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KR20140045329A - 저방사율 코팅을 포함하는 코팅된 물품, 코팅된 물품을 포함하는 절연 유리 유닛, 및/또는 이의 제조방법 - Google Patents

저방사율 코팅을 포함하는 코팅된 물품, 코팅된 물품을 포함하는 절연 유리 유닛, 및/또는 이의 제조방법 Download PDF

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KR20140045329A
KR20140045329A KR1020137023200A KR20137023200A KR20140045329A KR 20140045329 A KR20140045329 A KR 20140045329A KR 1020137023200 A KR1020137023200 A KR 1020137023200A KR 20137023200 A KR20137023200 A KR 20137023200A KR 20140045329 A KR20140045329 A KR 20140045329A
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dielectric
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마커스 프랭크
안톤 디트리히
그레그 밀러
리차드 블래커
무하마드 임란
진-마크 레머
Original Assignee
가디언 인더스트리즈 코퍼레이션.
센트르 룩셈부르크게오이 데 레체르체 푸으 르 베르 에 라 세라미끄 에스. 에이. (씨.알.브이.씨.)
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Abstract

소정의 실시예는 로우-E 코팅에 은 등과 같은 물질의 적어도 하나의 적외(IR) 반사층을 포함하는 코팅된 물품, 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 소정의 경우에, 적어도 하나의 코팅 층은 니켈 및/또는 티타늄 (예컨대 NixTiyOz)으로 이루어지거나, 이를 포함한다. 니켈 티타늄 및/또는 이의 산화물을 포함하는 층의 공급은 층이 IR 반사층에 우수한 접착성 및 가시광선의 감소된 흡수율을 갖는 것(결국 높은 가시 투과율을 갖는 코팅된 물품이 되는)으로 사용되도록 할 수 있다. 니켈 산화물을 포함하는 층이 IR 반사층 위 및/또는 아래에 직접적으로 제공되는 경우에(예컨대 베리어층으로서), 화학적 및 기계적 내구성이 개선될 수 있다. 따라서, 가시 투과율은 필요에 따라 내구성을 위협하지 않고 개선될 수 있고; 또는 내구성은 단순히 증가될 수 있다.

Description

저방사율 코팅을 포함하는 코팅된 물품, 코팅된 물품을 포함하는 절연 유리 유닛, 및/또는 이의 제조방법{COATED ARTICLE INCLUDING LOW-EMISSIVITY COATING, INSULATING GLASS UNIT INCLUDING COATED ARTICLE, AND/OR METHODS OF MAKING THE SAME}
본 출원은 2011년 2월 24일에 출원된 미국 출원 제61/446,411의 이익을 주장하는 것이며, 이 내용은 전체가 여기에 참조로 인용된다. 또한, 본 출원은 "Barrier Layers Comprising Ni and/or Ti, Coated Articles Including Barrier Layers, and Methods of Making the Same" 표제의 미국 출원 제13/064,065 (atty. dkt. no. 3691-2195) 및 "Barrier Layers Comprising Ni-Inclusive Ternary Alloys, Coated Articles Including Barrier Layers, and Methods of Making the Same" 표제의 미국 출원 제13/064,064 (atty. dkt. no. 3691-2315)의 전체 내용을 참조로서 인용했다.
본 출원의 소정의 실시예는 로우(low)-E 코팅에 은 등과 같은 물질의 적어도 하나의 적외(IR) 반사층을 포함하는 코팅된 물품에 관한 것이다. 소정의 실시예에 있어서, 상기 코팅의 적어도 하나의 층은 니켈 및/또는 티타늄으로 이루어지거나 또는 이를 포함한다(예컨대, NixTiy, NixTiyOz, 등). 소정의 실시예에 있어서, 니켈 티타늄 및/또는 이들의 산화물을 포함하는 층의 공급은 층이 IR 반사층에 우수한 접착성 및 가시광선의 감소된 흡수율을 갖는 것(결국 높은 가시 투과율을 갖는 코팅된 물품이 되는)으로 사용되도록 할 수 있다. 니켈 티타늄 산화물을 포함하는 층이 IR 반사층 위 및/또는 아래에 직접적으로 제공되는 경우에(예컨대 베리어층으로서), 소정의 실시예에서 화학적 및 기계적 내구성이 개선될 수 있다. 따라서, 소정의 실시예에서, 가시 투과율은 내구성에 대한 영향을 줄이면서, 필요에 따라 개선될 수 있다. 여기서, 코팅된 물품은 절연 유리(IG) 윈도우 유닛, 차량 윈도우, 또는 다른 적당한 어플리케이션, 예컨대 모놀리식 윈도우 어플리케이션, 라이네이팅된 윈도우 등의 맥락에서 사용될 수 있다.
코팅된 물품은 윈도우 어플리케이션, 예컨대 절연 유리(IG) 윈도우 유닛, 차량 윈도우, 모놀리식 윈도우 등에 사용하는 것이 기술 분야에 잘 알려져 있다. 소정의 실시예에 있어서, 코팅된 물품의 고안자는 종종 높은 가시 투과율, 낮은 방사율(또는 낮은 방출률), 및/또는 낮은 시트 저항 (Rs)의 조합을 얻으려고 노력한다. 높은 가시 투과율은 코팅된 물품이 이들 특성이 요구되는 어플리케이션, 예컨대 건축 또는 차량 윈도우 어플리케이션에 사용되도록 할 수 있지만, 낮은 방출률(로우(low)-E), 및 낮은 시트 저항 특성은 이러한 코팅된 물품이 예컨대 차량 또는 빌딩 인테리어의 바람직하지 않은 가열을 감소시키도록 충분한 양의 IR 조사를 차단하도록 한다. 따라서, 일반적으로, 충분한 양의 IR 조사를 차단하기 위해 건축 유리에 사용되는 코팅에 있어서, 가시 스펙트럼의 높은 투과율이 종종 요구된다.
로우(low)-E 코팅에서 IR 반사층은 전체 코팅에 영향을 주고, 일부 경우에 IR 반사층은 스택에서 가장 민감한(sensitive) 층이다. 불행하게도, 은을 포함하는 IR 반사층은 증착 공정, 후속 대기 공정(atmospheric process), 및/또는 열 처리로부터 손상을 입을 수 있다. 소정의 경우에 있어서, 로우-E 코팅에서 은계 층(a silver-based layer)은 존재하는 산소로부터 보호될 필요가 있지만, 다른 층은 은계 층 상에 증착된다. 코팅에서 IR 반사층이 충분히 보호되지 않으면, 코팅된 물품의 내구성, 가시 투과율 및/또는 다른 광학적 특성이 손상을 입는다.
따라서, 개선된 내구성, 개선되거나 실질적으로 변화없는 광학적 특성을 갖는 로우-E 코팅이 필요하다는 것을 당업자는 이해할 것이다.
본 발명의 소정의 실시예는 은을 포함하는 IR 반사층과 관련하여 사용되는 개선된 배리어층 물질에 관한 것이다. 소정의 예에 있어서, 개선된 배리어 층 물질은 코팅된 물품의 내구성이 개선되도록 할 수 있다. 이러한 배리어 층은 본 발명의 다른 실시예에서 Ni, 및 Ti, 또는 이들의 산화물을 포함할 수 있다.
소정의 실시예는 유리 기판으로 지지되는 코팅을 포함하는 코팅된 물품을 제조하는 방법에 관한 것이다. 적어도 하나의 제1 유전체층은 기판 상에 배치된다. 상기 적어도 하나의 제1 유전체층 상에 Ag를 포함하는 제1층이 배치된다. 상기 Ag를 포함하는 제1층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층이 배치된다. 상기 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층 상에 적어도 하나의 제2 유전체층이 배치된다. 상기 적어도 하나의 제2 유전체층 상에 Ag를 포함하는 제2층이 배치된다. 상기 Ag를 포함하는 제2층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및 Ti을 포함하는 제1층이 배치된다. 상기 Ni 및 Ti을 포함하는 제1층 상에 적어도 하나의 제3 유전체층이 배치된다. 상기 적어도 하나의 제3 유전제층 상에 Ag를 포함하는 제3층이 배치된다. 상기 Ag를 포함하는 제3층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및 Ti을 포함하는 제2층이 배치된다. 상기 Ni 및 Ti을 포함하는 제2층 상에 적어도 하나의 제4 유전체층이 배치된다.
소정의 실시예는 유리 기판으로 지지되는 코팅을 포함하는 코팅된 물품을 제조하는 방법에 관한 것이다. 적어도 하나의 제1 유전체층은 기판 상에 배치된다. 상기 적어도 하나의 제1 유전제층 상에 Ag를 포함하는 제1층이 배치된다. 상기 Ag를 포함하는 제1층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층이 배치된다. 상기 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층 상에 적어도 하나의 제2 유전체층이 배치된다. 상기 적어도 하나의 제2 유전체층 상에 Ag를 포함하는 제2층이 배치된다. 상기 Ag를 포함하는 제2층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제1층이 배치된다. 상기 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제1층 상에 적어도 하나의 제3 유전체층이 배치된다. 상기 적어도 하나의 제3 유전제층 상에 Ag를 포함하는 제3층이 배치된다. 상기 Ag를 포함하는 제3층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제2층이 배치된다. 상기 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제2층 상에 적어도 하나의 제4 유전체층이 배치된다. 상기 Ag를 포함하는 제3층은 상기 Ag를 포함하는 제2층보다 두껍다.
또한, 소정의 실시예는 상기 기재된 및/또는 다른 방법 중 하나로 제조된 IG 유닛 및/또는 코팅된 물품에 관한 것이다. IG 유닛의 실시예에 있어서, 예컨대 코팅된 물품의 코팅은 표면(2) 및/또는 (3) 상에 제공될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 예시 코팅된 물품의 상세한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 예시 코팅된 물품의 상세한 단면도이다.
동일한 참조 번호가 여러 도면들에서 동일한 부분을 나타내는 도면을 참조한다.
여기서, 코팅된 물품은 모놀리식 윈도우, IG 윈도우 유닛, 차량 윈도우와 같은 코팅된 물품 어플리케이션(coated article application), 및/또는 유리 기판과 같은 단독 또는 다중 기판을 포함하는 다른 적당한 어플리케이션에 사용될 수 있다.
상기 나타낸 바와 같이, 소정의 경우에, 로우-E 코팅에서 은계 층(a silver-based layer)은 후속 공정 동안 보호될 필요가 있을 수 있다. 예컨대, 후속층을 증착하기 위해 사용되는 플라즈마의 산소는 매우 이온화될 수 있고, 은계 층은 그것으로부터 보호될 필요가 있을 수 있다. 또한, 증착 후 "대기 공정(atmospheric processes)"에서, 은계 층은 산소, 수분, 산, 염기 등으로부터의 공격에 민감(susceptible)할 수 있다. 이는 특히 은계 층과 대기 사이에 위치한 층이 어떠한 결함을 가져, 은계 층이 전체로 커버되지 않는 경우에 사실일 수 있다(예컨대 스크래치, 핀홀 등).
또한, 문제는 소정의 실시예에서 열 처리되는 동안 일어날 수 있다. 이러한 경우에, 산소는 은계 층으로 분산될 수 있다. 소정의 실시예에 있어서, 은계 층에 도달하는 산소는 시트 저항을 감소시키고, 방사율에 영향을 주고, 및/또는 헤이즈를 생성하는 등과 같은, 특성에 영향을 줄 수 있고, 층 스택에 의해 성능 저하를 일으킬 수 있다.
소정의 실시예에 있어서, 배리어층은 상기 기재된 및/또는 다른 문제의 일부 혹은 모두의 발생을 저감하기 위해서, 로우-E 코팅에서 은계 층(및/또는 다른 IR 반사층)과 사용될 수 있다.
과거에는, 배리어층 물질은 소정의 경우에 후속 산화 공정 동안 산화되는 Al과 같은 박형 금속층을 포함해왔다. 다른 경우에, 인듐 주석 산화물 (ITO)계 층 또한 사용되었다. 그러나, 이들 물질은 이러한 경우에 전체 층 스택의 광학 특성 및/또는 내구성을 손상시킬 수 있다.
크로뮴과 같은 물질은 소정의 경우에; 특히 농업 시장에 사용되는 로우-E 코팅을 갖는 코팅된 물품에서 배리어층으로 사용될 수 있다. 그러나, 크로뮴은 소정의 실시예에서 충분한 양의 가시광을 흡수할 수 있다. 550 nm에서 크로뮴 산화물의 흡수율, k는 0.033942이다. 따라서, 코팅된 물품의 가시 투과율은, 크로뮴을 포함하는 층이 너무 두껍고, 및/또는 충분히 산화되지 않은 경우에 감소될 수 있다. 그러나, 은을 포함하는 층은 배리어의 두께가 충분하지 않은 경우 완전히 보호되지 않을 수 있다.
사용될 수 있는 다른 배리어층 물질은 티타늄(예컨대 TiOx)이다. 그러나, IR 반사층, 특히 은을 포함하는 것에 티타늄의 접착성은 부족하다. 따라서, Ti 및/또는 이의 산화물로 필수적으로 이루어지거나 또는 이들로 이루어진 물질이 은을 포함하는 층을 보호하기 위해 배리어층으로서 사용되는 경우에, 코팅된 물품의 내구성은 손상되고 및/또는 감소될 수 있다.
앞선 관점에서, 은(및/또는 IR 반사층)과 배리어 물질 사이의 계면에서 충분한 접착성을 갖는 물질을 포함하는 배리어층을 제공하는 것이 유리할 수 있고, 상기 배리어 물질의 산화물은 가시 스펙트럼 범위에서 더 낮은 흡수율을 갖는다.
본 발명의 소정의 실시예는 코팅을 지지하는 적어도 하나의 유리 기판을 포함하는 코팅된 물품에 관한 것이다. 코팅은 일반적으로 적어도 일부의 IR 조사를 반사 및/또는 차단하는 적어도 하나의 적외(IR) 반사층을 갖는다. IR 반사층은 본 발명의 다른 실시예에서 은, 금, NiCr 등과 같은 물질로 이루어지거나, 또는 이들을 포함할 수 있다. 종종, IR 반사층은 코팅의 적어도 제1 접촉층과 제2 접촉층 사이에 샌드위칭된다.
본 발명의 소정의 실시예에 있어서, 이러한 코팅에, 접촉층으로서(예컨대 IR 반사층과 접촉하는) 니켈 및/또는 티타늄의 산화물(예컨대 NixTiy 또는 NixTiyOz등)로 필수적으로 이루어지거나 또는 이들을 포함하는 층의 제공은, 가시 투과율 및/또는 색상과 같은 코팅된 물품의 다른 광학적 특성을 현저히 열화시키지 않는 방법으로 코팅의 기계적 및 화학적 내구성을 놀랍게도 개선한다는 것이 발견되었다. 하나 이상의 이러한 니켈 및/또는 티타늄 포함 층(소정의 실시예에서 산화될 수 있는)은 본 발명의 다른 실시예의 특정한 코팅에 제공될 수 있다. 또한, 이러한 니켈 및/또는 티타늄 포함 층은 본 발명의 다른 실시예의 임의의 형태의 태양광 제어(solar control) 또는 로우-E(낮은 방사율 또는 낮은 방출률) 코팅에 제공될 수 있고(예컨대 접촉층으로서), 여기에 기재된 특정 로우-E 코팅은 청구항에서 인용되지 않는 한, 단지 예시의 목적을 위한 것이다. 니켈 티타늄 산화물을 포함하는 층이 코팅된 물품의 상부 접촉층으로서 제공되는 경우에(예컨대 은계 IR 반사층 상에), 소정의 실시예에서 화학적 및 기계적 내구성을 개선한다. 이러한 관점에서 (예컨대 접촉층으로서) 니켈 티타늄 산화물 층의 사용은 코팅된 물품의 화학적 및 기계적 내구성을 개선하는 것이 발견되고, 또한 코팅된 물품의 가시 투과율을 개선하는 것(또는 적어도 현저히 열화하지 않는 것)이 발견된다.
소정의 실시예에 있어서, 니켈 티타늄 및/또는 이들의 산화물을 포함하는 배리어층이 제공될 수 있다. Ni 및 Ti의 조합은 소정의 실시예에서 로우-E 코팅의 바람직한 품질인, 낮은 흡수율과 우수한 접착성을 제공할 수 있다. 유리하게, 니켈 티타늄 및/또는 이들의 산화물 (예컨대 NixTiy, NixTiyOz, 등)을 포함하는 배리어 층의 제공은 IR 반사층의 불충분한 보호에서 야기되는 코팅의 특성의 열화 없이, 단일 IR 반사층(예컨대, 은)을 갖는 내구성 있고, 모놀리식 코팅된 물품이 사용되도록 해줄 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다. 소정의 실시예에 있어서, 도 1에 나타낸 코팅된 물품은 표면(1) 및/또는 (2) 상에 로우-E 코팅을 갖는 모놀리식 윈도우로서 사용될 수 있고, 여기서 로우-E 코팅은 단일 IR 반사층 만을 포함한다. 그러나, 다른 실시예에 있어서, 도 1의 코팅된 물품은 다른 층을 포함할 수 있다. 또한, 여기에 기재된 실시예에 따라 제조된 코팅된 물품은 표면(1, 2, 3 및/또는 4) 상에 코팅을 갖는 절연 유리 유닛(IGU); 표면(4) 상에 노출되거나 표면 (2) 및/또는 (3) 상의 중간층에 대해 임베딩된 코팅을 갖는 라미네이팅된 모놀리식 라이트(laminated monolithic lite); 표면(4) 상에 노출되거나 표면 (2) 및/또는 (3) 상의 중간층에 대해 임베딩된 코팅을 갖는 라미네이트 아웃보드(laminate outboard)를 갖는 라미네이팅된 IGU; 다른 실시예 및 어플리케이션에 따라 표면(4) 및/또는 (5) 상에 임베딩되거나, 표면 (3) 및/또는 (6) 상에 노출되는 코팅을 갖는 라미네이팅된 인보드(laminated inboard)를 갖는 라미네이팅된 IGU에 사용될 수 있다. 다시 말해, 이러한 코팅은 모놀리식으로, 또는 2개 이상의 기판을 포함하는 IG 유닛에, 또는 한번 이상 유리 유닛에 사용될 수 있고, 다른 실시예에서 유닛의 임의의 표면 상에 제공될 수 있다.
코팅된 물품은 유리 기판(1)(예컨대, 약 1.0 내지 10.0 mm 두께, 더욱 바람직하게는 약 1.0 mm 내지 6.0 mm 두께의 투명, 그린, 브론즈, 또는 블루-그린 유리 기판), 및 상기 기판 상에 직접적으로 또는 간접적으로 제공되는 다층 코팅(35) (또는 층 시스템)을 포함한다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 코팅(35)은 선택적 유전체층(3) 및/또는 (5), 니켈 및/또는 티타늄 및/또는 이들의 산화물 (예컨대 NixTiy, NixTiyOz, 등)으로 이루어지거나 또는 이들을 포함할 수 있고, 또는 Zn, Ni, Cr의 산화물 및/또는 질화물(oxides and/or nitrides), 이들의 조합 등과 같은 다른 적당한 접촉층 물질로 이루어질 수 있는 하부 접촉층(lower contact layer)(7), 하나 이상의 은, 금 등을 포함하는 IR 반사층, 니켈 및/또는 티타늄 및/또는 이들의 산화물(예컨대 NixTiy, NixTiyOz, 등) 또는 다른 적당한 접촉층 물질로 이루어지거나 또는 이들을 포함하는 상부 접촉층(upper contact layer)(11), 선택적 유전체층(13) 및/또는 (15), 및 소정의 실시예에서 보호적 오버코트(protective overcoat)가 될 수 있는 실리콘 산화물(silicon oxide), 실리콘 니트라이드(silicon nitride), 실리콘 옥시니트라이드(silicon oxynitride), 지르코늄 산화물(zirconium oxide), 지르코늄 옥시니트라이드(zirconium oxynitride), 또는 지르코늄 실리콘 옥시니트라이드(zirconium silicon oxynitride)와 같은 물질로 이루어지거나 또는 이들을 포함하는 유전체층(16)을 포함한다. 또한, 본 발명의 소정의 실시예에서 다른 층 및/또는 물질이 제공될 수 있고, 또한 소정의 실시예에서 소정의 층이 제거되거나 또는 분산될 수 있다. 층(16)은 다른 실시예에 따라 제공될 수도, 제공되지 않을 수도 있다.
선택적 유전체층(3) 및/또는 (5)는 다른 실시예에 따라 실리콘 니트라이드, 티타늄 산화물, 주석 산화물, 실리콘 산화물, 실리콘 옥시니트라이드, 및/또는 다른 유전체 물질을 포함할 수 있다.
적외(IR) 반사층(9)은 바람직하게는 충분히 또는 전체가 금속성 및/또는 도전성이고, 은(Ag), 금, 다른 적당한 IR 반사 물질을 포함하거나 또는 필수적으로 이들로 이루어질 수 있다. IR 반사층(9)은 코팅이 로우-E 및/또는 우수한 태양광 제어 특성, 예컨대 낮은 방출성, 낮은 시트 저항 등을 갖도록 돕는다. 그러나, IR 반사층은 본 발명의 소정의 실시예에서 약하게 산화될 수 있다.
도 1에 나타내고, 여기에 기재되는 IR 반사층은 다른 실시예에서 은을 포함하거나 은을 필수적으로 하여 이루어질 수 있다. 따라서, 소정의 실시예는 은 합금을 포함할 수 있다고 이해되어야 한다. 이러한 경우에, Ag는 충분한 양의 Zr, Ti, Ni, Cr, Pd 및/또는 그 조합과 합금될 수 있다. 소정의 실시예에 있어서, Ag는 각각 약 0.5-2%(중량 또는 원자%)의 Pd 및 Cu와 합금될 수 있다. 다른 가능성 있는 합금은 Ag 및 하나 이상의 Co, C, Mg, Ta, W, NiMg, PdGa, CoW, Si, Ge, Au, Pt, Ru, Sn, Al, Mn, V, In, Zn, Ir, Rh, 및/또는 Mo을 포함한다. 일반적으로, 도펀트 농도는 0.2-5%(중량 또는 원자%)의 범위일 수 있고, 더욱 바람직하게는 0.2-2.5%이다. 이들 범위 내에서 조작하는 것은, 은이 합금으로 잃을 수 있는 Ag-계 층의 바람직한 광학 특성을 유지하도록 도와, 화학적, 부식 및/또는 기계적 내구성을 향상시키지만, 스택의 전체 광학적 특성을 유지하도록 도와줄 수 있다. 여기서 정의된 예시 Ag 합금 타겟 물질(Ag alloy target)은 두 개(또는 그 이상의 타겟) 등을 사용하여 코스퍼터링(co-sputtering)에 의해 증착된 단일 타겟을 사용하여 스퍼터링될 수 있다. 개선된 내부식성을 제공하는 것 이외에, Ag 합금의 사용은 소정의 예에서 증가된 온도에서 은 확산성을 감소하는데 도움을 줄 수 있고, 또한 층 스택에 산소 이동량을 감소 또는 차단시키는 것을 돕는다. 이는 은 확산성을 더 향상시킬 수 있고, 잠재적으로 내구성이 나빠지게 할 수 있는 Ag 성장 및 구조적 특성을 변화시킬 수 있다.
상부 및 하부 접촉층(7) 및 (11)은 Ni 및/또는 Ti, 및/또는 이들의 산화물 및/또는 질화물로 이루어지거나 또는 이들을 포함할 수 있다. 소정의 실시예에 있어서, 상부 및 하부 접촉층(7, 11)은 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 크로뮴/크롬(Cr), 니켈 합금, 예컨대 니켈 티타늄(NiTi) 및/또는 니켈 크로뮴, (예컨대, NiCr), 헤인즈 합금(Haynes alloy), 아연, 이들의 산화물, 니트라이드, 또는 옥시니트라이드 (예컨대 NixTiyOz), 또는 다른 적당한 물질로 이루어지거나 또는 이들을 포함할 수 있다. 예컨대, 이들 층의 하나는 NiTi (및/또는 이들의 산화물) 대신에 아연 산화물로 이루어지거나 또는 이들을 포함할 수 있다.
이들 층에서, 예컨대 NiTi 및/또는 NixTiyOz의 사용은 소정의 실시예에서 코팅된 물품의 내구성 및/또는 가시 투과율이 개선되도록 한다. 소정의 실시예에 있어서, 충분히 산화된 NiCrOx 층이 CrOx의 흡수율에 기인하여, 상대적으로 높은, k(550 nm) = 0.033942의 잔여 흡수율을 가질 수 있다. 그러나, TiOx는 CrOx보다 현저히 낮은 흡수율을 가지기 때문에, 소정의 실시예에서, 배리어 층에서 TiOx의 포함은 코팅된 물품의 가시 투과율을 높게 할 수 있다는 것이 유리하게도 발견되었다. 예컨대, 550 nm에서 TiOx의 흡수율 k는 0.004806이고, 이것은 CrOx의 흡수율의 거의 1/10th이다. 따라서, CrOx보다 낮은 흡수율을 갖는 금속 또는 금속 산화물이 배리어층으로 사용되는 경우에, 코팅된 물품의 가시 투과율은 개선될 수 있다.
그러나, 소정의 실시예에 있어서, TiOx를 포함하는 배리어층은 IR 반사층에 충분히 부착되지 않을 수 있다. 따라서, TiOx 만으로 이루어진 배리어층이 사용되는 경우에는, 코팅된 물품의 내구성이 손상될 수 있다. IR 반사층과 접착성이 좋은 물질과 Ti 및/또는 TiOx를 포함하는 합금을 사용함으로써, 코팅된 물품의 내구성이 Ti 및/또는 TiOx (또는 상대적으로 낮은 흡수율을 갖는 임의의 물질)의 Cr 및/또는 CrOx로의 치환에 의해 손상되는 것과 같지 않을 것이(the durability of the coated article will not be as compromised by the substitution of Ti and/or TiOx (or any material with a relatively low absorption) for Cr and/or CrOx) 유리하게 발견되었다. 유리하게, Ni은 IR 반사층에 잘 부착되는 것으로 고려된다. 따라서, Ni 및 Ti, 이들의 산화물 및/또는 질화물을 포함하는 배리어층의 사용은, 개선된 가시 투과율 및 적당한 내구성을 갖는 코팅된 물품에 유리한 결과를 가져올 수 있다.
접촉층(7) 및 (11)(예컨대 Ni 및/또는 Ti로 이루어지거나 또는 이를 포함하는)는 전체 IR 반사층에 걸쳐 본 발명의 다른 실시형태에 계속되거나 또는 계속되지 않을 수 있다. 소정의 실시예에 있어서, NiTi 층(7, 11) 중 하나 또는 둘다는 약 1-50% Ni, 약 50-99% Ti을 포함한다. 실시예는 80% Ti 및 20% Ni이다. 소정의 실시예에 있어서, NixTiy를 포함하는 층은 전체적으로 및/또는 부분적으로 산화될 수 있다. 이러한 산화는 층이 증착될 때 일어날 수 있고, 또는 예컨대 열 처리 등으로부터, 산소의 존재 하에 후속층의 증착으로부터, 접촉층의 증착 후 행해지는 공정에 기인될 수 있다.
그러나, Ni 및 Ti는 산소의 존재와 관계 없이, 상기 기재된 바와 같이 동일 비율로 존재될 수 있다. 예컨대, 니켈 티타늄 산화물을 포함하는 층에서 조차, Ti에 대한 Ni의 비율은 약 1:99 내지 50:50 (NixTiy의 중량 퍼센트 및 비율)일 수 있다.
상기 언급한 바와 같이, NixTiy 및/또는 NixTiyOz 층(7) 및/또는 (11)은 본 발명의 소정의 실시예에서 완전히 산화될 수 있고(예컨대, 완전히 화학양론적), 또는 대안적으로 부분적으로만 산화될 수 있다(예컨대 아화학양론적)(선택적 HT 전 및/또는 후). 다른 경우에, 층(7) 및/또는 (11)은 금속층과 같이 증착될 수 있고, 산소의 존재 하에 후속 층의 증착, 열처리 등과 같이 증착 후 공정 동안 완전히 또는 부분적으로 산화될 수 있다. 소정의 예에서, NixTiy 및/또는 NixTiyOz 층(7) 및/또는 (11)은 적어도 약 50% 산화될 수 있다.
접촉층(7) 및/또는 (11)(예컨대, Ni 및/또는 Ti로 이루어지거나 또는 이를 포함하는)는 본 발명의 다른 실시예에서 그레이딩된 산화이거나 또는 아닐 수 있다(may or may not be oxidation graded in different embodiments of this invention). 기술에 공지된 바와 같이, 산화 그레이딩은 층의 두께를 통해 층에서 산화도를 변화시키는 것을 포함하여, 예컨대 접촉층은, 바로 근접한 IR 반사층으로부터 더 또는 더욱/가장 떨어진 접촉층의 위치에서보다 바로 근접한 IR 반사층(9)과의 접촉 계면에서 덜 산화되도록 그레이딩 될 수 있다. 각종 형태의 산화 그레이딩된 접촉층의 기술은 미국 특허 제6,576,349에 설명되고, 이 내용은 여기에 참조로 인용되었다. 접촉층(7), (11)(예컨대, Ni 및/또는 Ti의 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는)는 전체 IR 반사층(9)에 걸쳐 본 발명의 다른 실시예에 계속되거나 또는 아닐 수 있다.
다른 실시예에 있어서, IR 반사층 아래에 접촉층(예컨대 하부 접촉층(7))은 아연 및/또는 이의 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함할 수 있다.
선택적 유전체층(13) 및/또는 (15)는 실리콘 니트라이드 (예컨대, SixNy) 또는 본 발명의 소정의 실시예에서, 티타늄 산화물, 주석 산화물, 실리콘 옥시니트라이드 및/또는 실리콘 산화물과 같은 임의의 다른 적당한 물질로 이루어지거나 또는 이를 포함할 수 있다. 이들 층은 내구성 문제에 도움이 될 수 있고, 및/또는 일부 경우에 선택적으로 반사 방지를 목적으로 하부층(underlying layer)을 보호할 수 있다.
또한, 예컨대 지르코늄 산화물을 포함하는 선택적 오버코트층(16)이 포함될 수 있다. 여기에 참조로 인용되는 미국 특허 제12/213,879에는 오버코트로서 지르코늄 산화물을 사용하는 것과 관련된 이점이 개시되어 있다. 다른 실시예에 있어서, 선택적 오버코트(16)는 실리콘 니트라이드, 실리콘 산화물, 및/또는 실리콘 옥시니트라이드로 이루어지거나 또는 이를 포함할 수 있다. 또한, 선택적 오버코트(16)는 또 다른 실시예에서 다른 지르코늄-함유 화합물을 포함할 수 있다.
소정의 실시예에 있어서, 도 1에 나타낸 코팅된 물품은 단일 IR 반사층을 구비한 로우-E 코팅을 갖는 모놀리식 윈도우로 사용될 수 있다. 그러나, 다른 실시예에 있어서, 여기에 기재된 코팅된 물품은 많은 IR 반사층과 사용될 수 있고, 라미네이팅된 및/또는 절연된 유리 유닛을 형성하기 위해 많은 다른 유리 기판과 조합될 것이다. 또한, 코팅은 다른 실시예에 따라서, IGU, VIG, 자동차 유리, 및 다른 어플리케이션과 관련하여 사용될 수 있다.
도 2는 단일 IR 반사층을 갖는 로우-E 코팅(35')의 다른 실시예이다. 도 2 실시형태에서, NixTiyOz 계 층은 상부 및 하부 접촉층으로서 사용된다. 또한, 도 2에서, 실리콘 니트라이드계 층은 유전체층(3)으로서 사용되지만, 유전체층(5)은 생략되었다. 유전체층(13)은 실리콘 니트라이드를 포함하고, 도 2 실시형태에서 유전체층(13)은 오버코트층 목적으로 작용하도록 도울 수 있기 때문에(예컨대, 하부층을 보호함으로써), 오버코트층(16)은 생략된다. 소정의 실시예에서, 도 2의 코팅된 물품은 가시 투과율을 개선할 수 있고, 또한 화학적 및 기계적 내구성에 실질적으로 영향을 주지 않고 및/또는 개선할 수 있다.
Figure pct00001
Figure pct00002
도 2 실시형태는 소정의 실시예 실행에서 약 11.15 ohms/square의 시트 저항을 가질 수 있다. 그러나, 당업자들에게 잘 알려진 바와 같이 시트 저항 및/또는 발사율은 다른 것들 사이에서, Ag계 층의 두께를 조절함으로써 조절될 수 있다.
다시 말해, 소정의 실시예에서, 하나의 IR 반사층을 갖는 모놀리식 코팅된 물품은 증착 시에, 적어도 약 55%, 바람직하게는 적어도 약 60%, 더욱 바람직하게는 적어도 약 65%, 때로 적어도 약 67%의 가시 투과율을 가질 수 있다. 열 처리 후에, 모놀리식 코팅된 물품은 예컨대 적어도 약 60%, 더욱 바람직하게는 약 65%, 예시 투과율이 약 70%인(with an example transmission of about 70%) 더 높은 가시 투과율을 가질 수 있다.
코팅 시에, 물품은 약 0 내지 5, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 4, 소정의 실시예에서 예로는 3.5 정도의 유리 측 a* 값을 가질 수 있다. 코팅 시에, 물품은 약 0 내지 10, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 7, 소정의 실시예에서 예로는 6.7 정도의 유리 측 b* 값을 가질 수 있다. 일부 경우에 있어서, 코팅 시에, 물품은 약 0 내지 5, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 4, 예로는 3.7 정도의 막 측 a* 값을 가질 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 물품은 약 -10 내지 1, 더욱 바람직하게는 약 -8 내지 -2, 예로는 약 -7.18의 막 측 b* 값을 가질 수 있다.
열 처리 후(표 2에서 "HT"라고 표기함), 물품은 약 0 내지 10, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 8, 소정의 실시예에서 예로는 7.25 정도의 유리 측 a* 값을 가질 수 있다. 코팅 시에, 물품은 약 0 내지 10, 더욱 바람직하게는 1 내지 9, 소정의 실시예에서 예로는 8.14 정도의 유리 측 b* 값을 가질 수 있다. 일부 경우에, 코팅 시에 물품은 약 0 내지 8, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 6, 예로는 5.92 정도의 막 측 a* 값을 가질 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 물품은 약 -8 내지 1, 더욱 바람직하게는 약 -6 내지 -2, 예로는 약 -4.9의 막 측 b* 값을 가질 수 있다.
도 3은 단일 IR 반사층을 갖는 로우-E 코팅(35")의 다른 실시예이다. 도 3은 도 1 및 도 2의 실시형태와 유사하지만, 도 3 실시형태에서는, NixTiyOz계 층이 상부 접촉층(11)으로 사용되지만, 아연 산화물계 층은 하부 접촉층(7)으로 사용된다. 또한, 도 3에서, 실리콘 니트라이드계 층은 유전체층(3)으로 사용되지만, 유전체층(5)은 생략된다. 유전체층(13)은 도 3 실시형태에서 실리콘 니트라이드를 포함한다. 소정의 실시예에서, 도 3의 코팅된 물품은 화학적 및 기계적 내구성에 영향을 주지 않고, 및/또는 개선할 수 있고, 또한 가시 투과율이 증가될 수 있다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다. 소정의 실시예에 있어서, 도 4에 나타낸 코팅된 물품은 이중 IR 반사층을 갖는 로우-E 코팅을 갖는 모놀리식 윈도우로서 사용될 수 있다. 코팅된 물품은 유리 기판(1) (예컨대, 약 1.0 내지 10.0 mm 두께, 더욱 바람직하게는 약 1.0 mm 내지 6.0 mm 두께의 투명, 그린, 브론즈, 또는 블루-그린 유리 기판), 상기 기판 상에 직접적으로 또는 간접적으로 제공되는 다층 코팅(또는 층 시스템)을 포함한다. 도 1과 마찬가지로, 도 4의 코팅(45)은 선택적 유전체층(3) 및/또는 (5), 제1 하부 접촉층(7), 은, 금 등으로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제1 IR 반사층(9), 니켈 티타늄의 산화물(예컨대 NixTiyOz)로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제1 상부 접촉층(11), 선택적 유전체층(13) 및/또는 (15) (예컨대, 실리콘 니트라이드로 이루어지거나 또는 이를 포함하는), 제2 하부 접촉층(17), 제2 IR 반사층(19), 제2 상부 접촉층(21), 선택적 유전체층(23) 및/또는 (25), 및 소정의 실시예에서 보호적 오버코트가 될 수 있는 실리콘 니트라이드, 실리콘 옥시니트라이드, 지르코늄 산화물, 지르코늄 옥시니트라이드, 또는 지르코늄 실리콘 옥시니트라이드로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 선택적 유전체층(16)을 포함한다. 또한, 다른 층 및/또는 물질은 본 발명의 소정의 실시예에 제공될 수 있고, 또한 소정의 실시예에서 소정의 층은 제거되거나 분산될 수 있다.
소정의 실시예에서, 접촉층(7, 11, 17 및 21) 중 오직 하나는 니켈 티타늄 및/또는 이들의 산화물 및/또는 질화물을 포함할 수 있다. 또 다른 실시예에 있어서, 상부 접촉층은 NixTiy 및/또는 NixTiyOz로 이루어지거나 또는 이를 포함할 수 있지만, 하부 접촉층은 아연, 니켈, 크로뮴, 티타늄의 산화물 및/또는 질화물, 및/또는 이들 물질의 조합으로 이루어지거나 또는 이를 포함할 수 있다. 그러나, 다른 실시예에 있어서, 하나 이상, 또는 모든 접촉층은 니켈 티타늄 및/또는 이의 산화물 및/또는 질화물로 이루어지거나 또는 이를 포함할 수 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 코팅된 물품의 단면도이다. 소정의 실시예에 있어서, 도 5의 코팅된 물품은 3개의 IR 반사층(예컨대 트리플 은층 스택)을 포함할 수 있다. 코팅된 물품은 유리 기판(1) (예컨대, 약 1.0 내지 10.0 mm 두께, 더욱 바람직하게는 약 1.0 mm 내지 6.0 mm 두께의 투명, 그린, 브론즈, 또는 블루-그린 유리 기판), 및 상기 기판 상에 직접적으로 또는 간접적으로 제공되는 다층 코팅(55)(또는 층 시스템)을 포함한다.
소정의 실시예에 있어서, 도 5의 코팅(55)은 실리콘 니트라이드로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 선택적 유전체층(3), 티타늄 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 선택적 유전체층(5), 아연의 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 하부 접촉층(7), 은으로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 IR 반사층(9), Ni 및/또는 Cr, 또는 이의 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 상부 접촉층(11), 티타늄 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 선택적 유전체층(12), 주석 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 선택적 유전체층(13), 실리콘 니트라이드(또는 일부 다른 실리콘-포함 또는 다른 물질)로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 유전체층(14), 주석 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 유전체층(15), 아연 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제2 하부 접촉층(17), 은으로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제2 IR 반사층(19), 니켈 및/또는 티타늄 또는 이의 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제2 상부 접촉층(21), 주석 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 유전체층(23), 실리콘 니트라이드(또는 일부 다른 실리콘-함유 또는 다른 물질)로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 유전체층(24), 주석 산화물로 이루어지거나 이를 포함하는 유전체(24), 아연 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제3 하부 접촉층(27), 은으로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제3 IR 반사층(29), Ni 및/또는 Ti 또는 이의 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 제3 상부 접촉층(31), 주석 산화물로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 유전체층(32), 소정의 실시예에서 보호적 오버코트가 될 수 있는, 실리콘 니트라이드로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 유전체층(16)을 포함할 수 있다. 또한, 다른 층들 및/또는 물질이 본 발명의 소정의 실시예에 제공될 수 있고, 또한 소정의 실시예에서 소정의 층이 제거되거나 또는 분산될 수 있는 것이 가능하다. 또한, 다른 실시예에 있어서, 하나 이상의 상부 접촉층(11, 21 및 31)은 니켈 티타늄의 산화물 대신에, 니켈 크로뮴 및/또는 이들의 산화물을 포함할 수 있다. 또한, 층(7, 11, 17, 21, 27 및/또는 31)의 일부는 니켈, 티타늄, 크로뮴, 아연, 이들의 조합/합금으로 이루어지거나 또는 이를 포함할 수 있고, 산소 및/또는 질소를 더 포함할 수 있다. 따라서, 상부 접촉층(11, 21 및 31)의 일부 또는 모두는 본 발명의 다른 실시형태에서 Ni 및/또는 Ti 포함 층(예컨대 NiTiOx를 포함하는 층)이 될 수 있다.
NiTiOx는 우수한 은 품질을 유지하면서 전체 방사율이 낮아지도록 도울 수 있기 때문에, NiTiOx를 포함하는 층은 우수한 성능의 코팅을 제공하는 것에 도움이 될 수 있다. 또한, 앞서 시사한 바와 같이, Ti는 투과율에 도움을 줄 수 있지만, 이러한 층에서 Ni은 내구성 문제에 도움이 될 수 있다. 소정의 실시예에서 NiTiOx를 Ti 금속 또는 TiOx로 교체할 수 있다는 것을 주목한다.
소정의 실시예에서, NiTiOx를 포함하는 층은 산화된(oxided) 또는 금속으로 얇게 증착될 수 있고, 그 후 추후 공정(예컨대 추후 증착된 층의 스퍼터링 동안)을 통해 이후에 완전히 산화될 것이다. 또한, NiTiOx는 그것이 증착될 때 소정의 실시예에서 그레이딩될 수 있다.
Figure pct00003
소정의 실시예에 있어서, 탑 Ag-계 층(top Ag-based layer)은 층 스택에서 가장 두껍다. 이 배열은 코팅의 방사율의 개선을 돕는 것이 발견되었다. 또한, 소정의 실시예에 있어서, 미들 Ag-계 층(middle Ag-based layer)은 탑 Ag-계 층보다 얇고, 이는 개선된 방사율을 유지하고, 비축(off-axis) 컬러 안정성을 스스로 개선하고, 높은 가시 투과율을 제공하는데 도움을 주는 것으로 발견된다.
하부 미들 유전체층 스택에 티타늄 산화물(12)을 포함하는 제2층의 도입이 아래에 놓인(underlying) Ag-계 층(9)의 질을 개선했다는 것이 놀랍게도 발견되었다. 이는 제1 Ag-계 층(9)과 직접적으로 인접한 아래에 놓인 제1 접촉층(11)을 간섭하는 층(13)으로부터 주석 산화물이 적어지는 결과가 되는 것으로 믿어진다.
또한, 본 발명의 소정의 실시예 라미네이팅된 실시형태에서, 열 강화 또는 템퍼링을 위해 충분한 범위까지 선택적으로 열 처리되고, IG 유닛을 형성하기 위해 다른 유리 기판과 커플링되는, 코팅된 물품은 하기 IG 유닛 광학/태양광 특성을 가질 수 있다.
IG 유닛의 맥락에서, 예컨대 NiTiOx의 사용은 얻어지는 LSG 값을 더 유리하게 높여준다. 예컨대, 소정의 실시예에 있어서, 2.15 이상의 LSG가 가능하지만, NiTiOx 포함 층 없이 NiCr 계 층만이 사용되는 경우에는 약 2.1 이하의 LSG 값이 가능하다. 당업자들에게 알려진 바와 같이, 낮은 SHGC와 관련된 높은 가시 투과율을 나타내어, 열을 들이지 않고, 빛을 들이기 때문에, 높은 LSG 값은 유리하다(a high LSG value is advantageous because it is indicative of high visible transmission coupled with low SHGC, thus keeping heat out and letting light in).
도 5 실시형태는 특히 어닐링된 제품에서의 사용에 잘 맞는다. 열 처리 가능한 실시형태를 위해 변형될 수 있고 또는 그렇지 않을 수 있다. 예컨대, 열 처리 가능한 실시형태에서, TiOx를 포함하는 층(5) 및/또는 (12) 중 하나 또는 둘다는 제거될 수 있다. 다른 실시예로서, 열 처리 가능한 코팅에 있어서, SiN을 포함하는 층(14, 24 및 16)의 일부 또는 전부는 어닐링된 상대물(counterpart)에서 더욱 금속성으로 될 수 있다. 또한, NiTiOx를 포함하는 층의 일부 또는 전부는 NiCr 또는 이의 산화물을 포함하는 층으로 대체될 수 있다. 이하의 표는 도 5에 나타낸 것과 유사하지만, 앞서 말한 도가 변형된 열 처리 가능한 코팅된 물품의 예시 물질 및 두께를 보여준다.
Figure pct00004
또한, 열 처리된 실시형태에서, SnO을 포함하는 하나 이상의 "접착(glue)" 층은 두께가 감소되고, 및/또는 완전히 제거될 수 있다. 이러한 경우에, SnO를 포함하는 아래에 있는 층의 두께를 증가시키는 것이 바람직할 수 있다. 예컨대, 층(15) 및/또는 (25)는 두께가 감소되고(예컨대 약 15 nm 내지 약 10 nm), 및/또는 완전히 제거될 수 있다. 상대적으로, 층(13) 및/또는 (23)은 증가된 두께를 가질 수 있다. 증가된 두께의 양은 약 8-12 nm일 수 있다. 따라서, 소정의 실시예에서, 층(15)은 약 8-12 nm, 더욱 바람직하게는 9-11 nm, 때로 약 10 nm의 감소된 두께를 가질 수 있지만, 층(13)은 약 40.9-61.3 nm, 더욱 바람직하게는 46-56.2 nm, 때로는 약 51.1 nm의 증가된 두께를 가질 수 있다. 마찬가지로, 층(25)은 약 8-12 nm, 더욱 바람직하게는 9-11 nm, 때로는 약 10 nm의 감소된 두께를 가질 수 있고, 층(23)은 약 40.6-61 nm, 더욱 바람직하게는 45.7-55.9 nm, 때로는 약 50.8 nm의 증가된 두께를 가질 수 있다. 추가로, 또는 대안으로, 하나 이상의 미들 유전체층 스택은 ZnSnO를 포함하는 층을 포함할 수 있다. 이 층은, 예컨대 코스퍼터링(co-sputtering)(예컨대 Zn 또는 ZnO 타겟 및 Sn 또는 SnO 타겟으로부터)에 의해 형성될 수 있다. ZnSnO 포함 층은 이의 한측 또는 양측 상에 SnO를 포함하는 층 대신에 또는 추가로 제공될 수 있다.
이하 표는 TiOx를 포함하는 층(5) 및 (12)가 생략되고, 코팅된 물품이 상기 표에 따라 6.0 mm의 투명의 플로트 유리(float glass) 상에 배치되는 경우에 열처리 되는 도 5 실시예의 변형, 및 어닐링된 상태의 도 5 실시예의 성능 데이터를 포함한다. 물론, 다양한 두께 기판 및/또는 다양한 조성 기판이 다른 실시예에서 사용될 수 있다. 바람직한 범위는 어닐링된 및 열 처리된 실시예와 동일하거나 또는 유사할 수 있다는 것을 알 수 있다. 또한, 성능은 어닐링된 및 열 처리된 실시예와 비교 할만 하지만, 투과율의 관점에서 어닐링되지 않은 실시예 열 처리된 실시예와 비교 할만 하다는 것을 알 수 있다(It also will be appreciated that the performance will be approximately comparable for annealed and heat treated embodiments, but with heat treated embodiments out-performing annealed embodiments in terms of transmission).
Figure pct00005
이하 표는 TiOx를 포함하는 층(5) 및 (12)가 생략되고, 코팅된 물품이 열 처리되고, 예컨대 코팅이 IG 유닛의 표면(2) 상에 배치되는 도 5 실시예의 변형, 및 어닐링된 상태의 도 5 실시예에 나타낸 바와 같은 코팅된 물품을 포함하는 IG 유닛의 성능 데이터를 포함한다. 이하 표의 실시예는 공기로 채워진 12 mm의 갭으로 분리된 제1 및 제2의 6.0 mm 기판을 포함한다. 물론, 다양한 두께의 기판, 다양한 조성의 기판, 다양한 갭 사이즈, 다양한 가스 등이 다양한 실시예에서 사용될 수 있다. 바람직한 범위는 어닐링되고 열 처리된 실시예와 동일하거나 또는 유사할 수 있다는 것을 알 수 있다. 또한, 성능은 어닐링된 및 열 처리된 실시예와 비교 할만 하지만, 투과율의 관점에서 어닐링되지 않은 실시예 열 처리된 실시예와 비교 할만 하다는 것을 알 수 있다.
Figure pct00006
소정의 실시예에 있어서, 니켈 티타늄계 층은 금속성 타겟으로부터 스퍼터링에 의해 증착될 수 있다. 일부 경우에, 타겟은 20중량% 니켈 및 80중량% 티타늄을 포함할 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 금속성 타겟은 50중량% 니켈 및 50중량% 티타늄을 포함할 수 있다. 니켈 및 티타늄으로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 금속성 스퍼터링 타겟은 소정의 실시예에서, 약 1 내지 50% Ni (및 그 사이에 모든 부분 범위(subrange)), 더욱 바람직하게는 약 2 내지 50% Ni (및 그 사이에 모든 부분 범위), 가장 바람직하게는 약 5 내지 20% 니켈 (및 그 사이에 모든 부분 범위)을 포함할 수 있다(모든 퍼센트는 중량%임). 니켈 및 티타늄으로 이루어지거나 또는 이를 포함하는 금속성 스퍼터링 타겟은 소정의 실시예에서 약 50 내지 99% Ti (및 그 사이에 모든 부분 범위), 더욱 바람직하게는 50 내지 98% Ti (및 그 사이에 모든 부분 범위), 가장 바람직하게는 약 80 내지 95% Ti (및 그 사이에 모든 부분 범위)를 포함할 수 있다(모든 퍼센트는 중량%임).
또 다른 실시예에 있어서, 니켈-티타늄계 층은 하나 이상의 스퍼터링 타겟에 의해 증착될 수 있다. 일부 경우에 있어서, 금속성 Ni 타겟 및 금속성 Ti 타겟이 있을 수 있다. 소정의 실시예에 있어서, Ni 및/또는 Ti에 기초한 층은 하나 이상의 불활성 및/또는 활성 가스의 존재 하에 스퍼터 증착될 수 있다. 소정의 실시예에서, Ni 및 Ti는 적어도 아르곤 및 산소의 존재 하에 증착될 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 하나 이상의 타겟은 세라믹일 수 있다. 예컨대, 배리어 층은 니켈을 포함하는 적어도 하나의 금속성 타겟, 티타늄의 산화물을 포함하는 세라믹 타겟, 및/또는 티타늄을 포함하는 금속성 타겟 및 니켈의 산화물을 포함하는 세라믹 타겟을 사용하여 증착될 수 있다. 또한, 또 다른 실시예에서, 하나, 둘, 또는 이상의 세라믹 타겟은 니켈 티타늄의 산화물을 포함하는 층을 증착하는데 사용될 수 있다.
소정의 실시예에 있어서, 일부 접촉층만이 Ni 및/또는 Ti 및/또는 이의 산화물 및 질화물을 포함할 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 다른 접촉층은 Ni 및/또는 Cr, 및/또는 이의 산화물 및 질화물을 포함할 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 다른 접촉층은 아연 및/또는 이의 산화물을 포함할 수 있다.
니켈 티타늄 및/또는 이의 산화물에 기초한 접촉층의 사용은 광학적 특성의 희생 없이, 코팅된 물품의 기계적 및 화학적 내구성을 증가시켜, 단일 은층 스택(예컨대, 하나의 은 층만을 포함하는 로우-E 코팅)은 유리 기판의 표면(1) 및/또는 표면(2) 상에 모놀리식 경우(monolithic instances)에 사용될 수 있다는 것이 유리하게도 발견되었다(예컨대, 코팅은 내부 또는 외부와 마주볼 수 있다). 그러나, 본 발명은 여기에 한정되지 않으며, NixTiyOz 배리어층을 포함하는 로우-E 코팅은 다른 실시예에 따라, 임의의 형태로 임의의 표면 상에 사용될 수 있다.
소정의 실시예가 로우-E 코팅에 관련하여 기재되지만, 여기에 기재된 Ni 및/또는 Ti 포함 층은 다양한 형태의 코팅과 관련하여 사용될 수 있다.
도 6 및 7은 본 발명의 실시예에 따른 예시 코팅된 물품의 더욱 상세한 단면도이다. 도 6 실시예는 증착 시 또는 어닐링 상태에서의 사용에 적당하다. 도 6의 유리 기판(602)은 실리콘-포함계 층(606)을 포함하는 코팅(604)을 지지한다. 도 6의 실리콘-포함계 층(606)을 SiNx로 나타내지만, 다양한 실시형태는 산화된 및/또는 질화된 실리콘-포함 층(606)을 포함할 수 있다. 실리콘-포함계 층(606)은 티타늄 산화물을 포함하는 층(608)(예컨대 TiO2 또는 다른 적당한 화학양론) 및 아연 산화물을 포함하는 층(610)을 지지한다. 아연 산화물을 포함하는 층(610)은 제1 Ag-계 층(612)과 접촉될 수 있다. Ni 및/또는 Cr을 포함하는 제1 접촉층(614)은 소정의 실시예에서 제1 Ag-계 층(612)과 접촉하며 그 위에 제공될 수 있다.
티타늄 산화물을 포함하는 제2층(616)(예컨대 TiO2 또는 다른 적당한 화학양론)은 제1 접촉층(614) 상에 위치되고, 티타늄 산화물을 포함하는 제2층(616)은 ZnSnOx 및 주석 산화물을 포함하는 혼합 또는 그레이딩된 층(a mixed or graded layer)(618)을 지지한다. 그러나, 소정의 실시예에 있어서, ZnSnOx 및 주석 산화물을 포함하는 개별 층은 혼합 또는 그레이딩된 층 대신에 제공될 수 있다. ZnSnOx 및 주석 산화물을 포함하는 혼합 또는 그레이딩된 층(618) 이 제공되는 실시형태에서, 층은 그레이딩되어, 티타늄 산화물을 포함하는 아래에 있는 제2층(616) 가까이에 더 많은 SnOx 및 더 적은 Zn이 있을 수 있다. 이것은 표 6에 나타낸 바와 같이, ZnO/Ag/접촉층 스택이 반복되는 경우에 바람직할 수 있다.
즉, 도 6에서, ZnSnOx 및 주석 산화물을 포함하는 혼합 또는 그레이딩된 층(618)은 표면으로 이동하는 순서로, 아연 산화물을 포함하는 제2층(620), 제2 Ag-계 층(622), 및 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 제2 접촉층(624)을 지지한다.
제2 실리콘-포함층(626)은 제2 접촉층 상에 제공된다. 실리콘-포함계 층(606)과 마찬가지로, 제2 실리콘-포함층(626)은 SiNx를 포함하는 것으로 나타낸다. 그러나, 다양한 실시형태는 산화 및/또는 질화된 제2 실리콘-포함층(262)를 포함할 수 있다. 제2 실리콘- 포함층(626)은 주석 산화물(628)을 포함하는 층을 지지하고, ZnO/Ag/접촉층은 다시 반복될 수 있다. 즉, 도 6에 나타낸 바와 같이, 주석 산화물을 포함하는 층(628)은 아연 산화물을 포함하는 제3층(630), 제3 Ag-계 층(632), 및 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 제3 접촉층(634)을 지지한다. 주석 산화물을 포함하는 제2층(636)은 제3 접촉층(634)과 접촉하여 그 위에 제공될 수 있다. 실리콘-포함 오버코트층(238)은 아래에 다른 실리콘-포함층을 가지면서, 최외층으로서 제공될 수 있고, 다양한 실시형태는 산화 및/또는 질화될 수 있다. 도 6 실시예는 SiNx를 포함하는 오버코트층(638)을 나타낸다.
여기에 기재된 접촉층은 본 발명의 다른 실시예에서 산화될 수 있다는 것을 알 수 있다. 따라서, 소정의 실시예는 아래에 있는 Ag-계 층 상에서 이와 접촉하는 NiCrOx 접촉층을 포함할 수 있다. 또한, NiCr 및/또는 NiCrOx 층의 일부 또는 전부가 NiTi 및/또는 NiTiOx로 대체될 수 있다는 것을 알 수 있다.
상기 언급된 바와 마찬가지로, 하부 미들 유전체층 스택에 티타늄 산화물을 포함하는 제2층(616)의 도입은 아래에 있는 Ag-계 층(612)의 질을 개선한다는 것이 놀랍게도 발견되었다. 제1 Ag-계 층(612)과 직접적으로 근접한 아래에 있는 제1 접촉층(614)을 간섭하는 (ZnSnOx/SnO2)를 포함하는 조합된 층(618)으로부터 SnO2 가 적어지는 결과가 되는 것으로 믿어진다.
도 6 실시형태에서 나타낸 층의 실시예 층의 두께가 이하 표에 제공된다:
Figure pct00007
도 7은 실시형태에 따른 실시예 코팅된 물품의 다른 상세한 단면도이다. 도 7 실시예는 열 처리된 상태에서의 사용에 적당하다. 도 7 실시예는 기판(702)이 대체로 동일한 순서로 많은 동일한 층을 갖는 코팅(704)을 지지한다는 점에서 도 6 실시예와 유사하다. 도 6 실시형태와 도 7 실시형태의 차이점은 제1 은계 층(710) 아래에 티타늄 산화물을 포함하는 제1층이 없다는 점, (ZnSnOx/SnO2)을 포함하는 단일 혼합층과는 대조적으로 하부 미들 유전체에 SnOx (716) 및 ZnSnOx (718)을 포함하는 분리된 층들을 제공한다는 점을 포함한다.
따라서, 도 7은 기판(702)으로부터 나가는 순서로, 실리콘-포함 계(a silicon-inclusive base)(706), 제1 Ag-계 층(710) 아래에 아연 산화물을 포함하는 제1층(708), Ni 및/또는 Cr을 포함하는 제1 접촉층(712), 티타늄 산화물을 포함하는 층(714) (예컨대, TiO2 또는 다른 적당한 화학양론), 주석 산화물 (716) 및 ZnSnOx (718)를 포함하는 분리층들, 아연 산화물을 포함하는 제2층(720), 제2 Ag-계 층(722), Ni 및/또는 Cr을 포함하는 제2 접촉층(724), 제2 실리콘 포함층(726), 주석 산화물을 포함하는 제2층(728), 아연 산화물을 포함하는 제3층(730), 제3 Ag-계 층(732), Ni 및/또는 Cr을 포함하는 제3 접촉층(734), 주석 산화물을 포함하는 제3층(736), 및 실리콘-포함 오버코트층(738)을 포함한다. 또한, 예컨대 Ag-계 층의 합금화, 접촉층의 산화, 실리콘-포함 층의 산화 및/또는 질화에 관해 상기 기재된 선택 사항 및/또는 대안들은 도 7 실시형태의 선택 사항이다.
도 7 실시형태에 나타낸 층의 실시예 층의 두께가 이하 표에 제공된다:
Figure pct00008
도 6 및 도 7 실시형태는 예컨대 6.0 mm 투명 플로트 유리 상에 배치되는 경우에 이하 표에 따라 수행할 수 있다. 물론, 다양한 두께의 기판 및/또는 다양한 조성의 기판이 다양한 실시형태에서 사용될 수 있다. 바람직한 범위는 어닐링된 및 열 처리된 실시형태와 동일하거나 또는 유사할 수 있다는 것을 알 수 있다. 또한, 성능은 어닐링된 및 열 처리된 실시예와 비교 할만 하지만, 투과율의 관점에서 어닐링되지 않은 실시예 열 처리된 실시예와 비교 할만 하다는 것을 알 수 있다.
Figure pct00009
도 6 및 도 7 실시예 코팅된 물품이 IG 유닛에 포함되는 경우에, 이들은 이하 표에 나타낸 바와 같이 수행할 수 있다. 이하 표에서 어닐링된 실시예는 90% Ar 가스로 채워진 16 mm의 에어 갭을 가지고, 6.0 mm 두께의 제1 엑스트라클리어 기판(a first ExtraClear substrate) 및 4 mm 두께의 제2 엑스트라클리어 기판을 포함한다. 열 처리된 실시예는 12 mm의 12 구획(separation)과 함께, 각각 3 mm 및 6 mm인 제1 및 제2 기판을 갖는다. 물론, 다양한 두께의 기판, 다양한 조성의 기판, 다양한 갭 사이즈, 다양한 가스 등이 다양한 실시예에 사용될 수 있다. 바람직한 범위는 어닐링된 및 열 처리된 실시형태와 동일하거나 또는 유사할 수 있다는 것을 알 수 있다. 또한, 성능은 어닐링된 및 열 처리된 실시예와 비교 할만 하지만, 투과율의 관점에서 어닐링되지 않은 실시예 열 처리된 실시예와 비교 할만 하다는 것을 알 수 있다.
Figure pct00010
소정의 실시예 IG 유닛의 열 성능은 다음, 예컨대 증착 시에, 코팅이 6 mm 및 4 mm 두께의 엑스트라클리어 유리 기판 및 90% Ar로 채워진 16 mm의 갭을 갖는 IG 유닛의 표면(2) 상에 제공되는 경우와 같을 수 있다:
Figure pct00011
열 처리된 상기 실시형태의 실시예 1 및 2의 열 특성은 이하와 같을 수 있다:
Figure pct00012
여기에 기재된 코팅된 물품(예컨대 도 1-7 참조)은 소정의 실시예에서 열 처리(예컨대 템퍼링) 되거나 또는 되지 않을 수 있다. 여기에 사용되는 "열 처리(heat treatment)" 및 "열 처리하는(heat treating)"은 유리 포함 물품의 열 템퍼링 및/또는 열 강화를 수행하기 위해 충분한 온도까지 물품을 가열하는 것을 의미한다. 이러한 정의는, 예컨대 템퍼링 및/또는 열 강화시키는데 충분한 기간 동안 적어도 약 550 degrees C, 더욱 바람직하게는 적어도 약 580 degrees C, 더욱 바람직하게는 적어도 약 600 degrees C, 더욱 바람직하게는 적어도 약 620 degrees C, 가장 바람직하게는 적어도 약 650 degrees C의 온도의 오븐 또는 로(furnace)에서 코팅된 물품을 가열하는 것을 포함한다. 이는 소정의 실시예에서 적어도 약 2분, 또는 약 10분까지 동안일 수 있다.
상기 나타낸 바와 같이, 소정의 실시예는 유리 기판에 의해 지지되는 로우-E 코팅을 포함할 수 있다. 이러한 코팅된 물품은 다른 유리 또는 다른 기판에 모놀리식으로 사용되거나 라미네이팅 될 수 있다. 또한, 코팅된 물품은 절연 유리(IG) 유닛으로 짜여질 수 있다. IG 유닛은 일반적으로 실질적으로 평행하게 이격된 제1 및 제2 유리 기판을 포함한다. 씰(seal)은 기판의 주변에 제공되고, 갭(Ar, Xe, Kr 등과 같은 불활성 기체로 적어도 부분적으로 채워질 수 있는)은 기판들 사이에 유지된다.
여기에 도시한 및 기재된 코팅된 물품, 또는 유사한 코팅된 물품은 소정의 실시예에서 다른 유리 시트로 라미네이팅될 수 있다. 폴리머계 중간층(interlayer)이 소정의 실행에 사용될 수 있다. 물질, 예컨대 PVB, EVA 등은 다양한 실시형태에서 사용될 수 있다. 이러한 경우에, 코팅은 수득된 라미네이팅된 물품의 기판들(예컨대 표면(2) 또는 (3) 상에) 사이에 제공될 수 있다.
여기에 기재된 층들의 일부 또는 전부는 스퍼터 증착 또는 예컨대 CVD, 연소 증착(combustion deposition) 등과 같은 다른 적당한 기술을 통해 배치될 수 있다. Ni 및 Ti를 포함하는 실시예 층은, 예컨대 하나 이상의 스퍼터링 타겟으로부터 스퍼터-증착될 수 있다. 스퍼터링 타겟은 약 1-50% Ni 및 약 50-99% Ti, 더욱 바람직하게는 5-40% Ni 및 약 60-95% Ti, 및 더욱 바람직하게는 약 10-30% Ni 및 약 70-90% Ti을 포함할 수 있다. 소정의 실시예에 있어서, 스퍼터링 타겟에서 Ni:Ti 비율은 약 20:80일 수 있다. 다른 Ni:Ti 비율은 다양한 실시형태에서, 예컨대 95/5; 75/25; 50/50; 25/75; 20/80; 10/90 등이 가능하다. 또한, 이 범위의 부분 범위는 여기에 고려된다. 또한, 이러한 퍼센트/비율은, 이 층들이 완전히 또는 부분적으로 산화되든지 또는 산화되지 않든지(예컨대 금속성), 층 내에서 Ni 및/또는 Ti의 양에 대해 적용할 수 있다는 것을 알 수 있다.
여기에 개시된 실시예 물질은 로우-E, 응축 방지(anticondensation) 및/또는 다른 어플리케이션과 관련하여 사용될 수 있다. 실시예 로우-E 및/또는 응축 방지 코팅은, 예컨대 출원 제12/926,714; 12/923,082; 12/662,894; 12/659,196; 12/385,234; 12/385,802; 12/461,792; 12/591,611; 및 12/654,594 에 개시되어 있고, 이 내용은 전체가 여기에 참조로 인용된다. 따라서, 소정의 실시예에 있어서, 여기에 기재되는 하나 이상의 배리어층 물질은 이러한 및/또는 다른 형태의 코팅에 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 하나 이상의 층을 대체하거나 또는 보충할 수 있다.
상기 표에서, 광학적 데이터는 Ill. "C"옵져버(observer) (2 degrees)로 수집되었다. 열 성능 데이터는 NFRC 2001에 따라 수집되었다.
여기에 사용되는, "-상에(on)", "-로 지지되는(supported by)" 등은 명확하게 언급하지 않으면, 두개의 요소가 서로 직접적으로 근접한 것을 의미하는 것으로 이해해서는 안된다. 다시 말해, 하나 이상의 층들이 그 사이에 있다고 하더라도, 제1층은 제2층 "상에" 또는 "으로 지지되는"이라 말할 수 있다.
본 발명은 현재 가장 실용적인 및 바람직한 실시예로 간주되는 것과 관련하여 기재하지만, 본 발명이 개시된 실시예에 한정되지 않는 것으로 이해하여야 하지만, 반대로, 첨부되는 청구항의 정신 및 범위 내에서 다양한 변형 및 동등한 배열을 포함하는 것이다.

Claims (25)

  1. 기판 상에 적어도 하나의 제1 유전체층을 배치하는 단계;
    상기 적어도 하나의 제1 유전제층 상에 Ag를 포함하는 제1층을 배치하는 단계;
    상기 Ag를 포함하는 제1층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층을 배치하는 단계;
    상기 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층 상에 적어도 하나의 제2 유전체층을 배치하는 단계;
    상기 적어도 하나의 제2 유전체층 상에 Ag를 포함하는 제2층을 배치하는 단계;
    상기 Ag를 포함하는 제2층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및 Ti을 포함하는 제1층을 배치하는 단계;
    상기 Ni 및 Ti을 포함하는 제1층 상에 적어도 하나의 제3 유전체층을 배치하는 단계;
    상기 적어도 하나의 제3 유전제층 상에 Ag를 포함하는 제3층을 배치하는 단계;
    상기 Ag를 포함하는 제3층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및 Ti을 포함하는 제2층을 배치하는 단계; 및
    상기 Ni 및 Ti을 포함하는 제2층 상에 적어도 하나의 제4 유전체층을 배치하는 단계;
    를 포함하는, 유리 기판으로 지지되는 코팅을 포함하는 코팅된 물품을 제조하는 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 Ag를 포함하는 제3층은 상기 Ag를 포함하는 제2층보다 두꺼운 것인, 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제2 유전체층은 Ti의 산화물을 포함하는 층을 포함하는 것인, 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제1, 제2, 제3 유전체층은 각각 아래에 아연을 포함하는 층을 포함하고, Ag를 포함하는 제1, 제2, 제3층 각각과 직접 접촉하는 것인, 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅의 최외층으로서 제1 실리콘-포함층을 배치하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제1 유전체층에 최저층으로서 제2 실리콘-포함층을 더 포함하는, 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 실리콘-포함층은 실리콘 니트라이드를 포함하는 것인, 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅의 시트 저항은 약 1.2 이하인 것인, 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅된 물품의 가시 투과율은 적어도 약 65%인 것인, 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층은 Ni과 Ti, 또는 이들의 산화물을 포함하는 것인, 방법.
  11. 기판 상에 적어도 하나의 제1 유전체층을 배치하는 단계;
    상기 적어도 하나의 제1 유전제층 상에 Ag를 포함하는 제1층을 배치하는 단계;
    상기 Ag를 포함하는 제1층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층을 배치하는 단계;
    상기 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층 상에 적어도 하나의 제2 유전체층을 배치하는 단계;
    상기 적어도 하나의 제2 유전체층 상에 Ag를 포함하는 제2층을 배치하는 단계;
    상기 Ag를 포함하는 제2층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제1층을 배치하는 단계;
    상기 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제1층 상에 적어도 하나의 제3 유전체층을 배치하는 단계;
    상기 적어도 하나의 제3 유전제층 상에 Ag를 포함하는 제3층을 배치하는 단계;
    상기 Ag를 포함하는 제3층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제2층을 배치하는 단계; 및
    상기 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제2층 상에 적어도 하나의 제4 유전체층을 배치하는 단계를 포함하고,
    상기 Ag를 포함하는 제3층은 상기 Ag를 포함하는 제2층보다 두꺼운 것인,
    유리 기판으로 지지되는 코팅을 포함하는 열 처리 가능한 코팅된 물품을 제조하는 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제1, 제2, 제3 유전체층은 각각 아래에 아연을 포함하는 층을 포함하고, Ag를 포함하는 제1, 제2, 제3층과 각각 직접 접촉하는, 방법.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서,
    상기 코팅의 최외층으로서 제1 실리콘-포함층을 배치하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제1 유전체층에 최저층으로서 제2 실리콘-포함층을 배치하는 단계를 더 포함하고, 상기 제1 및 제2 실리콘 포함층은 실리콘 니트라이드를 포함하는 것인, 방법.
  15. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    열처리 후, 상기 코팅의 시트 저항은 약 1.0 이하이고, 상기 코팅된 물품의 가시 투과율은 적어도 약 65%인 것인, 방법.
  16. 제11항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    그 위에 배치된 코팅을 갖는 코팅된 물품을 열처리하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따라 제조된 코팅된 물품을 제공하는 단계;
    그 사이에 간격(gap)을 형성하도록, 코팅된 물품에 실질적으로 평행하게 이격된 관계로(in substantially parallel spaced apart relation) 제2 기판을 위치시키는 단계; 및
    상기 코팅된 물품과 상기 제2 기판 사이에 엣지 씰(edge seal)을 제공하는 단계;를 포함하고,
    상기 코팅된 물품의 상기 코팅은 IG 유닛의 표면(2) 또는 표면(3) 상에 제공되는 것인, 절연 유리(IG) 유닛을 제조하는 방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 IG 유닛의 LSG는 2.15 이상이고, 더욱 바람직하게는 2.25 이상인 것인, 방법.
  19. 제17항 또는 제18항에 있어서,
    상기 코팅된 물품의 기판 및 상기 제2 기판의 두께는 각각 약 6 mm이고, 상기 코팅된 물품과 상기 제2 기판 사이의 간격은 약 12 mm인 것인, 방법.
  20. 기판;
    상기 기판 상의 적어도 하나의 제1 유전체층;
    상기 적어도 하나의 제1 유전체층 상의 Ag를 포함하는 제1층;
    상기 Ag를 포함하는 제1층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층;
    상기 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층 상의 적어도 하나의 제2 유전체층;
    상기 적어도 하나의 제2 유전체층 상의 Ag를 포함하는 제2층;
    상기 Ag를 포함하는 제2층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및 Ti을 포함하는 제1층;
    상기 Ni 및 Ti을 포함하는 제1층 상의 적어도 하나의 제3 유전체층;
    상기 적어도 하나의 제3 유전제층 상의 Ag를 포함하는 제3층;
    상기 Ag를 포함하는 제3층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및 Ti을 포함하는 제2층; 및
    상기 Ni 및 Ti을 포함하는 제2층 상의 적어도 하나의 제4 유전체층;
    을 포함하는 코팅된 물품.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 코팅된 물품의 시트 저항은 약 1.2 이하인 것인, 코팅된 물품.
  22. 제20항 또는 제21항에 있어서,
    상기 코팅된 물품의 가시 투과율은 적어도 약 65%인 것인, 코팅된 물품.
  23. 제20항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 Ag를 포함하는 제3층은 상기 Ag를 포함하는 제2층보다 두꺼운 것인, 코팅된 물품.
  24. 제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제2 유전체층은 Ti의 산화물을 포함하는 층을 포함하는 것인, 코팅된 물품.
  25. 기판;
    상기 기판 상의 적어도 하나의 제1 유전체층;
    상기 적어도 하나의 제1 유전체층 상의 Ag를 포함하는 제1층;
    상기 Ag를 포함하는 제1층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층;
    상기 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 층 상의 적어도 하나의 제2 유전체층;
    상기 적어도 하나의 제2 유전체층 상의 Ag를 포함하는 제2층;
    상기 Ag를 포함하는 제2층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제1층;
    상기 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제1층 상의 적어도 하나의 제3 유전체층;
    상기 적어도 하나의 제3 유전제층 상의 Ag를 포함하는 제3층;
    상기 Ag를 포함하는 제3층 상에서 이와 접촉하는 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제2층; 및
    상기 Ni 및/또는 Ti을 포함하는 제2층 상의 적어도 하나의 제4 유전체층을 포함하고,
    상기 Ag를 포함하는 제3층은 상기 Ag를 포함하는 제2층보다 두꺼운 것인, 코팅된 물품.
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