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KR20050030984A - 포토레지스트 공급장치 - Google Patents

포토레지스트 공급장치 Download PDF

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KR20050030984A
KR20050030984A KR1020030067135A KR20030067135A KR20050030984A KR 20050030984 A KR20050030984 A KR 20050030984A KR 1020030067135 A KR1020030067135 A KR 1020030067135A KR 20030067135 A KR20030067135 A KR 20030067135A KR 20050030984 A KR20050030984 A KR 20050030984A
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KR
South Korea
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photoresist
supply
bottle
bottles
trap
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KR1020030067135A
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김용경
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삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 포토레지스트 보틀을 교체할 시 새로운 포토레지스트가 공급라인에 자동으로 채워지도록 포토레지스트를 퍼지하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치에 관한 것이다.
포토레지스트 보틀 교체 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 완료하여 불필요한 포토레지스트 소모를 방지하기 위한 본 발명의 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치는, 동일한 종류의 포토레지스트 액을 저장하고 있는 제1 및 제2 포토레지스트 보틀과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀에 연결되어 N2퍼지 개스를 공급하는 제1 및 제2 개스공급관과, 상기 제1 및 제2 개스공급관 상에 설치되어 N2퍼지개스를 공급하거나 차단하도록 개폐동작을 하는 제1 및 제2 솔레노이드밸브와, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀을 교체할 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 하기 위한 퍼지시작키신호를 발생하는 제1 및 제2 퍼지시작 버튼과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 제1 및 제2 포토레지스트 공급관과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 공급관에 연결되어 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 제1 및 제2 트랩탱크와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 노즐로 공급하는 제3 포토레지스트 공급관과, 상기 제3 포토레지스트 공급관을 통해 공급되는 포토레지스트를 웨이퍼로 분사하는 노즐과, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 설치되어 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 교체상태를 감지하는 제1 및 제2 엠프티센서와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 하부에 각각 설치되어 공급 중인 포토레지스트 정지상태를 감지하는 제3 및 제4 엠프티센서와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 각각 배출하기 위한 제1 및 제2 배출관과, 상기 제1 및 제2 배출관 상에 설치되어 포토레지스트 액을 배출하거나 배출을 차단하도록 개폐동작을 하는 제3 및 제4 솔레노이드밸브와, 제1 또는 제2 포토레지스트 보틀을 교체 시 포토레지스트 배출정지 상태를 감지하기 위한 제1 및 제2 드레인 감지센서와, 상기 제1 및 제2 퍼지시작버튼으로부터 퍼지시작키신호를 받아 제1 및 제2 솔레노이드밸브와 제3 및 제4 솔레노이드밸브를 구동시켜 자동으로 포토레지스트 세팅을 하도록 제어하고, 상기 제3 및 제4 엠프티센서로부터 포토레지스트 정지상태가 감지될 시 인터록을 발생하도록 제어하는 콘트롤러를 포함한다.

Description

포토레지스트 공급장치{PHOTO RESIST SUPPLY DEVICE}
본 발명은 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치에 관한 것으로, 특히 포토레지스트 보틀을 교체할 시 새로운 포토레지스트가 공급라인에 자동으로 채워지도록 포토레지스트를 퍼지하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조공정은 패브리케이션(FABRICATION), 어셈블리, 테스트로 구분되며, 패브리케이션은 원자재 웨이퍼가 투입되어 확산, 사진, 식각, 박막공정을 여러 차례 반복하여 진행되면서 전기회로를 구성하여 웨이퍼 상태에서 전기적으로 완전하게 동작되는 웨이퍼 상태의 반제품이 만들어지는 전공정을 나타낸다.
상기 공정 중 사진공정은 연마된 실리콘 웨이퍼의 표면 보호 및 사진식각을 위하여 그 표면에 산화막을 형성하고 그 산화막 위에 액체상태의 포토레지스트를 떨어뜨린 후 고속 회전시켜 균일한 코팅막을 형성한다. 이렇게 웨이퍼에 포토레지스트를 코팅한 후 마스크를 걸쳐 포토레지스트가 도포된 웨이퍼에 빛을 가하여 빛을 받은 부위만 반응하도록 한다. 그런 후 웨이퍼의 산화된 표면이 반응하도록 현상하여 일종의 허상을 갖도록 한 다음 포토레지스트 밑에 성장, 침적, 증착된 박막들을 개스나 케미걸을 이용하여 식각에 의해 제거하여 패턴을 형성한다. 이와 같은 포토공정에서 포토레지스트는 패턴을 형성하는데 매우 중요한 비중을 갖게 되는데, 이는 웨이퍼에 포토레지스트가 얼마의 두께로 도포되는가에 따라 회로선폭(CD)의 정확도가 가려지게 된다.
따라서 포토레지스트를 웨이퍼에 도포하기 위한 장치가 대한민국 공개특허공보 공개번호 1999-0069617호에 개시되어 있다. 공개특허공보 공개번호 1999-0069617호는 포토레지스트 막에 원하지 않는 기포가 포함되는 것을 방지하기 위해 저장탱크 교환밸브 전단에 설치된 센서가 오 동작하더라도 저장탱크 교환밸브와 포토레지스트 도포용 관 사이에 연결된 보조센서에 의해 포토레지스트의 잔량을 최종적으로 확인 감지하여 양호한 포토레지스트 막을 제조하도록 하는 것을 개시하고 있습니다.
또한 포토레지스트를 웨이퍼에 균일하게 도포하기 위한 장치가 미합중국 특허 US 6,332,924 B1에 개시되어 있다. 미합중국 특허 US 6,332,924 B1은 포토레지스트의 토출량 및 압력을 일정하게 하여 노즐로 하여금 웨이퍼 상에 상기 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 있도록 하는 것을 개시하고 있다.
이와 같은 종래의 포토레지스트 공급장치는 복수 개의 보틀을 구비하여 하나의 보틀에 수용된 포토레지스트가 모두 소진되면 포토레지스트가 가득 채워진 다른보틀(BOTTLE)로 체인지하여 포토레지스트가 공급라인에 채워지도록 퍼지하여야 한다.
도 1은 종래의 포토레지스트 공급장치의 구성도이다.
동일한 종류의 포토레지스트 액을 저장하고 있는 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(10, 30)과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(10, 30)에 연결되어 N2퍼지 개스를 공급하는 제1 및 제2 개스공급관(12, 32)과, 상기 제1 및 제2 개스공급관(12, 32) 상에 설치되어 N2퍼지개스를 공급하거나 차단하도록 개폐동작을 하는 제1 및 제2 개스공급밸브(11, 31)와, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(10, 30)의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 제1 및 제2 포토레지스트 공급관(14, 34)과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 공급관(14, 34)에 연결되어 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(10, 30)로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 제1 및 제2 트랩탱크(16, 36)와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크(16, 36)에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크(16, 36)에 수용된 포토레지스트를 노즐(46)로 공급하는 제3 포토레지스트 공급관(44)과, 상기 제3 포토레지스트 공급관(44)을 통해 공급되는 포토레지스트를 웨이퍼로 분사하는 노즐(46)과, 상기 제1 및 제2 트랩탱크(16, 36)에 각각 설치되어 포토레지스트의 엠프티 상태(Empty State)를 감지하는 제1 및 제2 엠프티센서(18, 38)와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크(16, 36)의 상부에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크(16, 36)에 수용된 포토레지스트를 배출하기 위한 제1 및 제2 배출관(22, 42)과, 상기 제1 및 제2 배출관(22, 42) 상에 설치되어 포토레지스트 액을 배출하거나 배출을 차단하도록 개폐동작을 하는 제1 및 제2 드레인밸브(20, 40)로 구성되어 있다.
상술한 도 1을 참조하여 포토레지스트 보틀을 교체하는 동작을 설명한다.
먼저 제2 포토레지스트 보틀(30)의 포토레지스트 액을 사용하여 공정을 진행한다고 가정할 경우 작업자는 제2 드레인밸브(40)과 제2 개스공급밸브(31)를 개방(OPEN)시킨다. 이때 제2 개스공급관(32)를 통해 N2퍼지개스가 공급되어 제2 포토레지스트 보틀(30)을 가압하게 되며, 담겨진 포토레지스트 액이 제2 포토레지스트 공급관(34)을 통해 제2트랩탱크(36)로 공급되어 제2 트랩탱크(36)로 채워진다. 상기 제2 트랩탱크(36)에 채워진 포토레지스트 액은 제2배출관(42)을 통해 배출된다. 상기 트랩탱크(36)에 포토레지스트 액이 가득 채워지면 작업자는 제2 드레인밸브(40)를 잠궈 포토레지스트 세팅을 완료한다. 그런 후 트랩탱크(36)에 수용된 포토레지스트액이 제3공급관(44)을 통해 노즐(46)로 공급되도록 하며, 도시하지 않은 디스펜스펌프에 의해 포토레지스트 액이 웨이퍼로 분사되도록 하여 도포공정을 진행한다. 이렇게 도포공정을 진행하는 중에 제2트랩탱크(36)에 설치되어 있는 제2 엠프트센서(36)는 제2 포토레지트 보트(30)로부터 공급되는 포토레지스트 액의 엠프트 상태를 감지한다. 제2 엠프티센(36)로부터 제2포토레지스트 보트(30)의 앰프티 상태가 검출되면 작업자는 제1 드레인밸브(20)과 제2 개스공급밸브(11)를 개방(OPEN)시킨다. 이때 제1 개스공급관(12)을 통해 N2퍼지개스가 공급되어 제1 포토레지스트 보틀(10)을 가압하게 되며, 제1 포토레지스트 보틀(10)에 담겨진 포토레지스트 액이 제1 포토레지스트 공급관(14)을 통해 제1 트랩탱크(16)로 공급되어 제1 트랩탱크(16)로 채워진다. 상기 제1 트랩탱크(16)에 채워진 포토레지스트 액은 제1배출관(22)을 통해 배출된다. 상기 제1 트랩탱크(16)에 포토레지스트 액이 가득 채워지면 작업자는 제1 드레인밸브(40)를 잠그고(CLOSE) 포토레지스트 세팅을 완료한다.
상기와 같은 종래의 포토레지스트 공급장치는 작업자에 의해 포토레지스트 세팅을 완료하므로 작업자에 따라 포토레지스트 배출량이 달라지게 되어 불필요한 포토레지스트를 소모하게 되는 문제가 있었다.
또한 종래의 포토레지스트 공급장치는 트랩탱크에 채워진 포토레지스트가 모두 소진되었음에도 불구하고 엠프티센서의 오동작으로 인해 엠프티상태를 감지하지 못할 경우 새로운 포토레지스트 보틀로 전환되지 않게 되어 포토레지스트가 공급되지 않아 공정불량이 발생하는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 포토레지스트 보틀 교체 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 완료하여 불필요한 포토레지스트 소모를 방지할 수 있는 포토레지스트 공급장치를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 반도체 코팅설비에서 포토레지스트 보틀 교체 시 배출되는 포토레지스트 양을 정확하게 조절하여 불필요한 포토레지스트 액의 소모를 방지하여 원가를 절감할 수 있는 포토레지스트 공급장치를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 공급되고 있는 포토레지스트 보틀의 교체를 위한 포토레지스트 엠프티 상태가 감지되고 나서 새로운 포토레지스트 보틀로 교체되지 않을 시 인터록을 발생하여 공정불량발생을 방지할 수 있는 포토레지스트 공급장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치는, 동일한 종류의 포토레지스트 액을 저장하고 있는 제1 및 제2 포토레지스트 보틀과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀에 연결되어 N2퍼지 개스를 공급하는 제1 및 제2 개스공급관과, 상기 제1 및 제2 개스공급관 상에 설치되어 N2퍼지개스를 공급하거나 차단하도록 개폐동작을 하는 제1 및 제2 솔레노이드밸브와, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀을 교체할 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 하기 위한 퍼지시작키신호를 발생하는 제1 및 제2 퍼지시작 버튼과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 제1 및 제2 포토레지스트 공급관과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 공급관에 연결되어 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 제1 및 제2 트랩탱크와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 노즐로 공급하는 제3 포토레지스트 공급관과, 상기 제3 포토레지스트 공급관을 통해 공급되는 포토레지스트를 웨이퍼로 분사하는 노즐과, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 설치되어 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 교체상태를 감지하는 제1 및 제2 엠프티센서와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 하부에 각각 설치되어 공급 중인 포토레지스트 정지상태를 감지하는 제3 및 제4 엠프티센서와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 각각 배출하기 위한 제1 및 제2 배출관과, 상기 제1 및 제2 배출관 상에 설치되어 포토레지스트 액을 배출하거나 배출을 차단하도록 개폐동작을 하는 제3 및 제4 솔레노이드밸브와, 제1 또는 제2 포토레지스트 보틀을 교체 시 포토레지스트 배출정지 상태를 감지하기 위한 제1 및 제2 드레인 감지센서와, 상기 제1 및 제2 퍼지시작버튼으로부터 퍼지시작키신호를 받아 제1 및 제2 솔레노이드밸브와 제3 및 제4 솔레노이드밸브를 구동시켜 자동으로 포토레지스트 세팅을 하도록 제어하고, 상기 제3 및 제4 엠프티센서로부터 포토레지스트 정지상태가 감지될 시 인터록을 발생하도록 제어하는 콘트롤러를 포함함을 특징으로 한다.
상기 콘트롤러는 상기 제1 및 제2 엠프티센서로부터 포토레지스트 보틀 교체상태가 감지될 시 경보를 발생하는 것이 바람직하다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 태양의 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치는, 포토레지스트 액을 저장하고 있는 적어도 하나 이상을 갖는 포토레지스트 보틀과, 상기 적어도 하나 이상을 갖는 포토레지스트 보틀에 연결되어 N2퍼지 개스를 공급하는 적어도 하나 이상을 갖는 개스공급관과, 상기 개스공급관 상에 설치되어 N2퍼지개스를 공급하거나 차단하도록 개폐동작을 하는 적어도 하나 이상을 갖는 개스공급용 솔레노이드밸브와, 상기 포토레지스트 보틀을 교체할 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 하기 위한 퍼지시작키신호를 발생하는 적어도 하나 이상을 갖는 퍼지시작 버튼과, 상기 포토레지스트 보틀의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 포토레지스트 공급관과, 상기 포토레지스트 공급관에 연결되어 상기 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 적어도 하나 이상을 갖는 트랩탱크와, 상기 트랩탱크의 상부에 각각 연결되어 상기 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 각각 배출하기 위한 적어도 하나 이상의 배출관과, 상기 배출관 상에 설치되어 포토레지스트 액을 배출하거나 배출을 차단하도록 개폐동작을 하는 적어도 하나 이상을 갖는 드레인용 솔레노이드밸브와, 상기 포토레지스트 보틀을 교체 시 포토레지스트 배출정지 상태를 감지하기 위한 적어도 하나 이상을 갖는 드레인 감지센서와, 상기 퍼지시작버튼으로부터 퍼지시작키신호를 받아 상기 개스공급용 솔레노이드밸브와 상기 드레인용 솔레노이드밸브를 구동시켜 자동으로 포토레지스트 세팅을 하도록 제어하는 콘트롤러를 포함함을 특징으로 한다.
상기 콘트롤러는 상기 드레인 감지센서로부터 포토레지스트가 감지될 시 상기 드레인용 솔레노이드밸브를 크로스하도록 제어하는 것이 바람직하다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 또 다른 태양의 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치는, 동일한 종류의 포토레지스트 액을 저장하고 있는 제1 및 제2 포토레지스트 보틀과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 제1 및 제2 포토레지스트 공급관과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 공급관에 연결되어 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 제1 및 제2 트랩탱크와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 노즐로 공급하는 제3 포토레지스트 공급관과, 상기 제3 포토레지스트 공급관을 통해 공급되는 포토레지스트를 웨이퍼로 분사하는 노즐과, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 설치되어 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 교체상태를 감지하는 제1 및 제2 엠프티센서와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크의 하부에 각각 설치되어 공급 중인 포토레지스트 정지상태를 감지하는 제3 및 제4 엠프티센서와, 상기 제3 및 제4 엠프티센서로부터 포토레지스트 정지상태가 감지될 시 인터록을 발생하도록 제어하는 콘트롤러를 포함함을 특징으로 한다.
상기 콘트롤러는 상기 제1 및 제2 엠프티센서로부터 포토레지스트 보틀 교체상태가 감지될 시 경보를 발생하는 것이 바람직하다.
이하 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 그리고 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치의 구성도로서,
동일한 종류의 포토레지스트 액을 저장하고 있는 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(110, 210)과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(110, 210)에 연결되어 N2퍼지 개스를 공급하는 제1 및 제2 개스공급관(106, 206)과, 상기 제1 및 제2 개스공급관(106, 206) 상에 설치되어 N2퍼지개스를 공급하거나 차단하도록 개폐동작을 하는 제1 및 제2 솔레노이드밸브(104, 204)와, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(110, 210)을 교체할 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 하기 위한 퍼지시작키신호를 발생하는 제1 및 제2 퍼지시작 버튼(102, 202)과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(110, 210)의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 제1 및 제2 포토레지스트 공급관(112, 212)과, 상기 제1 및 제2 포토레지스트 공급관(112, 212)에 연결되어 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(110, 210)로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 제1 및 제2 트랩탱크(114, 214)와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크(114, 214)에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크(114, 214)에 수용된 포토레지스트를 노즐(232)로 공급하는 제3 포토레지스트 공급관(230)과, 상기 제3 포토레지스트 공급관(230)을 통해 공급되는 포토레지스트를 웨이퍼로 분사하는 노즐(232)과, 상기 제1 및 제2 트랩탱크(114, 214)의 상부에 각각 설치되어 제1 및 제2 포토레지스트 보틀(110, 210)의 교체상태를 감지하는 제1 및 제2 엠프티센서(116, 216)와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크(114, 214)의 하부에 각각 설치되어 공급 중인 포토레지스트 정지상태를 감지하는 제3 및 제4 엠프티센서(118, 218)와, 상기 제1 및 제2 트랩탱크(114, 214)의 상부에 각각 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크(114, 214)에 수용된 포토레지스트를 각각 배출하기 위한 제1 및 제2 배출관(124, 224)과, 상기 제1 및 제2 배출관(124, 224) 상에 설치되어 포토레지스트 액을 배출하거나 배출을 차단하도록 개폐동작을 하는 제3 및 제4 솔레노이드밸브(120, 220)와, 제1 또는 제2 포토레지스트 보틀(110, 210)을 교체 시 포토레지스트 배출정지 상태를 감지하기 위한 제1 및 제2 드레인 감지센서(122, 222)와, 상기 제1 및 제2 퍼지시작버튼(102, 202)로부터 퍼지시작키신호를 받아 제1 및 제2 솔레노이드밸브(104, 204)와 제3 및 제4 솔레노이드밸브(120, 220)를 구동시켜 자동으로 포토레지스트 세팅을 하도록 제어하고 상기 제1 및 제2 엠프티센서(116, 216)로부터 포토레지스트 보틀 교체상태가 감지될 시 경보를 발생하고, 제3 및 제4 엠프티센서(118, 218)로부터 포토레지스트 정지상태가 감지될 시 인터록을 발생하도록 제어하는 콘트롤러(100)로 구성되어 있다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 포토레지스트 보틀 교체 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 제어하는 흐름도이다.
상술한 도 2 및 도 3을 참조하여 본 발명의 포토레지스트 보틀을 교체하는 동작을 설명한다.
먼저 제2 포토레지스트 보틀(210)의 포토레지스트 액을 사용하여 공정을 진행한다고 가정할 경우 제2 트랩탱크(214)에 포토레지스트가 소진되어 제2 엠프티센서(214)로부터 포토레지스트 보틀 교체상태가 감지될 시 콘트롤러(100)는 경보를 발생하도록 제어한다. 이때 작업자는 경보음을 듣고 제1 포토레지스트 보틀(110)로부터 포토레지스트가 공급되도록 설비를 조작한다. 그런 후 제2 포토레지스트 보틀(210)을 새로운 보틀로 교체한 후 제2 퍼지시작버튼(202)을 누르게 되며, 콘트롤러(100)는 제2 솔레노이드 밸브(204)와 제4 솔레노이드밸브(220)를 개방(OPEN)되도록 제어한다. 그러면 N2 퍼지개스가 제2 개스 공급관(206)을 통해 제2 포토레지스트 보틀(210)로 공급되어 포토레지스트 용액이 제2 트랩탱크(214)에 채워지면서 제2 배출관(224)으로 배출된다. 이때 제2 드레인 감지센서(222)는 포토레지스트 배출상태를 감지하여 콘트롤러(100)로 인가한다. 따라서 콘트롤러(100)는 포토레지스트 배출정지 상태를 감지하여 제2 및 제4 솔레노이드밸브(204, 220)를 크로스(CLOSE)되도록 하여 포토레지스트 세팅을 완료한다. 포토레지스트 세팅은 사용중인 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트 용액이 소진되어 새로운 포토레지스트 용액이 채워진 보틀로 교체하고 나서 교체된 포토레지스트 보틀이 포토레지스트 용액을 공급할 수 있는 상태가 되도록 포토레지스트 용액을 N2개스로 퍼지시키는 상태를 나타낸다.
그리고 콘트롤러(100)는 제2 포토레지스트 보틀(210)로부터 공급되는 용액을 제3공급관(230)을 통해 노즐(232)로 공급하여 공정을 진행하는 도중에 제2 트랩탱크(214)의 상부에 설치된 제2 엠프티센서(216)로부터 포토레지스트 엠프티상태가 검출될 시 경보음을 발생하도록 한다. 그런 후 새로운 포토레지스트 보틀로 교체되지 않고 계속해서 포토레지스트 용액이 소진되어 제4 엠프티센서(218)로부터 포토레지스트 엠프티 상태가 검출되면 콘트롤러(100)는 인터록을 발생하여 공정진행동작을 정지시킨다.
이러한 방법으로 제1 포토레지스트 보틀(110)이 교체되는 경우에도 상술한 동작과 동일하게 동작하므로 그 동작설명을 생략한다.
이렇게 포토레지스트 세팅을 하는 동작을 도 3의 흐름도를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예의 동작을 상세히 설명한다.
먼저 제2 포토레지스트 보틀(210)의 포토레지스트 액을 사용하여 공정을 진행한다고 가정할 경우 작업자가 제2 포토레지스트 보틀(210)을 교체하고 나서 제2 퍼지시작버튼(202)를 누른다. 그런 후 101단계에서 콘트롤러(100)는 제2 퍼지시작버튼(202)이 눌러지는가 검사하여 제2 퍼지시작버튼(202)이 눌러지면 102단계로 진행한다. 102단계에서 콘트롤러(100)는 제2 솔레노이드밸브(204)를 오픈시킨다. 그리고 103단계에서 콘트롤러(100)는 제4 솔레노이드밸브(220)를 오픈시키고 104단계로 진행한다. 상기 104단계에서 콘트롤러(100)는 제2 드레인 감지센서(222)로부터 포토레지스트가 감지되는가 검사하여 포토레지스트가 감지되면 105단계로 진행한다. 상기 105단계에서 콘트롤러(100)는 제4 솔레노이드밸브(220)를 크로스시키고 106단계로 진행한다. 상기 106단계에서 콘트롤러(100)는 제2 솔레노이드밸브(204)를 크로스시키고 107단계로 진행한다. 상기 107단계에서 콘트롤러(100)는 제2 포토레지스트 보틀(210)로부터 공급되어 제2 트랩탱크(214)에 수용된 포토레지스트 용액을 노즐(232)로 공급하고 108단계로 진행한다. 상기 108단계에서 콘트롤러(100)는 제2 엠프티센서(216)로부터 포토레지스트 엠프티상태가 감지되는가 검사하여 엠프티상태가 감지되면 109단계로 진행한다. 상기 109단계에서 콘트롤러(100)는 도시하지 않은 경보발생부를 제어하여 경보음을 발생하도록 하고 110단계로 진행한다. 상기 110단계에서 콘트롤러(100)는 제4 엠프티센서(218)로부터 포토레지스트 엠프티상태가 검출되는가 검사하여 엠프티상태가 검출되면 111단계로 진행한다. 상기 111단계에서 콘트롤러(100)는 인터록을 발생하여 공정진행동작을 정지하도록 한다.
또한 제1 포토레지스트 보틀(110)의 포토레지스트 액을 사용하여 공정을 진행한다고 가정할 경우 작업자가 제1 포토레지스트 보틀(110)을 교체하고 나서 제1 퍼지시작버튼(102)를 누른다. 그런 후 112단계에서 콘트롤러(100)는 제1 퍼지시작버튼(102)이 눌러지는가 검사하여 제1 퍼지시작버튼(102)이 눌러지면 113단계로 진행한다. 113단계에서 콘트롤러(100)는 제1 솔레노이드밸브(104)를 오픈시킨다. 그리고 114단계에서 콘트롤러(100)는 제3 솔레노이드밸브(120)를 오픈시키고 115단계로 진행한다. 상기 115단계에서 콘트롤러(100)는 제1 드레인 감지센서(122)로부터 포토레지스트가 감지되는가 검사하여 포토레지스트가 감지되면 116단계로 진행한다. 상기 116단계에서 콘트롤러(100)는 제3 솔레노이드밸브(120)를 크로스시키고 117단계로 진행한다. 상기 117단계에서 콘트롤러(100)는 제1 솔레노이드밸브(104)를 크로스시키고 118단계로 진행한다. 상기 118단계에서 콘트롤러(100)는 제1 포토레지스트 보틀(110)로부터 공급되어 제1 트랩탱크(114)에 수용된 포토레지스트 용액을 노즐(232)로 공급하고 119단계로 진행한다. 상기 119단계에서 콘트롤러(100)는 제1 엠프티센서(116)로부터 포토레지스트 엠프티상태가 감지되는가 검사하여 엠프티상태가 감지되면 120단계로 진행한다. 상기 120단계에서 콘트롤러(100)는 도시하지 않은 경보발생부를 제어하여 경보음을 발생하도록 하고 121단계로 진행한다. 상기 121단계에서 콘트롤러(100)는 제3 엠프티센서(118)로부터 포토레지스트 엠프티상태가 검출되는가 검사하여 엠프티상태가 검출되면 122단계로 진행한다. 상기 122단계에서 콘트롤러(100)는 인터록을 발생하여 공정진행동작을 정지하도록 한다.
상술한 바와 같이 본 발명은, 반도체 코팅설비에서 포토레지스트 보틀을 교체할 시 포토레지스트 공급라인에 포토레지스트 용액을 채울 경우 자동으로 포토레지스트 용액이 세팅되도록 하여 포토레지스트의 로스를 줄일 수 있으며, 또한 퍼지스타트버튼을 눌러 자동으로 포토레지스트를 퍼지하도록 하여 불필요한 인력의 낭비를 줄여 원가를 절감할 수 있는 이점이 있다.
또한 포토레지스트 보틀을 교체할 시 작업자가 수동으로 포토레지스트를 퍼지할 필요 없이 작업자가 콘트롤러(100)에 연결된 퍼지 스타트 버튼만을 누르게 되면 자동으로 포토레지스트 퍼지동작을 수행하도록 하여 누구나 용이하게 포토레지스트를 퍼지할 수 있는 이점이 있다.
본 발명은 구체적인 실시 예에 대해서만 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 변형이나 변경할 수 있음은 본 발명이 속하는 분야의 당업자에게는 명백한 것이며, 그러한 변형이나 변경은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 할 것이다.
도 1은 종래의 포토레지스트 공급장치의 구성도
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치의 구성도
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 포토레지스트 보틀 교체 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 제어하는 흐름도
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100: 콘트롤러 102, 202: 제1 및 제2 퍼지시작버튼
104, 204: 제1 및 제2 솔레노이드밸브 106, 206: 개스공급관
110, 210: 제1 및 제2 포토레지스트 보틀
112, 212: 제1 및 제2 포토레지스트 공급관
114, 214: 제1 및 제2 트랩탱크 116, 216: 제1 및 제2 엠프티센서
118, 218: 제3 및 제4 엠프티센서
120, 220: 제3 및 제4 솔레노이드밸브
122, 222: 제1 및 제2 드레인 감지센서 124, 126: 제1 및 제2 배출관
230: 제3 포토레지스트 공급관 232: 노즐

Claims (6)

  1. 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치에 있어서,
    동일한 종류의 포토레지스트 액을 저장하고 있는 제1 및 제2 포토레지스트 보틀과,
    상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀에 연결되어 N2퍼지 개스를 공급하는 제1 및 제2 개스공급관과,
    상기 제1 및 제2 개스공급관 상에 설치되어 N2퍼지개스를 공급하거나 차단하도록 개폐동작을 하는 제1 및 제2 솔레노이드밸브와,
    상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀을 교체할 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 하기 위한 퍼지시작키신호를 발생하는 제1 및 제2 퍼지시작 버튼과,
    상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 제1 및 제2 포토레지스트 공급관과,
    상기 제1 및 제2 포토레지스트 공급관에 연결되어 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 제1 및 제2 트랩탱크와,
    상기 제1 및 제2 트랩탱크에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 노즐로 공급하는 제3 포토레지스트 공급관과,
    상기 제3 포토레지스트 공급관을 통해 공급되는 포토레지스트를 웨이퍼로 분사하는 노즐과,
    상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 설치되어 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 교체상태를 감지하는 제1 및 제2 엠프티센서와,
    상기 제1 및 제2 트랩탱크의 하부에 각각 설치되어 공급 중인 포토레지스트 정지상태를 감지하는 제3 및 제4 엠프티센서와,
    상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 각각 배출하기 위한 제1 및 제2 배출관과,
    상기 제1 및 제2 배출관 상에 설치되어 포토레지스트 액을 배출하거나 배출을 차단하도록 개폐동작을 하는 제3 및 제4 솔레노이드밸브와, 제1 또는 제2 포토레지스트 보틀을 교체 시 포토레지스트 배출정지 상태를 감지하기 위한 제1 및 제2 드레인 감지센서와,
    상기 제1 및 제2 퍼지시작버튼으로부터 퍼지시작키신호를 받아 제1 및 제2 솔레노이드밸브와 제3 및 제4 솔레노이드밸브를 구동시켜 자동으로 포토레지스트 세팅을 하도록 제어하고, 상기 제3 및 제4 엠프티센서로부터 포토레지스트 정지상태가 감지될 시 인터록을 발생하도록 제어하는 콘트롤러를 포함함을 특징으로 하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 콘트롤러는 상기 제1 및 제2 엠프티센서로부터 포토레지스트 보틀 교체상태가 감지될 시 경보를 발생함을 특징으로 하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치.
  3. 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치에 있어서,
    포토레지스트 액을 저장하고 있는 적어도 하나 이상을 갖는 포토레지스트 보틀과,
    상기 적어도 하나 이상을 갖는 포토레지스트 보틀에 연결되어 N2퍼지 개스를 공급하는 적어도 하나 이상을 갖는 개스공급관과,
    상기 개스공급관 상에 설치되어 N2퍼지개스를 공급하거나 차단하도록 개폐동작을 하는 적어도 하나 이상을 갖는 개스공급용 솔레노이드밸브와,
    상기 포토레지스트 보틀을 교체할 시 자동으로 포토레지스트 세팅을 하기 위한 퍼지시작키신호를 발생하는 적어도 하나 이상을 갖는 퍼지시작 버튼과,
    상기 포토레지스트 보틀의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 포토레지스트 공급관과,
    상기 포토레지스트 공급관에 연결되어 상기 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 적어도 하나 이상을 갖는 트랩탱크와,
    상기 트랩탱크의 상부에 각각 연결되어 상기 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 각각 배출하기 위한 적어도 하나 이상의 배출관과,
    상기 배출관 상에 설치되어 포토레지스트 액을 배출하거나 배출을 차단하도록 개폐동작을 하는 적어도 하나 이상을 갖는 드레인용 솔레노이드밸브와,
    상기 포토레지스트 보틀을 교체 시 포토레지스트 배출정지 상태를 감지하기 위한 적어도 하나 이상을 갖는 드레인 감지센서와,
    상기 퍼지시작버튼으로부터 퍼지시작키신호를 받아 상기 개스공급용 솔레노이드밸브와 상기 드레인용 솔레노이드밸브를 구동시켜 자동으로 포토레지스트 세팅을 하도록 제어하는 콘트롤러를 포함함을 특징으로 하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 콘트롤러는 상기 드레인 감지센서로부터 포토레지스트가 감지될 시 상기 드레인용 솔레노이드밸브를 크로스하도록 제어함을 특징으로 하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치.
  5. 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치에 있어서,
    동일한 종류의 포토레지스트 액을 저장하고 있는 제1 및 제2 포토레지스트 보틀과,
    상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 상부에 각각 설치되어 포토레지스트 액을 공급하기 위한 제1 및 제2 포토레지스트 공급관과,
    상기 제1 및 제2 포토레지스트 공급관에 연결되어 상기 제1 및 제2 포토레지스트 보틀로부터 공급되는 포토레지스트를 수용하는 제1 및 제2 트랩탱크와,
    상기 제1 및 제2 트랩탱크에 연결되어 상기 제1 및 제2 트랩탱크에 수용된 포토레지스트를 노즐로 공급하는 제3 포토레지스트 공급관과,
    상기 제3 포토레지스트 공급관을 통해 공급되는 포토레지스트를 웨이퍼로 분사하는 노즐과,
    상기 제1 및 제2 트랩탱크의 상부에 각각 설치되어 제1 및 제2 포토레지스트 보틀의 교체상태를 감지하는 제1 및 제2 엠프티센서와,
    상기 제1 및 제2 트랩탱크의 하부에 각각 설치되어 공급 중인 포토레지스트 정지상태를 감지하는 제3 및 제4 엠프티센서와,
    상기 제3 및 제4 엠프티센서로부터 포토레지스트 정지상태가 감지될 시 인터록을 발생하도록 제어하는 콘트롤러를 포함함을 특징으로 하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 콘트롤러는 상기 제1 및 제2 엠프티센서로부터 포토레지스트 보틀 교체상태가 감지될 시 경보를 발생함을 특징으로 하는 반도체 코팅설비의 포토레지스트 공급장치.
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