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TW295678B - - Google Patents

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TW295678B
TW295678B TW084110855A TW84110855A TW295678B TW 295678 B TW295678 B TW 295678B TW 084110855 A TW084110855 A TW 084110855A TW 84110855 A TW84110855 A TW 84110855A TW 295678 B TW295678 B TW 295678B
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Siemens Ag
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G03F1/32Attenuating PSM [att-PSM], e.g. halftone PSM or PSM having semi-transparent phase shift portion; Preparation thereof

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Networks Using Active Elements (AREA)

Description

ΑΊ Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 1 ) 1 1 發 明 領 域 1 1 本 發 明 偽 關 於 半 導 體 製 造 9 尤 其 是 俱 關 於 在 照 像 平 板 1 印 刷 上 所 用 之 移 相 光 罩 〇 N 請 先 1 ϋ. 明 背 景 閱 I 讀 1 1 在 製 造 包 括 半 導 m 積 體 電 路 晶 片 之 積 體 電 路 上 » 最 駸 背 1 I 之 1 苛 的 步 驟 之 一 僳 為 用 於 提 供 所 需 電 路 圖 樣 之 照 像 平 板 印 意 1 I 刷 程 序 〇 依 現 今 技 術 之 狀 態 * 為 了 達 成 百 前 工 業 上 之 高 拳 項 1 再 I 密 度 裝 置 包 封 之 需 求 半 導 體 裝 置 需 要 非 常 小 之 尺 寸 QSI 圖 填 寫 本 1 裝 樣 0 這 種 需 要 緊 密 相 郯 之 小 尺 寸 之 圖 樣 之 待 點 即 為 需 要 頁 '—/ 1 I 高 解 析 度 之 照 像 平 板 印 刷 程 序 〇 1 1 一 般 1 照 像 平 板 印 刷 利 用 光 束 9 如 紫 外 線 (UV) 波 9 1 | 將 圖 樣 白 照 像 平 板 印 刷 遮 罩 經 影 像 透 鏡 轉 移 至 光 阻 塗 層 1 訂 上 〇 遮 罩 % 包 括 不 透 明 及 透 明 區 域 以 使 在 光 阻 上 之 jdbfc 1 開 口 之 形 狀 配 合 所 需 之 既 定 圖 樣 0 1 I 現 今 被 用 來 改 良 照 像 平 板 印 刷 程 序 之 解 析 度 之 一 種 技 \ 1 I 術 係 為 移 相 石 印 術 〇 藉 移 相 石 印 術 参 光 射 線 之 干 擾 係 用 1 來 消 除 繞 射 及 改 良 投 射 於 百 標 上 之 光 影 像 之 解 析 度 與 焦 | 點 之 深 度 〇 在 移 相 石 印 術 上 t 物 體 上 之 曝 光 相 位 像 被 控 1 1 制 成 相 鄰 之 區 域 最 好 相 互 成 1 8 0 ° 之相位。 如此, 即使 1 1 因 繞 射 而 造 成 對 比 度 之 降 低 但 仍 能 增 強 這 區 域 之 界 面 1 I 處 之 對 比 度 〇 這 種 技 術 改 良 了 在 物 體 上 之 總 解 析 度 並 可 1 1 産 生 非 常 細 之 解 析 度 〇 1 | 利 用 這 種 移 相 技 術 之 優 點 t 移 相 遮 罩 已 廣 泛 地 被 用 來 1 增 進 照 像 平 板 印 刷 程 序 〇 -3 前 — 有 四 型 主 要 之 移 相 遮 罩 ( 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21 ΟΧ 29*7公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印繁 五、發明説明 ( 2 ) 1 1 次 要 型 式 有 不 計 其 數 ) 〇 1 1 一 交 變 移 相 遮 罩 1 造 種 型 式 » 相 位 差 偽指 光 罩 上 之 兩 1 相 鄰 開 P 間 之 相 位 差 〇 這 開 口 係 被 不 透明 材 料 隔 開 〇 請 1. 先 1 交 變 移 相 遮 罩 具 有 持 殊 之 設 計 限 制 t 因 為要 增 進 對 比 度 閱 1 » 最 好 只 有 使 區 域 之 間 相 互 成 為 18 0° 之相位差。 貪 ιέ 1 I 之 1 移 相 器 αα 単 獨 或 相 位 緣 移 位 遮 罩 > 這 種型 式 要 被 增 意 1 I 強 之 圖 樣 僳 被 不 同 相 位 » 最 好 成 180° 相位差, 且其間 事 項 1 再 | 無 吸 收 區 域 之 開 Π 間 之 界 面 所 限 定 0 此 180° 相位差级 寫 本 1 印 出 ( 例 如 成 為 正 光 阻 ) 暗 線 (d a r k 1 i n e ) 〇 該暗線之 頁 1 I 寬 度 % 由 所 使 用 之 設 備 之 光 學 及 程 序 之 參數 決 定 〇 必 須 1 i 應 用 待 殊 之 設 計 策 略 以 在 相 同 之 曝 光 上 産生 不 同 之 暗 線 1 I 寬 度 〇 1 訂 邊 m 移 相 遮 罩 » 這 種 型 式 傜 在 開 □ 之緣 形 成 最 好 為 1 18 0 ° 相位差。 相位差级可增強在該開口之界面處之對 1 I 比 度 〇 於 垣 型 之 移 相 遮 罩 上 t 開 口 之 相 位差 级 與 緣 邊 間 1 1 之 距 離 僳 極 為 重 要 〇 __— 般 t 對 於 每 個 開 口之 尺 寸 9 不 同 1 之 距 離 皆 被 最 佳 化 0 ,旅 | 一 嵌 入 式 移 相 遮 罩 > 這 種 型 式 9 與 傳 統( 二 進 位 ) 之 1 1 光 罩 相 似 » 要 被 印 刷 之 圖 樣 係 被 吸 收 層 上之 開 Π 所 限 定 1 1 〇 與 傳 統 之 光 罩 相 反 的 是 吸 收 層 並 不 完 全吸 收 在 印 刷 程 1 I 序 上 所 使 用 之 所 有 光 輻 射 * 而 偽 傳 送 該 光輻 射 之 有 限 數 1 1 量 ( 典 型 者 為 在 3 X 至 2 0 %間之範圍) 〇 在通過吸收器傳 1 | 送 之 光 輻 射 與 經 光 罩 開 Ρ 傳 送 之 光 輻 射 之間 即 為 最 佳 之 1 I 18 0 ° 移相。 此移相會增強圖樣緣邊之對比度。 -4- 嵌入式 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 3 ) 1 1 移 相 遮 罩 除 了 大 幅 簡 化 製 造 程 序 外 t 也 可 採 用 與 傳 統 光 1 1 罩 ( 僅 一 層 ) 相 同 之 程 式 及 設 計 資 料 設 計 及 製 造 〇 唯 一 1 須 要 修 正 的 是 開 Π ( 偏 倚 ) 大 小 之 差 異 〇 因 為 這 優 請 先 1 點 嵌 入 式 移 相 遮 罩 係 最 常 用 於 高 量 産 之 半 導 體 裝 置 之 閱 讀 1 製 造 上 0 背 1 I 之 1 現 今 有 兩 種 主 要 方 法 以 製 造 嵌 入 式 移 相 遮 罩 〇 — 種 方 注 意 1 I 法 係 使 用 遮 罩 胚 料 上 之 吸 收 層 以 改 變 光 輻 射 之 強 度 及 事 項 1 再 I 利 用 浸 蝕 於 遮 罩 胚 料 上 或 是 沉 積 於 遮 罩 胚 料 上 之 其 它 層 填 本 1 以 改 變 光 輻 射 之 相 位 〇 第 二 種 方 法 僳 在 αο 早 —- 層 上 進 行 強 頁 '— 1 I 度 調 變 及 移 相 兩 者 〇 但 是 這 兩 種 方 法 皆 在 最 終 之 光 罩 I 1 上 産 生 非 均 勻 之 表 面 形 態 〇 1 I 此 非 均 勻 表 面 之 形 態 分 散 光 輻 射 致 喪 失 使 用 這 種 移 1 訂 相 遮 罩 之 —«- 或 所 有 之 優 點 〇 另 外 t 非 均 勻 表 面 之 形 態 1 及 沉 積 在 遮 罩 上 之 不 同 材 料 之 多 層 之 事 實 導 致 在 清 潔 遮 I I 罩 時 産 生 問 題 〇 也 即 是 9 較 會 有 不 必 要 之 顆 粒 及 以 較 大 1 1 1 之 力 量 黏 箸 於 不 平 之 表 面 形 態 上 0 同 時 > 不 同 材 料 層 也 1 * I 限 制 了 採 用 有 效 率 之 清 潔 步 驟 及 化 學 物 〇 旅 I 因 此 I 為 了 使 移 相 技 術 廣 泛 被 採 用 * 製 造 程 序 必 須 與 1 1 既 存 之 製 造 條 件 相 容 9 也 即 是 9 這 些 製 造 程 序 必 須 價 廉 1 1 9 可 重 複 及 清 潔 〇 1 I 因 此 > 本 發 明 之 百 的 % 提 供 嵌 入 式 移 相 遮 罩 及 一 種 用 1 1 為 製 造 不 改 變 遮 罩 胚 料 之 表 面 形 態 且 光 滑 而 無 不 整 齊 > 1 | 同 時 還 能 享 有 移 相 石 印 術 技 術 之 優 點 之 遮 罩 之 方 法 〇 本 1 I 發 明 之 % 外 巨 的 % 生 産 種 -5 具 有 光 滑 表 面 之 移 相 光 罩 俾 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨OX 29*7公釐) A7 B7 經濟部中央標準局舅工消費合作社印製 五、發明説明 ( 4 ) 1 ! 使 不 必 要 之 顆 粒 較 不 黏 附 其 上 且 以 較 低 之 黏 合 力 黏 附 1 1 於 其 上 » m 此 * 以 製 造 比 該 型 之 其 它 遮 罩 容 易 清 潔 之 較 1 低 缺 陷 密 度 之 遮 罩 〇 r—S 請 先 1 m. 明 想 沭 閱 I 讀 1 | 本 發 明 之 移 相 光 罩 偽 藉 對 適 用 於 照 像 平 板 印 刷 之 遮 罩 背 1 I 之 1 胚 料 之 表 面 作 結 構 性 之 改 變 以 製 成 者 〇 離 子 植 入 » 擴 散 意 1 I 或 相 似 之 程 序 傺 被 利 用 來 以 下 述 方 式 改 變 遮 罩 胚 料 之 被 事 項 1 再 1 選 定 區 域 之 光 學 性 質 即 相 對 於 未 被 處 理 之 區 域 這 4 寫 本 1 裝 區 域 改 變 了 經 遮 罩 胚 料 基 片 之 被 處 理 區 域 而 傳 送 之 光 輻 頁 _> 1 I 射 之 強 度 及 相 位 〇 利 用 依 本 發 明 之 方 法 製 造 之 光 罩 可 增 1 1 進 解 析 度 及 程 序 窗 » 例 如 石 印 術 程 序 之 焦 點 深 度 與 曝 1 I 光 範 圍 〇 1 本 發 明 傷 藉 改 變 表 層 或 接 近 於 遮 罩 胚 料 之 表 面 之 其 它 吞丁 1 層 以 提 供 所 要 之 相 位 及 強 度 調 變 0 這 不 必 改 變 遮 罩 胚 料 1 I 之 實 際 表 面 而 保 留 遮 罩 胚 料 表 面 光 滑 無 化 學 上 之 改 變 〇 1 1 這 種 方 式 y 光 輻 射 不 在 不 同 材 料 之 界 面 上 散 射 9 且 不 1 -^1 必 要 之 顆 粒 較 不 黏 著 於 少 或 無 凹 凸 之 光 滑 表 面 上 〇 縱 旅 I 使 有 顆 粒 黏 著 於 這 樣 的 表 面 * 也 是 以 較 易 被 清 潔 之 較 低 1 1 黏 合 力 黏 著 〇 因 此 可 製 出 較 已 往 技 術 之 移 相 遮 罩 低 缺 陷 1 I 密 度 之 遮 罩 〇 因 為 本 發 明 之 移 相 光 罩 之 遮 罩 表 面 之 化 學 1 I 待 性 % 實 質 上 保 持 未 變 9 故 藉 所 述 之 方 法 製 造 之 成 品 移 1 1 相 遮 罩 可 利 用 那 些 在 進 行 材 料 沉 積 » 如 氣 化 熱 硫 酸 等 9 1 I 之 前 用 來 清 潔 遮 罩 胚 料 之 相 同 之 苛 刻 程 序 來 清 潔 〇 1 圖 式 簡 体 -6 - 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 5 ) 1 1 為 更 加 瞭 m 本 發 明 > 下 面 將 參 照 附 圖 說 明 一 實 施 例 1 1 > 其 中 1 圖 1 A偽 說 明 製 造 本 發 明 之 嵌 入 式 移 相 光 罩 之 第 1 步 驟; 請 先 1 圖 1 B偽 表 示 製 造 本 發 明 之 移 相 光 罩 之 中 間 步 驟 閱 ik 1 圖 1 C傈 表 示 製 造 程 序 上 之 最 後 步 驟 及 説 明 本 發 明 之 移 背 1 | 之 1 相 光 罩 之 第 1 良 好 實 施 例 意 1 I 圖 2 像 表 示 用 於 製 造 本 發 明 之 移 相 光 罩 之 第 2 良 好 實 項 1 再 | 施 例 及 技 術 及 填 本 1 裝 圖 3 % 表 示 用 於 製 造 本 發 明 之 移 相 光 罩 之 第 2 良 好 實 頁 1 1 施 例 及 技 術 〇 1 1 明 詳 沭 1 I 本 發 明 偽 一 種 嵌 入 式 移 相 光 罩 ,其内遮 罩 胚 料 之 基 Μ 係 1 訂 以 實 質 上 未 改 變 基 Η 之 表 面 形 態 之 方 式 被 改 變 〇 此 改 變 1 可 藉 離 子 植 入 或 擴 散 而 進 行 t 刖 述 離 子 植 入 或 擴 散 係 可 1 I 使 欲 製 造 之 遮 罩 具 有 較 低 之 缺 陷 密 度 f 且 同 時 具 有 較 該 1 類 之 其 它 成 品 遮 罩 容 易 清 潔 〇 1 參 照 圖 1 A , 其 示 出 一 依 本 發 明 之 嵌 入 式 移 相 光 罩 之 製 旅 I 造 方 法 而 被 處 理 之 遮 罩 胚 料 1 2 〇 於 本 發 明 之 良 好 實 施 例 1 1 上 » 遮 罩 胚 料 1 2可 由 實 質 上 為 透 明 之 基 片 9 如 石 英 1 所 1 1 形 成 〇 石 英 % 為 — 種 具 有 適 用 於 照 像 平 板 印 刷 之 光 學 性 1 I 質 之 高 度 淨 化 玻 璃 〇 石 英 也 被 證 明 具 有 適 用 於 半 導 體 製 1 1 造 之 其 它 恃 性 9 如 高 溫 時 之 固 有 安 定 性 衛 生 及 容 易 1 I 被 清 潔 〇 石 英 在 紫 外 線 領 域 上 變 成 高 度 透 明 9 因 此 * 在 1 I 採 用 照 像 平 板 印 刷 之 % 統 裡 -7 典 型 地 被 用 為 遮 罩 材 料 〇 但 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!OX 297公釐) 295678 A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 6 ) 1 1 是 t 須 瞭 解 者 是 遮 罩 胚 料 12 也 可 由 具 有 在 照 像 平 板 印 刷 1 1 應 用 上 所 需 之 光 學 上 與 機 械 上 之 待 性 之 其 它 適 當 材 料 所 1 形 成 〇 /·-V 讀 先 1 圖 1 A所 示 之 遮 罩 層 1 4係 覆 蓋 在 遮 罩 胚 料 1 2上 仍 保 留 其 閱 it 1 原 來 光 學 性 質 之 區 域 〇 也 即 是 » 使 用 這 種 技 藝 上 已 知 之 背 1 I 之 1 技 術 r 如 電 子 束 寫 入 或 雷 射 塑 型 9 將 遮 罩 層 14 覆 蓋 於 基 意 1 I 片 上 或 形 成 圖 樣 於 基 片 上 以 描 畫 所 需 之 電 路 圖 樣 〇 可 明 事 項 1 再 | 白 的 是 遮 罩 層 1 4偽 沉 積 於 其 上 有 遣 留 之 凹 陷 或 曝 光 區 域 填 % 本 1 裝 1 6 之 遮 罩 胚 料 1 2任 側 上 〇 作 為 遮 罩 層 14 者 有 光 阻 9 介 頁 1 I 電 或 金 屬 層 > 其 傜 依 用 以 改 變 遮 罩 胚 料 1 2之 方 法 而 定 〇 1 1 例 如 t 使 用 離 子 植 入 方 法 時 可 採 用 光 阻 作 為 遮 罩 層 14 > 1 | 而 利 用 在 古 同 溫 進 行 離 子 植 入 或 擴 散 之 方 法 時 可 採 用 介 電 1 訂 或 金 屬 層 作 為 遮 罩 層 14 〇 另 外 » 可 瞭 解 者 遮 罩 層 也 可 選 1 擇 地 覆 蓋 於 遮 罩 胚 料 1 2上 而 遣 留 下 代 表 所 需 之 電 路 圖 樣 I I 之 多 重 遮 罩 及 曝 光 之 區 域 〇 1 1 I 參 照 圖 1 B , 其 係 表 示 本 發 明 之 嵌 入 式 移 相 光 罩 1 0 之 中 1 間 步 驟 〇 該 圖 示 出 要 被 處 理 之 選 擇 性 地 被 遮 蔽 之 胚 料 基 旅 I 片 1 2 f 其 内 曝 光 區 域 1 6傷 被 改 變 以 變 更 遮 罩 胚 料 之 被 m 1 1 定 區 域 之 光 學 持 性 9 該 區 域 係 未 被 遮 蔽 者 0 下 面 將 説 明 1 1 可 藉 離 子 植 入 或 擴 散 以 變 更 遮 罩 胚 料 1 2 〇 於 離 子 植 入 時 1 I 遮 罩 胚 料 12傜 受 離 子 摻 雜 物 18之 高 電 壓 離 子 撞 擊 〇 離 子 1 1 摻 雜 物 在 遮 罩 層 1 4 間 之 曝 光 區 1 6 内 形 成 一 變 更 之 區 域 2 0 1 I 〇 此 變 更 之 區 域 2 0 之 功 能 傜 改 變 遮 罩 胚 料 1 2 之 光 學 待 性 1 I 9 其 内 > 相 對 於 基 片 之 未 變 _ Ϊ 更 區 域 通 過 已 變 更 之 區 域 之 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 7 ) 1 I 被 傳 送 之 光 偽 被 移 相 及 吸 收 〇 1 1 於 半 導 體 製 造 技 m 上 離 子 植 入 之 程 序 % 為 吾 人 所 熟 知 1 〇 大 體 上 9 離 子 植 入 傜 在 基 片 之 被 選 定 區 域 上 形 成 摻 雜 請 先 1 原 子 之 特 定 濃 度 與 分 佈 〇 此 即 在 離 子 植 入 區 域 上 改 變 基 閱 讀 1 片 或 遮 罩 胚 料 1 2之 化 學 結 構 及 物 理 特 性 0 於 本 發 明 之 良 背 1 | 之 1 好 實 施 例 上 » 摻 雜物濃 度 及 分 佈 係 達 到 使 遮 罩 胚 料 12 之 折 意 1 I 射 率 産 生 改 變 以 在 曝 光 之 波 長 上 提 供 1 8 0 ° 之移相及4 % 事 項 1 再 1 到 2 0 3;之傳送損失 (因被吸收或反射所致) 〇 寫 本 1 裝 遮 罩 胚 料 基 片 1 2也 可 藉 擴 散 程 序 予 以 變 更 9 擴 散 程 序 頁 1 | 係 廣 泛 被 用 來 將 數 量 受 控 制 之 雜 質 摻 入 基 片 之 方 法 〇 實 1 1 質 上 有 兩 種 擴 散 方 法 被 用 於 半 導 體 製 造 上 9 其 即 定 源 擴 1 | 散 (c ο η s t a η t- S 0 u r c e d i f f u si 0 η )及有限源( limited- 1 訂 S 0 U Γ c e )或高氏擴散(Ga u s si a η d i f f u s i ο η )〇 於定源擴 1 散 上 f 在 整 値 擴 散 週 期 裡 y 在 基 Η 表 面 上 之 雜 質 或 摻 雜 1 I 物 m 度 傜 被 維 持 在 定 常 之 準 位 上 0 在 基 片 表 面 上 之 定 常 1 1 1 雜 質 準 位 傷 依 擴 散 爐 之 溫 度 及 載 體 一 氣 體 (C a r r i e r -g as) 1 一 1 之 流 動 率 而 定 〇 於 大 多 數 之 連 缠 擴 散 % 統 上 * 使 雜 質 摻 旅 I 雜 物 之 表 面 濃 度 由 在 基 片 上 之 特 定 摻 雜 物 之 固 體 —- 溶 解 1 1 度 濃 度 極 限 來 決 定 傜 較 為 方 便 〇 於 有 限 源 或 高 氏 擴 散 上 1 1 » 在 擴 散 期 間 摻 入 於 基 Η 内 之 雜 質 之 總 量 % 被 限 定 〇 這 1 I 可 藉 在 實 際 擴 散 前 之 短 暫 ”前置沉積” 步 m 期 間 對 基 片 之 1 1 每 早 位 曝 光 表 面 區 域 沉 積 一 固 定 數 巨 之 雜 質 原 子 而 達 成 1 | 〇 在 此 刖 置 沉 積 週 期 之 後 接 著 像 驅 入 週 期 II 於此週期 1 I 内 在 前 置 沉 積 週 期 時 已 被 -9 沉 積 之 雜 質 則 擴 散 入 基 Η 内 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 (8 ) 1 1 〇 如 同 用 離 子 植 入 程 序 每 一 次 進 行 這 種 擴 散 程 序 時 即 1 1 改 變 基 Η 之 光 學 待 性 及 折 射 率 〇 t I 可 藉 這 種 技 U 上 已 知 之 技 術 精 密 地 控 制 離 子 植 入 程 序 請 先 1 及 擴 散 程 序 以 達 到 改 箩 在 已 變 更 之 區 域 2 0上 之 折 射 率 〇 閱 讀 1 藉 精 確 地 控 制 程 序 之 參 數 9 如 植 入 能 量 ) 退 火 步 m 及 擴 背 1 I 之 1 散 溫 度 i 可 在 基 片 之 表 面 部或接近 於 表 面 部 上 達 到 所 要 之 注 意 1 I 相 位 及 強 度 調 變 1 同 時 使 遮 罩 胚 料 之 實 際 表 面 不 被 改 變 事 項 1 *v 1 再 1 I 而 呈 光 滑 〇 離 子 植 入 及 擴 散 能 在 半 導 體 製 造 業 上 採 用 之 填 % 本 1 裝 適 宜 離 子 植 入 及 擴 散 設 備 上 進 行 〇 摻 雜 離 子 及 ( 雜 質 ) 頁 '··_^ 1 I 原 子 可 為 任 何 能 改 變 遮 罩 胚 料 基 片 12 之 光 學 恃 性 之 物 質 1 1 1 例 如 > 硼 及 磷 〇 其 它 之 摻 雜 材 料 可 包 括 9 但 不 限 定 於 1 1 鋁 , 鎵 9 洇 9 砷 及 銻 0 1 訂 參 照 圖 1 C 1 其 像 表 示 本 發 明 之 嵌 入 式 移 相 光 罩 10 之 最 1 後 代 表 例 0 兀 成 之 移 相 光 罩 1 0 偽 白 遮 罩 胚 料 1 2剝 離 遮 罩 1 I 層 1 4 0 在 剝 離 遮 罩 層 1 4後 遮 罩 胚 料 1 2則 含 有 未 改 變 之 區 I 1 域 2 2及 己 改 變 之 區 域 2 0 〇 參 照 圖 1 C 之 擴 大 詳 細 區 域 » 可 1 瞭 解 藉 仔 細 地 控 制 離 子 植 入 » 擴 散 或 其 它 程 序 之 程 序 參 線 I 數 t 即 使 在 曝 光 之 程 序 區 域 1 6 内 也 能 在 遮 罩 胚 料 1 2上 獲 1 1 得 未 改 變 之 表 面 2 4 〇 如 此 已 改 變 之 區 域 2 0 實 際 變 成 嵌 1 I 入 在 遮 罩 胚 料 1 2 之 表 面 下 而 在 遮 罩 胚 料 1 2 之 表 面 與 已 改 1 I 愛 之 區 域 1 6 間 留 下 小 的 未 改 變 區 域 2 6 〇 此 表 面 之 體 積 之 1 1 深 度 能 淺 到 不 改 變 遮 罩 胚 料 1 2 之 光 學 性 質 * 但 卻 深 到 足 1 | 夠 使 胚 料 材 曝 露 於 周 圍 環 境 0 適 宜 地 控 制 程 序 參 數 9 即 1 | 擴 散 溫 度 > 植 入 策 略 及 / 或 退 火 步 驟 t 也 能 使 位 在 遮 罩 1 1 -1 0 - 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 9 ) 1 1 胚 料 12 之 已 改 變 區 域 2 0 及 未 改 變 區 域 2 2 間 之 過 渡 區 域 依 1 1 需 求 製 造 以 將 寄 生 效 應 降 至 最 少 〇 1 藉 製 造 被 改 變 之 移 相 區 域 2 0 實 際 嵌 入 於 遮 罩 胚 料 基 η 請 先 1 12 之 表 面 底 下 之 移 相 遮 罩 * 遮 罩 之 表 面 形 態 傜 實 質 上 未 閱 讀 1 改 變 而 保 持 光 滑 0 這 種 方 式 光 輻 射 在 不 同 材 料 之 界 面 處 背 1 I 之 1 不 分 散 而 不 必 要 之 顆 粒 也 較 不 黏 著 於 少 或 無 凹 凸 之 意 1 | 光 滑 表 面 0 如 果 有 顆 粒 黏 著 於 這 樣 之 表 面 上 9 也 是 以 小 事 項 1 1 再 I 黏 合 力 黏 箸 而 可 容 易 被 清 除 〇 因 此 能 製 出 較 已 往 技 術 之 填 寫 本 1 裝 移 相 遮 罩 容 易 清 除 之 低 缺 陷 密 度 之 遮 罩 〇 因 為 本 發 明 之 頁 'W^ 1 I 移 相 遮 罩 1 0 之 表 面 24仍 實 質 上 保 留 位 在 -Vrfj 俄 改 變 區 域 2 0 上 1 1 方 之 遮 罩 胚 料 1 2 之 化 學 性 質 9 故 藉 前 述 方 法 製 造 之 成 品 1 | 移 相 遮 罩 在 進 行 材 料 沉 積 如 氣 化 熱 硫 酸 » 之 •w» 刖 » 可 m 1 訂 被 用 於 與 清 潔 遮 罩 胚 料 1 2 之 相 同 苛 刻 步 驟 而 被 清 潔 〇 因 1 此 > 可 提 高 製 造 效 率 ♦ 因 為 遮 罩 胚 料 可 更 容 易 及 更 徹 底 1 I 地 被 清 潔 〇 1 1 1 從 下 述 可 瞭 解 遮 罩 胚 料 12 之 被 改 變 區 域 2 0 偽 以 與 遮 罩 1 胚 料 基 片 1 2 之 折 射 率 不 同 為 表 獻 > 同 時 也 以 與 遮 罩 胚 料 瘃 I 基 Η 之 光 傳 送 不 同 之 光 傳 送 為 表 激 〇 最 好 是 折 射 率 之 相 1 1 對 差 異 在 通 過 被 改 變 區 域 2 0 之 光 與 通 過 透 明 之 遮 罩 胚 料 1 1 1 2 之 其 它 部 分 之 光 之 間 提 供 1 8 0° 之移相。 最好是被改 1 I 變 區 域 2 0 之 光 傳 送 傷 為 透 明 之 遮 罩 胚 料 1 2 之 任 何 其 它 部 1 1 分 之 光 傳 送 之 4 % 至 2 0 % 〇 這些相移遮罩增強了石印術程 1 | 序 之 解 析 度 與 焦 點 之 深 度 及 / 或 曝 光 範 圍 〇 1 I 參 照 圖 2 > 其 偽 表 示 依 本 發 明 製 造 之 嵌 入 式 移 相 光 罩 1 1 -1 1 - 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 (10 ) 1 I 4 0 之 第 2 實 施 例 0 光 罩 4 0 含 有 遮 軍 胚 料 42及 被 改 變 之 區 1 1 域 4 6 » 其 中 被 改 變 區 域 4 6係 藉 將 基 片 曝 露 於 植 入 之 掃 描 I 離 子 束 4 8 0 如 此 t 遮 罩 旺 料 4 2 之 表 面 像 m 將 聚 焦 之 離 子 /·—^ 請 先 1 束 掃 描 過 欲 被 改 變 之 區 域 而 被 改 變 0 從 圖 2 可 看 出 離 子 閱 讀 1 束 最 初 傜 聚 集 於 被 改 變 之 區 域 4 5之 開 頭 » 然 後 逐 漸 遷 移 背 1 I 之 1 經 過 要 被 改 變 之 區 域 直 到 所 要 之 圖 樣 區 域 被 離 子 植 入 為 意 1 I 止 〇 藉 使 用 精 密 之 聚 焦 離 子 束 4 8以 確 實 地 改 變 在 選 定 之 項 1 再 I 區 域 上 之 遮 罩 胚 料 之 光 學 特 性 可 省 掉 在 進 行 離 子 植 入 前 填 寫 本 1 裝 遮 蔽 基 片 之 步 驟 〇 這 可 減 少 光 罩 之 製 造 步 驟 > 結 果 可 節 頁 'W^ 1 I 省 可 觀 之 費 用 0 1 1 參 昭 圖 3 > 其 偽 表 示 依 本 發 明 之 技 術 製 造 之 嵌 入 式 移 1 | 相 光 罩 6 0 之 第 3 最 佳 實 施 例 0 如 圖 2 所 示 之 實 施 例 光 1 訂 罩 6 0 含 有 遮 罩 胚 料 6 2及 被 改 變 之 區 域 6 6 t 但 是 » 本 實 施 1 例 被 改 變 之 區 域 係 藉 植 入 之 圖 樣 化 離 子 束 68而 産 生 〇 該 1 I 圖 樣 化 之 離 子 束 可 係 為 被 遮 蔽 之 離 子 束 或 為 離 子 植 入 所 1 I 産 生 之 離 子 束 兩 者 之 一 0 兩 者 任 —> 之 情 形 ) 圖 樣 化 之 離 1 子 束 皆 能 使 離 子 精 確 地 植 入 遮 罩 胚 料 6 2 之 選 定 區 域 〇 採 夕良 I 用 這 種 方 式 也 可 省 去 在 植 入 離 子 刖 之 遮 蔽 步 驟 〇 1 1 參 照 圖 2 及 3 > 可 明 白 將 程 序 參 數 ( 植 入 能 量 > 退 火 1 1 步 驟 等 ) 最 佳 化 後 被 改 變 之 區 域 4 6 6 6能 如 參 昭 圖 1 C所 1 I 述 那 樣 被 置 於 遮 罩 胚 料 之 表 面 下 之 淺 處 〇 這 種 情 形 實 質 I 1 上 使 遮 罩 之 被 處 理 之 表 .面 維 持 不 變 進 而 産 生 比 已 說 明 1 I 之 己 往 技 術 顯 著 之 優 點 0 也 可 明 白 依 應 用 所 需 1 也 許 須 1 I 要 在 進 行 先 前 已 述 及 之 離 子 植 入 之 前 將 胚 料 基 片 4 2 I 6 2 1 1 -1 2 - 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 五、發明説明( A7 B7 子不包 例而應 為更更 。 係變變内 夠及及圍 不變變範 只改改之 例做些明 施例這發 實施之本 之實有之 述之所定 所逑。限 圖前圍所 附對範項 照可及各 參者神圍 白術精範 明技之利 應項明專 述此發請 C 上悉本申 蔽從熟越於 遮 ,逾括 裝------訂------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 申請專利範圍 第84 1 1 08 55號「嵌入式移相光遮罩及其製造方法」專利案 * (85年11月修正) 杰申請專利範圍: 1. 一種製造照像平板印刷所用移相光罩之方法,該方法 包括下述步驟 提供一種照 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 以一 胚料表 將物 區域以 其中 域之位 剝除 光滑之 .如申請 嵌入區 底下, .如申請 從選出 .如申請 完成該 .如申請 束完成 遮罩層 面上形 質導入 改變各 通過該 置被移 該遮罩 表面, 專利範 域,一 其中該 專利範 之摻雜 專利範 離子植 專利範 該離子 像平板 遮蔽該 成曝光 該遮罩 該區域 遮罩胚 相及吸 層,因 没有任 圍第1 移相材 遮罩胚 圍第1 物作離 圍第3 入。 圍第3 植入。 印刷所用之 遮罩胚料之 及非曝光區 旺料各該曝 之光學性質 料而傳送之 收;及 而在該遮罩 何起伏凹凸 項之方法, 料在該曝光 料表面之化 項之方法, 子植入。 項之方法, 遮罩胚料; 選定部分而在該遮罩 域之圖型; 光區域表面緊下方之 t 光線只在各該曝光區 胚料上留下整體均句 缺陷。 其中各該區域含有之 區域遮罩胚料之表面 學性質維持不變。 其中該導入步驟包括 其中藉一離子掃描束 項之方法,其中藉一圖樣化離子 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 經濟部中央標準局員工消費合作社印袈 括 有 料群 該0°方 内之變之料。描 離 B. 含 胚族 之18該 域送改子材變掃 之 驟 料 罩等 料生 , :區傳而離變不子 化 步。胚 遮銻 胚産 法 Η 定域域入改持離 樣 入驟罩 該及 罩上 方 基選區區植生維一 圖 導步遮 入砷 遮射 之 料之該他該産質藉 0 該之該 導, .該輻 罩 胚下過其中下性中 中 中域中 中絪 中光 光 罩底通之其底學其 其 其區其 其, 其在 I 相 遮面使 Η -面化, , ,等, ,鎵 ,,|5^移 之表,基法表之法 法 員 法該法 法, 法域 W 用 用 Η 質該方料面方 方 方料方 方鋁 方區 Μ 所 所基性於之胚表之 之 之胚之 之, 之光 刷 刷該學對項罩 Η 項 項 項罩項 項磷 項曝 Ρ 印 印入光相10遮基1010。 1 遮 1 1· 1 未20板 板植之位第域該第 。第入 第該第 第硼 第於至平:平子域相圍區中圍入圍植 圍入圍 圍含 圍對4¾像驟像離區及範定其範植範子 範進範 範從 範相生照步照將定度利選,利子利離 利散利 利傷 利域産造列種物選強專等域專離專該 專擴專 專質 。專區及製下 一 雜該之請該區謓該請成 請子請 。請物出請光相種括供摻變射申在入申成申完 申原申英申該選申曝移一包提自改輻如驟嵌如完如束 如將如石如之中如等之 .法 以光 .步之 .束 .子 • · · · ftv li CNl oo Λο V. oo Qv IX 1X ix IX ^ ^------訂 ,(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公嫠) A8 DO 295678 g88 六、申請專利範圍 14. 如申請專利範圍第10項之方法,其中該遮罩胚料之 該等選定區屬相對於該基Η之其它區域在光輻射上産 生180°之移相及4S!至20S;之傳送損失。 15. —種照像平板印刷所用之移相光罩,該光罩包括: 一第1折射率之透明基Η,該基Η緊鄰其上表面含 有許多選定區域,該等選定區域具有實質上與該第1 折射率不同之第2折射率,其中通過該基Η傳送之光 輻射之強度及相位只在該基片選定區域上才改變。 16. 如申請專利範圍第15項之光罩,其中該等選定區域 嵌入於該基Η上表面底下,且其中該遮罩基Η表面之 化學性質維持不變,因此在該基Μ上表面上留下整體 光滑之表面而無任何起伏凹凸缺陷。 17 .如申請專利範圍第15項之光罩,其中將物質導入該 基Η内而結構性地改變該等選定區域,使該等選定區 域從該第1折射率改變為該第2折射率。 18. 如申請專利範圍第17項之光罩,其中導入該基片之 該物質偽自含有硼,磷,鋁,鎵,絪,砷及銻之族群 中選出。 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 19. 如申請專利範圍第15項之光罩,其中該基片為石英。 2 0.如申謓專利範圍第17項之光罩,其中藉離子植入完 成該物質之導入。 21.如申請專利範圍第17項之光罩,其中藉擴散完成該 物質之導入。 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 2 2.如申請專利範圍第17項之光罩,其中該基Μ之該等 改變區域相對於該基Η之該未改變區域在光輻射上産 生180°之移相及U至20¾之傳送損失。 ^^^1 ^^^^1 m· n^i —BIBi ^—B^i mu flu nn a^i·^— nn HB^i 1 i J^i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
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