[go: up one dir, main page]

RU2014120463A - Сверло с покрытием - Google Patents

Сверло с покрытием Download PDF

Info

Publication number
RU2014120463A
RU2014120463A RU2014120463/02A RU2014120463A RU2014120463A RU 2014120463 A RU2014120463 A RU 2014120463A RU 2014120463/02 A RU2014120463/02 A RU 2014120463/02A RU 2014120463 A RU2014120463 A RU 2014120463A RU 2014120463 A RU2014120463 A RU 2014120463A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
metal
deposited
dlc
hipims
Prior art date
Application number
RU2014120463/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2618292C2 (ru
Inventor
Зигфрид КРАССНИТЦЕР
Original Assignee
Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах filed Critical Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Publication of RU2014120463A publication Critical patent/RU2014120463A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2618292C2 publication Critical patent/RU2618292C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23B—TURNING; BORING
    • B23B51/00—Tools for drilling machines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0635—Carbides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
    • C23C14/345—Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3485—Sputtering using pulsed power to the target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3492—Variation of parameters during sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/354—Introduction of auxiliary energy into the plasma
    • C23C14/355—Introduction of auxiliary energy into the plasma using electrons, e.g. triode sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/548—Controlling the composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26—Deposition of carbon only
    • C23C16/27—Diamond only
    • C23C16/276—Diamond only using plasma jets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26—Deposition of carbon only
    • C23C16/27—Diamond only
    • C23C16/277—Diamond only using other elements in the gas phase besides carbon and hydrogen; using other elements besides carbon, hydrogen and oxygen in case of use of combustion torches; using other elements besides carbon, hydrogen and inert gas in case of use of plasma jets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26—Deposition of carbon only
    • C23C16/27—Diamond only
    • C23C16/278—Diamond only doping or introduction of a secondary phase in the diamond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/046—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with at least one amorphous inorganic material layer, e.g. DLC, a-C:H, a-C:Me, the layer being doped or not
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/048—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with layers graded in composition or physical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405—Magnetron sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3464—Operating strategies
    • H01J37/3467—Pulsed operation, e.g. HIPIMS
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23B—TURNING; BORING
    • B23B2228/00—Properties of materials of tools or workpieces, materials of tools or workpieces applied in a specific manner
    • B23B2228/10—Coatings
    • B23B2228/105—Coatings with specified thickness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23G—THREAD CUTTING; WORKING OF SCREWS, BOLT HEADS, OR NUTS, IN CONJUNCTION THEREWITH
    • B23G2200/00—Details of threading tools
    • B23G2200/26—Coatings of tools
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23G—THREAD CUTTING; WORKING OF SCREWS, BOLT HEADS, OR NUTS, IN CONJUNCTION THEREWITH
    • B23G5/00—Thread-cutting tools; Die-heads
    • B23G5/02—Thread-cutting tools; Die-heads without means for adjustment
    • B23G5/06—Taps
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T408/00—Cutting by use of rotating axially moving tool
    • Y10T408/78—Tool of specific diverse material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T408/00—Cutting by use of rotating axially moving tool
    • Y10T408/89—Tool or Tool with support

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Drilling Tools (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

1. Сверло, предпочтительно метчик, с покрытием, которое выполнено по меньшей мере на сверлильной головке сверла или, соответственно, при необходимости на заборной части метчика, и имеет по меньшей мере один слой, нанесенный магнетронным распылением импульсами высокой мощности (HIPIMS-слой), который предпочтительно нанесен непосредственно на корпус сверла, отличающееся тем, что HIPIMS-слой имеет по меньшей мере один слой по меньшей мере из одного нитрида и/или карбида.2. Сверло по п. 1, отличающееся тем, что HIPIMS-слой содержит по меньшей мере один, предпочтительно два металла из группы, состоящей из хрома, титана, алюминия и вольфрама.3. Сверло по п. 2, отличающееся тем, что HIPIMS-слой представляет собой (Al,Cr)N-слой.4. Сверло по одному из пп. 1-3, отличающееся тем, что на HIPIMS-слое предусмотрен углеродсодержащий слой (DLC-слой), предпочтительно металлсодержащий DLC-слой.5. Сверло по п. 4, отличающееся тем, что по меньшей мере один металлический элемент в металлсодержащем DLC-слое совпадает с металлическим элементом в HIPIMS-слое.6. Сверло по п. 5, отличающееся тем, что между HIPIMS-слоем и металлсодержащим DLC-слоем осажден по меньшей мере один азот-углеродсодержащий слой, содержание азота в котором постепенно сокращается к поверхности.7. Сверло по п. 4, отличающееся тем, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается по направлению к поверхности.8. Сверло по п. 5, отличающееся тем, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается по направлению к поверхности.9. Сверло по п. 6, отличающееся тем, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается по направлению к поверхности.10. Сверло по одному из пп. 1-3, отличающееся тем, что общая толщина по�

Claims (23)

1. Сверло, предпочтительно метчик, с покрытием, которое выполнено по меньшей мере на сверлильной головке сверла или, соответственно, при необходимости на заборной части метчика, и имеет по меньшей мере один слой, нанесенный магнетронным распылением импульсами высокой мощности (HIPIMS-слой), который предпочтительно нанесен непосредственно на корпус сверла, отличающееся тем, что HIPIMS-слой имеет по меньшей мере один слой по меньшей мере из одного нитрида и/или карбида.
2. Сверло по п. 1, отличающееся тем, что HIPIMS-слой содержит по меньшей мере один, предпочтительно два металла из группы, состоящей из хрома, титана, алюминия и вольфрама.
3. Сверло по п. 2, отличающееся тем, что HIPIMS-слой представляет собой (Al,Cr)N-слой.
4. Сверло по одному из пп. 1-3, отличающееся тем, что на HIPIMS-слое предусмотрен углеродсодержащий слой (DLC-слой), предпочтительно металлсодержащий DLC-слой.
5. Сверло по п. 4, отличающееся тем, что по меньшей мере один металлический элемент в металлсодержащем DLC-слое совпадает с металлическим элементом в HIPIMS-слое.
6. Сверло по п. 5, отличающееся тем, что между HIPIMS-слоем и металлсодержащим DLC-слоем осажден по меньшей мере один азот-углеродсодержащий слой, содержание азота в котором постепенно сокращается к поверхности.
7. Сверло по п. 4, отличающееся тем, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается по направлению к поверхности.
8. Сверло по п. 5, отличающееся тем, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается по направлению к поверхности.
9. Сверло по п. 6, отличающееся тем, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается по направлению к поверхности.
10. Сверло по одному из пп. 1-3, отличающееся тем, что общая толщина покрытия составляет от 0,1 мкм до 10 мкм.
11. Сверло по одному из пп. 1-3, отличающееся тем, что сверло представляет собой микросверло, и общая толщина покрытия предпочтительно составляет от 0,01 мкм до 5 мкм.
12. Способ нанесения покрытия для нанесения покрытий на подложки, при котором по меньшей мере один первый и по меньшей мере один второй слой осаждают по меньшей мере на одну часть поверхности подложки, отличающийся тем, что
- первый слой представляет собой HIPIMS-слой, который осажден с помощью HIPIMS-способа, предпочтительно непосредственно на поверхность подложки, и
- второй слой осаждают на первый слой с помощью способа нанесения покрытия другого типа, предпочтительно с помощью традиционного магнетронного распыления (MS) и/или плазмохимического газофазного осаждения (PACVD-способа), и/или комбинированного MS/PACVD-способа.
13. Способ по п. 12, отличающийся тем, что HIPIMS-слой осаждают содержащим по меньшей мере один нитрид, и/или карбид, и/или оксид, и/или второй слой осаждают содержащим углерод, предпочтительно второй слой осаждают в виде DLC-слоя или металлсодержащего DLC-слоя.
14. Способ по одному из пп. 12 и 13, отличающийся тем, что HIPIMS-слой осаждают содержащим по меньшей мере один, предпочтительно два металла из группы, состоящей из хрома, титана, алюминия и вольфрама, предпочтительно HIPIMS-слой осажден в виде (Al,Cr)N-слоя или (Al,Cr)N-содержащего слоя.
15. Способ по п. 13, отличающийся тем, что металл, который используют для осаждения металлсодержащего DLC-слоя, совпадает с металлом в HIPIMS-слое.
16. Способ по п. 14, отличающийся тем, что металл, который используют для осаждения металлсодержащего DLC-слоя, совпадает с металлом в HIPIMS-слое.
17. Способ по п. 13, отличающийся тем, что металлсодержащий DLC-слой осаждают таким образом, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается к поверхности, и предпочтительно на металлсодержащий DLC-слой наносят не содержащий металла DLC-слой покрытия для ускорения приработки в качестве покровного слоя.
18. Способ по п. 14, отличающийся тем, что металлсодержащий DLC-слой осаждают таким образом, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается к поверхности, и предпочтительно на металлсодержащий DLC-слой наносят не содержащий металла DLC-слой покрытия для ускорения приработки в качестве покровного слоя.
19. Способ по п. 15, отличающийся тем, что металлсодержащий DLC-слой осаждают таким образом, что содержание металла в DLC-слое постепенно сокращается к поверхности, и предпочтительно на металлсодержащий DLC-слой наносят не содержащий металла DLC-слой покрытия для ускорения приработки в качестве покровного слоя.
20. Способ по п. 13, отличающийся тем, что
- HIPIMS-слой осаждают в качестве функционального слоя, предпочтительно из (Al,Cr)N или содержащего (Al,Cr)N, предпочтительно с концентрацией алюминия относительно хрома от около 70 Al к 30 Cr в атомных процентах, и
- второй слой осаждают в качестве антифрикционного слоя, предпочтительно с использованием MS-способа или комбинированного MS/PACVD-способа, предпочтительно из хромсодержащего DLC-способа, и
- между HIPIMS-слоем и вторым слоем осаждают по меньшей мере один промежуточный слой, предпочтительно осаждают по меньшей мере два промежуточных слоя, предпочтительно из CrN и/или CrCN, и
- предпочтительно не содержащий металла DLC-слой покрытия для ускорения приработки в качестве покровного слоя наносят на металлсодержащий DLC-слой.
21. Способ по п. 14, отличающийся тем, что
- HIPIMS-слой осаждают в качестве функционального слоя, предпочтительно из (Al,Cr)N или содержащего (Al,Cr)N, предпочтительно с концентрацией алюминия относительно хрома от около 70 Al к 30 Cr в атомных процентах, и
- второй слой осаждают в качестве антифрикционного слоя, предпочтительно с использованием MS-способа или комбинированного MS/PACVD-способа, предпочтительно из хромсодержащего DLC-способа, и
- между HIPIMS-слоем и вторым слоем осаждают по меньшей мере один промежуточный слой, предпочтительно осаждают по меньшей мере два промежуточных слоя, предпочтительно из CrN и/или CrCN, и
- предпочтительно не содержащий металла DLC-слой покрытия для ускорения приработки в качестве покровного слоя наносят на металлсодержащий DLC-слой.
22. Способ по п. 15, отличающийся тем, что
- HIPIMS-слой осаждают в качестве функционального слоя, предпочтительно из (Al,Cr)N или содержащего (Al,Cr)N, предпочтительно с концентрацией алюминия относительно хрома от около 70 Al к 30 Cr в атомных процентах, и
- второй слой осаждают в качестве антифрикционного слоя, предпочтительно с использованием MS-способа или комбинированного MS/PACVD-способа, предпочтительно из хромсодержащего DLC-способа, и
- между HIPIMS-слоем и вторым слоем осаждают по меньшей мере один промежуточный слой, предпочтительно осаждают по меньшей мере два промежуточных слоя, предпочтительно из CrN и/или CrCN, и
- предпочтительно не содержащий металла DLC-слой покрытия для ускорения приработки в качестве покровного слоя наносят на металлсодержащий DLC-слой.
23. Подложка, предпочтительно инструмент или деталь, более предпочтительно сверло, с покрытием, которое нанесено согласно способу по меньшей мере по одному из пп. 12-22 по меньшей мере на часть поверхности подложки.
RU2014120463A 2011-10-21 2012-10-18 Сверло с покрытием RU2618292C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011116576A DE102011116576A1 (de) 2011-10-21 2011-10-21 Bohrer mit Beschichtung
DE102011116576.6 2011-10-21
PCT/EP2012/004352 WO2013056831A2 (de) 2011-10-21 2012-10-18 Bohrer mit beschichtung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2014120463A true RU2014120463A (ru) 2015-11-27
RU2618292C2 RU2618292C2 (ru) 2017-05-03

Family

ID=47148703

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014120463A RU2618292C2 (ru) 2011-10-21 2012-10-18 Сверло с покрытием

Country Status (15)

Country Link
US (1) US9540726B2 (ru)
EP (1) EP2768999B1 (ru)
JP (1) JP6245576B2 (ru)
KR (1) KR102177352B1 (ru)
CN (2) CN103874780A (ru)
BR (1) BR112014009267B1 (ru)
CA (1) CA2853137C (ru)
DE (1) DE102011116576A1 (ru)
IN (1) IN2014DN03154A (ru)
MX (1) MX367029B (ru)
MY (1) MY165453A (ru)
PH (1) PH12014500868A1 (ru)
RU (1) RU2618292C2 (ru)
SG (1) SG11201401675YA (ru)
WO (1) WO2013056831A2 (ru)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2963145B1 (en) * 2014-06-30 2018-01-31 IHI Hauzer Techno Coating B.V. Coating and method for its deposition to operate in boundary lubrication conditions and at elevated temperatures
SG11201803970RA (en) * 2015-11-12 2018-06-28 Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon Sputtering arrangement and sputtering method for optimized distribution of the energy flow
JP7179291B2 (ja) * 2016-04-22 2022-11-29 エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 プフェフィコン ＨｉＰＩＭＳを用いて成長欠陥を低減させたＴｉＣＮ
EP3406751A1 (en) * 2017-05-24 2018-11-28 Walter Ag A coated cutting tool and a method for its production
CN111132787B (zh) * 2017-08-04 2023-05-30 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 具有增强性能的螺孔钻及用于制造螺孔钻的方法
WO2019152936A1 (en) * 2018-02-02 2019-08-08 Lockheed Martin Corporation Tribological optimized cutter tool for milling titanium or titanium alloys
CN108396284A (zh) * 2018-05-09 2018-08-14 广东鼎泰高科精工科技有限公司 一种具有耐氧化硬质润滑涂层的pcb钻头及其制造方法
CN110306153A (zh) * 2019-07-22 2019-10-08 河南科技大学 一种掺杂Cr的DLC涂层的制备方法
DE102022124181A1 (de) 2022-09-21 2024-03-21 Kennametal Inc. Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Körpers sowie beschichteter Körper erhältlich gemäß dem Verfahren
WO2025062045A1 (en) 2023-09-22 2025-03-27 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for producing high performance cutting and/or forming tools with high-rate deposition of hipims deposited tin based coatings

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19651615C1 (de) * 1996-12-12 1997-07-10 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Aufbringen von Kohlenstoffschichten durch reaktives Magnetron-Sputtern
JP4560964B2 (ja) * 2000-02-25 2010-10-13 住友電気工業株式会社 非晶質炭素被覆部材
DE10018143C5 (de) * 2000-04-12 2012-09-06 Oerlikon Trading Ag, Trübbach DLC-Schichtsystem sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines derartigen Schichtsystems
JP4145629B2 (ja) * 2002-11-11 2008-09-03 住友電工ハードメタル株式会社 マイクロドリル
JP4530139B2 (ja) * 2004-05-17 2010-08-25 三菱マテリアル株式会社 潤滑性非晶質炭素系被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具
PL1850993T3 (pl) * 2005-02-24 2011-11-30 Oerlikon Trading Ag Sposób wytwarzania piły taśmowej
ES2361708T3 (es) * 2005-02-24 2011-06-21 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Procedimiento para la fabricación de una cinta de sierra.
GB2425780B (en) * 2005-04-27 2007-09-05 Univ Sheffield Hallam PVD coated substrate
DE102005033769B4 (de) * 2005-07-15 2009-10-22 Systec System- Und Anlagentechnik Gmbh & Co.Kg Verfahren und Vorrichtung zur Mehrkathoden-PVD-Beschichtung und Substrat mit PVD-Beschichtung
JP2007254777A (ja) * 2006-03-20 2007-10-04 Osg Corp 硬質被膜被覆タップ
CN101426947A (zh) * 2006-04-21 2009-05-06 塞美康股份公司 涂覆体
GB0608582D0 (en) * 2006-05-02 2006-06-07 Univ Sheffield Hallam High power impulse magnetron sputtering vapour deposition
JP2007160506A (ja) * 2007-02-23 2007-06-28 Sumitomo Electric Hardmetal Corp 非晶質カーボン被覆工具
EP2148939B1 (de) * 2007-05-25 2017-06-14 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Vakuumbehandlungsanlage und vakuumbehandlungsverfahren
SE533395C2 (sv) * 2007-06-08 2010-09-14 Sandvik Intellectual Property Sätt att göra PVD-beläggningar
DE102007058356A1 (de) * 2007-06-20 2008-12-24 Systec System- Und Anlagentechnik Gmbh & Co.Kg PVD-Verfahren und PVD-Vorrichtung zur Erzeugung von reibungsarmen, verschleißbeständigen Funktionsschichten und damit hergestellte Beschichtungen
GB2450933A (en) * 2007-07-13 2009-01-14 Hauzer Techno Coating Bv Method of providing a hard coating
US7966909B2 (en) * 2007-07-25 2011-06-28 The Gillette Company Process of forming a razor blade
EP2072636B1 (en) * 2007-12-21 2016-08-31 Sandvik Intellectual Property AB Method of making a coated cutting tool
EP2072637B1 (en) 2007-12-21 2018-08-15 Sandvik Intellectual Property AB Coated cutting tool and a method of making a coated cutting tool
DE102008021912C5 (de) 2008-05-01 2018-01-11 Cemecon Ag Beschichtungsverfahren
US20120164051A1 (en) * 2009-05-07 2012-06-28 Stefan Bruns Method for the production of oxide and nitride coatings and its use
US8561707B2 (en) * 2009-08-18 2013-10-22 Exxonmobil Research And Engineering Company Ultra-low friction coatings for drill stem assemblies
JP2011189419A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Hitachi Metals Ltd 耐摩耗性に優れた被覆工具
CN102011090B (zh) * 2010-12-09 2012-05-23 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种基体表面的TiAlN/TiAlCN多层膜涂层及其制备方法
DE102011018363A1 (de) * 2011-04-20 2012-10-25 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Hochleistungszerstäubungsquelle
PH12013502181A1 (en) * 2011-04-20 2014-01-06 Oerlikon Trading Ag High power impulse magnetron sputtering method providing enhanced ionization of the sputtered particles and apparatus for its implementation
KR101316376B1 (ko) * 2011-10-19 2013-10-08 동우에이치에스티 주식회사 성형장치의 표면 코팅박막 및 코팅방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP2768999B1 (de) 2016-12-28
SG11201401675YA (en) 2014-09-26
US20140248100A1 (en) 2014-09-04
WO2013056831A3 (de) 2013-08-15
CN108998758B (zh) 2020-12-15
IN2014DN03154A (ru) 2015-05-22
KR20140081886A (ko) 2014-07-01
BR112014009267A2 (pt) 2017-06-13
KR102177352B1 (ko) 2020-11-12
BR112014009267B1 (pt) 2021-02-02
MX2014004808A (es) 2014-11-10
PH12014500868A1 (en) 2014-06-30
CN108998758A (zh) 2018-12-14
JP6245576B2 (ja) 2017-12-13
WO2013056831A2 (de) 2013-04-25
DE102011116576A1 (de) 2013-04-25
MY165453A (en) 2018-03-22
RU2618292C2 (ru) 2017-05-03
US9540726B2 (en) 2017-01-10
CA2853137A1 (en) 2013-04-25
EP2768999A2 (de) 2014-08-27
BR112014009267A8 (pt) 2017-06-20
JP2014530772A (ja) 2014-11-20
CA2853137C (en) 2019-12-10
CN103874780A (zh) 2014-06-18
MX367029B (es) 2019-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2014120463A (ru) Сверло с покрытием
RU2520245C2 (ru) Скользящий элемент, в частности поршневое кольцо, имеющий покрытие, и способ получения скользящего элемента
RU2012109420A (ru) Скользящий элемент, в частности поршневое кольцо, с покрытием
CN111183269B (zh) 具有耐蚀滑动面的涂覆阀门部件
JP5855026B2 (ja) ピストンリングの少なくとも内側面を被覆する方法
CN110894605B (zh) 耐腐蚀碳基涂层
JP2014530772A5 (ru)
US9371576B2 (en) Coated tool and methods of making and using the coated tool
WO2018235750A1 (ja) 摺動部材及び被覆膜
JP6364685B2 (ja) ピストンリングとその製造方法
JP6842233B2 (ja) コーティングされた切削工具、及びコーティングされた切削工具の製造方法
KR20180123508A (ko) 지르코늄 접착층을 갖는 무수소 탄소 코팅
JP7218042B2 (ja) 性能を強化したタップドリル
US20120164482A1 (en) Coated article and method for making same
CN104060222A (zh) TiSiN-WS2/Zr-WS2涂层刀具及其制备工艺
JP6523283B2 (ja) 優れた滑り特性と適切な硬度を有する窒化モリブデン
WO2017130587A1 (ja) 摺動部材及びその製造方法
CN102673043A (zh) 一种纺织钢领用高硬度、低摩擦系数耐磨涂层及其沉积方法
WO2010084982A1 (ja) 硬質皮膜被覆部材および成形用治工具
TW495553B (en) Method for preparing diamond-like carbon film by cathode arc evaporation (CAE)
RU178165U1 (ru) Режущая пластина
US20120164481A1 (en) Coated article and method for making same
KR101616862B1 (ko) 다아이몬드상 카본층을 포함하는 모재 및 이의 제조방법
TW201213108A (en) Coated article and method for making the same
RU59619U1 (ru) Режущий инструмент с многослойным покрытием

Legal Events

Date Code Title Description
HZ9A Changing address for correspondence with an applicant
HZ9A Changing address for correspondence with an applicant
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20201019