[go: up one dir, main page]

NO148794B - Lysfoelsomt polymert materiale og dets anvendelse ved tykkplatefremstilling. - Google Patents

Lysfoelsomt polymert materiale og dets anvendelse ved tykkplatefremstilling. Download PDF

Info

Publication number
NO148794B
NO148794B NO741505A NO741505A NO148794B NO 148794 B NO148794 B NO 148794B NO 741505 A NO741505 A NO 741505A NO 741505 A NO741505 A NO 741505A NO 148794 B NO148794 B NO 148794B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
group
acid
light
groups
solution
Prior art date
Application number
NO741505A
Other languages
English (en)
Other versions
NO148794C (no
NO741505L (no
Inventor
Allen Peter Gates
Allan Saunderson
Original Assignee
Vickers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vickers Ltd filed Critical Vickers Ltd
Publication of NO741505L publication Critical patent/NO741505L/no
Publication of NO148794B publication Critical patent/NO148794B/no
Publication of NO148794C publication Critical patent/NO148794C/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/42Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
    • C08G59/4223Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof aromatic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/14Polycondensates modified by chemical after-treatment
    • C08G59/1433Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
    • C08G59/1483Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G85/00General processes for preparing compounds provided for in this subclass
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører lysfølsomme materialer av
den art som er angitt i krav l's ingress, samt anvendelse av materialet ved fremstilling av lysfølsomme trykkplater.
I henhold til foreliggende oppfinnelse er tilveiebragt et lysfølsomt materiale omfattende et produkt som kan erholdes ved å omsette en polymer inneholdende et antall epoksygrupper, hydroksylgrupper eller primære og/eller sekundære aminogrupper med halogensulfonylgruppen av minst en forbindelse med den generelle formel hvori R representerer en aromatisk gruppe a er enten 0 eller 1,
Rl' R2°g R3' som ^an være Hke eller forskjellige, representerer hver et hydrogenatom, et halogenatom,
en cyanog'ruppe, en alkylgruppe, en arylgruppe, en alkoksygruppe, en aryloksygruppe, en aralkylgruppe eller en aralkoksygruppe,
R^ representerer et hydrogenatom når liten a = 1,
eller når a = 0 eller 1 en alkyl- eller alkoksykarbonylgruppe, eller mere foretrukket en gruppe valgt fra karboksyl, cyano, deaktivert fenyl og halogensulfonyl-fenylgrupper, og
X representerer en halogensulfonylgruppe, eller i det tilfelle hvor R^ representerer en halogensulfonylfenylgruppe og kun da,en deaktiverende gruppe.
Når R^ er en halogensulfonylfenylgruppe er det nodvendig at en deaktiverende gruppe, såsom en halogensubstituent,er tilstede i
den aromatiske gruppen R for å forhindre innforing av halogensulfonylgruppen i R, hvilken ville: fore til tverrbinding mellom
R og R^. Tilsvarende når X er en halogensulfonylgruppe og R^ er
en fenylgruppe må R^ inneholde en deaktiverende gruppe.
Det er spesielt foretrukket at R4 i formelen omfatter en karboksylgruppe da dette fremmer alkaliopplosligheten av det lysfolsomme materialet. Det er også spesielt foretrukket at a har verdien
1 i stedet for 0, hvilket gir forøket umetning og fremmer materialets lysfølsomhet. I det tilfelle hvor polymeren inneholder et antall hydroksylgrupper kan det eksempelvis være en epoksy eller fenoksyharpiks (avledet fra en bisfenol og epiklorhydrirj, polyvinylalkohol, en delvis hydrolysert. polyvinylester, såsom polyvinylalkoholacetat, et naturlig forekommende material såsom cellulose eller stivelse 1 deriveter derav erholdt ved delvis forestring eller foretring, eksempelvis hydroksypropylcellulose, polyhydroksyetylacrylat eller polyhydroksyetylmetacrylat, delvis hydrolyserte acetaler såsom delvis hydrolysert polyvinylbutyral, delvis hydrolysert polyvinylcinnamal og blandinger derav, et kondensasjonsprodukt av fenol eller en substituert fenol med en aldehyd, eksempelvis fenolformaldehydharpiks, resorcinol-formaldehydharpiks og 2,4-dihydroksy-benzosyre-formaldehydharpiks, eller et kondensasjonsprodukt av en substituert eller ikke-substituert fenoksyalkanol med en aldehyd, eksempelvis harpiksen erholdt ved kondensering av 2-fenoksyetanol med formaldehyd. K->ndensas jonsprodukter av fenoler og fenoksyalkanoler med aldehyder er kjennetegnet ved den folgende molekylære struktur:
hvor n er minst 2,
representerer 0-3 substituenter valgt fra alkyl, halogen, alkoksy, hydroksy, aryl og aralkylgrupper,
Rg representerer en hydroksy eller hydroksyalkoksy-gruppe, og
R^ representerer hydrogen eller lavere alkyl, aryl eller aralkylgruppe.
I det tilfelle hvor polymeren inneholder et antall primære og/ eller sekundære aminogrupper kan den eksempelvis være polyetylenimin, polyvinylamin, en anilin-formaldehydharpiks, eller produktet er erholdt ved kondensering av en styren maleinsyreanhydrid-kopolymer eller en alkylvinyleter maleinsyreanhydrid-kopolymer med et overskudd av en alifatisk eller aromatisk di-amin, idet produktet er kjennetegnet ved den repeterende enhet hvori Rg representerer en alifatisk eller aromatisk gruppe og
Rg er en alkoksy eller fenoksygruppe.
I det tilfelle hvor polymeren inneholder epoksydgrupper, kan
det være en epoksyharpiks erholdt ved kondensasjon av epiklorhydrin og eksempelvis bisfenol A eller en novolakk-epoksyharpiks erholdt ved kondensering av en fenol- (eller kresol-) formaldehyd-novolakkharpiks og epiklorhydrin.
Egnede forbindelser inneholdende en halogensulfonylgruppe er:
klorsulfonylcinnamylidenmalinsyre klorsulfonyl- -klor-cinnamylidenmalonsyre klorsulfonylcinnamylidincyanoeddiksyre
Slike forbindelser kan anvendes enkeltvis eller i kombinasjon med hverandre eller i kombinasjon med en eller flere halogenider av andre aromatiske sulfonsyrer eller halogenider av alifatiske og aromatiske karboksylsyrer, hvilke halogenider ikke inneholder frie karboksylsyregrupper. Eksempelvis den spesielle halogen-sulf onylgruppe forbindelse (er) anvendes i kombinasjon med halogenider, eksempelvis klorider av p-toluensulfonsyre, eddik-syre, propionsyre, benzosyre, p-azidobenzosyre eller kanelsyre. Omsetningen av slike syrehalogenider ikke inneholdende frie karboksylgrupper, med polymeren kan finne sted ikke bare samtidig med omsetningen av den spesielle halogensulfonylgruppeinneholdende forbindelse av den ovenfor nevnte generelle formel, men også for eller etterpå.
Det lysfblsomme materialet ifolge foreliggende oppfinnelse
er alkaliopploselig og omfatter en grunn-polymer til hvilke er knyttet, via sulfonyloksygrupper eller sulfonamidogrupper, lysfblsomme sidekjeder med avsluttende karboksylsyregrupper.
I det tilfelle hvor gruppen X er en halogensulfonylgruppe og polymeren inneholder et antall hydroksygrupper, omfatter det lysfblsomme materialet grupper med formelen:
knyttet til karbonatomene i polymeren, hvori R, R^, R^,
og a har de ovenfor nevnte betydninger og R^ er en alkylgruppe, en alkoksykarbonylgruppe, en karboksylgruppe,en cyanogruppe, en fenylgruppe substituert med en deaktivert gruppe eller et hydrogenatom.
I det tilfelle hvor X er en halogensulfonylgruppe og polymeren inneholder et antall primære og/eller sekundære aminogrupper, omfatter det lysfolsomme materialet ifolge foreliggende oppfinnelse grupper med formelen:
knyttet til karbonatomene i polymeren, hvori R, R^, R,,, R^,
og a har de ovenfor angitte betydninger og R^ er en alkylgruppe, en alkoksykarbonylgruppe, en karboksylgruppe, en cyanogruppe,
en fenylgruppe substituert med en deaktiverende gruppe, eller et hydrogenatom.
I det tilfelle hvor R4 er en halogensulfonyl substituert fenylgruppe og polymeren inneholder et antall hydroksylgrupper, omfatter det lysfolsomme materialet grupper av formelen: knyttet til karbonatomene i polymeren, hvori R, R^, R^, R3 og a har de ovenfor angitte betydninger, hvori Ph er en fenylgruppe og hvor X er en deaktivert gruppe.
I det tilfelle hvor gruppen R^ er en halogensulfonylfenylgruppe og polymeren inneholder et antall primære og/eller sekundære aminogrupper, omfatter det lysfolsomme materialet ifolge foreliggende oppfinnelse grupper med formelen:
knyttet til karbonatomene i polymeren, hvori R, R^, R 2, R^ og a har de ovenfor angitte betydninger, hvori Ph er en fenylgruppe og hvori X er en deaktiverende gruppe. Materialet er således særpreget ved det som er angitt i krav l's karakteriserende del.
Selvom det lysfolsomme materialet ifolge foreliggende oppfinnelse og omfattende de ovenfor nevnte grupper knyttet til karbonatomene generelt fremstilles ved å omsette en halogensulfonylforbindelse med epoksyd, hydroksy eller amingrupper i polymeren, kan materialet fremstilles på andre måter såsom vist i eksempel 9.
Det lysfolsomme materialet ifolge foreliggende oppfinnelse er
av spesiell nytte ved fremstilling fotografisk fremstilte trykk-plater og lignende.
For å påfore det lysfolsomme lag på substratet, opploses det lysfolsomme materialet i et egnet opplosningsmiddel eller blanding av opplosningsmidler, såsom dimetylformamid, dioksan, 2-etoksyetanol, 2-etoksyetylacetat eller etylmetylketon og den erholdte blanding påfores substratet på konvensjonell måte, såsom dypping, sproyting eller sentrifugal belegning. Deretter avdampes opplosningsmidlet enten ved hjelp av lufttorking eller oppvarming til å gi et lag av det lysfolsomme materialet på substratet. Vekten av belegget utgjor vanligvis o,2 - 2,o g/m 2.
For belegningsformål i industrien kan det være onskelig å til-sette det lysfolsomme materialet ifolge foreliggende oppfinnelse, fargestoffer, pigmenter, plastiseringsmidler, fuktemidler, sensibilisatorer, stabilisatorer, ikke-reaktive polymerer og lignende.
Ved bruk eksponeres den lysfølsomme plate i et tidsrom
avhengig av lagets komposisjon og tykkelse, samt avhengig av substratets natur, intensitet av lyskilden og den påtenkte anvendelse av produktet. De ikke-lyseksponerte arealer forblir alkali-opploselige, mens de belyste arealer blir uopploselig. Således er den billedeksponerte plate fremkallbar i alkali.
Den alkalige vandige opplosning som anvendes ved fremkalling
av den eksponerte plate bør ha en god oppløsende virkning på de ikke-belyste arealer, og likevel ha en liten virkning på det lysherdede bilde. En alkalisk opplosning som passende kan anvendes er en vandig opplosnin<g> av et fosfat eller et metasilikat av et alkalimetall. Til denne opplosning kan tilsettes 5 til 3o% av et med vann blandbart organisk o<p>plosningsmiddel, eksempelvis en alkohol,for å fremme fullstendig fjernelse av alt ikke-eksponert materiale.
Foretrukne anvendelsesområder for det lysfolsomme materialet ifolge foreliggende oppfinnelse, er fremstilling av litografiske trykk-plater, fremstilling av etseresistente belegg, fremstilling av trykte kretser og lignende, kjemisk fresing, og fremstilling av ornamenteffekter.
De folgende eksempler illustrerer oppfinnelsen.
EKSEMPEL 1
(a) Fremstilling av klorsulfonylcinnamylidennalonsyre (formel i).
Kanelaldehyd og malonsyre ble kondensert sammen i iseddik ved loo°C. Kondensatet ble omkrystallisert fra etanol og ble funnet å ha et smeltepunkt på 2o6°C. Kondensatet ble omsatt med klor-sulfonsyre ved 6o° og det erholdte klorsulfonylcinnamulidenmalonsyre ble isolert ved langsomt å helle reaksjonsblandingen i omrort isvann.
(b) Fremstilling av resorcinol/formaldehydharpiks.
Resorcinol, eksess formaldehyd og natriumsulfat ble opplost
i vann og oppvarmet under omroring på et vannbad. Straks oppløsningen ble blakket ble reaksjonen stoppet ved tilsetning av et stort volum kaldt vann. Presipitatet ble filtrert fra, vasket med bann og torket ved romtemperatur.
fc) Fremstilling av det lysfolsomme materialet.
Ekvivalente mengder klorsulfonylcinnamylidenmalonsyren og resorcinol-formaldehydharpiksen fremstilles som angitt ovenfor, ble opplost i aceton og natriumkarbonatopplosning tilsatt. Blandingen ble omrort ved 2o°C i en time. Den erholdte lysfolsomme ester ble filtrert fra, opplost i vann og deretter presipitert ved tilsetning av saltsyre.
(d) Fremstilling av en trykk-plate
En 3%'ig opplosning av det ovenfor angitte lysfolsomme materiale i en blanding av dimetylformaid og 2-etoksyetanol ble ved hjelp av en sentrifugalanordning påfbrt overflaten av en elektrokornet og anodisert aluminiumsplate til å gi en beleggvekt på ca. o,5 g/m . Etter torking ble den erholdte lysfolsomme plate eksponert i 2 min. i kontakt med et negativ til en 4ooo W pulsert xenon-lampe ieen avstand av o,65 m. Den eksponerte plate ble fremkalt i en 2,5%'ig opplosning av trinatriumfosfat for å fjerne de områder av det lysfolsomme belegg som ikke var utsatt for lys under eksponering. Platen ble deretter vasket med vann og 2%'ig svovelsyre og trykkfargebelagt med en fet trykksverte.
EKSEMPEL 2
(a) Fremstilling av det lysfolsomme materialet.
6,3 g av epoksydharpiksen "Epikote loo9" (Shell Chemicals)
(fremstilt ved polykondensering av 2,2-bis(p-hydroksyfenyl)propan med overskudd av epiklorhydrin i nærvær av natriumhydroksyd og med en molekylvekt på ca. 375o) ble opplost i 33 ml vannfri dioksan og 11,9 g klorsulfonylcinnamylidinmalonsyre, fremstilt som angitt ovenfor, ble tilsatt under omroring. Blandingen ble oppvarmet under tilbalkelop i 8 timer, avkjolt, fortynnet med et tilsvarende volum dioksan og infort dråpevis i 15oo ml vann. Den presipitsrte harpiks ble filtrert fra og vasket med mere vann på filteret.
(b) Fremstilling av en trykk-plate.
Fremgangsmåten i henhold til eksempel l(d) ble gjentatt ved anvendelse av det ovenfor fremstilte lysfolsomme materiale, med den unntagelse at fremkalleren for den eksponerte plate omfattet en blanding av 4 deler 12%'ig vandig natriummetasilkat og 1 del 2-etoksyetanol.
EKSEMPEL 3
(a) Fremstilling av det lysfolsomme materialet.
4 g 2-fenoksyetanol-formaldehydharpiks fremstilt ved en surt, katalysert kondensasjon av 2-fenoksyetanol og formaldehvd, og 15 g klorsulfonylcinnamulidenmalonsyre, fremstilt som angitt ovenfor, ble omsatt i dioksan i 8 timer ved tilbakelopstemperatur. Produktet ble isolert ved å innfore den avkjolte reaksjons-blanding dråpevis ill vann. (b) Fremstilling av en trykk-plate.
Fremgangsmåten ifolge eksempel l(d) ble gjentatt bortsett fra
at det ble anvendt en eksponeringstid på 5 min og en fremkaller omfattende 3 deler 15%,ig trinatriumfosfat og 1 del 2-etoksyetanol.
EKSEMPEL 4
(a) Fremstilling av a-(klorsulfonylfenyl)-klorkanelsyre
(formel iv)
En blanding av 56,2 g 4-klorbenzaldehyd, 54,4 g fenyleddiksyre, 8o ml eddiksyreanhydrid og 4o ml trietylamin ble kokt under tilbakelop i 5 timer. Ikke-omsatt 4-klorbenzaldehyd ble fjernet ved dampdestillasjon og residuet opplost i vandig alkohol og behandlet med aktivt karbon. Krystaller av a-fenyl-4-klorkanelsyre ble erholdt ved surgjbring av opplbsningen. Produktet ble omkrystallisert fra alkohol og funnet å ha et' smeltepunkt på 2o2-2o4°C. Klorsulfonyl-derivatet ble fremstilt i henhold til metoden beskrevet i eksempel 1.
(b) Fremstilling av det lysfblsomme materialet.
Til en opplosning av 24 g resorcinol-formaldehydharpiks (fremstilt som angitt i eksempel 1) i 4oo ml dimetylformamid ble tilsatt 36 g a-(klorsulfonylfenyl)-klorkanelsyre, fremstilt som ovenfor angitt, og 32 g klorsulfonylcinnamylidinmalonsyre, fremstilt som angitt i eksempel 1. Blandingen ble avkjblt til va. 5o°C og en mettet opplosning av natriumkarbonat ble tilsatt dråpevis inntil oppløsningens pH var mellom 8 og lo. Etter henstand i 4 timer ble faststoffet filtrert fra, opplost i vann og represipitert ved surgjbring av opplbsningen med saltsyre.
(c) Fremstilling av en trykk-plate
Fremgangsmåten ifolge eksempel l(d) ble gjentatt bortsett fra
at fremkalleren omfattet en 7,5%'ig trinatriumfosfat-opplbsning.
I EKSEMPEL 5
(a) Fremstilling av det lysfolsomme materialet.
lo, 6 g "tfresinoid R751" (en fenolformaldehydharpiks fremstilt av Resinous Chemicals Ltd. ble opplost i 4o ml vannfri dioksan og den erholdte opplosning ble satt til 4,2 g p-azidobenzoylklorid. 2,5 ml pyridin ble satt til og blandingen oppvarmet til 5o°C i 4 timer. Esteren ble presipitert ved tilsetning av vann, fra-skilt og torket ved romtemperatur. Produktet ble opplost i 2oo ml dimetylformamid-og 24 g klorsulfonylcinnamylidenmalonsyre (fremstilt som angitt i eksempel 1) ble tilsatt under omroring. Opplbsningen ble avkjblt til 5°C og en mettet natriumkarbonatopplbsning ble tilsatt dråpevis inntil pH var mellom 8 og lo.
Etter henstand i ca. 8 timer ble faststoffet filtrert fra, opplost på nytt i vann og produktet presipitert ved surgjbring med saltsyre.
(b) Fremstilling av en trykk-plate
Fremgangsmåten i henhold til eksempel l(d) ble gjentatt bortsett fra fremkalleren omfattet en 7,5%'ig trinatriumfosfatopplbsning.
EKSEMPEL 6
(a) Fremstilling av klorsulfonylcinnamylidencyanoeddiksyre
(formel iii).
Kanelaldehyd og cyanoeddiksyre ble kondensert og produktet omdannet til det tilsvarende klorsulfonyl-derivat under anvendelse av metoden beskrevet i eksempel l(a). Syren smeltet ved 2lo - 212°C.
(b) Fremstilling av det lysfblsomme materialet
Til en opplosning av l,o9 g reorcinol-formaldehydharpiks (fremstilt som angitt i eksempel 1) i 21 ml dimetylformamid ble tilsatt en opplosning av 3,5 g av det ovenfor fremstilte klorsulfonylcinnamylidencyanoeddiksyre i 2o ml dimetylformamid. Blandingen ble avkjblt ved 5°C og pH justert til ca. 9 med en mettet natriumkarbonatopplbsning. Etter henstand i 8 timer,
ble blandingen surgjort og produktet filtrert fra.
(c) Fremstilling av en trykk-plate.
Fremgangsmåten i henhold til eksempel l(d) ble gjentatt bort-
sett fra at fremkalleren omfattet en o,5%'ig trinatriumfosfat-opplosning.
EKSEMPEL 7
(a) Fremstilling av klorsulfonyl- o-klorcinnamylidenmalonsyre
(formel ii)
80 g fosforylklorid ble tilsatt dråpevis til 80 ml avkjolt dimetylformamid. 48 g acetofenon ble tilsatt i lopet av
45 min. og blandingen omrort ved o°C i ytterligere 60 min.
Etter henstand ved romtemperatur over natten, ble blard ingen
helt i en opplosning av 600 g natriumacetat i 15oo ml vann.
(3-klorkanelaldehyd ble utskilt som en rod olje. Blandingen ble ekstrahert med eter og eteropplosningen torket over vannfri natriumsulfat. Inndampning av eteren ga 44 g p-klorkanelaldehyd. (3-klorkanelaldehyd og malonsyre ble kondensert til å gi h-klorcinnamylidenmalonsyre og denne ble omdannet til det tilsvarende klorsulfonyl-derivat under anvendelse av metoden beskrevet i eksempl l(a).
(b) Fremstilling av det lysfolsomme materialet
l,o9 g resorcinol-formaldhydharpiks (fremstilt som angitt i eksempel 1) og 3,33 g i-klorsulfonylcinnamylidenmalonsyre, fremstilt som angitt ovenfor, ble kondensert i henhold til fremgangsmåten beskrevet i eksempel 6(a).
(c) Fremstilling av en trykk-plate
Fremgangsmåten ifolge eksempel 6(c) ble gjentatt.
EKSEMPEL 8
(a) Fremstilling av det lysfolsomme materialet.
5,o g klorsulfonylcinnamylidenmalonsyre (fremstilt som angitt i.eksempel 1) og 3,3 g av produktet erholdt ved kondensering av "Lytron 822" ( en styren maleinsyreanhydrid-kopolymer solgt av Monsanto) og et overskudd av etylendiamin ble omsatt i nærvær av vandig NaOH til å gi en lysegul, alkaliopploselig harpiks. Produktet ble isolert ved å helle blandingen i vann og filtrert fra det presipiterte materialet, som ble torket i luft ved romtemperatur.
(b) Fremstilling av en trykk-plate
Fremgangsmåten i henhold til eksempel l(d) ble gjentatt men fremkalleren omfattet en 12%'ig natriummetasilkat-opplosning.
EKSEMPEL 9
(a) Fremstilling av det lysfolsomme materialet
Det lysfolsomme materialet ifolge eksempel 8 ble fremstilt
ved å omsette en styren maeinsyreanhydrid-kopolymer med konden-sasjonsproduktet av klorsulfonylcinnamylidenmalonsyre med et overskudd av etylendiamin. Dette ble utfort ved å opplose 12 g klorsulfonylcinnamylinmalonsyre (fremstilt i henhold til eksempel 1) i 24o ml dioksan og dryppet den erholdte opplosning langsomt til en kraftig orarort opplosning av 6 g etylendiamin i 24o ml dioksan. Det dannede gule faststoff ble opplost i vann
og fortynnet saltsyre tilsatt inntil presipitering av amino-etylsulfonamidocinnamylidenmalonsyre-hydroklorid var fullstendig. 2 g av "Lytron 822" ble opplost i vannfri dimetylformamid til å gi en 2o%"ig opplosning og 2,4 g av det nevnte hydroklorid i lo ml dimetylformamid ble tilsatt. Blandingen ble rystet til å gi en klar opplosning. l,o ml trietylamin ble tilsatt og blandingen ble omrort i ytterligere 3o min. Produktet ble isolert ved å helle blandingen i vann og filtrere fra det presipiterte materialet og torke dette i luft ved romtemperatur.
(b) Fremstilling av en trykk-plate
Fremgangsmåten i henhold til eksempel 8 (b) ble gjentatt.
; EKSEMPEL lo
(a) Fremstilling av det lysfolsomme materiale
3 1,44 g polyetylenimin med en molekylvekt pa 5o - loo x lo (Dow Chemical Co. Ltd.) ble opplost i 3o ml 2N natriumhydroksyd-opplosning og satt til lo,5 g klorsulfonylcinnamylidenmalonsyre (fremstilt som angitt i eksempel 1) i 5o ml cykloheksanon. Blandingen ble rystet i 3o min og surgjort. Produktet ble filtrert fra og vasket med vann.
(b) Fremstilling av en trykk-plate
2 g av det ovenfor erholdte produkt ble omrort med en varm
blanding av dimetylformamid og dimetylsulfoksyd oguopplost materiale fjernet ved filtrering, o,1 g "Neozapon Blue FLE"
(Badische Anilin Soda Fabrik), en ftalocyanin blå farge og o,l g 5-nitroacenaften ble tilsatt og rort inn i opplosninge. Opplbsningen ble deretter anvendt for fremstilling av en lysfbl-som plate på måten beskrevet i eksempel 1 og platen ble eksponert og fremkalt som beskrevet i eksempel 1.

Claims (2)

1. Lysfølsomt materiale avledet fra en polymer som inneholder ett flertall epoksygrupper, hydroksylgrupper eller primære og/eller sekundære aminogrupper, karakterisert ved at det inneholder grupper med formlene knyttet til karbonatomene i polymeren, hvori R betyr en aromatisk gruppe, a er 0 eller 1, R^, R2 og R^ som kan være like eller forskjellige er hydrogen, halogen, en cyano-, alkyl-, aryl-, alkoksy-, aryloksy-, aralkyl- eller aralkoksygruppe, Z er - 0 -, hvori R,- betyr hydrogen eller en alkylgryppe, og når a er 0 er R^ en fenylgruppe substituert med en deaktiverende gruppe, og når a er 1 er R^ en alkyl-, alkoksykarbonyl-, karboksyl-, cyano-, fenylgruppe substituert med en deaktiverende gruppe, eller et hydrogenatom, Ph er en fenylgruppe og X er en deaktiverende gruppe.
2. Anvendelse av det lysfølsomme materialet ifølge krav 1 ved fremstilling av lysfølsomme trykkplater.
NO741505A 1973-04-26 1974-04-25 Lysfoelsomt polymert materiale og dets anvendelse ved tykkplatefremstilling NO148794C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB1999473A GB1466252A (en) 1973-04-26 1973-04-26 Light-sensitive material

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO741505L NO741505L (no) 1974-10-29
NO148794B true NO148794B (no) 1983-09-05
NO148794C NO148794C (no) 1983-12-14

Family

ID=10138567

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO741505A NO148794C (no) 1973-04-26 1974-04-25 Lysfoelsomt polymert materiale og dets anvendelse ved tykkplatefremstilling

Country Status (16)

Country Link
JP (1) JPS5842460B2 (no)
AT (1) AT344998B (no)
BE (1) BE814282A (no)
CA (1) CA1023491A (no)
CH (2) CH607100A5 (no)
DE (1) DE2420372A1 (no)
FI (1) FI62911C (no)
FR (1) FR2227556B1 (no)
GB (1) GB1466252A (no)
IE (1) IE39231B1 (no)
IT (1) IT1010118B (no)
LU (1) LU69940A1 (no)
NL (1) NL175631C (no)
NO (1) NO148794C (no)
SE (1) SE418191B (no)
ZA (1) ZA742559B (no)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6841335B2 (en) 2002-07-29 2005-01-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging members with ionic multifunctional epoxy compounds

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE758116A (fr) * 1969-10-30 1971-04-01 Fuji Photo Film Co Ltd Compose a poids moleculaire eleve et son procede de preparation
JPS4944601B1 (no) * 1970-05-15 1974-11-29
BE790383A (fr) * 1971-10-22 1973-02-15 Howson Algraphy Ltd Matière sensibles à la lumière

Also Published As

Publication number Publication date
IE39231L (en) 1974-10-26
AU6823074A (en) 1975-10-30
AT344998B (de) 1978-08-25
NL175631B (nl) 1984-07-02
FR2227556A1 (no) 1974-11-22
IE39231B1 (en) 1978-08-30
FR2227556B1 (no) 1980-08-29
DE2420372A1 (de) 1974-11-07
SE418191B (sv) 1981-05-11
CH598621A5 (no) 1978-05-12
IT1010118B (it) 1977-01-10
ATA349474A (de) 1977-12-15
NL175631C (nl) 1984-12-03
LU69940A1 (no) 1974-08-06
NL7405575A (no) 1974-10-29
JPS5842460B2 (ja) 1983-09-20
CH607100A5 (no) 1978-11-30
NO148794C (no) 1983-12-14
JPS5031819A (no) 1975-03-28
NO741505L (no) 1974-10-29
FI62911C (fi) 1983-03-10
FI62911B (fi) 1982-11-30
CA1023491A (en) 1977-12-27
GB1466252A (en) 1977-03-02
ZA742559B (en) 1975-04-30
BE814282A (fr) 1974-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4478977A (en) Photopolymer derivatives of polyvinyl alcohol
US3849137A (en) Lithographic printing plates and photoresists comprising a photosensitive polymer
US4736055A (en) Oxime sulfonates containing reactive groups
EP0241423A2 (de) Verfahren zur Herstellung positiver Abbildungen
JPH039454B2 (no)
AU613671B2 (en) Photopolymers
JPH0251509A (ja) 不飽和β―ケト―エステルアセタール、その製造方法およびその用途
FI64863C (fi) Fotopolymeriserbart material en ljuskaenslig tryckplaot innehaollande detsamma samt ett foerfarande foer framstaellning avryckplaoten
US2824084A (en) Light-sensitive, unsaturated polymeric maleic and acrylic derivatives
US3702765A (en) Alkali-soluble light sensitive polymers and compositions and processes for using such polymers
US5330877A (en) Photosensitive compositions containing stilbazolium groups
NO148794B (no) Lysfoelsomt polymert materiale og dets anvendelse ved tykkplatefremstilling.
US3526503A (en) Photoresist composition
US3782938A (en) Photosensitive element comprising polymers with cyclopropenyl groups and process
US2816091A (en) Polymeric chalcones and their use as light-sensitive polymers
FI57183B (fi) Ljuskaenslig polymer laemplig att anvaendas foer framstaellning av tryckplattor
US4117039A (en) Light sensitive materials
US4254244A (en) Light-sensitive materials
US5326669A (en) Photosensitive compositions
JPH01100538A (ja) 放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料
CA1112246A (en) Bis-azidophthalic acid derivatives
US3096311A (en) Polymeric azides and azidophthalic anhydrides
US5445916A (en) Photosensitive compositions
US5143815A (en) Light-sensitive mixture based on 1,2-naphthoquinone-diazides, and reproduction material produced with this mixture
US5358999A (en) Process for preparation of photosensitive compositions of stilbazolium quaternary