RU2296180C2 - Coating on articles applying method in vacuum chamber - Google Patents
Coating on articles applying method in vacuum chamber Download PDFInfo
- Publication number
- RU2296180C2 RU2296180C2 RU2005113498/02A RU2005113498A RU2296180C2 RU 2296180 C2 RU2296180 C2 RU 2296180C2 RU 2005113498/02 A RU2005113498/02 A RU 2005113498/02A RU 2005113498 A RU2005113498 A RU 2005113498A RU 2296180 C2 RU2296180 C2 RU 2296180C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- oxygen
- coatings
- magnetron sputtering
- spraying
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
Предлагаемое изобретение относится к технологии получения покрытий методом магнетронного распыления и может быть использовано при нанесении защитных износостойких покрытий на различные изделия в производствах, требующих высокой адгезионной стойкости покрытий на различных изделиях, в том числе выполненных из сталей, твердых сплавов и жаропрочных материалов.The present invention relates to a technology for producing coatings by magnetron sputtering and can be used when applying protective wear-resistant coatings to various products in industries requiring high adhesion resistance of coatings on various products, including those made of steel, hard alloys and heat-resistant materials.
Известен способ нанесения покрытий в вакууме, при котором изделия помещают в вакуумную камеру, вакуумируют ее, зажигают электрическую дугу для испарения материала катода, к изделию прикладывают напряжение смещения и проводят его очистку и разогрев потоком ионов испаряемого материала катода до температуры конденсации покрытия, затем в камеру подают газ-реагент, напряжения смещения снижают и выдерживают изделия в течение времени конденсации покрытий в этих условиях, а затем дуговой разряд выключают, с изделий снимают напряжение смещения, а подачу газа-реагента прекращают («Физика и химия обработки материалов», №4, 1981 г., стр.43-46) - аналог.A known method of coating in vacuum, in which the product is placed in a vacuum chamber, vacuum it, ignite an electric arc to evaporate the cathode material, a bias voltage is applied to the product and it is cleaned and heated by the ion flow of the evaporated cathode material to the coating condensation temperature, then into the chamber the reactant gas is supplied, the bias voltages are reduced and the products withstand during the condensation time of the coatings under these conditions, and then the arc discharge is turned off, the bias is removed from the products And supplying the reactant gas is stopped ( "Physics and Materials Processing Chemistry», №4, 1981, at str.43-46) - analogue.
Недостатками данного решения являются низкая твердость получаемых покрытий, невысокая адгезия и значительная пористость покрытий, а следовательно, их низкая долговечность, например, при эксплуатации в условиях трения и износа.The disadvantages of this solution are the low hardness of the resulting coatings, low adhesion and significant porosity of the coatings, and therefore their low durability, for example, when used in friction and wear.
Известен способ получения защитно-декоративных покрытий на изделиях в вакуумной камере методом магнетронного распыления материала, заключающийся в том, что изделия размещают в вакуумной камере, которую перед процессом распыления откачивают, нагревают и подают в нее кислород (патент РФ №2100476, МКИ 6: С 23 С 14/35, опубл. 27.12.97 г., БИ №36) - прототип.A known method of producing protective and decorative coatings on products in a vacuum chamber by magnetron sputtering of the material, which consists in the fact that the products are placed in a vacuum chamber, which is pumped out before the spraying process, heated and oxygen is supplied to it (RF patent No. 2100476, MKI 6: C 23 C 14/35, publ. 12/27/97, BI No. 36) - prototype.
Недостатками известного решения являются низкая производительность процесса нанесения покрытий и недостаточная адгезия получаемых покрытий и как следствие низкая долговечность покрытий, особенно работающих в условиях высоких температур или их значительного перепада.The disadvantages of the known solutions are the low productivity of the coating process and the insufficient adhesion of the resulting coatings and, as a consequence, the low durability of the coatings, especially those operating at high temperatures or their significant difference.
Задача изобретения заключается в повышении прочности и плотности покрытий, особенно при эксплуатации в условиях трения и износа, увеличении адгезии покрытий и повышении долговечности покрытий при работе изделий с покрытиями в условиях высокой температуры, а также получение покрытий из чистых материалов при низком содержании примесей.The objective of the invention is to increase the strength and density of coatings, especially when used in friction and wear conditions, increase the adhesion of coatings and increase the durability of coatings when working with coatings at high temperatures, as well as obtaining coatings from pure materials with a low content of impurities.
Указанный технический результат достигается тем, что в способе нанесения покрытия на изделия в вакуумной камере методом магнетронного распыления материала изделия размещают в вакуумной камере, которую перед процессом распыления откачивают, нагревают и подают в нее кислород, причем перед процессом распыления в вакуумной камере создают разрежение не более 10-3 Па, а нагрев вакуумной камеры осуществляют до температуры не ниже 100°С, кислород подают для осуществления ионной очистки размещенных в камере изделий, которую осуществляют после нагрева вакуумной камеры и перед началом распыления материала, причем ионную очистку осуществляют последовательно отдельно кислородом и отдельно аргоном, общее время ионной очистки составляет 5-15 мин, а время ионной очистки кислородом не менее 2 мин, магнетронное распыление осуществляют со скоростью не менее 6 мкм/ч, причем в качестве материала распыления используют серебро.The specified technical result is achieved by the fact that in the method of coating products in a vacuum chamber by magnetron sputtering, the material of the product is placed in a vacuum chamber, which is pumped out before heating, heated and oxygen is supplied to it, and no more than a vacuum is applied before spraying in the vacuum chamber 10 -3 Pa, and the heating of the vacuum chamber is carried out to a temperature not lower than 100 ° C, oxygen is supplied to carry out ionic cleaning of the products placed in the chamber, which is carried out after heating the vacuum chamber and before starting the spraying of the material, moreover, the ion cleaning is carried out sequentially separately by oxygen and separately by argon, the total time of ion cleaning is 5-15 minutes, and the time of ion cleaning by oxygen is not less than 2 minutes, magnetron sputtering is carried out at a speed of at least 6 μm / h, and silver is used as the spraying material.
Для достижения оптимальных результатов при реализации способа:To achieve optimal results when implementing the method:
- в способе время ионной очистки кислородом может составлять 4 минуты, а аргоном - остальное;- in the method, the time of ion cleaning with oxygen can be 4 minutes, and with argon - the rest;
- в способе нагрев вакуумной камеры могут осуществлять до температуры, не превышающей температуру растворения пленки на изделии, что для серебра составляет 600°С, хотя при частичном ухудшении качества покрытия температура может быть и больше, что в каждом конкретном случае зависит от степени ответственности изделий, на которые наносят покрытие;- in the method, the heating of the vacuum chamber can be carried out to a temperature not exceeding the dissolution temperature of the film on the product, which is 600 ° C for silver, although with a partial deterioration in the quality of the coating, the temperature can be even higher, which in each case depends on the degree of responsibility of the products, which are coated;
- в способе в вакуумной камере перед процессом напыления могут создавать разрежение в интервале от 5×10-2 Па до 10-1 Па;- in the method in a vacuum chamber before the spraying process can create a vacuum in the range from 5 × 10 -2 PA to 10 -1 PA;
- в способе скорость магнетронного напыления может обеспечиваться блоком питания, включающим импульсную систему питания с переменной частотой 6-10 КГц и скважностью 2-10;- in the method, the speed of the magnetron sputtering can be provided by a power supply, including a pulse power system with a variable frequency of 6-10 KHz and a duty cycle of 2-10;
- в способе скорость магнетронного напыления могут регулировать величиной силы тока разряда или его мощностью;- in the method, the speed of the magnetron sputtering can be controlled by the magnitude of the discharge current or its power;
- в способе могут использовать источник питания с силой тока разряда не менее 400 мА или мощностью не менее 2 кВт;- in the method they can use a power source with a discharge current of at least 400 mA or a power of at least 2 kW;
- в способе в процессе магнетронного напыления силу тока разряда могут поддерживать с точностью не менее 2%;- in the method in the process of magnetron sputtering, the discharge current can be maintained with an accuracy of at least 2%;
- в способе в процессе магнетронного напыления мощность могут поддерживать с точностью не менее 20 Вт в диапазоне регулирования до 10 кВт.- in the method in the process of magnetron sputtering, the power can be maintained with an accuracy of at least 20 W in the control range up to 10 kW.
В заявляемом способе указанный технический результат достигается только при совместном использовании указанных существенных признаков в приведенных интервалах, а именно:In the claimed method, the specified technical result is achieved only with the joint use of these essential features in the above intervals, namely:
- ионная очистка состоит из двух последовательных этапов очистки сначала кислородом, а потом аргоном.- ion purification consists of two successive stages of purification, first with oxygen, and then with argon.
Очистку кислородом осуществляют для удаления органических загрязнений на изделиях, а очистку аргоном - как подготовительный этап для удаления с изделий пленки загрязнений, оставшейся на них после ионной обработки кислородом, причем общее время ионной очистки должно быть не менее 5 минут и не более 15 минут, а время ионной очистки кислородом не менее 2 минут. Если ионную очистку проводить менее 5 минут, и в том числе ионную очистку кислородом проводить менее 2 минут, то это отрицательно скажется на адгезии покрытия из-за недостаточной очистки поверхности изделий перед его нанесением, а при продолжительной ионной очистке (более 15 минут) возникает аморфизация поверхности, что также уменьшает адгезию покрытий, а следовательно, их прочность и долговечность;Oxygen purification is carried out to remove organic contaminants on the products, and argon purification is used as a preparatory step for removing from the film a film of contaminants remaining on them after ion treatment with oxygen, and the total ion cleaning time should be at least 5 minutes and no more than 15 minutes, and ion cleaning time with oxygen not less than 2 minutes. If ionic cleaning is carried out for less than 5 minutes, including ionic cleaning with oxygen for less than 2 minutes, this will adversely affect the adhesion of the coating due to insufficient cleaning of the surface of the products before application, and amorphization occurs with prolonged ionic cleaning (more than 15 minutes) surfaces, which also reduces the adhesion of coatings, and therefore their strength and durability;
- при нагреве вакуумной камеры до температуры ниже 100°С не происходит удаление из нее газов, что также снижает адгезию покрытия, а кроме того, не позволяет получить чистое покрытие из-за возможного наличия в его составе различных примесей;- when the vacuum chamber is heated to a temperature below 100 ° C, no gas is removed from it, which also reduces the adhesion of the coating, and in addition, does not allow a clean coating due to the possible presence of various impurities in its composition;
- при создании в вакуумной камере более глубокого разрежения чем 10-3 Па ухудшается качество покрытия, например его чистота, а также адгезионные показатели, что происходит из-за влияния атмосферы, которое проявляется в воздействии на процесс нанесения покрытий оксидов, попадании в вакуумную камеру газов или воды;- when creating a deeper vacuum in the vacuum chamber than 10 -3 Pa, the quality of the coating deteriorates, for example, its purity, as well as adhesion indicators, which is due to the influence of the atmosphere, which manifests itself in the effect on the coating process of oxides, the ingress of gases into the vacuum chamber or water;
- магнетронное распыление осуществляют со скоростью не менее 6 мкм/ч. При скорости менее 6 мкм/ч ухудшаются прочностные характеристики покрытия, а именно вязкость, увеличивается его жесткость и т.д., а увеличение скорости связано только с характеристиками блока питания и ограничивается ими, при этом оптимальная скорость напыления серебра с указанными в формуле параметрами составляет 6-9 мкм/ч;- magnetron sputtering is carried out at a speed of not less than 6 μm / h. At a speed of less than 6 μm / h, the strength characteristics of the coating deteriorate, namely viscosity, its stiffness, etc. increases, and the increase in speed is associated only with the characteristics of the power supply and is limited by them, while the optimal silver deposition rate with the parameters specified in the formula is 6-9 μm / h;
- в качестве материала покрытия используют серебро, так как в этом случае образуется тугоплавкое, легко прирабатываемое, антипригарное покрытие, которое характеризуется высокими прочностными характеристиками, особенно при эксплуатации в условиях трения и износа, высокой адгезией, в том числе и при работе изделий в условиях высокой температуры.- silver is used as the coating material, since in this case a refractory, easily run-in, non-stick coating is formed, which is characterized by high strength characteristics, especially when used under friction and wear conditions, high adhesion, including when the products are operated under high temperature.
И, кроме того, именно этот металл позволяет в сочетании с другими существенными признаками заявляемого изобретения получить заявленный технический результат.And, in addition, it is this metal that allows, in combination with other essential features of the claimed invention, to obtain the claimed technical result.
Заявляемый способ базируется на следующих теоретических предпосылках. Действие магнетронного распылителя основано на распылении материала мишени-катода при его бомбардировке ионами рабочего газа, образующимися в плазме аномально тлеющего разряда. Возникающая при этом вторичная эмиссия поддерживает разряд и обуславливает распыление материала мишени-катода. Магнетронная распылительная система является одной из разновидностей схем диодного распыления. Основные элементы магнетронной распылительной системы: мишень-катод, анод и магнитная система, предназначены для локализации плазмы у поверхности мишени-катода, который, как правило, охлаждается проточной водой, поступающей по трубопроводу. На катод подается постоянное напряжение (как правило, 300-800 В) через клемму от источника питания, под мишенью-катодом расположена магнитная система, состоящая из центрального и периферийных постоянных магнитов, расположенных на основании из магнитомягкого материала. Все элементы смонтированы в корпусе, присоединенном к вакуумной камере через изолирующие вакуумно-плотные уплотнения.The inventive method is based on the following theoretical premises. The action of the magnetron sputter is based on the sputtering of the target cathode material during its bombardment by working gas ions generated in the plasma of an abnormally glowing discharge. The secondary emission resulting from this maintains the discharge and causes the sputtering of the target cathode material. The magnetron sputtering system is one of the varieties of diode sputtering schemes. The main elements of the magnetron sputtering system: the cathode target, the anode and the magnetic system, are designed to localize the plasma at the surface of the cathode target, which, as a rule, is cooled by running water flowing through the pipeline. A constant voltage (usually 300-800 V) is supplied to the cathode through the terminal from the power source, under the target cathode there is a magnetic system consisting of central and peripheral permanent magnets located on the base of soft magnetic material. All elements are mounted in a housing connected to the vacuum chamber through insulating vacuum-tight seals.
Основными преимуществами магнетронного способа напыления являются, как известно, высокая скорость нанесения пленки и точность состава распыляемого материала в покрытии. Причем скорость конденсации при магнетронном распылении зависит от силы тока разряда или мощности и от давления рабочего тела, что определяет довольно жесткие требования к источникам питания. Для обеспечения оптимальной воспроизводимости и стабильности процесса силу тока разряда поддерживают с точностью 2%, если же стабилизация процесса осуществляется по мощности разряда, то подводимую мощность поддерживают с точностью 20 Вт в диапазоне регулирования до 10 кВт.The main advantages of the magnetron sputtering method are, as you know, the high speed of film deposition and the accuracy of the composition of the sprayed material in the coating. Moreover, the condensation rate during magnetron sputtering depends on the strength of the discharge current or power and on the pressure of the working fluid, which determines rather stringent requirements for power sources. To ensure optimal reproducibility and stability of the process, the discharge current is maintained with an accuracy of 2%, but if the process is stabilized by the discharge power, the input power is maintained with an accuracy of 20 W in the control range up to 10 kW.
Пример конкретного выполнения способа.An example of a specific implementation of the method.
Задание: нанести покрытие из серебра на лопатки компрессора из сплава ЭП-718ИД, при этом исходя из технологических условий толщина покрытия должна составлять 3-5 мкм, а само покрытие должно соответствовать требованиям ГОСТ 9.301-86.Task: to apply a silver coating on the blades of a compressor made of EP-718ID alloy, while proceeding from technological conditions, the coating thickness should be 3-5 microns, and the coating should comply with the requirements of GOST 9.301-86.
Для формирования покрытия из серебра использовался метод магнетронного распыления на постоянном токе, который основан на использовании скрещенного магнитного и электрического полей для повышения эффективности ионизации рабочего газа и создания над поверхностью мишени-катода области плотной плазмы. На катод магнетрона по отношению к заземленному аноду подавали напряжение от 400 до 600 В. Распыление материала мишени происходит за счет ее бомбардировки ионами рабочего газа, в данном случае аргона, а в качестве материала мишени-катода использовали серебро с чистотой 99,99%. Напуск газа в вакуумную камеру осуществляли при помощи регулятора расхода газа, входящего в состав системы напуска.To form a silver coating, the direct current magnetron sputtering method was used, which is based on the use of crossed magnetic and electric fields to increase the ionization efficiency of the working gas and create a dense plasma region above the cathode target surface. A voltage of 400 to 600 V was applied to the magnetron cathode with respect to the grounded anode. The sputtering of the target material occurs due to its bombardment by working gas ions, in this case argon, and silver with a purity of 99.99% was used as the material of the cathode target. Gas inlet into the vacuum chamber was carried out using the gas flow regulator, which is part of the inlet system.
После загрузки изделий в установку и размещения их в вакуумной камере, например, по направляющим вакуумной камеры проводилась откачка камеры до давления 10-3 Па. Перед нанесением серебра для повышения адгезионных свойств покрытия поверхность обрабатываемых компрессорных лопаток в течение 4 минут подвергалась обработке ионами кислорода и 7 минут ионами аргона при следующих параметрах ионного источника I=500 мА, U=2,4 кВт. После окончания очистки включался напуск рабочего газа, а именно аргона, со скоростью, определяемой давлением в вакуумной камере, которое составляло 5×10-2 Па до 10-1 Па, а после стабилизации давления включались магнетронные распылители при значениях тока и рабочего напряжения магнетронов в интервалах от 0,5-3,0 А и 300-650 В соответственно. Давление в вакуумной камере автоматически поддерживалось в интервале от 5×10-2 Па до 10-1 Па, при котором наблюдается скорость напыления серебра около 7 мкм/ч. Процесс нанесения покрытия осуществляли в вакуумной камере без вынимания из нее изделий до окончания процесса обработки. После окончания заданного количества циклов перемещения обрабатываемых изделий в вакуумной камере (зависит от необходимой толщины покрытия) установка автоматически отключается и в нее производится напуск атмосферы.After loading the products into the installation and placing them in a vacuum chamber, for example, along the guides of the vacuum chamber, the chamber was pumped out to a pressure of 10 -3 Pa. Before applying silver to increase the adhesive properties of the coating, the surface of the treated compressor blades was treated with oxygen ions and 7 minutes with argon ions for 4 minutes at the following ion source parameters I = 500 mA, U = 2.4 kW. After cleaning, the inlet of the working gas, namely argon, was switched on at a speed determined by the pressure in the vacuum chamber, which amounted to 5 × 10 -2 Pa to 10 -1 Pa, and after stabilization of the pressure, the magnetron sprays were turned on at the current and operating voltage of the magnetrons in ranges from 0.5-3.0 A and 300-650 V, respectively. The pressure in the vacuum chamber was automatically maintained in the range from 5 × 10 -2 Pa to 10 -1 Pa, at which a silver deposition rate of about 7 μm / h was observed. The coating process was carried out in a vacuum chamber without removing products from it until the end of the processing process. After the end of a given number of cycles of movement of the processed products in a vacuum chamber (depending on the required coating thickness), the installation is automatically turned off and the atmosphere is let into it.
Для изменения толщины покрытий возможно использование других режимов или параметров напыления (время, количество циклов и т.д.), однако основные параметры режима, указанные в независимом пункте формулы изобретения, должны использоваться в интервалах, приведенных в независимом пункте формулы изобретения.To change the thickness of the coatings, it is possible to use other modes or spraying parameters (time, number of cycles, etc.), however, the main parameters of the mode specified in the independent claim should be used at the intervals given in the independent claim.
Толщина получаемой пленки в соответствии с техническим заданием должна составить от 3 до 5 мкм, а прочность сцепления покрытия с основным металлом соответствовать требованиям действующей нормативной документации.The thickness of the obtained film in accordance with the technical specifications should be from 3 to 5 microns, and the adhesion strength of the coating with the base metal must comply with the requirements of the current regulatory documentation.
В соответствии с требованиями ГОСТ 9.301-86 качество покрытия проверялось:In accordance with the requirements of GOST 9.301-86, the quality of the coating was checked:
- по внешнему виду;- in appearance;
- по толщине покрытия;- by coating thickness;
- на прочность сцепления с основным металлом.- on the strength of adhesion to the base metal.
Контроль прочности сцепления производился двумя методами:Adhesion control was carried out by two methods:
- методом нагрева, в соответствии с ГОСТ 9.302-88 п.5.9;- heating method, in accordance with GOST 9.302-88 p.5.9;
- методом измерения температур с ГОСТ 9.302-88 п.5.10,- a method of measuring temperatures with GOST 9.302-88 p. 5.10,
а контроль толщины покрытия:and coating thickness control:
- гравиметрическим методом;- gravimetric method;
- микроскопом металлографическим.- metallographic microscope.
Результаты контроля показали, что при измерении гравиметрическим методом толщина покрытий составила на изделиях от 3,2-3,5 мкм, микроскопом металлографическим - от 3 до 5 мкм, а по внешнему виду и прочности сцепления с основным металлом покрытия соответствуют требованиям действующей нормативно-технической документации.The control results showed that when measured by the gravimetric method, the thickness of the coatings on the products was from 3.2 to 3.5 microns, by a metallographic microscope from 3 to 5 microns, and in appearance and adhesion to the base metal of the coating, they comply with the requirements of the current regulatory and technical documentation.
Claims (9)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2005113498/02A RU2296180C2 (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Coating on articles applying method in vacuum chamber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2005113498/02A RU2296180C2 (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Coating on articles applying method in vacuum chamber |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2296180C2 true RU2296180C2 (en) | 2007-03-27 |
Family
ID=37999320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2005113498/02A RU2296180C2 (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Coating on articles applying method in vacuum chamber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2296180C2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2393913C2 (en) * | 2007-11-20 | 2010-07-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский авиационный институт (государственный технический университет) (МАИ) | Method to produce nano-size metal diaphragms |
| RU2519709C2 (en) * | 2008-11-18 | 2014-06-20 | Ерликон Трейдинг Аг, Трюббах | Method of processing substrates for coating application by vapour deposition |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2100476C1 (en) * | 1996-04-01 | 1997-12-27 | Виктор Иванович Прокофьев | Method of manufacturing protective-decorative coatings |
| RU2190692C1 (en) * | 2001-03-13 | 2002-10-10 | Суханов Александр Аркадьевич | Low-emission coat applied on transparent substrate |
| RU2214476C2 (en) * | 2001-07-18 | 2003-10-20 | Дочернее государственное предприятие "Институт ядерной физики" Национального ядерного центра Республики Казахстан | Method of forming coat from precious metals and their alloys |
-
2005
- 2005-05-04 RU RU2005113498/02A patent/RU2296180C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2100476C1 (en) * | 1996-04-01 | 1997-12-27 | Виктор Иванович Прокофьев | Method of manufacturing protective-decorative coatings |
| RU2190692C1 (en) * | 2001-03-13 | 2002-10-10 | Суханов Александр Аркадьевич | Low-emission coat applied on transparent substrate |
| RU2214476C2 (en) * | 2001-07-18 | 2003-10-20 | Дочернее государственное предприятие "Институт ядерной физики" Национального ядерного центра Республики Казахстан | Method of forming coat from precious metals and their alloys |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2393913C2 (en) * | 2007-11-20 | 2010-07-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский авиационный институт (государственный технический университет) (МАИ) | Method to produce nano-size metal diaphragms |
| RU2519709C2 (en) * | 2008-11-18 | 2014-06-20 | Ерликон Трейдинг Аг, Трюббах | Method of processing substrates for coating application by vapour deposition |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103805996B (en) | The compounding method of the first plated film of a kind of metal material surface nitriding again | |
| PL1619265T3 (en) | Method and system for coating internal surfaces of prefabricated process piping in the field | |
| CN104278234B (en) | Preparation technology for self-lubricating coating with wide temperature range of room temperature to 800 DEG C | |
| RU2489514C1 (en) | METHOD FOR OBTAINING WEAR-RESISTANT COATING BASED ON INTERMETALLIC COMPOUND OF Ti-Al SYSTEM | |
| RU2361013C1 (en) | Method of wear-resistant coating receiving | |
| CA2916769A1 (en) | Tib2 layers and manufacture thereof | |
| JP4122387B2 (en) | Composite hard coating, method for producing the same, and film forming apparatus | |
| RU2660502C1 (en) | Method for applying a coating to the surface of a steel product | |
| RU2296180C2 (en) | Coating on articles applying method in vacuum chamber | |
| RU2146724C1 (en) | Method for depositing composite coatings | |
| RU2012100186A (en) | METHOD FOR APPLICATION ON METAL PARTS OF COMPLEX PROTECTIVE COATING AGAINST EXPOSURE TO HYDROGEN | |
| RU2296181C2 (en) | Gas-turbine engine blade surface treatment method | |
| US8642140B2 (en) | Ceramic coating deposition | |
| JP2024539171A (en) | Method for forming high hardness and ultra smooth a-C by sputtering - Patent Application 20070123333 | |
| CN116103607A (en) | Ion cleaning method, coating preparation method and coating | |
| RU2566232C1 (en) | Method of combined ion-plasma treatment of products out of aluminium alloys | |
| US7279078B2 (en) | Thin-film coating for wheel rims | |
| KR20110117528A (en) | Aluminum thin film coating method | |
| RU2788878C1 (en) | Method for magnetron sputtering of coatings on a moving metal wire | |
| RU2612113C1 (en) | Method for ion-plasma application of wear and corrosion resistant coating on items of aluminum alloys | |
| US20120164480A1 (en) | Coated article and method for making the same | |
| US20100092799A1 (en) | Metal coating process and product | |
| RU2192500C2 (en) | Method of ion-plasma coating of polymer material articles | |
| JP2015506410A (en) | Low temperature arc discharge ion plating coating | |
| CN111020522B (en) | Composite type substrate continuous coating system based on gas discharge type high-power electron gun |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20090505 |