[go: up one dir, main page]

KR20070058528A - 중합 억제제로서 술폰화된 페놀과 니트로페놀 - Google Patents

중합 억제제로서 술폰화된 페놀과 니트로페놀 Download PDF

Info

Publication number
KR20070058528A
KR20070058528A KR1020077006908A KR20077006908A KR20070058528A KR 20070058528 A KR20070058528 A KR 20070058528A KR 1020077006908 A KR1020077006908 A KR 1020077006908A KR 20077006908 A KR20077006908 A KR 20077006908A KR 20070058528 A KR20070058528 A KR 20070058528A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
alkyl
hydrogen
independently selected
dinitro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1020077006908A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101181599B1 (ko
Inventor
빌렌 코소버
지저스 알. 파비안
이스트반 립파이
브릿지 베나지
제랄드. 제이. 앱러스카토
Original Assignee
켐트라 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 켐트라 코포레이션 filed Critical 켐트라 코포레이션
Publication of KR20070058528A publication Critical patent/KR20070058528A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101181599B1 publication Critical patent/KR101181599B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/01—Sulfonic acids
    • C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C309/41—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing singly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton
    • C07C309/42—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing singly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton having the sulfo groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
    • C07C7/20—Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37—Thiols
    • C08K5/375—Thiols containing six-membered aromatic rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)

Abstract

본 발명에서 개시하는 것은 에틸렌형 불포화 모노머에 하기 (A) 내지 (D)의 조합물의 유효량을 첨가하는 단계를 포함하는 에틸렌형 불포화 모노머의 미성숙 중합 및 폴리머 성장을 억제하기 위한 방법이다.
(A) 하기 구조의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
Figure 112007023901758-PCT00024
(여기서, (1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고, (2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H임);
(B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제;
(C) 니트록실 화합물 및 니트로소아닐린으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 억제제; 및
(D) 하나 이상의 아민.
술폰화, 페놀, 니트로페놀, 중합 억제제

Description

중합 억제제로서 술폰화된 페놀과 니트로페놀{SULFONATED PHENOLS WITH NITROPHENOLS AS POLYMERIZATION INHIBITION}
본 발명은 에틸렌형 불포화 모노머에 술폰화된 페놀과 니트로페놀을 첨가하는 것으로 에틸렌형 불포화 모노머의 중합을 억제하는 것에 관한 것이다.
많은 에틸렌형 불포화 모노머는 이들의 제조, 가공, 취급, 저장 및 사용의 여러 단계에서 바람직하지 않게 중합을 한다. 이들의 정제 동안 열 중합과 같은 중합은 모노머의 손실, 즉 낮은 수율을 초래하고, 생성될 수 있는 임의의 타르의 점도를 증가시킨다. 보다 높은 점도 타르의 가공 및 처리는 잔류 모노머를 제거하기 위하여 보다 높은 온도 및 작업(에너지 비용)을 요구한다.
중합은 또한 설비 막힘을 초래할 수 있으며, 특히 아크릴 모노머의 제조의 경우에 그렇다. 이런 중합은 폴리머가 사용되어지는 설비에의 피착(depostion)에 기인하여 생산 효율을 떨어뜨릴 수 있다. 모노머의 생산에 추가적인 손실을 야기하는 이들 피착은 때때로 제거되어야 한다.
광범위한 화합물이 에틸렌형 불포화 모노머의 제어되지 않고 요구되지 않는 중합을 억제하기 위해 제안되고 사용되어진다. 그러나, 대부분의 이들 화합물은 완전히 만족스럽지 않다.
미국 특허 제2,867,672호는 탱크중의 스티렌의 메인 바디(main body)의 액체 레벨 이상으로 증기 공간을 포함하는 표면상에서 액체 형태로 응축하는 미억제된 스티렌의 중합이 스티렌 중합 억제제를 갖는 증기 공간을 부착하는 표면을 분무하는 것으로 최소화될 수 있다고 개시하고 있다.
미국 특허 제4,086,147호에는 비닐 방향족 화합물을 m-니트로-p-크레졸을 포함하는 중합 억제제의 존재하 증류 시스템중의 상승 온도에서 처리하는 단계를 포함하는 용이하게 중합가능한 비닐 방향족 화합물의 증류를 위한 공정을 개시하고 있다.
미국 특허 제4,468,343호에서는 비닐 방향족 화합물, 예를 들면 스티렌의 중합을 가열동안 방지하는 화합물 및 이를 이용하는 방법을 개시하고 있다. 상기 조성물은 유효량의 2,6-디니트로-p-크레졸 및 산소 존재하에서 중합 보조-억제제 시스템으로서 작용하는 페닐렌디아민 또는 4-tert-부틸카테콜 각각을 포함한다.
미국 특허 제4,670,131호에서는 올레핀계 화합물을 함유하는 유기 공급 스트림의 처리를 위해 사용된 설비의 막힘을 안정한 프리 라디칼, 예를 들면 니트록사이드 약 20ppb 내지 100ppb의 존재하에서 처리하는 것에 의한 제어를 개시하고 있다.
미국 특허 제5,254,760호에서는 하나 이상의 안정한 니트록실 화합물과 함께 하나 이상의 방향족 니트로 화합물의 존재하에 의해 증류 또는 정제 동안 비닐 방향족 화합물, 예를 들면 스티렌의 중합을 억제하는 것이 개시되어 있다.
미국 특허 제5,290,888호에서는 에틸렌형의 불포화된 모노머 또는 올리고머 를 미성숙 중합으로부터 안정화시키기 위한 방법이 개시되어 있고, 여기서 안정화량의 N-히드록시 치환된 힌더링된 아민이 상기 중합가능한 모노머 또는 올리고머에 첨가된다. 상기 에틸렌형 불포화 모노머 또는 올리고머는 하나 이상의 중합가능한 모이어티를 갖는 비닐 모노머 또는 올리고머를 포함한다. 상기 N-히드록시 치환된 힌더링된 아민은 액체 및/또는 증기상으로 미성숙 중합을 억제한다고 말하고 있다.
미국 특허 제5,446,220호에서는 산소-없는 처리 시스템중에서 비닐 방향족 모노머의 중합을 억제하기 위한 방법이 개시되어 있다. 이들 방법은 디니트로페놀 화합물, 히드록실아민 화합물 및 페닐렌디아민 화합물의 조합물을 모노머 100부당 1 내지 약 10,000부 첨가하는 단계를 포함한다. 바람직하게, 2-sec-부틸-4,6-디니트로페놀 또는 4,6-디니트로-o-크레졸은 비스-(히드록시프로필)히드록실아민 및 N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민과 조합해서 사용될 수 있다.
미국 특허 제5,545,786호에서는 일부 산소와 조합된 니트록실 억제제가 비닐 방향족 모노머의 제조 공정 동안 비닐 방향족 모노머의 미성숙 중합을 감소시킨다고 개시하고 있다. 니트록실 억제제와 조합되어 사용되는 소량의 공기 조차도 상기 모노머에 대한 크게 지연된 억제 시간을 초래한다.
미국 특허 제5,932,735호에서는 1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘의 선택된 유도체가 물 존재하에서 아크릴산 및 메타크릴산, 이들의 에스테르, 이들의 아미드, 비닐 아세테이트 및 아크릴로니트릴의 미성숙 중합을 방지하는 억제제로서 유효하다고 개시하고 있다.
미국 특허 제6,143,205호에서는 (A) 비닐-함유 모노머, 및 (B) (i) 전체 혼 합물(B)에 기초한 0.05 내지 4.5중량%의 이차 아민의 하나 이상의 N-옥실 화합물(이것은 알파-탄소 원자상에 수소 원자를 갖지 않는다) 및 (ii) 전체 혼합물(B)에 기초한 하나 이상의 니트로 화합물 99.95 내지 95.5중량%의 하나 이상의 니트로 화합물의 혼합물을 유효량 포함하는 모노머의 미성숙 중합을 억제하기 위한 혼합물을 개시하고 있다.
러시아 특허 제1,027,150호; 제1,139,722호; 및 제1,558,888호에서는 정상 작동 조건(실제 억제제) 동안 폴리머 형성이 감소되지만 비상의 공급 중단 상황에서 시스템을 보호하지 않는, 즉 지연 효과가 없는 것을 개시하고 있다.
상기 문헌은 이들 전체를 참조로서 본 명세서에 포함시킨다.
본 발명에 따라서, 술폰화된 페놀을 포함하는 억제 시스템은 니트로페놀, 예를 들면 2,4-디니트로-o-sec-부틸페놀(DNBP)와 함께 사용되는 경우 에틸렌형 불포화 화합물, 특히 비닐 방향족 화합물의 중합을 방지하기 위한 우수한 억제제 및 지연제임이 밝혀졌다. 선택적으로, 이 억제제 시스템은 니트록실 라디칼 타입 화합물 또는 니트로소아닐린 및 아민과 조합해서 사용될 수 있다.
술폰화된 페놀이 DNBP 제조 공정 중에서 제조될 수 있다는 것은 본 발명의 이점이다. DNBP는 요구된 억제제 블렌드물의 바람직한 제 2 성분이기 때문에, 양 성분들은 동일한 공정으로 제조될 수 있다. 따라서, 제조는 동일 방법으로 동일 위치에서 양 성분을 제조하는 것으로 간단해질 수 있다. 이것은 물질이 자본 투자 없이 낮은 비용으로 이미 존재하는 공정으로 제조될 수 있다는 경제적 이점을 제공한다. 소비자 입장에서, 경제적 이점은 요구된 억제제 블렌드물의 낮은 제조 비용(낮은 가격) 및 우수한 성능에 기인하여 실현된다. 후자는 낮은 억제제 사용 및 낮은 폴리머 생산을 초래한다.
따라서, 본 발명의 목적은 굉장한 실제 억제제(superb true inhibitor) 및 지연제 능력을 갖는 고도로 효과적이면서 비싸지 않은 중합 억제제를 개발하는 것이다.
이 목적 및 다른 목적은 본 발명에 의해 얻어지고, 이것은 에틸렌형 불포화 모노머에 하기 (A)와 (B)의 조합물의 유효량을 첨가하는 단계를 포함하는 에틸렌형 불포화 모노머의 미성숙 중합 및 폴리머 성장을 억제하기 위한 방법에 관한 것이다:
(A) 하기 구조의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
Figure 112007023901758-PCT00001
여기서,
(1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고,
(2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H이고; 및
(B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제.
바람직한 구현예에서, 본 발명은 에틸렌형 불포화 모노머에 하기 (A) 내지 (D)의 조합물의 유효량을 첨가하는 단계를 포함하는 에틸렌형 불포화 모노머의 미성숙 중합 및 폴리머 성장을 억제하기 위한 방법에 관한 것이다:
(A) 하기 식의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
화학식 1
Figure 112007023901758-PCT00002
(여기서,
(1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고,
(2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H임);
(B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제;
(C) 니트록실 화합물 및 니트로소아닐린으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 억제제; 및
(D) 하나 이상의 아민.
또 다른 구현예에서, 본 발명은 하기 (A) 내지(D)의 조합물을 포함하는 조성물에 관한 것이다:
(A) 하기 식의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
화학식 1
Figure 112007023901758-PCT00003
(여기서,
(1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고,
(2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H임);
(B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제;
(C) 니트록실 화합물 및 니트로소아닐린으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 억제제; 및
(D) 하나 이상의 아민.
상기 언급된 바와 같이, 본 발명은 하기 (A) 내지 (B)의 조합물을 포함하는 억제 시스템에 관한 것이다:
(A) 하기 식의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
화학식 1
Figure 112007023901758-PCT00004
여기서,
(1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고,
(2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H이고; 및
(B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제.
바람직한 실시예에서, 억제 시스템은 하나 이상의 아민 및 니트록실 화합물과 니트로소아닐린으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 추가 억제제를 더 포함한다.
R2가 히드로카빌인 경우, 이것은 바람직하게 1 내지 50개의 탄소 원자를 갖는, 보다 바람직하게는 1 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알케닐이며, 이것으로 한정되는 것은 아니지만, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜 틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 올레일, 노나데실, 에이코실, 헤네이코실, 도코실, 트리코실, 테트라코실, 펜타코실, 트리아콘틸, 상기의 이성체(예를 들면, 이소프로필, 이차-부틸, 네오펜틸, 등등) 및 등등; 또는 시클릭 알킬기, 예를 들면, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 및 시클로도데실을 포함한다.
본 발명의 실시에 사용될 수 있는 니트로페놀은 이것으로 제한되는 것은 아니지만, 2,6-디니트로-4-메틸페놀, 2-니트로-4-메틸페놀, 2,4-디니트로-1-나프톨, 2,4,6-트리니트로페놀(피크르산), 2,4-디니트로-6-메틸페놀, 2,4-디니트로페놀, 2,4-디니트로-6-sec-부틸페놀, 4-시아노-2-니트로페놀, 3-아이오도-4-시아노-5-니트로페놀, m-니트로-p-크레졸, 2,6-디니트로-p-크레졸, 및 등등을 포함한다. 2,4-디니트로-6-sec-부틸페놀이 바람직하다.
본 발명의 억제 시스템이 니트록실 화합물인 추가 억제제를 포함하는 경우, 상기 니트록실 화합물은 다음 구조를 갖는 안정한 힌더링된 니트록실 화합물이 바람직하다:
Figure 112007023901758-PCT00005
여기서, R4 및 R7은 수소, 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, R5 및 R6는 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고; X1 및 X2은 (1)할로겐, 시아노, COOR7, -S-COR7, -OCOR7(여기서, R7은 알킬 또는 아릴임), 아미도, -S-C6H5, 카르보닐, 알케닐, 또는 1 내지 15개의 탄소 원자를 갖는 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, 또는 (2) 함께 질소원자와 고리를 형성한다.
특히 바람직한 구현예에서, 안정한 힌더링된 니트록실 화합물은 다음 구조식을 갖는다:
Figure 112007023901758-PCT00006
여기서, R4 및 R7은 수소, 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, R5 및 R6는 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, 하기
Figure 112007023901758-PCT00007
부분은 5-, 6- 또는 7-원 헤테로시클릭 고리를 형성하는데 필요한 원자를 나 타낸다.
따라서, 본 발명의 실시에 사용될 수 있는 시클릭 니트록사이드의 7가지 분류의 하나는 다음과 같은 구조식으로 나타낼 수 있다:
Figure 112007023901758-PCT00008
여기서, Z1, Z2, 및 Z3는 산소, 황, 이차 아민, 삼차 아민, 다양한 산화상태의 인 및 치환된 또는 비치환된 탄소 원자, 예를 들면, ＞CH2, ＞CHCH3, ＞C=0, ＞C(CH3)2, ＞CHBr, ＞CHCl, ＞CHI, ＞CHF, ＞CHOH, ＞CHCN, ＞C(OH)CN, ＞CHCOOH, ＞CHCOOCH3, CHCOOC2H5, ＞C(OH)COOC2H5, ＞C(OH)COOCH3, ＞C(OH)CHOHC2H5, ＞CR8OR9, ＞CHNR8R9, ＞CCONR8R9, ＞C=NOH, ＞C=CH-C6H5, ＞CF2, ＞CCl2, ＞CBr2, ＞CI2, ＞CR8PR13R14R15, 등등으로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, 여기서, R8 및 R9는 수소, 알킬, 아릴 및 아실로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, R13, R14, 및 R15는 비공유된 전자, 알킬, 아릴, =O, OR16, 및 NR17R18로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, 여기서 R16, R17 및 R18은 수소, 알킬 및 아릴로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된다. R8 및/또는 R9가 알킬인 경우, 이들은 저급 알킬(즉, 1 내지 5개의 탄소 원자를 갖는 것, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸 및 이들의 이성체)인 것이 바람직하다.
R8 및/또는 R9가 아릴인 경우, 이들은 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 아릴, 예를 들면, 페닐 또는 나프틸인 것이 바람직하고, 이들은 추가적으로 비-간섭 치환체, 예를 들면, 저급 알킬기, 할로겐 및 등등으로 치환될 수 있다.
R8 및/또는 R9가 아실인 경우, 이들은 다음 구조의 아실인 것이 바람직하고,
Figure 112007023901758-PCT00009
여기서, R19는 알킬, 아릴, OR20 또는 NR20R21이고, R20 및 R21은 알킬 아릴 또는 다음 구조이고,
Figure 112007023901758-PCT00010
여기서, R22는 알킬 또는 아릴이다. R19, R20, R21 또는 R22가 알킬인 경우, 이들은 상기 설명된 바와 같이 1 내지 15개의 탄소 원자를 갖는 알킬이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 5개의 탄소 원자를 갖는 저급 알킬이다. R19, R20, R21 또는 R22가 아릴인 경우, 이들은 상기 설명된 바와 같이 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 아릴이 바람직하다.
본 발명의 실시에 사용될 수 있는 7가지 부류의 시클릭 니트록사이드의 또 다른 것은 다음 구조식으로 나타낼 수 있다.
Figure 112007023901758-PCT00011
여기서, Z1 및 Z2는 동일하거나 다를 수 있으며, 질소 또는 치환된 또는 비치환된 탄소 원자, 예를 들면, =C(H)-, =C(CH3)-, =C(COOH)-, =C(COOCH3)-, =C(COOC2H5)-, =C(OH)-, =C(CN)-, =C(NR8R9)-, =C(CONR8R9)-, 및 등등이고, 여기서 Z3, R8 및 R9는 상기에서 설명된 바와 같다.
본 발명의 실시에 사용된 시클릭 니트록사이드는 또한 5원 고리로부터 유도될 수 있다. 이들 화합물은 다음 구조를 갖는다:
Figure 112007023901758-PCT00012
여기서, Z2 및 Z3는 동일하거나 다를 수 있으며, 황, 산소, 이차 아민, 삼차 아민, 다양한 산화 상태의 인 또는 치환된 또는 비치환된 탄소 원자, 예를 들면, ＞CH2, ＞CHCH3, ＞C=0, ＞C(CH3)2, ＞CHBr, ＞CHCl, ＞CHI, ＞CHF, ＞CHOH, ＞CHCN, ＞C(OH)CN, ＞CHCOOH, ＞CHCOOCH3, ＞CHCOOC2H5, ＞C(OH)COOC2H5, ＞C(OH)COOCH3, ＞C(OH)CHOHC2H5, ＞CR8OR9, ＞CHNR8R9, ＞CCONR8R9, ＞C=NOH, ＞C=CH-C6H5, CF2, CCl2, CBr2, CI2, ＞CR8PR13R14R15, 및 등등이고, 여기서 여러 가지 R기는 상기에서 설명된 바와 같다.
본 발명의 실시에 사용된 시클릭 니트록사이드는 또한 다음 구조를 갖는다:
Figure 112007023901758-PCT00013
여기서, Z4 및 Z5는 동일하거나 다를 수 있으며, 질소 또는 치환된 또는 비치환된 탄소 원자일 수 있고, 예를 들면, =C(H)-, =C(CH3)-, =C(COOH)-, =C(COOCH3)-, =C(COOC2H5)-, =C(OH)-, =C(CN)-, =C(NR8R9)-, =C(CONR8R9)-, 및 등등이고, 여기서, R8 및 R9는 상기 설명된 바와 같다.
본 발명의 실시에 사용될 수 있는 또 다른 부류의 시클릭 니트록사이드는 다음 구조를 갖는다:
Figure 112007023901758-PCT00014
여기서, Z2 및 Z3는 동일하거나 다를 수 있으며, 황, 산소, 이차 아민, 삼차 아민 또는 치환된 또는 비치환된 탄소 원자, 예를 들면, ＞CH2, ＞CHCH3, ＞C=0, ＞C(CH3)2, ＞CHBr, ＞CHCl, ＞CHI, ＞CHF, ＞CHOH, ＞CHCN, ＞C(OH)CN, ＞CHCOOH, ＞CHCOOCH3, ＞CHCOOC2H5, ＞C(OH)COOC2H5, ＞C(OH)COOCH3, ＞C(OH)CHOHC2H5, ＞CHNR8R9, ＞CCONR8R9, ＞CR8OR9, ＞C=NOH, ＞C=CH-C6H5, CF2, CCl2, CBr2, CI2, ＞CR8PR13R14R15, 및 등등이고, 여기서 여러 가지 R기는 상기에서 설명된 바와 같다.
또한, 2개 이상의 니트록실기가 동일한 분자 내에 존재될 수 있고, 예를 들면, 미국 특허 제5,254,760호에 개시된 바와 같이, 연결기 E에 의해 하나 이상의 Z-타입 모이어티를 통해 연결되는 것으로 분자 내에 존재될 수 있다. 이 문헌은 참조로써 본 명세서에 포함된다.
상기 언급된 바와 같이, 상기 니트록실 구조 모두에 대해서, R4 및 R7은 수소, 알킬, 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, R5 및 R6는 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된다. 상기 알킬(또는 헤테로원자-치환된 알킬)기 R4 내지 R7은 동일하거나 다를 수 있으며, 바람직하게 1 내지 15개의 탄소 원자를 포함하며, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 및 등등 및 이들의 이성체, 예를 들면, t-부틸, 2-에틸헥실 및 등등이 있다. 보다 바람직하게는 R4 내지 R7이 1 내지 5개의 탄소 원자의 저급 알킬(예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸 및 이들의 이성체)(또는 헤테로원자 치환된 저급 알킬)중에서 독립적으로 선택된다. 헤테로원자 치환체가 존재하는 경우, 이들은 예를 들면, 할로겐, 산소, 황, 질소 및 등등을 포함할 수 있다. 가장 바람직한 것은 R4 내지 R7 모두가 메틸인 것이다.
본 발명의 실시에서 수소 공여체 또는 전자 수용체와 조합해서 사용될 수 있는 적합한 니트록사이드 프리 라디칼 화합물의 실예는 이것으로 제한되는 것은 아니지만, 다음을 포함한다:
N,N-디-tert-부틸니트록사이드;
N,N-디-tert-아밀니트록사이드;
N-tert-부틸-2-메틸-1-페닐-프로필니트록사이드;
N-tert-부틸-1-디에틸포스포노-2,2-디메틸프로필니트록사이드;
2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-옥소-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-디메틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-에타노일옥시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-아미노-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
2,2,4,4-테트라메틸-1-옥사-3-아자시클로펜틸-3-옥시;
2,2,4,4-테트라메틸-1-옥사-3-피롤리닐-1-옥시-3-카르복실산;
2,2,3,3,5,5,6,6-옥타메틸-1,4-디아자시클로헥실-1,4-디옥시;
4-브로모-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-클로로-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-아이오도-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-플루오로-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-시아노-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-카르복시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-카르보메톡시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-카베톡시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-시아노-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-메틸-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-카베톡시-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-히드록시-4-(1-히드록시프로필)-2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐옥시;
4-메틸-2,2,6,6-테트라메틸-1,2,5,6-테트라히드로피리딘-1-옥실;
4-카르복시-2,2,6,6-테트라메틸-1,2,5,6-테트라히드로피리딘-1-옥실;
4-카르보메톡시-2,2,6,6-테트라메틸-1,2,5,6-테트라히드로피리딘-1-옥실;
4-카베톡시-2,2,6,6-테트라메틸-1,2,5,6-테트라히드로피리딘-1-옥실;
4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸-1,2,5,6-테트라히드로피리딘-1-옥실;
4-아미도-2,2,6,6-테트라메틸-1,2,5,6-테트라히드로피리딘-1-옥실;
3,4-디케토-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-케토-4-옥시미노-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-케토-4-벤질리딘-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-케토-4,4-디브로모-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
2,2,3,3,5,5-헥사메틸피롤리디닐옥시;
3-카르복시미도-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-옥시미노-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-히드록시-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-시아노-3-히드록시-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-카르보메톡시-3-히드록시-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
3-카베톡시-3-히드록시-2,2,5,5-테트라메틸피롤리디닐옥시;
2,2,5,5-테트라메틸-3-카르복사미도-2,5-디히드로피롤-1-옥실;
2,2,5,5-테트라메틸-3-아미노-2,5-디히드로피롤-1-옥실;
2,2,5,5-테트라메틸-3-카베톡시-2,5-디히드로피롤-1-옥실;
2,2,5,5-테트라메틸-3-시아노-2,5-디히드로피롤-1-옥실;
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트;
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아디페이트;
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)n-부틸말로네이트;
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)프탈레이트;
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이소프탈레이트;
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)테레프탈레이트;
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사히드로테레프탈레이트;
N,N'-비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아디파미드;
N-(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-카프로락탐;
N-(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-도데실숙신이미드;
2,4,6-트리스-[N-부틸-N-(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)]-s-트리아진;
4,4'-에틸렌비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페라진-3-온); 및 등등.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 색어 TEMPO는 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시를 의미한다. 따라서, 4-아미노-TEMPO는 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시이고; 4-히드록시-TEMPO는 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시이고(이것은 이 분야에서 HTEMPO로 알려짐); 4-옥소-TEMPO는 4-옥소-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시이다.
본 발명의 실시에 사용된 조합물의 하나의 멤버는 4-아미노-TEMPO, 4-옥소-TEMPO, 4-히드록시-TEMPO, 또는 TEMPO인 것이 바람직하다.
상기 것들의 2 이상의 블렌드물, 예를 들면, 4-아미노-TEMPO 및 4-옥소-TEMPO가 또한 사용될 수 있다.
이런 안정한 니트록사이드 프리 라디칼 화합물은 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다(예를 들면, 미국 특허 제3,163,677호; 제3,334,103호; 제3,372,182호; 제3,422,144호; 제3,494,930호; 제3,502,692호; 제3,873,564호; 제3,966,711호; 및 제4,665,185호를 참조, 이것은 참조로서 본 명세서에 포함됨). 이들은 광범위한 온도에서의 사용에 적합하지만, 본 발명의 공정에 의해 안정화된 에틸렌형 불포화 모노머로 사용된 증류 온도가 전형적으로 약 60℃ 내지 약 180℃의 범위이고, 바람직하게는 약 70℃ 내지 약 165℃이고, 보다 바람직하게는 약 80℃ 내지 약 150℃이다. 이런 증류는 일반적으로 약 10 내지 약 1,200mmHg의 범위의 절대 압력하에서 수행된다.
본 발명의 억제 시스템이 니트로소아닐린인 추가 억제제를 포함하는 경우, 이것은 N-니트로소아닐린 또는 C-니트로소아닐린일 수 있다. 바람직하게, 니트로소아닐린 화합물은 C-니트로소아닐린이다.
C-니트로소아닐린 화합물은 방향족 아민의 C-니트로소화(C-nitrosation)을 위해 사용되는 임의의 전형적인 방법으로 대응하는 아닐린의 C-니트로소화에 의해 제조될 수 있다. 예를 들면, 아민과 찬 아질산(nitrous acid)의 반응은 과량 염산의 영향하에서 파라-니트로소아닐린으로 재배열하는 N-니트로소 화합물을 만든다. 일부의 경우에서, 무수 조건하에서 과량의 염화수소의 존재하에서 메탄올 용액중에서 반응을 수행하는 것으로 한단계로 니트로소화 및 재배열을 효과적으로 하는 것이 더 편리하다. 이 절차는 미국 특허 제2,046,356호에 개시되어 있다.
이 분야의 기술자는 니트로소아닐린 유도체가 퀴논 이민 옥심 유도체, 즉 하기와 같이 호변이화하는 것을 이해할 것이다.
Figure 112007023901758-PCT00015
예를 들면, 문헌 [Sidgwich, N.V., The Organic Chemistry of Nitrogen, Third Edition, Clarendon Press, Oxford, 1996] 참조. 따라서, 양쪽 형태 모두가 존재될 수 있으며, 특히 상승 온도에서 용액중에 존재될 수 있고, 이들 화합물의 억제 활성에 기여한다고 기대될 수 있다.
본 발명의 억제 시스템이 C-니트로소아닐린을 포함하는 경우, 이것은 다음 구조를 갖는 것이 바람직하다:
Figure 112007023901758-PCT00016
여기서, R21 및 R22는 수소, 알킬, 아릴, 아실, 히드록실, 알콕시, 니트로소, 및 설포닐로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, R21 및 R22는 아릴, 시클로알킬, 폴리아릴 또는 헤테로시클릭인 시클릭 고리를 형성할 수 있고;
R23 내지 R27은 수소, 알킬, 아릴, 아실, 히드록실, 알콕시, 아실옥시, NR38(R39), 니트로, 니트로소, 할로겐 및 설포닐로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, 임의의 두개의 근접 R기는 아릴, 시클로알킬, 폴리아릴 또는 헤테로시클릭의 시클릭 고리를 형성할 수 있고, 단 R23 내지 R27의 하나 이상은 니트로소기이어야 하고,
R28 및 R29는 수소, 알킬, 아릴, 아실 및 니트로소로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된다. 바람직하게, R28은 수소이고, R29는 알킬이다.
본 발명의 억제 시스템은 아민인 추가 억제제를 포함하고, 상기 아민은 일차, 이차 또는 삼차 아민일 수 있고, 알킬기, 아릴기, 또는 이들의 조합물을 포함할 수 있다. 이런 아민은 이것으로 제한되는 것은 아니지만, 알파-나프틸아민, 티 오디아릴아민, p-페닐렌디아민, o-페닐렌디아민, 2,4-디아미노 디페닐아민, 시클로헥실 나프틸 아민, 폴리부틸 아민, 메틸 아닐린, 디페닐-p-페닐렌 디아민, 페닐-베타-나프틸아민, 이소프로폭시디페닐아민, 알돌-알파-나프틸 아민, 대칭 디-베타-나프틸-p-페닐렌디아민, 트리메틸 디히드로퀴놀린, 디톨릴아민, 페닐-알파-나프틸아민, 페닐-베타-나프틸아민, 디아미노페놀, 4-시클로헥실아미노페놀, p-아미노페놀, o-아미노페놀, 5-아미노-2-히드록시톨루엔, 및 등등이 있다.
본 발명의 미성숙 중합 및 폴리머 성장의 대상이 되는 에틸렌형 불포화 모노머는 이것의 제조, 저장 및/또는 분배시 의도되지 않은 중합 및/또는 폴리머 성장이 문제가 되는 모노머일 수 있다. 본 발명의 실시로부터 이로울 수 있는 모노머중에는 스티렌, 알파-메틸스티렌, 스티렌 술폰산, 비닐톨루엔, 디비닐벤젠, 폴리비닐벤젠, 알킬화-스티렌, 2-비닐피리딘, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 부타디엔, 클로로프렌, 이소프렌 및 등등이 있다.
상기 에틸렌형 불포화 모노머는 특히 모노머가 증류시와 같이 가열되는 경우, 억제제의 존재에 의해 막연하게 안정화될 필요는 없지만, 이들은 가능한 A) 이들이 정적(static) 시스템 중에서 중합 및/또는 폴리머 성장의 개시 전에 가열될 수 있는 시간 중에 측정가능한 증가가 있다면, B) 일정 온도에서 만들어진 폴리머의 양이 동적(dynamic) 시스템 중에서 시간의 경과에 따라 일정하게 남아 있는 경우, 및/또는 C) 폴리머 성장률이 성장 억제 시스템이 존재하지 않는 경우보다 현저하게 느린 경우 안정화된다고 여겨질 수 있다.
이 분야의 기술자들은, 요구되는 경우, 프리 라디칼 스캐빈져(scavengers)가 본 발명의 실시에 포함될 수 있음을 이해할 수 있다. 예를 들면, 미국 특허 제5,545,782호 및 제5,545,786호에서 공개된 바와 같이 공기 또는 O2가 첨가될 수 있고, 이것은 미국 특허 제5,254,760호에 개시된 방향족 니트로 화합물, 하나 이상의 전달성 수소를 갖는 디헤테로-치환된 벤젠 화합물, 예를 들면, 유럽 특허 출원 제0 765 856 A1호에서 개시된 히드로퀴논의 모노-메틸-에테르와 같은 퀴논 유도체, WO 98/25872에 개시된 철 화합물, 및 이 분야의 기술자에게 잘 알려진 기타 억제제, 예를 들면 페놀성 및 특정 무기성 염일 수 있다.
중합 억제제는 임의의 통상적인 방법에 의해 보호되어지는 모노머로 도입될 수 있다. 이들은 예를 들면 임의의 적합한 수단에 의해 요구된 적용 시점으로부터 단지 상류(upstream)로 적합한 용매 중의 농축된 용액으로써 첨가될 수 있다. 게다가, 개개의 억제 성분은 유입되는 공급물과 함께 및/또는 억제 조성물이 효율적으로 분배된다면 별개 및 다중 진입지점을 통해 증류 트레인으로 별도로 주입될 수 있다. 억제제가 증류 작동 동안 점차적으로 고갈되기 때문에, 증류 장치에 이들의 적정한 양이 이들을 증류 공정 동안 첨가하는 것으로 유지되게 하는 것이 일반적으로 바람직하다. 억제제는 최소 요구 수준 이상으로 억제제 농도가 유지되도록 일반적으로 연속적으로 또는 간헐적으로 추가될 수 있다.
전체 억제제 농도는 사용되는 조건에 따라서 억제되어지는 모노머와 대비하여 약 1 내지 약 2000 ppm이어야 하고; 바람직하게는 약 5 내지 약 1000ppm이다.
제 1 성분(A) 대 제 2 성분(B)의 비율은 양 성분의 전체에 기초하여 약 1 내지 100중량% A : 약 99 내지 0중량% B; 바람직하게는 약 25 내지 75중량% A : 약 75 내지 25중량% B; 보다 바람직하게는 약 50 내지 75중량% A : 약 50 내지 25중량% B이다.
본 발명의 이점과 중요한 특징은 다음의 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다.
실시예
실시예 1
농축된 H2SO4(280g, 2.8몰)을 기계적 교반기, 온도계, 가열 맨틀, 컨덴서 및 플라스틱 튜브가 장착된 1 리터 플라스크에 넣었다. 상기 산을 40℃로 예비가열하고, 300g의 o-sec-부틸페놀(OSBP)(2몰)을 시스템을 82℃로 가열하기에 충분히 빠르게 플라스틱 튜브를 통과해 적재하였다. 초기 40℃의 온도가 40분 후에 82℃로 도달했다. 그 후, 반응 혼합물을 82℃에서 그 온도로 유지시키기 위해 가열하였다. 첨가가 1시간 및 45분 . 생성물인 술폰화된 OSBP(SOSBP)를 DNBP의 존재하에서 억제제 성능 테스트를 위해 사용하였다.
실시예 2
이 물질의 스티렌 억제제 및 지연제 특성을 UV 스펙트로포토메트리로 폴리머 형성을 모니터링하는 연속 다이나믹 리보일러 테스트(Continuous Dynamic Reboiler Test)로 테스트하였다. 이 테스트에 따라서, 억제제를 tert-부틸카테콜(TBC)가 미리 증류에 의해 제거된 스티렌 모노머로 첨가하였다. 이 스티렌(180g)을 오일조중에 담지시킨 플라스크로 적재하였다. 스티렌 온도는 일반적으로 116℃였다. 테스트 동안, 신선한 공급물을 3g/분의 속도로 플라스크로 충전시키면서 동시에 플라스크로부터 물질을 동일한 속도로 방출하였다. 상기 안정 단계가 평형이 될 때까지 계속되었다. 공급 중단 단계 동안, 충전과 방출은 불연속이였다. 샘플을 안정 단계에서는 매시간 취하고, 공급 중단에서는 매 5 내지 10분에 취하였다.
안정 단계 5시간 후, 50ppm/100ppm SOSBP/DNBP 농도에서, 0.0007% 폴리머가 측정되었고, 1.5시간 공급 중단 후 0.024% 폴리머가 얻어졌다.
실시예 3
250ppm/285ppm/250ppm의 농도에서 SOSBP/NMP/DNBP의 연속 다이나믹 리보일러 테스트는 안정 단계에서 0.0039% 폴리머를 얻었고, 공급 중단 2시간 후에는 0.25% 폴리머를 얻었다. NMP(1-메틸-2-피롤리디논)을 산성의 SOSBP를 중성화하기 위하여 첨가하였다.
실시예 4
250ppm/250ppm의 농도에서 SOSBP/DNBP의 연속 다이나믹 리보일러 테스트는 5시간 안정 단계에서 0.0004% 폴리머를 얻었고, 공급 중단 2시간 후에는 0.025% 폴 리머를 얻었다.
실시예 5
100ppm/250ppm/170ppm/250ppm의 농도에서 N,N-디에틸-4-니트로소아닐린/SOSBP/NMP/DNBP의 연속 다이나믹 리보일러 테스트는 5시간 안정 단계에서 0.0038% 폴리머를 얻었고, 공급 중단 2시간 후에서 0.315% 폴리머를 얻었다.
실시예 6
100ppm/250ppm/187ppm/250ppm의 농도에서 4-옥소-TEMPO/SOSBP/NMP/DNBP의 연속 다이나믹 리보일러 테스트는 5시간 안정 단계에서 0.0004% 폴리머를 얻었고, 공급 중단 2시간 후 0.016% 폴리머를 얻었다.
실시예 7
500ppm 농도로 DNBP 단독의 연속 다이나믹 리보일러 테스트는 안정 단계에서 0.11% 폴리머가 얻어졌고, 공급 중단 2시간 후 1.18%의 폴리머가 얻어졌다.
본 발명에 내재된 원리로부터 이탈됨 없이 만들어질 수 있는 많은 변화와 변형이라는 측면에서, 본 발명에 제공되는 보호의 범위를 이해하기 위하여 첨부된 청구항이 참조되어야 한다.

Claims (20)

  1. 에틸렌형 불포화 모노머에 하기 (A) 내지 (B)의 조합물의 유효량을 첨가하는 단계를 포함하는 에틸렌형 불포화 모노머의 미성숙 중합 및 폴리머 성장을 억제하기 위한 방법:
    (A) 하기 식의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
    화학식 1
    Figure 112007023901758-PCT00017
    여기서,
    (1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고,
    (2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H이고; 및
    (B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제.
  2. 제 1항에 있어서, R2는 1 내지 50개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐인 방법.
  3. 제 2항에 있어서, R2는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸 헥실, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 올레일, 노나데실, 에이코실, 헤네이코실, 도코실, 트리코실, 테트라코실, 펜타코실, 트리아콘틸, 이들의 이성체, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 및 시클로도데실로 이루어진 군에서 선택되는 것인 방법.
  4. 제 3항에 있어서, R2가 sec-부틸인 방법.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 니트로페놀은 2,6-디니트로-4-메틸페놀, 2-니트로-4-메틸페놀, 2,4-디니트로-1-나프톨, 2,4,6-트리니트로페놀(피크르산), 2,4-디니트로-6-메틸페놀, 2,4-디니트로페놀, 2,4-디니트로-6-sec-부틸페놀, 4-시아노-2-니트로페놀, 3-아이오도-4-시아노-5-니트로페놀, m-니트로-p-크레졸, 및 2,6-디니트로-p- 크레졸로 이루어진 군에서 선택되는 것인 방법.
  6. 에틸렌형 불포화 모노머에 하기 (A) 내지 (D)의 조합물의 유효량을 첨가하는 단계를 포함하는 에틸렌형 불포화 모노머의 미성숙 중합 및 폴리머 성장을 억제하기 위한 방법:
    (A) 하기 식의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
    화학식 1
    Figure 112007023901758-PCT00018
    (여기서,
    (1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고,
    (2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H임);
    (B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제;
    (C) 니트록실 화합물 및 니트로소아닐린으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 억제제; 및
    (D) 하나 이상의 아민.
  7. 제 6항에 있어서, R2는 1 내지 50개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐인 방법.
  8. 제 7항에 있어서, R2는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸 헥실, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 올레일, 노나데실, 에이코실, 헤네이코실, 도코실, 트리코실, 테트라코실, 펜타코실, 트리아콘틸, 이들의 이성체, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 및 시클로도데실로 이루어진 군에서 선택되는 것인 방법.
  9. 제 8항에 있어서, R2가 sec-부틸인 방법.
  10. 제 6항에 있어서, 상기 니트로페놀은 2,6-디니트로-4-메틸페놀, 2-니트로-4- 메틸페놀, 2,4-디니트로-1-나프톨, 2,4,6-트리니트로페놀(피크르산), 2,4-디니트로-6-메틸페놀, 2,4-디니트로페놀, 2,4-디니트로-6-sec-부틸페놀, 4-시아노-2-니트로페놀, 3-아이오도-4-시아노-5-니트로페놀, m-니트로-p-크레졸, 및 2,6-디니트로-p-크레졸로 이루어진 군에서 선택되는 것인 방법.
  11. 제 6항에 있어서, (C)는 다음 구조를 갖는 안정한 힌더링된 니트록실 화합물인 방법:
    화학식 2
    Figure 112007023901758-PCT00019
    여기서, R4 및 R7은 수소, 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, R5 및 R6는 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고; X1 및 X2은 (1)할로겐, 시아노, COOR7, -S-COR7, -OCOR7(여기서, R7은 알킬 또는 아릴임), 아미도, -S-C6H5, 카르보닐, 알케닐, 또는 1 내지 15개의 탄소 원자를 갖는 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, 또는 (2) 함께 질소원자와 고리를 형성한다.
  12. 제 6항에 있어서, (C)는 하기 구조의 니트로소아닐린인 방법:
    화학식 9
    Figure 112007023901758-PCT00020
    여기서, R21 및 R22는 수소, 알킬, 아릴, 아실, 히드록실, 알콕시, 니트로소, 및 설포닐로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, R21 및 R22는 아릴, 시클로알킬, 폴리아릴 또는 헤테로시클릭인 시클릭 고리를 형성할 수 있고;
    R23 내지 R27은 수소, 알킬, 아릴, 아실, 히드록실, 알콕시, 아실옥시, NR38(R39), 니트로, 니트로소, 할로겐 및 설포닐로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, 임의의 두개의 근접 R기는 아릴, 시클로알킬, 폴리아릴 또는 헤테로시클릭의 시클릭 고리를 형성할 수 있고, 단 R23 내지 R27의 하나 이상은 니트로소기이어야 하고,
    R28 및 R29는 수소, 알킬, 아릴, 아실 및 니트로소로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된다.
  13. 제 6항에 있어서, (D)는 알파-나프틸아민, 티오디아릴아민, p-페닐렌디아민, o-페닐렌디아민, 2,4-디아미노 디페닐렌아민, 시클로헥실 나프틸 아민, 폴리부틸 아민, 메틸 아닐린, 디페닐-p-페닐렌 디아민, 페닐-베타-나프틸아민, 이소프로폭시디페닐아민, 알돌-알파-나프틸 아민, 대칭 디-베타-p-페닐렌디아민, 트리메틸 디히드로퀴놀린, 디톨릴아민, 페닐-알파-나프틸아민, 페닐-베타-나프틸아민, 디아미노페놀, 4-시클로헥실아미노페놀, p-아미노페놀, o-아미노페놀, 및 5-아미노-2-히드록시톨루엔으로 이루어진 군에서 선택되는 방법.
  14. 하기 (A) 내지 (D)의 조합물을 포함하는 조성물:
    (A) 하기 식의 술폰화된 페놀인 하나 이상의 억제제:
    화학식 1
    Figure 112007023901758-PCT00021
    (여기서,
    (1) R2는 수소 및 히드로카빌로 이루어진 군에서 선택되고,
    (2) R1 및 R3는 수소 및 SO3H로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되며, 단, R1 및 R3의 하나 이상은 SO3H임);
    (B) 니트로페놀인 하나 이상의 억제제;
    (C) 니트록실 화합물 및 니트로소아닐린으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 억제제; 및
    (D) 하나 이상의 아민.
  15. 제 14항에 있어서, R2는 1 내지 50개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐인 조성물.
  16. 제 15항에 있어서, R2는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸 헥실, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 올레일, 노나데실, 에이코실, 헤네이코실, 도코실, 트리코실, 테트라코실, 펜타코실, 트리아콘틸, 이들의 이성체, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 및 시클로도데실로 이루어진 군에서 선택되는 것인 조성물.
  17. 제 14항에 있어서, 상기 니트로페놀은 2,6-디니트로-4-메틸페놀, 2-니트로-4-메틸페놀, 2,4-디니트로-1-나프톨, 2,4,6-트리니트로페놀(피크르산), 2,4-디니트로-6-메틸페놀, 2,4-디니트로페놀, 2,4-디니트로-6-sec-부틸페놀, 4-시아노-2-니트로페놀, 3-아이오도-4-시아노-5-니트로페놀, m-니트로-p-크레졸, 및 2,6-디니트로-p-크레졸로 이루어진 군에서 선택되는 것인 조성물.
  18. 제 14항에 있어서, (C)는 다음 구조를 갖는 안정한 힌더링된 니트록실 화합물인 조성물:
    화학식 2
    Figure 112007023901758-PCT00022
    여기서, R4 및 R7은 수소, 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고, R5 및 R6는 알킬 및 헤테로원자-치환된 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되고; X1 및 X2은 (1)할로겐, 시아노, COOR7, -S-COR7, -OCOR7(여기서, R7은 알킬 또는 아릴임), 아미도, -S-C6H5, 카르보닐, 알케닐, 또는 1 내지 15개의 탄소 원자를 갖는 알킬로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, 또는 (2) 함께 질소원자와 고리를 형성한다.
  19. 제 14항에 있어서, (C)는 하기 구조의 니트로소아닐린인 조성물:
    화학식 9
    Figure 112007023901758-PCT00023
    여기서, R21 및 R22는 수소, 알킬, 아릴, 아실, 히드록실, 알콕시, 니트로소, 및 설포닐로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, R21 및 R22는 아릴, 시클로알킬, 폴리아릴 또는 헤테로시클릭인 시클릭 고리를 형성할 수 있고;
    R23 내지 R27은 수소, 알킬, 아릴, 아실, 히드록실, 알콕시, 아실옥시, NR38(R39), 니트로, 니트로소, 할로겐 및 설포닐로 이루어진 군에서 독립적으로 선택되거나, 임의의 두개의 근접 R기는 아릴, 시클로알킬, 폴리아릴 또는 헤테로시클릭의 시클릭 고리를 형성할 수 있고, 단 R23 내지 R27의 하나 이상은 니트로소기이어야 하고,
    R28 및 R29는 수소, 알킬, 아릴, 아실 및 니트로소로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된다.
  20. 제 14항에 있어서, (D)는 알파-나프틸아민, 티오디아릴아민, p-페닐렌디아민, o-페닐렌디아민, 2,4-디아미노 디페닐렌아민, 시클로헥실 나프틸 아민, 폴리부틸 아민, 메틸 아닐린, 디페닐-p-페닐렌 디아민, 페닐-베타-나프틸아민, 이소프로폭시디페닐아민, 알돌-알파-나프틸 아민, 대칭 디-베타-p-페닐렌디아민, 트리메틸 디히드로퀴놀린, 디톨릴아민, 페닐-알파-나프틸아민, 페닐-베타-나프틸아민, 디아미노페놀, 4-시클로헥실아미노페놀, p-아미노페놀, o-아미노페놀, 및 5-아미노-2-히드록시톨루엔으로 이루어진 군에서 선택되는 조성물.
KR1020077006908A 2004-09-28 2005-07-20 중합 억제제로서 술폰화된 페놀과 니트로페놀 Active KR101181599B1 (ko)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US61437804P 2004-09-28 2004-09-28
US60/614,378 2004-09-28
US63124104P 2004-11-29 2004-11-29
US60/631,241 2004-11-29
US11/172,517 2005-06-29
US11/172,517 US20060069219A1 (en) 2004-09-28 2005-06-29 Sulfonated phenols with nitrophenols as polymerization inhibitors
PCT/US2005/026016 WO2006036274A1 (en) 2004-09-28 2005-07-20 Sulfonated phenols with nitrophenols as polymerization inhibitors

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070058528A true KR20070058528A (ko) 2007-06-08
KR101181599B1 KR101181599B1 (ko) 2012-09-13

Family

ID=35385340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077006908A Active KR101181599B1 (ko) 2004-09-28 2005-07-20 중합 억제제로서 술폰화된 페놀과 니트로페놀

Country Status (16)

Country Link
US (1) US20060069219A1 (ko)
EP (1) EP1794106B1 (ko)
JP (1) JP5175550B2 (ko)
KR (1) KR101181599B1 (ko)
CN (1) CN102766009A (ko)
AR (1) AR050962A1 (ko)
AT (1) ATE463473T1 (ko)
BR (1) BRPI0515540A (ko)
CA (1) CA2581526C (ko)
DE (1) DE602005020473D1 (ko)
ES (1) ES2343071T3 (ko)
MX (1) MX2007003663A (ko)
MY (1) MY146410A (ko)
PL (1) PL1794106T3 (ko)
TW (1) TWI374131B (ko)
WO (1) WO2006036274A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2393143C2 (ru) * 2005-02-04 2010-06-27 Кемтура Корпорейшн Средства управления экзотермической реакцией стирольных мономеров с сульфоновыми кислотами
US9206268B2 (en) * 2011-09-16 2015-12-08 General Electric Company Methods and compositions for inhibiting polystyrene formation during styrene production
CN103998404B (zh) * 2011-12-26 2017-12-15 多尔夫凯塔尔化学制品（I）私人有限公司 用于控制及抑制芳香族乙烯基单体聚合的改良的基于胺的添加剂组合物，及其使用方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US396711A (en) * 1889-01-22 Necticut
US2046356A (en) * 1933-12-27 1936-07-07 Ici Ltd Manufacture of diarylamine derivatives
US2867672A (en) * 1955-08-29 1959-01-06 Shell Dev Method of minimizing styrene polymerization during storage
US3163677A (en) * 1961-08-07 1964-12-29 American Cyanamid Co Process for preparing n, n, o-trisubstituted hydroxyl amines and n, n-disubstituted nitroxides and products
US3502692A (en) * 1962-06-13 1970-03-24 American Cyanamid Co Cyclic nitroxides and process for preparing same
GB983134A (en) * 1962-06-13 1965-02-10 American Cyanamid Co Cyclic nitroxides and process for preparing same
US3422144A (en) * 1965-04-27 1969-01-14 American Cyanamid Co Stable free radical nitroxides
US3372182A (en) * 1965-04-27 1968-03-05 American Cyanamid Co Process for preparation of stable, free radical nitroxides
FR1501769A (fr) * 1966-07-04 1967-11-18 Commissariat Energie Atomique Radicaux libres du type nitroxyde
US3873564A (en) * 1971-03-03 1975-03-25 Synvar Ass 2-Imidazolinyl-3-oxide-1-oxypropionic acid
GB1354420A (en) * 1971-05-17 1974-06-05 Volgogradsky Politekh Inst Isoprene treatment
US4086147A (en) * 1976-12-10 1978-04-25 Cosden Technology, Inc. Polymerization inhibitor for vinyl aromatic compounds
US4468343A (en) * 1983-04-11 1984-08-28 Cosden Technology, Inc. Polymerization co-inhibitors for vinyl aromatic compounds
US4665185A (en) * 1984-03-22 1987-05-12 Ciba-Geigy Corporation Process for preparing nitroxyls of sterically hindered amines
US4664845A (en) * 1986-01-09 1987-05-12 Uniroyal Chemical Company, Inc. Phenylenediamine solubilizer for dinitrophenol in aromatic solvent
US4670131A (en) * 1986-01-13 1987-06-02 Exxon Chemical Patents Inc. Method for controlling fouling of hydrocarbon compositions containing olefinic compounds
US5290888A (en) * 1990-07-20 1994-03-01 Ciba-Geigy Corporation Process for stabilizing ethylenically unsaturated compounds and stabilized monomer compositions
US5212272A (en) * 1990-10-31 1993-05-18 Peach State Labs, Inc. Polyacrylic acid compositions for textile processing
US5157175A (en) * 1991-09-09 1992-10-20 Nalco Chemical Company Composition and method for inhibition of styrene polymerization
JP2914075B2 (ja) * 1992-04-30 1999-06-28 大日本インキ化学工業株式会社 （メタ）アクリル酸エステルの製造法
US5254760A (en) * 1992-07-29 1993-10-19 Ciba-Geigy Corporation Inhibiting polymerization of vinyl aromatic monomers
JPH06234700A (ja) * 1993-02-12 1994-08-23 Dainippon Ink & Chem Inc （メタ）アクリル酸エステル類の製造方法
US5446220A (en) * 1994-08-24 1995-08-29 Betz Laboratories, Inc. Methods for inhibiting vinyl aromatic monomer polymerization
US5545786C1 (en) * 1994-11-28 2001-10-16 Ciba Geigy Corp Method for inhibiting premature polymerization of vinyl aromatic monomers
JPH08217726A (ja) * 1995-02-15 1996-08-27 Dainippon Ink & Chem Inc ペンタエリスリトール（メタ）アクリルエステルの製造方法
CN1082499C (zh) * 1996-06-05 2002-04-10 Basf公司 含单体和稳定剂的混合物
US5932735A (en) * 1997-06-13 1999-08-03 Ciba Specialty Chemicals Corporation Derivatives of 1-oxyl-4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine as polymerization inhibitors for (meth)acrylate monomers
US6200461B1 (en) * 1998-11-05 2001-03-13 Betzdearborn Inc. Method for inhibiting polymerization of ethylenically unsaturated hydrocarbons
US6403850B1 (en) * 2000-01-18 2002-06-11 Uniroyal Chemical Company, Inc. Inhibition of polymerization of unsaturated monomers
KR100812038B1 (ko) * 2000-10-16 2008-03-10 유니로얄 캐미칼 캄파니, 인크. 중합 억제제로서 퀴논 알키드와 니트록실 화합물의 블렌드물
JP3788950B2 (ja) * 2001-04-25 2006-06-21 伯東株式会社 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
US7125475B2 (en) * 2002-02-15 2006-10-24 Crompton Corporation Nitrosophenols and C-nitrosoanilines as polymerization inhibitors
US7691952B2 (en) * 2004-09-28 2010-04-06 Chemtura Corporation Sulfonated nitrophenols as polymerization inhibitors

Also Published As

Publication number Publication date
CA2581526C (en) 2013-02-12
TW200616938A (en) 2006-06-01
TWI374131B (en) 2012-10-11
BRPI0515540A (pt) 2008-07-29
AR050962A1 (es) 2006-12-06
WO2006036274A1 (en) 2006-04-06
ES2343071T3 (es) 2010-07-22
KR101181599B1 (ko) 2012-09-13
EP1794106A1 (en) 2007-06-13
CN102766009A (zh) 2012-11-07
JP2008514598A (ja) 2008-05-08
MX2007003663A (es) 2007-06-13
JP5175550B2 (ja) 2013-04-03
DE602005020473D1 (de) 2010-05-20
PL1794106T3 (pl) 2010-09-30
MY146410A (en) 2012-08-15
ATE463473T1 (de) 2010-04-15
CA2581526A1 (en) 2006-04-06
US20060069219A1 (en) 2006-03-30
EP1794106B1 (en) 2010-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7728083B1 (en) Aromatic sulfonic acids, amines and nitrophenols in combination with nitroxyl radical-containing compounds or C-nitrosoanilines as polymerization inhibitors
US6403850B1 (en) Inhibition of polymerization of unsaturated monomers
EP1843995B1 (en) Means for controlling the exothermic reaction of styrenic monomers with sulfonic acids
KR101181599B1 (ko) 중합 억제제로서 술폰화된 페놀과 니트로페놀
KR101151478B1 (ko) 중합 억제제로서 술폰화된 니트로페놀
RU2378242C2 (ru) Сульфированные нитрофенолы в качестве ингибиторов полимеризации
RU2380347C2 (ru) Сульфированные фенолы с нитрофенолами как ингибиторы полимеризации

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20070327

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
AMND Amendment
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20100222

Comment text: Request for Examination of Application

PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20110808

Patent event code: PE09021S01D

AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
PE0601 Decision on rejection of patent

Patent event date: 20120314

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PE06012S01D

Patent event date: 20110808

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event code: PE06011S01I

J201 Request for trial against refusal decision
PJ0201 Trial against decision of rejection

Patent event date: 20120614

Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal

Patent event code: PJ02012R01D

Patent event date: 20120314

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PJ02011S01I

Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal

Decision date: 20120814

Appeal identifier: 2012101005733

Request date: 20120614

AMND Amendment
PB0901 Examination by re-examination before a trial

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20120712

Patent event code: PB09011R02I

Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal

Patent event date: 20120614

Patent event code: PB09011R01I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20111010

Patent event code: PB09011R02I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20100222

Patent event code: PB09011R02I

B701 Decision to grant
PB0701 Decision of registration after re-examination before a trial

Patent event date: 20120814

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event code: PB07012S01D

Patent event date: 20120719

Comment text: Transfer of Trial File for Re-examination before a Trial

Patent event code: PB07011S01I

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20120904

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20120904

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
LAPS Lapse due to unpaid annual fee