電跡線614、624和634的任何層中。例如, 輻射天線元件620可以是任何適合的類型,例如貼片天線、縫隙耦合天線、堆疊式貼片、偶極天線、單極天線等,並且可以具有不同的取向和/或極化。
如第13圖所示,頂部天線封裝2d可以具有與第12圖所示的類似的堆疊結構。頂部天線封裝2d和第12圖中所示的頂部天線封裝2c之間的區別在於頂部天線封裝2d的半導體晶片40從外部安裝在RDL結構600上。同樣地,輻射天線元件620可以設置在導電跡線624、634中。輻射天線元件620可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號(例如RF無線訊號或毫米波(mmW)訊號)的機構。儘管在該圖中沒有示出,但是應該理解的是,輻射天線元件620可以根據設計要求設置在導電跡線614、624和634的任何層中。例如,輻射天線元件620可以是任何適合的類型,例如貼片天線、縫隙耦合天線、堆疊式貼片、偶極天線、單極天線等,並且可以具有不同的取向和/或極化。在其他一些示例中,可以省略半導體晶片40。
例如,第14圖示出用於頂部天線封裝的示例性扇出型晶片封裝2e。如第14圖所示,扇出型晶片封裝2e是嵌入有半導體晶片40的封裝,其中至少一些封裝焊盤724和/或將半導體晶片40連接到封裝焊盤724的導線714位於半導體晶片40的輪廓的橫向外側或者至少與半導體晶片40的輪廓相交。扇出型晶片封裝2e可以包括用於封裝半導體晶片40的側壁和非活性上表面的模塑料710。半導體晶片40的活性表面未被模塑料710覆蓋。半導體晶片40的活性表面上的輸入/輸出(I/O)焊盤402電連接到重分佈層(RDL)結構700,RDL結構700構造在半導體晶片40的活性表面上和模塑料710的下表面上。RDL結構700包括至少一個電介質層720、在至少一個電介質層720中的用於將半導體晶片40的I/O焊盤402連接至封裝焊盤724的導電線路714、以及在至少一個電介質層720中或在至少一個電介質層720上的至少一個輻射天線元件722。導電元件740例如凸塊或者焊球,可以設置在封裝焊盤724上用於進一步地連接。在其他一些示例中,可以省略半導體晶 片40。此外,第14圖中可採用與第12圖和第13圖相類似或相同的導電跡線、輻射天線元件等結構。採用導電線路連接I/O焊盤與封裝焊盤將節省生產步驟,從而降低成本。此外扇出型晶片封裝可以設置更多的導電元件740(例如焊球或凸塊),以方便佈線和進一步的連接。
第15圖是示出了根據本發明的另一實施例的示例性半導體封裝3a的示意性截面圖,該半導體封裝3a包括安裝在底部晶片封裝上的分立天線裝置,其中,相同的層、區域或元件由相同的標號表示。根據一個實施例,半導體封裝可以是適合於5G應用的天線模組。
如第15圖所示,半導體封裝3a包括底部晶片封裝10和安裝在底部晶片封裝10上的頂部天線封裝20。底部晶片封裝10具有第一側10a和與第一側10a相對的第二側10b。頂部天線封裝20可以安裝在第一側10a上。底部晶片封裝10可以包括以並排方式安裝在第二側10b上的第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b。例如,第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b可以是RFIC晶片、基帶IC晶片、系統單晶片(SOC)晶粒、電源管理IC晶片或收發器,但是不限於此。例如,第一半導體晶片30a可以是RFIC晶片,第二半導體晶片30b可以是功率管理IC晶片。
根據一個實施例,可以通過使用覆晶(flip-chip)技術將第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b接合到第二側10b,但是不限於此。根據一個實施例,第一無源部件502和第二無源部件504可以安裝在第二側10b上,並且可以分別靠近第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b。例如,第一無源部件502和第二無源部件504可以包括分立電容器、分立電感器或分立電阻器。根據一個實施例,第一半導體晶片30a、第二半導體晶片30b、第一無源部件502和第二無源部件504可以由模塑料50封裝。可以在模塑料50的表面上提供諸如銅層的金屬塗層510,以屏蔽電磁干擾(electromagnetic interference,EMI)。此外,可以在模塑料50中在第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b之間設置金屬間壁(inter-wall) 511。
根據一個實施例,半導體封裝3a還包括連接器60,例如可以設置在第二側10b上。根據一個實施例,連接器60與第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b共面。根據一個實施例,連接器60可以通過例如封裝基板100中的導電跡線114電耦接到第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b。根據一個實施例,例如,連接器60可以通過柔性電纜(未示出)電耦接到5G數據機(modem)。
頂部天線封裝20通過導電元件240電耦接至底部晶片封裝10,導電元件240以一個或多個焊盤的形式耦接至頂部堆積層120的頂表面上的跡線124以及以一個或多個焊盤的形式耦接至基板210的底表面上的跡線214。例如,導電元件240可以包括焊球、焊料凸塊、銅凸塊、金凸塊或本領域中已知的任何合適的導電方式。頂部天線封裝20可以包括基板210。基板210可以包括一個或多個電鍍通孔212,以將訊號從基板210的一側路由到基板210的另一側。
例如,基板210可以是陶瓷基板、半導體基板、電介質基板、玻璃基板,但不限於此。根據本發明的實施例,頂部天線封裝20可以是LTCC、FCCSP、扇出型晶片封裝、基於層壓的封裝或引線接合型封裝,但不限於此。
根據一個實施例,頂部天線封裝20不包括半導體晶片或晶粒。頂部天線封裝20還可以包括位於在基板210的表面上佈置的導電跡線214中的輻射天線元件220。輻射天線元件220可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號(例如,RF無線訊號或mmW訊號)的機構。儘管在該圖中未示出,但是應當理解,可以根據設計要求將輻射天線元件220設置在基板210的底表面處。例如,輻射天線元件220可以是任何合適的類型,例如貼片天線、縫隙耦合天線、堆疊式貼片、偶極天線、單極天線等,並且可以具有不同的取向和/或極化。在一些實施例中,輻射天線元件220可以通過一個或多個電鍍通孔212或設置在基板210內的其他導電跡線將訊號從基板210的一側路由到基板210的另一側。此外,輻射天 線元件220可以包括多個天線模組,例如,雙頻帶天線元件和單頻帶天線元件,但不限於此。
第16圖是示出根據本發明另一實施例的示例性半導體封裝3b的示意性截面圖,該半導體封裝3b包括安裝在底部晶片封裝件上的分立天線裝置,其中,相同的層、區域或元件由相同的標號表示。在一些實施例中,如第16圖所示,第一無源部件502和/或第二無源部件504可以設置在第一側10a上(即,與安裝有第一半導體晶片30a和第二半導體晶片30b的側相對的側上)。例如,第一無源部件502和/或第二無源部件504可以是厚度小於70微米的小尺寸電容器,其可以通過表面安裝技術安裝在第一側10a上。
第17圖是示出根據本發明另一實施例的示例性半導體封裝3c的示意性截面圖,該半導體封裝3c包括安裝在底部晶片封裝上的分立天線裝置,其中相同的層、區域或元件由相同的標號表示。在一些實施例中,如第17圖中所示,連接器60可以安裝在基板210的底表面210b上。連接器60可以通過基板210的底表面210b上的跡線214電耦接到底部晶片封裝10。輻射天線元件220設置在基板210的頂表面210a上。輻射天線元件220可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號的機構。
第18圖是示出根據本發明另一實施例的示例性半導體封裝3d的示意性截面圖,該半導體封裝3d包括安裝在底部晶片封裝上的分立天線裝置,其中,相同的層、區域或元件由相同的標號表示。在一些實施例中,如第18圖中所示,半導體封裝3d可以包括安裝在底部晶片封裝10的第一側10a上的多個天線封裝20a~20c。物理上分離的天線封裝20a~20c可以減輕封裝翹曲的問題。多個天線封裝20a~20c中的每個均可以包括在基板210的頂表面210a上的輻射天線元件220。輻射天線元件220可以包括天線陣列或用於輻射和/或接收諸如RF無線訊號或mmW訊號的電磁訊號的機構。在一些實施例中,分離的天線封裝20a~20c可 以包括不同的輻射天線元件,分離的天線封裝的輻射天線元件220可以是任何不同合適類型天線(例如,貼片天線、縫隙耦合天線、偶極天線、單極天線等,但不限於此)的各種組合。此外,在另一些實施例中,分離的天線封裝20a~20c的輻射天線元件220可包括多個天線模組,例如雙頻帶天線元件和單頻帶天線元件,但不限於此。
儘管已經對本發明實施例及其優點進行了詳細說明,但應當理解的係,在不脫離本發明的精神以及申請專利範圍所定義的範圍內,可以對本發明進行各種改變、替換和變更。所描述的實施例在所有方面僅用於說明的目的而並非用於限制本發明。本發明的保護範圍當視所附的申請專利範圍所界定者為准。本領域習知技藝者皆在不脫離本發明之精神以及範圍內做些許更動與潤飾。
以上所述僅為本發明之較佳實施例,凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾,皆應屬本發明之涵蓋範圍。
3a:半導體封裝
10:底部晶片封裝
10a:第一側
10b:第二側
20:頂部天線封裝
30a、30b:半導體晶片
100:封裝基板
212:導電通孔
114、124:導電跡線
240:導電元件
210:基板
220:輻射天線元件
502:第一無源部件
504:第二無源部件
50:模塑料
510:金屬塗層
511:金屬間壁
60:連接器

Claims (16)

  1. 一種半導體封裝,包括:底部晶片封裝,具有第一側以及與該第一側相對的第二側,該底部晶片封裝包括在第二側上並排佈置的第一半導體晶片和第二半導體晶片;以及頂部天線封裝,安裝在該底部晶片封裝的該第一側上,其中,該頂部天線封裝包括輻射天線元件;連接器,設置在該頂部天線封裝的與該輻射天線元件相對的底表面上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的半導體封裝,其中,該第一半導體晶片包括射頻積體電路晶片,並且該第二半導體晶片包括功率管理積體電路晶片。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的半導體封裝,其中,該頂部天線封裝包括基板,該基板包括陶瓷基板、半導體基板、電介質基板或玻璃基板。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的半導體封裝,其中,該基板包括至少一個電鍍通孔,以將訊號從該基板的一側路由到該基板的另一側。
  5. 如申請專利範圍第3項所述的半導體封裝,其中,該輻射天線元件設置在該基板的表面上。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的半導體封裝,其中,該頂部天線封裝是低溫共燒陶瓷(low temperature co-fired ceramic,LTCC)、覆晶晶片尺寸封裝(flip-chip chip-scale-package,FCCSP)、疊層式封裝、引線接合型封裝或者扇出型晶片封裝。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的半導體封裝,還包括:封裝該第一半導體晶片和該第二半導體晶片的模塑料。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的半導體封裝,還包括:在該模塑料上的金屬塗層。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的半導體封裝,其中,該頂部天線封裝經由多個導電元件電耦接至該底部晶片封裝的第一側。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的半導體封裝,還包括:第一無源部件;以及第二無源部件,其中該第一無源部件和該第二無源部件包括分立電容器、分立電感器或分立電阻器。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的半導體封裝,其中,該第一無源部件和該第二無源部件設置在該第二側上,並且分別靠近該第一半導體晶片和該第二半導體晶片。
  12. 如申請專利範圍第10項所述的半導體封裝,其中,該第一無源部件設置在該第一側上,並且該第二無源部件設置在該第二側上。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的半導體封裝,其中,該連接器通過該頂部天線封裝中的跡線電耦接至該底部晶片封裝。
  14. 一種半導體封裝,包括:晶片封裝,具有第一側和與該第一側相對的第二側,該晶片封裝包括在該第二側上並排佈置的第一半導體晶片和第二半導體晶片;以及安裝在該晶片封裝的第一側上的多個天線封裝,其中,該多個天線封裝中的每一個均包括輻射天線元件;連接器,設置在該多個天線封裝的底表面上。
  15. 如申請專利範圍第14項所述的半導體封裝,其中,該多個天線封裝在物理上彼此分離。
  16. 如申請專利範圍第14項所述的半導體封裝,其中,該輻射天線元件包括天線陣列或用於輻射和/或接收電磁訊號的機構。
TW109117461A 2019-05-28 2020-05-26 半導體封裝 TWI723885B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201962853260P 2019-05-28 2019-05-28
US62/853,260 2019-05-28
US16/867,583 US11509038B2 (en) 2017-06-07 2020-05-06 Semiconductor package having discrete antenna device
US16/867,583 2020-05-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202044504A TW202044504A (zh) 2020-12-01
TWI723885B true TWI723885B (zh) 2021-04-01

Family

ID=70856998

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109117461A TWI723885B (zh) 2019-05-28 2020-05-26 半導體封裝

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP3745457B1 (zh)
CN (2) CN115831953A (zh)
TW (1) TWI723885B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113130454B (zh) * 2021-04-12 2024-07-05 长沙新雷半导体科技有限公司 一种芯片封装装置、电子模组及电子设备
CN113410181B (zh) * 2021-06-18 2022-09-23 广东工业大学 一种半导体封装结构
CN113991285A (zh) * 2021-11-05 2022-01-28 北京晟德微集成电路科技有限公司 封装天线、封装芯片及片上天线系统
US20230187377A1 (en) * 2021-12-14 2023-06-15 Mediatek Inc. Semiconductor package with integrated antenna and shielding pillars
US20230231305A1 (en) * 2022-01-14 2023-07-20 Mediatek Inc. Antenna module and method for manufacturing the same
US20250038412A1 (en) * 2022-05-06 2025-01-30 Mediatek Inc. Antenna package
CN115425394B (zh) * 2022-08-05 2024-02-27 中国电子科技集团公司第十四研究所 一种基于层叠式结构的带状线以及基于异质基材三维堆叠的层叠式阵面天线单元
KR20240088482A (ko) * 2022-12-13 2024-06-20 엘지이노텍 주식회사 안테나 인 패키지(AiP) 모듈

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102237342A (zh) * 2010-05-05 2011-11-09 中兴通讯股份有限公司 一种无线通讯模块产品
TW201216417A (en) * 2010-10-11 2012-04-16 Advanced Semiconductor Eng Semiconductor package having a double sided structure and wireless communication system using the same
TW201903994A (zh) * 2017-06-07 2019-01-16 聯發科技股份有限公司 半導體封裝
TW201911437A (zh) * 2017-08-04 2019-03-16 南韓商三星電子股份有限公司 半導體封裝的連接系統

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103258817B (zh) * 2012-09-20 2016-08-03 日月光半导体制造股份有限公司 半导体封装结构及其制造方法
JP5767268B2 (ja) * 2013-04-02 2015-08-19 太陽誘電株式会社 回路モジュール及びその製造方法
WO2017111769A1 (en) * 2015-12-22 2017-06-29 Intel Corporation Microelectronic devices designed with compound semiconductor devices and integrated on an inter die fabric
US10566298B2 (en) * 2016-04-01 2020-02-18 Intel IP Corporation Package on antenna package

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102237342A (zh) * 2010-05-05 2011-11-09 中兴通讯股份有限公司 一种无线通讯模块产品
TW201216417A (en) * 2010-10-11 2012-04-16 Advanced Semiconductor Eng Semiconductor package having a double sided structure and wireless communication system using the same
TW201903994A (zh) * 2017-06-07 2019-01-16 聯發科技股份有限公司 半導體封裝
TW201911437A (zh) * 2017-08-04 2019-03-16 南韓商三星電子股份有限公司 半導體封裝的連接系統

Also Published As

Publication number Publication date
CN115831953A (zh) 2023-03-21
CN112018101B (zh) 2023-02-03
TW202044504A (zh) 2020-12-01
EP3745457A1 (en) 2020-12-02
EP3745457B1 (en) 2024-12-04
CN112018101A (zh) 2020-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11721882B2 (en) Semiconductor package having discrete antenna device
US12095142B2 (en) Semiconductor package having discrete antenna device
TWI723885B (zh) 半導體封裝
CN110649001B (zh) 一种集成天线结构的2.5d多芯片封装结构及制造方法
US11848481B2 (en) Antenna-in-package with frequency-selective surface structure
US20200168572A1 (en) Semiconductor package assembly having a conductive electromagnetic shield layer
US8952521B2 (en) Semiconductor packages with integrated antenna and method of forming thereof
US8648454B2 (en) Wafer-scale package structures with integrated antennas
US20110024890A1 (en) Stackable Package By Using Internal Stacking Modules
US11908787B2 (en) Package structure and method of manufacturing the same
US10950554B2 (en) Semiconductor packages with electromagnetic interference shielding layer and methods of forming the same
CN113555348A (zh) 半导体设备
CN108962878B (zh) 电子封装件及其制法
US20250079319A1 (en) Semiconductor package and method of fabricating the same
US12040284B2 (en) 3D-interconnect with electromagnetic interference (“EMI”) shield and/or antenna
CN116246965B (zh) 组合型空气耦合天线封装结构及制备方法
WO2023019516A1 (zh) 芯片封装结构及电子设备
TW202247528A (zh) 天線模組及其製造方法暨電子裝置