KR100921725B1 - 포토레지스트 도포 장치 및 이의 제어 방법 - Google Patents
포토레지스트 도포 장치 및 이의 제어 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100921725B1 KR100921725B1 KR1020070106565A KR20070106565A KR100921725B1 KR 100921725 B1 KR100921725 B1 KR 100921725B1 KR 1020070106565 A KR1020070106565 A KR 1020070106565A KR 20070106565 A KR20070106565 A KR 20070106565A KR 100921725 B1 KR100921725 B1 KR 100921725B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photoresist
- pumping unit
- chamber
- unit
- controller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
Claims (5)
- 제어 신호를 발생하는 제어기, 상기 제어 신호에 따라 구동하며 포토레지스트를 공급하는 펌핑 유닛 및 상기 펌핑 유닛에 의하여 제공되는 포토레지스트를 챔버 내에서 대상체에 공급하는 분사부를 갖는 포토레지스트 도포 장치의 제어 방법에 있어,a) 상기 챔버 내에 이상 유무를 판정하여 정지성 알람을 확인하는 단계;b) 상기 정지성 알람이 발생할 경우 상기 제어기가 상기 펌핑 유닛에 비상 정지 신호를 발생하는 단계;c) 상기 챔버 에러의 클리어 여부를 확인하는 단계;d) 상기 챔버 에러가 클리어된 경우 상기 제어기가 상기 펌핑 유닛에 에러 클리어 신호를 전송하는 단계e) 상기 펌핑 유닛에 상기 포토레지스트를 재충전하는 단계; 및f) 상기 펌핑 유닛을 이용하여 상기 분사부를 통하여 상기 대상체에 상기 포토레지스트를 공급하는 단계를 포함하는 포토레지스트 도포 장치의 제어 방법.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서, 상기 포토레지스트를 상기 대상체에 공급하기 전,상기 포토레지스트를 필터링하여 상기 포토레지스트 내부에 존재하는 기포를 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치의 제어 방법.
- 제 1 항에 있어서, 단계 b) 또는 단계 d)는 I/O 인터페이스, RS232, RS422 통신 방법 중 어느 하나의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치의 제어 방법.
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070106565A KR100921725B1 (ko) | 2007-10-23 | 2007-10-23 | 포토레지스트 도포 장치 및 이의 제어 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070106565A KR100921725B1 (ko) | 2007-10-23 | 2007-10-23 | 포토레지스트 도포 장치 및 이의 제어 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090041058A KR20090041058A (ko) | 2009-04-28 |
KR100921725B1 true KR100921725B1 (ko) | 2009-10-15 |
Family
ID=40764250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070106565A Active KR100921725B1 (ko) | 2007-10-23 | 2007-10-23 | 포토레지스트 도포 장치 및 이의 제어 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100921725B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101159656B1 (ko) * | 2010-10-20 | 2012-06-25 | 주식회사 원익아이피에스 | 원료 공급장치 및 공급 방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060036555A (ko) * | 2004-10-26 | 2006-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 필터링 장치 |
KR20070069698A (ko) * | 2005-12-28 | 2007-07-03 | 삼성전자주식회사 | 도포 장치 |
-
2007
- 2007-10-23 KR KR1020070106565A patent/KR100921725B1/ko active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060036555A (ko) * | 2004-10-26 | 2006-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 필터링 장치 |
KR20070069698A (ko) * | 2005-12-28 | 2007-07-03 | 삼성전자주식회사 | 도포 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090041058A (ko) | 2009-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100819095B1 (ko) | 포토스피너설비의 분사제어장치 | |
TWI491441B (zh) | Gas-liquid mixed fluid generating device, gas-liquid mixed fluid generating method, processing device, and processing method | |
KR20160003853A (ko) | 액 공급 장치 및 기판 처리 장치 | |
KR100577563B1 (ko) | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치 | |
JP2015167934A (ja) | 塗布装置 | |
JP2007027764A (ja) | フォトスピナー設備の噴射不良制御装置 | |
KR100558546B1 (ko) | 포토레지스트 공급장치 | |
KR100921725B1 (ko) | 포토레지스트 도포 장치 및 이의 제어 방법 | |
JP2007123393A (ja) | 基板処理装置 | |
KR100587682B1 (ko) | 케미컬 공급 장치 및 그에 따른 공급방법 | |
JP2006203130A (ja) | 洗浄装置、洗浄装置への液体の補充方法 | |
KR100934364B1 (ko) | 약액 공급 장치 | |
KR100780936B1 (ko) | 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법 | |
JP2002273314A (ja) | 基板処理装置 | |
KR20110063641A (ko) | 자동화 진공 이용 밸브 프라이밍 시스템 및 사용 방법 | |
KR20070107226A (ko) | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급장치 및 그에 따른공급방법 | |
JP2000021838A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3442263B2 (ja) | 液供給機構、液処理装置および液処理方法 | |
KR100904462B1 (ko) | 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법 | |
KR101547276B1 (ko) | 약액 이송시스템 및 이를 이용한 약액 이송방법 | |
KR20030042548A (ko) | 반도체 제조 공정에서 사용되는 약액 공급 장치 | |
KR20220045627A (ko) | 약액 토출 장치 | |
KR20070029345A (ko) | 반도체 소자 제조를 위한 감광액 공급장치 | |
KR20070069698A (ko) | 도포 장치 | |
JP3283190B2 (ja) | レジスト処理装置及びレジスト処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20071023 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20090330 Patent event code: PE09021S01D |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20090930 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20091007 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20091008 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121002 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20121002 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131002 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20131002 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141007 Year of fee payment: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20141007 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151001 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20151001 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160929 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160929 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170927 Year of fee payment: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170927 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181001 Year of fee payment: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20181001 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191002 Year of fee payment: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20191002 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210930 Start annual number: 13 End annual number: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220921 Start annual number: 14 End annual number: 14 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230920 Start annual number: 15 End annual number: 15 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |