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TWI693866B - 軟性電路板及其製造方法 - Google Patents

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TWI693866B
TWI693866B TW107129226A TW107129226A TWI693866B TW I693866 B TWI693866 B TW I693866B TW 107129226 A TW107129226 A TW 107129226A TW 107129226 A TW107129226 A TW 107129226A TW I693866 B TWI693866 B TW I693866B
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mounting portion
flexible circuit
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金弘萬
金江東
曹沅兌
徐德栽
金正燮
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韓商斯天克有限公司
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Abstract

本發明包括：基膜，形成有第一元件安裝部和第二元件安裝部；電路圖案，在所述基膜上分別向所述第一元件安裝部及所述第二元件安裝部延伸而形成，所述電路圖案包括所述第一元件安裝部內的第一端子部和所述第二元件安裝部內的第二端子部；及第一鍍層，形成於所述第二端子部；並且，所述第一鍍層包括金屬純鍍層，所述第一端子部上未形成有所述第一鍍層。

Description

軟性電路板及其製造方法
本發明係有關於軟性電路板及其製造方法，更詳細地，係有關於一種包括形成有被動元件安裝部和半導體元件安裝部的基膜的軟性電路板。
最近隨著電子設備的小型化趨勢，使用利用軟性電路板的覆晶薄膜(Chip On Film：COF)封裝技術。軟性電路板及利用其的COF封裝技術適用於例如液晶顯示器(Liquid Crystal Display；LCD)、有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode)顯示器等平板顯示器(Flat Panel Display；FPD)。
在上述的軟性電路板上，可安裝用於向所述平板顯示器提供驅動信號的半導體元件及與所述半導體元件接通的被動元件。半導體元件和被動元件在軟性電路板上的接合方式可相互不同。詳細地，例如，被動元件可利用焊料等另外的接合方式安裝，半導體元件例如可藉由倒裝晶片焊接(flip chip bonding)直接接觸安裝。
解決課題：
本發明要解決的技術問題是半導體元件與被動元件以相互不同的方式接合的軟性電路板。
本發明要解決的其他技術問題是提供一種半導體元件與被動元件以相互不同的方式接合的軟性電路板的製造方法。
本發明的技術問題並非限定於以上涉及的技術性問題，本發明的技術領域的技術人員應當明確理解未涉及的其他技術問題。
本發明的技術方案在於：
為了解決上述技術問題，根據本發明的一實施例的軟性電路板，包括：基膜，形成有第一元件安裝部和第二元件安裝部；電路圖案，在所述基膜上分別向所述第一元件安裝部及所述第二元件安裝部延伸而形成，所述電路圖案包括所述第一元件安裝部內的第一端子部和所述第二元件安裝部內的第二端子部；及第一鍍層，形成於所述第二端子部；並且，所述第一鍍層包括金屬純鍍層，所述第一端子部上未形成有所述第一鍍層。
在本發明的幾個實施例中，還包括：在所述第一端子部上形成的第二鍍層，並且，所述電路圖案包括銅，所述第二鍍層包括銅金屬合金層。
在本發明的幾個實施例中，所述第一鍍層還包括形成於所述金屬純鍍層的下部的銅金屬合金層。
在本發明的幾個實施例中，還包括在所述電路圖案上形成的保護層，所述電路圖案包括連接所述第一端子部與所述第二端子部的連接電路，所述保護層覆蓋所述連接電路。
在本發明的幾個實施例中，還包括在所述保護層與所述連接電路之間形成的中間鍍層，所述中間鍍層包括金屬純鍍層或銅金屬合金層。
在本發明的幾個實施例中，所述保護層的界限是從所述第一端子部的接合端子或所述第二端子部的接合端子分隔100μm以上。
在本發明的幾個實施例中，還包括：焊劑，在所述第一端子部上形成；第一元件，與所述焊劑接合；及第二元件，與所述第二端子部接合，並且，所述第二元件與所述電路圖案倒裝晶片焊接(flip chip bonding)。
在本發明的幾個實施例中，所述第一元件包括被動元件，所述第二元件包括半導體元件。
在本發明的幾個實施例中，所述金屬純鍍層包括錫、金、鈀、鎳、鉻中的至少一個以上。
為了解決上述技術問題，根據本發明的一實施例的軟性電路板的製造方法，包括：設置形成有第一元件安裝部和第二元件安裝部的基膜；在所述基膜上形成分別向所述第一元件安裝部和所述第二元件安裝部延伸的電路圖案，所述電路圖案包括所述第一元件安裝部內的第一端子部和所述第二元件安裝部內的第二端子部；在所述第二端子部上形成包括金屬純鍍層的第一鍍層；在所述第一端子部上將藉由焊劑接合的第一元件進行回流焊(reflow)安裝；在所述第二端子部上安裝半導體元件。
在本發明的幾個實施例中，還包括：在所述第一端子部上形成第二鍍層，並且，所述第二鍍層包括銅金屬合金層。
在本發明的幾個實施例中，形成所述第一鍍層還包括除了所述第一端子部及所述第二端子部之外的所述電路圖案上也形成所述第一鍍層。
在本發明的幾個實施例中，將所述第一元件進行回流焊安裝，包括對於所述第一元件安裝部進行局部熱處理。
在本發明的幾個實施例中，對於所述第一元件安裝部進行局部熱處理，包括利用熱風、雷射、光、熱板中的其中一個進行熱處理。
在本發明的幾個實施例中，還包括：形成所述第一鍍層後在所述電路圖案上形成保護層。
在本發明的幾個實施例中，形成所述第一鍍層，包括：在所述電路圖案上形成保護層後形成。
在本發明的幾個實施例中，在所述第二端子部上形成所述第一鍍層，包括：在覆蓋所述第二端子部的銅金屬合金層上形成所述第一鍍層。
本發明的其他詳細事項包含在詳細的說明和附圖中。
10:基膜
20:電路圖案
21、22:端子部
25:連接電路
30、31:第一鍍層
35、55:中間鍍層
36:第三中間鍍層
40:保護層
50:第二鍍層
56:第四中間鍍層
100:被動元件安裝部
110:被動元件
115:焊劑
120:半導體元件
125:凸塊
150:鍍層
200:半導體元件安裝部
A、A'、B、B':點
圖1為根據本發明的幾個實施例的軟性電路板的上視圖；圖2為沿著圖1的A-A'及B-B'截斷而圖示的本發明的幾個實施例的軟性電路板的截面圖；圖3為沿著圖1的A-A'及B-B'截斷而圖示的本發明的其他幾個實施例的軟性電路板的截面圖；圖4為沿著圖1的A-A'及B-B'截斷而圖示的本發明的其他幾個實施例的軟性電路板的截面圖；圖5為沿著圖1的A-A'及B-B'截斷而圖示的本發明的其他幾個實施例的軟性電路板的截面圖；圖6至圖8為用於說明根據本發明的幾個實施例的軟性電路板的製造方法的中間步驟附圖；圖9為用於說明本發明的幾個實施例的軟性電路板的製造方法的中間步驟附圖；圖10為用於說明本發明的幾個實施例的軟性電路板的製造方法的中間步驟附圖。
參照附圖和下面詳細說明的實施例將使得本發明的益處及特徵和達成其的方法明確。但，本發明並非限定於以下公開的實施例，而是以各種不同的形態體現，本實施例只是使得本發明的公開更加完整，並為了向本發明的所屬技術領域的普通技術人員完整地告知本發明的範疇而提供，本發明只是藉由申請專利範圍的範疇而定義。為了說明的明確性，附圖中表示的構成要素的大小和相對的大小可誇張表示。整篇說明書中相同的參照符號指稱相同的構成要素，"及/或"包括言及的項目的各個及一個以上的所有組合。
指稱為元件(elements)或層在不同層的元件或層的"上面(on)"或"上(on)"是包括不同的元件或層的直接上面及在中間介入其他層或其他元件的所有情況。相反，元件被指稱為"直接上方(directly on)"或"直接上"是指中間未介入其他元件或層。
空間上相對的術語"下面(below)"、"在下方(beneath)"、"下面(lower)"、"上面(above)"、"上部(upper)"等是如圖所示為了容易地說明一個元件或構成要素與其他元件或構成要素之間的相關關係而使用。空間上相對性的術語要理解為在附圖中表示的方向之外還包括在使用時或動作時元件的相互不同的方向。例如，將附圖中表示的元件翻轉時，記述為另一元件的"下面(below)"或"在下方(beneath)"的元件可置於另一元件的"上面(above)"。從而，示例性的術語"下面"可都包括下面和上面的方向。元件也可由不同的方向配置，從而，空間上相對性的術語可根據定向而解釋。
本說明書中使用的術語是為了說明實施例而非為了限制本發明。只要在文句中未特別言及，本說明書中單數型也包括複數型。說明書中使 用的"包括(comprises)"及/或"包含的(comprising)"除了言及的構成要素之外不排除存在或附加一個以上的其他構成要素。
雖然第一、第二等是為了說明各種元件或構成要素，但，上述的元件或構成要素並非限定於該術語。這些術語是為了將一個元件或構成要素與其他元件或構成要素區別而使用。因此，以下言及的第一元件或構成要素在本發明的技術思想範圍內也可為第二元件或構成要素。
如果沒有另外的定義，在本說明書中使用的所有術語(包括技術及科學性術語)以本發明的所屬技術領域的普通技術人員能夠共同理解的意義使用。並且，只要未明確地特別定義，在通常使用的詞典中定義的術語不能異常地或過度地解釋。
以下參照圖1至圖10說明根據本發明的實施例的軟性電路板。
圖1為根據本發明的幾個實施例的軟性電路板的上視圖；圖2為沿著圖1的A-A'及B-B'切斷而圖示的本發明的幾個實施例的軟性電路板的截面圖。
參照圖1及圖2，根據本發明的幾個實施例的軟性電路板，包括：基膜10、電路圖案20、第一鍍層30及保護層40。
基膜10可由具有柔韌性的材質形成，作為基材形成於軟性電路板，使得軟性電路板被彎曲或折疊。基膜10可例如為聚醯亞胺薄膜。於此不同地，基膜10也可為PET(Polyethylene Terephthalate)薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜、聚碳酸酯薄膜等絕緣薄膜或氧化鋁箔等金屬箔。根據本發明的實施例的軟性電路板中，基膜10為聚醯亞胺薄膜為例進行說明。
基膜10可包括被動元件安裝部100和半導體元件安裝部200。被動元件安裝部100為配置安裝在本發明的幾個實施例的軟性電路板的被動元件110的區域，半導體元件安裝部200為配置安裝在本發明的幾個實施例的軟性電路板的半導體元件120的區域。
更詳細地，在被動元件安裝部100安裝的元件例如為電阻、電容器或電感器，在半導體元件安裝部200安裝的元件例如為顯示器驅動晶片Display Driver IC，DDI。即，在本發明的幾個實施例的半導體元件安裝部200安裝DDI，在被動元件安裝部100安裝與DDI耦合的被動元件。
在圖1圖示了在基膜10上分別形成有一個被動元件安裝部100和一個半導體元件安裝部200，但，本發明並非限定於此。根據本發明的幾個實施例的軟性電路板的電路構成，形成於基膜10上的被動元件安裝部100和半導體元件安裝部200的數量可任意地變化。
被動元件安裝部100為在基膜10上安裝被動元件時被動元件與基膜10垂直地重疊(overlap)的區域。相同地，半導體元件安裝部200為在基膜20上安裝半導體元件時半導體元件與基膜10垂直地重疊的區域。
在基膜10上可形成有電路圖案20。電路圖案20包括形成於基膜10上而向被動元件安裝部100和半導體元件安裝部200內延伸的至少一個以上的導電配線。電路圖案20連接被動元件安裝部100與半導體元件安裝部200之間。從而，使得半導體元件安裝部200與被動元件安裝部100之間的電性信號藉由電路圖案20被傳送。
電路圖案20例如包含銅等導電性物質，但，本發明並非限定於此。詳細地，電路圖案20也可包含金、鋁等具有導電性的物質。本說明書中以電路圖案20包含銅為例進行說明。
在電路圖案20中包含的多個導電配線由被動元件安裝部100的縱向(圖1的上下方向)相互分隔而配置，並由被動元件安裝部100的寬幅方向(圖1的左右方向)延伸而配置。只是，其為示例性的，與在圖1中圖示的不同地，多個導電配線也可向被動元件安裝部100的寬幅方向(圖1的左右方向)之外的方向延伸。
在圖1中示例性地在被動元件安裝部100的兩側配置6個電路圖案20，在半導體元件安裝部200的兩側配置13個電路圖案20，但，本發明並非限定於此。電路圖案20的個數根據軟性電路板及與其連接的元件的設計而任意地變更。
並且，在圖1中示例性地圖示了在被動元件安裝部100的兩側分別配置有電路圖案20，但，本發明並非限定於此。電路圖案20也可只配置在元件安裝部100的一側。
電路圖案20可包括向被動元件安裝部100內延伸的第一端子部21和向半導體元件安裝部200內延伸的第二端子部22。第一端子部21和第二端子部22可藉由連接電路25進行連接。
第一端子部21與基膜10上的被動元件安裝部100重疊，第二端子部22與基膜10上的半導體元件安裝部200重疊。連接電路25可在基膜10上未與被動元件安裝部100或半導體元件安裝部200重疊。
在軟性電路板上安裝的被動元件110與電路圖案20電性連接。更詳細地，被動元件110與第一端子部21電性連接。
相同地，在軟性電路板上安裝的半導體元件120與電路圖案20電性連接。更詳細地，半導體元件120與第二端子部22電性連接。
在電路圖案20上形成有第一鍍層30。更詳細地，在半導體元件安裝部200內的電路圖案20上形成有第一鍍層30。從而，第一鍍層30未形成於第一端子部21上，只覆蓋第二端子部22而形成。
在本發明的幾個實施例中，第一鍍層30可包括金屬純鍍層。更詳細地，第一鍍層30可為錫純鍍層。所述'純鍍層'是指在第一鍍層30未擴散電路圖案20中包含的金屬成分。例如，電路圖案20包含銅時，第一鍍層30可不包含銅金屬合金層。
只是，本發明並非限定於此，金屬純鍍層的形成技術中，第一鍍層30也可包含在金屬純鍍層上擴散一部分銅的銅-金屬鍍層。即，第一鍍層30可具有在金屬純鍍層的下部形成銅-金屬鍍層的結構。
並且，在本實施例中作為第一鍍層30以錫純鍍層為示例，但，並非限定於此。第一鍍層30是電路圖案20的表面處理，除了錫之外可利用金、鈀、鎳、鉻等金屬材料中的一個或兩個以上的合金而形成。以下說明中，第一鍍層30是錫純鍍層為例說明。
如圖2所示，在本發明的幾個實施例中，第一鍍層30可未形成於被動元件安裝部100內。其原因是被動元件110與第一端子部21接合的方式和半導體元件120與第二端子部22接合的方式相互不同。詳細地，被動元件110藉由焊劑115與第一端子部21接合，半導體元件120與第二端子部22上的第一鍍層30藉由凸塊125接合。
被動元件110與第一端子部21的接合是將焊劑115配置在被動元件110的端子與第一端子部21之間，並將所述被動元件安裝部100回流焊(reflow)熱處理，而將被動元件110與第一端子部21接合。並且，所述回流焊熱處理是在被動元件安裝部100局限的區域提供包括熱風、雷射、光的熱源而加熱焊劑115，或利用熱板。
與此不同地，將半導體元件120與第二端子部22接合是藉由如下方式：將與半導體元件120的端子接合的凸塊125與第一鍍層30接觸，並加熱所述接觸部分，而將半導體元件120安裝在第二端子部22。加熱所述凸塊125是指例如藉由回流焊(reflow)技術將軟性電路板進行熱處理，或利用熱壓縮技術。
如上述地，第二端子部22藉由第一鍍層30與半導體元件120接合，從而，能夠提高半導體元件120與第二端子部22之間的黏合性。如上述地， 第一鍍層30例如包括錫純鍍層，從而，能夠提高半導體元件120的凸塊125與第一鍍層30之間的黏合性。
如上述地，本發明的幾個實施例的軟性電路板，藉助於為了提高與藉由凸塊125接合的半導體元件120的連線性，藉由在第二端子部22上形成的第一鍍層30減少在軟性電路板上安裝半導體元件120時的半導體元件120的連接不良或接合不良。從而，能夠提高軟性電路板的工作信任度。
在電路圖案20上可形成有保護層40。保護層40是例如去除為了被動元件110及半導體元件120的接合而裸露的電路圖案20的部分而形成。更詳細地，保護層40可在連接電路25上形成，並且，如圖2所示，也可在第一端子部21及第二端子部22的一部分形成。
保護層40例如可包含軟性的非導體材質，例如，可包含阻焊劑或覆膜。
在圖2中示出的軟性電路板，保護層40可直接形成於電路圖案20的上面。在此，直接形成於上面是指保護層40與電路圖案20之間未介入其他構成要素，尤其，在保護層40與電路圖案20之間未形成有另外的鍍層。
並且，較佳地，本發明的幾個實施例中，所述保護層40從安裝所述被動元件110的第一端子部21的接線端子分隔100μm以上。即，保護層40從接合被動元件110與第一端子部21的焊劑115分隔100μm以上。
並且，較佳地，保護層40從安裝半導體元件120的第二端子部22的接觸面分隔100μm以上。即，保護層40從接合半導體元件110與第二端子部22的凸塊125分隔100μm以上。
在此，分隔所述距離是因為以液狀材料形成保護層40時，預防發生保護層40邊緣的液狀材料擴展滲出(bleed)現象，而保護層形成至接合部分。從 而，可根據保護層40的邊緣的物性而變更所述分隔距離，較佳地，作為保護層40使用阻焊劑的實施例中分隔100μm以上。
並且，本發明的幾個實施例中，與其名稱不同地，在被動元件安裝部100可安裝半導體元件，在半導體元件安裝部200可安裝被動元件。從而，本發明的幾個實施例中，在被動元件安裝部100和半導體元件安裝部200安裝相互不同種類的元件即可。
由此，與上面的說明不同地，也可存在安裝半導體元件的電路圖案的接合部未形成有第一鍍層30，而在安裝被動元件的電路圖案的接合部形成第一鍍層30的實施例。
圖3為沿著圖1的A-A'及B-B'而截斷圖示的本發明的其他幾個實施例的軟性電路板的截面圖。
參照圖3，根據本發明的幾個實施例的軟性電路板，在第一端子部21上還可包括第二鍍層50。
如圖3所示，第二鍍層50只形成於第一端子部21，而未形成於第二端子部22。例如，第二鍍層50可包括銅錫合金層。
即，在圖3圖示的軟性電路板中，在第一端子部21上形成銅錫合金層，但，在第二端子部22上可形成非銅錫合金層的錫純鍍層-第一鍍層30。
最初將第一端子部21的表面電鍍而形成鍍層時，所述形成的鍍層可為錫純鍍層。之後在被動元件安裝部100安裝被動元件110的回流焊技術中，藉由所述鍍層接受的熱而發生的銅-錫之間的擴散反應而形成銅錫的第二鍍層50。
在本發明的幾個實施例中，第一鍍層30可為未受到用於被動元件110的接合的回流焊技術提供的熱量的影響的鍍層。即，為被動元件110的接合 的回流焊技術對被動元件安裝部100局部性地執行，因此，第一鍍層30不變形為銅錫合金層，而形成錫純鍍層。
圖4為沿著圖1的A-A'及B-B'截斷而圖示的本發明的其他幾個實施例的軟性電路板的截面圖。
參照圖4，根據本發明的幾個實施例的軟性電路板，包括形成於保護層40與電路圖案20之間的中間鍍層35、55。
在本發明的幾個實施例中，第一中間鍍層35可形成於被動元件安裝部100內的第一端子部21上。第一中間鍍層35可介入形成於保護層40與第一端子部21之間。從而，第一中間鍍層35與保護層40或第一中間鍍層35與第一端子部21能夠垂直地重疊。
並且，本發明的幾個實施例中，第二中間鍍層55可形成於半導體元件安裝部200內的第二端子部22上。第二中間鍍層55可介入形成於保護層40與第二端子部22之間。從而，第二中間鍍層55與保護層40，或第二中間鍍層55與第二端子部22能夠垂直地重疊。
本發明的幾個實施例中，第一中間鍍層35和第一鍍層30可包含實質上相同的組成。詳細地，第一中間鍍層35和第一鍍層30可包含錫純鍍層。
相反地，第二中間鍍層55和第二鍍層50可包含相互不同的組成。詳細地，第二中間鍍層55包含錫純鍍層，而相反地第二鍍層50包含銅錫合金層。
第一中間鍍層35和第二中間鍍層55包含錫純鍍層是因為在被動元件安裝部100安裝被動元件110的回流焊技術中，第一中間鍍層35和第二中間鍍層55藉由保護層40被阻斷與熱量的接觸。因此，第一中間鍍層35和第二中間鍍層55包含未藉由熱而擴散銅的錫純鍍層。
並且，為了使得第一中間鍍層35和第二中間鍍層55包含錫純鍍層，在電路圖案20上形成第一至第二鍍層30、50、第一至第二中間鍍層35、55， 在第一中間鍍層35和第二中間鍍層55上形成保護層40，並且，對於第二鍍層50進行回流焊技術而將被動元件110接合。
圖5為沿著圖1的A-A'及B-B'截斷而圖示的本發明的其他幾個實施例的軟性電路板的截面圖。
參照圖5，根據本發明的幾個實施例的軟性電路板，包括：第三中間鍍層36及第四中間鍍層56和在第四中間鍍層56上形成的第一鍍層31。
第三中間鍍層36可包含與第二鍍層50實質上相同的物質。詳細地，第三中間鍍層36和第二鍍層50包括銅錫合金層。
第三中間鍍層36可形成於被動元件安裝部100內的第一端子部21上。第三中間鍍層36可介入形成於保護層40與第一端子部21之間。從而，第三中間鍍層36與保護層40或第三中間鍍層36與第一端子部21能夠垂直地重疊。
第四中間鍍層56可包含與第三中間鍍層36實質上相同的物質。詳細地，第四中間鍍層56包含銅錫合金層。
第一鍍層31可形成於第四中間鍍層56上。即，第四中間鍍層56可介入形成於第一鍍層31與第二端子部22之間。第一鍍層31可包含錫純鍍層。
包含銅錫合金層的第三中間鍍層36和第四中間鍍層56介入形成於保護層40或第一鍍層31與電路圖案20的之間是因為在電路圖案20上形成錫純鍍層後接合被動元件110時，藉由回流焊技術形成第二鍍層50、第三中間鍍層36及第四鍍層56，在第四鍍層56上形成錫純鍍層即第一鍍層31。
即使形成有第四中間鍍層56，半導體元件120的接合部如同上面說明的實施例藉由錫純鍍層的第一鍍層31和凸塊125接合，因此，能夠維持原有的黏合性。
圖6至圖8為用於說明本發明的幾個實施例的軟性電路板的製造方法的中間步驟附圖；圖6至圖8與上面在圖2至圖5中圖示的本發明的幾個實施例類似地，將圖1的A-A'、B-B'截斷而圖示進行說明。
參照圖6，在基膜10上形成電路圖案20。形成電路圖案20可包括：在基膜10的一面形成金屬箔層後蝕刻形成圖案的光刻法，或在形成有底層的基膜10上形成光致抗蝕圖案，在光致抗蝕圖案之間將導電物質電解電鍍後，去除光致抗蝕圖案和底層而形成電路圖案20的半加成法(semi additive)方法，或印刷導電漿料而印刷電路圖案20的方法等。
在基膜10上形成的電路圖案20連接被動元件安裝部100與半導體元件安裝部200之間。
參照圖7，在基膜10上形成保護層40。形成保護層40的方法包括：藉由印刷法或電鍍法形成阻焊劑等液狀材料，或藉由層積法由覆膜形成，但，並非限定於此。
保護層40可覆蓋除了第一端子部21及第二端子部22之外的區域，即，覆蓋連接電路25的表面。
參照圖8，在被動元件安裝部100安裝被動元件110。詳細地，安裝被動元件110是指在被動元件安裝部100內的第一端子部21上配置焊劑115，並藉由回流焊技術將被動元件110與第一端子部21接合。
然後，參照圖2，在半導體元件安裝部200形成第一鍍層30，並藉由半導體元件120的凸塊125將半導體元件120與第一鍍層30接合。
形成第一鍍層30是例如藉由電解電鍍或無電解電鍍形成錫。
圖9為用於說明本發明的幾個實施例的軟性電路板的製造方法的中間步驟附圖；圖9為根據圖3圖示的實施例的軟性電路板的製造方法，從圖7延續說明。
參照圖9，在電路圖案20上形成保護層40後，在被動元件安裝部100和半導體元件安裝部200上形成錫純鍍層。在錫純鍍層上使用焊劑115安裝被動元件110後，藉由回流焊技術接合被動元件110。錫純鍍層可藉由所述回流焊技術變形為包括銅錫合金層的第二鍍層50。
然後，參照圖3，在半導體元件安裝部200上藉由半導體元件120的凸塊125將半導體元件120與第一鍍層30接合。
圖10為用於說明根據本發明的幾個實施例的軟性電路板的製造方法的中間步驟附圖；圖10可為在圖4中圖示的實施例的軟性電路板的製造方法，從圖6延續說明。
參照圖10，覆蓋電路圖案20而形成鍍層150，在鍍層上形成保護層40。鍍層150可覆蓋包括第一端子部21、第二端子部22及連接電路25的電路圖案20的全部而形成。形成鍍層150是例如藉由電鍍或無電解電鍍方式將錫鍍層電解形成。
保護層40可覆蓋連接電路25而形成，也可如同圖10所示，覆蓋第一端子部21和第二端子部22的一部分而形成。
然後，參照圖4，在第一端子部21上使用焊劑115接合被動元件110後，在第二端子部22上使用半導體元件120的凸塊125接合半導體元件120。
藉助於在接合被動元件110時使用的回流焊技術，第一端子部21上的鍍層150變形為銅錫合金層，而形成第二鍍層50。只是，所述回流焊技術是對於被動元件安裝部100的局部的熱處理，因此，半導體元件安裝部200上的鍍層可包括錫純鍍層。並且，與保護層40重疊的第一中間鍍層35和第二中間鍍層55也可包括錫純鍍層。
以上參照附圖說明瞭本發明的實施例，但，本發明所述實施例並非限定於此，也可以各種不同的形態製造，本發明的所述領域的普通技術人員 應當理解在不變更本發明的技術思想或必要性的特徵的前提下可以其他詳細的形態實施。因此，以上記述的實施例在所有方面只是示例性的，並非限定性的。
本發明的有益效果在於：
根據本發明的實施例的軟性電路板在基膜上包括用於半導體元件與被動元件的接合的相互不同的安裝區域，從而，能夠確保在軟性電路板上安裝的半導體元件與被動元件的接合性。
本發明的效果並非限定於上述涉及的效果，所述技術領域的技術人員應當藉由申請專利範圍明確理解未說明的其他效果。
10:基膜
20:電路圖案
21、22:端子部
25:連接電路
100:被動元件安裝部
200:半導體元件安裝部
A、A'、B、B':點

Claims (16)

  1. 一種軟性電路板，其特徵在於，包括：一基膜，形成有一第一元件安裝部和一第二元件安裝部；一電路圖案，在該基膜上分別向該第一元件安裝部及該第二元件安裝部延伸而形成，該電路圖案包括該第一元件安裝部內的一第一端子部和該第二元件安裝部內的一第二端子部；及一第一鍍層，形成於該第二端子部，其中，該第一鍍層包括一金屬純鍍層，該第一端子部上未形成有該第一鍍層；該第一鍍層還包括形成於該金屬純鍍層的下部的一銅金屬合金層。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述的軟性電路板，其特徵在於，還包括：在該第一端子部上形成的一第二鍍層，並且，該電路圖案包括銅，該第二鍍層包括一銅金屬合金層。
  3. 根據申請專利範圍第1項所述的軟性電路板，其特徵在於，還包括在該電路圖案上形成的一保護層，該電路圖案包括連接該第一端子部與該第二端子部的一連接電路，該保護層覆蓋該連接電路。
  4. 根據申請專利範圍第3項所述的軟性電路板，其特徵在於，還包括在該保護層與該連接電路之間形成的一中間鍍層，該中間鍍層包括該金屬純鍍層或一銅金屬合金層。
  5. 根據申請專利範圍第3項所述的軟性電路板，其特徵在於， 該保護層的界限是從該第一端子部的一接合端子或該第二端子部的一接合端子分隔100μm以上。
  6. 根據申請專利範圍第1項所述的軟性電路板，其特徵在於，還包括：一焊劑，在該第一端子部上形成；一第一元件，與該焊劑接合；及一第二元件，與該第二端子部接合，並且，該第二元件與該電路圖案倒裝晶片焊接(flip chip bonding)。
  7. 根據申請專利範圍第6項所述的軟性電路板，其特徵在於，該第一元件包括一被動元件，該第二元件包括一半導體元件。
  8. 根據申請專利範圍第1所述的軟性電路板，其特徵在於，該金屬純鍍層包括錫、金、鈀、鎳、鉻中的至少一個以上。
  9. 一種軟性電路板的製造方法，其特徵在於，包括：設置形成有一第一元件安裝部和一第二元件安裝部的一基膜；在該基膜上形成分別向該第一元件安裝部和該第二元件安裝部延伸的一電路圖案，該電路圖案包括該第一元件安裝部內的一第一端子部和該第二元件安裝部內的一第二端子部；在該第二端子部上形成包括一金屬純鍍層的一第一鍍層；在該第一端子部上將藉由一焊劑接合的一第一元件進行回流焊(reflow)安裝；在該第二端子部上安裝一半導體元件。
  10. 根據申請專利範圍第9項所述的軟性電路板的製造方法，其特徵在於，還包括：在該第一端子部上形成一第二鍍層， 並且，該第二鍍層包括一銅金屬合金層。
  11. 根據申請專利範圍第10項所述的軟性電路板的製造方法，其特徵在於，形成該第一鍍層還包括除了該第一端子部及該第二端子部之外的該電路圖案上也形成該第一鍍層。
  12. 根據申請專利範圍第9項所述的軟性電路板的製造方法，其特徵在於，將該第一元件進行回流焊安裝，包括對於該第一元件安裝部進行局部熱處理。
  13. 根據申請專利範圍第12項所述的軟性電路板的製造方法，其特徵在於，對於該第一元件安裝部進行局部熱處理，包括利用熱風、雷射、光、熱板中的其中一個進行熱處理。
  14. 根據申請專利範圍第9項所述的軟性電路板的製造方法，其特徵在於，還包括：形成該第一鍍層後在該電路圖案上形成一保護層。
  15. 根據申請專利範圍第14項所述的軟性電路板的製造方法，其特徵在於，形成該第一鍍層，包括：在該電路圖案上形成該保護層後形成。
  16. 根據申請專利範圍第9項所述的軟性電路板的製造方法，其特徵在於，在該第二端子部上形成該第一鍍層，包括：在覆蓋該第二端子部的一銅金屬合金層上形成該第一鍍層。
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