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TW201938389A - 積層膜 - Google Patents

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TW201938389A
TW201938389A TW108106329A TW108106329A TW201938389A TW 201938389 A TW201938389 A TW 201938389A TW 108106329 A TW108106329 A TW 108106329A TW 108106329 A TW108106329 A TW 108106329A TW 201938389 A TW201938389 A TW 201938389A
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祖父江彰二
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明之課題在於提供一種於剝離保護膜後之相位差膜不易產生相位差的不均之積層膜。
本發明之積層膜(1)係具備：在基材膜(5)上具有液晶相位差層(3)之相位差膜(20)，以及可剝離地貼合於此液晶相位差層(3)上之保護膜(7)，其特徵為：此液晶相位差層(3)之接觸於保護膜(7)之面的算術平均起伏值Wa為70nm以下。

Description

積層膜
本發明係關於積層膜，詳細而言，係關於具備：在基材膜上具有相位差層之相位差膜，以及可剝離地貼合於此相位差層上之保護膜之積層膜。
作為具有1/4相位差層等相位差層之相位差膜，例如於專利文獻1[日本特開2016-40603，尤其是段落0163等]中，揭示一種物品，具有於基材上具有使聚合性液晶化合物聚合硬化所得到之液晶相位差層，且亦揭示為了抑制此相位差膜於運送時的皺褶或捲曲而可剝離地貼合有保護膜之內容。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2016-40603(尤其是段落0163等)
然而，於在基材膜上具有液晶相位差層之相位差膜的液晶相位差層上貼合有保護膜之積層膜，已得知於剝離保護膜後之相位差膜上容易產生相位差的不均。
因此，本發明者係對開發出在保護膜的剝離後不易產生相位差的不均之積層膜進行精心探討，因而完成本發明。
亦即，本發明係提供一種積層膜，其係具備：在基材膜上具有液晶相位差層之相位差膜，以及可剝離地貼合於前述液晶相位差層上之保護膜之積層膜，其中：前述液晶相位差層之接觸於前述保護膜之面的算術平均起伏值Wa為70nm以下。
根據本發明之積層膜，於剝離保護膜後之相位差膜不易產生相位差的不均。
1‧‧‧積層膜
3‧‧‧液晶相位差層
4‧‧‧偏光片
5‧‧‧基材膜
6‧‧‧黏著劑層
7‧‧‧保護膜
10‧‧‧接著劑層
20‧‧‧相位差膜
第1圖為示意性顯示本發明之積層膜的一例之剖面構成之剖面圖。
第2圖為示意性顯示從本發明之積層膜中剝離保護膜所得到之相位差膜的一例之剖面構成之剖面圖。
第3圖為示意性顯示從本發明之積層膜所得到之偏光板的一例之剖面構成之剖面圖。
如第1圖之剖面圖所示，本發明之積層膜(1)具備相位差膜(20)。此相位差膜(20)係在基材膜(5)上具有液晶相位差層(3)。
[基材膜]
基材膜(5)通常使用由樹脂所形成之樹脂膜。形成基材膜之樹脂，例如可列舉出甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、環狀烯烴系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯系樹脂、丙烯腈-苯乙烯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、改質聚苯醚系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂以及聚醯亞胺系樹脂等。
此等樹脂可單獨或組合2種以上而使用。此外，此等樹脂亦可在進行任意適當的聚合物改質後使用，此聚合物改質例如可列舉出共聚合、交聯、分子末端改質、立體規則性控制，以及在包含伴隨著不同種類聚合物彼此的反應時之混合等改質。
此等當中，樹脂較佳為甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚烯烴系樹脂或纖維素系樹脂。在此所謂聚烯烴系樹脂，包含鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂。
此外，樹脂亦可視需要含有添加劑。添加劑例如可列舉出滑劑、抗結塊劑、熱穩定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、耐光劑、耐衝擊性改良劑等。
由此等樹脂所形成之樹脂膜，可為將成為原料之樹脂製膜所得到之無拉伸膜，或是於製膜後施以橫向拉伸、縱向拉伸等單軸拉伸處理所得到之單軸拉伸膜，或是於製膜後進行縱向拉伸後接著施以橫向拉伸、或進行橫向拉伸後接著施以縱向拉伸之逐次雙軸拉伸處理，或同步進行縱向拉伸及橫向拉伸之同步雙軸拉伸處理等雙軸拉伸處理所得到之雙軸拉伸膜等。
用作為基材膜之膜可使用容易取得之市售品，若為甲基丙烯酸甲酯系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Sumipex(住友化學股份有限公司製)、Acrylite(註冊商標)、Acryprene(註冊商標)(以上為Mitsubishi Rayon股份有限公司製)、Deraglass(註冊商標)(旭化成股份有限公司製)、Paraglas(註冊商標)、Comoglas(註冊商標)(以上為Kuraray股份有限公司製)、以及Acryviewa(註冊商標)(日本觸媒股份有限公司製)等。若為聚烯烴系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Zeonor(註冊商標)(Zeon Japan股份有限公司)、Arton(註冊商標)(JSR股份有限公司)等。若為聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Novaclear(註冊商標)(三菱化學股份有限公司製)及帝人A-PET薄片(帝人化成股份有限公司製)。若為聚丙烯系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出FILMAX CPP膜(FILMAX公司製)、Sun Tox(註冊商標)(Sun Tox股份有限公司製)、Tohcello(註冊商標)(Tohcello股份有限公司製)、Toyobo Pylen Film(註冊商標)(東洋紡績股份有限公司製)、Torayfan(註冊商標)(Toray Advanced Film股份有限公司製)、Nippon Polyace(註冊商標)(Nippon Polyace股份有限公司製)、以及太閣(註冊商標)FC(Futamura Chemical股 份有限公司製)等。此外，若為纖維素系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Fujitac(註冊商標)TD(Fuji Film股份有限公司製)、以及KC2UA及Konica Minolta TAC Film KC(Konica Minolta股份有限公司製)等。
基材膜(5)可顯示相位差。基材膜(5)可具有用以發揮作為λ/4板、λ/2板的機能之相位差值。本發明中，若波長550nm下的面內相位差值為100nm以上150nm以下，則可顯示λ/4的相位差值，若波長550nm下的面內相位差值為200nm以上300nm以下，則可顯示λ/2的相位差值。
[液晶相位差層]
構成本發明之積層膜(1)之相位差膜(20)，係於該基材膜(5)上具有液晶相位差層(3)。
液晶相位差層(3)為含有液晶化合物聚合而硬化之層的層。液晶化合物的種類並無特別限定。液晶化合物的種類，可從該形狀中分類為棒狀型式(棒狀液晶化合物)與圓盤狀型式(圓盤狀液晶化合物、盤形液晶化合物)。再者，亦分別有低分子型式與高分子型式。所謂高分子，一般是指聚合度為100以上者(高分子物理‧相轉移動力學、土井正男著、2頁、岩波書店、1992)。本實施形態中，可使用任一種液晶化合物。此外，亦可使用2種以上的棒狀液晶化合物或2種以上的圓盤狀液晶化合物，或是棒狀液晶化合物與圓盤狀液晶化合物之混合物。
棒狀液晶化合物可較佳地使用例如日本特表平11-513019號公報的請求項1、日本特開2005-289980號公報的段落[0026]至[0098]所記載者等。圓盤狀液晶化合物可較佳地使用例如日本特開2007-108732 號公報的段落[0020]至[0067]、日本特開2010-244038號公報的段落[0013]至[0108]所記載者等。
液晶相位差層尤佳係使用具有聚合性基之液晶化合物(棒狀液晶化合物或圓盤狀液晶化合物)來形成。藉此不易因溫度變化或濕度變化使液晶相位差層的光學特性改變。
液晶化合物可併用2種以上。此時，較佳為至少1種係具有2個以上的聚合性基。亦即，液晶相位差層較佳為具有聚合性基之棒狀液晶化合物或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物藉由聚合被固定而形成之層。此時在形成為層之後，已不須顯示液晶性。
棒狀液晶化合物或圓盤狀液晶化合物所含有之聚合性基的種類並無特別限制，較佳例如為聚合性乙烯性不飽和基或環聚合性基等可進行加成聚合反應之官能基。更具體而言，例如可列舉出(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。當中較佳為(甲基)丙烯醯基。所謂(甲基)丙烯醯基，為包含甲基丙烯醯基及丙烯醯基兩者之概念。
液晶相位差層的形成方法並無特別限制，可列舉出一般所知的方法。例如將含有具有聚合性基之液晶化合物之光學異向性層形成用組成物(以下僅稱為「組成物」)塗佈於基材膜以形成塗膜，並對所得到之塗膜施以硬化處理(紫外線的照射(光照射處理)或加熱處理)，藉此可形成液晶相位差層而製造相位差膜。
組成物的塗佈可藉由一般所知方法，例如繞線棒塗佈法、擠壓塗佈法、直接凹版塗佈法、反轉凹版塗佈法以及壓模塗佈法來實施。
組成物可含有上述液晶化合物以外的成分。例如，組成物可含有聚合起始劑。所使用之聚合起始劑可因應聚合反應的形式而選擇，例如選擇熱聚合起始劑或光聚合起始劑。例如，光聚合起始劑可列舉出α-羰基化合物、醯偶姻醚(Acyloin Ether)、α-烴取代芳香族醯偶姻化合物、多核醌化合物、三芳基咪唑二聚物與對胺基苯基酮之組合等。聚合起始劑的用量相對於組成物的全固形份較佳為0.01至20質量%，尤佳為0.5至5質量%。
此外，從塗佈膜的均一性及膜的強度之點來看，組成物較佳係含有聚合性單體。聚合性單體可列舉出自由基聚合性或陽離子聚合性的化合物。當中較佳為多官能性自由基聚合性單體。
聚合性單體較佳為與上述含聚合性基之液晶化合物具有共聚合性者。具體的聚合性單體例如可列舉出日本特開2002-296423號公報的段落[0018]至[0020]所記載者等。聚合性單體的用量相對於液晶化合物的全質量較佳為1至50質量%，尤佳為2至30質量%。
此外，從塗佈膜的均一性及膜的強度之點來看，組成物可含有界面活性劑。界面活性劑可列舉出以往一般所知的化合物。當中特佳為氟系化合物。
此外，組成物可含有溶劑。溶劑可較佳地使用有機溶劑。有機溶劑例如可列舉出醯胺(例如N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如二甲基亞碸)、雜環化合物(例如吡啶(Pyridine))、烴(例如苯、己烷)、鹵化烷(例如三氯甲烷、二氯甲烷)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如丙酮、丁酮)、醚(例如四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。當中較佳為鹵化烷、酮。
此外，組成物可含有偏光片界面側垂直配向劑、空氣界面側垂直配向劑等垂直配向促進劑，以及偏光片界面側水平配向劑、空氣界面側水平配向劑等水平配向促進劑之各種配向劑。再者，組成物除了上述成分以外，可含有密著改良劑、塑化劑、聚合物等。
液晶相位差層，可含有具有用以規定液晶化合物的配向方向之機能之配向膜。配向膜一般是以聚合物為主成分。配向膜用聚合物材料於多數種文獻中皆有記載，且可取得多數種市售品。
對於配向膜施以通常一般所知的配向處理。例如可列舉出磨擦處理(rubbing process，又稱刷磨處理)、照射偏光之光配向處理等。從配向膜的表面粗糙度之觀點來看，較佳為光配向處理。
液晶相位差層(3)可為具有nx≒ny<nz的關係之正C波片。此外，液晶相位差層(3)亦可為具有nx>ny≒nz的關係之正A波片。液晶相位差層(3)為正A波片時，液晶相位差層(3)可為上述λ/4板或λ/2板。nx表示膜面內之慢軸方向上的折射率，ny表示膜面內且與慢軸正交之方向上的折射率，nz表示膜之厚度方向上的折射率。
[保護膜]
本發明之積層膜(1)係在構成該相位差膜(20)之液晶相位差層(3)之上貼合有保護膜(7)。
保護膜(7)可由單層所形成，亦可由複數層所形成。可含有黏著劑層，亦可不具有黏著劑層。從可減少於剝離保護膜後之液晶相位差層中的殘膠等不良之點來看，較佳為具有自黏著性的層之保護膜。形成保護 膜之材料可列舉出與形成上述基材膜之材料為相同的樹脂，當中較佳為聚烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。
保護膜亦可使用以市售品所取得者。具有聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂的膜之市售品的例子，可列舉出東洋股份有限公司製「Cosmo Shine(註冊商標)A4100」。具有聚乙烯系樹脂的膜之市售品的例子，可列舉出Tredegar Film Products Corporation製「Force Field(註冊商標)1035」、Toray Advanced Film股份有限公司製「Toretec(註冊商標)」。
保護膜(7)係可剝離地貼合於液晶相位差層(3)上。
可剝離地貼合中，當保護膜含有黏著劑層時，可適當地選擇該黏著力，當保護膜具有自黏著性的層時，可適當地選擇該黏著力。藉由使用黏著力相對較低之保護膜，可使保護膜可剝離地貼合。
[液晶相位差層的算術平均起伏值Wa]
本發明之積層膜(1)中，液晶相位差層(3)與保護膜(7)接觸。液晶相位差層(3)之接觸於保護膜(7)之面係與基材膜為相反側的面。液晶相位差層(3)之接觸於保護膜(7)之面的算術平均起伏值Wa為70nm以下，較佳為50nm以下，通常為0nm以上。
液晶相位差層(3)的算術平均起伏值Wa，可藉由使用Hitachi Hi-Tech Science公司製的掃描型白色干涉顯微鏡(VS1000)，將測定範圍設為X=4000μm以上、Y=2000μm以上的範圍，並在截止值(cut off)100μm的條件下進行測定之方法來測定。
為了使液晶相位差層(3)之與保護膜(7)接觸之面的算術平均起伏值Wa成為上述範圍，例如保護膜(7)之積層有相位差膜(20)之側的面， 在將相對於表面凹凸的週期f(μm)之一維功率譜設為H2(f)時，較佳係滿足下述式(1)。功率譜可藉由後述實施例所記載之方法來測定。H2(425)/H2(212)的下限值並無特別限定，可設為2以上。
H2(425)/H2(212)<10 (1)
為了使液晶相位差層(3)之與保護膜接觸之面的算術平均起伏值Wa成為上述範圍，例如較佳亦可選擇貼合於液晶相位差層之側之表面的算術平均起伏值Wa7為200nm以下者作為保護膜(7)，並將此貼合於液晶相位差層(3)上。保護膜(7)之貼合於液晶相位差層之側之表面的算術平均起伏值Wa7較佳為150nm以下，可為100nm以下，理想而言為0(零)nm，但通常為50nm以上。保護膜的算術平均起伏值Wa7可與上述液晶相位差層同樣地測定。
當使用上述市售的保護膜作為保護膜(7)時，有時因等級或批次等而使表面形狀有所不同，所以選擇滿足上述算術平均起伏值Wa7之保護膜而使用。此外，於保護膜(7)之一表面與另一表面之表面形狀不同時，可將滿足上述算術平均起伏值Wa7之側的表面作為相位差膜(20)側來貼合。
將此表面形狀的保護膜(7)重疊於相位差膜(20)，接著較佳進行按壓，藉此可將滿足上述算術平均起伏值Wa之期望的表面形狀轉印至相位差膜。按壓時之按壓壓力通常為0.01MPa至0.02MPa，按壓溫度通常為50℃至70℃，按壓時間通常為1小時以上4小時以下。
此外，當保護膜(7)及相位差膜(20)為長條狀時，可將兩膜(7、20)以長條狀重疊並捲取於滾筒，並且在上述按壓溫度下保持。藉由加強捲 取於滾筒時之張力，捲取於滾筒之保護膜(7)及相位差膜(20)可使相互按壓之按壓壓力成為上述壓力，可將期望的表面形狀轉印至相位差膜。
[積層膜的製造方法]
本發明之積層膜(1)例如可藉由包含以下步驟(1)[液晶相位差層形成步驟]以及步驟(2)[保護膜貼合步驟]之方法來製造。
步驟(1)：將含有液晶化合物之組成物塗佈於基材膜上，並藉由聚合形成液晶相位差層而得到相位差膜之步驟
步驟(2)：將保護膜貼合於相位差膜上而得到積層膜之步驟
以下說明各步驟。
步驟(1)[液晶相位差層形成步驟]
步驟(1)為將液晶相位差層(3)形成於基材膜(5)上而製造相位差膜(20)之液晶相位差層形成步驟。
通常，首先是將用以使液晶化合物配向之配向膜(圖中未顯示)形成於基材膜(5)上。配向膜可列舉出含有配向性聚合物之配向膜、光配向膜以及於表面形成有凹凸圖案或複數個槽而配向之細槽配向膜等，可藉由以往一般所知的方法來形成。
接著將含有液晶化合物之組成物塗佈於配向膜上，視需要使溶劑乾燥後，使液晶化合物聚合。液晶化合物的聚合，可藉由使具有聚合性官能基之化合物聚合之一般所知的方法來進行。具體可列舉出熱聚合及光聚合，從聚合容易度之觀點來看，較佳為光聚合。光聚合可藉由將紫外線等活化能射線照射在液晶化合物而進行。活化能射線可從基材膜側照射或從液晶化合物側照射，或是從基材膜側與液晶化合物側兩者照射。
步驟(2)[保護膜貼合步驟]
步驟(2)為將保護膜(7)貼合於步驟(1)中所得到之相位差膜(20)上而得到積層膜(1)之保護膜貼合步驟。藉由將保護膜(7)貼合於相位差膜(20)上，可容易進行相位差膜(20)的保存或運送時之處理，或是在重疊相位差膜(20)或捲取為捲狀而保存時，可防止相位差膜(20)彼此的結塊，或是防止塵埃等附著於相位差膜(20)上而成為缺陷。保護膜(7)係貼合於相位差膜中的液晶相位差層(3)上。當保護膜(7)及相位差膜(20)使用長條狀者時，藉由將兩膜(7、20)夾入於一對貼合滾筒間，可在保持長條狀下貼合。貼合後的積層膜(1)可捲取為捲狀。
從所得到之積層膜中剝離保護膜(7)，可得到相位差膜(20)。剝離方法並無特別限制，例如在保持長條狀下貼合保護膜(7)與相位差膜(20)時，可從捲中捲出，並一面使保護膜(7)或相位差膜(20)保持在滾筒上一面剝離。此外，剝離後之保護膜(7)可捲取為捲狀。如第3圖所示，如此得到之相位差膜(20)於基材膜(5)上具有液晶相位差層(3)，此液晶相位差層(3)之與基材膜(5)側為相反側之表面的算術平均起伏值Wa為70nm以下，較佳為50nm以下，通常為0nm以上。
剝離保護膜(7)後之相位差膜(20)中，可於基材膜(5)側將保護膜可剝離地貼合，藉由將保護膜貼合於基材膜(5)側，可保護基材膜(5)以防止損傷等。
於剝離保護膜(7)後之液晶相位差層(3)的表面，可殘存用以貼合保護膜(7)之黏著劑、保護膜(7)所含有之抗氧化劑等。
[偏光板]
如第3圖所示，本發明之積層膜(1)例如可將偏光片(4)積層於相位差膜(20)的基材膜(5)側而構成偏光板(100)。第3圖為示意性顯示如此得到之偏光板(100)之剖面。此偏光板(100)有者將相位差膜(20)與偏光片(4)隔著接著劑層(10)而積層之構成。相位差膜(20)為於基材膜(5)上具有液晶相位差層(3)之構成。偏光片(4)積層於此相位差膜(20)的基材膜(5)側。於偏光板(100)的液晶相位差層(3)上，可剝離地貼合有保護膜(7)。
[偏光片]
偏光片(4)例如可經由下列步驟來製造，亦即將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸之步驟；以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使該二色性色素吸附之步驟；以硼酸水溶液來處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；以及在經硼酸水溶液進行處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂可使用使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得者。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，可列舉出乙酸乙烯酯及可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體例如可列舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類以及具有胺基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100mol%左右，較佳為98mol%以上。此聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如可使用經醛類改質之聚乙烯縮甲醛或聚乙烯縮醛等。此外，聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1,000至10,000左右，較佳為1,500至5,000左右。
將聚乙烯醇系樹脂製膜而成者，可用作為偏光片的胚材膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法，可藉由一般所知的方法來製膜。考量到將 所得到之偏光片的厚度形成為15μm以下，聚乙烯醇系胚材膜的膜厚較佳為5至35μm左右，尤佳為5至20μm。胚材膜的膜厚為35μm以上時，於製造偏光片時須提高拉伸倍率，並且所得到之偏光片的尺寸收縮有增大之傾向。另一方面，胚材膜的膜厚為5μm以下時，於拉伸時處理性會降低，而有於製造中容易產生切斷等缺失之傾向。
聚乙烯醇系樹脂膜的單軸拉伸，可在二色性色素的染色前、與染色同時或是染色後進行。於染色後進行單軸拉伸時，該單軸拉伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。此外，亦可在此等複數個階段中進行單軸拉伸。
於單軸拉伸時，可在周速不同之滾筒間單軸地拉伸之方法，或是使用熱滾筒來單軸地拉伸。此外，單軸拉伸可為在大氣中進行拉伸之乾式拉伸，或是使用溶劑並在使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行拉伸之濕式拉伸。拉伸倍率通常為3至8倍左右。
以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色之方法，例如可採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有二色性色素之水溶液之方法。二色性色素，具體而言可採用碘或二色性染料。聚乙烯醇系樹脂膜，於染色處理前較佳係預先施以浸漬在水之浸漬處理。
當使用碘作為二色性色素時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘及碘化鉀之水溶液來進行染色之方法。該水溶液中之碘的含量，通常是每100重量份的水為0.01至1重量份左右。此外，碘化鉀的含量通常是每100重量份的水為0.5至20重量份左右。染色所使用之水溶液 的溫度通常為20至40℃左右。此外，於水溶液中的浸漬時間(染色時間)通常為20至1,800秒左右。
另一方面，當使用二色性染料作為二色性色素時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有水溶性二色性染料之水溶液來進行染色之方法。該水溶液中之二色性染料的含量，通常是每100重量份的水為1×10-4至10重量份，較佳約為1×10-3至1重量份。該水溶液可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色輔助劑。染色所使用之二色性染料水溶液的溫度通常是20至80℃，此外，於水溶液中的浸漬時間(染色時間)通常約為10至1,800秒。
由二色性色素所進行之染色後的硼酸處理，通常是藉由將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含硼酸水溶液來進行。
含硼酸水溶液中之硼酸的含量，通常是每100重量份的水約為2至15重量份，較佳約為5至12重量份。當使用碘作為二色性色素時，該含硼酸水溶液較佳係含有碘化鉀。含硼酸水溶液中之碘化鉀的含量，通常是每100重量份的水約為0.1至15重量份，較佳約為5至12重量份。於含硼酸水溶液中的浸漬時間通常為60至1,200秒左右，較佳為150至600秒左右，更佳為200至400秒左右。含硼酸水溶液的溫度通常是50℃以上，較佳為50至85℃，尤佳為60至80℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜，通常會進行水洗處理。水洗處理例如可藉由將硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在水來進行。水洗處理中之水的溫度通常為5至40℃左右。此外，浸漬時間通常為1至120秒左右。
水洗後施以乾燥處理，得到偏光片。乾燥處理可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器來進行。乾燥溫度通常為30至100℃左右，較佳為50至80℃，乾燥處理的處理時間通常為60至600秒左右，較佳為120至600秒。
藉由乾燥處理，偏光片的水分率可降低至實用程度為止。該水分率通常為5至20重量%，較佳為8至15重量%。水分率低於5重量%時，偏光片失去可撓性，偏光片於乾燥後有時會產生損傷或破裂。此外，水分率高於20重量%時，偏光片的熱穩定性有時會劣化。
此外，偏光片的製造步驟中之聚乙烯醇系樹脂膜的拉伸、染色、硼酸處理、水洗步驟、乾燥步驟，例如可依據日本特開2012-159778號所記載之方法來進行。此文獻所記載之方法中，係藉由聚乙烯醇系樹脂往基材膜之塗覆來形成成為偏光片之聚乙烯醇系樹脂層。
[偏光片保護膜]
偏光片(4)可直接以單層積層於基材膜(5)，但通常是在與偏光片保護膜(圖中未顯示)積層後再積層於基材膜(5)。
偏光片保護膜是由樹脂膜所構成，此外，亦可由透明的樹脂膜所構成。特佳是由透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性等優異之材料所構成。本說明書中所謂透明的樹脂膜，意指於可見光區域中單體穿透率為80%以上之樹脂膜。
形成偏光片保護膜之樹脂並無特別限定，例如可列舉出由甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、環狀烯烴系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯系樹脂、丙烯腈-苯 乙烯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、改質聚苯醚系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂以及聚醯亞胺系樹脂等所構成之膜。此等樹脂膜可為藉由原料樹脂所製膜之膜，或是於製膜後進行橫向拉伸所得到之單軸拉伸膜，或是於製膜後進行縱向拉伸後接著進行橫向拉伸所得到之雙軸拉伸膜等。
此等樹脂可單獨或組合2種以上而使用。此外，此等樹脂亦可在進行任意適當的聚合物改質後使用，此聚合物改質例如可列舉出共聚合、交聯、分子末端改質、立體規則性控制，以及在包含伴隨著不同種類聚合物彼此的反應時之混合等改質。
此等當中，偏光片保護膜的材料較佳為甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚烯烴系樹脂或纖維素系樹脂。在此所謂聚烯烴系樹脂，包含鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂。
用作為偏光片保護膜之膜，可使用容易取得之市售品，若為甲基丙烯酸甲酯系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Sumipex(住友化學股份有限公司製)、Acrylite(註冊商標)、Acryprene(註冊商標)(以上為Mitsubishi Rayon股份有限公司製)、Deraglass(註冊商標)(旭化成股份有限公司製)、Paraglas(註冊商標)、Comoglas(註冊商標)(以上為Kuraray股份有限公司製)、以及Acryviewa(註冊商標)(日本觸媒股份有限公司製)等。若為聚烯烴系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Zeonor(註冊商標)(Zeon Japan股份有限公司)、Arton(註冊商標)(JSR股份有限公司)等。 若為聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Novaclear(註冊商標)(三菱化學股份有限公司製)及帝人A-PET薄片(帝人化成股份有限公司製)。若為聚丙烯系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出FILMAX CPP膜(FILMAX公司製)、Sun Tox(註冊商標)(Sun Tox股份有限公司製)、Tohcello(註冊商標)(Tohcello股份有限公司製)、Toyobo Pylen Film(註冊商標)(東洋紡績股份有限公司製)、Torayfan(註冊商標)(Toray Advanced Film股份有限公司製)、Nippon Polyace(註冊商標)(Nippon Polyace股份有限公司製)、以及太閣(註冊商標)FC(Futamura Chemical股份有限公司製)等。此外，若為纖維素系樹脂膜時，分別以商品名稱表示時可列舉出Fujitac(註冊商標)TD(Fuji Film股份有限公司製)、以及KC2UA及Konica Minolta TAC Film KC(Konica Minolta股份有限公司製)等。
此外，偏光片保護膜亦可視需要含有添加劑。添加劑例如可列舉出滑劑、抗結塊劑、熱穩定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、耐光劑、耐衝擊性改良劑等。
偏光片保護膜的厚度可為1至50μm，或是10至40μm，或是10至35μm。
偏光片保護膜在與偏光片貼合前可施以皂化處理、電暈處理或電漿處理等。於偏光片保護膜上更可設置導電層、硬塗層、防眩層及低反射層等機能層。
偏光片保護膜通常隔著偏光片接著劑層(圖中未顯示)與偏光片(4)積層。偏光片接著劑層為用以接著偏光片保護膜與偏光片之層，且 係接著劑硬化後之層。接著劑可為活化能射線硬化型接著劑或是水系接著劑。偏光片保護膜可分別積層於偏光片(4)的雙面或是僅積層於單面。
[接著劑層]
第3圖所示之偏光板(100)中，基材膜(5)與偏光片(4)係隔著接著劑層(10)而積層。此接著劑層(10)為接著劑硬化後之層。接著劑可為活化能射線硬化型接著劑或是水系接著劑。接著劑層(10)，更可隔著上述偏光片保護膜或用以將此與偏光片積層之偏光片接著層而與偏光片(4)積層。
所謂活化能射線硬化型接著劑，意指藉由照射電子束、紫外線般之活化能射線而硬化之接著劑，例如可列舉出含有聚合性化合物及光聚合起始劑者；含有光反應性樹脂者；含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑者等。聚合性化合物可列舉出光硬化性環氧系化合物；光硬化性丙烯酸系化合物等光硬化性乙烯基化合物；光硬化性胺基甲酸酯系化合物。光聚合起始劑可列舉出光陽離子聚合起始劑(例如使用光硬化性環氧系化合物時)或是光自由基聚合起始劑(例如使用光硬化性丙烯酸系化合物時)。
水系接著劑為藉由使此所含有之水分乾燥而硬化之接著劑層，例如可列舉出由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑、水系雙液型胺基甲酸酯系乳化接著劑等。當中可較佳地使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水系接著劑。
聚乙烯醇系樹脂，除了對屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯進行皂化處理所得到之乙烯醇均聚物之外，亦可使用對乙酸乙烯酯及可與此共聚合之其他單體之共聚物進行皂化處理所得到之聚乙烯醇系共聚物、或是將此等的羥基予以部分地改質之經改質聚乙烯醇系聚合物等。 水系接著劑可含有多元醛、水溶性環氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物等添加劑。
上述接著劑可含有添加劑。添加劑可列舉出離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增感劑、黏著賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑等。
接著劑層(10)的厚度，從縮小使接著劑硬化時或乾燥時之收縮，容易降低偏光板的凹凸之觀點來看，例如為5μm以下，較佳為2μm以下，考為1μm以下。此外，從顯現充分的接著力之觀點來看，接著劑層的厚度通常為0.01μm以上。
[偏光板的製造方法]
此偏光板例如可藉由包含以下步驟(3)[保護膜剝離步驟]以及步驟(4)[相位差膜積層步驟]之方法來製造。
步驟(3)[保護膜剝離步驟]
步驟(3)為從積層膜中剝離保護膜而得到相位差膜之步驟。
剝離方法並無特別限制，例如當積層膜為長條狀時，可一面使保護膜或相位差膜保持在滾筒上一面剝離。此外，剝離後之保護膜可捲取為捲狀。
步驟(4)[偏光片貼合步驟]
步驟(4)為隔著接著劑將偏光片貼合於相位差膜上而得到偏光板之步驟。
接著劑可塗佈於相位差膜，亦可塗佈於偏光片、亦可塗佈於相位差膜及偏光片兩者。此外，相位差膜中之往偏光片貼合之貼合面，可為基材膜側的面或液晶相位差層側的面。當使用水系接著劑作為接著劑時，可藉由 乾燥來接著相位差膜與偏光片。當使用活化能射線硬化型接著劑作為接著劑時，可藉由照射紫外線等活化能射線來接著相位差膜與偏光片。
使用水系接著劑時，乾燥例如可藉由將貼合後的膜導入於乾燥爐來進行。乾燥溫度(乾燥爐的溫度)較佳為30至90℃。未達20℃時，相位差膜與偏光片有容易剝離之傾向。此外，乾燥溫度超過90℃時，會有因熱而使偏光片的偏光性能劣化之疑慮。乾燥時間可設為10至1000秒左右。
乾燥步驟後，可設置：於室溫或稍高的溫度下，例如約20至45℃的溫度下進行約12至600小時的熟化之熟化步驟。熟化溫度一般設定為低於乾燥溫度者。
活化能射線可從相位差膜側照射，亦可從偏光片側照射，亦可從相位差膜側與偏光片側兩者照射。
活化能射線對活化能射線硬化型接著劑之照射強度，可因應活化能射線硬化型接著劑的組成來適當地決定。較佳係以使對聚合起始劑的活化為有效之波長區域的照射強度成為0.1至6000mW/cm2之方式來設定。當照射強度為0.1mW/cm2以上時，反應時間不會過長，為6000mW/cm2以下時，因從光源輻射出的熱以及活化能射線硬化型接著劑於硬化時的放熱而產生活化能射線硬化型接著劑的黃變或偏光片的劣化之疑慮低。
關於對活化能射線硬化型接著劑之光照射時間，亦可因應活化能射線硬化型接著劑的組成來適當地決定，較佳係以使以上述照射強度與照射時間之積所表示之累積光量成為10至10000mJ/cm2之方式來設定。當累積光量為10mJ/cm2以上時，可充分地產生來自光聚合起始劑的活化 物質而更確實地進行硬化反應，為10000mJ/cm2以下時，照射時間不會過長，可維持良好的生產性。
將偏光片貼合於相位差膜上時，為了提升與偏光片之接著性，於相位差膜表面上可進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(火炎)處理、皂化處理等表面處理(易接著處理)。例如當相位差膜含有環狀聚烯烴系樹脂時，較佳係進行電漿處理或電暈處理。此外，當相位差膜由纖維素酯系樹脂所構成時，較佳係進行皂化處理。皂化處理可列舉出浸漬在氫氧化鈉或氫氧化鉀般之鹼水溶液之方法。
步驟(4)中，可將偏光片以單層貼合於相位差膜。此外，亦可預先將偏光片保護膜積層於偏光片，並將此貼合於相位差膜而得到偏光板。貼合保護膜與偏光片之方法，可列舉出與上述貼合相位差膜與偏光片之方法為相同的方法。此外，可將保護膜、偏光片及相位差膜之3片同時貼合而得到偏光板。
步驟(3)[保護膜剝離步驟]與步驟(4)[偏光片貼合步驟]，藉由依此順序來進行，可在剝離保護膜後[步驟(3)]貼合相位差膜與偏光片[步驟(4)]，或是以相反的順序，亦即藉由步驟(4)來貼合相位差膜與偏光片後，藉由步驟(3)剝離保護膜。亦即，步驟(3)與步驟(4)的順序為任意。
[黏著劑層]
偏光板(100)可於相位差膜(20)側更具備黏著劑層(6)。黏著劑層(6)是由黏著劑所構成之層，可隔著此黏著劑層(6)將偏光板(100)貼合於液晶單元等影像顯示元件。黏著劑層的厚度通常為5μm至20μm，較佳為10μm至25μm。
形成黏著劑層(6)之黏著劑，例如可適當地選擇以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚乙烯醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改質聚烯烴、環氧系、氟系、天然橡膠、合成橡膠等橡膠系等聚合物作為基質聚合物者。黏著劑特佳為光學透明性優異，顯示出適度的潤濕性與凝聚性與接著性之黏著特性，且耐候性或耐熱性等優異者。
黏著劑中，亦可調配其他各種添加劑。添加劑可列舉出矽烷偶合劑或抗靜電劑。
[實施例]
以下藉由實施例來更詳細說明本發明，惟本發明並不受此等例子所規定。例中表示含量或用量之%及份，在未特別言明時為重量基準。另外，實施例中所使用之評估方法如以下所述。
(1)厚度：
使用Nikon股份有限公司製的數位測微器MH-15M來測定。
(2)面內阻滯值Re及厚度方向阻滯值Rth：
使用以平行偏光旋轉法作為原理之相位差儀，王子計測機器股份有限公司製的KOBRA-WPR，以23℃時之波長590nm的光進行測定。
(3)相對於保護膜之表面的週期f(μm)之一維功率譜H2(f)
使用共焦干涉顯微鏡PLμNEOX(Sensofar Japan公司製)來掃描表面的凹凸。解析所得到之凹凸的資料並算出週期212μm及週期245μm時之H2(212)及H2(425)。
(4)算術平均起伏值：Wa7及Wa
使用掃描型白色干涉顯微鏡VS1000(Hitachi Hi-Tech Science股份有限公司製)，對於各實施例中所使用之保護膜，測定與液晶相位差層貼合之側之面的算術平均起伏值Wa7。同樣地，對各實施例中所得到之積層膜，將保護膜剝離並測定所顯露出之液晶相位差層的算術平均起伏值Wa。測定範圍設為X=4000μm以上、Y=2000μm以上的範圍，截止值設為100μm。
(5)相位差的不均之評估
於背光上，以相互平行或是成為吸收軸相互正交之正交偏光(cross Nicol)的關係之方式配置2片偏光板。於此2片偏光板之間，在將保護膜剝離之狀態下，以與2片偏光板平行之方式放置實施例中所得到之相位差膜。接著在將背光點燈之狀態下，一面以肉眼從正面觀察從背光穿透偏光板、相位差膜及偏光板之光，一面於面內使相位差膜旋轉，並固定在穿透光成為最暗之位置。然後以從距離正面呈斜向30至60度的方向，從背光對遠方的偏光板進行目視檢查，並判斷是否可觀看到相位差的不均(濃淡不均)。
參考例1
製備以下各構件。
[偏光片]
(1)底漆層形成步驟
將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業股份有限公司製的「Z-200」、平均聚合度1100、皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃的熱水，調製濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。以相對於聚乙烯醇粉末6重量份為5重量份之比率， 將交聯劑(田岡化學工業股份有限公司製的「Sumirez Resin 650」)混合於所得之水溶液，而得到底漆層形成用塗佈液。
接著製備厚度90μm之未拉伸的聚丙烯(PP)膜(熔點：163℃)，對其單面施以電暈處理後，使用微凹版塗佈機將上述底漆層形成用塗佈液塗佈於該電暈處理面，於80℃乾燥10分鐘並藉此形成厚度0.2μm的底漆層，而得到附底漆層PP膜。
(2)積層膜的製作
將聚乙烯醇粉末(Kuraray股份有限公司製的「PVA124」、平均聚合度2400、皂化度98.0至99.0莫耳%)溶解於95℃的熱水，調製濃度8重量%的聚乙烯醇水溶液，並以此作為聚乙烯醇系樹脂層形成用塗佈液。
使用唇板塗佈機，將上述聚乙烯醇系樹脂層形成用塗佈液塗佈於上述(1)中所製作之附底漆層PP膜的底漆層表面，然後於80℃乾燥20分鐘，藉此於底漆層上形成聚乙烯醇系樹脂層而得到由PP膜/底漆層/聚乙烯醇系樹脂層所構成之積層PP膜。
(3)拉伸膜的製作
使用浮動的縱向單軸拉伸裝置，於160℃對上述(2)中所製作之積層PP膜實施5.8倍的自由端單軸拉伸而得到拉伸膜。拉伸後之聚乙烯醇系樹脂層的厚度為6.1μm。
(4)偏光性積層PP膜的製作
將上述(3)中所製作之拉伸PP膜浸漬在含有碘及碘化鉀之30℃的染色水溶液(每100重量份的水含有0.6重量份的碘及10重量份的碘化鉀)約 180秒，以進行聚乙烯醇系樹脂層的染色處理。以10℃的純水沖洗多餘的染色水溶液。
浸漬在含有硼酸之78℃的第1交聯水溶液(每100重量份的水含有9.5重量份的硼酸)120秒，接著浸漬在含有硼酸及碘化鉀之70℃的第2交聯水溶液(每100重量份的水含有9.5重量份的硼酸及4重量份的碘化鉀)60秒以進行交聯處理。之後以10℃的純水洗淨10秒，最後於40℃乾燥300秒，藉此得到由PP膜/底漆層/偏光片(4)所構成之偏光性積層PP膜。
[偏光片保護膜]
準備於Zeon Japan股份有限公司之環狀烯烴系樹脂膜的單面設置有硬塗層之附硬塗層環狀烯烴系樹脂膜。厚度為50μm。
[保護膜]
準備以下3種保護膜(7)。此3種皆為含有聚乙烯樹脂且於表層具有自黏著性的層之保護膜。
保護膜A：Tredegar公司製「Force Field 1035」
保護膜B：Toray Advanced Film股份有限公司製「Toretec(註冊商標)7332K」
保護膜C：Toray Advanced Film股份有限公司製「Toretec(註冊商標)7832C」
[相位差膜]
準備Zeon Japan股份有限公司之環狀烯烴系樹脂膜作為基材膜(5)。此基材膜(5)為長條狀，厚度為20μm。此基材膜(5)為λ/4板。於此基材膜(5)的單面施以電暈處理。於施以電暈處理之面上，以膜厚成為1μm之方式塗佈垂直配向膜用的組成物。以溫度100℃對塗佈膜施以120秒的熱處理而形成配向膜。垂直配向膜用的組成物係使用日產化學股份有限公司製的Sunever SE610。
於上述所形成之配向膜上，塗佈含有所調製之光聚合性向列液晶化合物(Merck公司製、RMM28B)之組成物。組成物係含有丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA：Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)作為溶劑，並含有Irgacure(Irg-907)作為光聚合起始劑。此組成物的組成如下所述。
光聚合性向列液晶化合物[RMM28B]：20重量份
光聚合起始劑[Irgacure(Irg-907)]：1重量份
溶劑[丙二醇單甲醚乙酸酯]：80重量份
以溫度90℃對塗佈後的塗佈層施以120秒的乾燥處理。然後藉由紫外線(UV)照射使液晶化合物聚合而形成厚度為1μm的液晶化合物經硬化後之液晶相位差層(3)。液晶相位差層全體的厚度為2μm。液晶相位差層(3)為正C波片。如此得到由基材膜(5)與液晶相位差層(3)所構成之相位差膜(20)。相位差膜的彈性率，於23℃時在MD方向、TD方向上分別為1900MPa、2300MPa。此相位差膜(20)於可見光的波長區域中可發揮λ/4波長板的之機能，於厚度方向上亦顯示相位差。
[實施例1]
以使測定出表1所示的表面形狀之面成為與液晶相位差層(3)之貼合面之方式，將上述所製備之保護膜A(7)貼合於上述所得到之相位差膜(20)的液晶相位差層(3)上，而得到第1圖所示之構成之積層膜(1)[保護膜(7)/液晶相位差層(3)/基材膜(5)]。
製備30片上述所得到之積層膜(1)[保護膜(7)/液晶相位差層(3)/基材膜(5)]，將此等重疊並以按壓壓力0.017MPa、按壓溫度60℃、按壓時間3小時來按壓，接著剝離保護膜(7)並測定所顯現之液晶相位差層(3)之表面的算術平均起伏值Wa，結果為55nm。
評估構成此偏光板(100)之相位差膜(20)之相位差的不均時，無法以目視來確認相位差的不均。
(偏光板的製造)
對上述所製備之偏光片保護膜[附硬塗層環狀烯烴系樹脂膜]之與硬塗層為相反側的面施以電暈處理。使用微凹版塗佈機，於施以電暈處理後之面上塗佈紫外線硬化性接著劑。此紫外線硬化性接著劑的組成如下所述。
3,4-環氧基環己烷羧酸3',4'-環氧基環己基甲酯[商品名稱「CEL2021P」、Daicel股份有限公司製]：70重量份
新戊二醇二縮水甘油醚[商品名稱「EX-211」、Nagase Chemtex股份有限公司製]：20重量份
2-乙基己基縮水甘油醚[商品名稱「EX-111」、Nagase Chemtex股份有限公司製]：10重量份
光陽離子聚合起始劑[商品名稱「CPI-100P」、Sun Apro股份有限公司製]：2.25重量份
塗佈後，使用貼合滾筒並隔著紫外線硬化性接著劑將偏光片保護膜貼合於上述所得到之偏光性積層PP膜的偏光片(4)上。接著藉由紫外線照射使紫外線硬化性接著劑硬化以形成偏光片接著劑層，而得到由偏光片保護膜/偏光片接著劑層/偏光片(4)/底漆層/PP膜的層構成所組成之貼合膜。此貼合膜之偏光片接著劑層的厚度為0.8μm。
從所得到之貼合膜中剝離去除PP膜。PP膜係容易地被剝離，而得到由偏光片保護膜/偏光片接著劑層/偏光片(4)/底漆層的層構成所組成之單面附偏光片保護膜之偏光板。
於上述所得到之積層膜(1)中的基材膜(5)[環狀烯烴系樹脂膜]上施以電暈處理。使用微凹版塗佈機，於施以電暈處理後之面上與上述同樣地塗佈紫外線硬化性接著劑。塗佈後，使用貼合滾筒並隔著紫外線硬化性接著劑將積層膜(1)貼合於上述單面附偏光片保護膜之偏光板的底漆層上，並藉由紫外線照射使紫外線硬化性接著劑硬化以形成接著劑層(10)。
然後，剝離保護膜A(7)，得到由偏光片保護膜/偏光片接著劑層/偏光片(4)/底漆層/接著劑層(10)/基材膜(5)/液晶相位差層(3)所組成之偏光板(100)(第2圖)。此偏光板(100)未產生由相位差膜之相位差的不均所起因之不均，涵蓋全面顯示均一的偏光性能。
[實施例2]
除了使用保護膜C來取代保護膜A之外，其他與實施例1相同而製作積層膜(1)，重疊30片所得到之積層膜(1)並與實施例1同樣地按壓，接著剝離保護膜C(7)並測定所顯現之液晶相位差層(3)之表面的算術平均起伏值Wa，結果為65nm。
評估構成此偏光板(100)之相位差膜(20)之相位差的不均，結果無法以目視來確認相位差的不均。
[比較例1]
除了使用保護膜B來取代保護膜A之外，其他與實施例1相同而製作積層膜(1)，重疊30片所得到之積層膜(1)並與實施例1同樣地按壓，接著剝離保護膜B(7)並測定所顯現之液晶相位差層(3)之表面的算術平均起伏值Wa，結果為84nm。
評估此相位差膜(20)之相位差的不均，結果以目視可確認到相位差的不均。
除了使用上述所得到之積層膜來取代實施例1中所得到之積層膜之外，其他進行與實施例1相同之操作所得到之偏光板(100)，係產生由相位差膜(20)之相位差的不均所起因之偏光性能的不均。

Claims (5)

  1. 一種積層膜，其係具備：在基材膜上具有液晶相位差層之相位差膜，以及可剝離地貼合於前述液晶相位差層上之保護膜，其中：前述液晶相位差層之接觸於前述保護膜之面的算術平均起伏值Wa為70nm以下。
  2. 一種積層膜的製造方法，其係將保護膜可剝離地貼合於在基材膜上具有液晶相位差層之相位差膜的前述液晶相位差層上，以製造申請專利範圍第1項所述之積層膜之方法，其中：前述保護膜之積層有前述相位差膜之側的面，在將相對於表面凹凸的週期f(μm)之一維功率譜設為H 2(f)時，係滿足式(1)H 2(425)/H 2(212)<10 (1)。
  3. 一種偏光板的製造方法，其所製造之偏光板係隔著接著劑層在基材膜上積層有具有液晶相位差層之相位差膜與偏光片者，該製造方法包含：從申請專利範圍第1項所述之積層膜中剝離保護膜之保護膜剝離步驟，以及隔著接著劑將偏光片貼合於前述相位差膜之偏光片貼合步驟。
  4. 一種偏光板，其中，隔著接著劑層在基材膜上積層有具有液晶相位差層之相位差膜與偏光片， 前述液晶相位差層之與基材膜側為相反側的面之算術平均粗糙度Wa為70nm以下。
  5. 一種相位差膜，其係在基材膜上具有液晶相位差層，其中，前述液晶相位差層之與前述基材膜側為相反側的表面之算術平均起伏值Wa為70nm以下。
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