TW451387B - Supports for wafer-like objects - Google Patents

Description

五、發明説明（J) 本發明係有關於一種晶圓類物品之支架，且特別是在， 處理’尤其是蝕刻矽晶圓時之支架，其特徵如申請專利範 圍第1項中之前言部份所述。 已知此類支架（“夾頭”)有各種實例。一般說來可分成 兩種實例’即一種在面朝被支架件的表面上具有樁釘之支 架，其支撐晶圓使其面朝侧邊（見US 4 903 717 A及US 5 513 668 A)，及藉由真空減壓將晶圓固定至架上之支架。 這些已知之支架可讓晶圓類物品之遠離（背對）支架的 表面進行製程處理，並藉此讓其朝向支架的表面不致於也 受到處理，此因須避免製程介質（如蝕刻溶液）藉由自管模 吹出且以幅射狀向外流至晶圓類物品及面朝該物品之支架 表面間的氣體（一般為氮氣）到達支架之底面。 然而，晶圓類物品，特別是矽晶圓，其朝支架之表面 的邊緣區域也常常需要進行製程處理，此時就無法藉由目' 前一般常用之夂架設計來達成此目的了。 翅濟部中央樣準局男工消費合作杜印裝 因此’本發明之目的即在於提供一種支架，其不俾可 在晶圓類物品遠離（背對）支架的面上以製程介質進行處 理’同時可在該物品朝向支架之面的外緣及環狀邊緣區域 内進行處理》 根據本發明，此目的可藉由前言中述及之支架型態配 合申請專利範圍第1項中的特徵部份來達成。 本發明之支架的較佳實施例為申請專利範圍依附項中 .所描述之物品〇 因有階狀之緣故，特別是一環形階狀，其係於面朝晶 -4- ^氏^尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公瘦) 一 — A7 B7 5 ί 3 g 7 五、發明説明（2 ) 圓類物品之表面上、安排於吹出氮氣之管模外，及做為撕 離邊緣，受製程介質（製程溶液、蝕刻溶液、清洗溶液）環 繞在晶圓類物品的底面（即朝向支架之面）之外緣上移動， 並以大致環狀區域的方式，即位於其底面之外緣，處理如 姓刻或清洗晶圓類物品。最好由管模吹出且流動於物品及 基底間之氣流可避免將製程介質送至預定以外如到晶圓類 物品之_央β 其他有關本發明之支架之詳細描述、特徵及優點在以 下關於本發明之討論中敘述，其以本發明之實施例圖形為 參考。 圖式簡單説明 第1圖顯示明一種支架，其具一矽晶圓支撐其上β 第2圖顯示步驟進行之區域一放大細部圖。 第3圖顯示步驟進行之區域的流動條件。 第1圖中顯示之支架1基本上係由US 4 903 717 A 及US 5 513 668 A中得知。在此已知支架j之例子中， 其面向晶圓類物品2之表面係由内部4的圓形表面3及外 部（環狀）6之鼠表_面所形成，在外部6令，有許多可以放 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 射狀調整之叙屋7(“插針”），藉其物品2(如矽晶圓）可獲得 橫向支播。 在支架1的内部4與外部6間為一環狀管模8,其設 計為一介於内部4與外部6間的環溝。環狀管模8中充載 壓縮氣體，一般為氮氣，如此使得晶圓類物品2可以白努 固定於支架1上，藉此其以平衡狀態平穩”懸浮，，於 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公着' - 3 8/ A7 一~~-—-— B7 五、發明説明（3) 表面3與5上。 ^在支架1之外部6的表面5上，其為面朝向晶圓類物 抑2之表面，有一位於緊鄰模8外之n 1〇。該階1〇係因 表面5之外部圓周較表面5之内部圓周低而向下凹陷而形 -成0 第2圖顯示階10之邊、緣11呈圓形，此處介於階10 之朝外表面13及面朝晶圓類物品2之外部6之表面5的 過« 12,於此該部位以放射狀位於階1〇之外面，係呈 尖銳或經設計為小曲度之半徑。 在本發明之較佳實施例中，階丨〇之曲度半徑朝外徑 方向逐漸減少，如第2圖中之截面顯示，如此，在A與 B區域間的曲度半极^，舉例來說，》3公爱，則B與c 間區域之曲度半徑可為例如，而㈡d間區域 為0.2公釐。 經濟部中央揉準局負工消費合作社印裝 .--------ΪΙ— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 0 丨 階10顯示製程處理介質15之流動狀況，其係以圖形 說明於第3圖。製程處理介f 15，如制溶液，係施用 至晶圓類物品2之頂面（遠離或背對支架i之一面），在 習知的支架中，該㈣溶液並無法藉由管模8送出且由晶 圓類物品2與支架1間吹㈣氣體大幅地或完全地吹離周 緣16,因此該介質無法到達該物品之底面，而是使介質 15流滯於晶圓類物品2之底面周緣，直到其約到達階 之區域。如此，晶圓類物品2朝向支架丨之底面17的環 狀區域受濕並受到製程處理介質15之處理。由管模8吹 -6- 本紙張尺度適用中國國家梯準（CNS ) Α4規格

發明説明（4) 出之氣流此時即可防止介質15進一步向物品2之底面中 央移動，此因該流自管模8之氣流可作為防止製程處理介 質15自階10朝圓周内部方向流動。 如第3圖所示’本發明提供之階1〇亦可用於不以釘 樁橫向固定晶圓類物品2，而以如環形突緣固定之支架 中，此類支架可見於如US 5 492 556 A。 對於本發明之支架1.來說，晶圓是以何種方式固定於 支架上（白努利原理/針樁（插針）/利用低壓真空）並不 重要’此因在利用本發明以達成使晶圓類物品2的朝支架 1之表面17上的周緣16與環形區域，以製程加工介質15 進行潤濕（處理）之功效目的上，只有階1〇與流自環形 模8為決定性的因素》 本發明之實施例可由以下總結方式加以描述： 經濟部中央橾準局員工消費合作社印裝 一晶圓類物品2之支架1，在其面朝晶圓類物品2之 表面上具有一可釋放壓縮氣體之環形模8，並有一圓形階 1〇以徑向方式環繞於該環形模8之外β製程處理溶液 15,其係施用於固定於具有階1〇之支架的物品2上表 面’該溶液會環繞滯流於物品2之周緣16並到該物品的 底部17 ’並使該物品2的底部17位於階10外之環形徑 向區域受到處理溶液之潤濕，直到其受管狀模8吹出之氣 體以徑向放射之方式吹離。此提供—項優點，底歷身^溶 風鍊 αό，池差支形 後备2 i說支1之H L7上龙嚴艰區 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A<(規格（210 x 297公釐） 4 5 1 3 β， Α7 Β7 五、發明説明（5 ) 里，並於其上進行其預定之作用。 元件標號對照表 1 支架 2 晶圓類物品 3,5 表面 4 内部 6 外部 7 釘樁 8 模 10 階 11 邊緣 12 過渡區域 13 前緣表面 15 製程處理溶液 16 周緣 17 底面 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度逍用中國國家操準（CNS ) A4规格（‘210X297公釐）

Claims (1)

1. 申請專利範圍 烦 诗 />- 8 明 示 修 正 質 内 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第86118087號申請案申請專利範園修正本 88.11.9. 1. 一種晶圓類物品⑺之支架⑴，其具有-朝向待固定之物 件(2)之表面(3、5)，其中有一載裝壓縮氣體環形喷嘴⑻ 與支架1之軸同心地設置’其中支架（1)朝向晶圓類物件 (2)之表面（5)上具有一以徑向環繞於環形模（8)外朝外 向下斜陷並與環形模（8)呈同心圓配置之環狀階（1〇)，其 中支架（1)之朝向晶圓類物件（2)且位於階（1〇)外之表面（5) 部分比位於階（1 〇)内之表面（5)部分離晶圓類物件（2)更 遠，其中在該喷嘴（8)内侧該支架（1)之部位(4)比階（1〇)之 上部面更兩。 2-如申請專利範圍第1項之支架，其中介於朝向晶圓類物 件之表面（5)與階（1〇)之徑向向外延伸前緣（13)間的過渡 區（11)呈圓弧狀。 3. 如申請專利範圍第2項之支架，其中過渡區域（11)係設 計以具有逐漸比階（10)之徑向向外延伸前緣（13)更小之半 徑。 4. 如申請專利範圍第1、2、或3項之支架，其中介於階 (10)之徑向向外延伸前緣（13)與朝向晶圓類物件(2)之表面 (5)間且位於階（10)之外面的過渡區域（12)設計為具有尖銳 的邊緣= 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -9 -