KR101651164B1 - 기판처리시스템, 그에 사용되는 기판처리시스템의 공정모듈 - Google Patents
기판처리시스템, 그에 사용되는 기판처리시스템의 공정모듈 Download PDFInfo
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Description
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- 기판처리가 수행될 하나 이상의 기판이 적재된 트레이를 공급받고, 기판처리가 완료된 기판이 적재된 트레이를 배출하는 진공예비모듈과;상기 진공예비모듈로부터 기판이 적재된 트레이를 전달받아 트레이에 적재된 기판에 대하여 기판처리를 수행하고, 기판처리 완료 후 트레이를 하측방향으로 이동시켜 상기 진공예비모듈로 전달하는 공정모듈을 포함하며,상기 진공예비모듈은트레이를 전달받아 상기 공정모듈로 전달하는 로드락부와; 상기 로드락부의 하측에 설치되어 상기 공정모듈로부터 트레이를 전달받아 배출하는 언로드락부를 포함하며,상기 언로드락부의 바닥부는 언로드락부의 몸체로부터 착탈가능한 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
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- 청구항 1에 있어서,상기 로드락부 및 상기 언로드락부는 서로 격리된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
- 청구항 1에 있어서,상기 로드락부는 트레이에 적재된 기판들을 가열하는 가열부가 추가로 설치되며, 상기 언로드락부는 트레이에 적재된 기판들을 냉각하는 냉각부가 추가로 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
- 삭제
- 청구항 1에 있어서,상기 진공예비모듈은 그 하부공간에 트레이의 교체 또는 보수를 위하여 트레이를 외부로 반출하도록 상기 바닥부를 승강시키는 저면승강부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 기판처리시스템.
- 청구항 6에 있어서,상기 공정모듈의 하측에는상기 저면승강부에 의하여 상기 언로드락부의 저면이 하강된 후 트레이를 전달받을 수 있는 이동경로가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
- 청구항 7에 있어서,상기 이동경로에는 트레이의 상면 및 저면 중 적어도 어느 하나를 세정하기 위한 세정모듈이 추가로 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
- 청구항 1, 청구항 3 내지 청구항 4, 청구항 6 내지 청구항 8 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 공정모듈은밀폐된 처리공간을 형성하며 상기 진공예비모듈의 상기 로드락부로부터 트레이를 전달받는 제1게이트와 상기 진공예비모듈의 상기 언로드락부로 트레이를 반출하는 제2게이트가 형성된 진공챔버와;상기 진공챔버의 상측에 설치되어 기판처리를 위하여 가스를 분사하는 샤워헤드부와;상기 진공챔버에 설치되어 트레이를 지지하는 트레이지지부와;상기 진공챔버에 설치되어 상기 트레이지지부를 승강시키는 트레이승강부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
- 청구항 9에 있어서,상기 트레이승강부는상기 트레이지지부를 상하로 이동시키는 승강구동부와; 트레이가 상기 진공챔버 내로 인입될 때 트레이의 가장자리를 지지하고 트레이가 상기 승강구동부에 의하여 승강될 때 횡방향으로 이동되어 트레이의 지지를 해제하는 트레이인입부와; 상기 승강구동부에 의하여 전달된 트레이의 가장자리를 지지하여 상기 진공예비모듈의 언로드락부로 배출시키는 트레이배출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리시스템.
- 청구항 10에 있어서,상기 트레이인입부는 트레이가 상기 진공챔버 내로 인입될 때 트레이를 지지하는 지지모듈을 포함하며,상기 지지모듈은 상기 진공챔버 내로 인입될 때 트레이를 지지할 수 있는 위치로 있다가 상기 승강구동부에 의하여 지지되어 트레이가 하강될 때 그 이동이 간섭되지 않도록 횡방향으로 이동되는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템.
- 청구항 1, 청구항 3 내지 청구항 4, 청구항 6 내지 청구항 8 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 진공예비모듈과 연결되어 상기 진공예비모듈의 언로드락부로부터 트레이를 전달받아 기판처리가 완료된 하나 이상의 기판을 트레이에서 언로딩하고, 기판처리가 수행될 하나 이상의 기판을 로딩하여 상기 진공예비모듈의 로드락부로 전달하는 기판교환모듈을 추가로 포함하는 기판처리시스템.
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Citations (1)
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JP2005340425A (ja) | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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