TW201302481A - 產生具反射性之花樣並移轉該花樣至一基底的方法及反射移轉膜 - Google Patents
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Abstract
本發明係產生關於具有反射性之花樣並轉移該花樣至基底的方法,包含以下步驟:提供撥黏基質(205);施用轉移黏著劑(210)至基質(205)的全部表面區域;施用含有多個反射粒子(231)的反射著色劑(230);於所產生之層結構裁切出花樣(201),其中保留突出區;移除該突出區;以及移除基質(205)後,施用具有花樣(201)的層結構至基底。本發明更關於一種反射轉移膜及一種織物基底。
Description
本發明係關於產生具有反射性之花樣並轉移該花樣至基底的方法,其中花樣係藉由裁切反射轉移膜所產生並藉由轉移製程進行轉移。本發明更關於反射轉移膜以及織物品。
DE 1 446 828 A1揭露一種反射轉移膜以及製造反光反射製成品的製程,例如用於標記服飾品。轉移膜具有轉移層,其包含黏著層、類橡膠接合劑層設置於其上,併入部分形成突出微球且可剝除保護層設置在轉移層的黏著側。在前側,轉移層具有尺寸穩定的載板,其可在黏著後乾燥剝除。為了轉移至服飾品,熱熨斗緊緊地燙壓結構的載板,然後將載板從反光反射轉移膜剝除。為了施用不同形狀的標記,首先裁出個別花樣,然後施用到後續的服飾品或織物品。
US 2007/0162176 A1尤其揭露施用貼花飾物至例如服飾品的方法及裝置,其中為了在設計中結合兩種或更多符號或圖像,從第一材料裁出第一圖案形成下層,然後從第二材料裁出第二圖案形成上層,接著將兩層施用至服飾品。
US 5 974 997尤其揭露一種裝飾品,其中裝飾材料利用修飾材料固定在基材上,且其中修飾材料利用第一固定材料固定在裝飾材料上並利用第二固定材料固定在基材上。
本發明之目的在於提供一種產生具有反射性之花樣並
轉移該花樣至基底的方法,其提供具有引人注意之反射性質的產品(例如織物品),同時可經濟生產圖案或小規模系列。
本發明目的可藉由申請專利範圍第1項之方法特徵達成。
根據本發明,一種產生具有反射性之花樣並轉移該花樣至基底的方法,包含以下步驟:提供撥黏基質;施用轉移黏著劑至基質的全部表面區域;施用反射著色劑,其含有多個反射粒子;於所產生之層結構,裁切出花樣,其中保留突出區;移除突出區;以及移除基質後,施用具有花樣的層結構至基底。
具體而言,本發明具體係基於以下概念:即最終所要的花樣在產生層結構期間並未形成,而是先施用轉移黏著劑於全部表面區域(或根據個別相關實施例也可施用具有反射粒子的反射著色劑)。
對於最終所要花樣的選擇及產生僅在發生反射轉移膜已完全產生後,因此例如也可先施行使用者能預先決定要在完成製造的層結構裁切所欲花樣的部分(例如利用裁切電腦或雷射、裁切機、剪切機或衝壓機)。因此在產生具有反射性之反射轉移膜的期間,不再需要已經施行使用者對特定設計的需求或使反射轉移膜早已具有符合使用者需求的合適花樣。
因此,本發明提供在小規模系列生產以及個別作品件及圖案上相當經濟的方法。
同時,相較於習知方法先用著色劑然後用黏著劑至轉移載體且先以反向鏡像關係將花樣印刷至轉移載體,根據本發明的程序在產生反射轉移膜時開始先利用撥黏基質,然後利用轉移黏著劑,然後再用反射著色劑實質改善了反射性質,相對於習知方法達到的單調外觀,本發明之反射粒子係突出於乾燥的著色劑層。以此方式製造的材料尤其絕佳適合利用其他印刷油墨/效果精緻化及改善,而可產生高效又個人化的膜片。因此利用本發明所用的反射轉移膜,具有反射粒子的表面係向上開放而不是被轉移帶覆蓋。
於一實施例中,反射著色劑施用於全部表面區域。
於另一實施例中,反射著色劑亦可僅部分施用。舉例而言,部分施用反射著色劑可在後續裁切層結構製造的花樣內產生額外結構(例如可視為連續圖案的標記識別形式)。於該案例中,在輻照時(例如夜晚或微光),僅施用反射著色劑的結構部分會產生反射,而可產生引人注意的效果。以此方式亦可避免在例如白色基底上的反射作用在某些狀況下會過強或「過度輻照」(造成看不見實際花樣或不能看見正確的花樣)。
可使用轉移帶將具有花樣的層結構施用至基底。然而,本發明不限於此。亦可不用轉移帶,直接將層結構轉移至織物基底上。
於一實施例中,以正確的左至右關係在反射轉移膜或層結構裁切出花樣。於該案例中,具體而言可在移除突出區後,將轉移帶施用至具有花樣的層結構。
於選替實施例中,在反射轉移膜或所產生之層結構裁切出花樣之前,施用轉移帶(較佳於全部表面區域)。於該案例中,具體而言係在移除基質後以鏡像關係進行花樣的裁切操作。如此有利於相當小的花樣,其簡化清除並修復或重置因錯誤造成缺陷或被移除的花樣元件。
於一實施例中,提供撥黏基質的步驟、施用轉移黏著劑至基質的全部表面區域的步驟以及施用反射著色劑的步驟係分別於滾輪塗佈製程或滾輪印刷製程中進行。相較於使用片狀層疊、片狀裁切及片狀捲布機,以此方式可實質增加產量及生產速度。
於一實施例中,在施用轉移黏著劑於全部表面區域後以及在施用實際反射著色劑前,施用至少一中間層至轉移黏著劑。該中間層包含一或複數的額外層部分。此外,至少一中間層可為彩色、透明或不透明。中間層的層部分可為包含一或更多較佳為非反射著色劑的高覆蓋率顏色的色層或為任何其他層部分。類似轉移黏著劑,中間層亦可具有提升但不妨礙本發明裁切操作及後續清除操作的性質(具體係指在強度及彈性方面)。中間層可施用於相關的全部表面區域(本發明不限於此)。此外,中間層可再次具有一或更多花樣。中間層可利用數位印刷、圖形網版印刷或其他目前的塗佈程序來產生,或亦可利用適當製程進行印刷或塗佈。中間層的厚度係選擇為可支援裁切操作且例如可在10 μm至50 μm的
範圍之間。
於一實施例,將轉移黏著劑施用至全部表面區域係於擠壓製程或塗佈製程中進行。
於一實施例,在施用反射著色劑(部分或整個表面區域)至反射著色劑所形成的反射區域後,可施用(例如藉由印刷)非反射元件,具體例如棉質條紋(設計)或非反射顏色。以此方式,在產生實際花樣前或在將反射轉移膜送至使用者前,可「精緻化」反射轉移,達到其他額外的設計效果以及特別是不同的日/夜作用。
本發明更關於一種織物品,其係利用本發明方法所產生,其中織物基底用做為基底。
本發明之另一觀點係關於一種反射轉移膜,其係由以下步驟所產生:提供撥黏基質;施用轉移黏著劑至基質的全部表面區域;施用反射著色劑,其含有多個反射粒子;於先前步驟所產生之層結構,以左至右關係裁切出花樣,其中保留突出區;以及移除突出區。
關於反射轉移膜的較佳組態及優點可參考前述關於方法的說明。
本發明的其他組態可由說明及所附申請專利範圍得知。
於後參考針對說明目的提供之圖1的流程圖及圖2的示意圖說明本發明方法的較佳實施例。
在第一實施例中,於步驟S110,提供撥黏基質205,其可為撥黏保護紙,設置在例如矽膠底材(矽膠紙)或聚酯底材(撥黏聚酯材料)上。基質的「撥黏」性質係較佳解釋為黏著劑首先與基質的基材有良好結合,且可以無氣泡並均勻的關係設置於其上,之後黏著劑可在沒有困難且非破壞性方式下從基材移除。
施用轉移黏著劑210至基質205有關的全部表面區域(步驟S120)。所用的轉移黏著劑210可利用任何合適的方法施用至基質205,例如擠壓方法、網版印刷方法(如EP 1 137 546 B1所述)、合適的塗佈方法或任何其他方式,並且較佳進行乾燥。合適的轉移黏著劑210為例如熱塑共聚酯熱熔黏著膜。水性黏著劑、塑熔膠黏著劑、溶劑黏著劑、聚氨酯黏著劑等也適合。
現於步驟S130中,也將含有多個反射粒子(例如最大尺寸為45 μm)的反射著色劑施用至轉移黏著劑210(其係選擇性乾燥的)有關的全部表面區域。然後可選擇性地進行乾燥。圖2中的示意圖顯示所產生的層結構,其中沒顯示基質205,但在轉移黏著劑210及反射著色劑230之間有選擇性的中間層220。
現在於步驟S140在先前步驟中所產生的層結構裁出花
樣201,可使用例如裁切電腦進行。根據本發明花樣的裁切可以任何適當形式進行,例如也可利用沖壓或雷射進行。
於步驟S150移除突出材料(利用「清除(weeding)」)後,進行步驟S160,其係施用轉移帶(於圖2中標示為240),以便可使用例如滾輪或平床式貼合機的層合機器。亦可手動施用轉移帶240。然後於步驟S170進行移除基質205,而暴露出轉移黏著劑210,藉此層結構可施用至織物基底(步驟S180,如圖2所示)並且藉由轉移壓製機利用熱及/或壓力進行壓製。在居家狀況下亦可使用平順熨斗達到相同目的。最後,拉掉轉移帶240,而使暴露的花樣201留在織物基底上。
於後,參考圖1及圖2所述的實施例,於步驟S140以正確的左至右關係進行花樣201的裁切操作,可如圖2所示。然而,本發明不限於此。花樣201的裁切亦可以鏡像關係進行,如參考圖3及圖4之另一實施例所示。
圖3之流程圖所述的相應方法首先與圖1的不同之處在於:在裁切花樣前,將轉移帶240施用(步驟S340)至前三個步驟S310-S330(與圖1相同)所產生的層結構(較佳施用至有關的全部表面區域)。之後,先於步驟S350移除基質205,然後才裁切花樣201,現為反側關係或鏡像關係。再次接著移除突出區(藉由「清除」,步驟S370),且於步驟S380進行施用至織物基底,最後隨之移除轉移帶240,而使暴露的花樣201留在織物基底上。
於又一實施例中,如圖5所示且為先前圖1所述方法的變化例,可藉由印刷方式將非反射元件501例如棉質條紋(設
計)、非反射或低反射顏色等施用至反射區。舉例而言,具有低反射度(例如10%)的設計元件可施用至強反射顏色(例如幾乎100%反射)。此外,另外可使雷射單元運行於反射轉移層或膜,以例如規劃表面,以區域性方式使用特定目標關係「破壞」表面並達到引人注意的效果(「反射/非反射」)。此外,亦可利用本發明所用的反射轉移,將具有反射粒子的表面朝上開放且未被轉移帶覆蓋。
於後,參考圖6及圖7說明本發明方法之又一實施例。
圖6及圖7的方法與圖1的不同之處在於:在步驟S630中,僅部分施用反射著色劑。部分施用反射著色劑所產生的結構可代表例如圖7a至圖7b所示的標記識別,其藉由類似圖1的另一方法進行裁切而呈現在層結構所產生的實際花樣中。部分施用反射著色劑的結果,使得僅相關結構部分(於步驟S630進行施用)在泛光照射(例如於夜晚或微光)時進行反射,如圖7b所示。於此方式中,一方面產生特別引人注意的效果,而另一方面可防止「過度輻照」產生過強的反射作用,其在某些狀況下係表示不能察覺到或不再能正確察覺到實際的花樣。
於上述各實施例之第一步驟中所產生的層結構示意地顯示於圖8。依序包含基質205、轉移黏著劑210、選擇性中間色層(未顯示)以及反射著色劑230,其中反射著色劑230含有多個反射粒子231(例如最大尺寸為45 μm),其中反射粒子231突出硬化的反射著色劑230的表面。製造此種反射轉移的合適方法描述於EP 1 137 546 B1中。於一實施例,層結構的整體厚度範圍在15 μm至200 μm之間,具體而言
在25 μm至100 μm的範圍。如此小的層厚度使本發明極有利於例如刀片磨損,例如可顯著減少裁切繪圖儀,因此可顯著加長刀片的使用壽命,因而降低成本。因此,首次可利用簡易的裁切繪圖儀以反射關係從膜片裁切出非常小的花樣。
雖然於本發明已具體顯示並說明較佳實施例,但是熟此技藝者當知在不悖離本發明的精神與範疇下,在形式及細節上可有前述及其他改變。因此,本發明不限於所述及所示的具體形式及細節,而是落入所附申請專利範圍者為準。
201‧‧‧花樣
205‧‧‧撥黏基質
210‧‧‧轉移黏著劑
220‧‧‧中間層
230‧‧‧反射著色劑
231‧‧‧反射粒子
240‧‧‧轉移帶
501‧‧‧非反射元件
於圖式中:圖1顯示本發明方法之較佳實施例之流程圖;圖2顯示圖1之本發明方法之示意圖;圖3顯示本發明方法之另一實施例之流程圖;圖4顯示圖3之本發明方法之示意圖;圖5a至圖5b顯示圖1之本發明方法之另一可能變化例之示意圖;圖6顯示本發明方法另一實施例之流程圖;圖7a至圖7b顯示圖6之本發明方法之示意圖;以及圖8顯示用於本發明方法之反射轉移膜的結構示意圖。
S110‧‧‧提供撥黏基質
S120‧‧‧施用轉移黏著劑至基質的全部表面區域
S130‧‧‧施用反射著色劑至全部表面區域
S140‧‧‧在所產生的層結構裁出花樣
S150‧‧‧移除突出區
S160‧‧‧施用轉移帶
S170‧‧‧移除基質
S180‧‧‧施用至織物基底
Claims (15)
- 一種產生具有反射性之一花樣並轉移該花樣至一基底的方法,其中該方法包含以下步驟:a)提供一撥黏基質;b)施用一轉移黏著劑至該基質的全部表面區域;c)施用一反射著色劑,其含有多個反射粒子;d)於該步驟a)至該步驟c)所產生之層結構,裁切出一花樣,其中保留一突出區;e)移除該突出區;以及f)移除該基質後,施用具有該花樣的層結構至一基底。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其特徵在於將該反射著色劑施用至該全部表面區域。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其特徵在於部分施用反射著色劑。
- 如申請專利範圍第1至3項任一項所述之方法,其特徵在於利用一轉移帶,將具有該花樣的層結構施用至該基底。
- 如申請專利範圍第1至4項任一項所述之方法,其特徵在於以正確的左至右關係於該步驟a)至該步驟c)所產生之層結構裁切出該花樣。
- 如申請專利範圍第4或5項所述之方法,其特徵在於在移除該突出區後,將該轉移帶施用至具有該花樣的層結構。
- 如申請專利範圍第1至4項任一項所述之方法,其特徵在於在該步驟a)至該步驟c)所產生之層結構裁切出該花樣之前,施用該轉移帶。
- 如申請專利範圍第7項所述之方法,其特徵在於該步驟a)至該步驟c)分別於一滾輪塗佈製程或一滾輪印刷製程中進行。
- 如申請專利範圍第7或8項所述之方法,其特徵在於在移除該基質後,以鏡像關係於該步驟a)至該步驟c)所產生之層結構裁切出該花樣。
- 如申請專利範圍前述任一項所述之方法,其特徵在於在施用該轉移黏著劑於該全部表面區域後,施用至少一中間層至該轉移黏著劑之全部表面區域。
- 如申請專利範圍前述任一項所述之方法,其特徵在於在該步驟b)中,將該轉移黏著劑施用至該全部表面區域係於一擠壓製程或一塗佈製程中進行。
- 如申請專利範圍前述任一項所述之方法,其特徵在於將該反射著色劑施用至由該反射著色劑所形成的反射區後,施用棉質條紋或非反射著色劑的非反射元件。
- 如申請專利範圍前述任一項所述之方法,其特徵在於該等反射粒子突出於硬化的該反射著色劑的表面。
- 一種織物品,特徵在於利用如申請專利範圍前述任一項 所述之方法所產生,其中一織物基底用做為該基底。
- 一種反射轉移膜,特徵在於係由以下步驟所產生:a)提供一撥黏基質;b)施用一轉移黏著劑至該基質的全部表面區域;c)施用一反射著色劑,其含有多個反射粒子;d)於該步驟a)至該步驟c)所產生之層結構,以正確的左至右關係裁切出一花樣,其中保留一突出區;以及e)移除該突出區。
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