KR20220115562A - 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물 및 그의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, (A)하기 평균조성식(1)로 표시되는, 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상인 폴리오가노실록산: 100질량부, (B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-: 0.1~30질량부, (B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-: 0.1~30질량부, (C)물: 30~3,000질량부를 함유하여 이루어지는 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물이다. 이에 따라, 점도가 300,000mP·s 이상으로 높고, 또한 안정성 및 내구성이 양호한 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물이 제공된다.
Description
본 발명은, 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
폴리오가노실록산은, 기재에 처리함으로써 평활성이나 발수성을 부여할 수 있는 점에서, 섬유처리제, 이형제, 발수제, 화장료, 모발용 화장료 등에 사용되고 있다. 그 중에서도 고중합의 폴리실록산은, 평활성의 부여효과는 우수하다. 또한, 이들 폴리실록산을 유화할 때의 계면활성제로서, 4급 암모늄염과 같은 양이온계 계면활성제를 사용하면 폴리실록산의 기재에의 흡착성이 향상되는 것도 알려져 있다. 이 때문에, 고중합도의 폴리실록산을 양이온계 계면활성제로 유화한 에멀전의 요구가 높았다.
폴리실록산의 에멀전화로 일반적인 방법은, 폴리실록산과 계면활성제를 유화기의 기계적인 쉐어(シェア)로 수중에 유화분산시키는 방법인데, 고중합도의 폴리실록산으로는 점도가 너무 높아 균일하게 기계적인 쉐어를 가할 수 없어, 안정된 에멀전을 얻을 수는 없다.
고중합도의 폴리실록산에멀전을 얻는 방법으로는, 실록산모노머의 에멀전을, 산 또는 알칼리촉매를 이용하여, 에멀전 중에서 중합시키는 유화중합법(특허문헌 1, 2)이 알려져 있다. 그러나, 이러한 유화중합법에 있어서는, 문헌에 기재된 염화세틸트리메틸암모늄으로 대표되는 4급 암모늄염과 같은 양이온계 계면활성제를 사용한 경우에는, 중합속도가 매우 느리기 때문에 고중합도화하기에 장시간을 요한다. 공업적으로 실용적 한계라고 생각되는 150시간 정도의 중합을 행해도, 폴리실록산은 추출 후의 점도가 수만mPa·s 레벨까지밖에 중합하지 않는다.
고중합도 폴리실록산의 양이온계 에멀전을 얻는 방법으로서, 실라놀레이트 촉매로 중합하는 방법(특허문헌 3), 암모늄하이드록사이드 촉매로 중합하는 방법(특허문헌 4)도 제안되어 있는데, 마찬가지로 중합도 레벨이 불충분하다.
또한, 음이온계 계면활성제로 고중합 폴리실록산에멀전을 제조한 후에 양이온계 계면활성제를 첨가하는 방법(특허문헌 5, 6)도 제안되어 있는데, 음이온계 계면활성제를 병용하고 있으므로 안정성에 문제가 있다.
나아가, 2단계의 온도조건으로 중합을 행하는 방법(특허문헌 7)도 제안되어 있는데, 고중합도화하려면 장시간의 중합시간을 요하는 것과 같은 문제가 있다.
또한 최근, 섬유처리제 분야에 있어서, 고중합도 폴리실록산만으로는 달성이 곤란한 레벨의 세탁내구성이 요구되는 경우가 많아지고 있다. 고중합도 폴리실록산의 에멀전에 실리카 등의 피막보강제를 첨가함으로써 피막의 강도를 높여 내구성을 향상시키는 예도 있는데, 실리카의 첨가로 인해 안정성이 저하되는 일이나, 제조공정이 증가하는 등의 문제도 있다.
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 점도가 300,000mP·s 이상으로 높고, 또한 안정성 및 내구성이 양호한 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 그러한 에멀전 조성물을 비교적 단시간에 중합시킬 수 있는 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 해결하기 위해, 본 발명은,
(A)하기 평균조성식(1)로 표시되는, 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상인 폴리오가노실록산: 100질량부,
[화학식 1]
(식 중, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R2는, 서로 독립적으로, 상기 R1의 선택지로부터 선택되는 기, 하이드록시기, 또는 탄소수 1~20의 알콕시기이며, a, b, c, d는 이 폴리오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이며, a≥2, c+d≥1이다.)
(B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q1은, 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q2는, 탄소수 17~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(C)물: 30~3,000질량부
를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 제공한다.
이러한 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물은, 점도가 높은 고중합 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물이며, 또한, 안정성이 양호하며, 또한 내구성도 양호하다.
이때, 본 발명의 에멀전 조성물은, 추가로 비이온계 계면활성제를 포함하는 것이 바람직하다.
이와 같이, 양이온계 계면활성제 외에, 비이온계 계면활성제를 병용함으로써 에멀전의 소입경화가 용이해지고, 이로 인해 에멀전의 안정성의 향상으로 이어진다.
또한, 본 발명의 에멀전 조성물은, 건조 후에 피막을 형성하는 것이 바람직하다.
이와 같이, 본 발명의 에멀전 화합물은, 건조하여 피막을 형성하는 것이 가능하다.
또한, 본 발명은, 상기의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 섬유처리제를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 발수제를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화장료를 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 모발용 화장료를 제공한다.
이와 같이, 본 발명의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물은, 섬유처리제, 이형제, 발수제, 화장료, 모발용 화장료에 포함되는 성분으로서 호적하게 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은,
(D)일반식: HO-[R1 2SiO]j-H로 표시되는 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산(여기서, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, j는 이 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 2,000mPa·s 미만을 만족시키는 값이다.): 100질량부,
(E)하기에 나타내는 어느 1개 또는 2개 이상의 오가노알콕시실란: 0~20질량부
Si(OR3)4, R1Si(OR3)3, R1 2Si(OR3)2, R1 3Si(OR3)
(여기서, R1은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R3은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이다.),
(B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q1은 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q2는 탄소수 17~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(C)물: 30~3,000질량부
를 유화분산시켜 얻어지는 에멀전을, 알칼리촉매존재하, 0~30℃에서 1~150시간 중합을 행하고, 추가로 중화를 행하는 것을 특징으로 하는 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물의 제조방법을 제공한다.
이러한 에멀전 조성물의 제조방법이면, 점도가 높은 고중합 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물로서, 안정성이 양호하고, 또한 내구성도 양호한 것을, 비교적 단시간에 중합시킬 수 있다.
본 발명의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물은, 점도가 높은 고중합 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물이며, 또한, 안정성이 양호하며, 또한 내구성도 양호하다. 또한, 이 에멀전 조성물은, 단독으로 피막을 형성가능하며, 나아가 그 피막의 내구성도 양호하게 할 수 있다. 이러한 에멀전 조성물은, 섬유처리제, 이형제, 발수제, 화장료, 모발용 화장료 등으로서 호적하게 이용할 수 있다.
또한, 본 발명의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물의 제조방법은, 그러한 에멀전 조성물을 비교적 단시간에 중합시킬 수 있으므로, 공업적으로도 유용하다.
본 발명자는, 상기 목적을 달성하기 위해 예의검토를 거듭한 결과,
(D)일반식: HO-[R1 2SiO]j-H로 표시되는 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산(여기서, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, j는 이 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 2,000mPa·s 미만을 만족시키는 값이다.): 100질량부,
(E)하기에 나타내는 어느 1개 또는 2개 이상의 오가노알콕시실란: 0~20질량부
Si(OR3)4, R1Si(OR3)3, R1 2Si(OR3)2, R1 3Si(OR3)
(여기서, R1은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R3은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이다.),
(B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q1은 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q2는 탄소수 17~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(C)물: 30~3,000질량부
를 유화분산시켜 얻어지는 에멀전을, 알칼리촉매존재하, 0~30℃에서 1~150시간 중합을 행하고, 추가로 중화를 행함으로써, 이 에멀전을 비교적 단시간에 중합시킬 수 있는 것을 발견하였다. 또한, 본 발명자들은, 이로 인해 (A)성분으로서, 하기 평균조성식(1)로 표시되는, 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상인 폴리오가노실록산을 함유한 양이온계 에멀전 조성물이 얻어지고, 이 에멀전 조성물은, 안정성이 양호하며, 또한 내구성도 양호한 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
[화학식 2]
(식 중, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R2는, 서로 독립적으로, 상기 R1의 선택지로부터 선택되는 기, 하이드록시기, 또는 탄소수 1~20의 알콕시기이며, a, b, c, d는 이 폴리오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이며, a≥2, c+d≥1이다.)
이러한 300,000mPa·s 이상의 고점도의 폴리오가노실록산은 일반적으로 고중합도인 것이다. 그 때문에, 본 발명의 설명시에, 고중합도 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물이라 칭하기도 한다.
이하, 본 발명에 대하여 실시의 형태를 설명하는데, 본 발명은 이것으로 한정되는 것은 아니다.
우선, 본 발명의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물의 각 성분에 대하여 설명한다.
[(A)성분]
(A)성분은, 하기 평균조성식(1)로 표시되는, 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상인 폴리오가노실록산이다. 본 발명의 에멀전 조성물에 있어서, 이 (A)성분은, 100질량부 함유된다.
[화학식 3]
(식 중, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R2는, 서로 독립적으로, 상기 R1의 선택지로부터 선택되는 기, 하이드록시기, 또는 탄소수 1~20의 알콕시기이며, a, b, c, d는 이 폴리오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이며, a≥2, c+d≥1이다.)
상기와 같이, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이다. 탄소수 1~20의 1가 유기기로는, 직쇄, 분지쇄 또는 환상의 어느 것이어도 되고, 구체적으로는, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 옥타데실, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 등의 알킬기, 페닐, 톨릴, 나프틸 등의 아릴기, 비닐, 알릴 등의 알케닐기, 혹은 이들의 유기기구조 중의 수소원자의 일부를 할로겐원자나, 아미노, 아크릴옥시, 메타크릴옥시, 에폭시, 메르캅토 등의 극성기함유의 유기기로 치환한 것 등을 들 수 있다. 여기서, R1의 80% 이상은 메틸기인 것이 공업적 및 특성적으로 바람직하다.
또한, 상기와 같이, R2는, 서로 독립적으로, 상기의 R1의 선택지로부터 선택되는 기, 또는, 하이드록시기, 혹은 탄소수 1~20의 알콕시기이다. 탄소수 1~20의 알콕시기로는, 직쇄, 분지쇄 또는 환상의 어느 것이어도 되고, 구체적으로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로파녹시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 옥틸옥시기, 데실옥시기, 도데실옥시기, 2-에틸헥실옥시기 등을 들 수 있고, 메톡시기, 에톡시기, 프로파녹시기, 부톡시기, 펜틸옥시기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기, 프로파녹시기가 더욱 바람직하다.
상기 평균조성식(1) 중에, 반응성 관능기가 존재하는 경우, 그 반응성 관능기는 다른 화합물과 반응하고 있을 수도 있다. 구체적으로는, 상기 평균조성식(1) 중에 아미노기가 존재하는 경우, 에폭시기함유 폴리옥시알킬렌 화합물이나 에폭시기함유 알킬 화합물과의 개환반응을 하고 있을 수도 있고, 또한, 무수아세트산이나, 무수프로피온산, 무수옥살산, 무수석신산, 무수말레산, 무수프탈산, 무수안식향산과 같은 카르본산무수물과의 아세틸화 반응을 하고 있을 수도 있다. 또한, 상기 평균조성식(1) 중에 에폭시기가 존재하는 경우, 아미노기함유 화합물과 개환반응을 하고 있을 수도 있다. 한편, 상기에 나타낸 반응성 관능기와의 반응은 이들로 한정되는 것은 아니다.
상기 평균조성식(1) 중의 a, b, c, d는, 폴리오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이며, 400,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이 보다 바람직하고, 500,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이 더욱 바람직하다. 한편, 이 점도는 절대점도로서, 액상으로 측정할 수 있는 것은 그대로, 점도가 너무 높아 측정할 수 없는 것은 톨루엔용해점도를, 회전점도계에 의해, 25℃에서 측정한 값이다. 또한, a≥2, c+d≥1이다.
상기 평균조성식(1) 중의 b는, 전형적으로는 50 이상, 바람직하게는 100 이상의 값을 취할 수 있다. 단, c+d의 값이 큰 경우는 가교단위가 증가하므로, b가 50 이하여도 점도가 300,000mPa·s 이상이 되는 경우도 있다.
(A)성분의 구체예로는, 하기 평균조성식을 들 수 있는데, 이들로 한정되는 것은 아니다. 하기 평균조성식 중, a, b, c, d, e, f는, 폴리오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이며, a≥2, c+d≥1이다. 또한, 하기 평균조성식 중의 b+e+f는, 전형적으로는 50 이상, 바람직하게는 100 이상의 값을 취할 수 있다.
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
[(B-1)성분 및 (B-2)성분]
(B-1)성분 및 (B-2)성분은 이하와 같다.
(B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-(여기서, Q1은, 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-(여기서, Q2는, 탄소수 17~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
본 발명의 에멀전 조성물에 있어서, (A)성분 100질량부에 대하여, (B-1)성분이 0.1~30질량부 함유되고, (B-2)성분이 0.1~30질량부 함유된다.
이들 (B-1)성분 및 (B-2)성분인 양이온계 계면활성제는, 폴리오가노실록산을 수중에 유화분산시키기 위한 것인데, 본 발명자들은 (B-1) 및 (B-2)성분의 작용기구에 대하여, 유화제로서의 작용기구 이외에도 다음과 같은 작용기구를 고려하고 있다. 본 발명의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물의 제조방법에 있어서, 폴리오가노실록산을 수중에 유화분산한 후에, 알칼리촉매를 첨가했을 때에 수상에 발생하는 OH-와 (B-1) 및 (B-2)성분인 양이온계 계면활성제의 반대이온(對イオン)이 교환함으로써, 양이온계 계면활성제 자체도 촉매로서 작용하고, 그 결과, 보다 효율적으로 (A)성분의 폴리오가노실록산을 고중합도화할 수 있다고 생각된다.
(B-1)성분인 양이온계 계면활성제는, 상기와 같이, Q1 3(CH3)N+·X-로 표시되는 양이온계 계면활성제이며, Q1은 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기이며, 바람직하게는 7~18의 1가 유기기이다. Q1의 탄소수가 6보다 작은 경우에는, 계면활성제의 친수성이 너무 강해 (A)성분의 폴리오가노실록산과의 접촉빈도가 적어지고, 폴리오가노실록산을 고중합도화하기에 장시간의 중합을 필요로 한다. 또한, Q1의 탄소수가 30보다 큰 경우에는 계면활성제로서의 유화력이 약하고, 안정된 에멀전을 얻을 수 없는 경우가 있다.
Q1의 구체예로는, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 노나데실, 에이코실, 도코사닐(ドコサニル), 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 등의 알킬기, 페닐, 벤질, 톨릴, 나프틸 등의 아릴기, 올레일 등의 알케닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 옥틸, 도데실, 헥사데실, 옥타데실이 바람직하다.
또한, X-는, 할로겐이온 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실이온이며, 구체적으로는 Cl-, Br-, I- 등의 할로겐이온, HCOO-, CH3COO-, C2H5COO- 등의 카르복실이온을 들 수 있다. 그 중에서도 Cl-, HCOO-, CH3COO-가 바람직하다.
(B-1)성분의 구체예로는, 트리헥실메틸암모늄클로라이드, 트리헵틸메틸암모늄클로라이드, 트리옥틸메틸암모늄클로라이드, 트리노닐메틸암모늄클로라이드, 트리데실메틸암모늄클로라이드, 트리라우릴메틸암모늄클로라이드, 트리옥틸메틸암모늄아세테이트, 트리라우릴메틸암모늄아세테이트 등을 들 수 있는데, 이들로 한정되는 것은 아니다.
(B-1)성분의 양이온계 계면활성제의 사용량으로는, (A)성분 100질량부에 대하여, 0.1~30질량부 이용할 수 있고, 바람직하게는 0.5~20질량부, 보다 바람직하게는 1~15질량부이다. 0.1질량부보다 적은 경우에는, (A)성분이 중합과정에서 효율좋게 고중합도화할 수 없는 경우가 있으며, 또한, 30질량부보다 많은 경우에는 에멀전의 안정성이 불안정해지기 쉽다.
또한, (B-2)성분의 양이온계 계면활성제는, 상기와 같이, Q2(CH3)3N+·X-로 표시되는 양이온계 계면활성제이며 에멀전의 안정성을 향상시킬 수 있다. 여기서, Q2는, 탄소수 17~30의 1가 유기기이며, 바람직하게는 18~28의 1가 유기기이다. Q2의 탄소수가 17보다 작은 경우에는, (B-1)로 표시되는 양이온계 계면활성제와의 상용성이 나빠 에멀전의 안정성이 저하되는 경우가 있다. Q2의 탄소수가 30보다 큰 경우에는, Q1의 경우와 마찬가지로, 계면활성제로서의 유화력이 약하고, 안정된 에멀전을 얻을 수 없는 경우가 있다. Q2의 X-는, 상기 Q1의 X-와 동일하다.
(B-2)성분의 구체예로는, 스테아릴트리메틸암모늄클로라이드, 이코실트리메틸암모늄클로라이드, 베헤닐트리메틸암모늄클로라이드, 스테아릴트리메틸암모늄아세테이트, 이코실트리메틸암모늄아세테이트, 베헤닐트리메틸암모늄아세테이트 등을 들 수 있는데, 이들로 한정되는 것은 아니다.
(B-2)성분의 양이온계 계면활성제의 사용량으로는, (A)성분 100질량부에 대하여, 0.1~30질량부 이용할 수 있고, 바람직하게는 0.5~20질량부, 보다 바람직하게는 1~15질량부이다. 0.1질량부보다 적은 경우에는 에멀전의 안정성이 불안정해지기 쉽고, 30질량부보다 많은 경우에는 (A)성분이 중합과정에서 효율좋게 고중합도화할 수 없는 경우가 있다.
(B-1)성분은 (B-2)성분에 비해 소수성이 높으므로, (A)성분의 폴리오가노실록산과의 접촉빈도가 높고, 보다 중합속도를 빠르게 하는 효과를 기대할 수 있는 한편, 소수성이 너무 높아 유화능이 뒤떨어지는 경우가 있다. 그 때문에, (B-1)만 사용하는 경우, 에멀전의 조성이나, 입경, 점도, pH 등의 조건에 따라서는 에멀전의 경시안정성이 나빠지는 경우가 있다. 이에, (B-1)성분과 비교하여 유화능이 높은 (B-2)성분을 병용함으로써 중합속도를 높인 채로, 에멀전의 안정성을 높일 수 있다.
또한, 본 발명의 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물에 있어서는, 양이온계 계면활성제 외에, 비이온계 계면활성제를 병용함으로써 에멀전의 소입경화가 용이해지고, 이에 따라 에멀전의 안정성의 향상으로 이어진다. 비이온계 계면활성제로는, 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시알킬렌알킬페닐에테르, 폴리옥시알킬렌알킬에스테르, 폴리옥시알킬렌솔비탄알킬에스테르, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜 등이 예시되고, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 적당히 선택하여 이용할 수 있다. 그 중에서도, 하기 일반식(2)
R4O(EO)P(PO)qH (2)
(식 중, R4는, 탄소원자수 8~30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이며, EO는 에틸렌옥사이드기, PO는 프로필렌옥사이드기를 나타내고, 그들의 배열은 블록상이어도 랜덤상이어도 된다. p 및 q는 독립적으로 0~100의 정수이며, 단, p+q>0이다.)로 표시되는 것이 바람직하다. 특히, 상기 일반식(2)에 있어서, R4는 탄소원자수 8~18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 바람직하고, p, q는 독립적으로 0~25, 0<p+q≤50이 바람직하다.
또한, 에멀전의 안정성을 보충하는 등의 목적으로, (B-1)성분 및 (B-2)성분 이외의 제4급 암모늄염, 알킬아민아세트산염 등의 양이온계 계면활성제, 알킬베타인, 알킬이미다졸린 등의 양성 계면활성제를 첨가하는 것은 전혀 문제없다.
[(C)성분]
본 발명의 에멀전 조성물은, (C)성분으로서 물을, (A)성분 100질량부에 대하여 30~3,000질량부, 바람직하게는 40~2,400질량부 배합한다. 물이 너무 적으면 유중수형 에멀전이 되지 않고, 너무 많으면 비경제적이다.
[에멀전 조성물의 제조방법]
이어서, 본 발명의 에멀전 조성물의 제조방법은, 이하와 같다. 즉,
(D)일반식: HO-[R1 2SiO]j-H로 표시되는 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산(여기서, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, j는 이 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 2,000mPa·s 미만을 만족시키는 값이다.): 100질량부,
(E)하기에 나타내는 어느 1개 또는 2개 이상의 오가노알콕시실란: 0~20질량부
Si(OR3)4, R1Si(OR3)3, R1 2Si(OR3)2, R1 3Si(OR3)
(여기서, R1은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R3은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이다.),
(B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q1은 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q2는 탄소수 17~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(C)물: 30~3,000질량부
를 유화분산시켜 얻어지는 에멀전을, 알칼리촉매존재하, 0~30℃에서 1~150시간 중합을 행하고, 추가로 중화를 행하는 것이다.
[(D)성분]
우선, (D)성분인 일반식: HO-[R1 2SiO]j-H로 표시되는 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산(여기서, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, j는 이 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 2,000mPa·s 미만을 만족시키는 값이다.)은, (A)성분인 폴리오가노실록산의 원료가 되는 것이다.
상기 일반식 중의 j는, 전형적으로는 1~400이라고 하는 값을 취할 수 있다.
(D)성분의 구체예로는, 하기 평균조성식을 들 수 있는데, 이들로 한정되는 것은 아니다. 하기 평균조성식 중의 j, k+l, k+l+m은 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 2,000mPa·s 미만을 만족시키는 값이다. 또한, 하기 일반식 중의 j, k+l, k+l+m은, 전형적으로는 1~400이라고 하는 값을 취할 수 있다.
[화학식 7]
[(E)성분]
(E)성분인 오가노알콕시실란은, (A)성분이 되는 폴리오가노실록산의 원료가 되는 것이며, 하기 일반식 중 어느 1개 또는 2개 이상의 오가노알콕시실란이다.
Si(OR3)4, R1Si(OR3)3, R1 2Si(OR3)2, R1 3Si(OR3)
여기서, R1은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이다. 탄소수 1~20의 1가 유기기로는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 옥타데실, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 등의 알킬기, 페닐, 톨릴, 나프틸 등의 아릴기, 비닐, 알릴 등의 알케닐기, 혹은 이들의 유기기구조 중의 수소원자의 일부를 할로겐원자나, 아미노, 아크릴옥시, 메타크릴옥시, 에폭시, 메르캅토 등의 극성기함유의 유기기로 치환한 것 등을 들 수 있다. 여기서, R1의 80% 이상은 메틸기인 것이 공업적 및 특성적으로 바람직하다. 또한, R3은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이다. R3의 탄소수 1~20의 1가 유기기로는 상기 R1과 동일하며, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기가 더욱 바람직하다.
(E)성분의 사용량으로는, (D)성분인 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산 100질량부에 대하여, 0~20질량부이며, 바람직하게는 0~15질량부이다. (E)성분의 배합량이 너무 많으면 피막화했을 때에 물러져 내구성이 저하되는 경우가 있다.
(E)성분의 구체예로는, 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 헥실트리메톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 데실트리메톡시실란, 트리플루오로프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있는데, 이들로 한정되는 것은 아니다.
[(B-1)성분, (B-2)성분, (C)성분]
본 발명의 에멀전 조성물의 제조방법에서 이용하는 (B-1)성분, (B-2)성분, (C)성분에 대해서는 상기와 마찬가지이다.
이들 (D)성분인 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산, (E)성분인 오가노알콕시실란, 상술한 (B-1)성분 및 (B-2)성분인 양이온계 계면활성제 및 (C)성분인 물을 호모믹서, 호모지나이저, 콜로이드밀, 호모디스퍼, 라인믹서와 같은 유화기를 이용하여 균일한 에멀전으로 한 후, 알칼리촉매를 첨가하여, 0~30℃에서 1~150시간 중합을 행한다.
여기서, 알칼리촉매로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 불화칼륨, 암모니아, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 벤질트리메틸암모늄하이드록사이드, 테트라부틸포스포늄하이드록사이드, 트리플로로메틸페닐트리메틸암모늄하이드록사이드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 암모니아, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 벤질트리메틸암모늄하이드록사이드, 테트라부틸포스포늄하이드록사이드가 바람직하다.
알칼리촉매의 사용량으로는, (D)성분인 양말단 하이드록시오가노실록산 100질량부에 대하여, 0.01~5질량부인 것이 바람직하고, 0.03~5질량부인 것이 더욱 바람직하다.
한편, (B-1) 및 (B-2)성분인 양이온계 계면활성제를, 이온교환수지를 이용하여 4급 암모늄하이드록사이드로 하면, 이것 자신이 알칼리촉매성분으로서 작용하므로 알칼리촉매를 별도 첨가할 필요는 없다. 이와 같이, (B-1)성분 또는 (B-2)성분 자체를 알칼리촉매성분으로서 작용시키는 경우도, 본 발명의 에멀전 조성물의 제조방법에 있어서의, 상기 (D), (E), (B-1), (B-2) 및 (C)성분을 유화분산시켜 얻어지는 에멀전을, 알칼리촉매존재하에서 중합을 행하는 것에 해당한다.
또한, 중합온도는 0~30℃이다. 0℃보다 낮은 경우에는 중합의 진행이 느려 실용적이지 않고, 30℃보다 높은 경우에는 에멀전의 안정성이 불안정한 것이 된다. 바람직하게는 5~25℃이다. 또한, 중합시간은 1~150시간이다. 1시간 미만인 경우에는 중합이 불충분하며, 150시간보다 길어지면 공업적이지 않게 된다. 이 중합시간은, 바람직하게는 5~120시간이다.
소정의 중합시간 후, 중화함으로써, 중합반응을 정지할 수 있다. 여기서의 중화는 산성 화합물로 행할 수 있다. 산성 화합물로는, 염산, 포름산, 아세트산, 프로피온산 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 염산, 포름산, 아세트산이다. 한편, 산성 화합물을 사용하는 대신에 이온교환수지를 이용하여 중화하는 것도 가능하다.
이상의 방법에 의해 얻어지는 본 발명의 고중합도 오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물은, 섬유처리제, 이형제, 발수제, 화장품원료 등으로서 호적하게 이용되고, 각종 섬유, 피혁, 종이, 모발 등에 처리함으로써 우수한 유연성, 윤활성, 발수성, 볼륨감 등을 부여할 수 있다. 한편, 섬유로는, 면, 마, 견, 양모와 같은 천연섬유, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 비닐론, 폴리염화비닐, 스판덱스 등의 합성섬유, 아세테이트 등의 반합성섬유 등을 들 수 있는데, 이들로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 고중합도 오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물에는, 각종의 증점제, 안료, 염료, 침투제, 대전방지제, 소포제, 난연제, 항균제, 방부제, 발수제, 가교제, 밀착향상제나, 다른 실리콘오일, 실리콘 수지, 실리카, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등을 적당히 배합할 수 있다.
본 발명의 고중합도 오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물은, 건조 후에 피막을 형성하는 것이 가능하며, 섬유, 종이, 금속, 목재, 고무, 플라스틱, 유리 등 각종 기재 표면에 처리하여 사용할 수 있다. 기재에의 도포방법으로는, 침지법, 스프레이법, 롤코트법, 바코트법, 브러싱법 등, 종래 공지의 각종 도포법이 가능하다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예를 나타내고, 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예로 제한되는 것은 아니다. 한편, 하기의 예에 있어서, 「%」는 「질량%」를 나타낸다.
[실시예 1]
일반식: HO-[(CH3)2SiO]n-H로 표시되는 양말단 하이드록시폴리디메틸실록산((D)성분) 300g(여기서, n은 약 310이며, 25℃에 있어서의 점도가 1,500mPa·s이다), 트리에톡시페닐실란((E)성분) 4.3g, 트리옥틸메틸암모늄클로라이드((B-1)성분)의 유효성분 75%의 IPA(이소프로필알코올)용액(TOMAC-75: 라이온·스페셜리티·케미칼즈사제) 24.0g, 베헤닐트리옥틸암모늄클로라이드((B-2)성분)의 유효성분 80%의 에탄올품(品)(리포카드 22-80: 라이온·스페셜리티·케미칼즈사제) 18.0g, 이온교환수((C)성분) 239.3g을 호모믹서, 디스퍼를 이용하여 균일하게 유화분산함으로써 에멀전을 얻었다. 이 에멀전에 30% 암모니아수용액 6.6g을 첨가하였다(알칼리촉매). 그 후, 액온도를 15℃로 낮추고, 24시간 중합을 행하여, 아세트산 7.8g으로 중화함으로써 에멀전A를 얻었다.
[실시예 2]
실시예 1의 이온교환수를 215.3g으로 대신하고, 추가로 비이온계 유화제로서, 폴리옥시에틸렌알킬에테르인 에멀겐 109P(카오사제) 24.0g을 추가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 에멀전B를 얻었다.
[실시예 3]
실시예 2의 트리옥틸메틸암모늄클로라이드의 유효성분 75%의 IPA용액(TOMAC-75: 라이온·스페셜리티·케미칼즈사제)을 3.0g으로, 이온교환수를 236.3g으로 대신한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 하여 에멀전C를 얻었다.
[실시예 4]
실시예 2의 트리옥틸메틸암모늄클로라이드의 유효성분 75%의 IPA용액(TOMAC-75: 라이온·스페셜리티·케미칼즈사제)을 12.0g으로, 이온교환수를 227.3g으로 대신한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 하여 에멀전D를 얻었다.
[실시예 5]
실시예 4에 있어서의 중합조건을 15℃에서 48시간으로 하여 중합한 것 이외는, 실시예 4와 동일하게 하여 에멀전E를 얻었다.
[실시예 6]
실시예 4의 이온교환수를 231.6g으로 변경하고, 30% 암모니아수용액 대신에 85%의 KOH를 2.3g을 첨가한 것 이외는 실시예 4와 동일하게 하여 에멀전F를 얻었다.
[비교예 1]
실시예 1의 트리에톡시페닐실란을 1.1g으로, 이온교환수를 258.7g으로 대신하고, 추가로 트리옥틸메틸암모늄클로라이드의 유효성분 75%의 IPA용액(TOMAC-75: 라이온·스페셜리티·케미칼즈사제), 및, 베헤닐트리옥틸암모늄클로라이드의 유효성분 80%의 에탄올품(리포카드 22-80: 라이온·스페셜리티·케미칼즈사제)을 세틸트리메틸암모늄클로라이드의 유효성분 30%의 수용액(코타민 60W: 카오사제) 25.8g으로 대신한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 에멀전G를 얻었다.
[비교예 2]
비교예 1에 있어서의 중합조건을 15℃에서 96시간으로 하여 중합한 것 이외는, 비교예 1과 동일하게 하여 에멀전H를 얻었다.
[비교예 3]
비교예 1의 트리에톡시페닐실란을 4.3g으로, 이온교환수를 255.5g으로 대신한 것 이외는 비교예 1과 동일하게 하여 에멀전I를 얻었다.
[비교예 4]
비교예 3의 세틸트리메틸암모늄클로라이드의 유효성분 30%의 수용액(코타민 60W: 카오사제)을 트리옥틸메틸암모늄클로라이드의 유효성분 75%의 IPA용액(TOMAC-75: 라이온·스페셜리티·케미칼즈사제) 24.0g으로, 이온교환수를 257.3g으로 대신한 것 이외는 비교예 3과 동일하게 하여 에멀전J를 얻었다.
[비교예 5]
비교예 4에 세틸트리메틸암모늄클로라이드의 유효성분 30%의 수용액(코타민 60W: 카오사제) 25.8g을 추가하고, 이온교환수를 231.5g으로 대신한 것 이외는 비교예 4와 동일하게 하여 제조하였으나, 본 조성으로는 에멀전K를 제조할 수는 없었으므로 물성, 특성평가는 행하지 않았다.
[비교예 6]
25℃에 있어서의 점도가 800,000mPa·s인 직쇄디메틸실리콘을 300g, 세틸트리메틸암모늄클로라이드의 유효성분 30%의 수용액(코타민 60W: 카오사제) 21.6g, 이온교환수 235.2g을 호모믹서, 디스퍼를 이용하여 균일하게 유화분산함으로써 에멀전L을 얻었다.
상기 실시예 1~6, 비교예 1~6에서 얻어진 에멀전의 물성, 특성을 하기 평가방법에 의해 측정하고, 결과를 표 1, 2에 나타냈다.
(추출한 실리콘의 점도)
에멀전A~L 300g을 2L의 IPA 중에 교반하면서 첨가함으로써 에멀전을 파괴시켜 폴리디오가노실록산을 추출하고, 이 폴리디오가노실록산을 105℃에서 3시간 건조한 후, 25℃에 있어서 BH형 회전점도계로 점도를 측정하였다. 한편, 이 점도는 액상으로 측정할 수 있는 것은 그대로, 점도가 너무 높아 측정할 수 없는 것은 10% 톨루엔용해점도를 측정하였다. 점도가 너무 높아 액상으로 측정할 수 없는 것의 점도는 모두 300,000mPa·s 이상이다.
(피막형성의 유무)
에멀전A~L 20g을 PP(폴리프로필렌)트레이에 분취하고, 25℃에서 48시간 건조시킨 후, 추가로 105℃에서 1시간 건조시켜, 피막이 형성되었는지 평가하였다.
○: 피막형성
×: 피막형성 없음(액상 그대로)
(보존안정성)
25℃에서 1개월 정치한 후의 외관을 육안으로 평가하였다.
○: 분리 없음
△: 약간 분리
×: 완전히 분리
(처리포의 감촉)
에멀전A~L을, 폴리오가노실록산농도가 1%가 되도록 이온교환수로 희석하여 처리액을 제작하였다. 처리액에 T/C브로드포(ブロ-ド布)를 10초간 침지시킨 후에 드로잉률(絞り率) 100%의 조건으로 롤을 이용하여 드로잉하고, 150℃에서 2분간 건조하였다. 그 후, 처리포를 손에 닿는 감촉으로 평가하고, 미처리포와 유연성 및 평활성을 비교하였다.)
○: 양호
×: 미처리포 레벨
(처리포의 세탁내구성)
에멀전A~L을, 폴리오가노실록산농도가 1%가 되도록 이온교환수로 희석하여 처리액을 제작하였다. 처리액에 T/C브로드포를 10초간 침지시킨 후에 드로잉률 100%의 조건으로 롤을 이용하여 드로잉하고, 150℃에서 2분간 건조하였다. 그 후, 처리포를 반으로 재단하고, 편방의 처리포를 JIS LO217 103에 준거한 수법에 의해, 세탁기에 의한 세탁을 1회 실시한 후에 실온에서 1일간 건조하였다. 세탁 전후의 처리포의 섬유표면의 실리콘잔존량을 형광X선 분석장치(Rigaku사제)로 측정하고, 세탁 후의 잔존율(%)을 산출하였다.
[표 1]
[표 2]
표 1, 2에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 고중합도 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물은 고점도여도 비교적 단시간에 중합할 수 있음과 함께, 피막형성능을 갖고 있는 점에서 섬유에 처리했을 때의 내구성이 우수하고, 또한, 처리포의 감촉도 양호하다. 나아가, 본 발명의 고중합도 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물은 보존안정성도 우수하다. 이에 반해 비교예의 조성에 의해 얻어진 양이온계 에멀전 조성물은, 안정성은 높지만, 피막형성능이 없는 것이나, 또한 섬유처리했을 때의 내구성이 뒤떨어져 있거나, 피막형성능은 있지만, 에멀전의 안정성이 낮아 바로 분리되어 버린다.
본 발명의 고중합도 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 섬유처리제로서 이용함으로써, 섬유에 대하여 양호한 유연성을 부여할 수 있고, 내구성도 우수한 점에서, 세탁처리 후도 양호한 유연성을 유지하는 것이 가능하다. 나아가, 본 발명의 고중합도 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 처리하여 건조시켰을 때에 형성되는 피막은 내구성이 높은 점에서, 범용성도 우수하고, 섬유처리제 이외에도, 이형제나 발수제, 화장료, 모발용 화장료 등에 널리 응용이 가능하다.
Claims (9)
- (A)하기 평균조성식(1)로 표시되는, 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상인 폴리오가노실록산: 100질량부,
[화학식 1]
(식 중, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R2는, 서로 독립적으로, 상기 R1의 선택지로부터 선택되는 기, 하이드록시기, 또는 탄소수 1~20의 알콕시기이며, a, b, c, d는 이 폴리오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 300,000mPa·s 이상을 만족시키는 값이며, a≥2, c+d≥1이다.)
(B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q1은, 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q2는, 탄소수 17~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(C)물: 30~3,000질량부
를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물. - 제1항에 있어서,
비이온계 계면활성제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
건조 후에 피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 섬유처리제.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 발수제.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화장료.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 모발용 화장료.
- (D)일반식: HO-[R1 2SiO]j-H로 표시되는 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산(여기서, R1은, 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, j는 이 양말단 하이드록시폴리디오가노실록산의 25℃에 있어서의 점도가 2,000mPa·s 미만을 만족시키는 값이다.): 100질량부,
(E)하기에 나타내는 어느 1개 또는 2개 이상의 오가노알콕시실란: 0~20질량부
Si(OR3)4, R1Si(OR3)3, R1 2Si(OR3)2, R1 3Si(OR3)
(여기서, R1은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이며, R3은 서로 독립적으로, 수소원자, 또는, 탄소수 1~20의 1가 유기기이다.),
(B-1)양이온계 계면활성제: Q1 3(CH3)N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q1은 동일 또는 이종의 탄소수 6~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(B-2)양이온계 계면활성제: Q2(CH3)3N+·X-: 0.1~30질량부,
(여기서, Q2는 탄소수 17~30의 1가 유기기, X는 할로겐원자 또는 탄소수 1~6의 1가 카르복실기이다.)
(C)물: 30~3,000질량부
를 유화분산시켜 얻어지는 에멀전을, 알칼리촉매존재하, 0~30℃에서 1~150시간 중합을 행하고, 추가로 중화를 행하는 것을 특징으로 하는 폴리오가노실록산의 양이온계 에멀전 조성물의 제조방법.
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