RU2718087C1 - Слоистый уф-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле - Google Patents
Слоистый уф-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле Download PDFInfo
- Publication number
- RU2718087C1 RU2718087C1 RU2019119172A RU2019119172A RU2718087C1 RU 2718087 C1 RU2718087 C1 RU 2718087C1 RU 2019119172 A RU2019119172 A RU 2019119172A RU 2019119172 A RU2019119172 A RU 2019119172A RU 2718087 C1 RU2718087 C1 RU 2718087C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- glass
- layer
- polymer matrix
- blocking
- electrochromic
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 185
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 167
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 161
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 109
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 105
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 56
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 51
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 32
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 25
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 20
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 15
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 15
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 15
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims description 14
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 14
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229940032158 sodium silicate Drugs 0.000 claims description 14
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 claims description 14
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 13
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 13
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 12
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 12
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 claims description 12
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 claims description 12
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 12
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 claims description 11
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 10
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- KXEOSTAFIDYVEF-UHFFFAOYSA-N [Si](O)(O)(O)O.[F] Chemical compound [Si](O)(O)(O)O.[F] KXEOSTAFIDYVEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 9
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 claims description 9
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910007717 ZnSnO Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 claims description 6
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Chemical class CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical class CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 6
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 4
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 claims 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 abstract description 32
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 32
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 31
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 22
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 15
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 286
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 24
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 8
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 8
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 5
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 5
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 241000124033 Salix Species 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 4
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 4
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000000641 cold extrusion Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 230000035613 defoliation Effects 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000004587 polysulfide sealant Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 229940104869 fluorosilicate Drugs 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 230000004060 metabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 2
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 description 2
- SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N radon atom Chemical compound [Rn] SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LERMQUULPSCGHK-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OCCCC.C(C)(=O)OCCCC.[Sn] Chemical compound C(C)(=O)OCCCC.C(C)(=O)OCCCC.[Sn] LERMQUULPSCGHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000019155 Radiation injury Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPNMHHNXCILFEF-UHFFFAOYSA-N [F].[Sn]=O Chemical compound [F].[Sn]=O NPNMHHNXCILFEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIEKGJMFQVAGJK-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Zn+2].[Ge+2].[O-2] Chemical compound [O-2].[Zn+2].[Ge+2].[O-2] GIEKGJMFQVAGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 230000001684 chronic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005274 electronic transitions Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 230000004941 influx Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000000979 retarding effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000004984 smart glass Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007614 solvation Methods 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000008080 stochastic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области слоистых изделий и материалов со слоями, один из которых выполнен из стекла, являющегося основой его, а другой, расположенный рядом с ним, выполнен целиком из специфицированного материала, а именно к слоистым материалам на стекле для размещения на них электрохромных модулей, блокирующих поступление к электрохромному модулю ультрафиолетового (УФ) излучения. Сущность изобретения заключается в том, что предлагаются слоистое изделие со стеклянной основой для размещения на ней электрохромного модуля. На стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев определенных материалов соответствующей толщины и в соответствующем порядке от поверхности стеклянной основы. При этом материалы и состав индивидуальных слоев, их толщины и порядок следования спроектированы таким образом, чтобы конечное изделие обладало набором требуемых спектрофотометрических качеств с точки зрения уровня пропускания УФ-излучения и поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, наряду со стабильностью уровня спектрального уширения в центральном видимом диапазоне длин волн и низким уровнем оптической мутности, допуская при этом возможность совместного использования с электрохромными модулями с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений. Технический результат изобретения направлен на реализацию слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, пригодного для использования совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений и обладающего совокупно низкими уровнями пропускания УФ-излучения и поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, наряду с высокой стабильностью уровня спектрального уширения в центральном видимом диапазоне длин волн и низким уровнем оптической мутности. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 8 ил., 2 табл.
Description
Настоящее изобретение относится к области слоистых изделий и материалов со слоями, один из которых выполнен из стекла, являющегося основной его, а другой, расположенный рядом с ним, выполнен целиком из специфицированного материала, а именно к слоистым материалам на стекле для размещения на них электрохромных модулей, блокирующих поступление к электрохромному модулю ультрафиолетового (УФ) излучения.
Известны слоистые материалы и пленки, в т.ч. на стеклянной основе, для блокирования поступления сквозь них УФ-излучения. Данные материалы, представленные, например, в патентах РФ №2195468, №2222560, №2190536, №2471838, №2453563, №2596041, №2429189, и №2494875, могут быть использованы для защиты от неблагоприятных климатических условий, а именно - от избыточного потока пагубного ультрафиолетового излучения в составе солнечного света - растений и живых организмов, полимерных материалов, в т.ч. декоративного и энергоэффективного назначения, могут применяться для предохранения от выцветания красок и предметов интерьера, а также для защиты от выгорания дисплейных решений и, как в случае патента РФ №2523814 проекционных автомобильных стекол для отображения показаний приборов на лобовом стекле (HUD; head-up display).
Одним из перспективных направлений применения таких решений по блокированию поступления УФ-излучения является защита от пагубного воздействия ультрафиолета устройств на основе электрохромных модулей. Электрохромные модули обладают меняющейся величиной интенсивности пропускания электромагнитного излучения различного диапазона длин волн, включающего видимую часть спектра, в зависимости от величины и полярности прикладываемого к ним напряжения. Устройства на основе электрохромных модулей могут быть использованы в широком спектре различных применений, в частности в качестве светофильтров, дисплеев, неслепящих зеркал заднего вида для транспорта и пр.
Особый интерес представляет возможность использования устройств на основе электрохромных модулей в составе светопрозрачных конструкций для архитектурных и транспортных применений (как интерьерных, так и экстерьерных). Т.н. «умные» окна с интегрированными в них электроактивными устройствами на основе электрохромных модулей могут быть настроены пользователем через юстировку величины и/или полярности прикладываемого напряжения на пропускание той части приходящего солнечного излучения, при которой будет достигаться оптимальный уровень комфорта использования помещения. Аналогично, интерьерные решения с электрохромными модулями могут переводиться из светопропускающего состояния в состояние максимально непрозрачной перегородки по желанию пользователя. Специфика условий монтажа и эксплуатации накладывает на электрохромные модули, использующиеся в архитектурных и транспортных применениях, особые требования к стабильности проявляемых спектрофотометрических свойств, а также качеств хромирования в ходе многочисленных циклов переключения между крайними - т.н. контрастными -величинами достигаемого светопропускания в условно окрашенном и условно прозрачном состояниях. Электрохромные модули, используемые в составе светопрозрачных конструкций для строительных применений и в транспортных средствах, должны быть достаточно стабильны, чтобы выдерживать от нескольких тысяч до десятков тысяч переключений между крайними положениями контраста без потери величины контраста хромирования. Кроме того, временная стабильность оптических качеств таких электрохромных модулей должна характеризоваться отсутствием ухудшения их визуально наблюдаемых свойств как в обесцвеченном, так и в окрашенном состояниях по результату как минимум 5000 часов воздействия потока электромагнитного излучения в диапазоне от 300 нм до 900 нм общей мощностью 6500 Вт в температурном диапазоне от 40°С до 95°С и в диапазоне влажности окружающей среды от 5% до 95% (согласно стандартам ГОСТ Р 56773; ASTM Е2141-14).
Известно, однако, что электрохимически-активные компоненты электрохромных модулей имеют тенденцию портиться, с точки зрения изменения их оптических свойств, уровня мутности по отношению к проходящему видимому свету и эффективности интеркаляции при окрашивании, в ходе продолжительного воздействия электромагнитного излучения ультрафиолетового диапазона длин волн, в т.ч. граничащей с видимым диапазоном области спектра. В результате, для обеспечения вышеописанного требуемого уровня стабильности электрохромных модулей, используемых в составе светопрозрачных конструкций для строительных применений и в транспортных средствах в открытых солнцу экспозициях, требуется применение дополнительных, блокирующих поступление к электрохромным модулям УФ-излучения способов защиты, способствующих повышению временной и циклической долговечности электрохромных модулей.
Термин «электрохромный модуль» в последующем описании и формуле изобретения относятся к непосредственно законченному изделию, обладающему способностью проявлять электрохромизм через изменение интенсивности, цвета, фазы, поляризации, оптических функций и/или направления света, в ходе приложения к его элементам электрического напряжения. В свою очередь, термин «электрохромное устройство» в последующем описании и формуле изобретения относятся к составному устройству, включающему как сам электрохромный модуль - один или несколько - как элемент своей конструкции, проявляющий непосредственно электрохромные функции, так и все вспомогательные узлы, требующиеся для обеспечения функционирования устройства в рамках конкретного возможного применения - архитектурно-остеклительного, автомобильного, дисплейного и прочих возможных. К таковым относятся, например, токовводы для обеспечения приложения внешнего напряжения к электрохромным модулям устройства, конструкционные элементы, служащие для монтажа устройства, например, структурные рамы, рамная фурнитура, демпферы, направляющие и т.п.
Вышеупомянутые средства защиты электрохромных модулей от поступления к ним УФ-излучения описаны, например, в патентах США №6372159, №6122093, №8599467, №6433913 и №8115984, а также в патентах РФ №2569913, №2531063, №2224275.
Применение описываемых в приведенных патентах средств защиты электрохромных модулей от УФ-излучения имеет, однако, ряд существенных недостатков, ограничивающих эксплуатационные характеристики устройств на основе защищенных электрохромных модулей. Уровень поглощения электромагнитного излучения видимого диапазона длин волн на блокирующем УФ-излучение материале или УФ-стабилизаторе, вводимых в состав электрохромного модуля, либо входящих в состав конструкционного элемента электрохромного устройства, непосредственно либо опосредованно контактирующего с электрохромным модулем устройства, согласно приведенным патентам, слишком велик, в результате чего также велико искажение, вносимое в величину уровня контраста защищаемого электрохромного модуля. Это приводит, в свою очередь, к занижению максимального достижимого уровня светопропускания защищаемого от пагубного воздействия УФ-излучения электрохромного модуля в обесцвеченном состоянии. Кроме того, падение уровня спектрального уширения электрохромного устройства, защита электрохромного модуля которого осуществляется введением в состав непосредственно электрохромного модуля, либо в состав конструкционного элемента электрохромного устройства, непосредственно либо опосредованно контактирующего с электрохромным модулем устройства, блокирующего УФ-излучение материала или УФ-стабилизатора, согласно приведенным патентам, по стороне области коротких длин волн видимого диапазона спектра электромагнитного излучения приводит к искажению оттенка внешнего отражения электрохромного устройства, а также его оттенка при наблюдении проходящего света, выражающемуся в их смещении в красный диапазон цветовой палитры. Последнее приводит к проявлению эффекта фильтра по отношению к проходящему и внешне-отраженному излучению, что отрицательно сказывается на применимости защищаемого электрохромного модуля с точки зрения оптимизации средств эстетической выразительности при использовании устройств на основе подобных модулей при разработке дизайна архитектурных проектов и транспортных средств. Кроме того, это снижает комфортность использования экстерьерных светопрозрачных конструкций с такими защищенными электрохромными модулями при обеспечении интерьеров только внешним солнечным светом в течение светового дня - т.е. когда использование электрохромных модулей в ходе приведения их в окрашенное состояние наиболее эффективно и желательно. Наконец, описываемые в приведенных патентах решения характеризуются сравнительно высоким уровнем мутности электрохромных устройств на их основе, что также нежелательно для элементов светопрозрачных строительных и транспортных конструкций.
Таким образом, в настоящее время имеется потребность в изделии, представляющем из себя слоистый УФ-блокирующий материал на стекле, пригодный для использования совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, обладающим совокупно: достаточно высоким уровнем блокирования УФ-излучения для обеспечения удовлетворительной временной и циклической функциональной стабильности электрохромного модуля при солнечной экспозиции с точки зрения количества выдерживаемых циклов переключения, составляющего не менее 50000 циклов переключения между крайними положениями контраста электрохромного модуля, а также отсутствия ухудшения визуально наблюдаемых свойств электрохромного устройства на основе такого электрохромного модуля как в обесцвеченном, так и в окрашенном состояниях последнего по результату как минимум 5000 часов воздействия потока электромагнитного излучения в диапазоне от 300 нм до 900 нм общей мощностью 6500 Вт в температурном диапазоне от 40°С до 95°С и в диапазоне влажности окружающей среды от 5% до 95% (согласно стандартам ГОСТ Р 56773; ASTM Е2141-14); низким уровнем поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, обеспечивающим искажение, вносимое в величину контраста электрохромного модуля, на уровне не выше чем 1 абс. % контраста; достаточно стабильным для сохранения собственного оттенка электрохромного модуля как в окрашенном, так и в обесцвеченном состояниях уровнем спектрального уширения в видимом диапазоне длин волн электромагнитного излучения, а также в граничных с ним областях ультрафиолетового и инфракрасного диапазонов; а также максимально низким уровнем мутности.
Наиболее близким к заявляемому решению по совокупности признаков является патент РФ №2523814, в котором описывается слоистый материал, включающий межслойную пленку и замедляющий элемент, помещенный между адгезивными слоями. При этом, пленка многослойного стекла содержит термопластичную смолу и поглотитель ультрафиолета. При этом, поглотителем ультрафиолета является соединение бензотриазола или соединение бензофенона и, по меньшей мере, одно соединение, выбранное из группы, состоящей из соединения малонового сложного эфира, соединения оксанилида и соединения триазина. При этом, суммарное содержание соединения малонового сложного эфира, соединения оксанилида и соединения триазина составляет не менее 0,8 части по массе, а суммарное содержание соединения бензотриазола или соединения бензофенона составляет не менее 0,8 части по массе в расчете на 100 частей по массе термопластичной смолы. При этом, адгезивный слой содержит адгезив, имеющий температуру стеклования, равную -20°С или ниже. Описываемый слоистый материал, как отмечается заявителем в патенте, может быть использован для изготовления HUD дисплея, который не портится даже при воздействии света, а также обладает повышенной ударопрочностью, и, как следствие, предлагаемый слоистый материал, может быть использован в качестве УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле.
Данное изделие, однако, не обладает достаточно высоким уровнем блокирования УФ-излучения для обеспечения удовлетворительной временной и циклической функциональной стабильности электрохромного модуля при его солнечной экспозиции, а также характеризуется крайне высоким уровнем мутности, что является ограничением его применимости. Это подтверждается как следствие приведенных в патенте примеров реализации, согласно которым описываемый слоистый материал обладает уровнем блокирования УФ-излучения, косвенно характеризующимся степенью изменения величины замедления не менее 3% при ассоциированном уровне мутности не менее 30% и степенью изменения величины замедления, превышающей 8%, при ассоциированном уровне мутности не менее 20%. Это не позволяет использовать данное изделие совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений.
Технический результат настоящего изобретения направлен на обеспечение следующей совокупности характеристик слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, пригодного для использования совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений: низкого уровня пропускания УФ-излучения, характеризующегося величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета Tuv, не превышающей 40%; низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%; стабильного уровня спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующегося максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔТ, не превышающим 0,18 долей; а также низкого уровня мутности, не превышающего 0,02 долей.
Достижение технического результата согласно настоящему изобретению обеспечивается тем, что предлагается слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле, содержащий стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, и электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, причем электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, In2O3, SnO2 и CdO, тройные соединения с Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.
В частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем содержание указанного фотоинициатора составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
В другом частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов, причем содержание указанного пластификатора составляет от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
Кроме того, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем содержание указанного расвторителя составляет от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
В еще одном варианте достижения технического результата согласно настоящему изобретению предлагается слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле содержащий стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, оптически прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения и непосредственно электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя; причем в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения используется материал из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, InO3, SnO2 и CdO, тройные соединения с Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, толщина оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышает 28 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.
Помимо этого, в частности, оптически-прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения может представлять собой два индивидуальных слоя-инкапсулятора, каждый из которых состоит из материала группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом оптически-прозрачная подложка расположена таким образом, что один из слоев-инкапсуляторов непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала, а второй слой-инкапсулятор непосредственно контактирует с электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, при этом слои-инкапсуляторы разделены между собой разделяющим газовым промежутком, выполняющим роль слоя-теплоизолятора, причем разделяющий газовый промежуток, выполняющий роль слоя-теплоизолятора, заполнен газом из группы: стабильных изотопов благородных инертных газов, а именно - Не, Ne, Ar, Хе, Kr; а также атмосферным воздухом, при этом толщины слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышают 10 мм, а толщина разделяющего газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, составляет не менее 2 мм.
Кроме того, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем содержание указанного фотоинициатора составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
В другом частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов, причем содержание указанного пластификатора составляет от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
Наконец, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем содержание указанного расвторителя составляет от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
Использование в настоящем изобретении стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля обусловлено обеспечиваемым, таким образом, принципиальным выполнением соответствия эксплуатационным требованиям по отношению к итоговым сборкам электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, пригодных для изготовления конструкционных элементов светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, а именно, в условиях, когда предполагается воздействие на устройство избыточных ветровых нагрузок в ряде экстерьерных архитектурных и транспортных применений в составе сборок светопрозрачных конструкций; а также, с точки зрения достаточной твердости, как характеристики устойчивости к царапанью, имеющей большое значение, например, с точки зрения устойчивости сборок светопрозрачных конструкций с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле по отношению к эродирующему воздействию мелкодисперсных взвесей твердых частиц - например, песка - в воздухе, также имеющему место в определенных частных случаях потенциальных экстерьерных архитектурных и транспортных применений. В случае использования стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля согласно настоящему изобретению, обеспечивается возможность достижения значений предела прочности на сжатие итоговой сборки слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, а также размещенного на ней электрохромного модуля от порядка 1000 МПа до порядка 8000 МПа, а также значений твердости поверхности такой сборки со стороны стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля обратной той, на которой размещается электрохромный модуль и располагается многослойная последовательность индивидуальных слоев многослойного УФ-блокирующего материала, составляющих порядка 5-8 единиц по шкале Мооса, в зависимости от конкретного типа используемого в качестве стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля стекла.
При этом, поверх стеклянной основы располагается непосредственно УФ-блокирующий слой, обеспечивающий снижение уровня пропускания УФ-излучения при прохождении электромагнитного излучения сквозь многослойную структуру описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле согласно техническому результату настоящего изобретения. Причем данный УФ-блокирующий слой состоит из полимерной матрицы и непосредственно поглотителя ультрафиолета.
Полимерная матрица выполняет роль основы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле и состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата. Использование сшитых полимеров из данной группы обеспечивает, за счет непосредственно эффекта сшивки, высокую степень механической стабильности непосредственно самого УФ-блокирующего слоя по отношению к растягивающим напряжениям, наряду с высокой адгезией между УФ-блокирующим слоем и соприлегающими к нему слоями многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле: стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля, а также электропроводящего слоя токовведения - как непосредственно, так и размещенного на оптически прозрачной подложке, согласно варианту реализации настоящего изобретения, описываемому ниже. Наряду с этим, УФ-блокирующий слой многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, в качестве основы которого используются полимерные матрицы из указанных веществ, характеризуется высокой прозрачностью в видимом диапазоне наряду со значениями величин оптических функций, при которых, для толщин УФ-блокирующего слоя лежащих в диапазоне допустимых значений, определенном и объясненном ниже, будет обеспечиваться протекание интерференционных процессов при прохождении сквозь многослойную структуру слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле электромагнитного излучения от внешних источников, способствующих возможности достижения заявленного в настоящем изобретении технического результата с точки зрения величины уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, а также стабильного уровня спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм.
В свою очередь, поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов. Данные вещества характеризуются большими значениями коэффициента экстинкции k, и, как следствие, высоким поглощением в диапазоне длин волн от 290 до 370 нм. Как было эмпирически выявлено, использование в качестве поглотителей ультрафиолета веществ указанной группы в концентрациях, по отношению к выступающей в качестве основы УФ-блокирующего слоя выше описанной полимерной матрицы, согласно диапазону, указанному и объясненному ниже, позволяет одновременно добиться низкого уровня пропускания УФ-излучения, а также низкого уровня мутности слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, согласно техническому результату настоящего изобретения, наряду с сохранением возможности обеспечения требуемого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, а также стабильного уровня спектрального уширения в диапазоне длин волн от 400 нм до 750 нм, в случае одновременного поддержания толщин УФ-блокирующего слоя в диапазоне допустимых значений, определенном и объясненном ниже.
При этом содержание поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое должно поддерживаться в диапазоне от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Указанный предел по нижней границе диапазона допустимых концентраций содержания поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое связан с тем, что при меньшем содержании поглотителя ультрафиолета результирующая эффективность блокирования ультрафиолетового излучения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет недостаточна для реализации технического результата настоящего изобретения. Так, согласно техническому результату настоящего изобретения, для обеспечения удовлетворительной временной и циклической функциональной стабильности электрохромного модуля при его солнечной экспозиции с точки зрения количества выдерживаемых циклов переключения, составляющего не менее 50000 циклов переключения между крайними положениями контраста электрохромного модуля, а также отсутствия ухудшения визуально наблюдаемых свойств электрохромного устройства на основе такого электрохромного модуля как в обесцвеченном, так и в окрашенном состояниях последнего по результату как минимум 5000 часов воздействия потока электромагнитного излучения в диапазоне от 300 нм до 900 нм общей мощностью 6500 Вт в температурном диапазоне от 40°С до 95°С и в диапазоне влажности окружающей среды от 5% до 95% (согласно стандартам ГОСТ Р 56773; ASTM Е2141-14), уровень пропускания УФ-излучения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле должен характеризоваться величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета Tuv, не превышающей 40%. Как было эмпирически выявлено, достижение величин полного интегрального пропускания ультрафиолета Tuv меньше или равных этому значению реализуется для толщин УФ-блокирующего слоя в диапазоне допустимых значений, определенном и объясненном ниже, только в том случае, если концентрация содержащегося в УФ-блокирующем слое поглотителя ультрафиолета, состоящего из вещества перечисленной группы, составляет не менее 0,003 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. В свою очередь при превышении верхнего предела по допустимому диапазону концентраций содержания поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое, составляющего 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, сегрегационные эффекты вблизи границ УФ-блокирующего слоя, в т.ч. связанные с продолжительной по времени миграцией поглощающей ультрафиолет компоненты УФ-блокирующего слоя в полимерной матрице, провоцируемой экспонированием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле солнечному излучению, будут приводить, как было эмпирически выявлено, к скачкообразному росту уровня мутности, с превышением им максимально допустимого граничного значения в 0,02 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения. Таким образом, исходя из отмеченных ограничений, содержание поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое должно поддерживаться в диапазоне от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
При этом электропроводящий слой токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле необходим для обеспечения размещения непосредственно на нем применяемого электрохромного модуля, защита которого от пагубного ультрафиолетового излучения будет осуществляться слоистым УФ-блокирующим материалом, а также непосредственного обеспечения токовведения при подключении размещаемого на электропроводящем слое токовведения модуля к внешнему источнику питания для реализации его функционирования в рамках конечного эксплуатируемого устройства. Данный слой должен одновременно обладать высокой электропроводностью, характеризуемой низким коэффициентом поверхностного сопротивления не выше нескольких десятков Ом на квадрат, а также прозрачностью по отношению к видимому свету, с целью обеспечения возможности минимизации результирующего совокупного уровня поглощения электромагнитного излучения описываемым слоистым УФ-блокирующим материалом в видимом диапазоне длин волн, а также распространения стабильности уровня спектрального уширения на полный диапазон длин волн, по меньшей мере, от 420 нм до 700 нм, согласно техническому результату настоящего изобретения, за счет снижения вклада от поглощения излучения видимого диапазона длин волн спектра на электропроводящем слое токовведения. Согласно настоящему изобретению, электропроводящий слой токовведения должен состоять из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, In2O3, SnO2 и CdO, тройные соединения со Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2 Данные материалы, составляющие группу т.н. прозрачных токопроводящих оксидов (ТСО) отвечают двум ключевым требованиям, предъявляемым к электропроводящему слою токовведения в рамках настоящего изобретения: прозрачности по отношению к излучению видимого диапазона спектра, благодаря большой ширине запрещенной зоны от примерно 3,5-4 эВ, а также высокой их электрической проводимости, сравнимой с металлической и характеризуемой поверхностным сопротивлением от нескольких единиц Ом на квадрат, до примерно 50-60 Ом на квадрат, за счет выполнения легирующей компонентой оксидного сплава роли донора свободных электронов.
При этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле должна лежать в пределах от 0,01 мм до 28 мм. Требование к выдерживанию толщины стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля в указанном диапазоне значений продиктовано тем, что при превышении предела по верхней границе диапазона, составляющей 28 мм, будет наблюдаться существенное снижение уровня светопропускания в диапазоне длин волн электромагнитного излучения порядка 420-630 нм, связанное с поглощением проходящего излучения стекломассой. Кроме того, толща стекломассы будет также оказывать в этом случае значительный эффект на смещение пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн. В результате, совокупность данных эффектов будет приводить к невозможности достижения достаточно низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%, наряду с одновременно стабильным уровнем спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующимся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔT, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения в том случае, если толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля будет превышать максимально допустимый предел в 28 мм. С другой стороны, в том случае, если толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет составлять менее 0,01 мм, такая основа не будет обеспечивать возможности достижения значений предела прочности на сжатие итоговой сборки слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле выше порядка 1000 МПа, что неудовлетворительно для случаев использования настоящего изобретения в качестве составного элемента светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, т.е. в условиях, когда предполагается воздействие на устройство избыточных ветровых нагрузок в ряде экстерьерных архитектурных и транспортных применений в составе сборок светопрозрачных конструкций. Таким образом, толщину стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле следует поддерживать в граничных пределах от 0,01 мм до 28 мм.
При этом толщина УФ-блокирующего слоя должна составлять от 10 мкм до 18 мм. Это связано с тем, что в случае, если толщина УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле составляет менее 10 мкм, эффективность поглощения в нем электромагнитного излучения ультрафиолетовой части спектра, в особенности в диапазоне длин свыше 290 нм, как было эмпирически выявлено, недостаточна для того, чтобы добиться уровня пропускания УФ-излучения, характеризующегося величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета Tuv меньшей чем или равной 40%. С другой стороны, в случае превышения верхнего предела допустимого диапазона толщин УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, составляющего 18 мм, рост интенсивности рассеяния света сферической частицей по Ми в гетерогенной толще описываемого УФ-блокирующего слоя будет приводить к соответствующему росту уровня мутности свыше величины в 0,02 долей. Таким образом, исходя из вышеизложенных причин, достижение заявляемого технического результата настоящего изобретения возможно только в том случае, если толщина УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле лежит в пределах от 10 мкм до 18 мм.
Кроме того, толщина электропроводящего слоя токовведения должна составлять от 40 до 820 нм. Ограничение на данный диапазон допустимых толщин электропроводящего слоя токовведения связано с тем, что, в том случае, если его толщина составляет менее 40 нм, обеспечиваемая данным слоем величина электропроводимости будет слишком мала для реализации эффективного токовведения в размещаемый на описываемом слоистом УФ-блокирующем материале для электрохромного модуля на стекле электрохромный модуль от внешнего источника питания, необходимого для поддержания электрохимических обменных процессов в электрохромном модуле с целью его срабатывания. При этом, если толщина электропроводящего слоя токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет превышать значение в 820 нм, электропроводящий слой токовведения столь больших толщин, как проводник первого рода, будет характеризоваться крайне высокой спектральной характеристикой поглощения на длинах волн от порядка 450 нм в результате актов протекания резонансных осцилляционных процессов на межорбитальных электронных переходах в ходе преодоления электромагнитным излучением от внешних источников толщи электропроводящего слоя токовведения. В результате, величина интегрального поглощения А описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет выше значения в 14%; кроме того, достижение стабильности уровня спектрального уширения, проявляемой слоистым УФ-блокирующим материалом для электрохромного модуля на стекле в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, и характеризующейся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔТ, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату, на обеспечение реализации которого направлено настоящее изобретение, по нижней границе указанного диапазона длин волн электромагнитного излучения, составляющей 420 нм, будет принципиально невозможно. Исходя из этих факторов, было выработано требование к диапазону допустимых толщин электропроводящего слоя токовведения, которые должны лежать в пределе от 40 нм до 820 нм.
В частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона. Данные фотоинициаторы служат для инициации радикальной полимеризации полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, состоящей из материала вышеперечисленной группы, причина выбора которой также приведена выше. Последнее позволяет обеспечить ускоренную стабилизацию слоевой структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле наряду с одновременной максимизацией как когезии непосредственно УФ-блокирующего слоя, так и адгезии соприлегающих к нему стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля, а также электропроводящего слоя токовведения. При этом, использование конкретного фотоинициатора указанной группы позволяет избежать проблемы наложения существенной части спектра поглощения, относящейся к диапазону чувствительности фотоинициатора, на диапазон пика поглощения используемого в составе УФ-блокирующего слоя поглотителя ультрафиолета, состоящего, в свою очередь, из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов, согласно приведенным выше причинам. В свою очередь концентрация входящего в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя в качестве дополнительной компоненты фотоинициатора из указанной группы материалов должна находиться в пределах от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Это связано с тем, что, в том случае, если концентрация фотоинициатора в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, толщина которого, как было указано и объяснено выше, должна составлять не менее 10 мкм, причем в составе слоя данной минимальной толщины должно присутствовать от 0,003 до 10 частей поглотителя ультрафиолета в расчете на 100 частей по массе основообразующей данный слой полимерной матрицы, составляет менее 0,1 частей по массе также из расчета на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, локальная плотность фотоинициатора в УФ-блокирующем слое, как было эмпирически выявлено, слишком мала, чтобы оказывать ожидаемый положительный эффект от его внедрения в состав полимерной матрицы. В свою очередь, если содержание фотоинициатора превышает значение массовой концентрации в 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, в окончательном, полностью отвержденном полимерном материале указанного состава будет присутствовать значительное количество остатков фотоинициатора, а также продуктов фотолиза инициатора. В соответствии с этим, конечная твердость полимерной основы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет снижена, что, нежелательно с точки зрения обеспечения соответствия эксплуатационным требованиям по отношению к итоговым сборкам электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, пригодных для изготовления конструкционных элементов светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений. Кроме того, что более существенно, значительно возрастает степень эффективности сопутствующих неблагоприятных воздействий на спектрофотометрические качества полимерной матрицы и, как следствие, всего УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в целом, выражающихся в ее пожелтении. В результате этого, соответственно, становится невозможным поддержание стабильного уровня спектрального уширения по отношению к проходящему сквозь УФ-блокирующий слой, и слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле в целом, электромагнитному излучению, характеризующегося максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания ΔT, не превышающим 0,18 долей, по правой границе заявленного согласно техническому результату настоящего изобретения требуемого диапазона длин волн электромагнитного спектра, составляющей 700 нм. В результате, конечный диапазон допустимых концентраций содержания указанного фотоинициатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
В еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя может включать в качестве дополнительной компоненты пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов. Использование пластификатора в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле обеспечивает ее дополнительную эластичность и пластическую упругость. Последнее может быть особенно желательно с точки зрения снижения величины паразитных растягивающих напряжений как непосредственно в УФ-блокирующем слое, так и на интерфейсе его границы с электропроводящим слоем токовведения, что дополнительно минимизирует вероятность эффекта температурно-индуцированной агрегации материала электропроводящего слоя токовведения в индивидуальные глобулярные образования с сопутствующей лавинообразной деградацией электропроводности слоя в ходе функционального циклирования токовведением в размещаемый на описываемом слоистом УФ-блокирующем материале для электрохромного модуля на стекле электрохромный модуль от внешнего источника питания, необходимым для поддержания электрохимических обменных процессов в электрохромном модуле с целью его срабатывания, но связанным с сопутствующей диссипацией тепловой энергии на паразитном контактном сопротивлении на электропроводящем слое токовведения. При этом, использование, в качестве дополнительно вводимого в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя пластификатора, материалов указанной группы необходимо по причине их совместимости с основообразующими полимерами, допустимыми к использованию в настоящем патенте по выше изложенным причинам в качестве полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, состоящей из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а также низкой летучести и химической инертности. Эмпирическим путем доказано, что предложенные пластификаторы не оказывает отрицательного влияния на молекулярную массу и термостойкость основообразующей полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Кроме того, кинетические данные свидетельствуют об удовлетворительной способности предложенных пластификаторов регулировать скорость полимеризации при введении их в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле. При этом концентрация содержания пластификатора должна составлять от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. При превышении верхнего предела указанного диапазона допустимой концентрации пластификатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя, составляющего 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, приводит, как было выявлено, за счет интенсивной миграции высококонцентрированных несвязанных компонент пластификатора на поверхность слоеобразующей полимерной матрицы, к ухудшению адгезии между УФ-блокирующим слоем и соприлегающими ему слоями слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле: стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля с одной стороны, и электропроводящего слоя токовведения с другой. Последнее приводит к локальной дефолиации, и, как следствие, агрегации электропроводящего слоя токовведения в ходе его функционального циклирования приложением и снятием питающего напряжения от внешнего источника питания с сопутствующим превышением предельного допустимого предела по оптической мутности описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, составляющим 0,02 долей согласно техническому результату настоящего изобретения. Помимо этого, превышение верхнего предела диапазона допустимых концентраций пластификатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя приводит к ухудшению теплостойкости используемой полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. В свою очередь при концентрациях пластификатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя меньше минимально допустимого уровня, составляющего 2 части по массе пластификатора в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, продолжительная потеря в массе пластификатора в ходе эксплуатации светопрозрачных конструкций с электрохромными устройствами, включающими описываемый слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле, в т.ч. в условиях суточного и годового перепадов температур, будет приводить к ухудшению механических свойств полимерной основы УФ-блокирующего слоя, а именно - его пластической упругости, на достижение которой направлено введение пластификатора в качестве дополнительной компоненты в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
Кроме того, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида. Использование растворителя в качестве дополнительной компоненты полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя способствует лучшей гомогенности распределения поглотителя ультрафиолета в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя и может в результате обеспечить дополнительной совокупное улучшение результирующих функциональных спектрофотометрических характеристик описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле, а именно: снижение уровня пропускания УФ-излучения наряду с одновременным уменьшением уровня мутности. Использование растворителей указанной группы инертных веществ обусловлено совокупностью ряда характеризующих их факторов, а именно: непосредственно инертностью данных растворителей наряду с характерными для них качествами полярных, апротонных растворителей, а также высоким значением диэлектрической постоянной и высокой диэлектрической проницаемостью, за счет чего они являются растворителями, пригодными для выбранных в качестве используемых сшитых полимеров слоеобразующей полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, состоящей из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата. Помимо этого, их относительно высокая полярность позволяет им создавать в целом инертные сольватирующие оболочки относительно входящего в состав УФ-поглощающего слоя поглотителя ультрафиолета из группы бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов, обеспечивая, таким образом, их лучшую искомую гомогенность. При этом концентрация содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя может быть подобрана в рамках указанных допустимых пределов таким образом, чтобы обеспечить оптимальный уровень пластичности полимерной матрицы в ходе формирования УФ-блокирующего слоя на стеклянной основе описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, исходя из выбранного способа изготовления данного слоя и его толщины, лежащей в пределах обозначенного и объясненного выше диапазона. Тем не менее, концентрация содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя в случае его добавления должна находиться в пределах от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Ограничение по нижней границе указанного диапазона связано, по аналогии с изложенным выше для случая введения в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя фотоинициатора, с тем, что в том случае, если концентрация растворителя в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, толщина которого, как было указано и объяснено выше, должна составлять не менее 10 мкм, причем в составе слоя данной минимальной толщины должно присутствовать от 0,003 до 10 частей поглотителя ультрафиолета в расчете на 100 частей по массе основообразующей данный слой полимерной матрицы, составляет менее 5 частей по массе также из расчета на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, локальная плотность растворителя в УФ-блокирующем слое, как было эмпирически выявлено, слишком мала, чтобы оказывать ожидаемый положительный эффект от его внедрения в состав полимерной матрицы. При этом, в случае превышения верхнего предела концентрации содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя, составляющего 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, результирующая пластическая текучесть основообразующей полимерной матрицы и, как следствие, УФ-блокирующего слоя в целом во всем выше отмеченном и объясненном диапазоне допустимых толщин УФ-блокирующего слоя вплоть до верхней границы допустимой толщины, составляющей 18 мм, будет чрезмерно велика, в результате чего будет проявляться эффект анизотропии толщины УФ-блокирующего слоя по площади поверхности стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле с соответствующей неравномерностью как уровня пропускания УФ-излучения, так и уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн по площади поверхности стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала. В результате, конечный диапазон допустимых концентраций содержания указанного растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле должен составлять от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
В еще одном варианте настоящего изобретения предлагается, что, поскольку толщина электропроводящего слоя токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле крайне мала и лежит, согласно вышеописанному диапазону допустимых значений толщин, в субмикронном масштабе величины, может быть полезно разместить электропроводящий слой токовведения на специальной оптически-прозрачной подложке.
При этом требования к перечню, последовательности, составу и толщинам всех прочих слоев слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле аналогичны первому варианту достижения технического результата настоящего изобретения и продиктованы теми же причинами, изложенными и объясненными выше:
Таким образом, предлагается слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле содержащий стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, оптически прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения и непосредственно электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя; причем в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения используется материал из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, In2O3, SnO2 и CdO, тройные соединения с Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, толщина оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышает 28 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.
Размещение электропроводящего слоя токовведения на предназначенной для этого оптически-прозрачной подложке позволит предотвратить вероятность эффекта агрегации материала электропроводящего слоя токовведения в индивидуальные глобулярные образования с сопутствующей лавинообразной деградацией электропроводности слоя, который может протекать в случае использования электропроводящего слоя токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле толщиной близкой к предельно допустимому значению по нижней границе разрешенного и объясненного выше диапазона. При этом, оптически-прозрачная подложка располагается таким образом, что она непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала и с размещенным на ней электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, причем в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения используется материал из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок. Использование материалов данной группы обусловлено тем, что при использовании в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения стекла из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковых пленок из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных,
полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, обеспечивается достаточный для поддержания стабильности многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, с точки зрения предотвращения возможной локальной или полной дефолиации, и, как следствие, агрегации электропроводящего слоя токовведения в ходе его функционального циклирования приложением и снятием питающего размещаемый на слоистом УФ-блокирующем материале электрохромный модуль напряжения от внешнего источника питания, уровень адгезии между оптически-прозрачной подложкой для размещения электропроводящего слоя токовведения и непосредственно прилегающим к ее поверхности электропроводящим слоем токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, состоящим из материала группы, приведенной и обоснованной выше. В случае настоящего изобретения, адгезионные качества группы материалов, подходящих для использования в качестве электропроводящего слоя токовведения по вышеизложенным причинам - примесно-легированных оксидов ZnO, In2O3, SnO2 и CdO, тройных соединений с Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентных оксидов с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2, по отношению к перечисленным подходящим к использованию материалам оптически-прозрачной подложки для размещения на ней электропроводящего слоя токовведения, аналогичны таковым по отношению также, непосредственно, к описанному выше УФ-блокирующему слою, что обеспечивается образованием, преимущественно, ковалентных полярных связей между оптически-прозрачной подложкой и атомами размещаемого на ней электропроводящего слоя токовведения. Одновременно с этим, при использовании в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения материала из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, сохраняется также, за счет их высокой прозрачности в видимом диапазоне длин волн электромагнитного излучения и, в общем случае, малых значений коэффициента преломления, близких к n=1, возможность достижения совокупности прочих спектрофотометрических характеристик слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, обеспечивающих реализацию технического результата согласно настоящему изобретению.
При этом толщина оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не должна превышать 28 мм. Это ограничение связано с причинами, аналогичными тем, что накладывают сходное ограничение на предельную верхнюю границу диапазона допустимых толщин стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, и изложенным выше. При превышении предельного значения толщины, составляющего 28 мм, будет наблюдаться существенное снижение уровня светопропускания в диапазоне длин волн электромагнитного излучения порядка 420-630 нм, связанное с поглощением проходящего излучения толщей оптически-прозрачной подложки из указанной группы материалов для размещения электропроводящего слоя токовведения. Кроме того, среда оптически-прозрачной подложки будет также оказывать в этом случае значительный эффект на смещение пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн. В результате, совокупность данных эффектов будет приводить к невозможности достижения достаточно низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%, наряду с одновременно стабильным уровнем спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующимся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔT, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения.
Кроме того, возможен частный случай, когда оптически-прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения может представлять собой два индивидуальных слоя-инкапсулятора, разделенных между собой разделяющим газовым промежутком, выполняющим роль слоя-теплоизолятора. При этом оптически-прозрачная подложка расположена таким образом, что один из слоев-инкапсуляторов непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала, а второй слой-инкапсулятор непосредственно контактирует с электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, а между собой слои-инкапсуляторы разделены газовым промежутком. Разделение оптически-прозрачной подложки на два индивидуальных слоя-инкапсулятора, предназначенных, помимо непосредственно размещения на них электропроводящего слоя токовведения, также для инкапсулирования находящегося между ними газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, дополнительно обеспечивает, за счет введения в структуру слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле теплоизолирующего газового слоя, такие полезные эффекты, как повышение теплоизоляционных свойств результирующих светопрозрачных конструкций, включающих сборки электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, повышение, в результате этого, обеспечиваемой ими звукоизоляции и защиты интерьеров от холода и избыточного проникновения солнечного тепла, а также повышение устойчивости непосредственно многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле и, как следствие, размещаемого на ней электрохромного модуля, к резким перепадам температуры и рискам пагубного воздействия на функциональную стабильность электрохромных модулей влаги за счет снижения вероятности образования конденсата. При этом каждый из слоев-инкапсуляторов должен состоять из материала из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок. Причины использования материалов данной группы в качестве материалов каждого из слоев-инкапсуляторов описываемой, включающей разделяющий газовый промежуток, оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения аналогичны таковым для непосредственно второго варианта достижения технического результата согласно настоящему изобретению - т.е. случая использования в составе многослойной структуры слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения - приведенным выше, и обусловлены тем, что, во-первых, при использовании в качестве слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения стекла из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковых пленок из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных,
полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, обеспечивается достаточный для поддержания стабильности многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, с точки зрения предотвращения возможной локальной или полной дефолиации, и, как следствие, агрегации электропроводящего слоя токовведения в ходе его функционального циклирования приложением и снятием питающего размещаемый на слоистом УФ-блокирующем материале электрохромный модуль напряжения от внешнего источника питания, уровень адгезии между непосредственно контактирующим с электропроводящим слоем токовведения слоем-инкапсулятором оптически-прозрачной подложки и прилегающим к ее поверхности электропроводящим слоем токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, состоящим из материалов, перечисленных и обоснованных выше. В случае настоящего изобретения, адгезионные качества группы материалов, подходящих для использования в качестве электропроводящего слоя токовведения по вышеизложенным причинам - примесно-легированных оксидов ZnO, In2O3, SnO2 и CdO, тройных соединений с Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентных оксидов с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2, по отношению к перечисленным подходящим к использованию материалам слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения на ней электропроводящего слоя токовведения, аналогичны таковым по отношению также, непосредственно, к описанному выше УФ-блокирующему слою, что обеспечивается образованием, преимущественно, ковалентных полярных связей между оптически-прозрачной подложкой и атомами размещаемого на ней электропроводящего слоя токовведения. Одновременно с этим, при использовании в качестве обоих индивидуальных слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения материалов из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, сохраняется также, за счет их высокой прозрачности в видимом диапазоне длин волн электромагнитного излучения и, в общем случае, малых значений коэффициента преломления, близких к n=1, возможность достижения совокупности прочих спектрофотометрических характеристик слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, обеспечивающих реализацию технического результата согласно настоящему изобретению.
При этом толщины слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не должны превышать 10 мм. Причины данного ограничения также аналогичны причинам ограничения на максимальную толщину одинарной оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения, изложенным выше в описании первого частного случая настоящего изобретения: при превышении любым индивидуальным слоем-инкапсулятором оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения предельного значения толщины, составляющего 10 мм, при, очевидно, не нулевом значении толщины другого слоя-инкапсулятора, будет наблюдаться существенное снижение уровня светопропускания в диапазоне длин волн электромагнитного излучения порядка 420-630 нм, связанное с поглощением проходящего излучения совокупной толщей описываемой трехслойной оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения со слоями-инкапсуляторами указанных материалов. Кроме того, среда оптически-прозрачной подложки будет также оказывать в этом случае значительный эффект на смещение пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн. При этом, как можно заметить, ограничение на предельно допустимую толщину каждого из индивидуальных слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения меньше по величине, чем предельная допустимая толщина однослойной оптически-прозрачной подложки из вышеизложенного второго варианта реализации настоящего изобретения, состоящей из материала той же указанной группы, что и для слоев-инкапсуляторов, что связано с дополнительными паразитными интерференционными процессами, протекающими в ходе переизлучения проходящего электромагнитного излучения между индивидуальными слоями-инкапсуляторами оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения, усиливающими выраженность данного эффекта смещения пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн начиная с меньших значений толщин каждого из слоев-инкапсуляторов в отдельности. В результате, совокупность описанных эффектов будет приводить к невозможности достижения достаточно низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%, наряду с одновременно стабильным уровнем спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующимся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔТ, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения.
В свою очередь разделяющий газовый промежуток, выполняющий роль слоя-теплоизолятора, должен быть заполнен газом из группы: стабильных изотопов благородных инертных газов, а именно - Не, Ne, Ar, Хе, Kr; а также атмосферным воздухом. Обладающие существенно более низкой теплопроводностью по сравнению с допустимыми к использованию материалами слоев-инкапсуляторов, данные газы, за счет, соответственно, сниженной, также по сравнению с прочими материалами многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, способности проводить энергию путем хаотического движения составляющих их среду частиц, непосредственно обеспечивают полезные эффекты повышения теплоизоляционных свойств результирующих светопрозрачных конструкций, включающих сборки электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле. Так, известно, что воздух обладает более чем в 30 раз меньшим коэффициентом теплопроводности с, по сравнению со стеклами, составляющим порядка 0,022 Вт/м⋅К при температуре 300 К и давлении газа 100 кПа, по сравнению с порядка 0,6-1,1 Вт/м⋅К для стекла в зависимости от конкретного химического состава. Будучи инертными одноатомными газами, благородные газы ряда: Не, Ne, Ar, Хе и Kr обеспечивают сходное, и, для конкретных газов, меньшее отношение их теплопроводности к теплопроводности стекла - от 30 до 70 раз. При этом, теплопроводность пригодных, по выше изложенным причинам, к использованию в качестве материала слоев-инкапсуляторов пластиковых пленок, а именно: полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, в среднем выше, чем теплопроводность соответственно также пригодных для использования в качестве материалов слоев-инкапсуляторов стекол. По этой причине приведенные доводы, объясняющие причины выбора приведенного перечня газов для газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, выполняются, соответственно, также и в отношении указанного перечня пластиковых пленок. В свою очередь нестабильные изотопы приведенного перечня благородных инертных газов и радон Rn не входят в перечень допустимых к использованию в рамках настоящего изобретения материалов заполнения газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, по причине радиотоксичности, являющейся следствием их высокой радиоактивности. Так, наличие радона, все известные изотопы которого радиоактивны, а также радиоактивных продуктов его распада во вдыхаемом воздухе вызывает стохастические эффекты хронического облучения.
При этом, толщина разделяющего газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, должна составлять не менее 2 мм. Это связано с тем, что при уменьшении толщины разделяющего газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, ниже данного значения начинается конвекция воздуха или газа внутри газового промежутка между обращенными к нему поверхностями двух слоев-инкапсуляторов, что приводит к увеличению теплопроводности и нивелированию положительного эффекта включения газового промежутка в структуру оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле.
Кроме того, аналогично частным случаям первого варианта достижения технического результата согласно настоящему изобретению, в еще трех частных случаях второго варианта реализации настоящего изобретения, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительных компонент:
- фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем концентрация входящего в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя в качестве дополнительной компоненты фотоинициатора из указанной группы материалов должна находиться в пределах от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя;
- пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов, причем концентрация содержания пластификатора должна составлять от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя;
- растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем концентрация содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя в случае его добавления должна находиться в пределах от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя;
При этом причины, по которым введение данных дополнительных компонент в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может быть выгодно с точки зрения результирующих качеств предлагаемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле, а также причины выбора материалов конкретных приведенных групп и ограничений, накладываемых на их допустимые концентрации в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, полностью аналогичны таковым для соответствующих дополнительных компонент УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле согласно соответствующим же частным случаям первого варианта реализации настоящего изобретения, приведенным и объясненным выше.
В таблице ниже приводятся примеры конкретной реализации предлагаемого изделия. В рамках них все полученные образцы слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, согласно настоящему изобретению, формировались на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля, представлявшей собой плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 4 мм. Размер стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля во всех примерах составлял 200×175 мм.
При этом в качестве полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя в случае примеров 1-4, 7-12 и 14-16 выступали готовые ненасыщенные олигомерно-мономерные композиции, включающие реакционноспособные олигомеры и мономеры метакрилаты, используемые при изготовлении заливных ударопрочных триплексов для остекления транспортных средств и стекол строительного назначения, линейки «Акролат» (согласно техническим условиям ТУ 2243-069-10488057-2012). При этом в рамках указанных примеров в композицию полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя дополнительно
вводились соответствующие фотоинициаторы, пластификаторы и растворители, а также непосредственно соответствующий поглотитель ультрафиолета в соответствующих концентрациях согласно указанному в таблице. В результате, используемый УФ-блокирующий слой формировался из первоначального полимерного геля, получаемого смешиванием при комнатной температуре перечисленных в таблице соответствующих компонент в указанной пропорции. Формирование конечного УФ-блокирующего слоя требуемой указанной в таблице толщины на поверхности стеклянной основы осуществлялось экструзией под давлением. Дальнейшая стабилизация полимерной матрицы геля обеспечивалась выдерживанием под ультрафиолетом, с интенсивностью облучения 10 Вт/м2 в диапазоне 320-400 нм в течение 90 мин, а затем в термокамере при 70°С.
При этом в рамках примеров 5, 6 и 13 в качестве слоеобразующей основы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле выступала полимерная матрица на основе поливинилбутираля (PVB) марки SDW3A. При этом в указанную полимерную PVB-смолу замешивался при температуре 40°С пластификатор, в роли которого выступал дибутилбензол-1,2-дикарбонат, в соответствующей концентрации, указанной в таблице. Из полученной смеси затем формовалась валковой экструзией лента соответствующей, согласно указанному в таблице, толщины, на которую далее осаждался поглотитель ультрафиолета, в роли которого выступал субстехиометрический оксид титана TiOX. Осаждение поглотителя ультрафиолета осуществлялось в рамках данных примеров методом физической конденсации из паровой фазы (PVD) путем реализации процесса распыления стальных титановых катодных мишеней в магнетронной плазме реакционной газовой смеси, в роли распылительной составляющей которой выступал Ar, а реакционной, способствующей плазмохимической реакции образования субстехиометрического соединения оксида титана - соответственно, кислород О2. Соотношение аргон/кислород смеси рабочих газов составляло 55% / 45%, при этом давление смесей рабочих газов в рамках данных примеров поддерживалось в диапазоне от 1,8⋅10-3 до 3,4⋅10-3 мм.рт.ст. Мощность горения плазменного разряда при этом составляла 0,84 кВт, при напряжении в разрядном промежутке 540 В и силе тока на поверхность мишени 1,5 А для каждого из указанных примеров. Полученный указанным способом в виде гибкой пленки УФ-блокирующий слой затем соламинировался со стеклянной основой слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле.
При этом в качестве материала электропроводящего слоя токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в рамках представленных конкретных примеров реализации выступали оксид олова, легированный фтором (fluorine tin oxide - FTO; в случае примеров 1, 7, 9-10), оксид индия-олова (indium tin oxide - ITO; в случаях примеров 2-6. 11 и 13-16), а также германий-содержащий оксид цинка (germanium zinc oxide - GZO; в случаях примеров 8 и 12), соответствующих толщин, согласно указанному в таблице. При этом получение электропроводящий слоев токовведения оксида индий-олова ITO и германий-содержащего оксида цинка GZO осуществлялось в рамках данных примеров методом физической конденсации слоев из паровой фазы (PVD) на предлежащую им поверхность путем реализации процесса распыления керамических предоксидированных катодных мишеней соответствующих материалов в магнетронной плазме инертной газовой среды аргона Ar. При этом давление аргона Ar при осаждении данных электропроводящих слоев токовведения поддерживалось в диапазоне от 1,2⋅10-3 до 1,7⋅10-3 мм.рт.ст. Мощность горения плазменного разряда при этом во всех соответствующих примерах составляла 0,5 кВт, при напряжении в разрядном промежутке, находившемся в диапазоне 240-280 В и соответствующей силе тока на поверхность мишени, находившейся в диапазоне 1,7-2,1 А.
В свою очередь получение электропроводящих слоев токовведения из оксида олова, легированного фтором, FTO, в рамках соответствующих примеров осуществлялось методом химической температурно-катализированной конденсации слоев (CVD) на предлежащую им поверхность в ходе реализации процесса спрей-пиролитического синтеза слоя из смеси прекурсоров, в роли которых выступали фторид аммония NH4F и дибутил-диацетат олова DBTDA, при температуре пиролиза, составлявшей для всех соответствующих приведенных примеров 150°С, с последующим пост-отжигом слоя при температуре, поддерживавшейся для всех соответствующих приведенных примеров в диапазоне 270-350°С.
При этом, в рамках примеров 5 и 6 электропроводящий слой токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, состоявший из оксида индий-олова ITO, толщиной 140 и 146 нм соответственно, осаждался непосредственно поверх УФ-блокирующего слоя.
При этом в рамках остальных приведенных примеров электропроводящие слои токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле размещались на поверхности соответствующей оптически-прозрачной подложки,
соединявшейся с УФ-блокирующем слоем путем соламинации с полимерной слоеобразующей матрицей последнего, за исключением примера 13, где оптически-прозрачная подложка с размещенным на ней электропроводящим слоем токовведения соединялась с УФ-блокирующим слоем путем их соприлегания с последующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S. При этом в качестве оптически-прозрачной подложки в указанных примерах использовались:
- плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 3 мм (СМ1 3 мм; примеры 1, 9, 10 и 16);
- сверхтонкое кварцевое стекло Corning Glass марки Willow толщиной 0,18 мм (Willow 0,18 мм; примеры 2-4, 8);
- полиэтилентерефталатная пленка толщиной 0,17 мм (PET 0,17 мм; примеры 11, 12 и 15);
а также многокомпонентные структуры, представляющие собой два индивидуальных слоя-инкапсулятора, один из которых (далее - первый обозначенный по тексту) непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала, а второй - непосредственно контактирует с располагаемым на нем электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, при этом слои-инкапсуляторы разделены между собой разделяющим газовым промежутком, выполняющим роль слоя-теплоизолятора:
- в случае примера 7 структура оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения представляла собой: первый слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось сверхтонкое кварцевое стекло Corning Glass марки Willow толщиной 0,18 мм; соединенный с ним газовый промежуток толщиной 8 мм, заполненный смесью аргона Ar и осушенного атмосферного воздуха (соотношение аргона к атмосферному воздуху составляло 90/10); второй слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 3 мм; при этом соединение указанных слоев осуществлялось при помощи дистанционной рамки из поливинилхлоридного профиля холодной экструзии с сопутствующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S (Willow 0,18 мм - 8 мм Ar (90%) -С M1 3 мм);
- в случае примера 13 структура оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения представляла собой: первый слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 4 мм; соединенный с ним газовый промежуток толщиной 16 мм, заполненный осушенным атмосферным воздухом; второй слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 4 мм; при этом соединение указанных слоев осуществлялось при помощи дистанционной рамки из поливинилхлоридного профиля холодной экструзии с сопутствующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S (С M1 4 мм - 16 мм Воздух - С M1 4 мм);
- в случае примера 14 структура оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения представляла собой: первый слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось сверхтонкое кварцевое стекло Corning Glass марки Willow толщиной 0,18 мм; соединенный с ним газовый промежуток толщиной 6 мм, заполненный смесью аргона Ar и осушенного атмосферного воздуха (соотношение аргона к атмосферному воздуху составляло 90/10); второй слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалась полиэтилентерефталатная пленка толщиной 0,17 мм; при этом соединение указанных слоев осуществлялось при помощи дистанционной рамки из поливинилхлоридного профиля холодной экструзии с сопутствующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S (Willow 0,18 мм - 6 мм Ar (90%) - PET 0,17 мм);
Как можно видеть, материалы и концентрации индивидуальных компонент слоев слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, а также их толщины, выдержанные в приводимых примерах во всех случаях соответствуют допустимым согласно формуле настоящего изобретения требованиям.
Характеризация полученных в рамках приводимых примеров практической реализации образцов слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле производилась методом спектрофотометрии в диапазоне длин волн электромагнитного излучения от 350 до 1050 нм. Типичные спектры пропускания анализировавшихся образцов представлены на фиг. 1 и фиг. 2 для случая примеров 1 и 10 соответственно. В свою очередь на фиг. 3 и 4 представлены спектры поглощения образцов
слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле тех же соответствующих примеров.
По результатам анализа полученных спектров были математически выявлены соответствующие интегральные характеристики функциональных качеств образцов, приведенные в таблице ниже. Кроме того, на основании интерполяционного машинного сравнения характерных интенсивностей регистрации сигнала на спектрах пропускания и отражения образцов (типичные спектры отражения анализировавшихся образцов представлены на фиг. 5 и фиг. 6 для случая примеров 1 и 10 соответственно) путем разрешения дифференциального уравнения непрерывности в неявном виде были определены значения мутности Н образцов слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, полученных в рамках приводимых примеров практической реализации согласно настоящему изобретению, также приведенные для каждого из описываемых примеров в таблице ниже (<0,01 долей согласно паспортному пределу разрешения использовавшегося спектрофотометра и совокупной погрешности применяемого расчетного метода). Примеры соответствующих расчетов (Min/Max) для образцов, полученных в рамках приведенных примеров реализации 1 и 10, представлены на фиг. 7 и 8 соответственно.
Как можно видеть на основании вышеизложенного, представленное изделие по результатам его практической реализации согласно настоящему изобретению в рамках
каждого из приведенных примеров демонстрирует одновременно низкий уровень пропускания УФ-излучения, характеризующийся величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета Tuv, не превышающей 16%; низкий уровень поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующийся величиной интегрального поглощения А, не превышающей 13%; стабильный уровень спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующийся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔT, не превышающим 0,14 долей; а также низкий уровень мутности, не превышающий 0,01 долей, соответствуя, таким образом, критериям пригодности его использования совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, и, в результате, отвечая всем критериям, приведенным в описании технического результата настоящего изобретения.
Claims (9)
1. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле, включающий поглотитель ультрафиолета, в состав которого входят соединения бензотриазола, бензофенола и триазина, отличающийся тем, что слоистый УФ-блокирующий материал содержит стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, и электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, монометаллов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, причем электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, In2O3, SnO2 и CdO, тройные соединения с Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.
2. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного устройства на стекле по п. 1, отличающийся тем, что полимерная матрица УФ-блокирующего слоя включает в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем содержание указанного фотоинициатора составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
3. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного устройства на стекле по п. 1, отличающийся тем, что полимерная матрица УФ-блокирующего слоя включает в качестве дополнительной компоненты пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов, причем содержание указанного пластификатора составляет от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
4. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного устройства на стекле по п. 1, отличающийся тем, что полимерная матрица УФ-блокирующего слоя включает в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем содержание указанного расвторителя составляет от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
5. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле, включающий поглотитель ультрафиолета, в состав которого входят соединения бензотриазола, бензофенола и триазина, отличающийся тем, что слоистый УФ-блокирующий материал содержит стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, оптически прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения и непосредственно электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C41H50N6O2, C20H23N3O3, C30H29N3O, C17H18ClN3O, C27H36ClN3O3, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C81H108N6O8, бензофенона, монометаллов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя; причем в качестве оптически прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения используется материал из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, InO3, SnO2 и CdO, тройные соединения с Zn2SnO4, ZnSnO3, Zn2In2O5, Zn3In2O6, In2SnO4, CdSnO3 и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In2O3 и SnO2, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, толщина оптически прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышает 28 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.
6. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного устройства на стекле по п. 5, отличающийся тем, что оптически прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения представляет собой два индивидуальных слоя-инкапсулятора, каждый из которых состоит из материала группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом оптически прозрачная подложка расположена таким образом, что один из слоев-инкапсуляторов непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала, а второй слой-инкапсулятор непосредственно контактирует с электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, при этом слои-инкапсуляторы разделены между собой разделяющим газовым промежутком, выполняющим роль слоя-теплоизолятора, причем разделяющий газовый промежуток, выполняющий роль слоя-теплоизолятора, заполнен газом из группы: стабильных изотопов благородных инертных газов, а именно - Не, Ne, Ar, Хе, Kr; а также атмосферным воздухом, при этом толщины слоев-инкапсуляторов оптически прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышают 10 мм, а толщина разделяющего газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, составляет не менее 2 мм.
7. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного устройства на стекле по п. 5, отличающийся тем, что полимерная матрица УФ-блокирующего слоя включает в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем содержание указанного фотоинициатора составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
8. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного устройства на стекле по п. 5, отличающийся тем, что полимерная матрица УФ-блокирующего слоя включает в качестве дополнительной компоненты пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов, причем содержание указанного пластификатора составляет от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
9. Слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного устройства на стекле по п. 5, отличающийся тем, что полимерная матрица УФ-блокирующего слоя включает в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем содержание указанного расвторителя составляет от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2019119172A RU2718087C1 (ru) | 2019-06-20 | 2019-06-20 | Слоистый уф-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2019119172A RU2718087C1 (ru) | 2019-06-20 | 2019-06-20 | Слоистый уф-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2718087C1 true RU2718087C1 (ru) | 2020-03-30 |
Family
ID=70156350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2019119172A RU2718087C1 (ru) | 2019-06-20 | 2019-06-20 | Слоистый уф-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2718087C1 (ru) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2117971C1 (ru) * | 1992-04-10 | 1998-08-20 | Сан Эктив Гласс Электрокромикс, Инк. | Электрохромное устройство (варианты) и способ его изготовления (варианты) |
| RU2262728C2 (ru) * | 2001-07-31 | 2005-10-20 | Ппг Индастриз Огайо, Инк. | Переключаемые электрохромные устройства для использования в прозрачных окнах самолета |
| EA019444B1 (ru) * | 2008-07-17 | 2014-03-31 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Электрохромное устройство с управляемым отражением инфракрасного излучения |
| RU2523814C2 (ru) * | 2008-12-22 | 2014-07-27 | Секисуй Кемикал Ко., Лтд. | Слоистый материал для многослойного стекла и межслойная пленка для многослойного стекла |
-
2019
- 2019-06-20 RU RU2019119172A patent/RU2718087C1/ru active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2117971C1 (ru) * | 1992-04-10 | 1998-08-20 | Сан Эктив Гласс Электрокромикс, Инк. | Электрохромное устройство (варианты) и способ его изготовления (варианты) |
| RU2262728C2 (ru) * | 2001-07-31 | 2005-10-20 | Ппг Индастриз Огайо, Инк. | Переключаемые электрохромные устройства для использования в прозрачных окнах самолета |
| EA019444B1 (ru) * | 2008-07-17 | 2014-03-31 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Электрохромное устройство с управляемым отражением инфракрасного излучения |
| RU2523814C2 (ru) * | 2008-12-22 | 2014-07-27 | Секисуй Кемикал Ко., Лтд. | Слоистый материал для многослойного стекла и межслойная пленка для многослойного стекла |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10627693B2 (en) | Glazing having switchable optical properties | |
| CA2881175C (en) | Composite pane with electrically switchable optical properties | |
| RU2396583C2 (ru) | Прозрачный электрод для переключаемого электрохромного элемента (варианты) | |
| KR101193959B1 (ko) | 전기화학적/전기적으로 제어 가능한 디바이스와, 그러한 디바이스를 결합한 창유리 패널 및 거울과, 그러한 디바이스를 제조하는 방법 | |
| US7710671B1 (en) | Laminated electrically tintable windows | |
| KR101535100B1 (ko) | 전기변색 스마트 윈도우 및 그 제조 방법 | |
| CA2893198C (en) | Glazing having electrically switchable optical properties | |
| JP4782283B2 (ja) | 電気的に制御可能な光学的／エネルギー的性質を有するグレイジング | |
| JP2777045B2 (ja) | 太陽光を電気的に制御可能な窓ガラス | |
| JP5318113B2 (ja) | 電磁放射遮蔽装置 | |
| US20130010347A1 (en) | All-solid-state reflective dimming electrochromic element sealed with protective layer, and dimming member comprising the same | |
| EA029169B1 (ru) | Подложка с мультислойным покрытием, имеющим термические свойства, в частности, для получения обогреваемого стеклопакета | |
| KR20200018675A (ko) | 코로나 효과(Corona Effect)를 줄이는 정의된 액적 크기 분포를 갖는 PDLC 필름이 구비된 차량 창유리 | |
| EP3396454B1 (en) | Reflective transparent screen | |
| RU2718087C1 (ru) | Слоистый уф-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле | |
| KR102675159B1 (ko) | 스마트 윈도우 | |
| RU2692951C1 (ru) | Стабильный многослойный электрохромный модуль (варианты) | |
| EP2783847B1 (en) | Pane construction | |
| KR20190116904A (ko) | 중간색 반사 방지 유리 기판 및 그의 제조 방법 | |
| TW201522270A (zh) | 具有過濾效果之平板玻璃 | |
| KR102214242B1 (ko) | 열관류율 및 차폐계수가 낮은 그린 스마트 유리. | |
| KR102704990B1 (ko) | 전기 변색 소자 및 이를 포함하는 윈도우 장치 | |
| RU2807006C1 (ru) | Электрохромное светопрозрачное устройство для активного подавления бликов и контроля избыточной инсоляции | |
| EP4403988A1 (en) | Light control window | |
| KR20240025747A (ko) | 전기 변색 소자 및 이를 포함하는 윈도우 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC41 | Official registration of the transfer of exclusive right |
Effective date: 20210927 |