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KR20090124530A - 기판 세정 장치 - Google Patents

기판 세정 장치 Download PDF

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KR20090124530A
KR20090124530A KR1020080050806A KR20080050806A KR20090124530A KR 20090124530 A KR20090124530 A KR 20090124530A KR 1020080050806 A KR1020080050806 A KR 1020080050806A KR 20080050806 A KR20080050806 A KR 20080050806A KR 20090124530 A KR20090124530 A KR 20090124530A
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KR
South Korea
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substrate
cleaning liquid
cleaning
supply pipes
spray nozzles
Prior art date
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Ceased
Application number
KR1020080050806A
Other languages
English (en)
Inventor
유은석
이철호
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020080050806A priority Critical patent/KR20090124530A/ko
Publication of KR20090124530A publication Critical patent/KR20090124530A/ko
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/14—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means with multiple outlet openings; with strainers in or outside the outlet opening
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

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Abstract

기판 세정 장치는 이송 유닛, 세정액 공급관들 및 분사 노즐들을 포함한다. 이송 유닛은 기판을 수평 방향으로 이송한다. 세정액 공급관들은 이송 유닛의 상방에 구비되며, 세정액을 제공한다. 분사 노즐들은 기판에 대해 경사각을 갖도록 세정액 공급관들과 연결되며, 기판을 향해 세정액을 분사한다.

Description

기판 세정 장치{Apparatus for cleaning a substrate}
본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수평 방향으로 이송되는 기판으로 세정액을 분사하여 상기 기판을 세정하는 기판 세정 장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이 소자는 기판 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정과, 상기 막을 평탄화하기 위한 화학적 기계적 연마 공정과, 상기 막 상에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정과, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각 공정과, 기판의 소정 영역에 특정 이온을 주입하기 위한 이온 주입 공정과, 기판 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정 등을 반복하여 형성된다.
상기 세정 공정은 기판 세정 장치가 상기 기판으로 세정액을 분사하여 이루어진다.
도 1은 종래 기술에 따른 기판 세정 장치(1)를 설명하기 위한 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 기판 세정 장치(1)를 설명하기 위한 측면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 기판 세정 장치(1)는 기판(S)을 수평 방향으 로 이송하는 이송 유닛(10), 상기 이송 유닛(10)의 상방에 상기 기판(S)의 이송 방향과 수직하도록 연장되며, 세정액을 제공하는 세정액 공급관(20)들 및 상기 세정액 공급관(20)들에 연결되어 상기 기판(S)으로 세정액을 분사하는 분사 노즐(30)을 포함한다.
상기 분사 노즐(30)들은 상기 기판(S)과 수직하도록 상기 세정액을 분사한다. 각 분사 노즐(30)에서 분사된 세정액은 상기 기판(S)의 표면에 부딪혀 사방으로 퍼진다. 상기 세정액들이 상기 기판(S) 상에서 퍼지면서 서로 간섭한다. 따라서, 상기 세정액이 상기 기판(S) 외부로 쉽게 배출되지 않고 상기 기판(S) 상에 정체된다. 상기 세정액이 상기 기판(S) 외부로 배출되지 어려우므로, 상기 기판(S) 상에 잔류하는 불순물이 쉽게 제거되지 않는다.
본 발명은 분사된 세정액을 기판 외부로 용이하게 배출할 수 있는 기판 세정 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판을 수평 방향으로 이송하기 위한 이송 유닛과, 상기 이송 유닛의 상방에 구비되며, 세정액을 제공하는 다수의 세정액 공급관들 및 상기 기판에 대해 경사각을 갖도록 상기 세정액 공급관들과 연결되며, 상기 기판을 향해 상기 세정액을 분사하는 다수의 분사 노즐들을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 분사 노즐들의 경사각은 45도 내지 75도인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 세정액 공급관들은 상기 기판의 이동 방향과 수직하거나, 평행하거나 또는 경사지도록 배치될 수 있다.
상기 세정액 공급관들이 상기 기판의 이동 방향과 수직하도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐들의 경사 방향은 상기 기판의 이동 방향의 반대 방향을 향하며, 상기 세정액 공급관들이 상기 기판의 이동 방향과 평행하도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐들의 경사 방향은 상기 기판의 이동 방향과 수직한 방향을 향하며, 상기 세정액 공급관들이 상기 기판의 이동 방향과 경사지도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐들의 경사 방향은 상기 기판의 이동 방향에 대해 반대 방향과 상기 수직한 방향의 사이 방향을 향할 수 있다.
본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판에 대해 경사지도록 세정액을 분사한다. 따라서, 상기 기판 상으로 제공된 세정액이 불순물과 함께 상기 기판 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 그러므로,상기 기판 세정 장치의 세정력을 향상시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것 으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)를 설명하기 위한 평면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 기판 세정 장치(100)를 설명하기 위한 측면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 기판 세정 장치(100)는 이송 유닛(110), 세정액 공급관(120)들 및 분사 노즐(130)들을 포함한다.
상기 이송 유닛(110)은 기판(S)을 지지하면서 상기 기판(S)을 제1 방향으로 이송한다.
상기 이송 유닛(110)은 다수의 샤프트(112)들 및 다수의 롤러(114)들을 포함 한다.
상기 샤프트(112)들은 동일한 높이에 서로 일정 간격 이격되어 배치된다. 각 상기 샤프트(112)는 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 연장된다. 상기 샤프트(112)들은 상기 기판(S)의 종류, 크기, 무게 등을 고려하여 다양한 크기 및 재질 등으로 이루어질 수 있다.
상기 롤러(114)들은 상기 각 샤프트(112)에 일정 간격으로 배치된다. 예를 들어, 상기 롤러(114)들은 상기 샤프트(112)에 끼워져서 회전 가능하도록 구비된다. 따라서, 상기 기판(S)이 상기 롤더들 상에 안착되고, 상기 롤러(114)들이 회전함으로써 상기 기판(S)을 상기 제1 방향으로 이송할 수 있다. 상기 샤프트(112)들은 상기 기판(S)의 종류, 크기, 무게 등을 고려하여 다양한 크기 및 재질 등으로 이루어질 수 있다.
상기 세정액 공급관(120)들은 상기 이송 유닛(110) 상부에 동일한 높이로 서로 일정 간격 이격되어 배치된다. 상기 세정액 공급관(120)들은 상기 제1 방향과 경사지도록 연장될 수 있다. 예를 들면, 상기 세정액 공급관(120)들은 상기 기판(S)의 이동 방향과 약 1도 내지 약 89도의 각도를 갖도록 배치될 수 있다.
상기 세정액 공급관(120)들은 세정액 저장부(미도시)와 연결되며, 상기 세정액 저장부의 세정액을 후술하는 분사 노즐(130)들에 제공한다.
상기 분사 노즐(130)들은 각 세정액 공급관(120)들에 각각 연결된다. 상기 각 세정액 공급관(120)들에 구비된 분사 노즐(130)들은 일정 간격 서로 이격된다. 상기 분사 노즐(130)들은 상기 세정액 공급관(120)을 통해 제공된 세정액을 상기 기판(S)으로 분사한다. 상기 분사된 세정액은 상기 기판(S) 상의 이물질을 세정한다.
상기 분사 노즐(130)들은 상기 기판(S)에 대하여 경사지도록 구비될 수 있다. 예를 들면, 상기 분사 노즐(130)들은 상기 기판(S)과 약 45도 내지 약 75도의 경사각을 가질 수 있고, 보다 바람직하게는 약 60도 내지 약 70도의 경사각을 가질 수 있다.
상기 분사 노즐(130)들의 경사각이 약 75도를 초과하는 경우, 상기 세정액이 상기 기판(S)과 수직에 가깝도록 분사되므로, 상기 세정액이 상기 기판(S) 상에서 퍼지면서 서로 간섭한다. 따라서, 상기 세정액이 상기 기판(S) 외부로 쉽게 배출되지 않고 상기 기판(S) 상에 정체된다.
상기 분사 노즐(130)들의 경사각이 약 45도 미만인 경우, 상기 세정액이 상기 기판(S)과 수평에 가깝도록 분사되므로, 상기 각 분사 노즐(130)들의 위치와 상기 각 분사 노즐(130)들로부터 분사된 세정액이 제공되는 기판(S) 부위가 멀어진다. 상기 분사 노즐(130)들로부터 분사되는 세정액을 제어하기 어려워 상기 기판(S)이 균일하게 세정되지 않을 수 있다.
상기 분사 노즐(130)들의 경사각이 약 45도 내지 약 75도인 경우, 상기 세정액이 상기 기판과 경사지도록 분사된다. 따라서, 상기 각 분사 노즐(130)들의 위치와 상기 각 분사 노즐(130)들로부터 분사된 세정액이 제공되는 기판(S) 부위가 인접하므로, 상기 분사 노즐(130)들로부터 분사되는 세정액을 용이하게 제어할 수 있다. 따라서, 상기 기판(S)을 균일하게 세정할 수 있다. 또한, 상기 기판(S)으로 제 공된 세정액이 상기 분사 노즐(130)들로부터 분사되는 세정액에 의해 기판(S) 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 그러므로, 상기 기판(S)의 세정 효율을 향상시킬 수 있다.
한편, 상기 세정액 공급관(120)들이 상기 제1 방향과 경사지도록 연장되는 경우, 상기 분사 노즐(130)들의 경사 방향은 상기 제1 방향의 반대 방향과 상기 제2 방향 사이의 방향을 향한다. 상기 기판(S)으로 제공된 세정액이 상기 제1 방향의 반대 방향과 상기 제2 방향 사이 방향으로 웨이브를 형성하므로, 상기 세정액이 상기 기판(S) 상에 정체되지 않고 상기 기판(S)으로부터 빠르게 배출될 수 있다.
도 5는 도 3에 도시된 기판 세정 장치의 다른 예를 설명하기 위한 평면도이다.
도 5를 참조하면, 상기 세정액 공급관(120)들은 상기 기판(S)의 진행 방향인 제1 방향과 수직하도록 연장될 수 있다.
상기 세정액 공급관(120)들이 상기 제1 방향과 수직하도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐(130)들의 경사 방향은 상기 제1 방향의 반대 방향을 향한다. 상기 기판(S)으로 제공된 세정액이 상기 제1 방향의 반대 방향으로 웨이브를 형성하므로, 상기 세정액이 상기 기판(S) 상에 정체되지 않고 상기 기판(S)으로부터 빠르게 배출될 수 있다.
도 6은 도 3에 도시된 기판 세정 장치의 또 다른 예를 설명하기 위한 평면도이다.
도 6을 참조하면, 상기 세정액 공급관(120)들은 상기 제1 방향과 평행하도 록 연장될 수 있다.
상기 세정액 공급관(120)들이 상기 제1 방향과 평행하도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐(130)들의 경사 방향은 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 향한다. 상기 기판(S)으로 제공된 세정액이 상기 제2 방향으로 웨이브를 형성하므로, 상기 세정액이 상기 기판(S) 상에 정체되지 않고 상기 기판(S)으로부터 빠르게 배출될 수 있다.
본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판에 대해 경사지도록 세정액을 분사한다. 따라서, 상기 기판 상으로 제공된 세정액이 불순물과 함께 상기 기판 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 그러므로, 상기 기판 세정 장치의 세정력을 향상시킬 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 종래 기술에 따른 기판 세정 장치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 세정 장치를 설명하기 위한 측면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 기판 세정 장치를 설명하기 위한 측면도이다.
도 5 및 도 6은 도 3에 도시된 기판 세정 장치의 다른 예들을 설명하기 위한 평면도들이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 기판 세정 장치 110 : 이송 유닛
112 : 샤프트 114 : 롤러
120 : 세정액 공급관 130 : 분사 노즐
S : 기판

Claims (4)

  1. 기판을 수평 방향으로 이송하기 위한 이송 유닛;
    상기 이송 유닛의 상방에 구비되며, 세정액을 제공하는 다수의 세정액 공급관들; 및
    상기 기판에 대해 경사각을 갖도록 상기 세정액 공급관들과 연결되며, 상기 기판을 향해 상기 세정액을 분사하는 다수의 분사 노즐들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 분사 노즐들의 경사각은 45도 내지 75도인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 세정액 공급관들은 상기 기판의 이동 방향과 수직하거나, 평행하거나 또는 경사지도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 세정액 공급관들이 상기 기판의 이동 방향과 수직하도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐들의 경사 방향은 상기 기판의 이동 방향의 반대 방향을 향하며,
    상기 세정액 공급관들이 상기 기판의 이동 방향과 평행하도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐들의 경사 방향은 상기 기판의 이동 방향과 수직한 방향을 향하며,
    상기 세정액 공급관들이 상기 기판의 이동 방향과 경사지도록 배치된 경우, 상기 분사 노즐들의 경사 방향은 상기 기판의 이동 방향에 대해 반대 방향과 상기 수직한 방향의 사이 방향을 향하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
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