TWI309225B - Substrate movling apparatus and vacuum processing apparatus with thereof - Google Patents

Description

1309%doc 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種配置有基板搬送裝置，且能夠在 真空氣環境中進行諸如薄膜形成、蝕刻處理、熱處理等等 的真空處理裝置。 【先前技術】 通過一台裝置依次進行彼此不同的若干真空處理 時，作為一種能夠在真空狀態下將被處理物由一處理腔室 鲁搬送至下一處理腔室處的裝置，其例如是具有真空預備力口 熱腔至和處理腔室的、且在真空預備加熱腔室處設置有若 干個基板搬送組件的加載固定（L〇ad Lock)型真空裝置， 這已經是目如所公知的。這種裝置可以利用設置在真空預 備加熱腔室兩個部分處的搬送裝置分別實施的升降動作， 對搬送線實施切換，以在處理腔室之間對基板實施搬送接 收（比如說，可以參見專利文獻丨）。 【專利文獻1】日本特開2001 —239144號公報（第2 頁，圖1、圖2) 暴 由專利文獻1公開的這種加載固定型真空裝置，是通 過升降裝置對搬送線實施切換以將基板搬送入處理腔室和 由處理腔室處搬送出的動作，所以存在有搬送線的搬送動 作複雜的問題。 【發明内容】 (1)作為本發明第一方面的一種基板搬送裝置，其特 徵在於可以具有通過搬送面對被處理基板或保持被處理基 1309^25 T/T78pifiCi〇c 板用的基板托架實施保持並實施搬送的搬送機械組件；以 及在水平狀態和相對該水平狀態呈預定傾斜角度的傾斜狀 態間對搬送面實施切換用的傾斜切換機械組件；而且搬送 機械組件可以在搬送面呈水平狀態或傾斜狀態下對被處理 基板或基板托架實施搬送。 (2) 作為本發明第二方面的一種真空處理裝置，可以 具有對被處理基板實施連續真空處理用的兩個或更多個相 互連接著的處理腔室；以及分別設置在至少兩個處理腔室 籲處的、如作為本發明第一方面所述的基板搬送裝置，其特 徵在於設置在至少兩個處理腔室處的各基板搬送裴置，按 照其搬送面能夠大體朝一個方向坡度傾斜以形成一個傾 搬送面的形式構成。 、” (3) 作為本發明第三方面的一種真空處理裝置，其特 徵在於在作為本發明第二方面的真空處理裝置的基礎上， 具有能夠使設置在至少兩個處理腔室處的基板搬送裝置的 各個搬送面，大體朝一個方向坡度傾斜以形成一個傾斜搬 φ 送面用的傾斜控制組件。 (4) 作為本發明第四方面的一種真空處理裝置，其特 徵在於在作為本發明第二、第三方面的真空處理裝置的基 礎上’還進一步具有能夠將被處理基板或基板托架投入至 實施最初真空處理用的處理腔室處，且能夠在朝向大氣開 放和真空密閉間切換的加載腔室；以及能夠將被處理基板 或基板托架由實施最後真空處理用的處理腔室處作為處理 後的基板貫施回收，且能夠在朝向大氣開放和真空密閉間 I3〇9%Uc :=ί腔室。而且’處理腔室還可以兼用作加載腔室

山（5)作為本發明第六方面的—種真空處理裝置，其特 It於本發明第二、第三方面的真空處理裝置的基 —’賴-步具有能触被處理基板或基板托架投入至 真空處理用的處理腔室處，並且能夠將被處理基 、反2 ^托架由實施最後真空處則的處理腔室處逆向搬 il至貝靶最初真空處理用的處理腔室處，作為處理後的基 板實施回收，且能夠在朝向大氣開放和真空密閉間切換的 過渡腔室。^，處理腔㈣可以兼用作過渡腔室。 本發明提供的基板搬送裝置，可以通過在水平狀態和 ^斜狀㈣對搬送面實施切換的方式，進而對被處理基板 或基板^架實施搬送，所以可以使搬送動作簡單，能夠在 知時間裏通過輕微動作進入至搬送狀態。而且，對於將這 種基板搬送裝置設置在真线理裝置處時 5將可以提南被 處理基板等等的傳送速度，提高吞吐量（throughput)。 ^為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 易懂’下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說 明如下。 【實施方式】 下面參考圖1〜圖6,對作為本發明實施形式的真空處 理裝置進行說明。 (第一實施形式） 圖1為表示作為本發明第一實施形式的真空處理裝置 13092¾論 c 的構成形式用的整體構成矛立 第一實施形式的真空:==二2為說明作為本發明 送動作的示意圖。圖3為表基J搬 =真r理裝置處的基板搬送裝置=二： 不意圖’其中圖3(a)為示意性平面圖，圖3⑴ 性正面圖。圖4為表示作為本 理裝置中的基板搬送時間=第::_式的真空處 ^ ^ 了 UlL耘用的不意圖。而且在圖 圖4t，相同的構成部件由相同的參考標號示出。 a勒空處理裝置⑽由兼用作加載/卸載腔室的直空預 備加熱腔f1G和錢處_室2()這兩 連^ 外部裝置7G與衫處理裝請分別獨立地ί己置接Ϊ 力10内的上下兩個部分處配置著基板搬 於腔室外部處的加熱部件電源、1〇c相連接。'直 =口還通過管線與排氣系統…和排放系= t；rr在朝向大氣開放和真空密閉狀態間切^= η ’二足而可以對基板w實施 11、13適分別與傾斜切換機械組件12、14相 ::::::相對水平狀態嫩傾斜角度的亀

電極P 理月工至20内設置有基板搬送裝置21和RF 电極p。RF電梅p 且“ π 接。電漿處理腔室20與！^於腔室外部處的RF電源施相連 入系統20b間相連接還通過官線與排耽系統20a和氣體導 递钱，從而可以在預定的氣體壓力下實施 I309^pi,oc deposition^ ^ ^ ( Vap〇r 等處理。基板搬送裝置權 接，從而可以在水平狀態^相f 能 的傾斜狀態間進行狀態切換 傾斜角度 分別實施狀態切換用的傾斜衣置11、13、21 與驅動控制回路80相連：刀，:械ί件12、14、22 ’還 11、13、進行詳細朗妾。在下面_對基板搬送裝置 在真空預備加敎腔宮1^ 設置有門型部件G1、、、，在至真卜部裝置70的側面處 腔室20 _邊界㈣職加_室10與電襞處理

Sit Hi置ΓΓ施搬人搬出時使真空預備加 呈密閉狀態。門型部; G2f可了貫施搬人搬出之外的時間裏 兩_㈣對基板w實施處理時使 且對=== 可貫施保管並供給至真空處理裝置100，並且 理後的基板Wf施回收的腔室，部通常處於大 =xl〜x4表示的是基板^的傳送動作。箭頭幻 =t基板W通過門型部件G1 _動作，即基板w由 S /Γ"装置71搬达至基板搬送裝置11處時的動作。箭 :二公不的是基板w通過門型部件G2時的動作，即基 板由基板搬送裝置n搬送至基板搬送裝置21處時的動 10 ^0¾ pif.doc 作。箭頭x3表示的县 印基板W由基板搬通過門型部件日寺的動作， 的動作。箭頭x4 * 置21搬送至基板搬送裝置13處時 動作，即基板W :二的是基板W通過門型部件G1時的 72處時的動作。土反搬送裝置13搬送至基板搬送裝置 箭頭 xl、X4 ± - AA a 的動作，可以接雨不、疋基板冒沿水平方向實施搬送時 搬送。換㈣竹θ降機械組舰料紅水平狀態實施 土板w傾斜並沿朝向傾斜方向設定的搬送線 λ也。送時的動作’這是本發明提供的基板搬送裝置所具 有的最大特徵。對於沿箭頭χ2、χ3實施傾斜搬送時，需要 使基，搬送裝置η、13、21呈傾斜狀態，箭頭yl〜y3表 示的疋相應的狀態切換動作。通過如上所述的傳送動作χ1 〜x4，由外部裝置70供給至真空處理裝置1〇〇處的基板 W，可以通過真空處理裝置1〇〇實施預定的連續處理之 後，再回收至外部裝置70處。 下面參考圖2,對上述基板…的傳送動作進行詳細說 明。圖2通過簡化圖的形式，分別利用連接五個搬送軋輥 R和搬送軋輥R間的線段（搬送面）表示著基板搬送裝置 11、13、21。搬送軋輕R在實施真空處理時不產生轉動， 而搭載者基板W。在實施基板傳送時，搬送軋報R繞著與

I3〇9%W 紙面垂直_觸，㈣基板w 送裝置u在水平位置（傾 可以使基板搬 斜角度為θ) _行狀態切換斜位置（傾 基板搬送裝置u左端處的搬送軋輥’與位於 ::以使基板崎置11以狀態切換車:τ=:::、從 碩yi所示的方向實施狀態切換。類^、、’ 搬送裝置13在水平位置與傾斜位置、、=基板

狀態切換轴T3，與位输搬送裳置用的 輥的轉動軸一致，f β 右鳊處的搬送軋 軸Tm 使基碰送裝置13以狀態切換 4 沿箭頭y3所示的方向實施狀態切換。 與傾斜位裝置21在水平位置（傾斜角度為士〇。） 狀械（傾斜角度為+ 0或—θ)間進行狀態切換用的 輥，與位於基输送裝置21右端處的搬送軋 狀離Π 致動作，從而可喊基板搬送裝置21以 態ί換 為轉動巾心，沿箭頭y2所示的方向實施狀 、當以沿箭頭x2所示的方向實施傾斜搬送的 進仃說叫’保持在水平狀態的基板搬縣置u的搬送 ，可以知照僅僅繞狀態切換軸丁1向右轉動角度㊀、與搬 送線L2保持一致的方式產生傾斜。在另一方面，保持在 f平狀態的基板搬送襄置21的搬送面，可以按照僅彳^繞狀 恶切換軸T2向右轉動角度θ、與搬送線L2保持一致的方 式產生傾斜。在這種狀態下，通過使基板搬送裝置η和 21的搬送軋輥R朝向右側轉動的方式，可以使基板w由 12 I309225pi,d〇〇 基板搬送裝置η過渡至基板搬钱置21上，進而可以對 該基板w實施處理。在電漿處理腔室2〇中進行的處 以'在!:基板”持水平的狀態下進行，也可以在使 基板W /σ搬送線L2傾斜的狀態下進行。 沿箭頭Χ3戶斤示的方向實施的傾斜搬送，也可以類似的 態的基板搬送裝置21的搬送面，按照僅僅 ί轉動角度θ、與搬送線L3保持-致 的方式產生傾斜。保持在水平狀態的基板 送面，可以按照僅僅繞狀態切換轴T3向左轉=度二 = 方式產生傾斜。在道種狀:下，通 的搬送軋輥尺朝向左側轉動的 方式了以使基板^^由基板搬送裝置21過渡至 裝置13上。傾斜切換機械組件12、14 :板搬达 制回路80的控制下，按照使基板搬送裝置^以驅動控 搬送^卿斜預定角朗方式，對狀 、^的 T3的轉動角度實施控制。 俠軸il、T2、 :面參考圖3，對使基板搬送裝置 的機械，亍說明。基板搬送裝置η用的二 =用 組件12，具有狀態切換用汽紅】 …換機械 切換用汽H的作用下沿方向Α 、可==態 輪3 (Pm10n)。狀態切換用汽缸！ 下轉動的小齒 以設置在真空預備加熱腔室1〇 /。σ小齒輪3可 而且’傾斜切換顧師12還配置錢置在真空預傷 13 I3〇92j2^pif-d〇c 加熱腔^ 10内部處的槓桿4 (lever)。槓桿4按照 齒輪3動軸C同軸連接著的轉動圓板（圖中未示/出 的侧面處4的方式設置。當小齒輪3轉動定 時;i將二圖，使槓桿4的前端部與基板搬送: 置11抵接進而主將基板搬送褒置u 置El)的構成形式。圓_表亍的^f/千位置（位 通過按照預㈣隔，在轉動圓板的側面 處3==不同的槓桿的方式，將可以根據槓桿的

裝置11的傾斜角度。當轉動執跡呈圓 狐/Γΐ Γ桿與基板搬送裝置11抵接時，可以將基板 搬送裝=支撐在傾斜位置（位置£2)，#轉動軌跡呈圓 弧D3所㈣槓桿與基板搬送裂置ii抵接時，又可以將基 板搬送裝置11支樓在傾斜位置（位置E3)的構成實例， 已經示出在圖3 (b)中。 下面，對搬送軋輥R的轉動動作進行說明。正如圖3 (a)所示’可以將軋報驅動用電動機5的轉動驅動力傳遞 至轉動軸6處，使轉動轴6按照圖中箭頭b所示的方向轉 動，進而通過傘齒輪（bevel gea〇在該轉動力作用下使各 個搬送軋輥R朝向相同方向轉動。 雖然在圖中未示出，然而基板搬送裝置n、傾斜切換 機械組件12和搬送軋輥R的驅動機械組件，可以沿著箭 頭x2所示的方向設置有兩列。搭餘各舰送滅r上 的基板或是保持基板用的基板托架（基板拖盤），可以沿預 定的傾斜角度傾斜，進而可以通過搬送軋輥尺的轉動，沿 14

I30m,〇c 作為搬送方向的箭頭幻所示的方向實施傳送。 &、、,基板搬迗裝置13和傾斜切換機械組件Μ，以;5其& 送裝置2〗和傾斜切賴械組件22，其基 二 =與基《送裝置n及傾斜切換機械師12 口 以在廷兒省略了對它們的詳細說明。 斤 下面參考圖4所示的搬送時間流程圖 送動作進行說明。圖4⑷〜圖4⑷表的傳 妒5铖、Μ π^ + 表不的疋從處理開 雜==間時裝置内部的狀態。為了避免圖示繁 二圖4主要表示的是基板W和基板w的動作，各個 的參考標號僅表示在圖4 (a)巾。而且，基板w 刼^、處理的過程，還分別由參考標號Wl、W2、W3表示。 表示的是按照隨後描述的時間序列，對^板 W貫施傳職的狀態。㈣話職是，表示的是通過如上 =述的動作Χ2，將第-基板W1由真空預備加執腔室ι〇 ，送至電祕理腔f 20處，在實施該傳送後朝向大氣打開 真空預備加熱腔室10,並通過如上所述的動 基板W2由外部裝置7。搬送至真空預備加動熱乍腔 ，結束時的狀態。可以對真空預備加熱腔室10實施真空排 氣，並通過真空預備加熱腔室10實施真空加熱處理、以及 通過電漿處理腔室20實施電漿處理。

Ik後可以如圖4 (b)所示，打開門型部件G2，通過 動作將只施過電漿處理的基板W1由電聚處理腔室20 傳送至真空預備加熱腔室10處。這一傳送工序可以如前所 述，按照使基板搬送裝置11、21沿著預定的搬送線傾斜的 15 1309%^,doc 方式進行。 隨後可以如圖4 ( c )所示’通過動作χ2將實施過加 熱處理的基板W2由真空預備加熱腔室1〇傳送至電聚處理 腔室20。這一傳送工序也可以如前所述，按照使基板搬送 裝置11、21沿著預定的搬送線傾斜的方式進行。在通過動 作x2實施搬送後，使門型部件G2閉鎖。使搭載有基板 W1的基板搬送裝置13由傾斜位置返回至水平位置。 隨後可以如圖4(d)所示’在將真空預備加熱腔室1〇 • 的壓力調節至大氣壓力之後打開門型部件G1，通過動作 x4將實施過處理的基板W1由真空預備加熱腔室1〇搬送 出至外部裝置70，並且通過動作χΐ將未實施處理的基板 W3由外部裝置70投入至真空預備加熱腔室1〇。可以在這 時使基板搬送裝置11由傾斜位置返回至水平位置。隨後， 閉合門型部件G1對真空預備加熱腔室10實施真空排氣。 通過真空預備加熱腔室10實施真空加熱處理、以及通過電 漿處理腔室20實施電漿處理。 φ 可以重複進行上述工序，對若干基板W實施連續處理 和回收。而且，圖4表示的是將基板w搭載在拖盤τ上 一起實施傳送的實施形式，然而也可以僅對基板W實施單 獨傳送。 、 、作為本實施形式的基板搬送裝置11、13、21，是分別 ^彳員斜切換機械纽件12、14、22在水平位置（傾斜角度 為)或傾斜位置（傾斜角度為θ)，沿搬送面對基板w 或疋保持基板W用的基板托架實施搬送的，所以可以使其 16 13 09223§if.doc 傾斜動作簡單化，在短時㈣完雜群備。*且 需要使用傾斜切換機械組件12、14、22對基 ，

施狀態切換，這和採用大型的升降機械組件的場人相比I 可以提高信賴度，並且可以減少設備費用和動力^用。’ 作為本實施形式的真空處理褒置100,設置有能夠在 短日守間裡兀成搬送準備以實施傾斜搬送的基板搬送装复 11、13、21，所以可以在短時間裡對基板w或是保持基 w用的基板托架貫施搬送，從而可以提高連續真空處理 整體吞吐量（throughput)。而且，基板搬送裝置！卜13、 21僅需要實施傾斜驅動，所以可以部分地減小動作所需要 的空間’從而可以通過這種空間分佈，擴大真空處理腔室 内的構成部件、比如說加熱部件、電城線、各種配管設 置所使用的空間。 (第二實施形式） 圖5為表示作為本發明第二實施形式的真空處理裝置 的構成形式用的整體構成示意圖^作為第二實施形式的真 工處理裝置2GG與作為第—實施形式的真空處理裝置1〇〇 相比二不同點僅在於腔㈣構成形式，下面主要對其不同 點進行說明’相同的構成部件已經由相同的參考標號示 出，並省略了對這些部件的詳細說明。 、真空處理裝f 2〇〇將真空處理裝i 1〇〇中的兼用作加 載/卸載腔室的真空預備加熱腔室1G，按照其功能分割為 ，個腔室。換句話說就是，真空預備加熱腔室1()被分割為 载/卸載腔至30和真空預備加熱腔室這兩個腔室。真 I309^,doc 置勘將基板搬送裝置n、13設置在真空預備加 處=至40處，將基板搬送裝置21設置在電漿處理腔室加 基板w的傳送過程是按照箭頭χ5、χ；ι、χ2、χ3 。可:通過加載/卸載腔室3G將未實“ " 才又入至真空預備加熱腔室40，並且由真空 =熱空室40處對處理後的基板〜實施回收 Ϊ以IT在朝向大氣開放和真空密閉狀態間實施^ 熱腔室^H板:貫施搬入搬出處理。在真空預借加 可以在直空狀能土下n亍的加熱處理和搬入搬出處理， 3=可也不需要實伽^ ;Ϊ=Γ的基板搬繼u、㈣的作用和效 果均與通過苐一實施形式說明過的相同。 (第二實施形式） 的構明ί;實施形式的真空處理裝置 空處理裝置為第三實施形式的真 f 100'200 弟—實施形式的真空處理裝 搬送路徑，下面主3 =於腔室的構成形式和基板的 =_的參考標號示出，並二”對=;; 真空處理聚置3〇0將真空處理教置200中的加載/卸載 18 if.doc 腔室30，按照其功能分割為兩個腔室。換句話說就是，加 載/卸載腔室30被分割為將未實施處理的基板…搬入至裝 置内部用的加載腔室50，和將處理後的基板^搬出至裝 置=部用的卸載腔室60這兩個腔室。加載腔室5Q和卸載 腔至60均可以在朝向大氣開放和真空㈣狀態間實施切 換。真空處理裝置300將基板搬送裝置n、13設置在真命 預備加熱腔室40 &，將基板搬送裝置21言是置在電敷處^ 腔室20處。

土槪w的傅送为為兩個系統，即按照箭頭χ5、χ卜 =、x7、X請示路徑f麵傳送，和按照箭頭χ5、χΐ，、 :逆二=權實施的傳送。加載腔室50處的基板 ^裝置51可以按崎頭績示的方向實施 真空加熱腔㈣絲錢送裝置u、^的 、，们間貫施過渡，採用這種構成形式，可以 =程一分為兩個系統。由基板搬送裝置u朝向^板搬送 置21實施的傾斜搬送作業，是與第一和—土 7 '、、

:;如f頭X3,所示的搬送動作作業，： m _送方向不同’然而基板搬送裝ί 過的相^和效果，均與通過第—和第二實施形式說明 或保過搬送面對被處理基板 送機械缸件（：心念：5乇木貫施保持並實施搬送的搬 和的上 如_ 5和搬送軋輥R等箄槿η， 水平狀態和相對該水平狀態呈預定傾斜角度的傾 19 1309%_doc 70 :外部裝置 71、72 :基板搬送裝置 80 :驅動控制回路 100、200、300 :真空處理裝置 A、B :方向 C :轉動軸 D卜D2、D3 :圓弧 E卜E2、E3 :位置 G卜G2 :严，型部件 Η:加熱部件 U、L2、L3 :搬送線 P : RF電極 R :搬送軋輥 ΊΠ、Τ2、Τ3 :狀態切換軸 W、W1〜W3 :基板（被處理物） xl〜χ8 :傳送動作（動作） yl、y2、y3 :狀態切換動作 z:升降動作 Θ :傾斜角度 22

Claims (1)

13 09221 _u 17138pifl.doc 9號中文專利範圍無劃線修 正本 修正曰期:98年1月17曰 B, 十、申請專利範圍： L種基板搬送裝置，其特徵在於所述基板搬送裝置 包括： 通^搬送面對被處理基板或保持前述被處理基板用 、土托架實施保持並實施搬送的搬送機械組件；以及 ，水平狀態和相對該水平狀態朝搬送方向呈預定傾 =又的傾斜狀態間對前述搬送面實施切換用的傾斜切 機械組件； 而且别述搬送機械組件在前述搬送面呈水平狀熊或 傾斜狀㉙下㈣述被處理紐或前述基板托架實施搬送： 2·種真空處理裝置，其特徵在於所述真空處理裝置 包括· 對被處理基板實施連續真空處理用的兩個或更多個 相互連接著的處理腔室；以及 別設置在前述至少兩個處理腔室處的、如中請專利 乾圍第1項所述的基板搬送裝置； 装署而置在前駐少油4賴线的各基板搬送 ，按照其搬送面大體朝—财向坡度傾斜以形成一個 傾斜搬送面的形式構成。 / 3.如申請專利麵第2項所述之真空處理裝置，宜特 ^於包括驅動控制回路’使設置在前述至少兩個處理腔 j的前述基板搬送裝置料個搬送面，大體朝—個方向 坡度傾斜以形成一個傾斜搬送面。 4.一種真空處理裝置，其特徵在於包括： 23 對被處理基板實施連續真空處理用 相互連接著的處理腔室；以及 飞更夕個 分別設置在前述至少兩個處理腔室處的、如申請專 範圍第1項所朗基板搬送裝置，其中設置在前述至 個處理腔室處的各基板搬送裝置，按照其搬送面大體朝一 個方向坡度傾斜以形成一個傾斜搬送面的形式構成； 將前述被處理基板或前述基板托架投入至實施 真空處理㈣處理腔室處，且能夠在朝向大朗放和直空 密閉間切換的加載腔室；以及 、 將前述被處理基板或前述基板托架由實施最後真空 處理用的處理腔室處作為處理後的基板實施回收，且能= 在朝向大氣開放和真空密閉間切換的卸載腔室。 5.—種真空處理裝置，其特徵在於所述真空處理 包括： 對被處理基板實施連續真空處理用的兩個或更多個 相互連接著的處理腔室； 分別設置在前述至少兩個處理腔室處的、如申請專利 範圍第1項所述的基板搬送裝置，其中設置在前述至少兩 個處理腔室處的各基板搬送裝置，按照其搬送面大體朝一 個方向坡度傾斜以形成一個傾斜搬送面的形式構成； 驅動控制回路，使設置在前述至少兩個處理腔室處的 前述基板搬送裝置的各個搬送面，大體朝一個方向坡度傾 斜以形成一個傾斜搬送面； 又 將前述被處理基板或前述基板托架投入至實施最初 24 !3〇92^8ρίί1,οε 真空處理用的處理腔室處，且能夠在朝向大氣開放和真空 密閉間切換的加載腔室；以及 將前述被處理基板或前述基板托架由實施最後真空 處理用的處理腔室處作為處理後的基板實施回收，且能夠 在朝向大氣開放和真空密閉間切換的卸載腔室。 6. 如申請專利範圍第4項或第5項所述之真空處理裝 置，其特徵在於前述處理腔室兼用作前述加載腔室或卸載 腔室。 7. 一種真空處理裝置，其特徵在於包括： 對被處理基板實施連續真空處理用的兩個或更多個 相互連接著的處理腔室；以及 —分別設置在前述至少兩個處理腔室處的、如申請專利 範圍第1項所述的基板搬送裝置，其中設置在前述至少兩 個處理腔至處的各基板搬送裝置，按照其搬送面大體朝一 個方向坡度傾斜以形成一個傾斜搬送面的形式構成;以及 將則述被處理基板或前述基板托架投入至實施最初真 二處理用的處理腔室處，並且將前述被處理基板或前述基 板托架由實施最後真空處理用的處理腔室處逆向搬送至實 施最初真空處理用的處理腔室處，作為處理後的基板實施 回收，且能夠在朝向大氣開放和真空密閉間切換的過渡腔 室。 &一種真空處理裝置，其特徵在於包括·· 對被處理基板實施連續真空處理用的兩個或更多個 相互連接著的處理腔室； 25 130922§_.doc 分別設置在前述至少兩個處理腔室處的、如申請專利 範圍第1項所述的基板搬送裝置，其中設置在前述至少兩 個處理腔室處的各基板搬送裝置，按照其搬送面大體朝一 個方向坡度傾斜以形成一個傾斜搬送面的形式構成； 驅動控制回路’使設置在前述至少兩個處理腔室處的 前述基板搬送裝置的各個搬送面，大體朝一個方向坡度傾 斜以形成一個傾斜搬送面；以及 將前述被處理基板或前述基板托架投入至實施最初真 空處理用的處理腔室處，並且將前述被處理基板或前述基 板托架由貫施最後真空處理用的處理腔室處逆向搬送至實 施最初真空處理用的處理腔室處，作為處理後的基板實施 回收，且_在朝向大氣開放和真空密閉間切換的過渡腔 室。 9·如申請專利範圍第7項或第8項所述之真空處理裝 置，其特徵在於前述處理腔室兼用作前述過渡腔室。 26