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TW466149B - Laminated ribbon and method and apparatus for producing same - Google Patents

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TW466149B
TW466149B TW089119631A TW89119631A TW466149B TW 466149 B TW466149 B TW 466149B TW 089119631 A TW089119631 A TW 089119631A TW 89119631 A TW89119631 A TW 89119631A TW 466149 B TW466149 B TW 466149B
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TW
Taiwan
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metal
laminated
metal strip
layer
tape
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Application number
TW089119631A
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English (en)
Inventor
Kentaro Yano
Noboru Hanai
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Description

經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 4. 6 6 T 4 ^ Α7 ___Β7___ 五、發明說明(,) 發明背景 本發明係關於一種包含強力互相熔接金屬帶之疊層帶 ,及高效率製造此種疊層帶之方法及裝置。 先前技術 日本專利公開編號7-5 5384曾揭示一種製造疊層金屬帶 之方法,該方法是在一真空室內藉由滾壓壓力熔接金屬 帶,其中金屬帶是在室溫並在一真空壓力下受到離子浸 蝕而活化,而壓力熔接是在滾壓下低牽引比下實施。此 種傳統方法第一之特點爲因爲壓力熔接是在室溫內進行 ,則在壓力熔接邊界區內不容易形成一合金層(擴散層) ,使其適於製造超薄疊層金屬帶,金屬帶之特性亦由於 此種合金層(擴散層)之形成而嚴重地變質。此種傳統方 法之第二特點爲因爲壓力熔接在真空內實施,鑒於氣體 及金屬氧化物之形成之夾雜物,導致疊層金屬帶在金屬 帶之間具有較高的熔接強度。因此,疊層金屬帶在可加 工性方面極佳。 然而,離子浸蝕在浸蝕速率方面甚爲緩慢,而浸蝕之 處理程度應大於氧化層之厚度以達到強力的熔接,但是 ,在生產方面會產生甚差的結東。而且,此種方法僅限 於由相同金屬或合金製成'之兩層疊層金屬帶之製造,並 不能製造具有三層或更多層結構之疊層金屬帶。 曰本專利公開編號1-1 3 3 689曾揭示一種熱軋方法,該 方法包含在室溫及攝氏1400度間之溫度及在真空或在一 控制大氣下對不同金屬之疊層金屬片加熱;及對重疊之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 裝Ά------訂-- --------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 66 149 A7 _____B7_ 五、發明說明(> ) (請先閱讀背面之注$碩再填窝本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 各金屬片滾軋以提供疊層金屬帶等步驟。此種傳統方法 可在高速下提高熔接強度而不需要熔接步驟,而能產生 高的生產力。由於此種方法僅需要相當簡單的機具,故 其優點在於設備成本低。然而,因爲加熱是在壓力熔接 之前實施,故在如此薄的金屬箔內,諸如厚度爲1 〇微米 (1#ηι=10·6米)之銅箔,由於薄金屬箔之軟化及與其他 金屬箔在膨脹係數數之差異難免會發生摺痕。此外,此 種方法難以應用在盤管之製造上,而且,其生產力甚低》 此外,亦曾有人建議一種低壓擴散熔接法。例如,曰 本專利公開編號60 - 2748 1曾揭示一種熔接接合用之方法 ,該方法包含以下各步驟:輸送鋁及鈦(AI and Ti)至 一淸潔室;藉濺射(乾浸蝕)之助將其熔接面上所形成之 氧化層移除;將鋁及鈦輸送至與一靶子裝置相對的一位 置;藉濺射之助在鋁及鈦上鍍一層鋅、鎂(Zn, Mg)等; 再藉濺射之助形成一層的矽(SU等之包覆層以防止鋅,鎂 等之蒸發:以及輸送鋁,鈦至一擴散處理爐內,鋁及鈦 則在該爐內被熔接。雖然,這種方法適於諸如由一輸送 機可輸送之接頭等相當小零件之熔接,但是,其生產力 則很差,因爲於氧化層必須從待熔接的之物體上移除, 利用濺射所形成之兩包覆層且至少靶子交換一次,而進 一步的焊接則將物體輸送至一擴散爐內並在該爐內實施 。因此,此種方法在生產力方面甚低,而且,不能在毫 無困難之情況下製造連續的疊層金屬帶。 又,日本專利公開編號7-214344亦曾揭示一種製造曼 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) j 6 149 A7 B7 五、發明說明(今) (晴先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 層之裝置,其中各活性薄金屬層則在三層或多層金屬片 之部分或所有熔接面上藉濺射之助而同時形成,或者, 利用一種惰氣或金屬粒子束之發射而將各污染層移除·, 及將各金屬片之熔接面互相熔接。此種方法適於供相當 小金屬片熔接之用。然而,此.種方法並不適用於連續疊 層金屬帶之製造。 發明目的 因此,本發明之目的是能提供一種由兩條或多條金屬 帶強力互相熔接而組成之疊層帶。 本發明之另一目的是提供一種以低牽引比及高效率地 製造此種疊層帶之方法及裝置。 發明簡述 . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對於有關疊層帶製造之硏究結果(該疊層帶是在一真空 室內以壓力熔接而產生一種三層或多層之結構),諸人已 發現一疊層帶之生產率可大爲改善即該疊層帶採用乾膜 形成法(dry film-forming method,亦稱爲蒸汽沈積法 (vapor deposition method),在待熔接金屬帶之至少一 熔接面上形成一層乾的形成膜層,及採用一種熱擴散熱 處理可達到較高的熔接強度。本發明基於這些發現而完 成。 因此,根據本發明,製造疊層金屬帶之第一方法包含 以下各步驟: (a)在真空室內,在第一金屬帶及第二金屬帶中至少一 溶接面上形成一乾形成膜層(dry-f 〇 rme d film layer), 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 B7 4 6 6 1 4 五、發明說明(4 ) 該乾形成膜層係由與第一及第二金屬帶之相同或不同的 材料製成’及(b)將第一帶以壓力溶接在第二帶上。 在一特定的實施例中’此製造疊層金屬帶之第一方法 包含以下各步驟:(a)在一真空室內在第一金屬帶及第二 金屬帶中至少一熔接面上以蒸汽沈積一層第三金屬層, 該第三金屬之材料可與第一及第二金屬帶之金屬或合金 相同或不同;及(b)將第一金屬帶以壓力熔接在第二金屬 帶上。 根據本發明,製造疊層金屬帶之第二方法包含以下各 步驟:(a)在真空室內在第一金屬帶及第二金屬帶中至少 一熔接面上以乾膜形成法形成一層第三金屬層,第三金屬 之材料與第一及第二金屬帶之金屬或合金相同或不同; (b)將第一金屬帶以壓力熔接在第二金屬帶上;及(㈧使 合成之疊層受到熱擴散用之熱處理。 乾膜形成法以物理蒸汽沈積法(physical vapor deposition method)爲宜 〇 根據本發明,在第一金屬帶及第二金屬帶之間具有一乾 形成膜層。在本發明之一指定實施例中,在第一金屬帶及 第二金屬帶之間該疊層金屬帶具有一乾形成膜層(蒸汽沈 積層)。 在一優先選用之實施例中,在乾形成膜層及第一金屬帶 之間及/或在乾形成膜層及第二金屬帶之間的一邊界區內 形成一擴散層。。 根據本發明,在一真空室內以壓力熔接帶所製造疊層帶 本紙張尺度適用令國國家標準(CNS>A4規格(210 X 297公釐) -------裝 ----- 訂! —--線 5· ) <請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 d 6 6 14 9 五、發明說明(t ) <請先閲讀背面之迮恚事項再填窝本頁) 之裝置包括一真空室’其包含(1)許多金屬帶用之捲盤; (2)從捲盤上所取之金屬帶在至少一溶接面上設有形成乾 形成膜層之一乾膜形成裝置;(3)複數滾輪,因於壓力熔 接各帶上而熔接面互相面對;及(4)捲繞合成壓力熔接疊 層帶用之一捲盤。 各導輥以位於在乾膜形成裝置相對的位置上爲宜,製 造疊層帶用之裝置較佳亦包含實施熱處1用之一加熱裝 置以供熱擴散壓力熔接疊層帶用。 圖式說明 第i ( a )圖爲顯微照相相片(X 4 0 0 ),顯示在實施例1 中疊層金屬帶之橫剖面; 第I ( b )圖爲第1 ( a )圖顯微照相相片之示意圖解視圖; 第2圖爲根據本發明之實施例中製造疊層金屬帶用之 裝置。 較佳實施例詳沭 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之重要特徵在於較佳內金屬材料製成之金屬帶 是在真空室內經由乾形成在金屬帶上之一薄膜而以壓力 熔接或黏接而製成,及對該金屬帶施加熱擴散用之熱處 理,雖然本發明最適於經由一乾形成金屬膜層而在金屬 帶上採用壓力熔接,但本發明亦可用於經由一乾形成金 屬膜層壓力熔接金屬帶以及樹脂帶。關於兩條金屬帶與 一乾形成金屬膜層之組合將詳述於後。 在真空內乾形成金屬之(例如,蒸汽沈積)是非常活化 ,使得該金屬可以壓力熔接在金屬帶上。利用滾軋等壓 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 4 6 6 14 9 A7 B7 五、發明說明(p ) 入法則可達成熔接之目的。因爲乾形成膜層很可能在軋 壓時並未產生足夠的強度,故以採用熱散用之熱處'埋以 達到較高的熔接強度爲宜。若僅採用滾軋等而達到足·夠 的熔接強度,則需要較高的牽引比,因而產生摺痕及變'、 形。因此,熱擴散用之熱處理與壓力熔接聯合應用爲較 佳者。 . 在本發明中,與第一或第二金屬相同或不同的第三金屬 則在第一金屬帶及第二金屬帶中的一個或兩個熔接面上沈 積成第三金屬層。 . 沈積第三金屬可在第一金屬帶及第二金屬帶中之一個或 兩個熔接面上實施。即使第三金屬僅在第一金屬帶及第二 金屬帶中之一個熔接面上沈積,利用隨後之壓力熔接亦可 達到足夠的熔接強度,而較高的熔接強度亦可利用在第一 金屬帶及第二金屬帶之兩個熔接面上沈積第三金屬而完 成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ,(請先閱讀背面之注意事項再填寫本 .若第一金屬帶及第二金屬帶均用相同的金屬或合金製成 ,則與第一及第二金屬帶相同的第三金屬可提供一種均勻 疊層之金屬帶。在第一方面,若第三金屬不同於第一及第 二金屬帶之金屬或合金,則合成之疊層金屬帶適於供選擇 之浸蝕等。 若第三金屬與第一金屬帶或第二金屬帶之材料相同,則 容易製成由兩種型式金屬組合而成之疊層金屬帶,此種方 式可應用在由兩個具有不同熱膨脹係數所組成之雙金屬, 由兩種具有不同熱電特性之金屬所成之導線架,電池用之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) :6 6 14 9 A7 _____ B7 五、發明說明(7 ) 零件等方面。 另一方面’若第一金屬帶及第二金屬帶係用不同的金屬 或合金製成,則第三金屬可與第一金屬帶及第二金屬帶中 任一種金屬帶之材料不同。在此種情況下,則可能產生具 有三金屬層結構之疊層金屬帶,此金屬帶可應用在電池之 零件上,該零件具有不同應腐蝕阻力,電氣特性及耐風化 等由三種金屬材料組成之電池零件。 如在第1 ( a )圖中所示之橫剖面顯微照相相片及第1 ( b ) 圖之圖解視圖所示,本發明之疊層金屬帶9之結構則是將 第三金屬層(乾形成膜層,特別是,蒸汽沈積層)11夾在 第一金屬帶4及第二金屬帶5之中間。 在本發明中,第三金屬層可能係由第一及第二金屬帶之 相同金屬或合金製成,故所合成之疊層金屬帶主要係由一 種金屬或合金所組成。 在本發明中,必須顧及本發明之疊層金屬帶具有包含第 三金屬層(乾形成膜層)之結構,該第三金屬層則夾在第一 及第二金屬帶之中間,而第三金屬層可能係由與第一及第 二金屬帶之材料相同的金屬或合金或不同的金屬或合金製 成。隨同用於熱擴散之熱處理,在第三金屬層(乾形成膜 層)及第一金屬帶之間及/或在第三金屬層及第二金屬帶 之間形成一擴散層。視用於熱擴散之熱處理條件而定,擴 散層可能伸展遍及乾形成膜層及疊層之金屬帶。 除了相同型式之第三金屬沈積外,不同的金屬或合金亦 可能沈積在第一及第二金屬帶上,而第三金屬層(乾形成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ---------- I I I i ·)1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂,· 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 6 6 14 9 A7 ____B7 _____ 五、發明說明(^〉 膜層)之金屬或合金可能與第一及第二金屬帶之金屬或合 金不相同。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 當第三金屬層之厚度大於10微米(βπ〇時,則需要太長 的乾膜形成時間,結果使生產率降低。因此,第三金屬層 以10微米或小於10微米爲宜。當第三金屬層之怍用在選 擇性浸蝕之時間內可用作一浸蝕之屏障時,則第三金屬層 可能比較薄,其厚度爲了微米或小於3微米。 當欲形成一厚的第三金屬層時,首先在第一及第二金屬 帶中任一個熔接面上或在兩個熔接面上形成,,此第三金屬 層,該第一及第二金屬帶係由與第三金屬層材料的相同金 屬或合金製成,而所合成之疊層金屬帶可能被使用爲第一 及第二金屬帶。當然,在第一及第二金屬帶上疊層之金屬 帶亦可能被使用爲第三金屬帶。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在此所使用之乾膜形成u ( d r y f i 1 m - f 〇 r m i n g ) —詞一般 是指一種乾膜形成方法,諸如在氣體相或電漿內之物理蒸 汽沈積及化學蒸汽沈積。物理蒸汽沈積包括真空蒸汽沈積 :離子電鍍,其中將材料在真空內加熱而汽化.,使材料離 子化並加速以形成一薄膜,濺射,其中氣體離子衝擊在一 靶子上使原子灘射供形成一種薄膜;之用;以及分子射束 積,其中薄膜形成材料容納在一特殊坩堝內並加熱.,及已’ 汽化材料撞擊在一金屬帶上並且以分子射束形式在金屬帶 上形成一薄膜。在化學蒸汽沈積,使氣狀材料在高溫反應. 因而沈積在金屬帶上。物理蒸汽沈積則包括諸如真空蒸汽 沈積,濺射及離子電鎪,物理蒸汽沈積最近已在膜形成速 -10" 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 466149 A7 B7 五、發明說明(?) {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 率方面獲得顯著的發展並適於供第三金屬沈積之用。_ 真空蒸汽沈積則在沈積速率方面極佳並因而生產率亦高 。濺射可應用在如第三金屬具有高熔解點之金屬,故導致 第三材料屬範圍的選擇。離子電鍍則如同真空蒸汽沈積在 生產率方面甚佳,可提供強熔接乾形成膜層至一基帶上。 然而,離子電鍍需要在金屬帶上施加一偏壓電壓,因而亦 需要一複雜的裝置。. 因此,在商業的生產情況中,真空蒸汽沈積法最好在一 . 真空室內並在一低壓大氣約lx 10·1巴或小於lx 10·1巴下 實施。在此種情況下,導輥位在乾膜形成裝置對面的,以 壓力熔接之導輥可完全從乾膜形成裝置上分離,因而,可 抑制各導輥之溫度升高及乾膜形成金屬之黏著。各導輥亦 可能裝設一冷卻機構。 爲了便於乾膜形成膜層之形成,可預先在第一金屬帶及 第二金屬帶中之一條或兩條金屬帶上實施離子浸蝕處理。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次,將具有一乾形成膜層之第一及第二金屬帶以壓力 熔接在一起。連續壓力熔接可由滾軋方式實施以製造一種 連續的金屬帶。在滾軋中之牽引比則以1 %或小於1%爲 宜。除了滾軋外,組合的金屬帶亦可在拉力下捲撓在一捲 繞滾筒的周圍以完成其壓力熔接。 若採用上述之壓力熔接法,則製造一種疊層金屬帶,該 疊層帶是在第一金屬帶及第二金屬帶之間具有一乾形成膜 層,而兩條金屬帶均已熔接完成。 在本發明之優先選用的實施例,疊層金屬帶可受到熱擴 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 16 6 14 9 A7 B7 五、發明說明( 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 寫 本 散之熱處理。熱擴散之熱處理則可以達成疊層金屬帶之較 高熔接強度。此外,用於在第一金屬帶及第二金屬帶上形 成不同電路圖案的選擇浸蝕之情況下,熱擴散之熱處理則 適於供進一步強化一屏障層之用。 若實行離子浸蝕作爲乾膜形成處理之預先處理,則離子 浸蝕度並不足。此外,在乾膜形成之後,以及由於真空度 不良而在乾形成膜層面上所增加之雜質,使得其滾軋亦不 足。在這種情況下,則在壓力熔接之後,其熔接亦不足。 即使在此種情況下,藉由熱擴散之熱處理亦可能達到高熔 接。熱擴散之熱處理可在與乾膜形成用之相同真空室內或 在其他加熱爐內實施* 在壓力熔接後之加熱溫度約爲攝氏1 50-800度,而以攝_ 氏200-400度更爲適宜。例如,可使用Ni爲.第一金屬帶, 而Cu爲第二金屬帶。對在真空室內被輸送之金屬帶作連 續實施加熱爲宜。在溫度上升速率不夠,則疊層金屬帶必 須從真空室內取出並在另一加熱處理爐內加熱。當在一真 空室內對輸送之疊層金屬帶加熱時,必須在輸送路線內裝 設一加熱裝置,或者,壓力熔接用之各滾筒也可加熱。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如此所製造之疊層金屬帶可按照所需要的尺寸而適當地 切斷。 ............ 在本發明中,因爲金屬帶是在低壓下被熔接及加熱,具 有厚度約0 . 5公厘或以下之相當薄的疊層金屬帶可較佳地 製得。特別是,由兩種型式之銅/鎳鐵合金的金屬組成之 導線架,由銅/鎳/銅三層結構材料構成之電路材料(用 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 B7 五、發明說明(,') 此種材料製成精細的接線,諸如c s P、BGA等)較佳地由本 發明塑成。 在本發明中,由於不同的金屬或合金可經由乾形成膜 層而熔接,故樹脂等使用在第一及第二金屬帶上。例如, 若第一帶係用樹脂製成,而第二帶係用Cu製成時,銅(Cu) 可在第一及第二金屬帶中任一個或兩個熔接面上乾形成一 薄膜層,而兩條帶亦可與其面對的熔接面以壓力熔接,以. 提供一種疊層帶具有第一層(樹脂)/乾形成膜層(Cu) /第 二層(Cu )之層結構。此種疊層帶可以使用在印刷電路板 上。 本發明將參照附圖詳述於後。 第2圖爲圖解視圖以顯示根據本發明製造疊層金屬帶 用之裝置實施例,如在第2圖中所示,捲盤2及捲盤3分 別配置在一真空室1內,當第一金屬帶4從捲盤2上取出 及第二金屬帶5從捲盤3上取出並越過位於相對乾膜形成 裝置6 (例如,蒸汽沈積裝置)而設置的各導輪7,7,第三 金屬則以蒸汽沈積在其熔接面上。蒸汽沈積之第一及第二 金屬帶3,4受到滾輪8,’§之壓力熔接而製成疊層金屬帶 9並在第1及第2金屬帶3, 4之間具有一蒸汽沈積層H。 合成之疊層金屬帶9則受到一加熱裝置1 2之加熱,然後, 才捲繞在一捲盤10上。 本發明將參照以下之實例並詳述於後,但是 不受限於該實例。 實例1 13 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 請 先 閲 讀 背 面 之 注 項 再 填 寫 本 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印繫 本發明並 4 6 6 14 9 A7 B7 五、發明說明() 厚度爲10微米之銅箱用作第一金屬帶4,而厚度爲25 微米之銅箔則用作第二金屬帶5並分別從捲盤2 , 3上取 出並輸送至一真空室1內一位置,在此熔接面與蒸汽沈積 裝置6相對,該真空室具有大約5x 10_3巴(Pa)之一真空 氣壓。在第一及第二金屬帶4,5之各熔接面上利用真空 蒸汽沈積法沈積一層鎳(Ni)。 第一及第二金屬帶4,5之蒸汽沈積面則被滾輪8,8以 壓力熔接以生產一種Cu/Ni/Cu之疊層金屬帶9,其中ΝΓ 組成一蒸汽沈積層11。合成之疊層金屬帶9是採用一加 熱裝置12在攝氏300度時實施熱擴散之熱處理,然後1 再將該金屬帶捲繞在一捲盤10的周圍。 合成的Cu/Ni/Cu之疊層金屬帶_9藉由一光學顯微鏡觀 察其橫剖面。第1 ( a )圖爲放大400倍之顯微照相相片, 而第1 ( b )圖爲第1 ( a )圖顯微照相相片之示意視圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 結果發現疊層金屬帶9具有一特別均勻的第三層(蒸汽 沈積層)11之橫剖面結構並夾在第一及第二金屬帶4, 5 之間。茲經X射線之分析證實,由N i之擴散層組成第三 金屬帶(蒸汽沈積層)11,而組成第一及第二金屬帶4,5 則在蒸汽沈積層1 1及第一及第二金屬-帶-41-十之-邊界-區·域-內形成。 一約爲10公厘寬度之試樣從疊層金屬帶9上切取並受 到剝落試驗,使第一及第二金屬帶4,5在一速率爲50公 厘/秒之情況下互相剝開並測定剝落用之最大負載,結果 則發現在無熱處理之情況下熔接強度爲0 . 1牛頓/公厘 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 4 6 6 14 9 A7 B7 五、發明說明(〇 ) (N/mm ),或者’在攝氏300度之熱處理爲0.5牛頓/公厘 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 或以上’故可證明熱擴散之熱處理作用可增加疊層金屬帶 9之焊接強度。 實例2 厚度爲60微米之不銹鋼箔用作第一金屬帶4,而厚度 爲1 0微米之鎳箔則用作第二金屬帶5並分別從捲盤2,3 上取出並輸送至一真空室1內之一位置上,其熔接面分別 與乾膜形成Ni對置在一乾膜形成裝置6.內,該真空室I 具有大約lx 10·2巴(Pa)。利用乾膜形成(真空蒸汽沈積) 方法可將Ni沈積在第一及第二金屬帶4, 5之各熔接面上。 第一及第二金屬帶4,5之各蒸汽沈積面是用滾輪8, 8 以壓力熔接,以產生由不銹鋼箔/N丨蒸汽沈積層/不銹 鋼箔組成之一種疊層金屬帶9,供電池的安全閥用之合成 疊層金屬帶9則捲繞在一捲盤10的周圍。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 疊層金屬帶9之不銹鋼箔在一格子圖案內以10.5公厘 的一節距可選擇地浸蝕形成3公厘直徑之圓孔。然後疊層 金屬帶9被一衝壓機割斷並產生各疊層金屬塊10,每一 金屬塊之尺寸爲10.5公厘X 7.5公厘並在中央部分具有 —圓孔作爲各電池之安全閥碎屑。每一安全閥碎屑則熔接 在用高壓鋼製成之容器內,使得該碎肩將高壓容器之一閥 門開口密封。若將一壓縮機經由一壓力錶而與容器之一端 相連接,該容器則被加壓。其結果使得在安全閥碎屑1 〇 內之鎳箔在1.3-1.7百萬巴(MP A )之一壓力下破碎。 從安全閥碎屑上切取各試樣並用電子顯微鏡觀察其橫剖 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 B7 1、發明說明(14 ) 面。因而’則可證實,在第一金屬帶(不錄鋼箔)及第二金 屬帶(Ni箔)之間形成具有厚度爲1微米(//m)之N丨蒸汽 沈積層。. 如以上所述’本發明可在一單一步驟並在相同的真空室 內製造一疊層金屬帶’該金屬帶具有三層或更多層,以傳 統之方法則需要,兩個步驟才能製造。因而,本發明則容易 實施離子浸蝕並爲乾膜形成(蒸汽沈積)之一預先處理。.本 發明之疊層金屬帶之製1_.里_1到特別改進之生產力° 符號之說明 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1… ..真空室 2… ..捲盤 3… ..捲盤 4… ..第一金屬帶 5… ..第一金屬帶 6… ..乾膜形成裝置 7… ..導輪 8… ..滾輪 9 ... ..合金疊層 10 .. ..捲盤 11.. ..蒸汽沈積層 12.. ..加熱裝置 -16 - 訂: ;線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8
    66 149 六、申請專利範圍f靠 一種製造疊JT帶之方法,包含以下各步驟. (a )至少在桌^屬帶及第二金屬帶之—溶接面上利用 乾膜形成法甚一真空室內形成一薄膜層,該乾形成薄 膜層係用與第一及第二金屬帶之相同或不同材料製成 :及 (b)將第一金屬帶壓力熔接在第二金屬帶上。 一種製造疊層金屬帶之方法,包含以下各步驟: (a) 在真空室內,至少在第一金屬帶及第二金屬帶中一 熔接面上以乾膜形成法形成第三金屬層,該第三金屬 係由與第一及第二金屬帶之相同或不同的金屬或合金 製成;及 (b) 將第一金屬帶以壓力熔接在第二金屬帶上乂 一種製造疊層金屬帶之方法,包含以下各步驟: (a) 在真空室內,至少在第—金屬帶及第二金屬帶中之 一熔接面以乾膜形成法形成第三金屬帶,該第三金屬 係由與第一及第二金屬帶之相同金屬或合金製成; (b) 將第一金屬'帶以壓力熔接在第二金屬帶上;及 (c )使合金之疊層受到熱擴散之熱處理。 •如申請專利範圍第1 - 3項中任一項的製造疊層金屬帶之 方法’其中乾膜形成法爲一種物理蒸汽沈積法。 .一種疊層帶’在第一及第二金屬帶之間具有一乾膜形成 膜層。 6. —種暨層金屬帶’在第一金 具有一乾膜形成膜層。 17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格<210 X 297公釐) ---1 I I I-----· ·,Λ/-----訂 --------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作it印製 金屬帶之間具有 ABCS 4 6 6 14 9 六、申請專利範圍 <請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 7 .如申請專利範圍第6項之疊層金屬帶,其中在乾形成 膜層及第一金屬帶間及/或在乾形成膜層及第二金屬帶 間之一邊界區域形成一擴散層。 8. —種在真空室內以各壓力熔接帶製造一種疊層帶之裝置 ,該裝置包含(1)許多金屬帶用之捲盤:(2)從捲盤上所 取之金屬帶至少在一熔接面上設有供形成乾形成膜層之 一乾膜形成裝置;(3)在互相面對熔接面之各帶上供壓 力熔接用之各滾輪;及(4)供捲繞合金壓力熔接疊層帶 用之一捲盤。 . ^ 9. 如申請專利範圍第8項之製造疊層帶之裝置,其中各 導輪位在一位置可與乾膜形成裝置相對。 1 0 ·如申請專利範圍第8或9項之製造疊層帶之裝置 ’其中又包括一加熱裝置以供在壓力熔接疊層帶上實施 熱擴散之熱處理之用。 18- 本紙張尺度適用申國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐)
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