TW200524997A - Near infrared absorptive adhesive composition and optical film - Google Patents

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200524997 (” 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於具近紅外線吸收性以吸收近紅外線的近 紅外線吸收性黏著劑組成物，以及使用此一組成物的光學 · 月旲’特別是適合用作設置於電發顯示幕（後文稱爲P D P ) · 的觀賞側作爲光學濾光片的光學膜。 【先前技術】 PDP的原理係施加電壓於封在一對薄片玻璃之間的稀 有氣體（例如氦、氖、氬或氙）並使從而形成的紫外線撞 擊發光體而發出可見光。 由p D P，不只可見光，連近紅外線或電磁波等有害光 線也會放出。舉例來說，近紅外線可能導致像家用電視、 空調或影帶平台等家電製品的近紅外線遙控裝置故障，或 通訊設備故障而對POS (銷售點）系統等資料傳輸造成負 面效應。因此，在PDP的前面（觀賞側）設置光學濾光片 以防止近紅外線等有害的光線，藉以降低85〇至U 〇〇奈 米的近紅外線穿透，例如，達至多2 0 %的程度。 至今爲止，已有人提出使用光學濾光片以遮蔽波長 8 5 0至1，1 〇 〇奈米的近紅外線。 關於此光學濾光片，舉例來說，有一種係將近紅外線 吸收性染料分散於透明樹脂中，並將彼施於例如聚對苯二 β 甲酸乙二酯（PET )的膜上而製備。 · 關於近紅外線吸收性染料，已經記載的包括例如二亞 -4 - 200524997 (2) 銨型、聚甲川型、金屬錯合物型、斯夸琳（squarynum ) 型、花青型及吲哚苯胺型之不同染料。 這些染料通常以其中之二或更多種組合使用以提供高 度近紅外線吸收性以吸收具廣泛波長範圍的近紅外線。 、 然而，以上提到的光學膜係經由黏著層黏合於玻璃片 等透明基材，以製備光學濾光片，藉以加工步驟增加了， 且生產效率不良。再者’難以使製得的光學濾光片變薄。 然而，已有人提出賦予黏著層近紅外線吸收性的方法 。舉例來說，JhA-2 00 1 -2 0 7 1 42揭示含紅外線吸收性染 料摻入丙烯酸系黏著劑的紅外線吸收薄片。 然而，如本發明者的硏究結果，已經發現二亞銨型染 料等近紅外線吸收性染料有在丙烯酸系黏著劑中，耐熱牢 度不良且可能會衰退的問題。此近紅外線吸收性染料的衰 退將使光學膜的光學特性衰退。 【發明內容〕 本發明有鑑於先前技藝的問題而進行。換言之，本發 明的目的在於提供耐熱牢度優異並進而可以簡單的架構製 備光:學濾、光片的近紅外線吸收性黏著劑組成物，並提供此 光學膜。 經深入硏究的結果，本發明已發現將近紅外線吸收性 染料ί爹入砂氧烷黏著劑中，可改良近紅外線吸收性染料的 、 耐熱牢度。再者，進一步硏究的結果，本發明已發現若使 * 用一亞鞍型染料作爲近紅外線吸收性染料，即使使用單一 -5- 200524997 (3) 型此類二变銨型染料，也可吸收廣大範圍的近紅外線。 本發明已經根據此發現爲基礎而完成，且本發明提供 包含在8 0 〇至1〗〇 〇奈米的範圍內有最大吸收波長的近紅 外線吸收性染料及矽氧烷黏著劑之近紅外線吸收性黏著劑 ， 組成物。 以上的近紅外線吸收性染料宜包含以下式（I )所示 的二亞銨型染料：

式中R]至Rs各自獨立地爲氫原子、可經取代的院基、可 經取代的烯基、可經取代的芳烷基或可經取代的快基，且 x'係陰離子。 再者’ &以上式（I)中’ R1至R8各自較佳地爲i 烷基。 再者’本發明提供包括含以上近紅外線吸收性黏著劑 組成物的紅外線吸收層之光學膜。 -6- 200524997 (4) 藉由本發明的近紅外線吸收性黏著劑組成物，可提供 耐熱牢度優異並具良好光學特性的光學膜，並進而以簡單 的架構製備光學濾光片。 現在，將詳細地說明本發明。 【實施方式】 近紅外線吸收性黏著劑組成物 本發明的近紅外線吸收性黏著劑組成物包.含近紅外線 吸收性染料和矽氧烷黏著劑。 矽氧烷黏著劑 在本發明中，與以上的近紅外線吸收性染料結合使用 的矽氧烷黏著劑並沒有特別的限定，且習知的矽氧院黏著 劑皆可使用。 矽氧烷黏著劑大體上可分成兩類，亦即，自由基反應 型和加成反應型。在本發明中，以使用加成型矽氧烷黏著 劑爲宜，因爲可藉以特別顯著地抑制近紅外線吸收性染料 的衰退。 自由基反應型係以過氧化本甲醯等有機過氧化物作爲 硬化劑者。硬化以兩步驟進行，例如，在8 〇它時預加熱加 上錯由以下反應式（A )所示的硬化反應在1 5 〇它時加熱5 分鐘：

SiCH2+SiCH； S i C Η 2 C Η 2 S i (A) 200524997 (5) 關於自由基型矽氧烷黏著劑，可藉由添加的有機過氧 化物調節黏著性質。 關於此自由基型砂氧院黏著劑，可使用例如「砂氧院 材料參考手冊」（T〇r ay Dwo Corning有限公司）中揭示 的。再者，如To ray Dwo Corning有限公司製造之註冊名 稱 SH42 8 0 、 SE4200 、 SD42 84 及 Q2-7 7 3 5 及 GE Toshiba Silicones製造之註冊名稱YR3286和YR3340等可購得的 市售產品。 加成型係係藉由一分子中含至少二烯基（較佳爲乙烯 基）的含烯基之有機聚矽氧烷與一分子中含至少二SiH基 團的有機氫聚砂氧院之間的氫砂院化反應製得者。使用鈾 或鉑化合物等加成反應觸媒。硬化以單一步驟發生，舉例 來說，經由以下反應式（B )所示的硬化反應： ^SiCH = CH2 + ^SiCH^~>-^-> =SiCH2CH2Si= ( B) 關於加成反應基型矽氧烷黏著劑，可藉由調整要用的 含烯基的有機聚矽氧烷和有機氫聚矽氧烷的量而調節黏著 性質。 與自由基反應型相比，加成反應基型矽氧烷黏著劑會 在低溫和短時間（例如1 〇 〇 t時3分鐘）的反應條件作用 之下硬化。因此，在後述光學膜的製備中，藉由該組成物 要基材上形成紅外線吸收層的例子中，可以具低耐熱牢度 材料作爲基材。再者，加成反應基型矽氧烷黏著劑具有硬 -8- 200524997 (6) 化時不會形成副產物’且耐熱牢度優異的優點。更甚者， 因爲在自由基型的例子中不會形成自由基，所以自由基不 會造成近紅外線吸收性染料的衰退。 關於此加成反應基型矽氧烷黏著劑，可使用，例如， JP-C-2734809、JP-A-10-1954 1 4 和 JPU001.158876 中揭 示者。再者，Toray Dwo Corning有限公司製造之註冊名 稱 SD4560 、 SD4570、 SD4580 禾 0 SD4590 及 Q £ Toshiba

Silicones 製造之註冊名稱 XR37-B43 99 和 XR37-B 5 3 8 9 之 可購得的市售產品。 在本發明中，爲何將近紅外線吸收性染料加入矽氧院 黏著劑可改良近紅外線吸收性染料的耐熱牢度的原因基本 上尙未明確地得知。在丙烯酸系黏著劑的例子中，構成該 黏著劑的聚合物含有許多交聯反應性基團（例如異氰基、 羥基、縮水甘油基或羧基），且此交聯型反應性基團與例 如交聯劑起反應時會硬化。此硬化反應係緩慢的，且即使 在近紅外線吸收層形成之後有時候仍然還會有交聯型反應 性基團。因此咸認爲在近紅外線吸收層內的近紅外線吸收 性染料會衰退，因而會使製得的光學膜的持久性，特別是 耐熱牢度，衰退。然而，關於該矽氧烷黏著劑，硬化反應 將在幾分鐘之內完成，從而咸認爲可抑制近紅外線吸收性 染料的衰退，並改良獲得的光學膜之耐熱牢度。 近紅外線吸收性染料 在本發明中，近紅外線吸收性染料並無特別限制，只 -9 - 200524997 (7) 要具有8 0 0至1，1 0 0奈米的最大吸收波長即可，並可使用 通常用於具紅外線吸收性的光學濾光片之近紅外線吸收性 染料。 在此，「具有8 Q 0至1，1 0 0奈米的最大吸收波長」表 示在測量染料的吸收光譜時，在8 0 0至1 1 〇 〇奈米的範圍 內有至少一吸收峰。 藉由以下的測量方法測量染料的吸收光譜畤，在顯示 吸收峰的波長（最大吸收波長（Xmax ))之處，要用於本 發明的紅外線吸收性染料以具有至少1 · 1 X 1 〇3的莫耳吸 收度（ε m )爲宜，更佳地至少2.0 X 1 〇4，特佳地至少5 . 〇 X 1 〇4。因此，可將藉由近紅外線吸收性黏著劑組成物形成 的近紅外線吸收層製成薄的。 %耳吸收度（ε m )的測量方法 利用熟仿稀釋染料使樣品濃度變成2 〇毫克/升而製得 樣品溶液。藉由分光光度計在3 0 0至l53〇〇奈米的範圍內 測量此樣品溶液的吸收光譜，並讀取該吸收光譜的最大吸 收波灰（λ m a x )，然後箱由以下的公式計算在最大的吸收 波長（xmax)之處的莫耳吸收度（εηι)。 e = -l〇g ( I/I〇 ) (ε :吸收度’ U :入射前的光強帛，！：入射後的光 強度） ε m = ε / ( c · d ) (ε m .吸收度，c :樣品灌磨：〔苗甘/ < u 口卩度l矣耳/升），d :容器長 - 10 - 200524997 (8) 度） 關於此近紅外線吸收性染料，可使用，例如，無機顏 料、有機顏料或有機染料等一般染料。 關於無機顏料可使用，例如，鈷色母、鐵色母、鉻色 母、鈦色母、釩色母、鉻色母、鉬色母、釕色母、鉑色母 、ITO色母或ΑΤΟ色母。 關於有機顏料或有機染料，可列舉，例如，二亞銨型 染料、蒽醌染料、銨染料、花青染料、部花青染料、克酮 (croconium )染料、斯夸琳染料、莫染料、聚甲川染料 、萘醌染料、萘內醯胺染料、偶氮染料、濃縮偶氮染料、 靛藍染料、紫環酮（peri none )染料、茈染料、二噁啶染 料、D奎吖啶酮染料、異吲哚酮（is〇ind〇ryn〇ne )染料、D奎 喏酞酮染料、吡咯染料、硫靛染料、金屬錯合物染料、二 硫醇金屬錯合物染料、吲哚酚染料或三烯丙基甲烷染料。 在本發明中，以二亞銨型染料用於以上提到的紅外線 吸收性染料當中爲宜，因爲可藉以得到良好的光學膜色彩 〇 二亞銨型染料係由以上式（I )所示的化合物。 在式（I )中，R1至R8各別的烷基可爲線性或分支的 ，且較佳地具有1至1 2個碳原子，更佳地4至8個碳原 子，特佳地4至6個碳原子。若碳原子至少爲4，在有機 溶劑中的溶解度將會是良好的，又若碳原子至多爲8，耐 熱牢度將會是良好的。此等烷基可爲，例如，甲基、乙基 、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁 -11 - 200524997 (9) 基、正戊基、第三戊基、正己基、正辛基或第三辛基。燒 基可含院氧鑛基、經基、磺基或殘基等取代其。 儲基可爲’例如’乙燒基、丙燒基、丁烯基、戊録基 、己烯基、庚烯基或辛烯基。此等烯基可含經基或殘其等 取代基。 芳烷基可爲，例如，苯甲基、對-氯苯甲基、對-甲基 本甲基、2 -本乙基、2 -本两基、3 -本丙基、莘甲基或2·苯 乙基。此等芳烷基的芳香環上可含羥基或羧基等取代基。 快基可爲’例如’丙快基、丁快基、2 -氯丁炔基、戊 炔基或己炔基。此等炔基可含羥基或羧基等取代基。 XM系陰離子，例如氯離子、溴離子、碘離子、過氯酸 根離子、過碘酸根離子、硝酸根離子、苯磺酸根離子、 對-甲苯磺酸根離子、甲基硫酸根離子、乙基硫酸根離子 、丙基硫酸根離子、四氟硼酸根離子、四甲基硼酸根離子 、六氟磷酸根離子、苯亞擴酸根離子、醋酸根離子、三氟^ 醋酸根離子、丙酸根離子、苯甲酸根離子、草酸根離子、 丁二酸根離子、丙二酸根離子、油酸根離子、硬脂酸根離 子、檸檬酸根離子、一氫二磷酸根離子、二氫一磷酸根離 子、五氯欽酸根離子、氯擴酸根離子、氟磺酸根離子、三 氟甲烷磺酸根離子、六氟砷酸根離子、六氟銻酸根離子、 鉬酸根離子、鎢酸根離子、鈦酸根離子、锆酸根離子、雙 (三氟甲烷磺醯基）亞胺酸根離子或萘磺酸根離子。 在這些陰離子當中，較佳爲，例如，過氯酸根離子、 碘離子、四氟硼酸根離子、六氟磷酸根離子、六氟銻酸根 -12 - 200524997 (10) 離子、三氟甲烷磺酸根離子或雙（三氟甲烷磺醯基）亞胺 酸根離子，特佳爲六氟銻酸根離子或雙（三氟甲烷磺醯基 )亞胺酸根離子，因爲其具優異的熱安定性° 在本發明中，特佳爲二亞銨型染料，所以藉由以上的 測量方法測量時，在1，0 0 0奈米附近的莫耳吸收度。可爲 約 0.8 X 1 0 4 至 1 . ο X 1 0 6。 再者，爲了抑制加工成光學膜期間的衰壞並在形成光 學膜之後賦予實際可行持久性，最好使用純度至少98%的 二亞銨型染料，或熔點至少2 1 0 °C的二亞銨型染料。特佳 爲使用純度至少9 8 %且熔點至少2 1 (TC的二亞銨型染料。 再者，由本發明者的硏究已經發現若以二亞銨型染料 摻入矽氧烷黏著劑中，二亞銨型染料傾向偏移至短波長側 ’當二亞銨型染料側鏈（對應至以上式（Ϊ )中R1至R8各 者的基團）的碳原子數目增加時，將會有一種效應使得只 有一種類型的二亞銨型染料可吸收廣範圍的近紅外線。因 此’將會有成本降低、製程縮短及防止不同類型染料之間 的相互作用而造成染料惡化的優點。 在丙烯酸系樹脂中使用二亞銨型染料的例子中並未見 到此吸收方面的偏移，並總是顯示在1，〇〇〇 .奈米附近，即 近紅外線範圍的上限附近有最大的吸收波長。因此，需要 進一步摻混可吸收8 5 0奈米附近的近紅外線之近紅外線吸 收性染料，而非二亞銨型染料。然而，藉由使用矽氧烷黏 著齊U ’最大的吸收波長將會向較短的波長側偏移，藉以僅 藉由二亞銨型染料就可吸收寬廣範圍內的近紅外線。 -13- 200524997 (11) 在本發明的近紅外線吸收性黏著劑組成物中’對每 1 0 0質量份的矽氧烷黏著劑而言’要摻入的近紅外線吸收 性染料用量，較佳爲〇 ·]至2 0質量份，更佳地0.5至1 0 質量份。若近紅外線吸收性染料的用量爲至少0.1質量份 ' ，就可獲得足夠的近紅外線吸收度。又若近紅外線吸收性 -染料的用量爲至多2 0質量份，那麼近紅外線吸收性染料 對於黏著強度持久性的不利效應就小。此用量宜考量要製 得的光學膜所需之近紅外線吸收度、要使用的紅外線吸收 劑的吸收度等等而定。 在本發明中，特佳爲近紅外線吸收性染料含如以上提 到的二亞銨型染料。二亞銨型染料在整個近紅外線吸收性 染料中的比例較佳爲5 0至1 0 0質量。/〇，更佳地8 0至1 0 0 質量％。特佳爲全部近紅外線吸收性染料皆爲二亞銨型染 料。 本發明的近紅外線吸收性黏著劑組成物可藉由將近紅 外線吸收性染料與將在後文中說明之其他視情況需要的成 分ί參入砂承/丨兀黏者劑中而製備。任何習知的摻混方法皆可 使用。最好使用矽氧烷黏著劑、近紅外線吸收性染料與其 他視情況需要的成分皆溶於或分散於可溶解或分散彼的溶 劑’例如將在後文中說明的有機溶劑，中而製得均勻組成 物的方法。特佳爲砂氧院黏著劑、近紅外線吸收性染料與 其他視情況需要的成分皆溶於或分散於可溶解或分散彼的· 溶劑中，然後餾除溶劑的方法。 、14- 200524997 (12) 其他視情況需要的成分 對於本發明的近紅外線吸收性黏著劑組成物，可摻入 介於不會損及本發明的效果的範圍內之，例如，最大的吸 收波長介於3 0 0至8 0 0奈米的色彩調節染料、整平劑、抗 靜電劑、熱安定劑、抗氧化劑、分散劑、耐燃劑、潤滑劑 、可塑劑或紫外線吸收劑。 光學膜 本發明的光學膜具有含近紅外線吸收性黏著劑組成物 的近紅外線吸收層。 更明確地說，該光學膜可爲，例如，一種具有形成於 使用時剝離的可離型基材上的近紅外線吸收層之物，或一 種具有形成於具可見光穿透率的透明基材（後文中也稱之 爲支撐膜）上的近紅外線吸收層，使該層與支撐膜合倂之 物。 通常都將此光學膜沈積於pD p等顯示器裝置的觀賞側 ，因此，較佳地具有無彩色。因此，因爲根據Π S z 8 7 0 1 -1 9 9 9計算的光源C對應於無彩色的色品座標爲（X，y ) =r ( 0.3 1 0 5 0.3 1 6 )，所以較佳地藉適‘地3¾擇染料的類型和含 量而將本發明的光學膜調整至具有（)=( 〇.3ίο 土 0.100,0.3]6 ± 0·]00)。 再者，最好將發光平均穿透率調整爲至少4 5 %。 特佳地同時符合以上色品座標（)的規定和發光 平均穿透率的規定。 -15- 200524997 (13) 在本發明的近紅外線吸收層中，例如，可在可離型的 基材或支撐膜上塗布含分散於或溶於有機溶劑之近紅外線 吸收性染料、矽氧烷黏著劑和以上提到之本發明其他視情 況需要的成分之液體（後文稱爲塗布液），接著乾燥而形 成。 以上的有機溶劑可爲，例如，甲苯或二甲苯等芳香族 型；N -甲基-2-吡啶酮、二甲基甲醯胺或二甲基乙醯胺等 醯胺型；甲乙酮、甲基異丁酮或丙酮等酮型；甲醇、乙醇 或異丙醇等醇型；己烷等烴型或四氫呋喃。這些有機溶劑 可視情況需要單獨使用或以適當混合的方式使用。 塗布液的塗布可藉由浸塗法、噴塗法、旋塗法、珠粒 塗布法、繞線棒式塗布法、刮刀塗布法、輥塗法、帘塗法 、狹模塗布法、凹槽塗布法、狹縫逆塗法、微凹槽塗布法 或刮刀式塗布法。 較佳地將本發明之近紅外線吸收層的厚度調整至介於 0.3至50.0微米的範圍。若該厚度至少〇 3微米，將可充 分地獲得近紅外線吸收度，若該厚度至多5 〇微米，可降 低成形時的有機溶劑滯留。由此觀點，厚度特佳爲調整至 0.5至30.0微米的範圍內。 可離型的基材可呈膜狀或呈板狀，且材料、厚度等等 並沒有特別的限定。爲了改良離型性，可使用，例如，砂 氧烷或具低表面張力的樹脂而對基材表面施加離型處理。 支撐膜的材料可適當地選擇以供使用，例如由聚對苯二甲 酸乙二酯（PET )或聚對苯二甲酸丁二酯（pbt )等聚酷 200524997 (14) ’聚乙嫌或聚丙烯等聚稀煙；聚丙烯酸醋；聚甲基丙備酸 甲酯（Ρ Μ Μ A )等聚甲基丙烯酸酯；聚碳酸酯（P c ) ，·聚 苯乙烯；三醋酸酯；聚乙烯醇；聚甲基氯；聚偏氯乙烯； 乙烯/醋酸乙烯酯共聚物；聚乙烯基丁醛；聚胺基甲酸酯 及玻璃紙，較佳爲P E、P C或Ρ Μ Μ A )。 支撐膜的厚度較佳爲介於1 0至5 0 0微米的範圍內， 使工作效率良好，並可將霧値抑制至低的程度。再者，最 好在形成近紅外線吸收層或後文將說明之在支撐膜上視情 況需要的層之前先對支撐膜施行電暈處理或促進黏結處理 〇 在可離型的基材或支撐膜上形成本發明的近紅外線吸 收層之後，·由工作效率的觀點來看最好進一步在近紅外線 吸收層上黏結離型膜。至於此離型膜，可使用與以上提到 之相同的可離型基材。 除了近紅外線吸收層以外，本發明的光學膜可含至少 一視情況需要的層。此功能性層可爲，例如，用以防止染 料由於紫外線而惡化的紫外線吸收層，藉以改良耐光牢度 ;用以改良影像可觀看性的抗反射層；用以遮蔽由PDP等 顯示器裝置發出之電磁波的電磁波遮蔽層；用以提供耐刮 功能的硬質塗層或具自動修復性的層；或用以防止最外層 表面積垢的抗積垢層，或用以層疊各別層的黏性或黏著層 〇 此功能性層，例如，可在可離型的基材上形成近紅外 線吸收層之前先設置於可離型的基材上，或可在可離型的 -17 - 200524997 (15) 基材上形成近紅外線吸收層之後再設置於近紅外線吸收層 上，或可藉由剝離形成於近紅外線吸收層上的可離型的基 材，暴露出近紅外線吸收層，而設置於近紅外線吸收層上 ◦否則，可在支撐膜上形成近紅外線吸收層之前，先在支 撐膜上形成功能性層。再者，可賦予支撐膜本身如同功能 性層的功能。 本發明的光學膜可，例如，藉由剝除離型膜，使近紅 外線吸收層黏至具高剛性的透明基材（後文稱之爲透明基 材）而使用。透明基材的材料可適當地選自玻璃和透明且 高剛性聚合物材料以供使用。透明基材的材料較佳爲玻璃 、強化或半強化玻璃、聚碳酸酯或聚丙烯酸酯。 若將含黏在透明基材上的光學膜之物用作光學濾光片 ，就可提供如P D P等顯示器裝置的保護板之功能。 本發明的光學膜，或含黏在透明基材上的光學膜之物 可作爲如PDP之平板顯示器裝置、電漿編址液晶（PaLC )顯示幕或場發射顯示幕（FED )等顯示器裝置的光學濾 光片，或陰極射線管顯示器裝置（CRT )。 在此例中’光學膜可設置於顯示器裝置的觀賞側，可 配置使光學膜與顯示器裝置之間有一段距離或可直接地將 光學膜黏在顯示器裝置的表面上。 本發明的光學膜具優異的耐熱牢度，並具良好的光學 特性’還可以簡單的結構製成光學濾光片。因此，特別有 用於，例如，會產生近紅外線的P D P所需之光學濾光片。 現在’本發明將更詳細地對照實施例加以說明。然而 - 18- 200524997 (16) ，要瞭解本發明並不受此等實施例所限制。實施例1至7 係本發明的實施例，而實施例8至1 2係比較實施例。 實施例1 - 將100重量份的加成反應型矽氧烷黏著劑（「SD45 7 0 」，註冊名稱，由To ray Dwo Corning有限公司製造）、 〇 · 9重量份的硬化劑（「S R S 2 1 2」，註冊名稱，由 T o r a y Dwo Corning有限公司製造）及100重量份的甲乙酮混合 φ 並調整使固含量爲3 0質量％，而製得鹼溶液。將此鹼溶液 的樹脂含量爲基準，1 .0質量％的二亞銨型染料（ Ν5Ν;Ν，5Ν，-肆（對-二乙胺基苯基）-對·苯二胺六氟銻酸亞 銨鹽；.「NIR-IM2C2」，註冊名稱，由 Nagase Chemitex 股份有限公司製造，Xmax: 1，0 5 9奈米’ 8·36 x 1〇4) 加入鹼溶液中，製得含經溶解的上述成分之塗布液。藉由 棒塗機將此塗布液塗在厚度]0 0微米的聚對本一甲酸乙一 酯（「a4ioo」，註冊名稱，由T〇y〇b〇股份有限公司製造 馨 )上，使乾燥塗膜的厚度爲2 5微米，並在】2 0 C乾媒5分 鐘，然後黏至氟型隔離層（「SS-4」，註冊名稱，由 N i p p a股份有限公司製造）而製得光學0旲。 實施例2 以實施例1之相同方法製得光學膜’但是使用1 · 0質 量％的n;n5n，，n，_肆（對-二丁胺基苯基）_對-苯二胺六氟 銻酸亞銨鹽；「NIR-IM2C4」，註冊名柄、’由Nagase -19- 200524997 (17)

Chemitex股份有限公司製造，Xniax : 1,0 7 4奈米，: 9.2 7 X ] 04 )代替實施例1中使用的二亞銨型染料。 實施例3 以實施例〗之相同方法製得光學膜，但是使用1 . 〇質 量％的N，N，N’，N’-肆（對-二戊胺基苯基）-對-苯二胺六氟 銻酸亞銨鹽；「NIR-IM2C5」，註冊名稱，由 Nagase C h e m i t e X股份有限公司製造，λ m a x : 1，0 7 9奈米，ε m : 8.92 x 1 Ο4 )代替實施例1中使用的二亞銨型染料。 實施例4 以實施例1之相同方法製得光學膜，但是使用1 . 〇質 量％的N，N5N’，N’-肆（對-二己胺基苯基）-對-苯二胺六氟 銻酸亞銨鹽；「NIR-IM2C6」，註冊名稱，由 Nagase C h e m i t e X股份有限公司製造，λ m a χ : 1，0 7 8奈米，ε m : 9 . Ο Ο x 1 Ο4 )代替實施例]中使用的二亞銨型染料。 實施例5 以實施例1之相同方法製得光學膜，但是使用1 . 〇質 量％的N;N，N’；N’-肆（對-二辛胺基苯基）-對-苯二胺六氟 銻酸亞銨鹽；「NIR-IM2C8」，註冊名稱，由 Nagase C h e m i t e X股份有限公司製造，λ m a >； : 1，0 8 0奈米，8111: 8 . Ο 8 x ] Ο4 )代替實施例1中使用的二亞銨型染料。 -20> 200524997 (18) 實施例6 以實施 量％的 N，N 雙（三氟甲 冊名稱’由 奈米 5 S m . 染料。 實施例7 以抗反 Asa hi Glass 材，並在該 染料黏著層 明玻璃而製 實施例8 以實施 例1中使用 黏著劑（^ 有限公司製 」，註冊名 造）及33 ! 之鹼溶液。 例1之相同方法製得光學膜，但是使用].〇質 ，N ’，N ’ -肆（對-二丁胺基苯基）_對·苯二胺雙（ 院擴基）亞胺酸）亞銨鹽；「CIR_ 1 0 8 5」，註 Japan Carlit股份有限公司製造，ι，〇79 1 . 0 2 X 1 0 5 )代替實施例1中使用的二亞銨型 射膜（「Arctop URP2 1 99」，註冊名稱，由 有限公司製造）代替實施例1中使用的透明基 抗反射層的相對側形成以實施例1中製備的含 。之後，剝除隔離層’接著黏至2.5毫米的透 得光學濾光片。 例1之相同方法製得光學濾光片’但是將實施 的鹼溶液改成藉由混合1 0 0質量份的丙烯酸系 DX2-PDP-9」，註冊名稱’由 Nippon Shokubai 造）、0·5質量份的硬化劑（「Coronate L-55 稱，由Nippon P〇】yurethane產業有限公司製 賛量份甲乙酮並調整使固含量爲30質量％製得

-21 - 200524997 (19) 實施例9 以實施例2之相同方法製得光學膜，但是將實施例2 中使用的鹼溶液改成實施例8中使用的驗溶液。 實施例1 〇 以實施例3之相同方法製得光學膜，但是將實施例3 中使用的鹼溶液改成實施例8中使用的鹼溶液。 實施例1 1 以實施例4之相同方法製得光學膜，但是將實施例4 中使用的鹼溶液改成實施例8中使用的鹼溶液。 實施例1 2 以實施例5之相同方法製得光學膜，但是將實施例5 中使用的鹼溶液改成實施例8中使用的鹼溶液。 試驗實施例1 藉由以下的方法評估實施例丨至i 2中製得的光學膜 之光學性質（發光平均穿透率、色品、近紅外線穿透率） 及持久性（耐熱牢度、耐光牢度）。 光學性質 · 使用；7t δ普彳我（U V - 3 1 0 0 ’由S h i m a d z u有限公司製造） ^ ’在3 8 0至]:3 0 〇奈米的範圍內測量由各樣品切成的 -22- 200524997 (20) 20x20毫米試片之光譜。 根據：TIS Z8701-1999，計算在可見光區（ 380至780 奈米）的權重平均穿透率（發光平均穿透率 Tv )及色品 座標（X，y )。 再者，分別地以T 8 5 0、T900、T.9 5 0和T 1 0 0 0代表近 紅外線區中各別波長（8 5 0奈米、9 0 0奈米、9 5 0奈米和 1，〇 0 0奈米）的近紅外線穿透率。 耐熱牢度 使用定溫容器（由 Tokyo Rikakikai有限公司製造） ，在80°C的溫度時進行試驗1，000小時，以各樣品各別的 Tv、X $口 y値與試驗之前的測量値相比較。若試驗之前與 之後的變化全都小於3 %評爲〇，若有任一者爲至少3。且 小於5%評爲△，又若任一者爲至少5%評爲X。

-23- 200524997 (21) 表1

光學性質 耐熱牢 度 發光平均穿透率 (%) 色品 近紅外線穿透率(％) Tv X y T850 T900 丁 950 T1000 實施例1 71.5 0.314 0.322 11.0 5.9 4.2 3.7 〇 實施例2 70.3 0.314 0.321 9.5 5.1 3.7 3.4 〇 實施例3 67.9 0.315 0.323 8.7 5.4 4.6 5.0 〇 實施例4 68.2 0.317 0.325 L3 0.7 0.6 0.9 〇 實施例5 69.0 0.314 0.321 0.4 0.2 1.1 3.3 Δ 實施例6 71.1 0.314 0.321 10.1 6.2 3.9 3.6 〇 實施例7 73.0 0.315 0.323 12.0 6.2 4.5 4.2 〇 實施例8 84.1 0.315 0.325 26.3 11.7 7.6 7.4 X 實施例9 84.1 0.315 0.323 28.5 11.3 5.8 5.5 ------ X 實施例10 85.2 0.314 0.323 21.5 14.1 7.7 7·3 X 實施例]1 85.6 0.317 0.329 36.6 17.5 10.3 9.9 X 實施例12 85.9 0.318 0.330 36.0 16.9 9.8 —----—. _ 9.6 ---— X

如表1所示，實施例1至7 (本發明的實施例）之各 光學膜皆顯示低近紅外線穿透率並具良好的光學性質。胃 明確地觀察，發現側鏈使用含2、4、5、6和8個碳原7 的二亞銨型染料之實施例]至5的光學膜之近紅外線$ % -24- 200524997 (22) 率正比於側鏈的碳數而降低，在8 5 0奈米附近特別地顯著 ，尤其是側鏈碳數介於2至8之實施例2至5的光學膜皆 顯示在該四波長時具至多1 〇 %的近紅外線穿透率。再者， 關於實施例1至7的耐熱牢度，使用側鏈含8個碳原子的 二亞銨型染料之實施例5的光學膜有點不良，但其餘的都 良好。根據外觀，實施例3的光學膜之色彩最佳。 然而，以貫施例1至5的一亞錢型染料加入丙綠酸系 黏著劑之實施例8至1 2之各光學膜的耐熱牢度皆不良。 再者，不論側鏈碳數爲何，近紅外線穿透率，尤其是在 8 5 0奈米的近紅外線穿透率都高。 2003年，八月13日提出申請之曰本專利申§靑案第 2003-292978號的全部揭示內容，包括說明書、申§靑亩利 範圍和總結’係以其全文倂入本文以供參考。

-25-

Claims (1)

1. 200524997 (1) 十、申請專利範圍 1. 一種近紅外線吸收性黏著劑組成物，其包含在800 至1 1 0 0奈米的範圍內具有最大吸收波長的近紅外線吸收 性染料，及矽氧烷黏著劑。 2 .如申請專利範圍第1項之近紅外線吸收性黏著劑 組成物，其中該矽氧烷黏著劑係加成反應基型矽氧烷黏著 劑。 3 .如申請專利範圍第1項之近紅外線吸收性黏著劑 組成物，其中該近紅外線吸收性染料包含以下式（I )所 示的二亞銨型染料：

   式中至R8 經取代的烯基 X係陰離子。 各自獨立地爲氫原子、可經取代的院基 、可經取代的芳院基或可經取代的炔基 4*如申請專利範圍第 項之近紅外線吸收性黏著劑 -26- 200524997 (2) 組成物，其中在式（！）中，R]至R8各自爲C4_8烷基。 5 ·如申ρβ專利車G圍弟 2項之近紅外線吸收性黏著劑 組成物，其中該近紅外線吸收性染料包含以下式（I )所 示的二亞銨型染料：

   式中R】至R8各自獨立地爲氫原子、可經取代的烷基、可 經取代的烯基、可經取代的芳烷基或可經取代的炔基，且 x Μ系陰離子。 6 .如申請專利範圍第5項之近紅外線吸收性黏著劑 組成物，其中在式（I)中，R】至R8各自爲C4 8院基。 7 . 一種光學膜，其具有含申專利範圍第1項之近紅 #線吸收性黏著劑組成物的近紅外線吸收層。 8 · —種光學膜，其具有含申專利範圍第2項之近紅 外線吸收性黏著劑組成物的近紅外線吸收層。 9 . 一種光學膜，其具有含申專利範圍第3項之近紅 - 27- 200524997 (3) 外線吸收性黏著劑組成物的近紅外線吸收層。 1 0 . —種光學膜，其具有含申專利範圍第4項之近紅 外線吸收性黏著劑組成物的近紅外線吸收層。 11. 一種光學膜，其具有含申專利範圍第5項之近紅 -外線吸收性黏著劑組成物的近紅外線吸收層。 1 2 . —種光學膜，其具有含申專利範圍第6項之近紅 外線吸收性黏著劑組成物的近紅外線吸收層。

   -28- 200524997 七 無 明 說 單 簡 號 為符 圖件 表元 代之 定圖 指表 :案代 圖本本 表、、 代/^ 定一二 匕日 無 八 學 化 的 徵 特 明 發 示 顯 能 最 示 揭 請 時 式 學 化 有 若 案： 本式 R2· Λ7ΛΝ/Α7ν

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