NL8602602A - Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8602602A NL8602602A NL8602602A NL8602602A NL8602602A NL 8602602 A NL8602602 A NL 8602602A NL 8602602 A NL8602602 A NL 8602602A NL 8602602 A NL8602602 A NL 8602602A NL 8602602 A NL8602602 A NL 8602602A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- refractive index
- light
- substrate
- layers
- core
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/132—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by deposition of thin films
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
NO 34062 Do/JSm
Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider.
Beschrijving 5
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het op een substraat vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider met lichtgelei-dende stroken, door het uit de gasfase afscheiden van dunne glasachtige lagen, volgens een schema dat een vooraf bepaald brekingsindexverloop 10 mogelijk maakt, zodanig dat een lichtgeleidend kerngebied en aan dit kerngebied grenzende mantellagen worden gevormd, waarbij aansluitend uit de aangebrachte lagen de lichtgeleidende stroken worden vervaardigd.
Vlakke lichtgolfgeleiders worden in optische communicatiestelsels als koppelelementen voor optische golfgeleiders toegepast. Afhankelijk 15 van de opbouw dienen deze koppelelementen voor signaalaftakking of voor het mengen van signalen (demultiplexer/multiplexer) .
Een bekende werkwijze voor het vervaardigen van deze golfgeleiders is de OVD-werkwijze, waarbij zeer zuiver SiCl4 met enkele procenten TiCl4 wordt gemengd en in een open vlam met zuurstof tot reageren 20 wordt gebracht. Deze door vlamhydrolyse vervaardigde glasdeeltjes worden op een substraat afgezet. Tijdens het afzetten wordt de brander voortdurend heen en weer bewogen, zodat zich meerdere lagen kunnen vormen. De brekingsindex wordt daarbij door de TiCl4-stroom gestuurd. Daarna wordt het substraat met de poreuze glaslagen verwarmd, opdat de afzon-25 derlijke lagen zich verstevigen (Kawachi e.a., Electronics Letters 1983, vol. 19, nr. 15, p* 583).
Aansluitend wordt het lagenstelsel met een siliciummasker bedekt en worden door gericht wegetsen de geleidingssleuven voor het opnemen van de golfgeleiders alsmede de lichtgeleidende stroken vervaardigd (Yamada 30 e.a., Electronics Letters 1984, vol. 20, nr. 8, p. 313). Deze bekende vlakke golfgeleiders hebben echter het nadeel dat het verloop van de brekingsindex door de afgezette lagen slechts in een richting - namelijk in de richting loodrecht op het vlak van het substraat - kan worden ingesteld. Na het etsen heeft de lichtgeleidende strook een in wezen 35 rechthoekige doorsnede en is het profiel van de lichtgeleidende kern zijdelings niet aangepast, hetgeen tot aanzienlijke dempingsverliezen leidt. Een verder nadeel bestaat daarin, dat slechts relatief dikke lagen kunnen worden vervaardigd, zodat geen fijn trapsgewijs verlopend brekingsindexprofiel kan worden vervaardigd.
40 Uit de EP-0052901 is een werkwijze bekend, waarmee koppelelementen 8602802 2 met lichtgeleidende stroken met een ronde doorsnede worden vervaardigd. Hiertoe worden volgens een vooraf bepaald patroon in de substraatglas-plaat sleuven met een halfcirkelvormige doorsnede geëtst of op mechanische wijze aangebracht. In de volgende stap worden uit de gasfase door 5 middel van een CVD-werkwijze glasachtige lagen op de glasplaat en in deze sleuven afgescheiden. Met de toename van de laagdikte wordt samen met het kwartsglas steeds meer doteringsmateriaal afgescheiden. Dit wordt zo lang voortgezet totdat de sleuven volledig met deze lagen zijn opgevuld. Hetzelfde wordt met een substraat uitgevoerd dat van het spiegelbeeld-10 vormige sleuvenpatroon is voorzien. Daarna worden de beide substraatpla-ten. gepolijst en samengevoegd zodanig dat de sleuven met de glasachtige lagen boven elkaar liggen. Hoewel deze strookgeleiders een cirkelvormige doorsnede met een radiaal naar buiten afnemende brekingsindex vertonen, is hun vervaardiging niet zonder problemen.
15 De vervaardigingswerkwijze en in het bijzonder het polijstproces zijn zeer duur. De sleuven moeten exact boven elkaar liggen, waarbij aan de naad tussen de substraatplaten in het gebied van de lichtgeleidende lagen noch verontreinigingen noch luchtspleten aanwezig mogen zijn.
Het doel van de onderhavige uitvinding is het verschaffen van een 20 werkwijze voor het vervaardigen van vlakke golfgeleiders waarmee de bovengenoemde nadelen van de stand van de techniek worden vermeden. Deze werkwijze moet wezenlijk eenvoudiger zijn, waarbij de vlakke golfgeleider zich gelijktijdig door geringere verliezen ten opzichte van de bekende vlakke golfgeleiders moet onderscheiden.
25 Dit doel wordt bereikt met een werkwijze, waarbij het afscheiden uit de gasfase door middel van een heterogene reactie (CVD-werkwijze) wordt uitgevoerd en waarbij na het vormen van de lichtgeleidende stroken, hetgeen op mechanische wijze of ook volgens de bekende etswerkwij-zen kan geschieden, de brekingsindex van de de kern vormende lagen in 30 het zijdelingse randgebied van de stroken door uitdiffusie van het het brekingsindexverloop in de kern bepalende doteringsmiddel gericht wordt veranderd. Aansluitend worden deze stroken en het substraat met een deklaag van een materiaal met een ten opzichte van het kernmateriaal lagere brekingsindex bedekt.
35 De uitdiffusie kan zo worden gestuurd, dat men in de zijdelingse randgebieden van de lichtgeleidende kern een brekingsindexverloop verkrijgt, dat in wezen overeenkomt met het verloop van de brekingsindex in een richting loodrecht op de lagen.
Bij voorkeur wordt het afscheiden van de glasachtige lagen door 40 middel van een niet-isotherme plasma-CVD-werkwijze uitgevoerd.
8002 602 Γ --.
3
Onder deze reeds uit bijvoorbeeld de EP-0017296 bekende werkwijze moet een werkwijze worden begrepen, waarbij met een zogenaamd koud plasma wordt gewerkt, waarin alleen elektronen een hoge kinetische energie bezitten. Met een dergelijk plasma kan men zelfs gasmengsels tot reage-5 ren brengen, die thermisch niet reactief zijn. Met deze niet-isotherme PGVD-werkwijze kunnen op een redelijk lage temperatuur glasachtige lagen direct uit de gasfase worden afgescheiden, zodat een navolgende verwarming ter verglazing overbodig is. Een verder voordeel bestaat daarin, dat bij het afscheiden op lage temperatuur, dat wil zeggen tussen kamer-10 temperatuur en 300°G, een eventueel verschil in de thermische uitzet— tingscoëfficient van het glasplaatmateriaal en van de afgescheiden lagen niet als nadelig merkbaar wordt.
Als uitdiffundeerbaar doteringsmiddel wordt bijvoorbeeld germanium toegepast. Uiteraard kunnen ook andere uitdiffundeerbare stoffen worden 15 toegepast. Al naar gelang de lichtvoerende stroken als multimodegolfgeleider, als monomodegolfgeleider of als polariserende golfgeleider moeten worden uitgevoerd, worden de afmetingen van de kern en de numerieke apertuur alsmede het brekingsindexverloop overeenkomstig ingesteld.
Opdat de golfenergie volledig van het substraat wordt gescheiden, 20 wordt de dikte van de mantellaag tussen dit substraat en het kerngebied overeenkomstig groot gekozen. Deze maatregel heeft het voordeel dat het substraat niet aan de lichtgeleiding deelneemt, zodat het substraat niet uit een zeer zuiver materiaal hoeft te bestaan hetgeen weer tot kostenbesparingen leidt.
25 Voor de vezelaankoppeling worden voor de lichtgeleidende stroken geleidingssleuven in het substraat gevormd, waarin de aan te koppelen golfgeleiders worden ingelegd.
Bij de overeenkomstig de werkwijze volgens de uitvinding vervaardigde vlakke golfgeleiders zijn de dempingsverliezen duidelijk kleiner 30 dan 0,2 dB/cm.
In het navolgende worden voorbêelduitvoeringsvormen van de uitvinding onder verwijzing naar de tekeningen nader verklaard.
Fig. 1 toont een doorsnede door een overeenkomstig de werkwijze volgens de uitvinding vervaardigde vlakke golfgeleider, en 35 Fig. 2 toont het brekingsindexverloop n langs de lijn II-II in fig.
I.
Fig. 1 toont een doorsnede van een vlakke golfgeleider met het substraat 2 en de beide lichtgeleidende stroken 1. Elke strook 1 bestaat uit een kerngebied 5 en de mantelgebieden 3 en 6. Na het vervaardigen 40 van de gewenste stroken wordt door verwarming het zich in het kerngebied 8602602 Λ 4 5 bevindende doteringsmiddel uitgediffundeerd, waardoor zich een ongeveer door de gestreepte lijn 4 begrensd gebied vormt, waarin de brekingsindex ten opzichte van de oorspronkelijke brekingsindex in het kerngebied 5 is af genomen. Bij het vormen van de mantellaag 6 wordt erop 5 gelet, dat de dikte zo wordt gekozen dat de golfenergie volledig van het substraat 2 wordt gescheiden.
Het brekingsindexverloop langs de lijn II-II (X-richting) in fig. 1 is in fig. 2 weergegeven. Na het uitdiffunderen worden het substraat 2 en de stroken 1 bedekt met een materiaal 7 met lage brekingsindex.
10 Voor het vervaardigen van een monomodevezel wordt een kerngebied van ongeveer 2-8 ƒ«& gevormd. Bij een geraanium-gedoteerde kern wordt het doteringsmiddel gedurende ongeveer 2-5 minuten bij een temperatuur van 2000-2200°C uitgediffundeerd.
15 20 25 30 35 40 - - ......
8602602
Claims (8)
1. Werkwijze voor het op een substraat vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider met lichtgeleidende stroken, door het uit de gasfase 5 afscheiden van dunne glasachtige lagen, volgens een schema dat een vooraf bepaald brekingsindexverloop mogelijk maakt, zodanig dat een lichtge-leidend kerngebied en aan dit kerngebied grenzende mantellagen worden gevormd, waarbij aansluitend uit de aangebrachte lagen de lichtgeleidende stroken worden vervaardigd, met het kenmerk, 10 dat het afscheiden uit de gasfase door middel van een heterogene reactie (CVD-werkwijze) wordt uitgevoerd, dat na het vormen van de lichtgeleidende stroken de brekingsindex van de de kern vormende lagen in het zijdelingse randgebied van de stroken door uitdiffusie van het het brekingsindexverloop in de kern bepa-15 lende doteringsmiddel gericht wordt veranderd, en dat deze stroken en het substraat aansluitend met een deklaag van een materiaal met een ten opzichte van het kernmateriaal lagere brekingsindex worden bedekt.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het afschei- 20 den van de glasachtige lagen door middel van een niet-isotherme plasma— CVD-werkwijze wordt uitgevoerd.
3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat het lichtgeleidende kerngebied van met germanium gedoteerd Si0£ is gevormd .
4. Werkwijze volgens een van de conclusies 1 tot en met 3, met het kenmerk, dat het brekingsindexprofiel, de numerieke apertuur en de afmetingen van het kerngebied zo worden ingericht, dat een monomodegolfge-leider met vooraf bepaalde eigenschappen wordt gevormd.
5. Werkwijze volgens een van de conclusies 1 tot en met 3, met het 30 kenmerk, dat het brekingsindexprofiel, de numerieke apertuur en de afmetingen van het kerngebied zo worden ingericht, dat een multimodegolfgeleider met vooraf bepaalde eigenschappen wordt gevormd.
6. Werkwijze volgens een van de conclusies 1 tot en met 3, met het kenmerk, dat het brekingsindexprofiel, de numerieke apertuur en de afme- 35 tingen zo worden ingericht, dat een polariserende lichtgolfgeleider wordt gevormd.
7. Werkwijze volgens een van de conclusies 1 tot en met 6, met het kenmerk, dat de dikte van de mantellaag tussen het substraat en het kerngebied zo wordt gekozen, dat de golfenergie volledig van het sub- 40 straat wordt gescheiden.
860. S 02 i
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853536780 DE3536780A1 (de) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | Verfahren zur herstellung eines planaren lichtwellenleiters |
DE3536780 | 1985-10-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8602602A true NL8602602A (nl) | 1987-05-18 |
Family
ID=6283644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8602602A NL8602602A (nl) | 1985-10-16 | 1986-10-16 | Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4765819A (nl) |
JP (1) | JPS6291434A (nl) |
DE (1) | DE3536780A1 (nl) |
FR (1) | FR2592723B1 (nl) |
GB (1) | GB2181862B (nl) |
NL (1) | NL8602602A (nl) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2191603A (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-16 | Northern Telecom Ltd | Optical conductor having at least three layers |
DE3641285A1 (de) * | 1986-12-03 | 1988-06-09 | Schott Glaswerke | Verfahren zur messung von (alpha) und ss-strahlen geringer intensitaet |
JP2585332B2 (ja) * | 1987-12-25 | 1997-02-26 | 株式会社日立製作所 | 導波路型光デバイス |
DE3926023A1 (de) * | 1988-09-06 | 1990-03-15 | Schott Glaswerke | Cvd-beschichtungsverfahren zur herstellung von schichten und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
US4901329A (en) * | 1988-10-31 | 1990-02-13 | International Business Machines Corporation | Integrated laser arrays and support circuits |
JP2755471B2 (ja) * | 1990-06-29 | 1998-05-20 | 日立電線株式会社 | 希土類元素添加光導波路及びその製造方法 |
FI86226C (fi) * | 1990-07-10 | 1992-07-27 | Nokia Oy Ab | Foerfarande foer framstaellning av ljusvaogsledare medelst jonbytesteknik pao ett glassubstrat. |
US5196041A (en) * | 1991-09-17 | 1993-03-23 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Method of forming an optical channel waveguide by gettering |
US5178658A (en) * | 1991-09-17 | 1993-01-12 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Method for forming an optical waveguide by selective volatization |
US5194079A (en) * | 1991-09-17 | 1993-03-16 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Method of forming an optical channel waveguide by thermal diffusion |
GB2309096A (en) * | 1996-01-09 | 1997-07-16 | Northern Telecom Ltd | Optical waveguide pair with cladding on buffered substrate |
DE19831719A1 (de) * | 1998-07-15 | 2000-01-20 | Alcatel Sa | Verfahren zur Herstellung planarer Wellenleiterstrukturen sowie Wellenleiterstruktur |
GB2346452A (en) * | 1999-02-05 | 2000-08-09 | Univ Glasgow | Waveguides |
WO2005120709A1 (en) * | 2004-06-07 | 2005-12-22 | Investigen, Inc. | Laboratory spatula |
DE102005016435A1 (de) * | 2005-04-05 | 2006-10-12 | Würth Elektronik Rot am See GmbH & Co. KG | Optische Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1279464A (en) * | 1968-10-03 | 1972-06-28 | Nippon Selfoc Co Ltd | Production of light conducting glass fibres |
US3647406A (en) * | 1968-11-04 | 1972-03-07 | Bell Telephone Labor Inc | Method of achieving surface refractive index changes in a glass light guide element |
US3817730A (en) * | 1969-12-29 | 1974-06-18 | Nippon Electric Co | Method of making optical lines in dielectric body |
DE2363253A1 (de) * | 1973-12-19 | 1975-06-26 | Siemens Ag | Koppelvorrichtung und verfahren zu deren herstellung |
JPS5127944A (ja) * | 1974-09-02 | 1976-03-09 | Mitsubishi Electric Corp | Hikaridoharo |
US4070516A (en) * | 1976-10-18 | 1978-01-24 | International Business Machines Corporation | Multilayer module having optical channels therein |
JPS5947281B2 (ja) * | 1978-06-20 | 1984-11-17 | 日本電信電話株式会社 | 光導波回路の製造方法 |
NL8006410A (nl) * | 1980-11-25 | 1982-06-16 | Philips Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van geintegreerde optische golfgeleider circuits en circuits verkregen met deze werkwijze. |
DE3232888A1 (de) * | 1982-09-04 | 1984-03-08 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung eines lichtwellenleiters |
US4652290A (en) * | 1983-07-05 | 1987-03-24 | Motorola, Inc. | Method for making optical channel waveguides and product manufactured thereby |
-
1985
- 1985-10-16 DE DE19853536780 patent/DE3536780A1/de active Granted
-
1986
- 1986-10-14 FR FR868614234A patent/FR2592723B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-15 GB GB8624679A patent/GB2181862B/en not_active Expired
- 1986-10-16 JP JP61244342A patent/JPS6291434A/ja active Pending
- 1986-10-16 US US06/919,401 patent/US4765819A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-10-16 NL NL8602602A patent/NL8602602A/nl not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2592723A1 (fr) | 1987-07-10 |
JPS6291434A (ja) | 1987-04-25 |
US4765819A (en) | 1988-08-23 |
GB2181862A (en) | 1987-04-29 |
GB8624679D0 (en) | 1986-11-19 |
DE3536780C2 (nl) | 1987-10-22 |
FR2592723B1 (fr) | 1990-06-22 |
GB2181862B (en) | 1989-09-13 |
DE3536780A1 (de) | 1987-04-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL8602602A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider. | |
EP0331335B1 (en) | Device including a substrate-supported optical waveguide, and method of manufacture | |
US5483613A (en) | Optical device with substrate and waveguide structure having thermal matching interfaces | |
US3950073A (en) | Eccentric core optical waveguide | |
EP0490095B1 (en) | A process of manufacturing an elongate integrated optical device with at least one channel therein | |
EP1181591B1 (en) | Planar optical waveguides with double grooves | |
EP0322744B1 (en) | Optical waveguide device | |
NL8602603A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakke lichtgolfgeleider. | |
JPH09297228A (ja) | アレイ導波路格子 | |
US6483964B1 (en) | Method of fabricating an optical component | |
JP3247819B2 (ja) | アレイ格子型光合分波器 | |
JP3196797B2 (ja) | 積層型石英系光導波路の製造方法 | |
JPS63184707A (ja) | 平面状光導波路の製造方法 | |
JPH05157925A (ja) | 石英系光導波路及びその製造方法 | |
KR100262341B1 (ko) | 평면도파로의 코아 변형 방법 | |
EP1058136A1 (en) | Planar silica optical waveguide with grooves | |
JP3137165B2 (ja) | 光導波回路の製造方法 | |
EP1058135A1 (en) | Planar optical waveguide in silica between double grooves | |
JPS6365619B2 (nl) | ||
JP3144614B2 (ja) | フラット帯域特性アレイ格子 | |
JPS63180910A (ja) | 埋込み光導波路 | |
Kobayashi et al. | Glass optical waveguiding technology | |
EP1054272A1 (en) | Arrayed waveguide grating with grooves | |
JPS63217307A (ja) | 光合分波器およびその製造方法 | |
JPH05264829A (ja) | 平面光導波路 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
BV | The patent application has lapsed |