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TWI403269B - 具有除草作用之哌化合物 - Google Patents

具有除草作用之哌化合物 Download PDF

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TWI403269B
TWI403269B TW096100345A TW96100345A TWI403269B TW I403269 B TWI403269 B TW I403269B TW 096100345 A TW096100345 A TW 096100345A TW 96100345 A TW96100345 A TW 96100345A TW I403269 B TWI403269 B TW I403269B
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TW
Taiwan
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compounds
formula
alkyl
group
compound
Prior art date
Application number
TW096100345A
Other languages
English (en)
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TW200803732A (en
Inventor
Eike Hupe
Cyrill Zagar
Matthias Witschel
Toralf Kuehn
William Karl Moberg
Rapado Liliana Parra
Frank Stelzer
Andrea Vescovi
Robert Reinhard
Bernd Sievernich
Klaus Grossmann
Thomas Ehrhardt
Original Assignee
Basf Ag
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Publication date
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Publication of TW200803732A publication Critical patent/TW200803732A/zh
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Description

具有除草作用之哌 化合物
本發明係關於具有除草作用之哌化合物。
由植物病原菌瘡痂菌(S.scabies)產生之疥鏈黴菌素(thaxtomins)A與B(King R.R.等人之J.Agric.Food Chem.(1992)40,834－837)為一種天然產物，其具有一個中心哌－2,5－二酮環，於3－位置帶有4－硝基吲哚－3－基甲基，2－位置上帶有可視需要經OH取代之苯甲基。由於其具有傷害植物之作用，因此亦探討此類化合物作為除草劑之用途可能性(King R.R.等人之J.Agric.Food Chem.(2001)49,2298－2301)。
有關疥鏈黴菌素(thaxtomins)A與B製法之合成研究中，J.Gelin等人之J.Org.Chem.58,1993,pp.3473－3475與J.Moyroud等人之Tetrahedron 52,1996,pp.8525－8543說明脫氫疥鏈黴菌素衍生物。其中特別說明如下式化合物 其中R為氫或NO2 。
N.Saito等人之J.Chem.Soc.Perkin Trans 1997,pp.53－69特別說明如下式化合物 其中Ry 為氫或苯甲基與Rx 為氫、乙醯基或異丙基氧羰基，作為製備海鞘素(ecteinascidins)之前體。
在製備弗希汀(phthalascidin)之相關合成研究中，Z.Z.Liu等人在Chinese Chem.Lett.13(8)2002,pp.701－704中說明如下式中間物，其中Bn為苯甲基：
J.Bryans等人在Journal of Antibiotics 49(10),1996,pp.1014－1021中說明如下式化合物：
WO 99/48889、WO 01/53290與WO 2005/011699說明2,5－二酮基哌化合物，其在3－與6－位置上利用亞甲基或次甲基(methyne)附接4－咪唑基且在另一個3－或6－位置上利用苯甲基或亞苯甲基附接。此等化合物為抗腫瘤化合物。
本發明係有關以式I哌化合物 或式I哌化合物之農業上適用之鹽作為除草劑之用途，其中式I之代號定義如下：R1 與R2 分別獨立為：氰基、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C3 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基；或COR21 ，其中R21 為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、羥基、C1 －C6 －烷氧基、C3 －C6 －烯基氧、C3 －C6 －炔基氧、胺基、C1 －C6 －烷基胺基、[二－(C1 －C6 )－烷基]胺基、C3 －C6 －烯基胺基、C3 －C6 －炔基胺基、C1 －C6 －烷基磺醯基胺基、N－(C2 －C6 －烯基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C2 －C6 －炔基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C1 －C6 －烷氧基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C2 －C6 －烯基)－N－(C1 －C6 －烷氧基)胺基、N－(C2 －C6 －炔基)－N－(C1 －C6 －烷氧基)胺基、苯基、苯基胺基、苯氧基、萘基或雜環基；或NR22 R23 ，其中R22 與R23 分別獨立為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C3 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基或C1 －C6 －烷基羰基；或OR24 ，其中R24 為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C3 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基或苯基－(C1 －C6 )－烷基；或SO2 R25 ，其中R25 為C1 －C6 －烷基或苯基；其中R1 與R2 之取代基之如上述脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化與/或可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C3 －C6 －環烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －烷基硫、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基、C1 －C4 －烷基羰基、羥基羰基、C1 －C4 －烷氧基羰基、胺基羰基、C1 －C4 －烷基胺基羰基、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基羰基或C1 －C4 －烷基羰基氧；且其中R1 亦可為氫；R3 為氫、鹵素、氰基、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基；或基團COR26 、NR27 R28 、OR29 、SO2 R30 或N(OR31 )R32 ，其中R26 為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、羥基、C1 －C6 －烷氧基、C3 －C6 －烯基氧、C3 －C6 －炔基氧、胺基、C1 －C6 －烷基胺基、[二－(C1 －C6 )－烷基]胺基、C3 －C6 －烯基胺基、C3 －C6 －炔基胺基、C1 －C6 －烷基磺醯基胺基、N－(C2 －C6 －烯基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C2 －C6 －炔基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C1 －C6 －烷氧基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C2 －C6 －烯基)－N－(C1 －C6 －烷氧基)胺基、N－(C2 －C6 －炔基)－N－(C1 －C6 －烷氧基)胺基、苯基、苯基胺基、苯氧基、萘基或雜環基；R27 與R28 分別獨立為氫、C1 －C6 －烷基、芳基或雜芳基；R29 為C1 －C6 －烷基；R30 為C1 －C6 －烷基或苯基；R31 為氫、C1 －C6 －烷基、苯基或苯基－(C1 －C6 )－烷基；R32 為C1 －C6 －烷基、苯基或苯基－(C1 －C6 )－烷基；其中R3 或R26 、R27 、R28 、R29 、R30 、R31 與R32 之取代基之如上述脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化與/或可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C3 －C6 －環烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －烷基硫、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基、C1 －C4 －烷基羰基、羥基羰基、C1 －C4 －烷氧基羰基、胺基羰基、C1 －C4 －烷基胺基羰基、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基羰基或C1 －C4 －烷基羰基氧；R4 、R5 、R6 分別獨立為氫、羥基、C1 －C6 －烷基、C1 －C6 －烷氧基，其中R4 、R5 或R6 之取代基之如上述脂系部份基團可部份或完全鹵化與/或可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C3 －C6 －環烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －烷基硫、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基、C1 －C4 －烷基羰基、羥基羰基、C1 －C4 －烷氧基羰基、胺基羰基、C1 －C4 －烷基胺基羰基、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基羰基或C1 －C4 －烷基羰基氧；A1 為芳基或雜芳基；A2 為芳基或雜芳基，但吲哚基除外；Ra 為鹵素、氰基、硝基、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C4 －C10 －烷二烯基、C2 －C6 －炔基、[三－(C1 －C6 )－烷基矽烷基]－(C2 －C6 )－炔基、C3 －C6－環炔基、C1 －C6 －烷基硫、C1 －C6 －烷基亞磺醯基、芳基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、苯基－(C2 －C6 )－烯基、苯基磺醯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基或苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基，Z1 P(O)(OR9 )2 、Z2 B(OR10 )2 ，其中R9 與R10 分別為氫或C1 －C6 －烷基，且Z2 B(OR10 )2 中之基團R10 共同形成C2 －C4 －伸烷基鏈；或Z3 COR11 ，其中R11 為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、羥基、C1 －C6 －烷氧基、C3 －C6 －烯基氧、C3 －C6 －炔基氧、胺基、C1 －C6 －烷基胺基、[二－(C1 －C6 )－烷基]胺基、C1 －C6 －烷氧基胺基、[二－(C1 －C6 )－烷氧基]胺基、C1 －C6 －烷基磺醯基胺基、C1 －C6 －烷基胺基磺醯基胺基、[二－(C1 －C6 )－烷基胺基]磺醯基胺基、C3 －C6 －烯基胺基、C3 －C6 －炔基胺基、N－(C2 －C6 －烯基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C2 －C6 －炔基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C1 －C6 －烷氧基)－N－(C1 －C6 －烷基)胺基、N－(C2 －C6 －烯基)－N－(C1 －C6 －烷氧基)胺基、N－(C2 －C6 －炔基)－N－(C1 －C6 －烷氧基)胺基、苯基、苯氧基、苯基胺基、萘基或雜環基；或Z4 NR12 R13 ，其中R12 與R13 分別獨立為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C3 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、C1 －C6 －烷基羰基、C3 －C6 －環烷基羰基、[二－(C1 －C6 )－烷基胺基]羰基、C1 －C6 －烷氧基羰基、C1 －C6 －烷氧基羰基－(C1 －C6 )－烷基、C1 －C6 －烷基磺醯基、C1 －C6 －烷基胺基磺醯基、[二－(C1 －C6 )－烷基胺基]磺醯基、苯基羰基、苯基胺基羰基、苯基磺醯基、苯基磺醯基胺基羰基或雜環基羰基；或Z5 CH＝N－O－R14 ，其中R14 為氫或C1 －C6 －烷基；或Z6 OR15 ，其中R15 為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C3 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、C1 －C6 －烷基羰基、C1 －C6 －烷氧基羰基－(C1 －C6 )－烷基、[二－(C1 －C6 )－烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基、苯基或苯基－(C1 －C6 )－烷基；或Z7 SO2 R16 ，其中R16 為C1 －C6 －烷基或苯基；且其中Z1 、Z2 、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 、Z7 分別獨立為一鍵結、－CH2 －、－CH2 －CH2 －、－O－CH(R17 )－、－S－CH(R18 )－、－S(O)－CH(R19 )－或－SO2 CH(R20 )－，且其中R17 、R18 、R19 與R20 分別獨立為氫或C1 －C6 －烷基；且其中如上述Ra 取代基之脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化與/或可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C3 －C6 －環烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －鹵烷氧基、C1 －C4 －烷基硫、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基、C1 －C4 －烷基羰基、羥基羰基、C1 －C4 －烷氧基羰基、胺基羰基、C1 －C4 －烷基胺基羰基、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基羰基或C1 －C4 －烷基羰基氧；與Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 分別獨立為氫或如上述Ra 定義之一；且其中Ra 、Rb 或Rc 中兩個附接A1 上相鄰環原子之基團或Rd 、Re 或Rf 中兩個附接A2 上相鄰環原子之基團亦可為直鏈C3 －C6 －伸烷基，其可部份或完全鹵化且可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C3 －C6 －環烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －烷基硫、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基、C1 －C4 －烷基羰基、羥基羰基、C1 －C4 －烷氧基羰基、胺基羰基、C1 －C4 －烷基胺基羰基、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基羰基或C1 －C4 －烷基羰基氧，其中C3 －C6 －伸烷基中一個CH2 基團可被一羰基、硫羰基或磺醯基置換，且C3 －C6 －伸烷基中一或二個相鄰CH2 基團可分別被氧或硫或基團NR34 置換，其中R34 如上述R12 定義之一。
本發明之目的為提供一種具有除草作用之化合物。特定言之本發明提供一種具有高度除草活性之化合物，特定言之即使在低施用率下，且其與作物植株之相容性足以供商業使用。
此目的及其他目的可利用式I所定義化合物及其農業上適用之鹽達成。
因此，本發明係有關以通式I哌化合物或式I哌化合物之農業上適用之鹽作為除草劑上之用途，亦即用於控制有害植物。
本發明亦有關一種組合物，其包含除草有效量之至少一種式I哌化合物或I之農業上適用之鹽與調配作物保護劑時常用之輔助物質。
此外，本發明係有關一種控制不要之植物生長之方法，其包括由除草有效量之至少一種式I哌化合物或I之農業上適用之鹽作用在植物、其種子與/或其棲息地上。
式I哌化合物為新穎化合物，亦形成本發明主題之一部份，－但不包括式I中A1 為苯基與A2 為4－咪唑基或A1 為4－咪唑基與A2 為苯基之化合物，－亦不包括式I中R1 為氫與R2 為甲基，R3 、R4 、R5 與R6 為氫，基團A1 (Ra Rb Rc )為4－甲氧基苯基與基團(Rd Re Rf )為苯基之化合物，－亦不包括式I中A1 為苯基，R1 與R2 為甲基，R3 、R4 、R5 與R6 為氫，Ra 為附接在3－位置之苯甲基氧，Rb 與Rc 為氫，基團A2 (Rd Re Rf )為苯基或3－硝基苯基之化合物，－亦不包括式I中R1 為氫、乙醯基或異丙基氧羰基，R2 為氫或苯甲基，R3 、R4 、R5 與R6 為氫，基團A1 (Ra Rb Rc )為如下式基團之化合物 其中#表示附接帶有R3 之次甲基碳，基團A2 (Rd Re Rf )為3－甲基－4－甲氧基苯基。
－亦不包括式I中R1 為異丙基氧羰基與R2 為苯甲基，R3 、R4 、R5 與R6 為氫，基團A1 (Ra Rb Rc )與A2 (Rd Re Rf )分別為3,4,5－三甲氧基苯基之化合物。
此外，本發明係有關製備式I化合物之方法及中間物。
此外，本發明具體實施例可由請求項、說明書與實例中了解。咸了解，如上述特色及本發明主題之詳細說明不僅可應用於各特別指定實例之組合中，且可在不偏離本發明範圍下應用於其他組合。
依取代型態而定，式I化合物可能包括一個或多個對掌性中心，此時可能出現對映異構物或非對映異構物混合物。本發明提供純對映異構物或非對映異構物與其混合物。
式I化合物亦可呈其農業上適用之鹽型，鹽之性質通常不重要。合適鹽類通常為所含陽離子與陰離子不會負面影響化合物I除草作用之彼等陽離子之鹽類及彼等酸類之酸加成鹽類。
合適陽離子特定言之為鹼金屬離子，較佳為鋰、鈉或鉀，鹼土金屬離子，較佳為鈣或鎂，及過渡金屬離子，較佳為錳、銅、鋅或鐵。同樣要可使用銨作為陽離子，其中若需要時，1至4個氫原子可被C1 －C4 －烷基、羥基－C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －烷氧基－C1 －C4 －烷基、羥基－C1 －C4 －烷氧基－C1 －C4 －烷基、苯基或苯甲基置換，較佳為銨、二甲基銨、二異丙基銨、四甲基銨、四丁基銨、2－(2－羥基乙－1－氧)乙－1－基銨、二(2－羥基乙－1－基)銨、三甲基苯甲基銨。亦可述及鏻離子、鋶離子，較佳為三(C1 －C4 －烷基)鋶離子與氧化鋶離子，較佳為三(C1 －C4 －烷基)氧化鋶離子。
適用之酸加成鹽之陰離子主要為氯離子、溴離子、氟離子、硫酸氫根、硫酸根、磷酸二氫根、磷酸氫根、硝酸根、碳酸氫根、碳酸根、六氟矽酸根、六氟磷酸根、苯甲酸根，與C1 －C4 －烷酸類之陰離子，較佳為甲酸根、乙酸根、丙酸根與丁酸根。
根據本發明化合物之取代基所述及有機部份基團係各所指定族群成員之個別基團總稱。所有烴鏈，如：烷基、鹵烷基，及下列基團之烷基部份基團：氰基烷基、烷氧基、鹵烷氧基、烷基硫、鹵烷基硫、烷基亞磺醯基、鹵烷基亞磺醯基、烷基磺醯基、鹵烷基磺醯基、N－烷基胺基磺醯基、N,N－二烷基胺基磺醯基、二烷基胺基、N－烷基磺醯基胺基、N－鹵烷基磺醯基胺基、N－烷基－N－烷基磺醯基胺基、N－烷基－N－鹵烷基磺醯基胺基、烷基羰基、鹵烷基羰基、烷氧基羰基、鹵烷氧基羰基、烷基羰基氧、烷基胺基羰基、二烷基胺基羰基、二烷基胺基硫羰基、烷氧基烷基、二烷氧基烷基、烷基硫烷基、二烷基胺基烷基、二烷基聯胺基烷基、烷基亞胺基氧烷基、烷基羰基烷基、烷氧基亞胺基烷基、N－(烷基胺基)亞胺基烷基、N－(二烷基胺基)亞胺基烷基、烷氧基羰基烷基、二烷基胺基羰基烷基、苯基烯基羰基、雜環基烯基羰基、N－烷氧基－N－烷基胺基羰基、N－烷基－N－苯基胺基羰基、N－烷基－N－雜環基胺基羰基、苯基烷基、雜環基烷基、苯基羰基烷基、雜環基羰基烷基、二烷基胺基烷氧基羰基、烷氧基烷氧基羰基、烯基羰基、烯基氧羰基、烯基胺基羰基、N－烯基－N－烷基胺基羰基、N－烯基－N－烷氧基胺基羰基、炔基羰基、炔基氧羰基、炔基胺基羰基、N－炔基－N－烷基胺基羰基、N－炔基－N－烷氧基胺基羰基、烯基、炔基、鹵烯基、鹵炔基與烷氧基烷氧基部份基團可為直鏈或分支。字首Cn －Cm －指烴部份基團之各碳原子數。除非本文中另有說明，否則鹵化取代基最好帶有1至5個相同或相異鹵原子，特定言之氟原子或氯原子。
鹵素一詞分別指氟、氯、溴或碘。
其他定義之實例為：烷基，及例如：烷氧基、烷基硫、烷基亞磺醯基與烷基磺醯基、烷基羰基、烷基胺基、烷基矽烷基、苯基烷基、苯基磺醯基烷基、雜環基烷基中之烷基部份基團：具有一個或多個碳原子，例如：1至2個，1至4個或1至6個碳原子之飽和直鏈或分支烴，例如：C1 －C6 －烷基，如：甲基、乙基、丙基、1－甲基乙基、丁基、1－甲基丙基、2－甲基丙基、1,1－二甲基乙基、戊基、1－甲基丁基、2－甲基丁基、3－甲基丁基、2,2－二甲基丙基、1－乙基丙基、己基、1,1－二甲基丙基、1,2－二甲基丙基、1－甲基戊基、2－甲基戊基、3－甲基戊基、4－甲基戊基、1,1－二甲基丁基、1,2－二甲基丁基、1,3－二甲基丁基、2,2－二甲基丁基、2,3－二甲基丁基、3,3－二甲基丁基、1－乙基丁基、2－乙基丁基、1,1,2－三甲基丙基、1,2,2－三甲基丙基、1－乙基－1－甲基丙基、1－乙基－2－甲基丙基。根據本發明一項具體實施例中，烷基指小型烷基，如：C1 －C4 －烷基。根據本發明另一項具體實施例中，烷基指相當大烷基，如：C5 －C6 －烷基。
鹵烷基：其氫原子經鹵原子(如：氟、氯、溴與/或碘)部份或完全取代之如上述烷基，例如：氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯氟甲基、二氯氟甲基、氯二氟甲基、2－氟乙基、2－氯乙基、2－溴乙基、2－碘乙基、2,2－二氟乙基、2,2,2－三氟乙基、2－氯－2－氟乙基、2－氯－2,2－二氟乙基、2,2－二氯－2－氟乙基、2,2,2－三氯乙基、五氟乙基、2－氟丙基、3－氟丙基、2,2－二氟丙基、2,3－二氟丙基、2－氯丙基、3－氯丙基、2,3－二氯丙基、2－溴丙基、3－溴丙基、3,3,3－三氟丙基、3,3,3－三氯丙基、2,2,3,3,3－五氟丙基、七氟丙基、1－(氟甲基)－2－氟乙基、1－(氯甲基)－2－氯乙基、1－(溴甲基)－2－溴乙基、4－氟丁基、4－氯丁基、4－溴丁基與九氟丁基。
環烷基與例如：環烷氧基或環烷基羰基中環烷基部份基團：具有三個或多個碳原子(例如：3至6個碳環組員)之單環飽和烴基，如：環丙基、環丁基、環戊基與環己基。
烯基與例如：苯基－(C2 －C6 )－烯基或烯基胺基中之烯基部份基團：具有兩個或多個碳原子，例如：2至4個，2
至6個或3至6個碳原子，與任何位置上之一個雙鍵之直鏈或分支烴基，例如：C2 －C6 －烯基，如：乙烯基、1－丙烯基、2－丙烯基、1－甲基乙烯基、1－丁烯基、2－丁烯基、3－丁烯基、1－甲基－1－丙烯基、2－甲基－1－丙烯基、1－甲基－2－丙烯基、2－甲基－2－丙烯基、1－戊烯基、2－戊烯基、3－戊烯基、4－戊烯基、1－甲基－1－丁烯基、2－甲基－1－丁烯基、3－甲基－1－丁烯基、1－甲基－2－丁烯基、2－甲基－2－丁烯基、3－甲基－2－丁烯基、1－甲基－3－丁烯基、2－甲基－3－丁烯基、3－甲基－3－丁烯基、1,1－二甲基－2－丙烯基、1,2－二甲基－1－丙烯基、1,2－二甲基－2－丙烯基、1－乙基－1－丙烯基、1－乙基－2－丙烯基、1－己烯基、2－己烯基、3－己烯基、4－己烯基、5－己烯基、1－甲基－1－戊烯基、2－甲基－1－戊烯基、3－甲基－1－戊烯基、4－甲基－1－戊烯基、1－甲基－2－戊烯基、2－甲基－2－戊烯基、3－甲基－2－戊烯基、4－甲基－2－戊烯基、1－甲基－3－戊烯基、2－甲基－3－戊烯基、3－甲基－3－戊烯基、4－甲基－3－戊烯基、1－甲基－4－戊烯基、2－甲基－4－戊烯基、3－甲基－4－戊烯基、4－甲基－4－戊烯基、1,1－二甲基－2－丁烯基、1,1－二甲基－3－丁烯基、1,2－二甲基－1－丁烯基、1,2－二甲基－2－丁烯基、1,2－二甲基－3－丁烯基、1,3－二甲基－1－丁烯基、1,3－二甲基－2－丁烯基、1,3－二甲基－3－丁烯基、2,2－二甲基－3－丁烯基、2,3－二甲基－1－丁烯基、2,3－二甲基－2－丁烯基、2,3－二甲基－3－丁烯基、3,3－二甲基－1－丁烯基、3,3－二甲基－2－丁烯基、1－乙基－1－丁烯基、1－乙基－2－丁烯基、1－乙基－3－丁烯基、2－乙基－1－丁烯基、2－乙基－2－丁烯基、2－乙基－3－丁烯基、1,1,2－三甲基－2－丙烯基、1－乙基－1－甲基－2－丙烯基、1－乙基－2－甲基－1－丙烯基、1－乙基－2－甲基－2－丙烯基。
根據本發明一項具體實施例中，係使用如：C2 －C6 －烯基之烯基。根據本發明另一項具體實施例中，係使用如：C3 －C6 －烯基之烯基。
環烯基與環烯基部份基團：具有三個或多個碳原子，例如：3至6個，較佳為5至6個碳環組員之單環狀單不飽和烴基，如：環戊烯－1－基、環戊烯－3－基、環己烯－1－基、環己烯－3－基、環己烯－4－基。
炔基與例如：[三－(C1 －C6 )－烷基矽烷基－(C2 －C6 )－炔基或炔基胺基中炔基部份基團：具有兩個或多個碳原子，例如：2至4個，2至6個或3至6個碳原子及任何位置上但不可相鄰之1或2個參鍵之直鏈或分支烴，例如：C2 －C6 －炔基，如：乙炔基、1－丙炔基、2－丙炔基、1－丁炔基、2－丁炔基、3－丁炔基、1－甲基－2－丙炔基、1－戊炔基、2－戊炔基、3－戊炔基、4－戊炔基、1－甲基－2－丁炔基、1－甲基－3－丁炔基、2－甲基－3－丁炔基、3－甲基－1－丁炔基、1,1－二甲基－2－丙炔基、1－乙基－2－丙炔基、1－己炔基、2－己炔基、3－己炔基、4－己炔基、5－己炔基、1－甲基－2－戊炔基、1－甲基－3－戊炔基、1－甲基－4－戊炔基、2－甲基－3－戊炔基、2－甲基－4－戊炔基、3－甲基－1－戊炔基、3－甲基－4－戊炔基、4－甲基－1－戊炔基、4－甲基－2－戊炔基、1,1－二甲基－2－丁炔基、1,1－二甲基－3－丁炔基、1,2－二甲基－3－丁炔基、2,2－二甲基－3－丁炔基、3,3－二甲基－1－丁炔基、1－乙基－2－丁炔基、1－乙基－3－丁炔基、2－乙基－3－丁炔基、1－乙基－1－甲基－2－丙炔基。
環炔基與環炔基部份基團：具有三個或多個碳原子，例如：3至6個，較佳為5至6個碳環組員與一個參鍵之單環烴，如：環己炔－1－基、環己炔－3－基、環己炔－4－基。
C4 －C10 －烷二烯基：具有4個或多個碳原子與任何位置上但不可相鄰之2個雙鍵，例如：4至10個碳原子與任何位置上但不可相鄰之2個雙鍵之雙不飽和直鏈或分支烴，例如：1,3－丁二烯基丁二烯基、1－甲基－1,3－丁二烯基、2－甲基－1,3－丁二烯基、戊－1,3－二烯－1－基、己－1,4－二烯－1－基、己－1,4－二烯－3－基、己－1,4－二烯－6－基、己－1,5－二烯－1－基、己－1,5－二烯－3－基、己－1,5－二烯－4－基、庚－1,4－二烯－1－基、庚－1,4－二烯－3－基、庚－1,4－二烯－6－基、庚－1,4－二烯－7－基、庚－1,5－二烯－1－基、庚－1,5－二烯－3－基、庚－1,5－二烯－4－基、庚－1,5－二烯－7－基、庚－1,6－二烯－1－基、庚－1,6－二烯－3－基、庚－1,6－二烯－4－基、庚－1,6－二烯－5－基、庚－1,6－二烯－2－基、辛－1,4－二烯－1－基、辛－1,4－二烯－2－基、辛－1,4－二烯－3－基、辛－1,4－二烯－6－基、辛－1,4－二烯－7－基、辛－1,5－二烯－1－基、辛－1,5－二烯－3－基、辛－1,5－二烯－4－基、辛－1,5－二烯－7－基、辛－1,6－二烯－1－基、辛－1,6－二烯－3－基、辛－1,6－二烯－4－基、辛－1,6－二烯－5－基、辛－1,6－二烯－2－基、癸－1,－4－二烯基、癸－1,5－二烯基、癸－1,6－二烯基、癸－1,7－二烯基、癸－1,8－二烯基、癸－2,5－二烯基、癸－2,6－二烯基、癸－2,7－二烯基、癸－2,8－二烯基。
烷氧基或例如：苯基烷氧基、烷氧基胺基、烷氧基羰基中之烷氧基部份基團：利用氧原子附接之如上述定義烷基：例如：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、1－甲基乙氧基、丁氧基、1－甲基丙氧基、2－甲基丙氧基或1,1－二甲基乙氧基、戊氧基、1－甲基丁氧基、2－甲基丁氧基、3－甲基丁氧基、1,1－二甲基丙氧基、1,2－二甲基丙氧基、2,2－二甲基丙氧基、1－乙基丙氧基、己氧基、1－甲基戊氧基、2－甲基戊氧基、3－甲基戊氧基、4－甲基戊氧基、1,1－二甲基丁氧基、1,2－二甲基丁氧基、1,3－二甲基丁氧基、2,2－二甲基丁氧基、2,3－二甲基丁氧基、3,3－二甲基丁氧基、1－乙基丁氧基、2－乙基丁氧基、1,1,2－三甲基丙氧基、1,2,2－三甲基丙氧基、1－乙基－1－甲基丙氧基或1－乙基－2－甲基丙氧基。
根據本發明一項具體實施例中，使用小型烷氧基如：C1 －C4 －烷氧基。根據本發明另一項具體實施例中，使用相當大型烷氧基，如：C5 －C6 －烷氧基。
烯基氧：利用氧原子附接之如上述定義烯基：例如：C3 －C6 －烯基氧,如：1－丙烯基氧、2－丙烯基氧、1－甲基乙烯基氧、1－丁烯基氧、2－丁烯基氧、3－丁烯基氧、1－甲基－1－丙烯基氧、2－甲基－1－丙烯基氧、1－甲基－2－丙烯基氧、2－甲基－2－丙烯基氧、1－戊烯基氧、2－戊烯基氧、3－戊烯基氧、4－戊烯基氧、1－甲基－1－丁烯基氧、2－甲基－1－丁烯基氧、3－甲基－1－丁烯基氧、1－甲基－2－丁烯基氧、2－甲基－2－丁烯基氧、3－甲基－2－丁烯基氧、1－甲基－3－丁烯基氧、2－甲基－3－丁烯基氧、3－甲基－3－丁烯基氧、1,1－二甲基－2－丙烯基氧、1,2－二甲基－1－丙烯基氧、1,2－二甲基－2－丙烯基氧、1－乙基－1－丙烯基氧、1－乙基－2－丙烯基氧、1－己烯基氧、2－己烯基氧、3－己烯基氧、4－己烯基氧、5－己烯基氧、1－甲基－1－戊烯基氧、2－甲基－1－戊烯基氧、3－甲基－1－戊烯基氧、4－甲基－1－戊烯基氧、1－甲基－2－戊烯基氧、2－甲基－2－戊烯基氧、3－甲基－2－戊烯基氧、4－甲基－2－戊烯基氧、1－甲基－3－戊烯基氧、2－甲基－3－戊烯基氧、3－甲基－3－戊烯基氧、4－甲基－3－戊烯基氧、1－甲基－4－戊烯基氧、2－甲基－4－戊烯基氧、3－甲基－4－戊烯基氧、4－甲基－4－戊烯基氧、1,1－二甲基－2－丁烯基氧、1,1－二甲基－3－丁烯基氧、1,2－二甲基－1－丁烯基氧、1,2－二甲基－2－丁烯基氧、1,2－二甲基－3－丁烯基氧、1,3－二甲基－1－丁烯基氧、1,3－二甲基－2－丁烯基氧、1,3－二甲基－3－丁烯基氧、2,2－二甲基－3－丁烯基氧、2,3－二甲基－1－丁烯基氧、2,3－二甲基－2－丁烯基氧、2,3－二甲基－3－丁烯基氧、3,3－二甲基－1－丁烯基氧、3,3－二甲基－2－丁烯基氧、1－乙基－1－丁烯基氧、1－乙基－2－丁烯基氧、1－乙基－3－丁烯基氧、2－乙基－1－丁烯基氧、2－乙基－2－丁烯基氧、2－乙基－3－丁烯基氧、1,1,2－三甲基－2－丙烯基氧、1－乙基－1－甲基－2－丙烯基氧、1－乙基－2－甲基－1－丙烯基氧與1－乙基－2－甲基－2－丙烯基氧。根據本發明一項具體實施例中，使用小型烯基氧基團，如：C3 －C4 －烯基氧。根據本發明另一項具體實施例中，使用相當大型烯基氧基團，如：C5 －C6 －烯基氧。
炔基氧：利用氧原子附接如上述定義之炔基，例如：C3 －C6 －炔基氧，如：2－丙炔基氧、2－丁炔基氧、3－丁炔基氧、1－甲基－2－丙炔基氧、2－戊炔基氧、3－戊炔基氧、4－戊炔基氧、1－甲基－2－丁炔基氧、1－甲基－3－丁炔基氧、2－甲基－3－丁炔基氧、1－乙基－2－丙炔基氧、2－己炔基氧、3－己炔基氧、4－己炔基氧、5－己炔基氧、1－甲基－2－戊炔基氧、1－甲基－3－戊炔基氧。根據本發明一項具體實施例中，使用小型炔基氧基團，如：C3 －C4 －炔基氧。根據本發明另一項具體實施例中，使用相當大型炔基氧基團，如：C5 －C6 －炔基氧。
烷基硫：利用硫附接之如上述定義之烷基。
烷基亞磺醯基：利用SO基團附接之如上述定義之烷基。
烷基磺醯基：利用S(O)2 基團附接之如上述定義之烷基。
烷基羰基：利用(C＝O)基團附接之如上述定義之烷基。例如：甲基羰基、乙基羰基、丙基羰基、1－甲基乙基羰基、丁基羰基、1－甲基丙基羰基、2－甲基丙基羰基或1,1－二甲基乙基羰基、戊基羰基、1－甲基丁基羰基、2－甲基丁基羰基、3－甲基丁基羰基、2,2－二甲基丙基羰基、1－乙基丙基羰基、己基羰基、1,1－二甲基丙基羰基、1,2－二甲基丙基羰基、1－甲基戊基羰基、2－甲基戊基羰基、3－甲基戊基羰基、4－甲基戊基羰基、1,1－二甲基丁基羰基、1,2－二甲基丁基羰基、1,3－二甲基丁基羰基、2,2,－二甲基丁基羰基、2,3－二甲基丁基羰基、3,3－二甲基丁基羰基、1－乙基丁基羰基、2－乙基丁基羰基、1,1,2－三甲基丙基羰基、1,2,2－三甲基丙基羰基、1－乙基－1－甲基丙基羰基或1－乙基－2－甲基丙基羰基。
烯基羰基：利用(C＝O)基團附接之如上述定義之烯基，例如：1－乙烯基羰基。
炔基羰基：利用(C＝O)基團附接之如上述定義之烷基，例如：1－丙炔基羰基。
雜環基：具有三個或多個，例如：3至10個環原子之單環－或雙環飽和、部份不飽和或芳香系雜環，例如：包含1至4個相同或相異之選自氧、硫或氮所組成群中雜原子且可利用碳或氮附接之單環狀3－、4－、5－、6－或7－員雜環，例如：利用碳附接3－或4－員飽和或不飽和環，如：2－環氧乙烷基、2－環氧丙烷基、3－環氧丙烷基、2－吖基、3－硫雜環丁烷基、1－吖呾基、2－吖呾基。
利用碳附接之5－員飽和環，如四氫呋喃－2－基、四氫呋喃－3－基、四氫噻吩－2－基、四氫噻吩－3－基、四氫吡咯－2－基、四氫吡咯－3－基、四氫吡唑－3－基、四氫吡唑－4－基、四氫異唑－3－基、四氫異唑－4－基、四氫異唑－5－基、1,2－噻茂烷－3－基、1,2－噻茂烷－4－基、1,2－噻茂烷－5－基、四氫異噻唑－3－基、四氫異噻唑－4－基、四氫異噻唑－5－基、1,2－二噻茂烷－3－基、1,2－二噻茂烷－4－基、四氫咪唑－2－基、四氫咪唑－4－基、四氫唑－2－基、四氫唑－4－基、四氫唑－5－基、四氫噻唑－2－基、四氫噻唑－4－基、四氫噻唑－5－基、1,3－二茂烷－2－基、1,3－二茂烷－4－基、1,3－噻茂烷－2－基、1,3－噻茂烷－4－基、1,3－噻茂烷－5－基、1,3－二噻茂烷－2－基、1,3－二噻茂烷－4－基、1,3,2－二噻茂烷－4－基。
利用碳附接之6－員飽和環，如：四氫吲喃－2－基、四氫吲喃－3－基、四氫吲喃－4－基、哌啶－2－基、哌啶－3－基、哌啶－4－基、四氫硫吲喃－2－基、四氫硫吡喃－3－基、四氫硫吡喃－4－基、1,3－二烷－2－基、1,3－二烷－4－基、1,3－二烷－5－基、1,4－二烷－2－基、1,3－二噻烷－2－基、1,3－二噻烷－4－基、1,3－二噻烷－5－基、1,4－二噻烷－2－基、1,3－噻烷－2－基、1,3－噻烷－4－基、1,3－噻烷－5－基、1,3－噻烷－6－基、1,4－噻烷－2－基、1,4－噻烷－3－基、1,2－二噻烷－3－基、1,2－二噻烷－4－基、六氫嘧啶－2－基、六氫嘧啶－4－基、六氫嘧啶－5－基、六氫吡－2－基、六氫嗒－3－基、六氫嗒－4－基、四氫－1,3－－2－基、四氫－1,3－－4－基、四氫－1,3－－5－基、四氫－1,3－－6－基、四氫－1,3－噻－2－基、四氫－1,3－噻－4－基、四氫－1,3－噻－5－基、四氫－1,3－噻－6－基、四氫－1,4－噻－2－基、四氫－1,4－噻－3－基、四氫－1,4－－2－基、四氫－1,4－－3－基、四氫－1,2－－3－基、四氫－1,2－－4－基、四氫－1,2－－5－基、四氫－1,2－－6－基。
利用氮附接之5－員飽和環，如：四氫吡咯－1－基、四氫吡唑－1－基、四氫異唑－2－基、四氫異噻唑－2－基、四氫咪唑－1－基、四氫唑－3－基、四氫噻唑－3－基。
利用氮附接之6－員飽和環，如：哌啶－1－基、六氫嘧啶－1－基、六氫吡－1－基、六氫嗒－1－基、四氫－1,3－－3－基、四氫－1,3－噻－3－基、四氫－1,4－噻－4－基、四氫－1,4－－4－基、四氫－1,2－－2－基。
利用碳附接之5－員部份不飽和環，如：2,3－二氫呋喃－2－基、2,3－二氫呋喃－3－基、2,5－二氫呋喃－2－基、2,5－二氫呋喃－3－基、4,5－二氫呋喃－2－基、4,5－二氫呋喃－3－基、2,3－二氫噻吩－2－基、2,3－二氫噻吩－3－基、2,5－二氫噻吩－2－基、2,5－二氫噻吩－3－基、4,5－二氫噻吩－2－基、4,5－二氫噻吩－3－基、2,3－二氫－1H－吡咯－2－基、2,3－二氫－1H－吡咯－3－基、2,5－二氫－1H－吡咯－2－基、2,5－二氫－1H－吡咯－3－基、4,5－二氫－1H－吡咯－2－基、4,5－二氫－1H－吡咯－3－基、3,4－二氫－2H－吡咯－2－基、3,4－二氫－2H－吡咯－3－基、3,4－二氫－5H－吡咯－2－基、3,4－二氫－5H－吡咯－3－基、4,5－二氫－1H－吡唑－3－基、4,5－二氫－1H－吡唑－4－基、4,5－二氫－1H－吡唑－5－基、2,5－二氫－1H－吡唑－3－基、2,5－二氫－1H－吡唑－4－基、2,5－二氫－1H－吡唑－5－基、4,5－二氫異唑－3－基、4,5－二氫異唑－4－基、4,5－二氫異唑－5－基、2,5－二氫異唑－3－基、2,5－二氫異唑－4－基、2,5－二氫異唑－5－基、2,3－二氫異唑－3－基、2,3－二氫異唑－4－基、2,3－二氫異唑－5－基、4,5－二氫異噻唑－3－基、4,5－二氫異噻唑－4－基、4,5－二氫異噻唑－5－基、2,5－二氫異噻唑－3－基、2,5－二氫異噻唑－4－基、2,5－二氫異噻唑－5－基、2,3－二氫異噻唑－3－基、2,3－二氫異噻唑－4－基、2,3－二氫異噻唑－5－基、△3 －1,2－二噻茂－3－基、△3 －1,2－二噻茂－4－基、△3 －1,2－二噻茂－5－基、4,5－二氫－1H－咪唑－2－基、4,5－二氫－1H－咪唑－4－基、4,5－二氫－1H－咪唑－5－基、2,5－二氫－1H－咪唑－2－基、2,5－二氫－1H－咪唑－4－基、2,5－二氫－1H－咪唑－5－基、2,3－二氫－1H－咪唑－2－基、2,3－二氫－1H－咪唑－4－基、4,5－二氫唑－2－基、4,5－二氫唑－4－基、4,5－二氫唑－5－基、2,5－二氫唑－2－基、2,5－二氫唑－4－基、2,5－二氫唑－5－基、2,3－二氫唑－2－基、2,3－二氫唑－4－基、2,3－二氫唑－5－基、4,5－二氫噻唑－2－基、4,5－二氫噻唑－4－基、4,5－二氫噻唑－5－基、2,5－二氫噻唑－2－基、2,5－二氫噻唑－4－基、2,5－二氫噻唑－5－基、2,3－二氫噻唑－2－基、2,3－二氫噻唑－4－基、2,3－二氫噻唑－5－基、1,3－二茂－2－基、1,3－二茂－4－基、1,3－二噻茂－2－基、1,3－二噻茂－4－基、1,3－噻茂－2－基、1,3－噻茂－4－基、1,3－噻茂－5－基、1,2,3－△2 －二噻唑啉－4－基、1,2,3－△2 －二唑啉－5－基、1,2,4－△4 －二唑啉－3－基、1,2,4－△4 －二唑啉－5－基、1,2,4－△2 －二唑啉－3－基、1,2,4－△2 －二唑啉－5－基、1,2,4－△3 －二唑啉－3－基、1,2,4－△3 －二唑啉－5－基、1,3,4－△2 －二唑啉－2－基、1,3,4－△2 －二唑啉－5－基、1,3,4－△3 －二唑啉－2－基、1,3,4－二唑啉－2－基、1,2,4－△4 －噻二唑啉－3－基、1,2,4－△4 －噻二唑啉－5－基、1,2,4－△3 －噻二唑啉－3－基、1,2,4－△3 －噻二唑啉－5－基、1,2,4－△2 －噻二唑啉－3－基、1,2,4－△2 －噻二唑啉－5－基、1,3,4－△2 －噻二唑啉－2－基、1,3,4－△2 －噻二唑啉－5－基、1,3,4－△3 －噻二唑啉－2－基、1,3,4－噻二唑啉－2－基、1,2,3－△2 －三唑啉－4－基、1,2,3－△2 －三唑啉－5－基、1,2,4－△2 －三唑啉－3－基、1,2,4－△2 －三唑啉－5－基、1,2,4－△3 －三唑啉－3－基、1,2,4－△3 －三唑啉－5－基、1,2,4－△1 －三唑啉－2－基、1,2,4－三唑啉－3－基、3H－1,2,4－二噻唑－5－基、2H－1,3,4－二噻唑－5－基、2H－1,3,4－噻唑－5－基。
利用碳附接之6－員部份不飽和環，如：2H－3,4－二氫比喃－6－基、2H－3,4－二氫吡喃－5－基、2H－3,4－二氫吡喃－4－基、2H－3,4－二氫吡喃－3－基、2H－3,4－二氫吡喃－2－基、2H－3,4－二氫硫吡喃－6－基、2H－3,4－二氫硫吡喃－5－基、2H－3,4－二氫硫吡喃－4－基、2H－3,4－二氫硫吡喃－3－基、2H－3,4－二氫硫吡喃－2－基、1,2,3,4－四氫吡啶－6－基、1,2,3,4－四氫吡啶－5－基、1,2,3,4－四氫吡啶－4－基、1,2,3,4－四氫吡啶－3－基、1,2,3,4－四氫吡啶－2－基、2H－5,6－二氫吡喃－2－基、2H－5,6－二氫吡喃－3－基、2H－5,6－二氫吡喃－4－基、2H－5,6－二氫吡喃－5－基、2H－5,6－二氫吡喃－6－基、2H－5,6－二氫硫吡喃－2－基、2H－5,6－二氫硫吡喃－3－基、2H－5,6－二氫硫吡喃－4－基、2H－5,6－二氫硫吡喃－5－基、2H－5,6－二氫硫吡喃－6－基、1,2,5,6－四氫吡啶－2－基、1,2,5,6－四氫吡啶－3－基、1,2,5,6－四氫吡啶－4－基、1,2,5,6－四氫吡啶－5－基、1,2,5,6－四氫吡啶－6－基、2,3,4,5－四氫吡啶－2－基、2,3,4,5－四氫吡啶－3－基、2,3,4,5－四氫吡啶－4－基、2,3,4,5－四氫吡啶－5－基、2,3,4,5－四氫吡啶－6－基、4H－吡喃－2－基、4H－吡喃－3－基－、4H－吡喃－4－基、4H－硫吡喃－2－基、4H－硫吡喃－3－基、4H－硫吡喃－4－基、1,4－二氫吡啶－2－基、1,4－二氫吡啶－3－基、1,4－二氫吡啶－4－基、2H－吡喃－2－基、2H－吡喃－3－基、2H－吡喃－4－基、2H－吡喃－5－基、2H－吡喃－6－基、2H－硫吡喃－2－基、2H－硫吡喃－3－基、2H－硫吡喃－4－基、2H－硫吡喃－5－基、2H－硫吡喃－6－基、1,2－二氫吡啶－2－基、1,2－二氫吡啶－3－基、1,2－二氫吡啶－4－基、1,2－二氫吡啶－5－基、1,2－二氫吡啶－6－基、3,4－二氫吡啶－2－基、3,4－二氫吡啶－3－基、3,4－二氫吡啶－4－基、3,4－二氫吡啶－5－基、3,4－二氫吡啶－6－基、2,5－二氫吡啶－2－基、2,5－二氫吡啶－3－基、2,5－二氫吡啶－4－基、2,5－二氫吡啶－5－基、2,5－二氫吡啶－6－基、2,3－二氫吡啶－2－基、2,3－二氫吡啶－3－基、2,3－二氫吡啶－4－基、2,3－二氫吡啶－5－基、2,3－二氫吡啶－6－基、2H－5,6－二氫－1,2－－3－基、2H－5,6－二氫－1,2－－4－基、2H－5,6－二氫－1,2－－5－基、2H－5,6－二氫－1,2－－6－基、2H－5,6－二氫－1,2－噻－3－基、2H－5,6－二氫－1,2－噻－4－基、2H－5,6－二氫－1,2－噻－5－基、2H－5,6－二氫－1,2－噻－6－基、4H－5,6－二氫－1,2－－3－基、4H－5,6－二氫－1,2－－4－基、4H－5,6－二氫－1,2－－5－基、4H－5,6－二氫－1,2－－6－基、4H－5,6－二氫－1,2－噻－3－基、4H－5,6－二氫－1,2－噻－4－基、4H－5,6－二氫－1,2－噻－5－基、4H－5,6－二氫－1,2－噻－6－基、2H－3,6－二氫－1,2－－3－基、2H－3,6－二氫－1,2－－4－基、2H－3,6－二氫－1,2－－5－基、2H－3,6－二氫－1,2－－6－基、2H－3,6－二氫－1,2－噻－3－基、2H－3,6－二氫－1,2－噻－4－基、2H－3,6－二氫－1,2－噻－5－基、2H－3,6－二氫－1,2－噻－6－基、2H－3,4－二氫－1,2－－3－基、2H－3,4－二氫－1,2－－4－基、2H－3,4－二氫－1,2－－5－基、2H－3,4－二氫－1,2－－6－基、2H－3,4－二氫－1,2噻－3－基、2H－3,4－二氫－1,2－噻－4－基、2H－3,4－二氫－1,2－噻－5－基、2H－3,4－二氫－1,2－噻－6－基、2,3,4,5－四氫嗒－3－基、2,3,4,5－四氫嗒－4－基、2,3,4,5－四氫嗒－5－基、2,3,4,5－四氫嗒－6－基、3,4,5,6－四氫嗒－3－基、3,4,5,6－四氫嗒－4－基、1,2,5,6－四氫嗒－3－基、1,2,5,6－四氫嗒－4－基、1,2,5,6－四氫嗒－5－基、1,2,5,6－四氫嗒－6－基、1,2,3,6－四氫嗒－3－基、1,2,3,6－四氫嗒－4－基、4H－5,6－二氫－1,3－－2－基、4H－5,6－二氫－1,3－－4－基、4H－5,6－二氫－1,3－－5－基、4H－5,6－二氫－1,3－－6－基、4H－5,6－二氫－1,3－噻－2－基、4H－5,6－二氫－1,3－噻－4－基、4H－5,6－二氫－1,3－噻－5－基、4H－5,6－二氫－1,3－噻－6－基、3,4,5－6－四氫嘧啶－2－基、3,4,5,6－四氫嘧啶－4－基、3,4,5,6－四氫嘧啶－5－基、3,4,5,6－四氫嘧啶－6－基、1,2,3,4－四氫吡－2－基、1,2,3,4－四氫吡－5－基、1,2,3,4－四氫嘧啶－2－基、1,2,3,4－四氫嘧啶－4－基、1,2,3,4－四氫嘧啶－5－基、1,2,3,4－四氫嘧啶－6－基、2,3－二氫－1,4－噻－2－基、2,3－二氫－1,4－噻－3－基、2,3－二氫－1,4－噻－5－基、2,3－二氫－1,4－噻－6－基、2H－1,2－－3－基、2H－1,2－－4－基、2H－1,2－－5－基、2H－1,2－－6－基、2H－1,2噻－3－基、2H－1,2－噻－4－基、2H－1,2－噻－5－基、2H－1,2－噻－6－基、4H－1,2－－3－基、4H－1,2－－4－基、4H－1,2－－5－基、4H－1,2－－6－基、4H－1,2－噻－3－基、4H－1,2－噻－4－基、4H－1,2－噻－5－基、4H－1,2－噻－6－基、6H－1,2－－3－基、6H－1,2－－4－基、6H－1,2－－5－基、6H－1,2－－6－基、6H－1,2－噻－3－基、6H－1,2－噻－4－基、6H－1,2－噻－5－基、6H－1,2－噻－6－基、2H－1,3－－2－基、2H－1,3－－4－基、2H－1,3－－5－基、2H－1,3－－6－基、2H－1,3－噻－2－基、2H－1,3－噻－4－基、2H－1,3－噻－5－基、2H－1,3－噻－6－基、4H－1,3－－2－基、4H－1,3－－4－基、4H－1,3－－5－基、4H－1,3－－6－基、4H－1,3－噻－2－基、4H－1,3－噻－4－基、4H－1,3－噻－5－基、4H－1,3－噻－6－基、6H－1,3－－2－基、6H－1,3－－4－基、6H－1,3－－5－基、6H－1,3－－6－基、6H－1,3－噻－2－基、6H－1,3－－4－基、6H－1,3－－5－基、6H－1,3－噻－6－基、2H－1,4－－2－基、2H－1,4－－3－基、2H－1,4－－5－基、2H－1,4－－6－基、2H－1,4－噻－2－基、2H－1,4－噻－3－基、2H－1,4－噻－5－基、2H－1,4－噻－6－基、4H－1,4－－2－基、4H－1,4－－3－基、4H－1,4－噻－2－基、4H－1,4－噻－3－基、1,4－二氫嗒－3－基、1,4－二氫嗒－4－基、1,4－二氫嗒－5－基、1,4－二氫嗒－6－基、1,4－二氫吡－2－基、1,2－二氫吡－2－基、1,2－二氫吡－3－基、1,2－二氫吡－5－基、1,2－二氫吡－6－基、1,4－二氫嘧啶－2－基、1,4－二氫嘧啶－4－基、1,4－二氫嘧啶－5－基、1,4－二氫嘧啶－6－基、3,4－二氫嘧啶－2－基、3,4－二氫嘧啶－4－基、3,4－二氫嘧啶－5－基或3,4－二氫嘧啶－6－基。
利用氮附接之5－員部份不飽和環，如：2,3－二氫－1H－吡咯－1－基、2,5－二氫－1H－吡咯－1－基、4,5－二氫－1H－吡唑－1－基、2,5－二氫－1H－吡唑－1－基、2,3－二氫－1H－吡唑－1－基、2,5－二氫異唑－2－基、2,3－二氫異唑－2－基、2,5－二氫異噻唑－2－基、2,3－二氫異唑－2－基、4,5－二氫－1H－咪唑－1－基、2,5－二氫－1H－咪唑－1－基、2,3－二氫－1H－咪唑－1－基、2,3－二氫唑－3－基、2,3－二氫噻唑－3－基、1,2,4－△4 －二唑啉－2－基、1,2,4－△2 －二唑啉－4－基、1,2,4－△3 －二唑啉－2－基、1,3,4－△2 －二唑啉－4－基、1,2,4－△5 －噻二唑啉－2－基、1,2,4－△3 －噻二唑啉－2－基、1,2,4－△2 －噻二唑啉－4－基、1,3,4－△2 －噻二唑啉－4－基、1,2,3－△2 －三唑啉－1－基、1,2,4－△2 －三唑啉－1－基、1,2,4－△2 －三唑啉－4－基、1,2,4－△3 －三唑啉－1－基、1,2,4－△1 －三唑啉－4－基。
利用氮附接之6－員部份不飽和環，如：1,2,3,4－四氫吡啶－1－基、1,2,5,6－四氫吡啶－1－基、1,4－二氫吡啶－1－基、1,2－二氫吡啶－1－基、2H－5,6－二氫－1,2－－2－基、2H－5,6－二氫－1,2－噻－2－基、2H－3,6－二氫－1,2－－2－基、2H－3,6－二氫－1,2－噻－2－基、2H－3,4－二氫－1,2－－2－基、2H－3,4－二氫－1,2－噻－2－基、2,3,4,5－四氫嗒－2－基、1,2,5,6－四氫嗒－1－基、1,2,5,6－四氫嗒－2－基、1,2,3,6－四氫嗒－1－基、3,4,5,6－四氫嘧啶－3－基、1,2,3,4－四氫吡－1－基、1,2,3,4－四氫嘧啶－1－基、1,2,3,4－四氫嘧啶－3－基、2,3－二氫－1,4－嘧－4－基、2H－1,2－－2－基、2H－1,2－噻－2－基、4H－1,4－－4－基、4H－1,4－噻－4－基、1,4－二氫嗒－1－基、1,4－二氫吡－1－基、1,2－二氫吡－1－基、1,4－二氫嘧啶－1－基或3,4－二氫嘧啶－3－基。
利用碳附接之5－員雜芳香環，其通常具有1、2、3或4個氮原子或一個氧或硫原子，且若適當時，具有1、2或3個氮原子作為環組員，如：2－呋喃基、3－呋喃基、2－噻吩基、3－噻吩基、吡咯－2－基、吡咯－3－基、吡唑－3－基、吡唑－4－基、異唑－3－基、異唑－4－基、異唑－5－基、異噻唑－3－基、異噻唑－4－基、異噻唑－5－基、咪唑－2－基、咪唑－4－基、唑－2－基、唑－4－基、唑－5－基、噻唑－2－基、噻唑－4－基、噻唑－5－基、1,2,3－二唑－4－基、1,2,3－二唑－5－基、1,2,4－二唑－3－基、1,2,4,－二唑－5－基、1,3,4－二唑－2－基、1,2,3－噻二唑－4－基、1,2,3－噻二唑－5－基、1,2,4－噻二唑－3－基、1,2,4－噻二唑－5－基、1,3,4－噻二唑基－2－基、1,2,3－三唑－4－基、1,2,4－三唑－3－基、四唑－5－基。
利用碳附接之6－員雜芳香環，其通常具有1、2、3或4個氮原子作為環組員，如：吡啶－2－基、吡啶－3－基、吡啶－4－基、嗒－3－基、嗒－4－基、嘧啶－2－基、嘧啶－4－基、嘧啶－5－基、吡－2－基、1,3,5－三－2－基、1,2,4－三－3－基、1,2,4－三－5－基、1,2,4－三－6－基、1,2,4,5－四－3－基。
利用氮原子附接之5－員雜芳香環，其通常具有1、2、3或4個氮原子作為環組員，如：吡咯－1－基、吡唑－1－基、咪唑－1－基、1,2,3－三唑－1－基、1,2,4－三唑－1－基、四唑－1－基。
或包含如上述一個5－或6－員雜環與另一個飽和、不飽和或芳香系碳環稠合，例如：苯、己環、環己烯或環己二烯環，或與另一個5－或6－員雜環稠合(其中後者同樣可為飽和、不飽和或芳香系)之雙環狀雜環。
如上述雜環中之硫原子可氧化成S＝O或S(＝O)2 。
因此，雜芳基(hetearyl或heteroaryl)為具有1、2、3或4個選自氧、硫與氮所組成群中相同或相異雜原子作為環組員之5－或6－員雜芳香基，其可利用碳或氮附接且可再與苯環稠合，或5－至6－員雜芳香環可形成雙環系。雜芳基實例為利用碳附接如上述5－與6－員雜芳香環、利用氮附接之如上述5－員雜芳香環與雙環狀雜芳香基如：喹啉基、異喹啉基、喹唑啉基、喹啉基、吲哚基、苯并噻吩基、苯并呋喃基、苯并唑基、苯并噻唑基、苯并咪唑基、苯并吡唑基、苯并三唑基、吲哚基、1,2,4－三唑并[1,5－a]嘧啶基、1,2,4－三唑并[4,3－a]吡啶基、吡唑并[3,4－b]吡啶基、1,2,4－三唑并[1,5－a]吡啶基、咪唑并[1,2－a]吡啶基、咪唑并[3,4－a]嘧啶基，等等。
芳基：具有6至14個環組員之單環或多環芳香系碳環，例如：單環或雙環或單環至三環芳香系碳環，如，例如：苯基、萘基或蒽基。
芳基烷基：利用伸烷基，特定言之亞甲基、1,1－伸乙基或1,2－伸乙基附接之芳基，例如：苯甲基、1－苯基乙基與2－苯基乙基。
雜環基烷基與雜芳基烷基：利用伸烷基，特定言之亞甲基、1,1－伸乙基或1,2－伸乙基附接之雜環基或雜芳基。
特定具體實施例中，式I化合物中之代號定義如下－包括其本身及其相互組合－其已成為式I化合物之特定具體實施例：R1 為氫、胺基、氰基、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －炔基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基或COR21 ，其中R21 如上述定義，特定言之C1 －C6 －烷基、C1 －C6 －烷氧基、苯基、苯基胺基或雜環基；其中取代基之如上述脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化。特別佳者，R1 之定義為氫或C1 －C6 －烷基，特定言之甲基。
R2 為胺基、氰基、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －炔基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基或COR21 ，其中R21 如上述定義，特定言之C1 －C6 －烷基、C1 －C6 －烷氧基、苯基、苯基胺基或雜環基；其中取代基之如上述脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化。特別佳者，R2 之定義為C1 －C6 －烷基，特定言之甲基。
R3 為氫、鹵素、C1 －C6 －烷基或鹵－C1 －C6 －烷基。
R4 、R5 與/或R6 為氫。
A1 為選自下列各物所組成群中之芳基或雜芳基：苯基、萘基、呋喃基、噻吩基、吡咯基、吡唑基、噻唑基、異噻唑基、唑基、異唑基、三唑基、四唑基、吡啶基、嗒基、嘧啶基、吡基、三基或四基。特定言之，A1 為選自下列各物所組成群中：苯基、呋喃基、噻吩基、三唑基、四唑基或吡啶基。特別佳者，A1 之定義為苯基或吡啶基，特定言之苯基。
另一項較佳具體實施例中，A1 為雙環系芳香基，特定言之萘基或如上述雙環系雜芳香基中之一，如：喹啉基、異喹啉基、喹唑啉基、喹啉基、吲哚基、苯并噻吩基、苯并呋喃基、苯并唑基、苯并噻唑基、苯并咪唑基、苯并吡唑基、苯并三唑、吲哚基、1,2,4－三唑并[1,5－a]嘧啶基、1,2,4－三唑并[4,3－a]吡啶基、吡唑并[3,4－b]吡啶基、1,2,4－三唑并[1,5－a]吡啶基、咪唑并[1,2－a]吡啶基、咪唑并[3,4－a]嘧啶基，尤指吲哚基，極特別指3－吲哚基。
A2 為選自下列各物所組成群中之芳基或雜芳基：苯基、萘基、呋喃基、噻吩基、吡咯基、吡唑基、噻唑基、異噻唑基、唑基、異唑基、三唑基、四唑基、吡啶基、嗒基、嘧啶基、吡基、三基或四基，特定言之選自下列各物所組成群中：苯基、呋喃基、噻吩基、三唑基、四唑基或吡啶基。特別佳者，A2 之定義為苯基或噻吩基，特定言之苯基。
根據本發明，A1 帶有氫以外之如上述基團Ra 。較佳者，此基團附接在A1 與氮之附接點之鄰位上，或特定言之在A1 之碳原子之鄰位上；此鄰位最好與A1 為單環或多環之芳香系或雜芳香系無關。
本發明另一項較佳具體實施例中，若A1 為多環芳香系或雜芳香系環，基團Ra 最好不附接包含A1 附接點之多環系中之環，亦即利用附接環外雙鍵之A1 ，形成哌環(＝"聯結環")。具有三個或多個環之環系中，Ra 最好附接直接鄰接"聯結環"之環。特別佳者，Ra 儘可能接近A1 之附接點。此時，Ra 特別位在橋頭原子之α－位置，此位置最接近A1 與環外雙鍵之附接點。
若Ra 附接氮原子時，Ra 最好不為鹵素、C1 －C6 －烷基硫、C1 －C6 －烷基亞磺醯基、Z1 P(O)(OR9 )2 ，其中Z1 為一鍵結。本發明較佳具體實施例中，Ra 附接碳原子。
Ra 較佳為如下定義之一：－鹵素、氰基、硝基、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C2 －C6 －炔基、[三－(C1 －C6 )－烷基矽烷基]－(C2 －C6 )－炔基、C1 －C6 －烷基硫、C1 －C6 －烷基亞磺醯基、芳基、雜環基，特定言之5－或6－員雜環基，其中芳基與雜環基為未經取代或可帶有1或2個選自下列各物所組成群中之基團：C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －鹵烷氧基、CN與鹵素；－Z1 P(O)(OR9 )2 ，其中Z1 為一鍵結或－CH2 －，R9 分別為氫或C1 －C6 －烷基；－Z3 COR11 ，其中Z3 為一鍵結與R11 如上述定義，特定言之為氫、C1－C6－烷基、羥基、C1－C6－烷氧基、C3－C6－烯基氧、C3－C6－炔基氧、胺基、C1－C6－烷基胺基、[二－(C1－C6)－烷基]胺基、C1－C6－烷氧基胺基、N－C1－C6－烷氧基－N－C1－C6－烷基胺基、[二－(C1－C6)－烷氧基]胺基、C1－C6－烷基磺醯基胺基、C1－C6－烷基胺基磺醯基胺基、[二－(C1－C6)－烷基胺基]磺醯基胺基、苯基、苯氧基、苯基胺基、萘基或雜環基，尤指利用碳附接之5－或6－員雜芳基；－Z4 NR12 R13 ，其中Z4 為一鍵結或－CH2 －，R12 與R13 如上述定義，特定言之分別獨立為氫、C1－C6－烷基、C3－C6－環烷基、C3－C6－烯基、C3－C6－炔基、C1－C6－烷基羰基、[二－(C1－C6)－烷基胺基]羰基、C1－C6－烷氧基羰基、C1－C6－烷基磺醯基、C1－C6－烷基胺基磺醯基、[二－(C1－C6)－烷基胺基]磺醯基、C3－C6－環烷基羰基、苯基羰基、苯基胺基羰基、苯基磺醯基、苯基磺醯基胺基羰基或雜環基羰基，尤指利用碳附接之5－或6－員雜芳基羰基；－Z5 CH＝N－O－R14 ，其中Z5 為一鍵結，R14 為氫或C1 －C6 －烷基；或－Z6 OR15 ，其中Z6 為一鍵結或－CH2 －，R15 如上述定義，特定言之為C3－C6－環烷基、C3－C6－烯基、C3－C6－炔基、C1－C6－烷基羰基、C1－C6－烷氧基羰基－(C1－C6)－烷基、二－(C1－C6－烷氧基羰基)－C1－C6－烷基、苯基羰基或苯基，R15亦可為氫、C1－C6－烷基或苯基－C1－C6－烷基；或－Z7 SO2 R16 ，其中Z7 為一鍵結或CH2 ，R16 為C1 －C6 －烷基或苯基；且其中Ra 之取代基之如上述脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化。
若Ra 附接氮原子時，Ra 最好不為鹵素、C1 －C6 －烷基硫、C1 －C6 －烷基亞磺醯基、Z1 P(O)(OR9 )2 ，其中Z1 為一鍵結。本發明較佳具體實施例中，Ra 附接碳原子。
Ra 特定言之如下定義之一：－鹵素、氰基、硝基、C1 －C6 －烷基硫、C1 －C6 －烷基亞磺醯基、芳基、雜環基，其中最後兩個基團為未經取代或可帶有1或2個選自下列各物所組成群中之基團：C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －鹵烷氧基、CN與鹵素；－C2 －C6 －烯基、C2 －C6 －炔基，－Z1 P(O)(OR9 )2 ，其中Z1 為一鍵結或－CH2 －，且基團R9 分別為氫或C1 －C6 －烷基；或－Z3 COR11 ，其中Z3 為一鍵結與R11 為氫、C1 －C6 －烷基、羥基、C1 －C6 －烷氧基、C3 －C6 －烯基氧、C3 －C6 －炔基氧、胺基、C1 －C6 －烷基胺基、[二－(C1 －C6 )－烷基]胺基、C1 －C6 －烷氧基胺基、N－C1 －C6 －烷氧基－N－C1 －C6 －烷基胺基、C1 －C6 －烷基磺醯基胺基、C1 －C6 －烷基胺基磺醯基胺基、[二－(C1 －C6 )－烷基胺基]磺醯基胺基、苯基、苯氧基、苯基胺基、萘基或雜環基，尤指利用碳附接之5－或6－員雜芳基；或－Z4 NR12 R13 ，其中Z4 為一鍵結或－CH2 －，R12 與R13 分別獨立為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －炔基、C1 －C6 －烷基羰基、[二－(C1 －C6 )－烷基胺基]羰基、C1 －C6 －烷氧基羰基、C1 －C6 －烷基磺醯基、苯基羰基、苯基磺醯基或雜環基羰基，尤指利用碳附接之5－或6－員雜芳基羰基；或－Z5 CH＝N－O－R14 ，其中Z5 為一鍵結與R14 為氫或C1 －C6 －烷基；或－Z6 OR15 ，其中Z6 為一鍵結或－CH2 －與R15 為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －炔基、C1 －C6 －烷基羰基、C1 －C6 －烷氧基羰基－(C1 －C6 )－烷基、苯基或苯基－(C1 －C6 )－烷基；或－Z7 SO2 R16 ，其中Z7 為一鍵結或CH2 與R16 為C1 －C6 －烷基或苯基；且其中Ra 之取代基之如上述脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化。
尤其佳為Ra 為選自下列各物所組成群中之基團：鹵素、氰基、硝基、C2 －C4 －烯基與C2 －C4 －炔基、NH－C(O)－C1 －C6 －烷基、NH－S(O)2 －C1 －C6 －烷基與5－員雜芳基，例如：唑基、噻唑基、異唑基、異噻唑基，其中如上述雜芳基可帶有1或2個選自下列各物所組成群中之基團：C1 －C2 －烷基、C1 －C2 －鹵烷基與鹵素，且特定言之其位在A1 之鄰位之一。
Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 特定言之為氫，或分別獨立具有Ra 所述及之較佳或特別佳之定義。
特定言之，基團Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 分別獨立選自下列各物所組成群中：氫、鹵素、C1 －C4 －烷基、C2 －C4 －烯基、C2 －C4 －炔基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －鹵烷基與C1 －C4 －鹵烷氧基，其中Rb 、Rc 、Rd 、Re 或Rf 中兩個附接在A1 或A2 兩個相鄰個碳原子上之基團可形成基團O－CH2 －O。
特定言之，Rb 為不同於氫之基團。R1 較佳為位於A1 鄰位之基團，亦即若Ra 亦位於鄰位，則Rb 位於第二個鄰位。
若基團Rb 、Rc 中1或2個為氫以外之取代基時，其可特別選自如上述較佳取代基中，尤其選自下列各物所組成群中：鹵素、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －鹵烷基、C2 －C4 －烯基、C2 －C4 －炔基與C1 －C4 －鹵烷氧基，或Rb 與Rc 共同為基團O－CH2 －O。
A2 特定言之為未經取代，或Rd 、Re 與Rf 中1或2個取代基為氫以外之取代基。若取代基Rd 、Re 與Rf 中1或2個不為氫時，其可特別選自下列各物所組成群中：鹵素、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －鹵烷基與C1 －C4 －鹵烷氧基。
本發明內容中取代基定義完全與本發明內容中其他取代基之定義獨立。然而，特別佳之式I化合物為其中多數或所有代號均為較佳或特別佳之定義。
此外，已發現哌環上之環外雙鍵宜為Z－構形，亦即基團A1 (Ra Rb Rc )與帶有基團R2 之環氮相對於此雙鍵呈順式。因此本發明較佳具體實施例係有關式(Z) －I哌化合物，其中代號A1 、A2 、R1 －R6 與Ra －Rf 如上述定義，亦有關Z－異構物(Z) －I與式(E) －I之E－異構物之混合物，其中E/Z比例為<1：1，特定言之<1：2，特別佳為<1：4，尤其佳為<1：10。式(E) －I中，代號A1 、A2 、R1 －R6 與Ra －Rf 亦如上述定義。
此外，已發現帶有R4 之碳原子呈S－組態。因此本發明較佳具體實施例係有關式I－S哌化合物，其中代號A1 、A2 、R1 －R6 與Ra －Rf 如上述定義，亦有關S－對映異構物(S) －I與式(R) －I之R－對映異構物之混合物，其中R/S比例為<1：1，特定言之<1：2，特別佳為<1：4，尤指<1：10。式(R) －I中代號A1 、A2 、R1 －R6 與Ra －Rf 亦如上述定義。
特定言之，較佳式I化合物為其中兩個環外雙鍵均呈Z－構形，而帶有R4 之碳原子則呈S－組態。下文中，此等化合物亦稱為化合物(Z,S) －I。
特定言之，較佳為式I.1化合物，其中R1 、R3 、R4 、R5 與R6 為氫，R2 為CH3 ，特別佳為化合物(Z ,S )－I.1，其在指定之(1)與(2)位置上呈Z －或S －組態。較佳化合物I.1與(Z ,S )－I.1之實例為彼等其中A1 、Ra 、Rb 與Rc 如表1中定義者：
下列化合物I.1.1至I.1－3434本身即為本發明較佳具體實施例。
同樣較佳為式I.2化合物，特別佳為化合物I.2.1－I.2.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.2.1－I.2.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S )－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯苯基。
同樣較佳為式I.3化合物，特別佳為化合物I.3.1－I.3.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.3.1－I.3.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯苯基。
同樣較佳為式I.4化合物，特別佳為化合物I.4.1－I.4.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.4.1－I.4.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯苯基。
同樣較佳為式I.5化合物，特別佳為化合物I.5.1－I.5.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.5.1－I.5.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基苯基。
同樣較佳為式I.6化合物，特別佳為化合物I.6.1－I.6.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.6.1－I.6.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基苯基。
同樣較佳為式I.7化合物，特別佳為化合物I.7.1－I.7.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.7.1－I.7.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基苯基。
同樣較佳為式I.8化合物，特別佳為化合物I.8.1－I.8.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.8.1－I.8.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基苯基。
同樣較佳為式I.9化合物，特別佳為化合物I.9.1－I.9.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.9.1－I.9.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基苯基。
同樣較佳為式I.10化合物，特別佳為化合物I.10.1－I.10.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.10.1－I.10.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基苯基。
同樣較佳為式I.11化合物，特別佳為化合物I.11.1－I.11.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.11.1－I.11.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟苯基。
同樣較佳為式I.12化合物，特別佳為化合物I.12.1－I.12.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.12.1－I.12.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟苯基。
同樣較佳為式I.13化合物，特別佳為化合物I.13.1－I.13.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.13.1－I.13.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟苯基。
同樣較佳為式I.14化合物，特別佳為化合物I.14.1－I.14.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.14.1－I.14.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲基苯基。
同樣較佳為式I.15化合物，特別佳為化合物I.15.1－I.15.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.15.1－I.15.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲基苯基。
同樣較佳為式I.16化合物，特別佳為化合物I.16.1－I.16.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.16.1－I.16.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲基苯基。
同樣較佳為式I.17化合物，特別佳為化合物I.17.1－I.17.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.17.1－I.17.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－3－甲基苯基。
同樣較佳為式I.18化合物，特別佳為化合物I.18.1－I.18.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.18.1－I.18.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－4－甲基苯基。
同樣較佳為式I.19化合物，特別佳為化合物I.19.1－I.19.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.19.1－I.19.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－5－甲基苯基。
同樣較佳為式I.20化合物，特別佳為化合物I.20.1－I.20.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.20.1－I.20.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－6－甲基苯基。
同樣較佳為式I.21化合物，特別佳為化合物I.21.1－I.21.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.21.1－I.21.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,3－二氯苯基。
同樣較佳為式I.22化合物，特別佳為化合物I.22.1－I.22.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.22.1－I.22.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,4－二氯苯基。
同樣較佳為式I.23化合物，特別佳為化合物I.23.1－I.23.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.23.1－I.23.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,5－二氯苯基。
同樣較佳為式I.24化合物，特別佳為化合物I.24.1－I.24.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.24.1－I.24.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,6－二氯苯基。
同樣較佳為式I.25化合物，特別佳為化合物I.25.1－I.25.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.25.1－I.25.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－3－氟苯基。
同樣較佳為式I.26化合物，特別佳為化合物I.26.1－I.26.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.26.1－I.26.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－4－氟苯基。
同樣較佳為式I.27化合物，特別佳為化合物I.27.1－I.27.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.27.1－I.27.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－5－氟苯基。
同樣較佳為式I.28化合物，特別佳為化合物I.28.1－I.28.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.28.1－I.28.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－6－氟苯基。
同樣較佳為式I.29化合物，特別佳為化合物I.29.l－I.29.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.29.1－I.29.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,3－二氟苯基。
同樣較佳為式I.30化合物，特別佳為化合物I.30.1－I.30.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.30.1－I.30.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,4－二氟苯基。
同樣較佳為式I.31化合物，特別佳為化合物I.31.1－I.31.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.31.1－I.31.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,5－二氟苯基。
同樣較佳為式I.32化合物，特別佳為化合物I.32.1－I.32.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.32.1－I.32.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,6－二氟苯基。
同樣較佳為式I.33化合物，特別佳為化合物I.33.1－I.33.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.33.1－I.33.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟－3－氯苯基。
同樣較佳為式I.34化合物，特別佳為化合物I.34.1－I.34.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.34.1－I.34.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟－4－氯苯基。
同樣較佳為式I.35化合物，特別佳為化合物I.35.1－I.35.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.35.1－I.35.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟－5－氯苯基。
同樣較佳為式I.36化合物，特別佳為化合物I.36.1－I.36.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.36.1－I.36.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,4－二氟苯基。
同樣較佳為式I.37化合物，特別佳為化合物I.37.1－I.37.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.37.1－I.37.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,5－二氟苯基。
同樣較佳為式I.38化合物，特別佳為化合物I.38.1－I.38.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.38.1－I.38.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,4－二氯苯基。
同樣較佳為式I.39化合物，特別佳為化合物I.39.1－I.39.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.39.1－I.39.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,5－二氯苯基。
同樣較佳為式I.40化合物，特別佳為化合物I.40.1－I.40.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.40.1－I.40.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟，4－氯苯基。
同樣較佳為式I.41化合物，特別佳為化合物I.41.1－I.41.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.41.1－I.41.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟，3－氯苯基。
同樣較佳為式I.42化合物，特別佳為化合物I.42.1－I.42.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.42.1－I.42.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟，5－氯苯基。
同樣較佳為式I.43化合物，特別佳為化合物I.43.1－I.43.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.43.1－I.43.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.44化合物，特別佳為化合物I.44.1－I.44.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.44.1－I.44.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.45化合物，特別佳為化合物I.45.1－I.45.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.45.1－I.45.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.46化合物，特別佳為化合物I.46.1－I.46.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.46.1－I.46.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.47化合物，特別佳為化合物I.47.1－I.47.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.47.1－I.47.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氯吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.48化合物，特別佳為化合物I.48.1－I.48.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.48.1－I.48.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.49化合物，特別佳為化合物I.49.1－I.49.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.49.1－I.49.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.50化合物，特別佳為化合物I.50.1－I.50.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.50.1－I.50.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.51化合物，特別佳為化合物I.51.1－I.51.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.51.1－I.51.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－三氟甲基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.52化合物，特別佳為化合物I.52.1－I.52.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.52.1－I.52.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.53化合物，特別佳為化合物I.53.1－I.53.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.53.1－I.53.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.54化合物，特別佳為化合物I.54.1－I.54.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.54.1－I.54.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.55化合物，特別佳為化合物I.55.1－I.55.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.55.1－I.55.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－甲氧基吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.56化合物，特別佳為化合物I.56.1－I.56.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.56.1－I.56.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.57化合物，特別佳為化合物I.57.1－I.57.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.57.1－I.57.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.58化合物，特別佳為化合物I.58.1－I.58.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.58.1－I.58.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.59化合物，特別佳為化合物I.59.1－I.59.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.59.1－I.59.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氟吡啶－2－基。
同樣較佳為式I.60化合物，特別佳為化合物I.60.1－I.60.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.60.1－I.60.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.61化合物，特別佳為化合物I.61.1－I.61.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.61.1－I.61.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.62化合物，特別佳為化合物I.62.1－I.62.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.62.1－I.62.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.63化合物，特別佳為化合物I.63.1－I.63.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.63.1－I.63.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.64化合物，特別佳為化合物I.64.1－I.64.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.64.1－I.64.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氯吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.65化合物，特別佳為化合物I.65.1－I.65.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.65.1－I.65.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.66化合物，特別佳為化合物I.66.1－I.66.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.66.1－I.66.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.67化合物，特別佳為化合物I.67.1－I.67.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.67.1－I.67.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.68化合物，特別佳為化合物I.68.1－I.68.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.68.1－I.68.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－三氟甲基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.69化合物，特別佳為化合物I.69.1－I.69.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.69.1－I.69.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.70化合物，特別佳為化合物I.70.1－I.70.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.70.1－I.70.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.71化合物，特別佳為化合物I.71.1－I.71.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.71.1－I.71.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.72化合物，特別佳為化合物I.72.1－I.72.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.72.1－I.72.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－甲氧基吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.73化合物，特別佳為化合物I.73.1－I.73.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.73.1－I.73.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.74化合物，特別佳為化合物I.74.1－I.74.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.74.1－I.74.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.75化合物，特別佳為化合物I.75.1－I.75.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.75.1－I.75.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.76化合物，特別佳為化合物I.76.1－I.76.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.76.1－I.76.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氟吡啶－3－基。
同樣較佳為式I.77化合物，特別佳為化合物I.77.1－I.77.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.77.1－I.77.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.78化合物，特別佳為化合物I.78.1－I.78.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.78.1－I.78.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.79化合物，特別佳為化合物I.79.1－I.79.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.79.1－I.79.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.80化合物，特別佳為化合物I.80.1－I.80.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.80.1－I.80.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.81化合物，特別佳為化合物I.81.1－I.81.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.81.1－I.81.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.82化合物，特別佳為化合物I.82.1－I.82.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.82.1－I.82.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.83化合物，特別佳為化合物I.83.1－I.83.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.83.1－I.83.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.84化合物，特別佳為化合物I.84.1－I.84.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.84.1－I.84.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.85化合物，特別佳為化合物I.85.1－I.85.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.85.1－I.85.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯吡啶－4－基。
同樣較佳為式I.86化合物，特別佳為化合物I.86.1－I.86.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.86.1－I.86.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.87化合物，特別佳為化合物I.87.1－I.87.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.87.1－I.87.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.88化合物，特別佳為化合物I.88.1－I.88.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.88.1－I.88.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.89化合物，特別佳為化合物I.89.1－I.89.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.89.1－I.89.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.90化合物，特別佳為化合物I.90.1－I.90.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.90.1－I.90.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.91化合物，特別佳為化合物I.91.1－I.91.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.91.1－I.91.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.92化合物，特別佳為化合物I.92.1－I.92.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.92.1－I.92.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.93化合物，特別佳為化合物I.93.1－I.93.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.93.1－I.93.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.94化合物，特別佳為化合物I.94.1－I.94.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.94.1－I.94.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.95化合物，特別佳為化合物I.95.1－I.95.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.95.1－I.95.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.96化合物，特別佳為化合物I.96.1－I.96.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.96.1－I.96.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.97化合物，特別佳為化合物I.97.1－I.97.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.97.1－I.97.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.98化合物，特別佳為化合物I.98.1－I.98.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.98.1－I.98.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟噻吩－2－基。
同樣較佳為式I.99化合物，特別佳為化合物I.99.1－I.99.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.99.1－I.99.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.100化合物，特別佳為化合物I.100.1－I.100.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.100.1－I.100.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.101化合物，特別佳為化合物I.101.1－I.101.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.101.1－I.101.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.102化合物，特別佳為化合物I.102.1－I.102.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.102.1－I.102.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.103化合物，特別佳為化合物I.103.1－I.103.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.103.1－I.103.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.104化合物，特別佳為化合物I.104.1－I.104.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.104.1－I.104.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.105化合物，特別佳為化合物I.105.1－I.105.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.105.1－I.105.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.106化合物，特別佳為化合物I.106.1－I.106.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.106.1－I.106.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.107化合物，特別佳為化合物I.107.1－I.107.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.107.1－I.107.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.108化合物，特別佳為化合物I.108.1－I.108.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.108.1－I.108.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.109化合物，特別佳為化合物I.109.1－I.109.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.109.1－I.109.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.110化合物，特別佳為化合物I.110.1－I.110.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.110.1－I.110.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.111化合物，特別佳為化合物I.111.1－I.111.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.111.1－I.111.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基噻吩－3－基。
同樣較佳為式I.112化合物，特別佳為化合物I.112.1－I.112.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.112.1－I.112.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為呋喃－2－基。
同樣較佳為式I.113化合物，特別佳為化合物I.113.1－I.113.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.113.1－I.113.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯呋喃－2－基。
同樣較佳為式I.114化合物，特別佳為化合物I.114.1－I.114.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.114.1－I.114.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯呋喃－2－基。
同樣較佳為式I.115化合物，特別佳為化合物I.115.1－I.115.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.115.1－I.115.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯呋喃－2－基。
同樣較佳為式I.116化合物，特別佳為化合物I.116.1－I.116.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.116.1－I.116.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟呋喃－2－基。
同樣較佳為式I.117化合物，特別佳為化合物I.117.1－I.117.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.117.1－I.117.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟呋喃－2－基。
同樣較佳為式I.118化合物，特別佳為化合物I.118.1－I.118.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.118.1－I.118.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟呋喃－2－基。
同樣較佳為式I.119化合物，特別佳為化合物I.119.1－I.119.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.119.1－I.119.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.120化合物，特別佳為化合物I.120.1－I.120.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.120.1－I.120.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.121化合物，特別佳為化合物I.121.1－I.121.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.121.1－I.121.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.122化合物，特別佳為化合物I.122.1－I.122.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.122.1－I.122.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.123化合物，特別佳為化合物I.123.1－I.123.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.123.1－I.123.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.124化合物，特別佳為化合物I.124.1－I.124.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.124.1－I.124.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.125化合物，特別佳為化合物I.125.1－I.125.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.125.1－I.125.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.126化合物，特別佳為化合物I.126.1－I.126.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.126.1－I.126.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟呋喃－3－基。
同樣較佳為式I.127化合物，特別佳為化合物I.127.1－I.127.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.127.1－I.127.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.128化合物，特別佳為化合物I.128.1－I.128.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.128.1－I.128.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.129化合物，特別佳為化合物I.129.1－I.129.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.129.1－I.129.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.130化合物，特別佳為化合物I.130.1－I.130.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.130.1－I.130.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.131化合物，特別佳為化合物I.131.1－I.131.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.131.1－I.131.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.132化合物，特別佳為化合物I.132.1－I.132.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.132.1－I.132.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.133化合物，特別佳為化合物I.133.1－I.133.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.133.1－I.133.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.134化合物，特別佳為化合物I.134.1－I.134.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.134.1－I.134.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.135化合物，特別佳為化合物I.135.1－I.135.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.135.1－I.135.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.136化合物，特別佳為化合物I.136.1－I.136.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.136.1－I.136.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.137化合物，特別佳為化合物I.137.1－I.137.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.137.1－I.137.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.138化合物，特別佳為化合物I.138.1－I.138.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.138.1－I.138.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.139化合物，特別佳為化合物I.139.1－I.139.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.139.1－I.139.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.140化合物，特別佳為化合物I.140.1－I.140.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.140.1－I.140.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.141化合物，特別佳為化合物I.141.1－I.141.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.141.1－I.141.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.142化合物，特別佳為化合物I.142.1－I.142.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.142.1－I.142.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.143化合物，特別佳為化合物I.143.1－I.143.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.143.1－I.143.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－3－甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.144化合物，特別佳為化合物I.144.1－I.144.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.144.1－I.144.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－4－甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.145化合物，特別佳為化合物I.145.1－I.145.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.145.1－I.145.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－5－甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.146化合物，特別佳為化合物I.146.1－I.146.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.146.1－I.146.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－6－甲基苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.147化合物，特別佳為化合物I.147.1－I.147.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.147.1－I.147.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,3－二氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.148化合物，特別佳為化合物I.148.1－I.148.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.148.1－I.148.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,4－二氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.149化合物，特別佳為化合物I.149.1－I.149.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.149.1－I.149.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,5－二氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.150化合物，特別佳為化合物I.150.1－I.150.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.150.1－I.150.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,6－二氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.151化合物，特別佳為化合物I.151.1－I.151.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.151.1－I.151.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－3－氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.152化合物，特別佳為化合物I.152.1－I.152.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.152.1－I.152.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－4－氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.153化合物，特別佳為化合物I.153.1－I.153.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.153.1－I.153.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－5－氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.154化合物，特別佳為化合物I.154.1－I.154.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.154.1－I.154.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯－6－氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.155化合物，特別佳為化合物I.155.1－I.155.3434，特定言之化合物(Z,S)－I.155.1－I.155.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,3－二氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.156化合物，特別佳為化合物I.156.1－I.156.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.156.1－I.156.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,4－二氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.157化合物，特別佳為化合物I.157.1－I.157.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.157.1－I.157.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,5－二氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.158化合物，特別佳為化合物I.158.1－I.158.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.158.1－I.158.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2,6－二氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.159化合物，特別佳為化合物I.159.1－I.159.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.159.1－I.159.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟－3－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.160化合物，特別佳為化合物I.160.1－I.160.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.160.1－I.160.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟－4－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.161化合物，特別佳為化合物I.161.1－I.161.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.161.1－I.161.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟－5－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.162化合物，特別佳為化合物I.162.1－I.162.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.162.1－I.162.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,4－二氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.163化合物，特別佳為化合物I.163.1－I.163.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.163.1－I.163.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,5－二氟苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.164化合物，特別佳為化合物I.164.1－I.164.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.164.1－I.164.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,4－二氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.165化合物，特別佳為化合物I.165.1－I.165.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.165.1－I.165.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3,5－二氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.166化合物，特別佳為化合物I.166.1－I.166.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.166.1－I.166.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟－4－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.167化合物，特別佳為化合物I.167.1－I.167.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.167.1－I.167.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟－3－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.168化合物，特別佳為化合物I.168.1－I.168.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.168.1－I.168.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟－5－氯苯基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.169化合物，特別佳為化合物I.169.1－I.169.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.169.1－I.169.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.170化合物，特別佳為化合物I.170.1－I.170.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.170.1－I.170.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.171化合物，特別佳為化合物I.171.1－I.171.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.171.1－I.171.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.172化合物，特別佳為化合物I.172.1－I.172.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.172.1－I.172.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.173化合物，特別佳為化合物I.173.1－I.173.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.173.1－I.173.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氯吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.174化合物，特別佳為化合物I.174.1－I.174.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.174.1－I.174.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.175化合物，特別佳為化合物I.175.1－I.175.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.175.1－I.175.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.176化合物，特別佳為化合物I.176.1－I.176.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.176.1－I.176.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.177化合物，特別佳為化合物I.177.1－I.177.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.177.1－I.177.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－三氟甲基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.178化合物，特別佳為化合物I.178.1－I.178.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.178.1－I.178.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.179化合物，特別佳為化合物I.179.1－I.179.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.179.1－I.179.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.180化合物，特別佳為化合物I.180.1－I.180.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.180.1－I.180.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.181化合物，特別佳為化合物I.181.1－I.181.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.181.1－I.181.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－甲氧基吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.182化合物，特別佳為化合物I.182.1－I.182.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.182.1－I.182.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.183化合物，特別佳為化合物I.183.1－I.183.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.183.1－I.183.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.184化合物，特別佳為化合物I.184.1－I.184.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.184.1－I.184.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.185化合物，特別佳為化合物I.185.1－I.185.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.185.1－I.185.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氟吡啶－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.186化合物，特別佳為化合物I.186.1－I.186.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.186.1－I.186.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.187化合物，特別佳為化合物I.187.1－I.187.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.187.1－I.187.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.188化合物，特別佳為化合物I.188.1－I.188.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.188.1－I.188.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.189化合物，特別佳為化合物I.189.1－I.189.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.189.1－I.189.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.190化合物，特別佳為化合物I.190.1－I.190.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.190.1－I.190.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氯吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.191化合物，特別佳為化合物I.191.1－I.191.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.191.1－I.191.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.192化合物，特別佳為化合物I.192.1－I.192.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.192.1－I.192.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.193化合物，特別佳為化合物I.193.1－I.193.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.193.1－I.193.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.194化合物，特別佳為化合物I.194.1－I.194.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.194.1－I.194.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－三氟甲基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.195化合物，特別佳為化合物I.195.1－I.195.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.195.1－I.195.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.196化合物，特別佳為化合物I.196.1－I.196.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.196.1－I.196.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.197化合物，特別佳為化合物I.197.1－I.197.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.197.1－I.197.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.198化合物，特別佳為化合物I.198.1－I.198.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.198.1－I.198.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－甲氧基吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.199化合物，特別佳為化合物I.199.1－I.199.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.199.1－I.199.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.200化合物，特別佳為化合物I.200.1－I.200.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.200.1－I.200.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.201化合物，特別佳為化合物I.201.1－I.201.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.201.1－I.201.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.202化合物，特別佳為化合物I.202.1－I.202.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.202.1－I.202.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為6－氟吡啶－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.203化合物，特別佳為化合物I.203.1－I.203.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.203.1－I.203.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.204化合物，特別佳為化合物I.204.1－I.204.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.204.1－I.204.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.205化合物，特別佳為化合物I.205.1－I.205.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.205.1－I.205.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.206化合物，特別佳為化合物I.206.1－I.206.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.206.1－I.206.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.207化合物，特別佳為化合物I.207.1－I.207.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.207.1－I.207.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.208化合物，特別佳為化合物I.208.1－I.208.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.208.1－I.208.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.209化合物，特別佳為化合物I.209.1－I.209.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.209.1－I.209.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.210化合物，特別佳為化合物I.210.1－I.210.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.210.1－I.210.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.211化合物，特別佳為化合物I.211.1－I.211.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.211.1－I.211.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯吡啶－4－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.212化合物，特別佳為化合物I.212.1－I.212.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.212.1－I.212.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.213化合物，特別佳為化合物I.213.1－I.213.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.213.1－I.213.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.214化合物，特別佳為化合物I.214.1－I.214.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.214.1－I.214.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.215化合物，特別佳為化合物I.215.1－I.215.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.215.1－I.215.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.216化合物，特別佳為化合物I.216.1－I.216.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.216.1－I.216.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－三氟甲基噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.217化合物，特別佳為化合物I.217.1－I.217.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.217.1－I.217.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.218化合物，特別佳為化合物I.218.1－I.218.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.218.1－I.218.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.219化合物，特別佳為化合物I.219.1－I.219.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.219.1－I.219.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－甲氧基噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.220化合物，特別佳為化合物I.220.1－I.220.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.220.1－I.220.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.221化合物，特別佳為化合物I.221.1－I.221.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.221.1－I.221.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.222化合物，特別佳為化合物I.222.1－I.222.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.222.1－I.222.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.223化合物，特別佳為化合物I.223.1－I.223.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.223.1－I.223.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.224化合物，特別佳為化合物I.224.1－I.224.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.224.1－I.224.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟噻吩－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.225化合物，特別佳為化合物I.225.1－I.225.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.225.1－I.225.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.226化合物，特別佳為化合物I.226.1－I.226.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.226.1－I.226.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.227化合物，特別佳為化合物I.227.1－I.227.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.227.1－I.227.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.228化合物，特別佳為化合物I.228.1－I.228.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.228.1－I.228.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.229化合物，特別佳為化合物I.229.1－I.229.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.229.1－I.229.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.230化合物，特別佳為化合物I.230.1－I.230.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.230.1－I.230.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.231化合物，特別佳為化合物I.231.1－I.231.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.231.1－I.231.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.232化合物，特別佳為化合物I.232.1－I.232.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.232.1－I.232.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－甲氧基噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.233化合物，特別佳為化合物I.233.1－I.233.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.233.1－I.233.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－甲氧基噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.234化合物，特別佳為化合物I.234.1－I.234.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.234.1－I.234.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－甲氧基噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.235化合物，特別佳為化合物I.235.1－I.235.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.235.1－I.235.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－三氟甲基噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.236化合物，特別佳為化合物I.236.1－I.236.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.236.1－I.236.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－三氟甲基噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.237化合物，特別佳為化合物I.237.1－I.237.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.237.1－I.237.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－三氟甲基噻吩－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.238化合物，特別佳為化合物I.238.1－I.238.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.238.1－I.238.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為呋喃－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.239化合物，特別佳為化合物I.239.1－I.239.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.239.1－I.239.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氯呋喃－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.240化合物，特別佳為化合物I.240.1－I.240.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.240.1－I.240.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯呋喃－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.241化合物，特別佳為化合物I.241.1－I.241.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.241.1－I.241.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯呋喃－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.242化合物，特別佳為化合物I.242.1－I.242.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.242.1－I.242.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為3－氟呋喃－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.243化合物，特別佳為化合物I.243.1－I.243.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.243.1－I.243.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟呋喃－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.244化合物，特別佳為化合物I.244.1－I.244.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.244.1－I.244.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟呋喃－2－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.245化合物，特別佳為化合物I.245.1－I.245.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.245.1－I.245.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為呋喃－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.246化合物，特別佳為化合物I.246.1－I.246.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.246.1－I.246.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氯呋喃－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.247化合物，特別佳為化合物I.247.1－I.247.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.247.1－I.247.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氯呋喃－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.248化合物，特別佳為化合物I.248.1－I.248.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.248.1－I.248.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氯呋喃－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.249化合物，特別佳為化合物I.249.1－I.249.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.249.1－I.249.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為2－氟呋喃－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.250化合物，特別佳為化合物I.250.1－I.250.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.250.1－I.250.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為4－氟呋喃－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.251化合物，特別佳為化合物I.251.1－I.251.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.251.1－I.251.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟呋喃－3－基與R1 為CH3 。
同樣較佳為式I.252化合物，特別佳為化合物I.252.1－I.252.3434，特定言之化合物(Z,S )－I.252.1－I.252.3434，其不同於相應化合物I.1.1－I.1.3434或(Z,S)－I.1.1－I.1.3434之處在於A2 Rd Re Rf 為5－氟呋喃－3－基與R1 為CH3 。
式I哌化合物可依合成有機化合物之標準方法，經由多種不同途徑製備，例如：依下文更詳細說明之方法：
製法A
式I化合物可例如：類似文獻中已知方法，由相應之式II醇前體脫水製得。
因此，本發明進一步提供一種製備根據本發明通式I哌化合物之方法，其包括由式II化合物反應 其中代號A1 、A2 、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如式I化合物之定義，(A.1)產生式III化合物 其中LG為脫離基，然後自化合物III中消去化合物H－LG，產生相應化合物I；或(A.2)若LG為OH，則由式II化合物脫水，可視需要於水之存在下進行，產生相應化合物I。
代號A1 、A2 、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 之較佳定義可參見上文。下文中說明根據本發明製法之較佳具體實施例。
A.1項第一項(A.1項)中，先轉化化合物II之醇官能基形成合適脫離基，然後可呈化合物H－LG消去。消去反應最好在合適鹼之存在下進行。下列反應圖說明本反應。
式II中，代號A1 、A2 、R1 －R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如式I之定義。LG為脫離基。
脫離基LG為很容易由羥基製備之常用脫離基。其實例為4－甲苯磺醯基氧(LG＝－O－SO2 C6 H4 CH3 )、三氟甲磺醯基氧(LG＝－O－SO2 CF3 )與甲磺醯基氧(LG＝－O－SO2 CH3 )，後者特別適合。此等脫離基係依據習知方法引進，例如：由醇II與鹼反應後，與適當磺醯氯反應，例如：使用甲磺醯氯或三氟甲磺醯氯。合適鹼類為下文消去反應中所列之鹼類。然而，最好使用可溶於有機溶劑之鹼，例如：下文述及之胺類或氮雜環。特定言之，使用吡啶或經取代之吡啶，如：二甲基胺基吡啶、吡啶二羧酸或三甲基吡啶或其混合物。宜選用有機鹼，因為其亦可作為溶劑使用。
適合消去反應之鹼類一般為無機化合物如：鹼金屬與鹼土金屬氫氧化物，如：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化鈣、氨水溶液、鹼金屬或鹼土金屬氧化物，如：氧化鋰、氧化鈉、氧化鈣與氧化鎂、鹼金屬與鹼土金屬氫化物，如：氫化鋰、氫化鈉、氫化鉀與氫化鈣、鹼金屬胺化物，如：胺化鋰，例如：二異丙基胺化鋰、胺化鈉與胺化鉀、鹼金屬與鹼土金屬碳酸鹽，如：碳酸鋰、碳酸鉀、碳酸銫與碳酸鈣，及鹼金屬碳酸氫鹽，如：碳酸氫鈉、有機金屬化合物，特定言之鹼金屬烷化物，如：甲基鋰、丁基鋰與苯基鋰、烷基鎂鹵化物，如：甲基鎂化氯，及鹼金屬與鹼土金屬醇鹽，如：甲醇鈉、乙醇鈉、乙醇鉀、第三丁醇鉀、第三戊醇鉀與二甲氧基鎂，及有機鹼類，例如：第三胺類，如：三甲基胺、三乙基胺、二異丙基乙基胺、2－羥基吡啶與N－甲基哌啶、吡啶、經取代之吡啶，如：三甲基吡啶、吡啶二羧酸與4－二甲基胺基吡啶，及雙環胺類。當然亦可使用不同鹼類之混合物。
然而特別合適之鹼類為具有足夠鹼性，但實質上非親核性之鹼類，例如：立體上受遮蔽之鹼金屬醇鹽，例如：鹼金屬第三丁醇鹽，如：第三丁醇鉀，特定言之環狀脒類，如：DBU(1,8－重氮雙環[5.4.0]十一碳－7－烯)與DBN(1,5－重氮環[3.4.0]壬－5－烯)。較佳為使用最後述及之脒類。
該消去反應通常在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中。合適惰性有機溶劑包括芳香烴類，如：甲苯、鄰－、間－與對－甲苯，鹵化烴類，如：二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿與氯苯，醚類，如：乙醚、二異丙基醚、第三丁基甲基醚、二烷、苯甲醚與四氫呋喃，腈類，如：乙腈與丙腈，酮類，如：丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮與第三丁基甲基酮，醇類，如：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、第三丁醇，水與二甲亞碸、二甲基甲醯胺與二甲基乙醯胺，及嗎啉與N－甲基嗎啉。亦可使用如上述溶劑之混合物。較佳為使用四氫呋喃。
醇II之脫水法係轉化醇官能基形成良好之脫離基，隨後類似先前技藝之已知製程進行消去反應，例如：類似Helv.Chim.Acta 1947,30,1454；Liebigs Ann.Chem 1992,(7),687－692,Carbanions.24."(E)－與(Z)－2,2－二苯基－3－戊烯基鹼金屬化合物之重組反應"；Sch.Chem.,Georgia Inst.Technol.、Atlanta,GA,USA；J.Org.Chem.1989,54(7),1671－1679；Chemical & Pharmaceutical Bulletin 1986,34(7),2786－2798說明之製程進行，其揭示內容已以引用方式完全併入本文中。
A.2項第二項(A.2項)中，化合物I係由化合物II於合適脫水劑之存在下脫水後製成，如下列反應圖所示。
合適脫水劑為例如：三苯基膦/DEAD(DEAD＝偶氮二羧酸二乙酯)與伯格斯試劑(Burgess reagent)系統。三苯基膦與DEAD之組合通常用於針對對掌性之經羥基取代之中心之轉化反應(米茲諾反應(Mitsunobu反應))；然而，若沒有親核物存在下，其即作為溫和脫水劑。以化合物II為基準計，該系統最好過量使用，其中三苯基膦與DEAD兩種成份宜呈約等莫耳比例。
伯格斯試劑為兩性離子之N－(三乙基銨磺醯基胺甲酸酯((C2 H5 )3 N＋ －SO2 －N－ －COOCH3 )，係一種溫和脫水劑。以醇II為基準計，用量可為等莫耳量或超過莫耳量。其與伯格斯試劑之反應通常在惰性有機溶劑中進行。合適惰性有機溶劑包括芳香烴類，如：甲苯、鄰－、間與對－二甲苯，鹵化烴類，如：二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿與氯苯，醚，如：乙醚、二異丙基醚、第三丁基甲基醚、二烷、苯甲醚與四氫呋喃，腈類，如：乙腈與丙腈，與酮類，如：丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮與第三丁基甲基酮。較佳為使用芳香烴類或其混合物，尤指甲苯。
醇II使用脫水劑之脫水法可類似先前技藝已知方法進行，例如：類似Synthesis 2003,201與J.Indian Sci.2001,81,461說明之方法，其揭示內容已以引用方式完全併入本文中。
製法B
製法A中兩項製程(A.1與A.2)所使用式II醇可例如：類似文獻中已知方法製備，其係由式IV之相應二肽前體環化，例如：類似T.Kawasaki等人之Org.Lett.2(19)(2000),3027－3029、Igor L.Rodionov等人之Tetrahedron 58(42)(2002),8515－8523或A.L.Johnson等人之Tetrahedron 60(2004),961－965說明之方法進行。下文中，式IV二肽形成醇II之環化法亦在下文中稱為製法B，其示於下列反應圖。
式IV中，代號A1 、A2 、R1 －R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如式I之定義。基團ORx 為利用氧附接之合適脫離基。此時，Rx 為例如：C1 －C6 －烷基，特定言之甲基或乙基，或苯基－C1 －C6 －烷基，例如：苯甲基。
該環化反應可例如：由式IV二肽於酸或鹼之存在下進行(酸性或鹼性環化法)或加熱反應混合物進行(熱環化法)。
加至二肽IV中之鹼類或酸類係呈等莫耳量或過量。根據本發明製法之特別具體實施例中，以肽為基準計，鹼或酸係使用過量。
肽IV於鹼之存在下之反應通常在0℃至反應混合物沸點之溫度範圍內進行，較佳為10℃至50℃，特別佳為15℃至35℃。通常，該反應在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中。
合適惰性有機溶劑包括脂系烴類，如：戊烷、己烷、環己烷及C5 －C8 －烷類之混合物，芳香烴類，如：甲苯、鄰－、間與對－二甲苯，鹵化烴類，如：二氯甲烷、二氯以烷、氯仿與氯苯，醚類，如：乙醚、二異丙基醚、第三丁基甲基醚、二烷，苯甲醚與四氫呋喃，腈類，如：乙腈與丙腈，酮類，如：丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮與第三丁基甲基酮，醇類，如：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、第三丁醇，水與二甲亞碸，二甲基甲醯胺與二甲基乙醯胺，及嗎啉與N－甲基嗎啉。亦可使用如上述溶劑之混合物。
本發明較佳具體實施例中，該反應係於四氫呋喃－水混合物中，例如：使用例如：1：10至10：1之混合比例(體積比)進行。
通常合適鹼為無機化合物，如：鹼金屬與鹼土金屬氫氧化物，如：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化鈣、氨之水溶液、鹼金屬或鹼土金屬氧化物，如：氧化鋰、氧化鈉、氧化鈣與氧化鎂、鹼金屬與鹼土金屬氫化物，如：氫化鋰、氫化鈉、氫化鉀與氫化鈣、鹼金屬胺化物，如：胺化鋰，例如：二異丙基胺化鋰、胺化鈉與胺化鉀、鹼金屬與鹼土金屬碳酸鹽，如：碳酸鋰、碳酸鉀、碳酸銫與碳酸鈣，及鹼金屬碳酸氫鹽，如：碳酸氫鈉、有機金屬化合物，特定言之鹼金屬烷化物，如：甲基鋰、丁基鋰與苯基鋰、烷基鎂鹵化物，如：甲基鎂化氯，及鹼金屬與鹼土金屬醇鹽，如：甲醇鈉、乙醇鈉、乙醇鉀、第三丁醇鉀、第三戊醇鉀與二甲氧基鎂，及有機鹼類，例如：第三胺類，如：三甲基胺、三乙基胺、二異丙基乙基胺、2－羥基吡啶與N－甲基哌啶、吡啶、經取代之吡啶，如：三甲基吡啶、吡啶二羧酸與4－二甲基胺基吡啶，及雙環胺類。當然亦可使用不同鹼類之混合物。
根據本發明製法之具體實施例中，IV之反應係於鹼之存在下，較佳為於鹼類第三丁醇鉀、2－羥基吡啶或氨之水溶液或此等鹼類之混合物之存在下進行。較佳為僅使用其中一種鹼。特別佳具體實施例中，該反應係於氨之水溶液(例如：濃度10至50%(w/v))之存在下進行。
IV於酸之存在下之反應通常在10℃至反應混合物之沸點之溫度範圍內進行，較佳為50℃至沸點，特別佳為在回流之沸點下進行。通常，該反應在溶劑中，較佳為在惰性有機溶劑中進行。
原則上，合適溶劑為彼等亦可用於鹼性環化反應之溶劑，特定言之醇類。較佳具體實施例中，該反應係於正丁醇中進行。
原則上，適合IV之環化反應之酸類為伯忍斯特(Brnstedt)酸與路易士(Lewis)酸。特定言之，可使用無機酸，例如：氫鹵酸，如：氫氟酸、鹽酸、氫溴酸、無機氧代酸類，如：硫酸與過氯酸，及其他無機路易士酸類，如：三氟化硼、三氯化鋁、氯化鐵(III)、氯化錫(IV)、氯化鈦(IV)與氯化鋅(II)，及有機酸類，例如：羧酸類與羥基羧酸類，如：甲酸、乙酸、丙酸、草酸、檸檬酸與三氟乙酸，及有機磺酸類，如：甲苯磺酸、苯磺酸、樟腦磺酸，等等。亦可使用不同酸類之混合物。
根據本發明製法具體實施例中，該反應係於有機酸之存在下進行，例如：於羧酸之存在下，如：甲酸、乙酸或三氟乙酸或此等酸類之混合物。最好僅使用其中一種酸。較佳具體實施例中，該反應係於乙酸中進行。
酸性環化反應之特別佳具體實施例係於正丁醇、N－甲基嗎啉與乙酸之存在下，於回流條件下進行。
本發明其他具體實施例中，該反應僅加熱反應混合物(熱環化法)。此時，該反應通常在10℃至該反應混合物之沸點之溫度範圍內進行，較佳為50℃至該反應混合物之沸點，特別佳為在該反應混合物之回流沸點下進行。通常，該反應係在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中進行。
原則上，合適溶劑為彼等用於鹼性環化法之溶劑。較佳為極性非質子性溶劑，例如：二甲亞碸或二甲基甲醯胺或其混合物。較佳具體實施例中，該反應係在二甲亞碸中進行。
製法B所得之該反應混合物，及製法A.1與A.2與下文說明製程所得反應混合物均可依習知方式操作。其作法為例如：與水混合，分相且若適當時，由粗產物經層析法純化。有些中間物與終產物係呈黏狀油得到，其通常再經純化或於減壓及適度加溫下排除揮發性成份。若所得中間物與終產物呈固體時，該純化法則採用再結晶或煮解法進行。
製備式II化合物時所需之部份前體與中間物可自商品取得、自文獻中已知或可依文獻中已知方法製備。
二肽式IV可例如：由通式V之N－受保護之二肽類似文獻中已知方法製備，例如：依據Glenn L.Stahl等人之J.Org.Chem.43(11),(1978),2285－6或A.K.Ghosh et al.,Org.Lett.3(4),(2001),635－638說明之方法。
式IV與V中，代號A1 、A2 、R1 －R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如式I之定義，SG為氮保護基，如：Boc(＝第三丁氧基羰基)，ORx 為利用氧原子附接之脫離基。當然，式II化合物之各較佳定義亦同樣適用於式IV或V化合物。如上述與脫離基ORx 相關之說明亦適用於式IV二肽。
因此例如：式V中SG為Boc與ORx 為合適脫離基，其中Rx 為例如：C1 －C6 －烷基，特定言之甲基、乙基或苯甲基之二肽可於酸之存在下轉化成式IV化合物。
該反應通常在－30℃至該反應混合物之沸點之範圍內進行，較佳為0℃至50℃，特別佳為20℃至35℃。
該反應可在溶劑中進行，特定言之在惰性有機溶劑中進行。合適溶劑原則上為鹼性環化法中所提之化合物，特定言之四氫呋喃或二氯甲烷或其混合物。較佳具體實施例中，該反應係在二氯甲烷中進行。
所使用之酸類為二肽IV形成哌II之環化法所提及之酸類。
根據本發明製法之一項具體實施例中，該反應係於有機酸類之存在下，例如：於強有機酸之存在下，如：甲酸、乙酸或三氟乙酸或其混合物進行。較佳具體實施例中，該反應係在三氟乙酸之存在下進行。
該操作法可類似二肽IV形成哌II之環化法之說明進行。
式V之受保護之二肽可類似文獻中已知方法製備，例如：依據Wilford L.Mendelson等人之Int.J.Peptide & Protein Research 35(3),(1990),249－57說明之方法。典型途徑為使用式VII胺基酸酯與Boc－保護之胺基酸VI進行醯胺化反應，如下列反應圖所示：
此反應圖中，其代號如上述定義。除了Boc外，亦可改用其他胺基保護基替代。
通常，VII與VI之反應係於－30℃至該反應混合物之沸點之溫度範圍進行，較佳為0℃至50℃，特別佳為20℃至35℃。該反應可在溶劑中進行，最好在惰性有機溶劑中進行。合適溶劑為IV形成II之鹼性環化法所述及之溶劑。
通常，該反應需要活化劑之存在。合適活化劑為縮合劑，如，例如：聚苯乙烯－或非聚苯乙烯－承載之二環己基碳化二亞胺(DCC)、二異丙基碳化二亞胺、1－乙基－3－(二甲基胺基丙基)碳化二亞胺(EDAC)、羰基二咪唑、氯甲酸酯類，如：氯甲酸甲酯、氯甲酸乙酯、氯甲酸異丙酯、氯甲酸異丁酯、氯甲酸第二丁酯或氯甲酸烯丙酯、特戊烯氯、聚磷酸、丙膦酸酐、雙(2－氧代－3－唑啶基)－磷醯氯(BOPCl)或磺醯氯，如：甲磺醯氯、甲苯磺醯氯或苯磺醯氯。依據一項具體實施例，較佳活化劑為EDAC或DCC。
VII與VI之反應最好在鹼之存在下進行。合適鹼類為二肽IV形成哌II之環化法所提及之鹼類。一項具體實施例中，所使用之鹼類為三乙基胺或N－乙基二異丙基胺或其混合物，特別佳為N－乙基二異丙基胺。
該操作法係類似二肽IV形成哌II之環化法進行。
此部份之式VII化合物可脫除相應之受保護之胺基酸化合物VIII之保護基製備，其係類似文獻中已知方法，例如：依據Glenn L.Stahl等人之J.Org.Chem.43(11),(1978),2285－6或A.K.Ghosh等人之Org.Lett.3(4),(2001),635－638說明之方法進行。由Boc－保護之胺基酸化合物VIII製備VII之方法示於下列反應圖。
此反應圖中，代號如上述定義。除了Boc外，亦可改用其他胺基保護基替代。
式VIII化合物形成化合物VII之轉化法典型係於酸之存在下，於－30℃至該反應混合物之沸點之範圍內進行，較佳為0℃至50℃，特別佳為20℃至35℃。該反應可在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中進行。
合適溶劑原則上為鹼性環化法述及之溶劑。特定言之，四氫呋喃或二氯甲烷或其混合物。較佳具體實施例中，該反應在二氯甲烷中進行。
所使用之酸類與酸性觸媒為二肽IV形成哌II之環化法所提及之化合物。
根據本發明製法之一項具體實施例中，該反應係在有機酸之存在下進行，例如：於強有機酸之存在下，如：甲酸、乙酸或三氟乙酸或其混合物。較佳具體實施例中，該反應係在三氟乙酸之存在下進行。
該操作法係類似二肽IV形成哌II之環化法所說明之方法進行。
式VIII化合物可依據下列反應圖所示反應製備。化合物XI與受保護之胺基酸化合物X之反應可類似文獻中已知方法進行，例如：依據I.Ojima等人之J.Am.Chem.Soc.,109(21),(1987),6537－6538或J.M.McIntosh等人之Tetrahedron 48(30),(1992),6219－6224。
此反應圖中，代號如上述定義。L為脫離基。除了Boc外，亦可改用其他胺基保護基替代。
XI與X之反應通常在鹼之存在下進行。合適鹼類為二肽IV形成哌II之環化法所提及之化合物。其他較佳具體實施例中，所使用之鹼為二異丙基胺化鋰，特別佳為實質上等莫耳量，特定言之等莫耳量。
通常，該反應在－78℃至該反應混合物之沸點之範圍內進行，較佳為－78℃至沸點，特別佳為－78℃至30℃。
該反應可在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中進行。合適溶劑原則上為鹼性環化法所述及之溶劑，特定言之二氯甲烷或四氫呋喃或其混合物。較佳具體實施例中，該反應係在四氫呋喃中進行。
該操作法係類似二肽IV形成哌II之環化法所說明之方法進行。
有些式XI化合物可自商品取得或可由自商品取得之相應前體，依文獻中說明之轉形法製備。
製法C
式II.1中R3 為H之化合物亦可於醛醇反應中，由醛XII與哌XIII偶合製得，其示於下列反應圖：
式II.1、XII與XIII中，代號A1 、A2 、R1 －R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如式I之定義。
該反應通常係於合適鹼類之存在下進行。合適鹼類為一般用於醛醇反應之鹼類。其實例為IV形成II之環化法所述及之化合物。較佳為使用鹼金屬胺化物，如：二異丙基胺化鋰。合適反應條件係先前技藝習知者，且說明於例如：J.Org.Chem.2000,65(24),8402－8405，其揭示內容已以引用方式完全併入本文中。
醛醇反應可直接產生相應醛醇縮合反應產物，亦即式I.1中R3 為H之化合物。特別當該反應在加溫下且反應時間相當長下進行時。
醛XII為自商品取得或可依據醛之已知製法製備。此等醛醇縮合反應可類似J.Org.Chem.2000,65(24),8402－8405說明之製法進行，其揭示內容已以引用方式併入本文中。
原則上，醛醇反應或縮合反應亦可用於製備化合物I，其中R3 不一定為氫，但亦可為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，尤指C1 －C6 －烷基。此時，可改用酮IX替代醛XII， 其中R3 為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，尤指C1 －C6 －烷基。
然而，可能形成複雜之反應混合物，特定言之當R3 為其中附接在附接點之α－位置上之碳原子帶有一氫原子之基團時。此外，大多數例子中需要更強烈之反應條件，以便優先進行醛醇反應來製備化合物I.1。
式XIII化合物可類似文獻中已知方法，由通式XIV化合物進行分子內環化法製備，例如：依據T.Kawasaki等人之Org.Lett.2(19)(2000),3027－3029,Igor L.Rodionov等人之Tetrahedron 58(42)(2002),8515－8523或A.L.Johnson等人之Tetrahedron 60(2004),961－965說明之方法。
式XIV中，代號Rx 、A2 、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、Rd 、Re 與Rf 如上述式IV之定義。基團ORx 為利氧附接之合適脫離基。此時，Rx 為例如：C1 －C6 －烷基，特定言之甲基或乙基，或苯基－C1 －C6 －烷基，例如：苯甲基。
式XIV化合物之環化法可於鹼之存在下進行。此時，該反應通常在0℃至該反應混合物之沸點之溫度範圍內進行，較佳為10℃至50℃，特別佳為15℃至35℃。該反應可在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中進行。
合適溶劑原則上為熱環化法所述及之化合物，特定言之混合比例在1：10至10：1之四呋喃－水混合物。
合適鹼類為IV形成II之鹼性環化法(製法B)述及之鹼類。特定言之第三丁醇鉀、2－羥基吡啶或氨之水溶液或此等鹼類之混合物。較佳為僅使用其中一種鹼類。特別佳具體實施例中，該反應係在氨之水溶液(例如：濃度可為10至50%(w/v))之存在下進行。
此部份之式XIV可依下列反應圖，類似文獻已知之方法，例如：依據Wilford L.Mendelson等人之Int.J.Peptide & Protein Research 35(3),(1990),249－57,Glenn L.Stahl等人之J.Org.Chem.43(11),(1978),2285－6或A.K.Ghosh等人之Org.Lett.3(4),(2001),635－638說明之方法製備。
反應圖中，代號Rx 、A2 、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、Rd 、Re 與Rf 如上述式IV或XIV之定義。第一個步驟中，該合成法包括由胺基酸化合物XV與Boc－保護之胺基酸VI，於活化劑之存在下偶合。除了Boc外，亦可改用其他胺基保護基替代。
式XV化合物與式VI化合物之反應通常在－30℃至該反應混合物之沸點之溫度範圍內進行，較佳為0℃至50℃，特別佳為20℃至35℃。該反應可在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中進行。有關進一步說明可參見胺基酸化合物VI與化合物VII之醯胺化反應製備化合物V之方法。
通常，該反應需要活化劑之存在。合適活化劑為縮合劑，如，例如：聚苯乙烯－或非聚苯乙烯－承載之二環己基碳化二亞胺(DCC)、二異丙基碳化二亞胺、1－乙基－3－(二甲基胺基丙基)碳化二亞胺(EDAC)、羰基二咪唑、氯甲酸酯類，如：氯甲酸甲酯、氯甲酸乙酯、氯甲酸異丙酯、氯甲酸丁酯、氯甲酸第二丁酯或氯甲酸烯丙酯、特戊烯氯、聚磷酸、丙膦酸酐、雙(2－氧代－3－唑啶基)－磷醯氯(BOPCl)或磺醯氯，如：甲磺醯氯、甲苯磺醯氯或苯磺醯氯。依據一項具體實施例，較佳活化劑為EDAC或DCC。
XV與VI之反應最好在鹼之存在下進行。合適鹼類為製法B(二肽IV形成哌II之環化法)所述及之化合物。一項具體實施例中，所使用之鹼為三乙基胺或N－乙基二異丙基胺或其混合物，特別佳為N－乙基二異丙基胺。
該操作法係類似製法B(二肽IV形成哌II之環化法)說明之方法進行。
化合物XVI脫除保護基形成化合物XIV之方法典型地係在酸處理下進行。該反應通常在－30℃至該反應混合物之沸點之溫度範圍內進行，較佳為0℃至50℃，特別佳為20℃至35℃。該反應可在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中進行。
合適溶劑原則上為製法B中鹼性環化法所述及之溶劑，特定言之四氫呋喃或二氯甲烷或其混合物。較佳具體實施例中，該反應在二氯甲烷中進行。
所使用之酸為製法B(二肽IV形成哌II之環化法)所述及之酸類。有關進一步說明可參見V脫除保護基形成化合物IV之方法。其中所述及之反應條件亦適用於脫除化合物XVI之保護基。根據本發明製法之一項具體實施例中，該反應係於有機酸之存在下進行，特定言之強有機酸，例如：於甲酸、乙酸或三氟乙酸或其混合物之存在下進行。較佳具體實施例中，該反應係於三氟乙酸之存在下進行。
若改用不同保護基替代Boc時，所採用之脫除保護基法當然需適合該保護基。
操作法係類似製法B(二肽IV形成哌II之環化法)說明之方法進行。
製法D
本發明進一步提供一種製備通式I哌化合物之方法，其包括在鹼之存在下，由式IX化合物 其中代號A1 、Ra 、Rb 與Rc 如上述定義，R3 為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基、苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，與式XVII膦酸酯反應 其中代號A2 、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、Rd 、Re 與Rf 如上述定義，Ry 為C1 －C4 －烷基，例如：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基或異丁基，芳基，例如：苯基，或芳基－C1 －C4 －烷基，例如：苯甲基。
如上述反應亦可稱為威特－豪尼－艾蒙斯(Wittig－Horner－Emmons)反應。
Ry 較佳為C1 －C4 －烷基，特定言之甲基或乙基。
此製法最好用於製備式I.1中R3 為H之化合物。因此，可採用如上述說明之製程，使用化合物IX為醛XII(相當於化合物IX，其中R3 為H)，其會與膦酸酯XVII反應。此方法說明於下列反應圖：
反應圖中，代號A1 、A2 、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如上述定義。Ry 為C1 －C4 －烷基，例如：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基或異丁基，芳基，例如：苯基，或芳基－C1 －C4 －烷基，例如：苯甲基。Ry 為C1 －C4 －烷基較佳，特定言之甲基或乙基。
合適反應條件係先前技藝習知者，且說明於例如：J.Org.Chem.2001,66(11),3984－3997與Tetrahedron Lett.1987,28,4275，其揭示內容已以引用方式完全併入本文中。
因此合適鹼類為所有常用於威特－豪尼－艾蒙斯反應之鹼類，例如：鹼金屬氫化物，如：氫化鈉，與鹼金屬胺化物，如：二異丙基胺化鋰。然而，最好使用相當弱鹼類，如，例如：如上述非親核性鹼類，例如：脒類DBU與DBN或立體上受遮蔽之鹼金屬醇鹽，如：第三丁醇鉀。合適溶劑當然為非質子性，且係選自例如：鹵化烴類，如：二氯甲烷、氯仿與氯苯，及芳香烴類，如：苯與甲苯。
原則上，威特－豪尼－艾蒙斯反應亦可用於製備式I中R3 不一定為氫但卻亦可為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，尤指C1 －C6 －烷基之化合物。此時，可改用酮IX.1(相當於式IX中R3 不為氫之化合物)替代醛XII 其中R3 為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6)－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6－烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，尤指C1 －C6 －烷基。
此時，亦可採用如上述式I.1哌化合物之製法。然而大多數例子中需要更強烈之反應條件，例如：更強之鹼類、更高之溫度、更長之反應時間，等等，以便優先進行如上述威特－豪尼－艾蒙斯反應製備化合物I.1。
膦酸酯XVII可例如：由膦酸酯XVIII環化製得：
反應圖中，代號Ry 、A2 、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、Rd 、Re 與Rf 如上述定義。ORx 為利用氧附接之脫離基，其中Rx 為C1 －C6 －烷基較佳，如：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、戊基或己基，或苯基－C1 －C6 －烷基，如：苯甲基。
該環化法係類似如上述化合物IV形成化合物II之環化法所說明反應進行。
膦酸酯XVIII製法可由先前製備之N－脫除保護基之膦酸酯XIX與N－受保護之胺基酸XX偶合後，脫除保護基：
反應圖中，代號Rx 、Ry 、A2 、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、Rd 、Re 與Rf 如上述定義。Cbz為苯甲基氧羰基保護基。除了Cbz與Boc，亦可改用其他胺基保護基替代。
Cbz保護基通常使用氫，於鈀/碳之存在下進行還原反應脫除。亦可採用其他常用於脫除Cbz基團之方法。若採用其他保護基時，通常依據適合脫除該基團之反應進行。
如上述反應可依據Tetrahedron 2004,60,961－965說明之方法進行。因此，步驟2中，與胺基酸XX之偶合法係類似由化合物VI與VII製備化合物V之方法進行。化合物XXI脫除保護基形成化合物XVIII之方法係類似化合物V脫除保護基形成化合物IV之方法進行。
膦酸酯類XIX為自商品取得或可依據Synthesis 1986,53－60說明之方法製備。
製法E
本發明進一步提供一種製備通式I哌化合物之方法，其包括於鹼之存在下，由式IX化合物 其中代號A1 、Ra 、Rb 與Rc 如上述定義，R3 為氫、C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基、苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，與式XXI膦酸酯反應 其中代號A2 、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、Rd 、Re 與Rf 如上述定義，ORx 為利用氧附接之脫離基，其中Rx 為C1 －C6 －烷基，如：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、戊基或己基較佳，或苯基－C1 －C6 －烷基，如：苯甲基，Ry 為C1 －C4 －烷基，例如：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基或異丁基，芳基，例如：苯基，或芳基－C1 －C4 －烷基，例如：苯甲基，及SG為胺基保護基，例如：Boc，產生式XXII化合物 脫除胺基保護基，產生式XXIII化合物 並由式XXIII化合物環化，形成式I化合物。
根據本發明製法之第一個步驟亦稱為威特－豪尼－艾蒙斯反應。
Ry 為C1 －C4 －烷基較佳，特定言之甲基或乙基。
最好採用根據本發明製法製備式I.1中R3 為H之化合物。因此可採用如上述製法，其中採用醛XII(相當於式IX中R3 為H之化合物)進行威特－豪尼－艾蒙斯反應。使用開鏈膦酸酯XXI.1，後者轉化成式XXII.1烯烴，當脫除保護基後，即環化成哌I.1，如下列反應圖所示：
式I.1、XII、XXI、XXII.1與XXIII.1中，代號A1 、A2 、R1 －R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如式I之定義。ORx 為利用氧附接之脫離基，其中Rx 為C1 －C6 －烷基較佳，如：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、戊基或己基，或苯基－C1 －C6 －烷基，如：苯甲基。Ry 為C1 －C4 －烷基，例如：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基或異丁基，芳基，例如：苯基，或芳基－C1 －C4 －烷基，例如：苯甲基。Ry 為C1 －C4 －烷基較佳，特定言之甲基或乙基。SG為合適胺基保護基，特定言之Boc。
膦酸酯XXI與醛XII之反應可類似如上述膦酸酯XVII與醛XII之反應進行。該反應亦可類似Synthesis 1992,487－490,Synthesis 1992,482－486與Synthesis 1984,53－60說明之反應進行，其揭示內容已以引用方式完全併入本文中。
保護基通常依文獻中已知方法脫除。若例如：SG為Boc時，保護基可如上述化合物V說明之方法脫除，例如：由化合物XXII.1與酸反應。該脫除保護基反應亦可類似Tetrahedron 2004,60,961－965說明之方法進行，其揭示內容已以引用方式併入本文中。
二肽XXIII.1形成哌I.1之環化法可類似化合物IV形成化合物II之轉化法進行。然而，此時僅適合在酸之存在下進行環化法，因為其中含有雙鍵。此時，適合採用化合物IV之環化法，且同樣適合採用其較佳酸類與溶劑。酸性環化法亦可依據Tetrahedron 2004,60,961－965說明之製法進行，其揭示內容已以引用方式併入本文中。
除了使用保護N，例如：Boc－保護之化合物XXI.1外，亦可使用化相應之脫除保護基之化合物進行威特－豪尼－艾蒙斯反應，以直接形成化合物XXIII.1。保護基通常依文獻中已知方法脫除。若例如：SG為Boc時，可依上述化合物V之說明，脫除化合物XXI之Boc保護基，例如：由化合物XXI與酸反應。脫除保護基反應亦可類似Tetrahedron 2004,60,961－965說明之方法進行，其揭示內容已以引用方式併入本文中。
原則上，依據本發明製法亦可用於製備式I中R3 不一定為氫，但卻可為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，尤指C1 －C6 －烷基之化合物。此時，可改用酮IX.1替代醛XII。
其中R3 為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C2 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C2 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基，尤指C1 －C6 －烷基。
此時，亦可採用如上述式I.1哌化合物之製法。然而大多數例子中需要更強烈之反應條件，例如：更強之鹼類、更高之溫度、更長之反應時間，等等，以便採用經由膦酸酯XXI製備化合物I之方法來製備化合物I.1。
製法F
式I中R1 ≠氫之化合物製法亦可由式I中R1 為氫之哌化合物，與包含不為氫之基團R1 之烷化劑或醯化劑反應。此等反應可類似文獻中已知方法進行，例如：依據I.O.Donkor等人之Bioorg.Med.Chem.Lett.11(19)(2001),2647－2649、B.B.Snider等人之Tetrahedron 57(16)(2001),3301－3307,I.Yasuhiro等人之J.Am.Chem.Soc.124(47)(2002),14017－14019或M.Falorni等人之Europ.J.Org.Chem.(8)(2000),1669－1675說明之方法。
因此，由I中R1 ＝氫之哌化合物與合適烷化劑(下文中稱為化合物X1 －R1 )或醯化劑(下文中稱為化合物X2 －R1 )反應，產生式I哌化合物，其中R1 ≠氫。
烷化劑X1 －R1 中，X1 可為鹵素或O－SO2 －Rm ，其中Rm 為C1 －C4 －烷基或芳基，其可視需要經鹵素、C1 －C4 －烷基或鹵－C1 －C4 －烷基取代。醯化劑X2 －R1 中，X2 可為鹵素，特定言之C1 。此時，R1 ≠氫，且如上述定義，特定言之C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －環烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －環烯基、C3 －C6 －炔基、C3 －C6 －環炔基、苯基－(C1 －C6 )－烷基、雜環基、雜環基－(C1 －C6 )－烷基；苯基－[C1 －C6 －烷氧基羰基]－(C1 －C6 )－烷基或苯基雜環基－(C1 －C6 )－烷基；或COR21 或SO2 R25 ，其中R1 之如上述脂系、環狀或芳香系部份基團可部份或完全鹵化與/或可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 －C4 －烷基、C1 －C4 －鹵烷基、C3 －C6 －環烷基、C1 －C4 －烷氧基、C1 －C4 －烷基硫、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基、C1 －C4 －烷基羰基、羥基羰基、C1 －C4 －烷氧基羰基、胺基羰基、C1 －C4 －烷基胺基羰基、[二－(C1 －C4 )－烷基]胺基羰基或C1 －C4 －烷基羰基氧。
該反應通常在－78℃至該反應混合物之沸點之溫度範圍進行，較佳為－50℃至65℃，特別佳為－30℃至65℃。通常，該反應係在溶劑中進行，較佳為在惰性有機溶劑中進行。
合適溶劑為製法B(二肽IV形成哌II之環化法)所述及之溶劑，特別指甲苯、二氯甲烷、四氫呋喃或二甲基甲醯胺或其混合物。
本發明較佳具體實施例中，該反應係在四氫呋喃中進行。
較佳具體實施例中，由化合物I，其中R1 ＝H，與烷化劑或醯化劑，於鹼之存在下反應。合適鹼類為製法B(二肽IV形成哌II之環化法)所述及之化合物。該鹼類通常使用等莫耳量。亦可使用過量或甚至作為溶劑。較佳具體實施例中，鹼之添加量為等莫耳量或實質上等莫耳量。亦較佳之具體實施例中，所使用之鹼為氫化鈉。
操作法通常係類似製法B(二肽IV形成哌II之環化法)說明之方法進行。
或者，基團NR1 中R1 為H之烷化法或醯化法亦可在前體中進行。因此，例如：式II、IV、V、XIII、XIV、XVI、XXII或XXIII中R1 為H之化合物可如上述說明進行N－烷化或N－醯化反應。
製法G
類似上述說明之方法，其中R2 為氫之化合物I或其前體可與烷化劑R2 －X1 或醯化劑R2 －X2 反應，產生其中R2 ≠氫之式I或其前體。該反應條件相當於上述條件。
製法H
此外，式I化合物可於基團A1 上修飾。因此其可例如：依據下列反應圖說明之製法，轉化取代基Ra 製成，例如：類似J.Tsuji,Top.Organomet.Chem.(14)(2005),332 pp.或J.Tsuji,Organic Synthesis with Palladium化合物(1980),207 pp.說明之方法進行。
因此，其中改用合適脫離基L替代取代基Ra 之式I哌化合物可與包含基團Ra 之偶合劑(化合物Ra －X3 )反應，轉化成另一種式I哌衍生物。
該反應通常在觸媒之存在下進行，較佳為在過渡金屬觸媒之存在下進行。通常，該反應在鹼之存在下進行。
此反應順序以取代基Ra 為例說明，且當然依類似方式用於轉化取代基Rb 與Rc 。
合適脫離基L為例如：鹵素或S(O)n Rk ，其中n＝0、1、2，Rk 為C1 －C6 －烷基、鹵－(C1 －C6 )－烷基或可視需要鹵化或C1 －C4 －烷基－取代之芳基。
合適偶合試劑X3 －Ra 特定言之為彼等其中若Ra 為C1 －C6 －烷基、C2 －C6 －烯基、芳基或雜芳基時，X3 代表下列基團之化合物：－Zn－R1 ，其中R1 為鹵素、C1 －C6 －烷基、C2 －C6 －烯基、芳基或雜芳基；－B(ORm )2 ，其中Rm 為H或C1 －C6 －烷基，其中兩個烷基取代基可共同形成C2 －C4 －伸烷基鏈；或－SnRn 3 ，其中Rn 為C1 －C6 －烷基或芳基。
若Ra 為C2 －C6 －炔基時，X3 亦不可為氫。
式I中Ra 為CN之化合物製法可由化合物Ia(其中L為溴或碘)與氰化酮類似已知方法反應(參見例如："有機化學(Organikum)"，第21版，2001,Wiley,p.404與其中摘錄之文獻)。
此時，依據較佳具體實施例，式I中之L或Ra 係附接在A1 與A1 之碳原子之附接點之鄰位。
此反應通常在－78℃至該反應混合物之沸點之範圍內進行，較佳為－30℃至65℃，特別佳為30℃至65℃之溫度間。通常，該反應在惰性有機溶劑中，於鹼之存在下進行。
合適溶劑為製法B(二肽IV形成哌II之環化法)所述及之化合物。根據本發明製法之一項具體實施例中，係使用四氫呋喃與觸媒量之水；另一項具體實施例中，僅使用四氫呋喃。
合適鹼類為製法B(二肽IV形成哌II之環化法)所述及之化合物。
鹼類之用量通常為等莫耳量。亦可使用過量或甚至作為溶劑。
根據本發明較佳具體實施例中，鹼之添加量為等莫耳量。亦較佳之具體實施例中，所使用之鹼為三乙基胺或碳酸銫，特別佳為碳酸銫。
適合根據本發明製法之觸媒原則上為過渡金屬化合物Ni、Fe、Pd或Cu。可能使用有機或無機化合物。可述及之實例為Pd(PPh3 )2 Cl2 、Pd(OAc)2 、PdCl2 或Na2 PdCl4 。其中Ph為苯基。
不同之觸媒可分開使用或形成混合物使用。本發明較佳具體實施例中，使用Pd(PPh3 )2 Cl2 。
該操作法係類似製法B(二肽IV形成哌II之環化法)說明之製程進行。
或者，基團A1 之轉化法亦可使用化合物Ia之前體進行。例如：由化合物II、IV、V、VII、VIII、IX、XI與XII(其中改由基團L替代基團Ra 附接A1 )如上述進行反應。
製法I
式I中一個Ra 、Rb 或Rc 基團為COOH之哌化合物亦可由式I中Ra 、Rb 或Rc 為COORz ，其中Rz 為烷基，例如：CH3 之哌化合物經水解酯基後製備。該水解反應可例如：與(H3 C)3 SnOH反應，例如：依據K.C.Nicolaou等人之Angew.Chem.Int.Ed.Engl.(44)(2005),1378說明之方法進行。依此方式所得羧酸可依標準有機合成法轉化，若適當時，在轉化成醯基氯後，與胺HNRu Rv 或醇HORw 反應，產生相應酯或醯胺(參見例如：Organikum、Autorenkollektiv,Leipzig 1993,19版，pp.424,429)。此反應順序於下文中採用取代基Ra 為例說明，但其中當然亦可能依類似方式使用此順序，轉化取代基Rb 與Rc 。
此反應圖中，代號A1 、A2 、R1 －R6 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如上述定義。Ru 與Rv 分別獨立為氫、C1 －C6 －烷基、C2 －C6 －烯基、C2 －C6 －炔基、C1 －C6 －烷氧基、C1 －C6 －烷基磺醯基、C1 －C6 －烷基胺基磺醯基、[二－(C1 －C6 )－烷基胺基]磺醯基或可視需要經取代之苯基。Rw 為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －烯基或C3 －C6 －炔基。Rz 為C1 －C6 －烷基、C3 －C6 －烯基、C3 －C6 －炔基、苯甲基，特定言之C1 －C4 －烷基。
第一個步驟中，由哌化合物I{Ra ＝COORz }之酯基水解。該水解反應可例如：與(H3 C)3 SnOH反應，產生I之游離酸{Ra ＝COOH}。轉化成游離酸之方法通常採用過量(H3 C)3 SnOH進行。通常，該反應在惰性有機溶劑中進行。合適溶劑特定言之包括二氯乙烷。通常，該反應在加溫下進行，例如：約80℃下。
第二個步驟中，酸I{Ra ＝COOH}轉化成其醯基氯(Ra ＝COCl)。該形成醯基氯之轉化法通常在10℃至50℃之溫度間進行，較佳為於室溫下進行，例如：25℃。通常，該反應在惰性有機溶劑中進行。合適溶劑特定言之包括二氯甲烷。較佳具體實施例中，該反應在二氯甲烷與觸媒量之二甲基甲醯胺中進行。氯化反應適合使用大量試劑，例如：草醯氯或亞硫醯氯。較佳為使用實質上等莫耳量之氯化劑，特定言之草醯氯。
隨後與胺NHRu Rv 之反應通常在添加過量該胺下進行。該反應可在0℃至40℃之溫度範圍內進行，較佳為於室溫下進行，例如：25℃。
隨後與醇HORw 之反應通常在添加指定醇與三乙基胺二者下進行。
該反應可在0℃至40℃之溫度範圍內進行，較佳為於室溫下，例如：25℃。
該操作法係類似製法B(二肽IV形成哌II之環化法)說明之方法進行。
化合物I與其農業上適用之鹽適合呈異構物混合物及純異構物兩種型式作為除草劑使用。其本身即合適或可適當調配成組合物。包含化合物I或Ia之除草組合物可極有效率地控制非作物區之植物生長，尤其在高施用率下。其可對抗作物(如：小麥、稻、玉米、大豆與棉花)中之闊葉雜草與草本雜草，且不會顯著傷害作物植株。此效果主要出現在低施用率下。
依所需施用法而定，化合物I或Ia或含其之除草組合物亦可用於許多種其他作物植物，消除不要之植物。合適作物實例如下：蔥(Allium cepa)、鳳梨(Ananas comosus)、落花生(Arachis hypogaea)、蘆筍(Asparagus officinalis)、燕麥(Avena sativa)、甜菜(Beta vulgaris spec.altissima、Beta vulgaris spec.rapa)、蕓苔(Brassica napus var.napus、Brassica napus var.napobrassica、Brassica rapa var.silvestris)、芥藍(Brassica oleracea)、黑芥菜(Brassica nigra)、山茶(Camellia sinensis)、紅花(Carthamus tinctorius)、山核桃(Carya illinoinensis)、檸檬(Citrus limon)、柑桔(Citrus sinensis)、咖啡(Coffea arabica、Coffea canephora、Coffea liberica)、甜瓜(Cucumis sativus)、狗牙根(Cynodon dactylon)、胡蘿蔔(Daucus carota)、油椰子(Elaeis guineensis)、蛇莓(Fragaria Vesca)、大豆(Glycine max)、陸地棉(Gossypium hirsutum)、棉花(Gossypium arboreum、Gossypium herbaceum、Gossypium vitifolium)、向日葵(Helianthus annuus)、巴西橡膠樹(Hevea brasiliensis)、大麥(Hordeum vulgare)、啤酒花(Humulus lupulus)、甘薯(Ipomoea batatas)、胡桃(Juglans regia)、靈視豆(Lens culinaris)、亞麻(Linum usitatissimum)、番茄(Lycopersicon lycopersicum)、蘋果(Malus spec.)、白附子(Manihot esculenta)、苜蓿(Medicago sativa)、芭蕉(Musa spec.)、菸草(Nicotiana tabacum(N.rustica))、歐洲橄欖(Olea europaea)、稻(Oryza sativa)、利馬豆(Phaseolus lunatus)、菜豆(Phaseolus vulgaris)、雲杉(Picea abies)、松(Pinus spec.)、開心果(Pistacia vera)、豌豆(Pisum sativum)、梅(Prunus avium)、櫻(Prunus persica)、梨(Pyrus communis)、山杏(Prunus armeniaca)、酸櫻桃(Prunus cerasus)、扁桃(Prunus dulcis)與洋李(Prunus domestica)、醋栗(Ribes sylvestre)、蓖麻(Ricinus communis)、甘蔗(Saccharum officinarum)、黑麥(Secale cereale)、白芥(Sinapis alba)、茄(Solanum tuberosum)、高粱(Sorghum bicolor(s.vulgare))、可可樹(Theobroma cacao)、三葉草(Trifolium pratense)、黑小麥(Triticale)、普通小麥(Triticum aestivum)、硬粒小麥(Triticum durum)、蠺豆(vicia faba)、葡萄(vitis vinifera)與玉米(Zea mays)。
此外，式I化合物亦可用於因育種(包括基因工程法)而可耐受除草劑作用之作物。
此外，式I化合物亦可用於因育種(包括基因工程法)而可耐受昆蟲或真菌侵害之作物。
此外，式I化合物亦適用於為植物部份植株進行脫水與/或脫葉處理，合適作物植物為棉花、馬鈴薯、油菜、向日葵、大豆或菜豆，特定言之棉花。此時，本發明係有關包含式I化合物(群)，用於植物脫水與/或脫葉處理之組合物、製備此等組合物之方法與植物之脫水與/或脫葉法。
當式I化合物作為脫水劑時，其特定言之適合脫水作物植株之地上部，如：馬鈴署、油菜、向日葵與大豆，及穀類。此作法可以為此等重要作物植物進行完全機器採收。
若處理柑桔類、橄欖或其他類果樹，及蘋果類水果、核果及堅果時，經濟上亦有利之作法為可調整落果時間或縮短附著在樹上之時間來緩和採收作業。同樣機轉，亦即促進果實或葉部與植物枝條部份之間形成剝離組織，對完全控有用植物，特定言之棉花之脫葉亦很重要。
此外，縮短各棉花植物成熟間隔期亦可提高採收後纖維材料品質。
化合物I或含其之除草組合物可呈例如：現成可用之噴灑水溶液、粉劑、懸浮液，及高濃縮水性、油性或其他懸浮液或勻散液、乳液、油勻散液、糊劑、撒播材料或粒劑型式，利用噴灑法、噴霧法、撒粉法、散播法、澆水法處理或處理種子或與種子混合。使用型式端賴所需目的決定；任何情況下，應確保根據本發明活性成份儘可能完全分佈。
除草組合物包含除草有效量之至少一種式I化合物或I之農業上適用之鹽，與常用於調配作物保護劑之輔助物質。
常用於調配作物保護劑之輔助物質實例為惰性輔助物質、固態載劑、界面活性劑(如：勻散劑、保護性膠體、乳化劑、濕化劑與膠黏劑)、有機與無機增稠劑、制細菌劑、防凍劑、消泡劑、可視需要選用之著色劑，及用於種子處理調配物使用之黏著劑。
增稠劑(亦即改變調配物流動性質之化合物，亦即靜止時高黏度，搖動時則低黏度)實例為多醣如：黃原膠(Kelzanfrom Kelco)、Rhodopol23(Rhone Poulenc)或Veegum(來自R.T.Vanderbilt)及有機與無機植物矽酸鹽如：Attaclay(來自Engelhardt)。
消泡劑實例為矽乳液(如，例如：SilikonSRE、Wacker或Rhodorsil，來自Rhodia公司)、長鏈醇類、脂肪酸、脂肪酸鹽類、有機氟化合物與其混合物。
可使用制菌劑安定水性除草調配物。制菌劑實例為以二氯酚(Diclorophene)與苯甲醇半縮甲醛為主之制菌劑(來自ICI公司之Proxel或來自Thor Chemie公司之ActicideRS與來自Rohm & Haas公司之KathonMK)與異噻唑啉酮衍生物，如：烷基異噻唑啉酮與苯并異噻唑啉酮(Acticide MBS，來自Fa.Thor Chemie公司)。
防凍劑實例為乙二醇、丙二醇、尿素或甘油。
著色劑實例為難溶於水之色素與可溶於水之染料。可述及之實例為已知下列名稱之染料：若丹明(Rhodamin)B、C.I.色素紅色112號與C.I.溶劑紅色1號，與色素藍色15：4號、色素藍色15：3號、色素藍色15：2號、色素藍色15：1號、色素藍色80號、色素黃色1號、色素黃色13號、色素紅色112號、色素紅色48：2號、色素紅色48：1號、色素紅色57：1號、色素紅色53：1號、色素橙色43號、色素橙色34號、色素橙色5號、色素綠色36號、色素綠色7號、色素白色6號、色素褐色25號、鹼性紫色10號、鹼性紫色49號、酸性紅色51號、酸性紅色52號、酸性紅色14號、酸性藍色9號、酸性黃色23號、鹼性紅色10號、鹼性紅色108號。
黏著劑實例為聚乙烯基吡咯啶酮、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇與纖維基醋酸鈉。
合適惰性添加物為例如下列：中沸點至高沸點之礦物油餾份，如：煤油或柴油，及煤焦油與植物性或動物性油、脂系、環系與芳香烴，例如：鏈烷烴、四氫萘、烷化萘或其衍生物、烷化苯或其衍生物，醇類如：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇與環己醇，酮類如：環己酮，強極性溶劑例如：胺類如：N－甲基吡咯啶酮，或水。
固態載劑為礦物土，如：矽石、矽膠、矽酸鹽、滑石、高嶺土、石灰石、石灰、白堊、膠塊黏土、黃土、黏土、白雲石、矽藻土、硫酸鈣與硫酸鎂、氧化鎂、研磨之合成材料，肥料如：硫酸銨、磷酸銨、硝酸銨、尿素與植物性產物，如：穀粉、樹皮粉、木屑粉與果殼粉、纖維素粉末與其他固態載劑。
合適界面活性劑(輔劑、濕化劑、膠黏劑、勻散劑與乳化劑)為芳香系磺酸之鹼金屬鹽類、鹼土金屬鹽類與銨鹽類，例如：木質素磺酸(例如：來自Borregaard公司之Borrespers牌產品)－、苯酚磺酸－與萘磺酸(Morwet牌產品，Akzo Nobel公司)－與二丁基萘磺酸(BASF AG公司之Nekal牌產品)－之鹽類，與脂肪酸之鹽類、烷基－與烷基芳基磺酸鹽、烷基硫酸鹽、月桂基醚硫酸鹽與脂肪醇硫酸鹽，與硫酸化十六－、十七－與十八碳烷醇之鹽類，及脂肪醇甘油醚之鹽類，磺酸化萘及其衍生物與甲醛之縮合物、萘或萘磺酸與苯酚及甲醛之縮合物、聚氧伸乙基辛基酚醚、乙氧基化異辛基－、辛基－或壬基酚、烷基苯基或三丁基苯基聚二醇醚、烷基芳基聚醚醇類、異十三碳烷醇、脂肪醇/環氧乙烷縮合物、乙氧基蓖麻油、聚氧乙烯基烷基醚類或聚氧丙烯烷基醚類、月桂基醇聚二醇醚乙酸酯、山梨糖醇酯、木質素亞硫酸鹽廢液與蛋白質、變性蛋白質、多醣(例如：甲基纖維素)、疏水性改質澱粉、聚乙烯醇(來自Clariant公司之Mowiol牌產品)、聚羧酸酯(來自BASF AG公司之Sokolan牌產品)、聚烷氧基化物、聚乙烯基胺(BASF AG之Lupamin牌產品)、聚乙烯亞胺(BASF AG之Lupasol牌產品)、聚乙烯基吡咯啶酮及其共聚物。
粉劑、撒播材料與細粉製法可共同混合或研磨活性成份與固態載劑製成。
粒劑，例如：包衣粒劑、浸滲粒劑與均質粒劑可由活性成份與固態載劑結合製成。
水性使用型式可由乳液濃縮劑、懸浮液、糊劑、可濕化粉劑或水可勻散性粒劑加水製成。製備乳液、糊劑或油勻散液時，式I或Ia化合物可呈其本身或溶於油或溶劑中，利用濕化劑、膠黏劑、勻散劑或乳化劑，於水中均質化。或者，亦可製備包含活性成份、濕化劑、膠黏劑、勻散劑或乳化劑之濃縮劑，若需要時，可包含適合加水稀釋之溶劑或油。
現成可用製劑型式之式I化合物濃度可在很大範圍內變化。通常，調配物包含0.001至98%重量比，較佳為0.01至95%重量比之至少一種活性成份。活性成份之使用純度為90%至100%，較佳為95%至100%(依NMR光譜)。
根據本發明化合物I可例如：依下列方式調配：
1.加水稀釋之產物
A)水溶性濃縮劑取10份重量比活性化合物(群)溶於90份重量比水或水溶性溶劑中。或者，可添加濕化劑或其他輔劑。活性成份於加水稀釋時溶解。依此方式得到活性化合物含量為10%重量比之調配物。
B)勻散性濃縮劑取20份重量比活性化合物(群)溶於添加10份重量比勻散劑(例如：聚乙烯基吡咯啶酮)之70份重量比環己酮中。加水稀釋，製成勻散液。活性化合物含量為20%重量比。
C)可乳化濃縮劑取15份重量比活性化合物(群)溶於添加十二烷基苯磺酸鈣與蓖麻油乙氧化物(各5份重量比)之75份重量比有機溶劑(例如：烷基芳香系)中。加水稀釋，製成乳液。該調配物之活性化合物含量為15%重量比。
D)乳液取25份重量比活性化合物(群)溶於添加十二烷基苯磺酸鈣與蓖麻油乙氧化物(各5份重量比)之35份重量比二甲苯中。利用乳化器(Ultraturrax)添加此混合物至30份重量比水中，製成均勻乳液。加水稀釋，製成乳液。該調配物之活性化合物含量為25%重量比。
E)懸浮液在攪拌球磨機中添加10份重量比勻散劑與濕化劑，由20份重量比活性化合物(群)與70份重量比水或有機溶劑磨製，形成均勻活性化合物懸浮液。加水稀釋，製成活性化合物之安定懸浮液。該調配物之活性化合物含量為20%重量比。
F)水可勻散性粒劑與水可溶性粒劑取50份重量比活性化合物(群)，添加50份重量比勻散劑與濕化劑共同細磨，利用機器(例如：擠壓、噴霧嗒、流化床)製成水可勻散性或水可溶性粒劑。加水稀釋，製成活性化合物之安定勻散液或溶液。該調配物之活性化合物含量為50%重量比。
G)水可勻散性粉劑與水可溶性粉劑取75份重量比活性化合物(群)於轉鼓式磨粉機(rotor－stator mill)中，添加25份重量比勻散劑、濕化劑與矽膠磨製。加水稀釋，製成活性化合物之安定勻散液或溶液。該調配物之活性化合物含量為75%重量比。
H)凝膠在攪拌球磨機中，取20份重量比活性化合物(群)，添加10份重量比勻散劑、1份重量比膠凝劑濕化劑與70份重量比水或有機溶劑磨製，製成活性化合物均勻懸浮液。加水稀釋，製成活性化合物之安定懸浮液，藉以得到活性化合物含量為20%重量比之調配物。
2.未稀釋即施用之產物
I)細粉劑取5份重量比活性化合物(群)磨細，與95份重量比細碎高嶺土均勻混合。製成活性化合物含量為5%重量比之細粉劑。
J)粒劑(GR、FG、GG、MG)取0.5份重量比活性化合物磨細，與99.5份重量比載劑混合。目前採用擠壓法、噴霧乾燥法或流化床法。製成活性化合物含量為0.5%重量比之未稀釋即可施用之粒劑。
K)ULV溶液(UL)取10份重量比活性化合物(群)溶於90份重量比有機溶劑中，例如：二甲苯。製成活性化合物含量為10%重量比之未稀釋即可施用之產物。
下列為確實製成之調配物：I取20份重量比式I化合物溶於由80份重量比烷基化苯、10份重量比8至10莫耳環氧乙烷與1莫耳油酸N－單乙醇醯胺之加合物、5份重量比十二烷基苯磺酸鈣鹽與5份重量比40莫耳環氧乙烷與1莫耳蓖麻油之加合物所組成混合物中。將溶液倒至100 000份重量比水中，均勻分散，製成包含0.02%重量比活性化合物之水性勻散液。
II取20份重量比式I化合物溶於由40份重量比環己酮、30份重量比異丁醇、20份重量比7莫耳環氧乙烷與1莫耳異辛基酚之加合物及10份重量比40莫耳環氧乙烷與1莫耳蓖麻油之加合物之混合物中。將溶液倒至100 000份重量比水中，均分分散，製成包含0.02%重量比活性化合物之水性勻散液。
III取20份重量比式I化合物溶於由25份重量比環己酮、65份重量比沸點210至280℃之礦物油餾份與10份重量比40莫耳環氧乙烷與1莫耳蓖麻油之加合物所組成混合物中。將溶液倒至100 000份重量比水中，均勻分散，製成包含0.02%重量比活性化合物之水性勻散液。
IV取20份重量比式I化合物與3份重量比二異丁基萘磺酸鈉鹽、17份重量比來自亞硫酸鹽廢液之木質素磺酸鈉鹽及60份重量比矽膠粉末均勻混合，混合物於鎚磨機中磨製。取混合物均勻分佈在20 000份重量比水中，製成包含0.1%重量比活性化合物之噴灑混合物。
V取3份重量比式I化合物與97份重量比細碎高嶺土混合。產生包含3%重量比活性化合物之細粉劑。
VI取20份重量比式I化合物與2份重量比十二烷基苯磺酸鈣、8份重量比脂肪醇聚二醇醚、2份重量比苯酚/尿素/甲醛縮合物之鈉鹽及68份重量比鏈烷烴礦物油均勻混合。產生安定之油性勻散液。
VII取1份重量比式I化合物溶於由70份重量比環己酮、20份重量比乙氧化二異辛基苯酚與10份重量比乙氧基化蓖麻油組成之混合物中。產生安定之乳液濃縮劑。
VIII取1份重量比式I化合物溶於由80份重量比己酮與20份重量比WettolEM 31(＝以乙氧基化蓖麻油為主之非離子性乳化劑)組成之混合物中。產生安定之乳液濃縮劑。
化合物I或含其之除草組合物可在萌發前或萌發後施用，或與作物植株之種子共同施用。除草組合物或活性化合物之施用法亦可由除草組合物或活性化合物前處理作物植物之種子。若某些作物植物較無法耐受活性成份時，可利用噴灑器具之助，採用噴灑除草組合物之施用技術，以儘可能不與敏感作物植株之葉部接觸之方式，使活性成份可以到達在較低處生長之不要之植物之葉部或無植物之土壤上(後置式(post－directed)、旁置式(lay－by))。
根據另一項具體實施例，式I化合物與除草組合物之施用法可分別用於處理種子。
種子處理法包括依相關技藝實質上已知之所有技術(種子裹覆法、種子包衣法、種子撒粉法、種子浸泡法、種子膜衣法、種子多層包衣法、種子硬皮包覆法、種子液滴處理法與種子壓片法)，以根據本發明式I化合物與含其之組合物為主之處理法。此時，除草組合物可經稀釋或未稀釋使用。
"種子"一詞包括所有種類之種子，包括如：穀粒、真種子、果實、球根/塊根、插枝與類似型式。"種子"一詞較佳係指本文中之穀粒與真種子。
可使用之種子為如上述有用植物之種子及可因轉殖基因或因傳統育種法長成之植物之種子。
活性化合物施用率為0.001至3.0，較佳為0.01至1.0公斤/公頃活性物質(a.s.)，端賴控制目標、季節、標的植物與生長階段決定。處理種子時，化合物I之一般施用量為每100公斤種子0.001至10公斤。
為了擴大作用範圍及達到增效效應，式I化合物可與許多種其他除草性或調節生長性活性成份混合，共同施用。合適混合對象為例如：1,2,4－噻二唑類、1,3,4－噻二唑類、醯胺類、胺基磷酸類與其衍生物、胺基三唑類、醯基替苯胺類、(雜)芳基氧烷酸類與其衍生物、苯甲酸與其衍生物、苯并噻二酮類、2－芳醯基－1,3－環己二酮類、2－雜芳醯基－1,3－環己二酮類、雜芳基芳基酮類、苯甲基異唑啶酮類、間－CF3 －苯基衍生物、胺甲酸酯類、唑啉羧酸與其衍生物、氯乙醯替苯胺類、環己烯酮肟醚衍生物、二類、二氯丙酸與其衍生物、二氫苯并呋喃、二氫呋喃－3－酮類、二硝基苯胺類、二硝基苯酚類、二苯基醚類、聯吡啶類、鹵羧酸類與其衍生物、脲類、3－苯基尿嘧啶類、咪唑類、咪唑啉酮類、N－苯基－3,4,5,6－四氫酞醯亞胺類、二唑類、環氧乙烷類、苯酚類、芳基氧－與雜芳基氧苯氧基丙酸酯類、苯基乙酸與其衍生物、苯基丙酸與其衍生物、吡唑類、苯基吡唑類、嗒類、吡啶羧酸與其衍生物、嘧啶基醚類、磺醯胺類、磺醯基脲類、三類、三酮類、三唑啉酮類、三唑羧醯胺尿嘧啶類、苯基吡唑啉類與異唑啉類與其衍生物。
亦可能有利之作法為單獨施用化合物I或組合其他除草劑施用，或與其他作物保護劑形成混合物施用，例如：與用於控制害蟲或植物病原性真菌或細菌之藥劑共同施用。亦有利之處在於其與無機鹽溶液之相容性，可用於處理微量元素缺乏症。亦可使用其他添加物，如：非植物毒性油類與油濃縮物。
下列實例係說明本發明。
A製備實例
產物之判別法係由其於HPLC/MS(高效液相層析法與質譜儀之組合)之滯留時間RT(以分鐘計)、NMR或其熔點(m.p.)判別。
HPLC管柱：RP－18管柱(Chromolith Speed ROD，來自德國Merck KgaA公司)溶離液：乙腈＋0.1%三氟乙酸(TFA)/水＋0.1%TFA，40℃下，於5分鐘內梯度由5：95至95：5。
MS：四極電噴灑離子化，80 V(正電模式)
實例1：3－苯甲基－1,4－二甲基－6－(2－硝基亞苯甲基)哌－2,5－二酮
1.1 2－(第三丁氧基羰基甲基胺基)－3－(2－硝基苯基)－3－三甲基矽烷基氧－丙酸乙酯 於－78℃下，慢慢滴加異丙基胺化鋰溶液(2 M四氫呋喃/正庚烷溶液，46毫升，92毫莫耳)至含(第三丁氧基羰基甲基胺基)乙酸乙酯(20克，92毫莫耳)之THF(無水，50毫升)中。於此溫度下攪拌混合物3小時。慢慢滴加含2－硝基苯甲醛(13.6克，90毫莫耳)之THF(四氫呋喃，無水，30毫升)。於－78℃下攪拌混合物1.5小時後，添加三甲基矽烷基氯(10克，92毫莫耳)。使反應溶液慢慢(12小時)回升至室溫後，於旋轉蒸發器上濃縮。殘質溶於乙酸乙酯，洗滌，脫水與濃縮。依此方式所得殘質再經管柱層析法純化(SiO2 ，己烷/乙酸乙酯)。產生7.1克(18%)非極性異構物，即用於下一個反應步驟。
M＋Na(m/z)：463。
1.2 3－羥基－2－甲基胺基－3－(2－硝基苯基)丙酸乙酯
添加三氟乙酸(20毫升)至2－(第三丁氧基羰基甲基胺基)－3－(2－硝基苯基)－3－三甲基矽烷基氧丙酸乙酯(8.6克，19.5毫莫耳)之CH2 Cl2 (100毫升)溶液中，於室溫下攪拌混合物12小時。混合物經NaHCO3 溶液(飽和)中和，分相，與濃縮。取依此方式所得殘質經管柱層析法純化(SiO2 ，己烷/乙酸乙酯)。產生1.7克(32%)目標化合物之淺黃色固體。
M＋1(m/z)：269。
1.3 2－{[2－(第三丁氧基羰基甲基胺基)－3－苯基丙醯基]甲基胺基}－3－羥基－3－(2－硝基苯基)丙酸乙酯
取3－羥基－2－甲基胺基－3－(2－硝基苯基)丙酸乙酯(1.7克，6.3毫莫耳)、2－(第三丁氧基羰基甲基胺基)－3－苯基丙酸(2克，7毫莫耳)、N－乙基二異丙基胺(4.5克，35毫莫耳)與EDAC(3克，15.6毫莫耳)於THF(無水，50毫升)中攪拌3天。反應溶液於旋轉蒸發器上濃縮。殘質溶於乙酸乙酯，所得溶液經洗滌，脫水與濃縮。產生2.1克(63%)目標化合物之淺黃色油。
M＋1(m/z)：530。
1.4 3－羥基－2－[甲基－(2－甲基胺基－3－苯基丙醯基)胺基]－3－(2－硝基苯基)丙酸乙酯
添加三氟乙酸(10毫升)至2－{[2－(第三丁氧基羰基甲基胺基)－3－苯基丙醯基]甲基胺基}－3－羥基－3－(2－硝基苯基)丙酸乙酯(2.1克，3.9毫莫耳)之CH2 Cl2 (20毫升)溶液中，於室溫下攪拌混合物2小時後，於旋轉蒸發器上濃縮。取依此方式所得殘質作為進行下一個步驟之粗產物。
1.5 3－苯甲基－6－[羥基－(2－硝基苯基)甲基]－1,4－二甲基哌－2,5－二酮
取1.4所得殘質溶於THF(50毫升)，添加NH4 OH(25%水溶液，10毫升)。於室溫下攪拌混合物12小時。添加H2 O(100毫升)後，以甲基第三丁基醚萃取混合物，有機相脫水與濃縮。取依此方式所得殘質經管柱層析法純化(SiO2 ，己烷/乙酸乙酯)。產生0.57克(38%)極性異構物，再用於下一個步驟。
M＋1(m/z)：384。
1.6甲磺酸(5－苯甲基－1,4－二甲基－3，6－二氧代哌－2－基)－(2－硝基苯基)甲酯
添加DMAP(1.8克，14.7毫莫耳)與甲磺醯氯(30毫升)至含3－苯甲基－6－[羥基－(2－硝基苯基)甲基]－1,4－二甲基哌－2,5－二酮(5.5克，14.3毫莫耳)之吡啶(100毫升)中，於室溫下攪拌混合物12小時後，於旋轉蒸發器上濃縮。添加H2 O與CH2 Cl2 ，採用吸濾法過濾排出不可溶之黑色樹脂，分相，有機相濃縮。取依此方式所得殘質經管柱層析法純化(SiO2 ，己烷/乙酸乙酯)。產生5.1克(77%)目標化合物之淺黃色泡沫狀物。
M＋1(m/z)：462。
1.7 3－苯甲基－1,4－二甲基－6－(2－硝基亞苯甲基)哌－2,5－二酮於0℃下，慢慢滴加DBU(1.4克，9毫莫耳)至含甲磺酸(5－苯甲基－1,4－二甲基－3,6－二氧代哌－2－基)－(2－硝基苯基)甲酯(4.25克，9毫莫耳)之THF(100毫升)中，於0℃下攪拌混合物4小時。於此溫度下，使用檸檬酸(10%)調整pH至7，然後使混合物慢慢回升至室溫。添加H2 O與乙酸乙酯後，分相，有機相濃縮。取依此方式所得殘質經管柱層析法純化(SiO2 ，甲基第三丁基醚/乙酸乙酯)。產生2.5克(76%)目標化合物之黃色泡沫狀物。
取依此方式所得Z ：E 異構物混合物經製備性MPLC分離(矽膠：Merck Lichroprep RP－18(40－63 μm)，MeOH：H2 O＝60：40)。分離之異構物之1 H－NMR(CDCl3 )：a)δ＝2.62(s,3H),3.09(s,3H),3.23(m,2H),4.39(m,1H),6.39(d,1H),7.13(s,1H),7.17(m,1H),7.24(m,1H),7.32(m,2H),7.44(m,1H),7.49(m,1H),8.05(d,2H)。
b)δ＝2.91(s,3H),3.15(dm,1H),3.33(s,3H),3.29(dm,1H),4.32(m,1H),6.28(s,1H),6.75(m,1H),7.08(m,2H),7.32(m,3H),7.39(m,1H),7.47(m,1H),8.04(d,1H)。
實例105/106：3－苯甲基－1,4－二甲基－6－(2－噻唑－2－基亞苯甲基)－哌－2,5－二酮
添加600毫克3－苯甲基－1,4－二甲基－6－(2－碘亞苯甲基)－哌－2,5－二酮(實例4，依據實例1製備)、250毫克雙(二亞苯甲基丙酮)鈀與500毫克三苯基胂(arsan)與30毫升二烷至氬蒙氣下之反應瓶中。添加1克2－(三丁基錫烷基)噻唑，加熱至60℃ 16小時。反應混合物真空濃縮，殘質經矽膠，使用己烷/甲基－第三丁基醚(2：1 v/v)層析。依此方式得到404毫克蠟狀固體。
實例115：3－苯甲基－1,4－二甲基－6－(2－氰基－5,6－二氟亞苯甲基)－哌－2,5－二酮
在反應瓶中添加2.0克3－苯甲基－1,4－二甲基－6－(2－溴－5,6－二氟亞苯甲基)－哌－2,5－二酮(實例119，依據實例11製備)，於155℃與氬蒙氣下，與1.7克氰化亞銅(I)，於50毫升N－甲基吡咯啶酮中反應18小時。反應混合物真空濃縮，殘質溶於乙酸乙酯，所得溶液經水洗滌3次，脫水，再真空濃縮一次。殘質經矽膠，使用己烷/乙酸乙酯(1：1 v/v)層析。依此方式得到331毫克Z－異構物之淺黃色固體，熔點為175℃，及310毫克E－異構物米色固體，熔點205℃。
下表2、3與4所列化合物與下表5所列化合物係依類似方式製備(實例2至214)。
Exp.# 實例編號m.p. 熔點Ph 苯基i－Pr 異丙基
表3： EXp.# 實例編號m.p. 熔點
Exp.# 實例編號m.p. 熔點
表5： Exp.# 實例編號m.p. 熔點
B項：應用實例
以溫室試驗證實式I化合物之除草活性：所採用之培養容器為含約3.0%腐殖土作為基質之砂質壤土之塑膠花盆。分開播種各試驗植物品種之種子。
進行萌發前處理時，取已於水中懸浮或乳化之活性成份，利用均勻分佈之噴嘴直接在播種後施用。稍微在容器中灌水，促進發芽與生長，隨後覆上透明塑膠套，直到植物發根為止。該覆蓋法可使試驗植物均勻發芽，除非受到活性成份破壞。
進行萌發後處理時，先使試驗植物長至高3至15公分，端賴植物習性決定，然後以於水中懸浮或乳化之活性成份處理。因此可直接播種試驗植物並於同一容器中生長，或可先長成幼苗後，再於處理前幾天移植至試驗容器中。
依品種而定，植物保留在10－25℃或20－35℃下。試驗期長達2至4週。此期間，照顧植物並評估各處理之反應。
採用0至100級分進行評估。100分表示沒有植物萌發，或至少完全破壞地上部份，0表示沒有損傷，或生長過程正常。至少70級分相當於良好之除草活性，至少85級分相當於極佳之除草活性。
溫室實驗所使用之植物屬於下列品種：
實例編號1、13、16、44、47、48、49、51、52、129、132、160與170之化合物當依萌發後處理法施用時，展現良好至極佳之除草活性。
當進行萌發後處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例44與160化合物時，其對ABUTH展現良好除草活性。
當進行萌發後處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例1、16與129化合物時，對AMARE展現極佳除草活性。當進行萌發後處理法，以0.5公斤/公頃施用率施用實例13化合物時，對AMARE展現極佳除草活性。
當進行萌發後處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例132化合物時，對AVEFA展現極佳除草活性。
當進行萌發後處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例1化合物時，對LOLMU展現極佳除草活性。
當進行萌發後處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例44、47/48(混合物)、49、51與160化合物時，對SETFA展現極佳除草活性，且實例52與132化合物對SETFA展現良好除草活性。當進行萌發後處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例170化合物時，對SETFA展現極佳除草活性。
實例編號38、40、45、54、62、73、100、101、109、110、119、124、137、140、147、148、191、198、204、206與214之化合物當依萌發前處理法施用時，展現良好至極佳除草活性。
當進行萌發前處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例73化合物時，其對ABUTH展現良好除草活性。
當進行萌發前處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例137化合物時，其對AMARE展現良好除草活性。
當進行萌發前處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例206化合物時，其對AVEFA展現良好除草活性。
當進行萌發前處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例38、45、54、124、140、147與198化合物時，其對APSEV展現極佳除草活性。當進行萌發前處理法，以0.5公斤/公頃施用率施用實例119與191化合物時，其對APSEV展現良好除草活性。
當進行萌發前處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例38、45、100/101(混合物)與109/110(混合物)化合物時，其對ECHCG展現極佳除草活性，且化合物147對ECHCG展現良好除草活性。進行萌發前處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例40與204化合物時，對ECHCG展現極佳除草活性，且實例206化合物對ECHCG展現良好除草活性。
當進行萌發前處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例109/110(混合物)與140化合物時，對SETFA展現極佳除草活性。當進行萌發前處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例62化合物時，及以2公斤/公頃施用率施用實例206化合物時，分別對SETFA展現良好除草活性。
當進行萌發前處理法，以1公斤/公頃施用率施用實例100/101(混合物)化合物時，其對SETIT展現極佳除草活性。當進行萌發前處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例40與204化合物時，對SETIT展現極佳除草活性。當進行萌發前處理法，以3公斤/公頃施用率施用實例214化合物時，其對SETIT展現良好除草活性。

Claims (13)

  1. 一種以式I哌化合物或式I哌化合物之農業上適用之鹽作為除草劑之用途， 其中式I之代號定義如下：R1 為：C1 -C6 -烷基、C3 -C6 -環烷基、苯基-(C1 -C6 )-烷基、雜環基-(C1 -C6 )-烷基；苯基-[C1 -C6 -烷氧基羰基]-(C1 -C6 )-烷基或苯基雜環基-(C1 -C6 )-烷基；或COR21 ，其中R21 為氫、C1 -C6 -烷基、C3 -C6 -環烷基、C1 -C6 -烷氧基、苯基或萘基；或OR24 ，其中R24 為C1 -C6 -烷基；其中R1 之取代基之如上述脂系、環狀或芳族基團可部份或完全鹵化與/或可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 -C4 -烷基、C1 -C4 -鹵烷基、C3 -C6 -環烷基、C1 -C4 -烷氧基、C1 -C4 -烷基硫、[二-(C1 -C4 )-烷基]胺基、C1 -C4 -烷基羰基、羥基羰基、C1 -C4 -烷氧基羰基、胺基羰基、C1 -C4 -烷基胺基羰基、[二-(C1 -C4 )-烷基]胺基羰基或C1 -C4 -烷基羰基氧； 且其中R1 亦可為氫；R2 為C1 -C6 -烷基；R3 為氫或鹵素；R4 、R5 、R6 分別獨立為氫或C1 -C6 -烷基；A1 為苯基、吡啶基或噻吩基；A2 為苯基；Ra 為鹵素、氰基、硝基、C1 -C6 -烷基、C3 -C6 -環烷基、C2 -C6 -烯基、C3 -C6 -環烯基、C4 -C10 -烷二烯基、C2 -C6 -炔基、[三-(C1 -C6 )-烷基矽烷基]-(C2 -C6 )-炔基、C3 -C6 -環炔基、C1 -C6 -烷基硫、苯基-(C1 -C6 )-烷基、苯基-(C2 -C6 )-烯基、苯基磺醯基-(C1 -C6 )-烷基、雜環基-(C1 -C6 )-烷基或苯基-[C1 -C6 -烷氧基羰基]-(C1 -C6 )-烷基，具有6至14員環之單環或多環芳族碳環或具有1、2、3或4個選自氧、硫與氮所組成群中相同或相異雜原子作為環組員之5-或6-員雜芳基，其可利用碳或氮附接且可再與苯環稠合，或5-至6-員雜芳環可形成雙環系統，其中雜芳基為具有3或多個環原子之單環-或雙環飽和、部份不飽和或芳族雜環，或Z3 COR11 ，其中R11 為氫、C1 -C6 -烷基、C3 -C6 -環烷基或C1 -C6 -烷氧基；且其中Z3 為一鍵結、-CH2 -或-CH2 -CH2 -；且其中Ra 取代基之如上述脂族、環狀或芳族基團可部份或完全鹵化及/或可帶有1至3個下列基團：氰基、羥基、C1 -C4 -烷基、C1 -C4 -鹵烷基、C3 -C6 -環烷基、C1 - C4 -烷氧基、C1 -C4 -鹵烷氧基、C1 -C4 -烷基硫、[二-(C1 -C4 )-烷基]胺基、C1 -C4 -烷基羰基、羥基羰基、C1 -C4 -烷氧基羰基、胺基羰基、C1 -C4 -烷基胺基羰基、[二-(C1 -C4 )-烷基]胺基羰基或C1 -C4 -烷基羰基氧；且Ra 係附接在A1 附接點之鄰位；Rb 與Rc 分別獨立為氫、鹵素或C1 -C6 -烷基；且Rd 、Re 或Rf 為氫。
  2. 如請求項1之式I哌化合物之用途，其中A1 為苯基或吡啶基。
  3. 如請求項1之式I哌化合物之用途，其中：Ra 係選自下列基團所組成群中：鹵素、氰基、硝基、C1 -C6 -烷基、C2 -C6 -烯基、C2 -C6 -炔基、C3 -C6 -環烷基、[三-(C1 -C6 )-烷基矽烷基]-C2 -C6 -炔基、Z3 COR11 、C1 -C6 -烷基硫、具有6至14員環之單環或多環芳族碳環或雜芳基，該雜芳基為3或多個環原子之單環-或雙環飽和、部份不飽和或芳族雜環，其中Z3 為一鍵結且R11 為氫、C1 -C6 -烷基或C1 -C6 -烷氧基；或Rb 與Rc 分別獨立為氫，且其中取代基Ra 之如上述脂族、環狀或芳族基團可部份或完全鹵化。
  4. 如請求項1之式I哌化合物之用途，其中R1 為氫或C1 -C6 -烷基；且其中R1 中C1 -C6 -烷基可部份或完全鹵化。
  5. 如請求項1之式I哌化合物之用途，其中R4 、R5 與R6 為氫。
  6. 如請求項1之式I哌化合物之用途，其中哌環之對掌性中心為(S)-組態。
  7. 如請求項1之式I哌化合物之用途，其中哌環之環外雙鍵為(Z)-構形。
  8. 一種組合物，其包含除草有效量之至少一種如請求項1至7中任一項之式I哌化合物或其農業上適用之鹽與調配作物保護劑時常用之輔助物質。
  9. 一種製備如請求項8之組合物之方法，其包括混合除草有效量之至少一種如請求項1至7中任一項之式I哌化合物或其農業上適用之鹽與調配作物保護劑時常用之輔助物質。
  10. 一種控制非所欲之植物生長之方法，其包括使除草有效量之至少一種如請求項1至7中任一項之式I哌化合物或其農業上適用之鹽作用在植物、其種子與/或其棲息地上。
  11. 一種製備如請求項1至7中任一項所定義通式I哌化合物之方法，其包括將式II化合物之任一醇官能基轉化為脫離基LG， 其中代號A1 、A2 、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、Ra 、Rb 、Rc 、Rd 、Re 與Rf 如請求項1至7中任一項中式I之定義，以形成式III化合物 其中LG為脫離基，然後自化合物III移除化合物H-LG，產生相應化合物I；或當LG為OH時，由式III化合物視情況於脫水劑之存在下脫水，產生相應之化合物I。
  12. 如請求項11之方法，其中LG係選自下列各物所組成群：4-甲苯磺醯基氧、三氟甲磺醯基氧與甲磺醯基氧。
  13. 如請求項11或12之方法，其中脫水劑為選自三苯基膦/偶氮二羧酸二乙酯與伯格斯試劑(Burgess reagent)系統。
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