TW201504140A

TW201504140A - 形成具有均勻孔尺寸之多孔石墨烯之方法

Info

Publication number: TW201504140A
Application number: TW103108442A
Authority: TW
Inventors: Randall M Stoltenberg; Peter V Bedworth
Original assignee: Lockheed Corp
Priority date: 2013-03-12
Filing date: 2014-03-11
Publication date: 2015-02-01
Also published as: US20170239623A1; US10201784B2; WO2014164621A1; US9592475B2; US20140263035A1

Abstract

一種形成具有均勻小孔尺寸之濾器之方法，其包含：合成原子團(moiety)以形成複數個具有精確尺寸的小孔延伸於其中之類似的模板；令該複數個類似的模板沿著具有孔穿透於其中的膜分佈；且令該環繞該孔的複數個模板結合而形成穿透該膜之精確尺寸的小孔。亦揭示一種濾膜，其具有複數個孔穿透於其中的多孔膜、和複數個模板，其中各個模板具有小孔穿透於其中。該模板位於孔上或孔中。

Description

形成具有均勻孔尺寸之多孔石墨烯之方法

技術領域相關申請案之交互參照

此申請案聲明2013年3月12日提出申請的美國臨時申請案第61/777,099號之優先權，茲將該案以引用方式納入本文中。

本發明係關於形成孔穿透於其中的原子級薄膜。特別地，本發明係關於形成孔穿透於其中之具有均勻尺寸和間隔的原子級薄膜(如石墨烯)之方法。

石墨烯是一種單原子層厚的碳原子層，其結合在一起以形成片。單一石墨烯的厚度，其可被稱為層或片，是約0.2至0.3奈米。一些具體實施例中，可形成多個石墨烯層，其具有較大厚度和對應的較大強度。隨著膜的生長或形成，多個石墨烯片可以多層供應。或者，藉由將一個石墨烯層層合或放置在另一者的頂部上，可形成多重石墨烯片。此處所提出的所有具體實施例，可使用單層石墨烯或多層石墨烯。試驗顯示多層石墨烯維持其整體性且以自身黏著的結果作用。此改善了膜的強度且在一些情況中改善了流動性能。最常用的具體實施例中，具2或更多層的石墨烯膜之厚度為0.5至2奈米。石墨烯層的碳原子定義六角環結構的重覆圖案(類似於六個碳原子建構的苯環)，此形成碳原子的蜂窩晶格。藉片中的各個六角環結構形成有空隙的孔且此有空隙的孔的橫長小於一奈米。事實上，嫻於此技術者將理解咸信有空隙的孔於其最長維度的橫長為約0.23奈米。據此，除非是穿孔，否則有空隙的孔的尺寸和構形及石墨烯的電子本質預先排除任何分子橫越石墨烯的厚度的可能性。此尺寸太小，使得水和離子皆無法通過。

目前，多孔石墨烯被視為達成分子過濾之有潛力的材料。多孔石墨烯高通料輸出材料提供明顯改善的過濾性質，此不同於聚醯亞胺或其他聚合材料過濾材料。

分子過濾要求小孔尺寸為分子程度。所欲地，相關小孔尺寸的尺寸範圍由次奈米(約0.5奈米)至約20奈米。但是，已發現以慣用的工具極難得到此尺寸範圍，當試圖得到過濾所須的大面積(大於平方毫米)之多孔石墨烯時特別是如此。事實上，用於過濾應用，必須嚴密控制小孔尺寸以便合宜地重新注入標的種類。當使用石墨烯作為過濾介質時，石墨烯中之洞的密度和尺寸必須使得該材料不會明顯變弱。流動通過石墨烯材料亦必須不會明顯減少。亦明瞭小孔的化學性質之控制具有重要性，特別是在穿透小孔時會受到小孔或孔之邊緣的襯裡的官能基的影響之過濾應用方面。

一個試圖得到多孔石墨烯的方法被稱為消除法(subtractive method)。此消除法藉由使用嵌段共聚物(其可經發展而形成具有洞的週期陣列之蝕刻罩)製造石墨烯中之均勻洞的週期陣列。有時將此稱為由上向下(top-down)成孔法。此具體實施例中，使用陽極氧化鋁(AAO)膜或嵌段共聚物(BCP)膜製的蝕刻罩，其中O₂電漿被導引通過罩以蝕刻石墨烯材料片。另一途徑是無模板的能量轟擊。此可藉由高度有序熱解石墨(HOPG)或大氣電漿進行。這些方法的問題在於洞和其間隔的長度規格為數十奈米(如，大於20奈米)規格。此排除了用於小分子的分子過濾之材料之使用並限制了電子設備和光學設備於所須能帶隙約0.1電子伏特的應用之使用。

形成多孔石墨烯的另一途徑被稱為自下而上(bottom-up)解決方案。此方法須要小分子的表面輔助凝結反應，如在Ullman型合成中者。亦曾試圖與cyclo-proparene一起於使用溶劑的介面和HOPG介面組裝。然而，未發現此途徑有益於此製程。

多孔石墨烯具有許多可能的應用包括，例如，作為分子濾器，作為界定的能帶隙材料，及在聚合物複合物中作為具有可調和電子性質的電子傳導填充材料。雖然如前述者，多孔石墨烯具有許多潛在用途，卻無可靠之將尺寸範圍約10奈米和以下，特別是約5奈米和以下的洞、或小孔引至石墨烯中的方式。多步驟但費力的平版印刷技巧可用以製造尺寸大於約20奈米的洞。但是，目前沒有適合用以以平方米/分鐘或更高規格製造多孔石墨烯的技巧。

總而言之，以前述技術尚無法提供在石墨烯中製造均勻尺寸和間隔的孔之方法。克服此問題使得在過濾、光學設備、電子設備及構造和熱材料之各式各樣的應用得以實現。因此，此技術對於用於分子過濾和其他應用之在選定面積中生成正確孔尺寸和孔數之多孔材料之方式有明顯的需求。

發明總論

鑑於前述者，本發明的第一個特點係提出用以形成具有均勻孔尺寸之多孔石墨烯之方法。

本發明的另一特點係提供形成具有均勻孔尺寸的濾器之方法，其包含合成原子團(moiety)以形成複數個具有精確尺寸的孔延伸於其中之類似的模板，令該複數個類似的模板沿著具有小孔穿透於其中的膜分佈，及令該環繞該孔的複數個模板結合而形成穿透該膜之精確尺寸的小孔。

本發明的又另一特點係提出一種濾膜，其包含具有複數個孔穿透於其中的多孔膜，複數個模板，該模板各者具有小孔穿透於其中，其中該複數個模板位於該孔上或該孔中。

10‧‧‧多孔原子級薄材料

12‧‧‧平面的多官能性鹽原子團

14‧‧‧模板

16‧‧‧小孔

18‧‧‧多孔膜

20‧‧‧孔

22‧‧‧濾器

30‧‧‧濾膜

32‧‧‧背襯濾器

34‧‧‧開口

對照以下描述、所附申請專利範圍、和附圖將更明瞭本發明的這些和其他特點和優點。附圖未依比例尺描繪且某些部分的比例被放大以便於說明。

圖1係根據本發明之概念，用以製造具有所欲小孔尺寸和密度之多孔石墨烯孔之方法的圖示；而圖2係根據本發明之概念，使用小孔尺寸均勻的石墨烯模板之濾膜的示意圖。

現參照圖，且特別參照圖1，用以形成具有均勻孔或小孔尺寸之有孔的原子級薄材料(如石墨烯)(標記為10)之方法的圖示。如圖1所示者，使用一般平面的多官能性鹽原子團(標記為12)。此原子團12在基於，例如，以下化學反應式之Ullman型合成中作為反應物與銅或銀反應：⁽¹⁾2Cu+R-X → R-R+2CuX或⁽²⁾2Ag+R-X → R-R+2AgX，其中R是一般平面的多官能性原子團(描述於下文中)而X是鹵化物(如Cl、Br或I)或其他官能性離去基(如CF₃SO₃或CF₃CF₂SO₂)，使得R-X為鹽。

本方法中，可以使用利用Ullman型合成的以上反應式或類似反應式。事實上，與表面反應的此合成或任何類似類型的合成產生模板14，其具有精確尺寸的小孔16穿透於其中。咸信以所提出的方式形成的這些小孔具有低於1奈米至約20奈米的直徑尺寸。

以上化學式中所用的R基本上是任何金屬媒介的C-C鍵形成，其一般適當地為平面且經官能化。一或多個具體實施例中，R是具有多重官能基的一般平面的核原子團，如X，此如前示者，位於至少三個結合位置且其中這些結合位置彼此間隔約120°。其他具體實施例中，可以有四或甚至六或更多個官能基，其分別間隔90°和60°。最常用的具體實施例中，單體R可為任何數目的有機分子且可選自芳基或芳基之組合。在相同或其他的具體實施例中，R可選自以下式中之一。

其中各個A是接點，即，是X官能性離去基、另一單體R(此處完成Ullman型合成)，或以下定義的間隔基；且各個Rr是CA、C．、CH、N、CCOOR’(其中R’是具有至多16個碳原子的直鏈或支鏈烴)或彼等之組合。一些具體實施例中，鄰近的Rr亦可經由乙二基、苯二基和/ 或萘二基連接。

將理解，在一或多個具體實施例中，A可以(作為替代)為間隔基，使得有額外的原子團居於多個R之間，以提供R-A-R形成。此具體實施例中，A可選自以下式中之任一者：其中A接合至另一R(碳原子)或X，n是1至5的整數，而Rr是C．、CH、N、CCOOR’(其中R’是具有至多16個碳原子的直鏈或支鏈烴)或彼等之組合，且其中鄰近的Rr亦可經由丁二烯二基(butadiendiyl)或二甲苯二基(oxylylidyl)連接。

將理解，因為這些原子可具有三或更多個結合位置，所以當反應或聚合時，它們一般維持平面。選擇原子團的位相，使其可聚合成二維網絡，如以原子級薄材料提供。嫻於此技術者將理解此反應發生於溶液-金屬介面。

原子團R之選擇因此控制了延伸穿透模板14之小孔16的尺寸。換言之，原子團或單體R之選擇亦控制小孔16的尺寸。結果是，可得到任何精確尺寸的洞。一些具體實施例中，洞或小孔尺寸可低於1奈米。其他具體實施例中，孔尺寸可介於0.5奈米和1.0奈米之間。一些具體實施例提供低於5奈米的洞尺寸。在其他具體實施例中，孔尺寸可在介於0.5奈米和20奈米之間之選定的次範圍的任何數值內。基本上，模板14為碳原子的有序陣列，使得例如芳環或芳環的組合具有在1至20微米範圍內的外徑。形成模板之後，拋棄合成程序的其他組份(即鹵化物，如碘化物)和金屬(如銅或銀)。

接著，模板14可用以與多孔膜18合併。主要應用係將模板14直接置於多孔膜上。膜18具有複數個孔20，其尺寸不規則地具有2奈米或更高的直徑。最常見的具體實施例中，用於聚合膜，孔20在50奈米-5微米(5000奈米)的範圍內。在所示具體實施例中，孔具有約1微米(1000奈米)的直徑。嫻於此技術者將理解這些孔係利用嫻於此技術者已知的技術製得。取決於終應用或其他因素，模板14倒在、倒入或分佈於膜18表面。例示膜可為材料，如聚碳酸酯、聚醯亞胺、或其他者。模板14覆蓋孔20以在膜18上提供精準尺寸的孔16。結果，可得到具有所欲強度性質和所欲過濾性質之精確所欲奈米尺寸孔隙度的膜。

相關詞彙中，膜有利地為“平坦”者。換言之，所欲地，膜和膜之環繞孔的區域具有相當平坦的外觀以接收和合宜地放置模板及其對應的小孔16。結果是，模板14的外圍有效地密封孔20。本具體實施例中，咸信凡得瓦爾力將模板14結合至膜18。另一具體實施例中，咸信模板14的外圍可經化學官能化以有助於模板結合至膜表面。

一些具體實施例中，將模板組合至膜的一個方法是製造模板的稀溶液(模板與溶劑混合)。該溶劑經選擇，使得模板“開啟”或“鬆弛”，以使其展現實質上二維的構形。之後，藉壓力或他者，迫使此溶液通過該膜。結果是，模板有效地阻塞孔20。因此，雖然在一些具體實施例中，圖示的模板位於膜表面上，但在一些具體實施例中，該模板本身亦可位於接收孔本身之中或之間。之後，溶劑可經過孔20和/或小孔16或蒸發。

前述具體實施例中，提出單層構形。但是，重覆傾倒上述溶液將會使得多個模板14與單一孔18連結。換言之，模板會形成鬆散的層狀結構，其具有平行於板的通道且奈米尺寸小孔16穿透於其中。在單層模板或多層模板中，模板14在孔20中藉膜18負載以形成濾器22。

總而言之，分子或化合物14控制小孔尺寸和洞的密度，同時其聚合反應得到用於分子過濾應用之夠大的面積(>1平方微米)。一個具體實施例中，藉由使用液體-液體聚合反應、液體-氣體聚合反應、固體-氣體聚合反應、或固體-液體聚合反應，可藉由在介於模板和膜之間的界面之聚合反應形成濾器22。此外，前述之在溶液中之聚合反應可提供三維方法，以形成三維獨塊體，其孔徑分佈經先質小分子模板14的尺寸和化學性質控制。

現參照圖2，其為放大之未依比例的示意圖，石墨烯濾器22可用於以標號30代表的濾膜。濾器22可藉背襯濾器32承載，該背襯濾器可為具有開口34(其直徑大於濾器22提供的小孔16)的格狀材料。結果是，用以覆蓋背襯濾器32的小孔之濾器22具有前述程序所形成的尺寸，藉此而將濾器22的過濾能力賦予背襯濾器。嫻於此技術者將理解濾器元件不限於二維材料--單一多孔石墨烯濾器--但可以是(事實上)多個有孔的板的三維結構或前述聚合的獨塊體使用。

由前述者，將瞭解所揭示的方法和所得石墨烯濾器的數個優點。特別地，所揭示的方法可得到均勻(相同尺寸)的洞，其尺寸由0.5奈米至20奈米。此方法亦可在二維膜基質中用於均勻的分隔。基於合宜地選擇起始材料和，特別地，原子團12和所得模板14，此方法使得分子濾器最終能夠自其他分子區分氦且洞的尺寸可經打造而用於在0.5奈米至20奈米範圍內的任何尺寸分隔。結果是，選擇的材料得以用於數種分子分析物之過濾。相同的二維材料具有介於0和約6電子伏特之經良好界定的能帶隙。事實上，使用均勻之較小尺寸的洞將得到較大的能帶隙，此又展開新的電子設備應用。用於比較，矽具有的固有能帶隙為1.1電子伏特，且建構於矽平台上的所有電子設備取決於此能帶隙分離以觀察性能。較高能帶隙亦得以於較高溫度操作及對應於可見光能量，有助於光子設備應用。

因此，看出藉前文提出的結構和其使用方法，可滿足本發明之目的。根據專利法規，僅出示及詳細描述最佳模式和較佳具體實施例，應理解本發明不限於彼或因彼而受限。據此，用以瞭解本發明的真實範圍和涵蓋寬度，應參考以下申請專利範圍。