TWI453552B - An electrophotographic photoreceptor, a manufacturing method thereof, and an electrophotographic apparatus - Google Patents

Description

電子照像感光體、其製造方法以及電子照像裝置

本發明係關於電子照相感光體(以下，亦單稱為「感光體」)、其製造方法及搭載該感光體之電子照相裝置，更詳細係關於搭載於影印機、傳真機、印表機等各種電子照相裝置所使用之電子照相感光體、其製造方法及搭載該感光體之電子照相裝置。

利用電子照相方式的影像形成方法除用於辦公用影印機、印表機、繪圖機及複合此等機能的電子影像複合機等外，近年亦廣用於個人取向之小型印表機、傳真機送受信機等。在此等各種數位照相裝置用之感光體，自卡弩松之發明(專利文獻1作參考)以來，開發許多的感光體，在最近尤其係使用有機材料的有機感光體(OPC：Organic PhotoConductor)變得普遍。

如此之使用有機材料的有機感光體，已知在鋁等之導電性基體上依序層合由陽極氧化皮膜或樹脂膜等所成之底塗層(under coating layer)、與分散酞菁素類或偶氮顏料等之具光導電性之有機顏料於樹脂中的電荷產生層、與溶解有具有與π電子共軛系鍵結的胺或腙等之關於電荷躍遷傳導的部分構造之分子於樹脂中的電荷輸送層、與因應需要之保護層而成的機能分離型感光體。另外，亦知因應需要於底塗層上設置兼具電荷產生及電荷輸送機能的單一感光層的單層型感光體。

上述各層形成方法，將具有電荷產生或光散射等之機能的顏料(電荷產生材)、或擔任電荷輸送之電荷輸送材分別溶解或分散於適當樹脂溶液後所得之塗料中，將導電性基體予以浸漬塗布之方法因在量產性優而通常被採用。

另一方面，近年電子照相裝置，以氬、氦-氖、半導體雷射或發光二極體等之單色光為曝光光源，使影像及文字等之情報經數位(digital)化處理轉換為光信號，並於帶電的感光體上進行光照射而於感光體表面形成靜電潛像，再將此以碳粉可視化，亦即所謂數位機成為主流。

另外，電荷產生材中，酞菁素類與其他的電荷產生材比較，因在半導體雷射(780nm)之振動波長領域之吸光度大且具優異電荷產生能力，廣用於感光層用材料。目前已知使用具中心金屬為銅、鋁、銦、釩、鈦等之各種酞菁素的感光體。

使感光體帶電之方法，有scorotron等之帶電構件與感光體不接觸之非接觸帶電方式，與使用半導電性之橡膠輥或刷的帶電構件與感光體接觸之接觸帶電方式。此中接觸帶電方式與非接觸帶電方式比較，因在感光體之附近產生電暈放電，有臭氧產生少，外加電壓可為低之特長。因此，可實現體積小且低花費、低環境汚染之電子照相裝置，故尤其在中型~小型裝置上成為主流。

清潔感光體表面之手段，主要使用以刮刀刮去或顯影同時清潔製程等。刮刀之清潔，有將有機感光體表面之未轉印殘留碳粉以該刮刀刮去、將碳粉回收至廢碳粉盒或再歸回至顯影器之情形。以該刮刀之刮去方式的清潔器需要回收碳粉之回收盒或再循環利用之空間，必須監控碳粉回收盒是否已滿。另外，在刮刀上殘留紙粉或外添材時，亦有有機感光體之表面產生傷害而縮短電子照相感光體之壽命之情形。因此，亦有在顯影製程回收碳粉、在顯影輥之前設置將電子照相感光體表面附著的殘留碳粉以磁氣的或電的吸引之製程之情形。另外，為提高轉印步驟中碳粉轉印效率，嘗試藉由配合溫濕度環境或紙之特徵而適當控制轉印電流，將轉印效率提升而降低殘留碳粉。接著，適合如此之製程或接觸帶電方式之有機感光體，必須為碳粉脫模性佳之有機感光體(專利文獻2作參考)或轉印影響少之有機感光體。

反轉顯影製程中，暗部電位(dark part potential)對應影像上之白紙部，明部電位(bright part potential)對應印字部。因此，若導電性基體上存在顯著凹凸等構造上之缺陷或雜質之析出等之材質不均的缺陷等，此等會顯現為白紙部上之黑點、版污等之影像缺陷。結果，認為因導電性基體上之缺陷造成由導電性基體至感光層的電荷注入，在該缺陷上造成局部帶電電位降低，而影像不良者。尤其，在同時採用反轉顯影方式與接觸帶電方式之電子照相裝置中，因感光體與帶電構件直接接觸，產生電荷漏洩且該傾向顯著。另外，近年彩色機種增加，但在彩色機種轉印電流多設定為高，所以轉印時因電荷漏洩造成的不適當情形增加。

為了改善如此電子照相裝置中之問題，一般在導電性基體與感光層間設置底塗層，可使用鋁之陽極氧化皮膜、水鋁礦皮膜外，可使用聚乙烯基醇、酪蛋白、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酸、明膠、聚胺基甲酸乙酯、聚醯胺等之樹脂膜。例如在專利文獻3揭示使用陽極氧化皮膜於底塗層的感光體，專利文獻4~6揭示具有含特定尼龍之底塗層的感光體。然而，此等之底塗層，來自基板之曝光光的反射之干涉條紋造成影像的不適合情形的解決方式成為課題。

另外，因共聚合尼龍皮膜經浸漬塗佈法可得均一膜厚，且量產性優異、便宜，故廣被使用。例如專利文獻7揭示裏面曝光用之感光體方面，作為共聚合尼龍樹脂之構成單體使用己內醯胺。進而，專利文獻8揭示含特定共聚合組成之尼龍樹脂之底塗層在帶電或殘留電位特性上優異。另外，專利文獻9揭示含具有特定二胺成分之共聚合聚醯胺樹脂的感光體塗佈液在塗佈性與保存安定性提升上有效。但，使用如此之底塗層時，因使用環境而電特性大幅變動，尤其在高溫高濕下，底塗層吸濕而電阻變動，有影像版污產生之問題。另外，在低溫低濕環境下，有樹脂之電阻大幅上昇而明部電位上昇造成濃度降低或底塗層成為高電阻，因膜中之電荷補獲產生影像上之曝光記憶之問題。

此等之影像的不適合情形產生之對策，藉由以抑制來自基板之過量曝光光之反射，防止干涉條紋造成影像的不適合情形，同時適當調整底塗層電阻值為目的，提案將氧化鈦、氧化鋅等之金屬氧化物粒子分散於樹脂中的底塗層。例如專利文獻10，揭示以抑制環境依賴性為目的，使用中間層含氧化鈦之樹脂層。另外，專利文獻11揭示中間層使用特定構造之聚醯胺樹脂以使耐濕性提升。進而，專利文獻12揭示含有具特定構造二胺成分之共聚合聚醯胺樹脂與偶氮顏料之感光體。另外，專利文獻13揭示使用縮合聚合脂肪酸與二胺的聚醯胺樹脂之感光體。

另外，造成白底上之黑點、版污等之影像缺陷之其他要因，如底塗層所使用之金屬氧化物的凝集物。如此之凝集物存在於塗佈液中，則此等於塗佈時，亦被帶入膜中成為電荷的通路，產生電荷微小漏洩至感光層表面，造成與底層缺陷造成者同樣之影像障礙。因此，專利文獻，揭示使用金屬氧化物及特定共聚物與酞菁素顏料的感光體，可抑制長期使用的髒污。

進而，作為提升環境依賴性、金屬氧化物之分散性良好且影像特性良好之感光體，專利文獻15中揭示使用含芳香族二羧酸單體之聚醯胺樹脂於底塗層的感光體。

[專利文獻1]美國專利第2297691號說明書

[專利文獻2]特開2006-39022號公報

[專利文獻3]特開2002-323781號公報

[專利文獻4]特開平5-34964號公報

[專利文獻5]特開平2-193152號公報

[專利文獻6]特開平3-288157號公報

[專利文獻7]特開昭60-501723號公報

[專利文獻8]特開平8-328283號公報

[專利文獻9]特開平4-31870號公報

[專利文獻10]特開昭63-298251號公報

[專利文獻11]特開2003-287914號公報

[專利文獻12]特開2006-208474號公報

[專利文獻13]特開2006-221157號公報

[專利文獻14]特開2007-178660號公報

[專利文獻15]特開2004-101699號公報

然而，專利文獻10僅記載特定構造之尼龍樹脂為實施例。另外，專利文獻11，構成單體中之二碳構造中未記載芳香環，亦未充分探討關於添加芳香族二羧酸作為單體之效果。

進而，專利文獻12雖記載含有具特定構造之二胺成分的共聚合聚醯胺樹脂與偶氮顏料之感光體，但無揭示對該構造的聚醯胺樹脂之轉印履歷的效果。另外，專利文獻13中雖揭示使用縮合聚合脂肪酸與二胺的聚醯胺樹脂之感光體，但因塗佈液中不飽和脂肪酸氧化而有底塗層特性變動之問題。

然而，專利文獻14中揭示使用金屬氧化物及特定共聚物與酞菁素顏料的感光體可抑制長期使用造成的表面污染。然而，專利文獻14所記載之聚合樹脂雖可抑制二次凝集物之產生，但現況係關於在彩色機種等轉印電流高之裝置之轉印影響造成的電位變動，並未充分的探討。

進而，專利文獻15中雖提案使用含芳香族二羧酸單體之聚醯胺樹脂於底塗層的感光體，但使用該底塗層時，在如4循環彩色機種的轉印電流高之製程，有受到轉印性之影響而於影像有濃度不均之問題。

因此，在以往之感光體，如彩色機種設定高轉印電流時，逆極性之空間電荷蓄積於感光體層，對下次製程時之帶電性有負面影響，而無法避免轉印部位在次製程產生濃度變化或記憶影像的不適合情形之問題。

因此，本發明之目的係有鑑於以上之問題點而成者，可提供塗佈液安定性良好，金屬氧化物之分散性良好且無白底上之黑點、版污之影像缺陷，在各環境影像特性良好之電子照相感光體。另外，本發明之目的尤其在於提供在彩色機種之影像階調性或色再現性良好之電子照相感光體。進而，本發明之目的在於提供即使為彩色機種般轉印電流高之裝置，藉由不產生轉印影響造成的電位變動，而可獲得影像均一性高，轉印履歷不成為影像記憶的電子照相感光體、亦即可獲得安定且良好影像品質之電子照相感光體。此外，本發明以提供該電子照相感光體之製造方法及搭載該電子照相感光體之電子照相裝置為目的。

為解決上述課題，本發明者們努力研究結果，發現藉由使用特定原料，使用控制其酸值及鹼值於適度範圍內所合成之聚醯胺樹脂，並用於在此分散有金屬氧化物的底塗層，而可解決上述課題，而完成本發明。亦即發現可得到環境特性良好且在彩色機種之影像階調性或色再現性佳，金屬氧化物之分散性良好，防止白底上之黑點、版污影像缺陷之電子照相感光體而完成本發明。進而，發現即使為彩色機種般轉印電流高之裝置，不產生轉印影響造成的電位變動，而可得到影像均一性高，轉印履歷不成為影像記憶的電子照相感光體，完成本發明。

亦即，本發明之電子照相感光體為於導電性基體上依序層合底塗層及感光層而成，前述底塗層含有聚合原料之芳香族二羧酸、與碳數8以上之1種或2種以上之脂肪族二羧酸、以及具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺之樹脂作為主成分，再含有金屬氧化物而成。另外，其特徵為前述樹脂中，前述芳香族二羧酸為0.1~10mol%，前述樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。

本發明中較佳為前述樹脂在前述芳香族二羧酸與碳數8以上之1種或2種以上之前述脂肪族二羧酸之合計為Amol%、具有環烷烴構造之1種或2種以上之前述二胺之合計為Bmol%時，以滿足下述式(1)般混合聚合而成。

-2.0mol%≦A-B≦2.0mol%　(1)

本發明之其他的電子照相感光體為於導電性基體上依序層合底塗層及感光層而成，前述底塗層含有聚合作為原料之芳香族二羧酸、碳數8以上之1種的脂肪族二羧酸、與具有環烷烴構造之1種的二胺的樹脂作為主成分，再含有金屬氧化物而成。另外，前述樹脂中，特徵為前述芳香族二羧酸為0.1~10mol%，前述樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。

本發明中較佳為前述樹脂，在前述芳香族二羧酸與碳數8以上之1種的前述脂肪族二羧酸之合計為Amol%、具有環烷烴構造之1種的前述二胺之量為Bmol%時，以下述式(1)之方式混合聚合而成。

-2.0mol%≦A-B≦2.0mol%　(1)

本發明之電子照相感光體之製造方法為製造前述電子照相感光體之方法，包含在導電性基體上塗佈底塗層用之塗佈液以形成底塗層之步驟。另外，該塗佈液含有聚合作為原料之芳香族二羧酸、與碳數8以上之1種或2種以上之脂肪族二羧酸、以及具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺而成的樹脂為主成分，再含有金屬氧化物而成，其特徵係前述樹脂中，前述芳香族二羧酸為0.1~10mol%，前述樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。

本發明之電子照相裝置為搭載前述電子照相感光體者。

根據本發明，藉由上述構成，可實現在塗佈液的分散安定性極高，藉由於底塗層分散金屬氧化物，可實現在低溫低濕環境之明部電位上昇造成之濃度降低為小的電子照相感光體。另外，抑制底塗層中金屬氧化物二次凝集物之產生，而可實現無來自此等二次凝集物的白紙上之黑點、版污等之影像缺陷之電子照相感光體。進而，認為藉由使用該底塗層而提升底塗層之電洞輸送能，將轉印電位變更為高電壓時，來自底塗層之電洞補獲量減少，可降低次製程之帶電表面電位降低量。因此，藉由搭載本發明之電子照相感光體在電子照相裝置，不僅於一般使用環境，在低溫低濕度環境下亦無濃度降低或記憶，而在高溫高濕度環境下亦無版污或黑點等產生，可得到良好影像。進而，即使在彩色機種般轉印電流高之裝置，可得到無轉印影響造成影像的不適合情形之感光體。

另外，與專利文獻14所記載之樹脂比較，藉由變更構成單體，除抑制二次凝集物之產生外，在彩色機種等轉印電流高之裝置的轉印影響造成的電位變動等亦能得到充分的效果。

[實施發明之最佳形態]

以下，將本發明之電子照相感光體之較佳實施形態詳細說明。

電子照相感光體有負帶電層合型感光體與正帶電單層型感光體之兩種，但在此舉一例，圖1為負帶電層合型電子照相感光體之模式剖面圖。如圖示，本發明之電子照相感光體7為負帶電層合型感光體時，在導電性基體1上依序層合底塗層2、與由具電荷產生機能之電荷產生層4及具電荷輸送機能之電荷輸送層5所成之感光層3。又在任意形式之感光體7，於感光層3之上可再設置表面保護層6。另外，圖1中，雖表示由電荷產生層4與電荷輸送層5所成之機能分離層合型，而關於感光層3之構成，可為單一感光層所成之單層型。

另外，本發明之感光體7中，底塗層2含有以聚合作為原料之芳香族二羧酸0.1~10mol%、與碳數8以上之1種或2種以上之脂肪族二羧酸、與具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺而成的樹脂為主成分，且更含有金屬氧化物。另外，該樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。又，本發明中樹脂原料之各成分含有率的分母為樹脂原料之總和。

在此，在本發明中，聚合物之反應為羧酸與胺之脫水縮合反應之聚合，理論上，全部原料反應形成由1分子所成之高分子時，酸值及鹼值為幾乎接近0的最下限值。但，為獲得底塗層2，必須具備使所得之樹脂有對溶劑之溶解性程度的分子量。此時可得到較該最下限酸值及鹼值大之酸值及鹼值。本發明中，可得到溶劑溶解性且酸值及鹼值在10.0KOHmg/g以下即可，故未特別限制下限值。

另外，在本發明中，底塗層2所使用之上述樹脂，在芳香族二羧酸之莫耳數為0.1~10mol%。較佳為該樹脂，該芳香族二羧酸與碳數8以上之1種或2種以上之脂肪族二羧酸之合計為Amol%、具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺之合計為Bmol%時，以滿足下述式(1)之方式混合聚合而成。

-2.0mol%≦A-B≦2.0mol%　(1)

進而，在本發明中，較佳為底塗層2所使用之上述樹脂，亦可為在當該芳香族二羧酸與碳數8以上之1種的脂肪族二羧酸之合計為Amol%、具有環烷烴構造之1種的二胺之合計為Bmol%時，以滿足下述式(1)之方式混合聚合而成者。

-2.0mol%≦A-B≦2.0mol%　(1)

上述樹脂原料中之芳香族二羧酸之量需為0.1~10mol%，較佳為2~8mol%。芳香族二羧酸之量少則樹脂之吸濕性增大，且感光體7之電特性之環境變動變大，所以在高溫高濕環境下產生黑暈或黑點不良。另一方面，芳香族二羧酸之量超過10mol%，則分散性惡化。

本發明使用之芳香族二羧酸以具有下述一般式(2)

(式中，X為氫原子、烷基、烯丙基、鹵原子、烷氧基、芳基或烷撐基)所示之構造者為佳，具體上，如苯二甲酸、異苯二甲酸、對苯二甲酸、及彼等之X為烷基、烯丙基、鹵原子、芳基、烷撐基之化合物。此中以異苯二甲酸、苯二甲酸、對苯二甲酸、異苯二甲酸、或此等之氟化物、氯化物、溴化物為佳。

在本發明中，碳數8以上之1種或2種以上之脂肪酸二羧酸，可舉例如十二烷2酸、十一烷2酸、癸二酸、十三烷2酸中任一或彼等之組合的脂肪族二羧酸，而此中以十二烷2酸特佳。

在本發明中，具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺，可舉例如5-胺基-1,3,3-三甲基環己烷甲基胺(亦有記載為異佛爾酮二胺之情形)、1,2-二胺基環己烷、1,3-二胺基環己烷、1,4-二胺基環己烷、十氫萘-2、6-二胺、十氫萘-2,7-二胺，此中以異佛爾酮二胺特佳。

以下為使用此等原料的樹脂之聚合例。

首先，將上述各種原料以符合上述式(1)的任意比率混合，並於反應系內邊流入氮氣邊以常壓升溫加熱至200~350℃以進行聚縮合反應。接著，使系內減壓後以同溫度再使反應進行數小時。得到之樹脂以滴定法測定酸值及鹼值後，確認酸值及鹼值皆成為10.0KOHmg/g以下。酸值及鹼值中任一者或兩者超過10.0KOHmg/g時，無法得到良好分散性，所以再繼續反應。另外，進行得到樹脂之H¹ -NMR、C¹³ -NMR測定，可確認是否得到因應原料比率之目的共聚合聚合物。

本發明使用之金屬氧化物，可舉例如氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯、氧化矽、氧化銅、氧化鎂、氧化銻、氧化釩、氧化釔、氧化鈮之單體及複合金屬氧化物等，此等可使用1種以上。另外，在此等之金屬氧化物為了提升其分散性可施加表面處理。表面處理適用例如有機矽烷系之偶合劑，可使用矽氧烷化合物、烷氧基矽烷化合物及矽烷偶合劑所成群選出的1種以上之有機化合物等。

該金屬氧化物以酸值及鹼值皆在20.0KOHmg/g以下者為佳。分散於底塗層2中的金屬氧化物之酸值及鹼值超過20KOHmg/g，則與上述底塗層樹脂之分散性惡化，有產生影像的不適合情形之情況。更較佳為在底塗層樹脂之酸值比底塗層樹脂之鹼值高時，組合使用的金屬氧化物之鹼值以較金屬氧化物之酸值高者為佳。另外，底塗層樹脂之鹼值比底塗層樹脂之酸值高時，組合使用之金屬氧化物之酸值以較金屬氧化物之鹼值高者為佳。關於底塗層樹脂與金屬氧化物之酸鹼相互作用，以具有如此之相對關係者分散安定性更良好，故較佳。

又，金屬氧化物之酸值藉由將試料投入既知濃度丁基胺-甲醇溶液，以超音波進行1小時分散後，進行離心分離後滴定上清液而測定。另外，同時進行空白試驗，消耗之丁基胺量以KOHmg/g(每1g之KOH換算消費mg數)標記。進而，鹼值為藉由於既知濃度之乙酸-甲醇溶液中投入試料，以超音波進行1小時分散後，滴定離心分離之上清液而測定。另外，同時進行空白試驗，將己消耗之乙酸量以KOHmg/g(每1g的酸之消費量之KOH換算mg數)標記。

底塗層2之膜厚以0.1~10μm之範圍為佳，更較佳為0.3~5μm、再較佳為0.5~3.0μm。

本發明之感光體7中，底塗層2為滿足上述條件者即可，此外之各層構成，並無特別限制，可依常法適宜選擇。另外，關於感光層3之構成，可為上述由電荷產生層4與電荷輸送層5所成之機能分離層合型、或、單一感光層所成之單層型。以下中，以機能分離層合型為例說明各層構成。

導電性基體1，可使用各種金屬，例如鋁製之圓筒或導電性塑料製薄膜等。另外，亦可使用於玻璃或丙烯酸、聚醯胺、聚乙烯對苯二甲酸酯等之成型體、薄片材等賦予電極者。

電荷產生層4，可同時使用作為電荷產生材之各種有機顏料與樹脂黏著劑而形成。電荷產生材尤其以具各種結晶形態之無金屬酞菁素或中心金屬具銅、鋁、銦、釩、鈦等的各種酞菁素、各種雙偶氮顏料、參偶氮顏料為佳。此等之有機顏料以調整粒子徑為50~800nm、較佳為150~500nm後分散於樹脂黏著劑中之狀態使用。

電荷產生層4之性能亦受樹脂黏著劑影響。本發明中，對樹脂黏著劑無特別限制，可由各種的聚氯化乙烯基、聚乙烯基縮丁醛、聚乙烯基縮醛、聚酯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、苯氧基樹脂等之中選出適合者。膜厚以0.1~5μm、尤以0.2~0.5μm為佳。

為獲得良好分散狀態、形成均一電荷產生層4，塗佈液溶劑之選擇亦重要。本發明中，可使用氯化亞甲基、1,2-二氯乙烷等之脂肪族鹵化烴、四氫呋喃等醚系烴、丙酮、甲基乙基酮、環己酮等之酮類、乙酸乙酯、乙基溶纖劑等之酯類等。塗佈、乾燥後之電荷產生層4中，期望以樹脂黏著劑比率為20~80質量份之方式調整在塗佈液中電荷產生材與樹脂黏著劑之比率。特別佳電荷產生層4之組成為相對於樹脂黏著劑40~60質量份，電荷產生材為60~40質量份。

電荷產生層4塗佈形成時，適宜搭配以上所述組成物以製作塗佈液，進一步使用砂磨機、塗料搖擺器等之分散處理裝置處理塗佈液，使有機顏料粒子粒徑調整為上述期望之大小，以用於塗佈。

電荷輸送層5，可藉由製作電荷輸送材單獨或使電荷輸送材與樹脂黏著劑一同溶於適當溶劑的塗佈液並使此以浸漬法或經塗佈器之方法等於電荷產生層4上塗佈、乾燥而形成。電荷輸送材，因應影印機、印表機、傳真機送受信機等中感光體7之帶電方式，而適宜使用具正孔輸送性的物質或電子輸送性之物質。此等之物質可由習知物質(例如Borsenberger，P.M. and Weiss D.S. ed“Organic Photoreceptors for ImagingSystems”MarcelDekker Inc. 1993中所例示)之中適當選擇使用。正孔輸送材，如各種腙、苯乙烯基、二胺、丁二烯、烯胺、吲哚化合物或此等之混合物，電子輸送材，可舉例如各種苯醌衍生物、菲醌衍生物、芪醌衍生物、二氮醌衍生物等。

與電荷輸送材一起形成電荷輸送層5的樹脂黏著劑，由膜強度、耐磨耗性之觀點來看，多使用聚碳酸酯系高分子。此等聚碳酸酯系高分子，有雙酚A型、C型、Z型等，另外，亦可使用含有構成此等之單體單元之共聚物。該聚碳酸酯高分子之最佳分子量範圍為10000~100000。又此外亦可使用聚乙烯、聚亞苯基醚、丙烯酸、聚酯、聚醯胺、聚胺基甲酸乙酯、環氧基、聚乙烯基縮醛、聚乙烯基縮丁醛、苯氧基樹脂、矽酮樹脂、聚氯化乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙酸乙烯、纖維素樹脂及此等之共聚物。

電荷輸送層5之膜厚若考量感光體7之帶電特性、耐磨耗性等，以在3~50μm之範圍形成為佳。另外，為得到表面平滑性，可適當添加矽酮油。進而，因應需要可於電荷輸送層5上設置表面保護層6。

另外，單層型的感光層，主要由電荷產生材、正孔輸送材、電子輸送材(受體性化合物)及樹脂黏著劑所成。電荷產生材，可使用與層合型時相同之各種有機顏料。尤其，具各種的結晶形態之無金屬酞菁素及中心金屬具有銅、鋁、銦、釩、鈦等之各種酞菁素、各種雙偶氮、參偶氮顏料為佳。

進而，正孔輸送材，可舉例如各種腙、苯乙烯基、二胺、丁二烯、吲哚化合物或此等之混合物，作為電子輸送材，可舉例如各種苯醌衍生物、菲醌衍生物、芪醌衍生物、二氮醌衍生物，此等可單獨或2種以上組合使用。

樹脂黏著劑可單獨使用聚碳酸酯樹脂、或適當組合聚酯樹脂、聚乙烯基縮醛樹脂、聚乙烯基縮丁醛樹脂、聚乙烯基醇樹脂、氯化乙烯基樹脂、乙酸乙烯基樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯酸樹脂、聚胺基甲酸乙酯樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、矽樹脂、矽酮樹脂、聚醯胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚縮醛樹脂、聚芳香酯樹脂、聚磺基樹脂、甲基丙烯酸酯之聚合物及此等之共聚物等之樹脂使用。另外，亦可混合分子量相異之同種樹脂。

單層型感光層之膜厚，為了維持實用有效之表面電位，以3~100μm之範圍為佳，更較佳為10~50μm。另外，為得到表面平滑性可適宜添加矽酮油。進而，因應需要可於感光層上設置表面保護層6。

在本發明中，電子照相感光體7之製造方法為製造上述本發明之電子照相感光體7之方法。另外，本發明之電子照相感光體7之製造方法包含於導電性基體1上塗佈底塗層2用之塗佈液後形成底塗層2之步驟。進而，該塗佈液含有以芳香族二羧酸、碳數8以上之1種或2種以上之脂肪族二羧酸、具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺作為原料聚合之樹脂為主成分，再含有金屬氧化物。另外，該樹脂中，芳香族二羧酸為0.1~10mol%，且聚合樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。例如將由上述塗佈液以浸漬塗佈成膜之底塗層2形成於導電性基體1上，並於其上，以樹脂黏著劑中分散上述電荷產生材的塗佈液藉由浸漬塗佈形成電荷產生層4。進一步，層合以分散或溶解上述電荷輸送材於樹脂黏著劑中的塗佈液藉由浸漬塗佈形成之電荷輸送層5而可製造負帶電型感光體7。

本發明之電子照相感光體7藉由用於各種機械製程而得到所期望效果。具體上，即使在使用輥或刷之接觸帶電方式、放電管、scorotron等之非接觸帶電方式等帶電製程、再者使用非磁性一成分、磁性一成分、二成分等之顯影方式的接觸顯影及非接觸顯影方式等之顯影製程亦可獲得充分的效果。

舉一例，圖2為本發明的電子照相裝置之概略構成圖。本發明之電子照相裝置60搭載包含導電性基體1與被覆於其外周面上的底塗層2、與感光層3的本發明之電子照相感光體7。進而，該電子照相裝置60係由配置在感光體7外周緣部的輥帶電構件21、對該輥帶電構件21供應外加電壓之高壓電源22、像曝光構件23、具備顯影輥241之顯影器24、具備給紙輥251及導紙裝置252之給紙構件25、轉印帶電器(直接帶電型)26、具備清潔刮刀271之清潔裝置27、除電構件28所構成。另外，本發明之電子照相裝置60可為彩色印表機。

[實施例]

以下，將本發明以實施例詳細說明，但本發明不限於以下之例。

(實施例1)

樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸46mol%、異佛爾酮二胺50mol%，將此等以全質量成為1kg之方式在2000mL的4口燒瓶中混合。於反應系內邊流入氮邊將溫度升至200℃，收集餾出之水分。1小時後再度將溫度升至300℃，進行反應至水分不再餾出，聚合而得到實施例1之樹脂。得到樹脂之紅外吸收譜如圖3。

使得到之樹脂0.5g溶於30mL之甲醇，溶解後，以酚酞為指示劑，以0.5mol% KOH乙醇溶液進行滴定。進行空白試驗後，由樣本與空白試驗滴定量之差計算酸值。

另外，同樣地使得到之樹脂0.5g溶於30mL之甲醇，溶解後，以甲基異丙酚藍為指示劑，以0.5mol% HCl-乙醇溶液滴定。進行空白試驗後，從得到之滴定量計算鹼值。

結果得到樹脂之酸值為3.29KOHmg/g、鹼值為1.92KOHmg/g。

將該樹脂100質量份溶於由乙醇1200質量份及四氫呋喃800質量份所成之混合溶劑。溶解後，將TAYCA股份公司製之微粒子氧化鈦(JMT150)以胺基矽烷系偶合劑(γ-胺基丙基三乙氧基矽烷)與異丁基矽烷系偶合劑(異丁基三甲氧基矽烷)為1/1進行處理，製作加入經處理之氧化鈦400質量份的料漿。該氧化鈦之酸值為0.20KOHmg/g、鹼值為5.70KOHmg/g。將得到之料漿使用令珠徑0.3mm之氧化鋯珠相對於容器容量以80v/v%之容積充填率充填的碟盤形式的珠磨機，以處理液流量300mL、碟盤周速4m/s進行20pass處理，作為底塗層塗佈液(以下，亦稱「UC液」)。

使用製作之底塗層塗佈液，於圓筒狀鋁基體(導電性基體)1上經浸漬塗佈使底塗層2成膜。以乾燥溫度135℃，乾燥時間20min之條件乾燥而得到之底塗層2之乾燥後膜厚為1.5μm。

接著，使聚乙烯基縮丁醛樹脂(愛司雷課BM-1、積水化學工業股份公司製)1質量份溶於二氯甲烷98質量份。於此加入特開昭61-217050號公報所記載之α型氧鈦酞菁2質量份以製作料漿5L。將製作之料漿5L使用令珠徑0.4mm之氧化鋯珠相對於容器容量以85v/v%容積充填率充填之碟盤形式的珠磨機，以處理液流量300mL，碟盤周速3m/s進行10pass處理，成為電荷產生層塗佈液。

使用得到之電荷產生層塗佈液，於塗佈上述底塗層2的導電性基體1上使電荷產生層4成膜。以乾燥溫度80℃，乾燥時間30min之條件乾燥而得到之電荷產生層4的乾燥後膜厚為0.1~0.5μm。

接著，將作為電荷輸送材之下述構造式(3)所示之化合物5質量份與下述構造式(4)所表示之化合物5質量份以及作為樹脂黏著劑之聚碳酸酯樹脂(三菱瓦斯化學股份公司製由比然塔PCZ-500)10質量份溶於二氯甲烷80質量份。溶解後，加入矽酮油(信越聚合物股份公司製KP-340)0.1質量份以製作電荷輸送層塗佈液。將製作之電荷輸送層塗佈液於上述電荷產生層4上浸漬塗佈並以溫度90℃進行60min乾燥，形成膜厚25μm之電荷輸送層5，製作電子照相感光體7。

(實施例2)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸2mol%、十二烷2酸48mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例2之樹脂。得到樹脂之酸值為3.58KOHmg/g、鹼值為3.25KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例3)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸6mol%、十二烷2酸44mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例3之樹脂。得到樹脂之酸值為3.35KOHmg/g、鹼值為2.78KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例4)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸0.1mol%、十二烷2酸49.9mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例4之樹脂。得到樹脂之酸值為3.25KOHmg/g、鹼值為3.66KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例5)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸10mol%、十二烷2酸40mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例5之樹脂。得到樹脂之酸值為4.25KOHmg/g、鹼值為4.38KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例6)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸45.5mol%、異佛爾酮二胺50.5mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例6之樹脂。得到樹脂之酸值為2.45KOHmg/g、鹼值為5.05KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例7)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸45mol%、異佛爾酮二胺51mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例7之樹脂。得到樹脂之酸值為1.82KOHmg/g、鹼值為6.10KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例8)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸46.5mol%、異佛爾酮二胺49.5mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例8之樹脂。得到樹脂之酸值為5.09KOHmg/g、鹼值為2.66KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例9)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸47mol%、異佛爾酮二胺49mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例9之樹脂。得到樹脂之酸值為6.20KOHmg/g、鹼值為1.51KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例10)

將實施例1使用之原料混合、加熱聚合時，在聚合階段酸值成為10.0KOHmg/g、鹼值成為10.0KOHmg/g時所得到之樹脂與實施例1同樣地使用，製作底塗層塗佈液，且與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例11)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸23mol%、癸二酸23mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例11之樹脂。得到樹脂之酸值3.45KOHmg/g、鹼值為2.96KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例12)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸23mol%、癸二酸23mol%、異佛爾酮二胺25mol%、1,4-二胺基環己烷25mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例12之樹脂。得到樹脂之酸值為3.91KOHmg/g、鹼值為3.82KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例13)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、癸二酸46mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到實施例13之樹脂。得到樹脂之酸值為3.14KOHmg/g、鹼值為2.95KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體7。

(實施例14)

將實施例1所使用的氧化鈦取代為TAYCA股份公司製之微粒子氧化鈦(JMT500)以胺基矽烷系偶合劑與異丁基矽烷系偶合劑1/1處理而成的氧化鈦400g以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，製作感光體7。此時的該氧化鈦之酸值為2.00KOHmg/g、鹼值為1.00KOHmg/g。

(實施例15)

除將實施例1所使用的氧化鈦取代為三好化成股份公司製氧化鈦(SI-UFTR-Z)以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，製作感光體7。此時的該氧化鈦之酸值為0.53KOHmg/g、鹼值為0.28KOHmg/g。

(實施例16)

除將實施例1所使用的氧化鈦取代為C. I.化成股份公司製之微粒子氧化錫以胺基矽烷系偶合劑與異丁基矽烷系偶合劑1/1處理而成之氧化錫以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，製作感光體7。此時的該氧化錫之酸值為5.00KOHmg/g、鹼值為5.70KOHmg/g。

(實施例17)

除將實施例1所使用的電荷產生材取代為結晶型為Y型之氧鈦酞菁(titanyl phthalocyanine)以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，製作感光體7。

(實施例18)

除將實施例1所使用的電荷產生材取代為結晶型為X型之無金屬酞菁素以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，製作感光體7。

(實施例19)

除將實施例1所使用的電荷輸送材取代為下述構造式(5)所示之化合物10質量份以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，製作感光體7。

(實施例20)

除將實施例17所使用的電荷輸送材取代為上述構造式(5)所示之化合物10質量份以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，製作感光體7。

(比較例1)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸12mol%、十二烷2酸38mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例1之樹脂。得到樹脂之酸值為4.20KOHmg/g、鹼值為4.50KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例2)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸47.5mol%、異佛爾酮二胺48.5mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例2之樹脂。得到樹脂之酸值為10.20KOHmg/g、鹼值為0.01KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例3)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸49mol%、異佛爾酮二胺47mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例3之樹脂。得到樹脂之酸值為12.1KOHmg/g、鹼值為0.02KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例4)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸44.5mol%、異佛爾酮二胺51.5mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例4之樹脂。得到樹脂之酸值為0.02KOHmg/g、鹼值為10.28KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例5)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸43mol%、異佛爾酮二胺53mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例5之樹脂。得到樹脂之酸值為0.01KOHmg/g、鹼值為12.9KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例6)

除將比較例1所使用的氧化鈦取代為實施例14所使用的氧化鈦以外如同比較例1製作底塗層塗佈液、製作感光體。

(比較例7)

除將比較例1所使用的氧化鈦取代為實施例15所使用的氧化鈦以外如同比較例1製作底塗層塗佈液、製作感光體。

(比較例8)

除將比較例1所使用的氧化鈦取代為實施例16所使用的氧化錫以外如同比較例1製作底塗層塗佈液、製作感光體。

(比較例9)

除作為樹脂原料使用特開2007-178660號實施例1所記載之樹脂(酸值為2.11KOHmg/g、鹼值為1.56KOHmg/g)以外，與實施例1同樣地製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例10)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、己二酸46mol%、異佛爾酮二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例10之樹脂。得到樹脂之酸值為2.32KOHmg/g、鹼值為2.46KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例11)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸46mol%、六亞甲基二胺50mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例11之樹脂。得到樹脂之酸值為3.28KOHmg/g、鹼值為3.55KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例12)

除作為樹脂原料使用異苯二甲酸4mol%、十二烷2酸36mol%、異佛爾酮二胺40mol%、ε-己內醯胺20mol%以外與實施例1同樣地，得到比較例12之樹脂。得到樹脂之酸值為3.28KOHmg/g、鹼值為3.55KOHmg/g。將該樹脂如同實施例1般使用製作底塗層塗佈液，與實施例1同樣地製作感光體。

(比較例13)

除將比較例1所使用樹脂取代為股份公司東麗製之Amilan CM8000以外如同比較例1製作底塗層塗佈液、製作感光體。

將實施例1~20及比較例1~13得到之各感光體裝設在市售印表機(三星電子公司製CLP300)後，在各環境下(高溫高濕：35℃，85%RH，常溫常濕：25℃，50%RH，低溫低濕：5℃，15%RH)評估影像品質。影像數據的評估，關於電特性幾乎相同的感光體得到之影像，以影像中之白色部分中版污、黑點有無判定良與不良。更而將第1枚用紙與第2枚用紙間之轉印影響係使第2枚影像為半色調(half tone)影像時，用紙間部在第2枚之半色調影像上呈現出濃淡差者判定為轉印影響造成之用紙間記憶。

用紙間記憶判定

◎：不見記憶而為非常良好之程度

○：有實際使用上無問題的極輕微記憶程度

×：明顯有可見記憶程度

另外，將各感光體使用間特公司製感光鼓電特性測定系統CYNTHIA 91，依據圖4之電子照相裝置剖面圖之配置，配置感光體7、帶電輥8、電位計9、轉印輥10。將帶電-600V的感光體7以周速100mm/s以圖4中之箭頭方向旋轉，使轉印電壓以0kV進行3旋轉、接著使轉印電壓升至0.2kV進行3旋轉，之後每3旋轉將轉印電壓上升0.2kV，上升至1.2kV為止。測定轉印電壓0kV時之感光體帶電電位與轉印電壓加至1.2kV後之周期帶電電位差後，測定轉印影響之程度。結果如下述表1~4。該帶電電位差在40V以上，則在影像之紙間轉印記憶可輕易以目視確認，成為問題。

如上述表1~4可知，底塗層若異苯二甲酸之mol%量在特定範圍之值，且使用以異苯二甲酸、己二酸及癸二酸、與六亞甲基二胺及異佛爾酮二胺作為原料聚合所得之樹脂的各實施例的UC液，塗佈液安定性亦良好。另外，各實施例感光體7中，確認可獲得在各環境下之影像特性皆為良好，亦無轉印造成的影像記憶，電位變動量亦在40V以下之低值的結果。進而，比較脂肪族二羧酸中實施例1(十二烷2酸　碳數12)、實施例13(癸二酸　碳數8)、比較例10(己二酸　碳數6)，發現尤其在轉印性能上十二烷2酸為高。

對於此，原料中之異苯二甲酸含量高之比較例1及6~8之感光體、或上述式(1)中之A-B值在範圍外且樹脂之酸值為高之比較例2、3之感光體、A-B值在範圍外且樹脂之鹼值為高之比較例4、5之感光體，分散性皆惡化，產生影像特性不適合之情形。另外，使用不含芳香族成分的廣用樹脂之比較例13的感光體，可知尤其在高溫高濕環境下產生影像黑點。此係指樹脂之吸濕性高時，因組合金屬氧化物之種類、搭配量而可能產生如此不適合情形。

另外，如比較例9~12般，可知道以碳數未達8之二羧酸或無環烷烴構造之二胺或環狀醯胺化合物作為構成單體，藉由含有芳香族成分，環境影像特性較良好，但轉印性能不足。如此，比較例之電位變動量皆在40V以上，且確認到用紙間轉印記憶。

藉由如此使用本發明之樹脂，可知在各環境的影像特性良好，且轉印性能提升。

1．．．導電性基體

2．．．底塗層

3．．．感光層

4．．．電荷產生層

5．．．電荷輸送層

6．．．表面保護層

7．．．電子照相感光體

8．．．帶電輥

9．．．電位計

10．．．轉印輥

21．．．輥帶電構件

22．．．高壓電源

23．．．像曝光構件(曝光光源)

24．．．顯影器

241．．．顯影輥

25．．．給紙構件

251．．．給紙輥

252．．．導紙裝置

26．．．轉印帶電器(直接帶電型)

27．．．清潔裝置

271．．．清潔刮刀

28．．．除電構件

60．．．電子照相裝置

[圖1]本發明負帶電機能分離層合型電子照相感光體之構成例之模式剖面圖。

[圖2]本發明電子照相裝置之概略構成圖。

[圖3]實施例1得到樹脂之紅外吸收譜。

[圖4]帶電電位差的評估用電子照相裝置之剖面圖。

1．．．導電性基體

2．．．底塗層

3．．．感光層

4．．．電荷產生層

5．．．電荷輸送層

6．．．表面保護層

7．．．電子照相感光體

Claims (17)

1. 一種電子照相感光體，其特徵係於導電性基體上依序層合底塗層及感光層所成之電子照相感光體中，前述底塗層含有以芳香族二羧酸、與碳數8以上之1種或2種以上之脂肪族二羧酸、與具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺為原料聚合而成之樹脂為主成分，且再含有金屬氧化物而成，而前述樹脂中，前述芳香族二羧酸為0.1~10mol%，前述樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。
2. 如請求項1所記載之電子照相感光體，其中，前述樹脂係以前述芳香族二羧酸與碳數8以上之1種或2種以上之前述脂肪族二羧酸之合計為Amol%、具有環烷烴構造之1種或2種以上之前述二胺之合計為Bmol%時，以滿足下述式(1)、-2.0mol%≦A-B≦2.0mol%　(1)之方式混合聚合所成。
3. 一種電子照相感光體，其特徵係於導電性基體上依序層合底塗層及感光層所成之電子照相感光體中，前述底塗層含有以芳香族二羧酸、與碳數8以上之1種脂肪族二羧酸、與具有環烷烴構造之1種二胺為原料聚合而成之樹脂為主成分，且再含有金屬氧化物而成，前述樹脂中，前述芳香族二羧酸為0.1~10mol%，前述樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。
4. 如請求項3所記載之電子照相感光體，其中，前述樹脂係以前述芳香族二羧酸與碳數8以上之1種的前述脂肪族二羧酸之合計為Amol%、具有環烷烴構造之1種的前述二胺之量為Bmol%時，以滿足下述式(1)、-2.0mol%≦A-B≦2.0mol%　(1)之方式混合聚合所成。
5. 如請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體，其中，前述芳香族二羧酸具有下述一般式(2)、 (式中，X為氫原子、烷基、烯丙基、鹵原子、烷氧基、芳基)所示之構造。
6. 如請求項5所記載之電子照相感光體，其中，前述芳香族二羧酸為自異苯二甲酸、苯二甲酸及對苯二甲酸所成群選出之1種以上。
7. 如請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體，其中，碳數8以上之前述脂肪族二羧酸包含自十二烷2酸、十一烷2酸、癸二酸及十三烷2酸所成群選出之1種以上。
8. 如請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體，其中，前述二胺含有異佛爾酮二胺。
9. 如請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體，其中，前述金屬氧化物係由氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯、氧化矽、氧化銅、氧化鎂、氧化銻、氧化釩、氧化釔、氧化鈮之單體及此等之金屬的複合金屬氧化物所成群選出之1種以上。
10. 如請求項9所記載之電子照相感光體，其中，前述金屬氧化物被施加表面處理。
11. 如請求項10所記載之電子照相感光體，其中，前述金屬氧化物為被施加表面處理之氧化鈦。
12. 如請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體，其中，電荷產生材使用由氧鈦酞菁及無金屬酞菁素選出之1種以上。
13. 如請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體，其中，前述感光層為層合電荷產生層與電荷輸送層而成者。
14. 如請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體，其中，前述感光層為含有電荷產生材與電荷輸送材之單層。
15. 一種電子照相感光體之製造方法，其特徵係在請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體之製造方法中，包含於導電性基體上塗布底塗層用塗布液後形成底塗層之步驟，而前述塗布液含有以芳香族二羧酸、碳數8以上之1種或2種以上之脂肪族二羧酸、具有環烷烴構造之1種或2種以上之二胺為原料聚合之樹脂作為主成分，再含有金屬氧化物而成；前述樹脂中，前述芳香族二羧酸為0.1~10mol%，前述樹脂之酸值及鹼值皆為10KOHmg/g以下。
16. 一種電子照相裝置，其特徵係搭載請求項1~4中任一項所記載之電子照相感光體。
17. 如請求項16所記載之電子照相裝置，其可用作為彩色印表機。