KR20170065636A - 트레프로스티닐의 제조 공정 - Google Patents
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Abstract
[화학식 I]
Description
Claims (60)
- 화학식 I
[화학식 I]
의 트레프로스티닐 및 염기와 함께 주어진 그 무정형 염 형태, 염 무수물, 및 염의 일수화물 및 다수화물의 제조 방법으로서,
일반 화학식 XVII
[화학식 XVII]
(상기 화학식에서, R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고, 단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 하고, x는 0 또는 2를 나타냄)
의 화합물을 일반 화학식 XVI
[화학식 XVI]
(상기 화학식에서, R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴- 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타냄)
의 화합물과,
a1) 그리나르 시약의 존재 하에서 반응시키고, 생성된 일반 화학식 XV
[화학식 XV]
(상기 화학식에서, x, R1 및 R2는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 산화시키고, 생성된 일반 화학식 XIV
[화학식 XIV]
(상기 화학식에서, x, R1 및 R2는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 선택적으로 환원시키거나,
a2) 키랄 염기 및 아연염의 존재 하에서 반응시키고,
단계 a1) 또는 a2)에서 얻은 일반 화학식 XIII
[화학식 XIII]
(상기 화학식에서, x, R1 및 R2는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을, 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내는 R3 기의 도입에 적합한 화합물과 반응시키고,
b) 생성된 일반 화학식 XII
[화학식 XII]
(상기 화학식에서, x, R1, R2 및 R3는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 분자 내 고리화시키고,
c) 생성된 일반 화학식 XI
[화학식 XI]
(상기 화학식에서, x, R1, R2 및 R3는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 촉매 반응으로 수소화하고, x=0인 경우, 이성화하고,
d) 생성된 일반 화학식 Xa 또는 Xb
[화학식 Xa]
[화학식 Xb]
(상기 화학식에서, R1, R2는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가지며, 화학식 Xa의 화합물에서 x=0이고, 화학식 Xb의 화합물에서 x=2임)
의 화합물을 환원시키고,
e) 생성된 일반 화학식 IX
[화학식 IX]
(상기 화학식에서, x, R1 및 R2는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을, 규소 원자, 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내는 R4 기의 도입에 적합한 화합물과 반응시키고(단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 하며 R1은 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
f) 생성된 일반 화학식 VIII
[화학식 VIII]
(상기 화학식에서, x, R1, R2 및 R4는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물로부터 R1 보호기를 산성 매질에서 절단하고,
g) 생성된 일반 화학식 VII
[화학식 VII]
(상기 화학식에서, x, R2 및 R4는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 산화시키고,
h) 생성된 일반 화학식 VI
[화학식 VI]
(상기 화학식에서, x, R2 및 R4는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을,
h1) x가 0을 의미하는 경우, 일반 화학식
CH3-(CH2)4-CO-CH2-PO(OR6)2
(여기서, R6는 C1-4 알킬- 또는 페닐- 기를 나타냄)
의 화합물과 비티히(Wittig) 반응으로 반응시키고, 생성된 일반 화학식 V
[화학식 V]
(상기 화학식에서, R2 및 R4는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 선택적으로 환원시키고, 생성된 일반 화학식 IVa
[화학식 IVa]
(상기 화학식에서, R2 및 R4는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물의 R4 보호기를 제거하고, 생성된 일반 화학식 III
[화학식 III]
(상기 화학식에서, R2는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 수소화하거나,
h2) x가 2를 의미하는 경우, 키랄 촉매의 존재 하에서 유기 금속 시약과 반응시키고, 생성된 일반 화학식 IVb
[화학식 IVb]
(상기 화학식에서, R2 및 R4는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물의 보호기 R4를 제거하고,
i) 단계 h1) 또는 h2)에서 얻은 일반 화학식 II
[화학식 II]
(상기 화학식에서, R2는 상기 정의된 바와 같은 의미를 가짐)
의 화합물을 공지의 방법에 의해 화학식 I의 트레프로스티닐로 변환시키고, 원하는 경우, 염기와 함께 주어진 그 염으로 변환시키는 것을 특징으로 하는, 방법. - 제1항에 있어서, R1 보호기로서 메톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸- 또는 테트라하이드로피라닐- 기, R2 보호기로서 메틸기, R3 보호기로서 규소 원자, 바람직하게는 3차-부틸디메틸실릴기를 함유하는 보호기, R4 보호기로서 p-페닐벤조일기가 적용되는 것을 특징으로 하는, 방법.
- 제1항 a1에 있어서, 그리나르 시약으로서 메틸-, 에틸-, 프로필-, 부틸-, 사이클로헥실-, 마그네슘 브로마이드, 바람직하게는 메틸마그네슘 브로마이드가 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 a1에 있어서, 상기 화학식 XV의 화합물의 산화는 피리디늄 클로로크로메이트로 수행되는, 공정.
- 제1항 a1에 있어서, 상기 화학식 XV의 화합물의 산화는 Swern 산화에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 a1에 있어서, 상기 환원은 키랄 옥사자보롤리딘 촉매의 존재 하에서, 보레인 화합물로 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제6항에 있어서, 보레인 화합물로서 보레인-디메틸 설파이드 착물, 카테콜보레인 또는 보레인-디에틸아닐린 착물, 바람직하게는 보레인-디메틸 설파이드 착물이 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 a2에 있어서, 키랄 염기로서 키랄 아미노알코올 또는 디아민, 바람직하게는 (+)-N-메틸에페드린이 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 a2에 있어서, 아연염으로서 아연 트리플레이트가 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 b에 있어서, 상기 분자 내 고리화는 Pauson-Khand 고리화 방법에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제10항에 있어서, 상기 Pauson-Khand 고리화는 디코발트 옥타카르보닐을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제11항에 있어서, 디코발트 옥타카르보닐은 등몰량으로 또는 등몰량보다 적게 또는 등몰량보다 많게 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응은 일산화탄소 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응은 아세트산에틸에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 c에 있어서, 상기 화학식 XI의 화합물의 수소화를 위한 촉매로서 Pd/C 또는 산화백금 촉매, 바람직하게는 Pd/C 촉매가 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 d에 있어서, 상기 화학식 X의 화합물의 환원은 디이소부틸알루미늄 하이드라이드, 리튬 알루미늄 하이드라이드, 알루미늄 이소프로필레이트 또는 수소화붕소나트륨, 바람직하게는 수소화붕소나트륨으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 e에 있어서, R4 기의 도입에 적합한 화합물로서 p-페닐벤조일 클로라이드가 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 f에 있어서, 규소 원자를 함유한 R1 보호기는 페닐디메틸실릴-, 트리에틸실릴-, 트리이소프로필실릴-, 3차-부틸디메틸실릴- 또는 3차-부틸디페닐실릴- 기인 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 g에 있어서, 상기 화학식 VII의 화합물의 산화는 Swern 조건 하에서, 또는 TEMPO로, 또는 Pfitzner-Moffat 조건 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 h1에 있어서, 상기 화학식 V의 화합물의 환원은 옥사자보롤리딘 촉매의 존재 하에서 보레인 화합물로 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제20항에 있어서, 보레인 화합물로서 카테콜보레인 또는 보레인-디에틸아닐린 착물, 보레인-디메틸 설파이드 착물, 바람직하게는 보레인-디메틸 설파이드 착물이 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 h2에 있어서, 유기 금속 시약으로서 디펜틸아연 또는 펜틸마그네슘 브로마이드가 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 h2에 있어서, 키랄 촉매로서 (2S)-3-엑소-(모르폴리노)이소보르네올이 적용되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 i에 있어서, 상기 일반 화학식 III의 화합물의 수소화는 촉매의 존재 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제24항에 있어서, 적용되는 상기 촉매는 산화백금 촉매, Pd/C 촉매, 바람직하게는 Pd/C 촉매인 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 i에 있어서, R4 보호기는 규소 원자(페닐디메틸실릴-, 트리에틸실릴-, 트리이소프로필실릴-, 3차-부틸디메틸실릴- 또는 3차-부틸디페닐실릴- 기), 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 것을 특징으로 하는(단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 하고, R1은 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함), 공정.
- 제1항 i에 있어서, R4 보호기의 절단은 염기의 존재 하에서 메탄올분해에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 극성 용매로서 C1-5 개방 사슬 또는 분지형 유기 알코올, 바람직하게는 에탄올이 적용되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 염 제조 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 염기로서, 원하는 염의 양이온을 함유한 무용제 유기 또는 무기 염기가 적용되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 염 제조 공정.
- 제30항에 있어서, 염기로서, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 양이온을 함유한 유기 또는 무기 염기가 적용되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 염 제조 공정.
- 제31항에 있어서, 염기로서 탄산나트륨 일수화물, 탄산수소나트륨, 나트륨 메틸레이트, 바람직하게는 탄산나트륨 수화물이 적용되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 염 제조 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 상기 반응 혼합물은 염 형성이 진행될 때까지 불활성 분위기에서 교반되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 염 제조 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 결정화의 유기 용매로서 에테르-, 에스테르- 또는 케톤-형 용매가 적용되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 염 제조 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 에테르-형 용매로서 분지형 또는 개방 사슬 순수 또는 혼합 에테르, 바람직하게는 3차-부틸 메틸 에테르가 적용되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 염 제조 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 결정화는 50℃ 내지 -40℃의 온도에서, 바람직하게는 실온에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 일수화물 염 제조 공정.
- 제36항에 있어서, 결정은 진공 중 20~50℃의 온도에서 건조되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 일수화물 염 제조 공정.
- 제34항 또는 제37항에 있어서, 상기 결정화의 유기 용매는 물로 포화된 유기 용매인 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 일수화물 염 제조 공정.
- 제34항 또는 제37항에 있어서, 상기 결정화의 유기 용매는 무수 유기 용매인 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 무정형 염 제조 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 결정은 진공 중 60~100℃의 온도에서 건조되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 무수물 염 제조 공정.
- 제1항 또는 제28항에 있어서, 결정은 20~80% 수분 함량의 분위기에서 적어도 48시간 동안, 또는 공기 중에서 5~10일 동안 유지되는 것을 특징으로 하는, 염기와 함께 주어진 화학식 I의 트레프로스티닐의 다수화물 염 제조 공정.
- 일반 화학식 IV의 화합물.
[화학식 IV]
상기 화학식에서,
R2는 -(CH2)n Y를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고, n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R4는 규소 원자, 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
점선은 단일 또는 이중 결합을 나타냄. - 일반 화학식 V의 화합물.
[화학식 V]
상기 화학식에서,
R2는 -(CH2)n Y를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고, n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R4는 규소 원자, 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고, 단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함. - 일반 화학식 VI의 화합물.
[화학식 VI]
상기 화학식에서,
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R4는 규소 원자, 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 VII의 화합물.
[화학식 VII]
상기 화학식에서,
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R4는 규소 원자, 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 VIII의 화합물.
[화학식 VIII]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R4는 규소 원자, 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 IX의 화합물.
[화학식 IX]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고, x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 X의 화합물.
[화학식 X]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고, x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 XI의 화합물.
[화학식 XI]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R3는 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고,
x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 XII의 화합물.
[화학식 XII]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R3는 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고,
x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 XIII의 화합물.
[화학식 XIII]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고, x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 XIV의 화합물.
[화학식 XIV]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고, x는 0 또는 2를 나타냄. - 일반 화학식 XV의 화합물.
[화학식 XV]
상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고, x는 0 또는 2를 나타냄. - 화학식 I의 트레프로스티닐의 나트륨 염 일수화물.
- 화학식 I의 트레프로스티닐의 무정형 나트륨 염.
- 화학식 I의 트레프로스티닐의 나트륨 염 무수물.
- 화학식 I의 트레프로스티닐의 나트륨 염 다수화물(3~5 몰의 물 함량).
- 일반 화학식 III, IV, V, VI, VII, VIII, IX, X, XI, XII, XIII, XIV 및 XV의 트레프로스티닐 중간체.
(상기 화학식에서,
R1은 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R1 보호기는 R2 및 R4로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
R2는 -(CH2)nY를 나타내고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 페닐-, 니트릴-, -OR5 또는 -COOR5 기를 나타내고,
R5는 C1-4 알킬-, 테트라하이드로피라닐-, 트리(C1-4)알킬실릴-, 또는 (C1- 4)알킬-디(C6-10)아릴실릴- 기를 의미하고,
n은 1, 2, 3, 4를 나타내고,
R3는 규소 원자, 테트라하이드로피라닐-, 트리틸-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고,
R4는 규소 원자, 트리틸-, 메톡시트리틸-, p-메톡시벤질-, 메톡시메틸-, 에톡시메틸-, 메톡시에톡시메틸-, 메틸티오메틸-, 벤질옥시메틸- 또는 C1-13 아실- 기를 함유하는 보호기를 나타내고(단, R4 보호기는 R2로부터 선택적으로 제거될 수 있어야 함),
x는 0 또는 2를 나타내고,
점선은 단일 또는 이중 결합을 나타내고,
단, 일반 화학식 III의 화합물에서 Y는 니트릴 또는 -COOR5를 유지할 수 없고, R5는 C1-4 알킬을 유지함.)
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