RU2430986C2 - Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме - Google Patents
Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме Download PDFInfo
- Publication number
- RU2430986C2 RU2430986C2 RU2009130532/02A RU2009130532A RU2430986C2 RU 2430986 C2 RU2430986 C2 RU 2430986C2 RU 2009130532/02 A RU2009130532/02 A RU 2009130532/02A RU 2009130532 A RU2009130532 A RU 2009130532A RU 2430986 C2 RU2430986 C2 RU 2430986C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate
- cathode
- coating
- ablation
- carbon
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 title claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 75
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000002679 ablation Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims abstract description 12
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005087 graphitization Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
Изобретение относится к способам формирования сверхтвердых аморфных углеродных покрытий в вакууме и может быть использовано для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов, применяемых для металлообработки, деталей узлов трения, а также в качестве сигнального покрытия, используемого для анализа степени износа. Согласно способу подложку помещают в вакуумную камеру, которую затем вакуумируют, поверхность подложки обрабатывают ускоренными ионами, затем наносят слой материала, обеспечивающего адгезию последующих слоев. При помощи импульсного потока углеродной плазмы из множества катодных пятен с коэффициентом абляции графитового катода в пределах от 70 до 140 мкг/Кл формируют сверхтвердое углеродное покрытие. Температуру подложки поддерживают в пределах от 200 до 450 K путем регулировки частоты следования импульсов электродугового разряда. При этом указанную величину коэффициента абляции обеспечивают величиной заряда емкостного накопителя. При необходимости величину коэффициента абляции изменяют в процессе нанесения углеродного покрытия пределах от 70 до 140 мкг/Кл. Технический результат - увеличение плотности, микротвердости, электрического сопротивления и термостойкости покрытия, уменьшение его поглощения в оптическом диапазоне. 2 з.п. ф-лы.
Description
Изобретение относится к области получения твердых углеродных покрытий в вакууме, более точно к способу формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме, которое может быть использовано для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов, применяемых для металлообработки, деталей узлов трения, а также в качестве сигнального покрытия, используемого для анализа степени износа.
Известен способ получения покрытия аморфного углерода на изделиях из твердого сплава, заключающийся в том, что изделие помещают в вакуумную камеру, производят предварительную очистку поверхности ионами аргона, затем производят травление поверхности ионами металлов, выбранных из групп IVa, Va и VIa периодической системы, для улучшения адгезии. Затем производят нанесение углеродного аморфного покрытия путем катодного распыления графитовой мишени ионами аргона, при этом подают на изделие ускоряющее напряжение в несколько сотен вольт (см., например, US Patent 6881475).
Указанный способ предполагает использование дополнительного электростатического ускорения ионов углеродной плазмы путем приложения к изделию отрицательного потенциала, что приводит к разогреву покрытия и увеличению содержания sp2-фазы, соответствующей графиту. При этом содержание тетраэдрически координированного углерода (sp3-фазы) соответственно уменьшается, что приводит к ухудшению свойств покрытия: уменьшению микротвердости, снижению электросопротивления, а также снижению термостойкости. Кроме того, наличие рабочего газа аргона, необходимого при катодном распылении графитовой мишени, значительно снижает износостойкость получаемого аморфного углеродного покрытия.
Наиболее близким техническим решением является способ формирования алмазоподобного углеродного покрытия в вакууме, заключающийся в том, что помещают подложку в вакуумную камеру, которую затем вакуумируют, обрабатывают поверхность подложки ускоренными ионами, наносят на обработанную поверхность слой материала, обеспечивающего адгезию последующих слоев, инициируют импульсный электродуговой разряд на графитовом катоде и получают импульсный поток углеродной плазмы из множества катодных пятен, которые перемещаются по поверхности катода, конденсируют углеродную плазму на поверхности подложки для получения сверхтвердого углеродного покрытия, при этом поддерживают температуру подложки в пределах от 200 до 450 K посредством регулирования частоты следования импульсов электродугового разряда (см., например, US Patent 6261424).
Указанный способ имеет существенный недостаток, связанный с недостаточной термостойкостью получаемого покрытия.
В основу настоящего изобретения поставлена задача создания способа формирования термостойкого сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме.
Технический результат - увеличение содержания sp3-фазы в покрытии что приводит к увеличению его плотности, микротвердости, электрического сопротивления, уменьшению поглощения в оптическом диапазоне, а также увеличению термостойкости.
Задача решается следующим путем: помещают подложку в вакуумную камеру, которую затем вакуумируют, обрабатывают поверхность подложки ускоренными ионами, наносят на обработанную поверхность слой материала, обеспечивающего адгезию последующих слоев, инициируют импульсный электродуговой разряд на графитовом катоде и получают импульсный поток углеродной плазмы из множества катодных пятен, перемещающихся по графитовому катоду, осуществляющих его абляцию и генерирующих углеродную плазму, конденсируют углеродную плазму на поверхности подложки для получения сверхтвердого углеродного покрытия, при этом поддерживают температуру подложки в пределах от 200 до 450 K посредством регулирования частоты следования импульсов электродугового разряда, согласно изобретению
при формировании сверхтвердого аморфного углеродного покрытия для получения импульсного потока углеродной плазмы на катоде формируют катодные пятна с коэффициентом абляции графитового катода не ниже 70 мкг/Кл и не выше 140 мкг/Кл;
величину коэффициента абляции обеспечивают величиной заряда емкостного накопителя;
коэффициент абляции графитового катода изменяют в процессе нанесения углеродного покрытия в пределах от 70 до 140 мкг/Кл.
Новизна и изобретательский уровень предлагаемого изобретения подтверждаются тем, что:
при формировании сверхтвердого аморфного углеродного покрытия для получения импульсного потока углеродной плазмы на катоде формируют катодные пятна с коэффициентом абляции графитового катода не ниже 70 мкг/Кл и не выше 140 мкг/Кл, так как процессы на графитовом катоде определяющим образом влияют на свойства углеродной плазмы и, соответственно, на свойства углеродных алмазоподобных покрытий, формируемых на подложке. Сверхтвердые аморфные углеродные покрытия характеризуются типом связей между атомами углерода, sp3-тип связи между атомами углерода характерен для алмаза, sp2-тип связи соответствует структуре графита. Увеличение содержания sp3-фазы в покрытии приводит к увеличению его плотности, микротвердости, электрического сопротивления, уменьшению поглощения в оптическом диапазоне, а также увеличению его термостойкости.
Установлено, что при увеличении коэффициента абляции графитового катода содержание sp3-фазы в аморфном углеродном покрытии увеличивается, при этом увеличивается его термостойкость.
Наличие интерференционной окраски покрытия при толщине углеродного покрытия до 0,7 мкм свидетельствует о преобладании sp3-фазы в аморфном углеродном покрытии, при этом физические свойства, например коэффициент преломления, оптическая щель, модуль упругости и плотность, приближаются к свойствам алмаза. Кроме того, отсутствие изменений интерференционной окраски покрытия при отжиге свидетельствует об отсутствии графитизации покрытия.
Обеспечение коэффициента абляции осуществляют выбором величины заряда емкостного накопителя. Величина заряда емкостного накопителя зависит в свою очередь от величины емкости накопителя и от величины напряжения, до которого заряжается емкостной накопитель. Предпочтительно регулировать величину емкости, так как при изменении величины напряжения нарушается устойчивость импульсного дугового разряда. Это проявляется в появлении пробоев между электродами при повышении напряжения или в уменьшении вероятности инициирования разряда при уменьшении напряжения.
Коэффициент абляции графитового катода рассчитывают по формуле:
где Δm - эрозионная масса (определяется как разность масс катода до эксперимента и после), г; C - величина емкости накопителя, Ф; U - напряжение накопителя, В; n - количество импульсов дугового разряда (Камышанченко Н.В., Ковалева М.Г., Колпаков А.Я., Поплавский А.И. Влияние величины заряда емкостного накопителя на процесс абляции графита в импульсном вакуумно-дуговом разряде // Упрочняющие технологии и покрытия. - 2006. - №5. - С.30-31).
Анализируя формулу (1) можно прийти к очевидному выводу, что увеличение коэффициента абляции свидетельствует о большей эффективности процесса, так как при меньших затратах электрической энергии, расходуемой на зарядку емкостного накопителя, происходит больший вынос массы графитового катода, которая затем ионизируется, превращается в углеродную плазму и осаждается в виде сверхтвердого аморфного углеродного покрытия на подложке.
Увеличение коэффициента абляции свыше 140 мкг/Кл приводит к увеличению величины внутренних напряжений, что связано с повышением доли sp3-фазы в углеродном покрытии. Это может приводить к отслаиванию покрытия при достижении определенной толщины.
Уменьшение коэффициента абляции ниже 70 мкг/Кл приводит к ухудшению его свойств (микротвердости, термостойкости, коэффициента пропускания), что связано увеличением доли sp2-типа связи, соответствующей структуре графита.
Учитывая то обстоятельство, что при больших значениях коэффициента абляции (140 мкг/Кл) формируется покрытие с большим содержанием sp3-фазы (более твердое), а при меньших значениях коэффициента абляции (70 мкг/Кл) - с большим содержанием sp2-фазы (менее твердое, но с меньшим коэффициентом трения), можно реализовать различные режимы для получения углеродного алмазоподобного покрытия с нужными свойствами.
Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме осуществляют следующим образом.
Осуществляют предварительную подготовку поверхности подложки путем обезжиривания. Затем помещают подложку в вакуумную камеру. Камеру вакуумируют до давления не ниже 1·10-3 Па. Производят обработку подложки ускоренными ионами газа с помощью ионного источника. Затем производят бомбардировку поверхности ускоренными ионами металла. При необходимости наносят адгезионный подслой с помощью источника металлической плазмы.
Затем наносят сверхтвердое аморфное углеродное покрытие с использованием импульсного вакумно-дугового разряда на графитовом катоде. Импульсный вакуумно-дуговой разряд имеет следующие параметры: емкость накопителя составляет 1000-1500 мкФ, напряжение на емкостном накопителе 300 В, частота следования импульсов - 1-20 Гц. При этих параметрах на катоде формируются катодные пятна с коэффициентом абляции графитового катода не ниже 140 мкг/Кл при емкости накопителя 1000 мкФ и 70 мкг/Кл при емкости накопителя 1500 мкФ.
Углеродная плазма, формируемая из катодных пятен с коэффициентом абляции не ниже 70 мкг/Кл, конденсируясь на поверхности подложки, образует однородную аморфную структуру с преобладанием sp3-фазы, состоящую из ориентированных различным образом групп-кластеров, в которых атомы углерода образуют тетраэдрическую координацию со связями, характерными для алмаза, что повышает термостойкость получаемого аморфного углеродного покрытия.
Пример 1
Перед нанесением углеродного покрытия взвешивали графитовый катод. В качестве подложки использовали пластинку из твердого сплава, которую закрепляли на приспособлении в вакуумной камере. Камеру вакуумировали до давления 1·10-3 Па.
Проводили обработку поверхности пластины ускоренными ионами аргона, при следующих параметрах разряда: ток разряда - 80 мА, напряжение разряда - 2500 B, время обработки составляло 3 мин. После этого производили обработку поверхности ускоренными ионами титана с приложением ускоряющего потенциала - 1000 B. Затем наносили подслой титана с помощью вакуумно-дугового источника плазмы в течение 1 мин. Затем наносили углеродное покрытие толщиной 1,0 мкм путем импульсного электродугового распыления графитового катода при следующих параметрах: величина емкостного накопителя - 1000 мкФ, напряжение на емкостном накопителе - 300 B, частота следования импульсов - 5 Гц, общее количество импульсов - 2000. Производительность процесса нанесения покрытия составила 0,5 нм/имп. После завершения процесса взвешивали графитовый катод и определяли коэффициент абляции по формуле (1).
Коэффициент абляции равнялся 140 мкг/Кл. Проводили стандартные испытания на истирание пластины с углеродным покрытием. Коэффициент трения по стали составил 0,11.
После этого проводили отжиг пластинки из твердого сплава в печи в атмосфере воздуха при температуре 425°C в течение одного часа. Затем проводили повторные испытания на истирание, которые не показали изменений свойств покрытия. При осмотре под микроскопом отслаивания углеродного покрытия не зафиксировано.
Пример 2
Перед нанесением углеродного покрытия взвешивали графитовый катод. В качестве подложки использовали пластинку из твердого сплава, которую закрепляли на приспособлении в вакуумной камере. Камеру вакуумировали до давления 1·10-3 Па.
Проводили обработку поверхности пластины ускоренными ионами аргона при следующих параметрах разряда: ток разряда - 80 мА, напряжение разряда - 2500 B, время обработки составляло 3 мин. После этого производили обработку поверхности ускоренными ионами титана с приложением ускоряющего потенциала - 1000 B. Затем наносили подслой титана с помощью вакуумно-дугового источника плазмы в течение 1 мин. Затем наносили углеродное покрытие толщиной 1,0 мкм путем импульсного электродугового распыления графитового катода при следующих параметрах: величина емкостного накопителя - 1000 мкФ, напряжение на емкостном накопителе - 300 B, частота следования импульсов - 5 Гц, количество импульсов - 1000. При этом коэффициент абляции составил 140 мкг/Кл. После этого подключали дополнительную емкость 500 мкФ и проводили нанесение углеродного покрытия при следующих режимах: количество импульсов - 500, напряжение накопителя составляло 300 B. При этом коэффициент абляции составил 70 мкг/Кл.
Производительность процесса нанесения покрытия составила 0,7 нм/имп. После завершения процесса взвешивали графитовый катод и определяли коэффициент абляции по формуле (1).
Средний коэффициент абляции равнялся 100 мкг/Кл. Проводили стандартные испытания на истирание пластины с углеродным покрытием. Коэффициент трения по стали составил 0,1.
После этого проводили отжиг пластинки из твердого сплава в печи в атмосфере воздуха при температуре 425°C в течение одного часа. Затем проводили повторные испытания на истирание, которые не показали изменений свойств покрытия. При осмотре под микроскопом отслаивания углеродного покрытия не зафиксировано.
Пример 3
Перед нанесением углеродного покрытия взвешивали графитовый катод. В качестве подложек использовали пластинки из твердого сплава, которые закрепляли на приспособлении в вакуумной камере. Камеру вакуумировали до давления 1·10-3 Па. Проводили обработку поверхности пластин ускоренными ионами азота при следующих параметрах разряда: ток разряда - 80 мА, напряжение разряда - 2500 B, время обработки составляло 5 мин. После этого производили обработку поверхности ускоренными ионами титана с приложением ускоряющего потенциала - 1000 B. Затем наносили сигнальное углеродное покрытие толщиной 180 нм путем импульсного электродугового распыления графитового катода при следующих параметрах: величина емкостного накопителя - 1500 мкФ, напряжение на емкостном накопителе - 300 B, частота следования импульсов - 2,5 Гц, общее количество импульсов - 180. Производительность процесса нанесения покрытия составила 1,0 нм/имп. После завершения процесса взвешивали графитовый катод и определяли коэффициент абляции по формуле (1), который составил 70 мкг/Кл.
Сигнальное покрытие на пластинах имело зеленую интерференционную окраску, которая соответствовала толщине покрытия.
Одну из пластин отжигали в печи при температуре 425°C в течение 1 часа, проводили сравнение цвета исходной пластины и пластины после отжига, а также стандартные испытания на истирание двух пластин с углеродным покрытием. Изменений в цвете не зафиксировано, что свидетельствовало об отсутствии графитизации покрытия после отжига. Результаты испытаний на истирание показали одинаковые результаты. Коэффициент трения составил 0,1.
Таким образом, поставленная задача достигнута. Покрытие, полученное предложенным способом как по примерам 1 и 3 с постоянной величиной коэффициента абляции, так и по примеру 2 с изменением величины коэффициента абляции в процессе нанесения углеродного покрытия, не изменяет своих свойств даже при воздействии температуры 425°C в течение 1 часа.
Claims (3)
1. Способ формирования сверхтвердого термостойкого аморфного углеродного покрытия в вакууме, включающий помещение подложки в вакуумную камеру, которую затем вакуумируют, обработку поверхности подложки ускоренными ионами, нанесение на обработанную поверхность слоя материала, обеспечивающего адгезию последующих слоев, инициирование импульсного электродугового разряда на графитовом катоде и получение импульсного потока углеродной плазмы из множества катодных пятен, перемещающихся по графитовому катоду и осуществляющих его абляцию и генерирующих углеродную плазму, причем для получения сверхтвердого углеродного покрытия конденсируют углеродную плазму на поверхности подложки, при этом поддерживают температуру подложки в пределах от 200 до 450 К посредством регулирования частоты следования импульсов электродугового разряда, отличающийся тем, что получают импульсный поток углеродной плазмы на катоде формированием катодных пятен с коэффициентом абляции графитового катода не ниже 70 мкг/Кл и не выше 140 мкг/Кл.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что величину коэффициента абляции обеспечивают величиной заряда емкостного накопителя.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что коэффициент абляции графитового катода изменяют в процессе нанесения углеродного покрытия пределах от 70 до 140 мкг/Кл.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2009130532/02A RU2430986C2 (ru) | 2009-08-10 | 2009-08-10 | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2009130532/02A RU2430986C2 (ru) | 2009-08-10 | 2009-08-10 | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2009130532A RU2009130532A (ru) | 2011-02-20 |
| RU2430986C2 true RU2430986C2 (ru) | 2011-10-10 |
Family
ID=44805210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2009130532/02A RU2430986C2 (ru) | 2009-08-10 | 2009-08-10 | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2430986C2 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2656312C1 (ru) * | 2017-08-14 | 2018-06-04 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ нанесения твердых износостойких наноструктурных покрытий из аморфного алмазоподобного углерода |
| RU2725941C1 (ru) * | 2019-12-18 | 2020-07-07 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ вакуумной карбидизации поверхности металлов |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994012680A1 (en) * | 1992-11-25 | 1994-06-09 | Gehan Anil Joseph Amaratunga | Doping of highly tetrahedral diamond-like amorphous carbon |
| US5527596A (en) * | 1990-09-27 | 1996-06-18 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
| RU2136483C1 (ru) * | 1993-11-23 | 1999-09-10 | Инженерный центр "Плазмотег" | Абразивный материал для прецизионной обработки поверхности и способ его изготовления |
| US6261424B1 (en) * | 1997-05-30 | 2001-07-17 | Patinor As | Method of forming diamond-like carbon coating in vacuum |
| RU2336159C2 (ru) * | 1994-04-25 | 2008-10-20 | Дзе Джиллетт Компани | Бритвенное лезвие с аморфным алмазным покрытием (варианты) и способ его изготовления, бритвенный блок (варианты) |
-
2009
- 2009-08-10 RU RU2009130532/02A patent/RU2430986C2/ru active IP Right Revival
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5527596A (en) * | 1990-09-27 | 1996-06-18 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
| WO1994012680A1 (en) * | 1992-11-25 | 1994-06-09 | Gehan Anil Joseph Amaratunga | Doping of highly tetrahedral diamond-like amorphous carbon |
| RU2136483C1 (ru) * | 1993-11-23 | 1999-09-10 | Инженерный центр "Плазмотег" | Абразивный материал для прецизионной обработки поверхности и способ его изготовления |
| RU2336159C2 (ru) * | 1994-04-25 | 2008-10-20 | Дзе Джиллетт Компани | Бритвенное лезвие с аморфным алмазным покрытием (варианты) и способ его изготовления, бритвенный блок (варианты) |
| US6261424B1 (en) * | 1997-05-30 | 2001-07-17 | Patinor As | Method of forming diamond-like carbon coating in vacuum |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2656312C1 (ru) * | 2017-08-14 | 2018-06-04 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ нанесения твердых износостойких наноструктурных покрытий из аморфного алмазоподобного углерода |
| RU2725941C1 (ru) * | 2019-12-18 | 2020-07-07 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ вакуумной карбидизации поверхности металлов |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2009130532A (ru) | 2011-02-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6261424B1 (en) | Method of forming diamond-like carbon coating in vacuum | |
| JP4431386B2 (ja) | ナノ構造の機能層を形成する方法、およびこれにより作製される被覆層 | |
| Lin et al. | Diamond like carbon films deposited by HiPIMS using oscillatory voltage pulses | |
| RU2360032C1 (ru) | Способ получения износостойких сверхтвердых покрытий | |
| JP4755262B2 (ja) | ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法 | |
| RU2430992C2 (ru) | Способ нанесения износостойких покрытий на лопатки компрессора гтд | |
| JP2020023754A (ja) | 基板上に金属ホウ炭化物層を製造する方法 | |
| CN110578122A (zh) | 一种AlTiN/AlTiSiN多层纳米复合涂层的制备工艺 | |
| RU2240376C1 (ru) | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме | |
| JP4449187B2 (ja) | 薄膜形成方法 | |
| JP6243796B2 (ja) | ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜方法 | |
| RU2430986C2 (ru) | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме | |
| CN116623129A (zh) | 一种基于反向正脉冲技术的高硬度四面体非晶碳膜ta-C涂层的制备方法 | |
| RU2554828C2 (ru) | Способ нанесения защитного покрытия на поверхность стального изделия | |
| US20060270219A1 (en) | Reducing stress in coatings produced by physical vapour deposition technical field | |
| RU2599073C1 (ru) | Способ ионно-плазменного нанесения многослойного покрытия на изделия из алюминиевых сплавов | |
| JP2003082458A (ja) | 非晶質炭素被膜の形成装置及び形成方法 | |
| CN111378947B (zh) | 一种类金刚石薄膜的制备方法 | |
| JP5360603B2 (ja) | 非晶質炭素被覆部材の製造方法 | |
| JP2024539171A (ja) | スパッタリングによって高硬度かつ超平滑なａ－Ｃを形成するための方法 | |
| CN103590003A (zh) | 物理气相沉积在旋转机械叶片表面制备硬阻尼涂层的方法 | |
| JP2001192206A (ja) | 非晶質炭素被覆部材の製造方法 | |
| CN115058697A (zh) | 稳态刚玉结构钛铝铬铌氧化物涂层及其制备方法 | |
| RU2515714C1 (ru) | Способ нанесения нанокомпозитного покрытия на поверхность стального изделия | |
| JP6749134B2 (ja) | 基材とｄｌｃ層との間に形成される中間層の形成方法およびｄｌｃ膜被覆部材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20130811 |
|
| NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20150210 |