KR20100129211A - 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 - Google Patents
기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100129211A KR20100129211A KR1020100049815A KR20100049815A KR20100129211A KR 20100129211 A KR20100129211 A KR 20100129211A KR 1020100049815 A KR1020100049815 A KR 1020100049815A KR 20100049815 A KR20100049815 A KR 20100049815A KR 20100129211 A KR20100129211 A KR 20100129211A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- carrier
- module
- conveyed
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 214
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 51
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 49
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 49
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 35
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 7
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 279
- 101150075071 TRS1 gene Proteins 0.000 description 38
- 101150016835 CPL1 gene Proteins 0.000 description 20
- 101100468774 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) RIM13 gene Proteins 0.000 description 20
- 239000012160 loading buffer Substances 0.000 description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 101100221835 Arabidopsis thaliana CPL2 gene Proteins 0.000 description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 6
- 101100221837 Arabidopsis thaliana CPL4 gene Proteins 0.000 description 4
- 101100536545 Arabidopsis thaliana TCL2 gene Proteins 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 101100221836 Arabidopsis thaliana CPL3 gene Proteins 0.000 description 3
- 101100065702 Arabidopsis thaliana ETC3 gene Proteins 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02002—Preparing wafers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
처리 블록에 기판을 반입하기 위한 제1 전달 모듈에 기판을 반송할 수 있을 때에는 버퍼 모듈을 통하지 않고 캐리어로부터 제1 전달 모듈에 기판을 상기 반송순으로 반송하고, 상기 캐리어로부터 기판을 그 제1 전달 모듈에 반송할 수 없을 때에, 상기 반송순과는 역순으로 캐리어로부터 버퍼 모듈에 기판을 반송하며, 상기 버퍼 모듈에 반송된 기판을, 그 기판에 선행하여 상기 제1 전달 모듈에 반송되도록 설정된 기판이 모두 이 제1 전달 모듈에 반송된 후에, 상기 반송순으로 제1 전달 모듈에 반송하도록 반송 수단의 동작이 제어된다.
Description
도 2는 상기 도포, 현상 장치의 사시도.
도 3은 상기 도포, 현상 장치의 종단 측면도.
도 4는 상기 도포, 현상 장치를 캐리어 반송 수단측에서 본 정면도.
도 5는 캐리어를 도시하는 정면도.
도 6은 상기 도포, 현상 장치에서의 반송 경로도.
도 7은 상기 도포, 현상 장치에서의 반송 경로도.
도 8은 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 공정을 도시한 공정도.
도 9는 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 10은 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 11은 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 12는 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 13은 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 14는 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 15는 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 16은 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 17은 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 18은 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
도 19는 상기 도포, 현상 장치의 캐리어 블록에서의 기판의 반송 경로를 도시한 설명도.
Claims (15)
- 복수매의 기판을 격납한 캐리어가 배치되는 캐리어 배치부를 구비한 캐리어 블록과, 상기 기판을 1장씩 처리하는 처리 모듈을 하나 이상 구비한 처리 블록을 포함한 기판 처리 장치에 있어서,
상기 캐리어로부터 반출된 기판이 미리 설정된 반송순으로 반송되고, 그 기판을 상기 처리 블록에 반입하기 위해, 일단 배치시키는 제1 전달 모듈과,
상기 처리 블록으로써 처리 완료된 기판을 캐리어에 복귀시키기 위해 일단 배치시키는 제2 전달 모듈과,
상기 캐리어로부터 반출되며, 상기 제1 전달 모듈에 반입하기 전의 기판을 대기시키기 위해 복수매의 기판을 격납할 수 있도록 구성된 버퍼 모듈과,
상기 캐리어 배치부에 배치된 캐리어와, 상기 제1 전달 모듈과, 상기 버퍼 모듈과, 상기 제2 전달 모듈과의 사이에서 기판을 반송하는 제1 반송 수단과,
나중에 제1 전달 모듈에 반입된 기판이, 먼저 제1 전달 모듈에 반입된 기판을 앞지르지 않도록, 상기 제1 전달 모듈과, 상기 제2 전달 모듈과, 상기 처리 블록에 설치된 모듈과의 사이에서 기판을 반송하는 제2 반송 수단과,
상기 기판 처리 장치의 각 부에 제어 신호를 출력하여, 그 동작을 제어하는 제어 수단
을 포함하며,
상기 제1 전달 모듈에 기판을 반송할 수 있을 때에는 버퍼 모듈을 통하지 않고 캐리어로부터 제1 전달 모듈에 기판을 상기 반송순으로 반송하고,
상기 캐리어로부터 기판을 그 제1 전달 모듈에 반송할 수 없을 때에, 상기 반송순과는 역순으로 캐리어로부터 버퍼 모듈에 기판을 반송하며,
상기 버퍼 모듈에 반송된 기판을, 그 기판에 선행하여 상기 제1 전달 모듈에 반송되도록 설정된 기판이 모두 이 제1 전달 모듈에 반송된 후에, 상기 반송순으로 제1 전달 모듈에 반송하도록 제어 신호가 출력되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제1항에 있어서,
상기 캐리어 안에 복수매의 동종 기판에 의해 구성되는 로트가 복수 설정되고, 상기 반송순은 동일한 로트 안의 기판이 연속하여 상기 제1 전달 모듈에 반입되도록 설정되어 있으며,
상기 캐리어로부터 기판을 제1 전달 모듈에 반송할 수 없고, 또한 버퍼 모듈에 그 기판의 로트와는 상이한 로트가 없을 때에, 그 기판이 포함되는 로트 안의 기판에 대해서 역순으로 버퍼 모듈에 반송하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
하나의 캐리어의 기판 뒤에 다른 캐리어의 기판이 반출되도록 설정되고, 하나의 캐리어의 기판이 버퍼 모듈에 없을 때에, 다른 캐리어의 기판이 상기 버퍼 모듈에 반송되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1 전달 모듈, 제2 전달 모듈, 처리 모듈 및 제2 반송 수단은 각각 복수개 설치되고, 각 제2 반송 수단은 서로 상이한 제1 전달 모듈, 제2 전달 모듈 및 처리 모듈과의 사이에서 평행하게 기판을 반송하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제4항에 있어서,
각 제1 전달 모듈에 반입하기 전의 기판을 대기시키기 위한 버퍼 모듈은 공용화되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제1항에 있어서,
상기 처리 모듈은, 기판에 레지스트를 공급하는 레지스트 도포 모듈과, 상기 레지스트 도포 후, 노광 장치로써 노광된 기판에 현상액을 공급하여 현상하는 현상 모듈에 의해 구성되고, 기판 처리 장치는 도포, 현상 장치로서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제1항에 있어서,
상기 기판이 반출된 캐리어를, 상기 캐리어 배치부로부터 후퇴시키기 위한 캐리어 후퇴 영역과, 상기 캐리어 배치부와 상기 캐리어 후퇴 영역 사이에서 캐리어를 반송하는 캐리어 반송 수단이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 복수매의 기판을 격납한 캐리어를 캐리어 배치부에 배치하는 공정과,
처리 블록에 설치된 처리 모듈로 기판을 1장씩 처리하는 공정과,
상기 캐리어 배치부에 배치된 캐리어와, 상기 캐리어 배치부에 배치된 캐리어로부터 반송된 기판을 상기 처리 블록에 반입하기 위해 그 기판이 미리 설정된 반송순으로 반송되어 일단 배치되는 제1 전달 모듈과, 처리 블록으로써 처리 완료된 기판을 상기 캐리어에 반출하기 위해 일단 배치하는 제2 전달 모듈과, 상기 캐리어로부터 반출하고, 상기 제1 전달 모듈에 반입하기 전의 기판을 대기시키기 위해, 복수매의 기판을 격납할 수 있도록 구성된 버퍼 모듈과의 사이에서 제1 반송 수단에 의해 기판을 전달하는 공정과,
나중에 제1 전달 모듈에 반입된 기판이, 먼저 제1 전달 모듈에 반입된 기판을 앞지르지 않도록, 상기 제1 전달 모듈과, 상기 제2 전달 모듈과, 상기 처리 블록에 설치된 모듈과의 사이에서 제2 반송 수단에 의해 기판을 반송하는 공정과,
상기 제1 전달 모듈에 기판을 반송할 수 있을 때에는 버퍼 모듈을 통하지 않고 캐리어로부터 제1 전달 모듈에 기판을 상기 반송순으로 반송하고, 상기 캐리어로부터 기판을 그 제1 전달 모듈에 반송할 수 없을 때에, 상기 반송순과는 역순으로 캐리어로부터 버퍼 모듈에 기판을 반송하는 공정과,
상기 버퍼 모듈에 반송된 기판을, 그 기판에 선행하여 상기 제1 전달 모듈에 반송되도록 설정된 기판이 모두 이 제1 전달 모듈에 반송된 후에, 상기 반송순으로 제1 전달 모듈에 반송하는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법. - 제8항에 있어서,
상기 캐리어 안에 복수매의 동종 기판에 의해 구성되는 로트가 복수개 설정되고, 상기 반송순은 동일한 로트 안의 기판이 연속하여 상기 제1 전달 모듈에 반입되도록 설정되어 있으며,
상기 버퍼 모듈에 기판을 반송하는 공정은,
상기 캐리어로부터 기판을 제1 전달 모듈에 반송할 수 없고, 또한 버퍼 모듈에 그 기판의 로트와는 상이한 로트가 없을 때에, 그 기판이 포함되는 로트 안의 기판에 대해서 역순으로 반송하도록 행해지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법. - 제8항 또는 제9항에 있어서,
하나의 캐리어의 기판 뒤에 다른 캐리어의 기판이 반출되도록 설정되고, 하나의 캐리어의 기판이 버퍼 모듈에 없을 때에, 다른 캐리어의 기판이 상기 버퍼 모듈에 반송되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법. - 제8항에 있어서,
상기 제1 전달 모듈, 제2 전달 모듈, 처리 모듈 및 제2 반송 수단은 각각 복수개 설치되고, 각 제2 반송 수단에 의해 서로 상이한 제1 전달 모듈, 제2 전달 모듈 및 처리 모듈과의 사이에서 평행하게 기판을 반송하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법. - 제11항에 있어서,
각 제1 전달 모듈에 반입하기 전의 기판을 대기시키는 버퍼 모듈은 공용화되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법. - 제8항에 있어서,
상기 기판을 1장씩 처리하는 공정은, 기판에 레지스트를 공급하는 공정과, 상기 레지스트 공급 후, 노광 장치로써 노광된 기판에 현상액을 공급하여 현상하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법. - 제8항에 있어서,
상기 기판이 반출된 캐리어를, 후퇴시키기 위한 캐리어 후퇴 영역과, 상기 캐리어 배치부 사이에서 반송하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법. - 기판을 1장씩 처리하는 처리 모듈을 하나 이상 구비한 처리 블록과, 그 처리 블록에 기판을 캐리어로부터 반송하는 반송 수단을 구비한 기판 처리 장치에 이용되는 컴퓨터 프로그램이 기억된 기억 매체로서,
상기 컴퓨터 프로그램은 제8항에 기재된 기판 처리 방법을 실시하기 위한 것인 것을 특징으로 하는 기억 매체.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2009-129499 | 2009-05-28 | ||
JP2009129499A JP5223778B2 (ja) | 2009-05-28 | 2009-05-28 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100129211A true KR20100129211A (ko) | 2010-12-08 |
KR101513748B1 KR101513748B1 (ko) | 2015-04-20 |
Family
ID=43227183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100049815A Active KR101513748B1 (ko) | 2009-05-28 | 2010-05-27 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5223778B2 (ko) |
KR (1) | KR101513748B1 (ko) |
CN (1) | CN101901748B (ko) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8999636B2 (en) | 2007-01-08 | 2015-04-07 | Toxic Report Llc | Reaction chamber |
JP5187274B2 (ja) * | 2009-05-28 | 2013-04-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
US8685708B2 (en) | 2012-04-18 | 2014-04-01 | Pathogenetix, Inc. | Device for preparing a sample |
JP6046007B2 (ja) | 2013-08-29 | 2016-12-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 接合システム |
WO2015046062A1 (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
JP6607744B2 (ja) * | 2015-09-04 | 2019-11-20 | リンテック株式会社 | 供給装置および供給方法 |
JP6880913B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-06-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP7126750B2 (ja) * | 2018-03-20 | 2022-08-29 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
JP7360849B2 (ja) * | 2019-08-30 | 2023-10-13 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理システムおよび基板搬送方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05275511A (ja) * | 1991-03-01 | 1993-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の移載システム及び処理装置 |
JP4069236B2 (ja) * | 2000-06-05 | 2008-04-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
JP3916468B2 (ja) | 2002-01-11 | 2007-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4307132B2 (ja) * | 2003-04-16 | 2009-08-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4381121B2 (ja) * | 2003-12-11 | 2009-12-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4685584B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-05-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
JP2007287909A (ja) * | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体 |
JP4893425B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2012-03-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 枚葉式の基板処理装置、枚葉式の基板処理装置の運転方法及び記憶媒体 |
JP4957426B2 (ja) * | 2007-07-19 | 2012-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法並びに記憶媒体 |
-
2009
- 2009-05-28 JP JP2009129499A patent/JP5223778B2/ja active Active
-
2010
- 2010-05-27 KR KR1020100049815A patent/KR101513748B1/ko active Active
- 2010-05-28 CN CN2010101931017A patent/CN101901748B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101513748B1 (ko) | 2015-04-20 |
JP2010278249A (ja) | 2010-12-09 |
CN101901748B (zh) | 2012-04-25 |
JP5223778B2 (ja) | 2013-06-26 |
CN101901748A (zh) | 2010-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101666227B1 (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
KR20100129211A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
JP5266965B2 (ja) | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | |
KR101553417B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP4464993B2 (ja) | 基板の処理システム | |
US8702370B2 (en) | Substrate transfer method for performing processes including photolithography sequence | |
US8025023B2 (en) | Coating and developing system, coating and developing method and storage medium | |
US7597492B2 (en) | Coating and developing system, coating and developing method and storage medium | |
JP4687682B2 (ja) | 塗布、現像装置及びその方法並びに記憶媒体 | |
CN101800163B (zh) | 基板处理装置 | |
US8046095B2 (en) | Substrate processing system and substrate transfer method | |
US9004788B2 (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium | |
JP5348290B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
KR102243966B1 (ko) | 도포, 현상 장치, 도포, 현상 장치의 운전 방법 및 기억 매체 | |
JP4606159B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、コンピュータプログラム及び記憶媒体 | |
JP4496073B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
KR20230104679A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
KR20250005876A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 시스템, 반도체 장치의 제조 방법 및 프로그램 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20100527 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20141212 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20100527 Comment text: Patent Application |
|
PA0302 | Request for accelerated examination |
Patent event date: 20141212 Patent event code: PA03022R01D Comment text: Request for Accelerated Examination Patent event date: 20100527 Patent event code: PA03021R01I Comment text: Patent Application |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20150327 |
|
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20150414 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20150414 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180329 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180329 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190328 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190328 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200330 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210402 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220323 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230322 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240320 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20250318 Start annual number: 11 End annual number: 11 |