KR200495902Y1

KR200495902Y1 - Substrate cleaning apparatus

Info

Publication number: KR200495902Y1
Application number: KR2020170005102U
Authority: KR
Inventors: 박용석; 서규원; 박호윤; 박강순; 조재연
Original assignee: 주식회사 디엠에스
Priority date: 2017-09-28
Filing date: 2017-09-28
Publication date: 2022-09-16
Anticipated expiration: 2027-09-28
Also published as: KR20190000865U

Abstract

본 고안은 세정챔버의 내부에서 분사되는 세정액의 상승기류에 의해 기판의 떨리거나 휘어지는 현상을 방지함으로써 기판의 원활한 이송을 가능하게 하여 공정 불량을 방지할 수 있도록 하는 기판세정장치에 관한 것이다.
본 고안은 기판이 세정되는 공간을 형성하는 세정챔버; 상기 세정챔버의 내부 공간에 배치되고, 상기 기판을 이송시키기 위한 복수개의 슬림형 롤러가 관통 설치된 반송샤프트; 및 상기 세정챔버의 내부 공간에 배치되어 상기 기판을 향해 세정액을 분사시키기 위한 세정모듈;을 포함하고, 상기 슬림형 롤러의 폭은 상기 반송샤프트의 직경보다 작게 형성된 것을 특징으로 하는 기판세정장치를 제공한다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus capable of preventing a process defect by enabling smooth transfer of a substrate by preventing a phenomenon in which the substrate is shaken or warped by the rising airflow of a cleaning liquid sprayed from the inside of the cleaning chamber.
The present invention provides a cleaning chamber for forming a space in which the substrate is cleaned; a conveying shaft disposed in the inner space of the cleaning chamber and provided with a plurality of slim rollers for conveying the substrate; and a cleaning module disposed in the interior space of the cleaning chamber to spray the cleaning liquid toward the substrate, wherein the width of the slim roller is smaller than the diameter of the conveying shaft. .

Description

Substrate cleaning apparatus {SUBSTRATE CLEANING APPARATUS}

본 고안은 기판세정장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 세정챔버의 내부에서 분사되는 세정액의 상승기류에 의해 기판의 떨리거나 휘어지는 현상을 방지함으로써 기판의 원활한 이송을 가능하게 하여 공정 불량을 방지할 수 있도록 하는 기판세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more specifically, by preventing the shaking or bending of the substrate by the rising air flow of the cleaning liquid sprayed from the inside of the cleaning chamber, it enables smooth transfer of the substrate and prevents process defects. It relates to a substrate cleaning apparatus that allows

일반적으로 평판 디스플레이, 포토 마스크 및 LCD 모니터 등에 사용되는 글래스 기판(이하, 「기판」이라고 한다.)은 감광제 도포, 노광, 현상, 부식, 박리, 세정 및 건조 등의 공정을 거쳐 제조된다. 이러한 공정들에 있어서 상기 세정공정은 기판에 묻어 있는 이물질 등을 제거하는 공정이다.Glass substrates (hereinafter, referred to as “substrates”) used in flat panel displays, photomasks, and LCD monitors are manufactured through processes such as photosensitizer application, exposure, development, corrosion, peeling, cleaning and drying. In these processes, the cleaning process is a process of removing foreign substances and the like adhering to the substrate.

한편, 기판은 미세한 먼지(파티클)에 무척 민감하게 반응하는데, 미세한 먼지 하나가 작게는 부품, 크게는 장치의 특성을 좌우하게 된다. 상기와 같은 이유로 인해 평판 디스플레이 제조 공정에서는 파티클을 최소화하는데 주력하고 있으며, 공정 진행 상황에 따라 세정작업을 반복하여 실시하고 있다. 보통 기판은 유리재질이므로 손상되거나 파손되기 쉽다. 특히, 그 표면은 먼지 등과 같은 이물질에 의해 손상되어 스크래치가 발생하기 쉽다.On the other hand, the substrate reacts very sensitively to fine dust (particles), and a single fine dust influences the characteristics of parts and devices in a large way. For the above reasons, the flat panel display manufacturing process focuses on minimizing particles, and the cleaning operation is repeatedly performed according to the progress of the process. Since the substrate is usually made of glass, it is easy to be damaged or broken. In particular, the surface thereof is damaged by foreign substances such as dust and the like, and scratches are easy to occur.

따라서, 기판의 표면에 부착되어 있는 이물질 등을 제거하는 세정공정은 제품의 품질을 결정하는데 매우 중요한 공정이라 할 수 있다.Therefore, the cleaning process of removing foreign substances adhering to the surface of the substrate is a very important process in determining the quality of the product.

도 1은 종래 기술에 따른 기판세정장치의 일부 구성을 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2는 종래 기술에 따른 광폭 롤러에 분사되는 세정액의 기류를 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing a partial configuration of a substrate cleaning apparatus according to the prior art, and FIG. 2 is a view showing an airflow of a cleaning solution sprayed to a wide roller according to the prior art.

도 1을 참조하면, 종래의 기판세정장치는 기판(S)이 세정되는 공간을 형성하는 세정챔버(미도시)와, 기판(S)을 이송시키기 위한 광폭 롤러(21)가 설치된 반송샤프트(23)와, 세정챔버의 상부에 구비되어 기판(S)을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐(30)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1 , a conventional substrate cleaning apparatus includes a cleaning chamber (not shown) that forms a space in which a substrate S is cleaned, and a transport shaft 23 provided with a wide roller 21 for transporting the substrate S. ) and a spray nozzle 30 provided on the cleaning chamber to spray the cleaning liquid toward the substrate S.

이때, 기판(S)을 안정적으로 이송하기 위해 반송샤프트(23)의 직경보다 큰 폭을 가지도록 형성된 광폭 롤러(21)가 사용된다.At this time, in order to stably transport the substrate S, the wide roller 21 formed to have a width greater than the diameter of the conveying shaft 23 is used.

도 2를 참조하면, 종래의 기판세정장치는 세정공정이 시작되면, 분사노즐(30)은 세정액을 기판(S)을 향하는 방향으로 고압 분사하게 되고, 분사된 세정액은 광폭 롤러(21)에 부딪히게 되어 기판(S) 측으로 상향 이동되는 상승기류를 형성하게 된다.Referring to FIG. 2 , in the conventional substrate cleaning apparatus, when the cleaning process starts, the spray nozzle 30 sprays the cleaning liquid at a high pressure in the direction toward the substrate S, and the sprayed cleaning liquid hits the wide roller 21 . to form an upward airflow moving upward toward the substrate (S) side.

이와 같이 세정챔버의 내부에서 상승기류가 발생하게 되면, 세정챔버의 내부로 유입되는 기판(S)의 선단부와 세정챔버의 외부로 배출되는 기판(S)의 후단부는 상승기류에 의해 기판(S)이 떨리거나 휘어지게 되는 현상이 발생하게 된다. As such, when an upward airflow is generated inside the cleaning chamber, the front end of the substrate S flowing into the cleaning chamber and the rear end of the substrate S discharged to the outside of the cleaning chamber become the substrate S due to the rising airflow. This trembling or warping phenomenon occurs.

즉, 기류의 영향에 의해 기판(S)이 떨리거나 휘게 되면, 기판(S)과 광폭 롤러(21)들 간의 충격으로 인해 기판(S)이 손상된다. 이에 따라 기판(S) 처리의 공정 불량을 초래하게 되는 문제가 있다.That is, when the substrate S vibrates or warps due to the influence of the airflow, the substrate S is damaged due to the impact between the substrate S and the wide rollers 21 . Accordingly, there is a problem that causes a process defect in the processing of the substrate (S).

대한민국 공개특허공보 제10-2016-0083414호(고안의 명칭 : 액처리 모듈, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 방법, 2016. 07. 12. 공개)Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2016-0083414 (Name of design: liquid processing module, substrate processing apparatus and method including the same, published on July 12, 2016)

본 고안의 목적은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판의 하부에 슬림형 롤러를 배치하고, 슬림형 롤러 하부에 세정액 흡입유닛을 구비함으로써, 슬림형 롤러 측으로 분사되는 세정액에 대한 상승기류를 제거하여 기판이 떨리거나 휘어지게 되는 현상을 방지할 수 있도록 하는 기판세정장치를 제공하는데 있다.The object of the present invention is to solve the problems of the prior art, by arranging a slim roller on the lower part of the substrate and providing a cleaning liquid suction unit on the lower part of the slim roller, thereby removing the upward airflow for the cleaning liquid sprayed toward the slim roller, so that the substrate is An object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus capable of preventing the phenomenon of shaking or warping.

상술한 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치는 기판이 세정되는 공간을 형성하는 세정챔버; 상기 세정챔버의 내부 공간에 배치되고, 상기 기판을 이송시키기 위한 복수개의 슬림형 롤러가 관통 설치된 반송샤프트; 및 상기 세정챔버의 내부 공간에 배치되어 상기 기판을 향해 세정액을 분사시키기 위한 세정모듈;을 포함하고, 상기 슬림형 롤러의 폭은 상기 반송샤프트의 직경보다 작게 형성된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the object of the present invention described above, a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a cleaning chamber forming a space in which a substrate is cleaned; a conveying shaft disposed in the inner space of the cleaning chamber and provided with a plurality of slim rollers for conveying the substrate; and a cleaning module disposed in the interior space of the cleaning chamber to spray the cleaning liquid toward the substrate, wherein the slim roller has a width smaller than a diameter of the conveying shaft.

본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치는 상기 슬림형 롤러의 하부에 배치되어, 상기 세정모듈로부터 분사되는 상기 세정액을 흡입하여 상기 세정액의 상승기류를 제거하기 위한 세정액 흡입유닛을 더 포함할 수 있다.The substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a cleaning liquid suction unit disposed under the slim roller to suck the cleaning liquid sprayed from the cleaning module to remove an updraft of the cleaning liquid. .

이때, 상기 세정액 흡입유닛은, 상기 슬림형 롤러의 하부 영역 중 적어도 일부가 수용되는 흡입챔버; 상기 흡입챔버의 내부 공간과 연통되도록 설치되는 흡입 연결구; 및 상기 흡입 연결구와 연결되어 상기 슬림형 롤러 주변의 세정액을 흡입하기 위해 흡입력을 제공하는 흡입구동원;을 포함할 수 있다.In this case, the cleaning liquid suction unit may include: a suction chamber in which at least a portion of a lower region of the slim roller is accommodated; a suction connector installed to communicate with the inner space of the suction chamber; and a suction driving source connected to the suction connector to provide a suction force to suck the cleaning liquid around the slim roller.

또한, 상기 세정액 흡입유닛은, 상기 기판이 상기 슬림형 롤러에 진입되기 전에는 흡인력을 높이고, 상기 기판이 상기 슬림형 롤러에 진입된 이후에는 상기 흡인력을 낮추거나 멈출 수 있도록 상기 흡입구동원을 제어하기 위한 제어부를 더 포함할 수 있다.In addition, the cleaning liquid suction unit increases the suction force before the substrate enters the slim roller, and after the substrate enters the slim roller, a control unit for controlling the suction driving source to lower or stop the suction force may include more.

본 고안의 다른 실시예에 따른 슬림형 롤러는, 복수개의 단위 롤러; 상기 반송샤프트에 관통된 상태로 설치되고, 일단은 상기 단위 롤러의 일측면에 연결되고 타단은 이웃하는 단위 롤러의 일측면에 연결되어 상기 단위 롤러와 상기 이웃하는 단위 롤러를 연결시키기 위한 연결부재; 및 상기 이웃하는 단위 롤러 사이에 오목하게 형성되어, 상기 단위 롤러들 측으로 분사되는 상기 세정액의 일부를 유입시켜 상기 기판 측으로 비상되는 것을 방지하는 비상 방지홈부;를 포함할 수 있다.A slim roller according to another embodiment of the present invention includes a plurality of unit rollers; a connecting member installed through the conveying shaft, one end connected to one side of the unit roller and the other end connected to one side of the neighboring unit roller to connect the unit roller and the neighboring unit roller; and an emergency prevention groove formed concavely between the adjacent unit rollers to prevent a portion of the cleaning liquid sprayed toward the unit rollers from flying toward the substrate.

이때, 상기 단위 롤러들은 상기 반송샤프트와 함께 일체로 회전되는 것을 특징으로 한다.In this case, the unit rollers are characterized in that they rotate integrally with the conveying shaft.

본 고안에 따른 기판세정장치는 기판의 하부에 슬림형 롤러를 배치하고, 슬림형 롤러의 하부에 세정액 흡입유닛을 구비함으로써, 세정액의 상승기류를 제거할 수 있어, 세정액의 기류에 의한 영향으로 기판이 떨리거나 휘어지는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.The substrate cleaning apparatus according to the present invention can remove the rising airflow of the cleaning liquid by arranging a slim roller under the substrate and a cleaning liquid suction unit under the slim roller, so that the substrate falls under the influence of the cleaning liquid airflow. It has the effect of preventing the phenomenon of bending or bending.

이에 따라, 기판의 원활한 이송을 가능하게 하여 공정 불량을 최소화할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, there is an effect of minimizing process defects by enabling smooth transfer of the substrate.

또한 본 고안은 세정력 흡입유닛에 제어부가 구비된 것에 의해, 세정액 흡입유닛을 선택적으로 제어할 수 있어 세정액 흡입수단을 구동하기 위한 구동전력을 최대한 줄일 수 있는 효과가 있다. In addition, the present invention has the effect of maximally reducing the driving power for driving the cleaning liquid suction means by selectively controlling the cleaning liquid suction unit by the control unit provided in the cleaning power suction unit.

또한, 본 고안은 단위 롤러들 사이에 비상 방지홈부가 형성된 것에 의해 단위 롤러 측으로 분사되는 세정액이 기판 측으로 비상되는 것을 방지함에 따라, 세정액의 기류에 의한 영향으로 기판이 떨리거나 휘어지는 현상을 더욱 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention prevents the cleaning liquid sprayed toward the unit roller from flying toward the substrate by forming an emergency prevention groove between the unit rollers, thereby further preventing the substrate from shaking or warping due to the airflow of the cleaning liquid. can have an effect.

도 1은 종래 기술에 따른 기판세정장치의 일부 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 종래 기술에 따른 광폭 롤러에 분사되는 세정액의 기류를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 고안의 일 실시예에 따른 샤프트 구동부의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 고안의 일 실시예에 따른 슬림형 롤러에 분사되는 세정액의 기류를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 일부 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7은 본 고안의 다른 실시예에 따른 슬림형 롤러의 구조를 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing a partial configuration of a substrate cleaning apparatus according to the prior art.
2 is a view showing an airflow of a cleaning liquid sprayed on a wide roller according to the prior art.
3 is a diagram schematically showing the structure of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing the structure of a shaft driving unit according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing an airflow of a cleaning liquid sprayed on a slim roller according to an embodiment of the present invention.
6 is a diagram schematically showing a partial configuration of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing the structure of a slim roller according to another embodiment of the present invention.

이하, 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 고안의 바람직한 실시 예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시 예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above-described problem to be solved can be specifically realized will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiments, the same names and the same reference numerals are used for the same components, and an additional description thereof will be omitted below.

도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 4는 본 고안의 일 실시예에 따른 샤프트 구동부의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이며, 도 5는 본 고안의 일 실시예에 따른 슬림형 롤러에 분사되는 세정액의 기류를 나타낸 도면이다.Figure 3 is a diagram schematically showing the structure of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a diagram schematically showing the structure of a shaft driving unit according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is the present invention It is a view showing the airflow of the cleaning liquid sprayed on the slim roller according to an embodiment of the.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치는 세정챔버(100)와, 이송유닛(200) 및 세정모듈(300)을 포함할 수 있다.3 and 4 , the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention may include a cleaning chamber 100 , a transfer unit 200 , and a cleaning module 300 .

상기 세정챔버(100)는 내부에 세정액을 사용하여 기판(S)을 처리하는 공간을 제공한다. The cleaning chamber 100 provides a space for processing the substrate S using a cleaning liquid therein.

도시되지는 않았지만, 상기 세정챔버(100)의 일측에는 기판(S)의 출입이 이루어지는 출입구가 형성되고, 타측에는 기판(S)이 배출이 이루어지는 배출구가 형성될 수 있다.Although not shown, an entrance through which the substrate S is exited may be formed on one side of the cleaning chamber 100 , and an exit port through which the substrate S is discharged may be formed on the other side of the cleaning chamber 100 .

상기 세정챔버(100)의 하부에는 세정챔버(100) 내부에 설치되는 구성품들을 지지하기 위한 베이스 플레이트(110)가 설치될 수 있다. 이때, 도시되지는 않았지만, 상기 베이스 플레이트(110)에는 세정공정을 마친 세정액과 이에 포함된 이물질을 상기 세정챔버(100) 외부로 부출하기 위한 배기구가 설치될 수 있다.A base plate 110 for supporting components installed in the cleaning chamber 100 may be installed at a lower portion of the cleaning chamber 100 . At this time, although not shown, the base plate 110 may be provided with an exhaust port for ejecting the cleaning liquid and foreign substances contained therein to the outside of the cleaning chamber 100 .

상기 베이스 플레이트(110)의 상면에는 후술하는 반송샤프트(230) 및 세정액 흡입유닛(500)을 설치하기 위한 한쌍의 설치 프레임(120)이 설치될 수 있다. A pair of installation frames 120 for installing a transport shaft 230 and a cleaning solution suction unit 500 to be described later may be installed on the upper surface of the base plate 110 .

상기 이송유닛(200)은 상기 세정챔버(100) 내부에서 기판(S)을 이송시킨다. The transfer unit 200 transfers the substrate S in the cleaning chamber 100 .

이러한 상기 이송유닛(200)은 상기 기판(S)을 이송시키기 위한 복수개의 슬림형 롤러(210)가 관통 설치된 복수개의 반송샤프트(230) 및 상기 복수의 반송샤프트(230)를 회전시키는 샤프트 구동부(250)를 포함할 수 있다.The transfer unit 200 includes a plurality of transport shafts 230 through which a plurality of slim rollers 210 for transporting the substrate S are installed, and a shaft driving unit 250 for rotating the plurality of transport shafts 230 . ) may be included.

상기 슬림형 롤러(210)들이 설치된 반송샤프트(230)는 상기 기판(S)이 이송되는 방향을 따라 소정 간격으로 이격된 위치에 복수로 배치되어 기판(S)을 지지하며 회전된다. 이때, 상기 반송샤프트(230)의 양단부는 한쌍의 설치 프레임(120)에 회전 가능하도록 설치될 수 있다.A plurality of transport shafts 230 on which the slim rollers 210 are installed are disposed at positions spaced apart from each other at predetermined intervals along a direction in which the substrate S is transported, and rotated while supporting the substrate S. In this case, both ends of the transport shaft 230 may be rotatably installed on the pair of installation frames 120 .

도 4를 참조하면, 상기 이송유닛(200)의 샤프트 구동부(250)는 모터(251)와, 제1 기어(252)와, 회전축(253)과, 제2 기어(254)와, 제3 기어(255) 및 제4 기어(256)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4 , the shaft driving unit 250 of the transfer unit 200 includes a motor 251 , a first gear 252 , a rotating shaft 253 , a second gear 254 , and a third gear. 255 and a fourth gear 256 .

즉, 상기 세정챔버(100)의 일측에는 모터(251)가 설치될 수 있으며, 상기 모터(251)의 구동축의 단부에는 제1 기어(252)가 설치될 수 있다.That is, a motor 251 may be installed at one side of the cleaning chamber 100 , and a first gear 252 may be installed at an end of a drive shaft of the motor 251 .

또한, 상기 설치 프레임(120)의 측면에는 상기 반송샤프트(230)의 배열방향, 즉 반송샤프트(230)가 회전함에 따라 이동하는 기판(S)의 진행방향을 따라 회전축(253)이 설치될 수 있다.In addition, a rotation shaft 253 may be installed on the side of the installation frame 120 in the arrangement direction of the conveying shaft 230 , that is, along the traveling direction of the substrate S that moves as the conveying shaft 230 rotates. have.

상기 회전축(253)에는 상기 제2 기어(254)가 설치되어, 상기 모터(251)의 구동축 단부에 설치된 상기 제1 기어(252)와 맞물리게 설치될 수 있다. The second gear 254 may be installed on the rotation shaft 253 , and may be installed to be engaged with the first gear 252 installed at an end of the drive shaft of the motor 251 .

또한, 상기 반송샤프트(230)에 대응하는 위치의 회전축(253)에는 복수개의 제3 기어(255)가 설치될 수 있으며, 상기 반송샤프트(230)의 단부에는 각각의 제3 기어(255)와 맞물리는 제4 기어(256)가 설치될 수 있다.In addition, a plurality of third gears 255 may be installed on the rotation shaft 253 at a position corresponding to the transport shaft 230, and each third gear 255 and A fourth gear 256 that meshes may be installed.

이때, 서로 맞물리는 상기 제1 기어(252) 및 제2 기어(254)는 상기 모터(251)의 구동력을 상기 회전축(253)에 전달하고 상기 제3 기어(255) 및 제4 기어(256)는 상기 회전축(253)의 회전력을 상기 반송샤프트(230)에 전달한다. At this time, the first gear 252 and the second gear 254 meshing with each other transmit the driving force of the motor 251 to the rotation shaft 253 and the third gear 255 and the fourth gear 256 . transmits the rotational force of the rotating shaft 253 to the conveying shaft 230 .

결과적으로, 상기 모터(251)가 구동함에 따라 상기 모터(251)의 구동축이 회전하면, 상기 구동축의 회전력이 상기 제1 기어(252) 및 제2 기어(254)를 통해 상기 회전축(253)에 전달되며, 상기 회전축(253)의 회전력은 상기 제3 기어(255) 및 제4 기어(256)를 통해 상기 반송샤프트(230)에 전달되어, 상기 반송샤프트(230)에 설치된 슬림형 롤러(210)에 놓인 기판(S)이 이송되는 것이다.As a result, when the driving shaft of the motor 251 rotates as the motor 251 is driven, the rotational force of the driving shaft is applied to the rotation shaft 253 through the first gear 252 and the second gear 254 . is transmitted, and the rotational force of the rotating shaft 253 is transmitted to the conveying shaft 230 through the third gear 255 and the fourth gear 256, and the slim roller 210 installed on the conveying shaft 230. The substrate (S) placed on the will be transferred.

이때, 상기 제1 기어(252) 및 상기 제2 기어(254)는 두 회전축이 서로 수직한 헬리컬기어(helical gear)로서, 2개의 원통상에 나선형상의 나사산을 형성하여 상기 회전축(253)에 회전력을 전달한다. 또한, 상기 제3 기어(255) 및 상기 제4 기어(256) 역시 두 회전축이 서로 수직한 헬리컬기어로 이루어질 수 있다. At this time, the first gear 252 and the second gear 254 are helical gears in which two rotation shafts are perpendicular to each other, and a helical thread is formed on two cylinders to apply a rotational force to the rotation shaft 253 . to convey In addition, the third gear 255 and the fourth gear 256 may also be formed of a helical gear in which two rotation shafts are perpendicular to each other.

한편, 본 고안에 사용되는 기어가 상기와 같은 헬리컬기어에만 한정되는 것은 아니다. 본 고안에서 기어가 사용되는 이유는 서로 수직으로 배치된 축 사이에 회전력을 전달하여 상기 모터(251)의 구동력에 의해 반송샤프트(230)를 회전시키기 위한 것이다. On the other hand, the gear used in the present invention is not limited to the helical gear as described above. The reason why the gear is used in the present invention is to rotate the conveying shaft 230 by the driving force of the motor 251 by transmitting a rotational force between the shafts arranged perpendicular to each other.

따라서, 서로 수직하는 축 사이에 회전력을 전달할 수만 있다면 어떠한 기어라도 사용할 수 있을 것이다. 예를 들어, 베벨기어(bevel gear)나 웜기어(worm gear) 역시 모터(251)의 구동력을 반송샤프트(230)에 전달하는 전달수단으로 훌륭하게 적용될 수 있을 것이다. 또한, 기어 이외에 벨트나 체인과 같은 각종의 동력전달장치를 사용할 수도 있을 것이다.Therefore, any gear can be used as long as it can transmit rotational force between the axes perpendicular to each other. For example, a bevel gear or a worm gear may also be excellently applied as a transmission means for transmitting the driving force of the motor 251 to the conveying shaft 230 . In addition, various power transmission devices such as belts or chains may be used in addition to gears.

상기 세정모듈(300)은 상기 세정챔버(100)의 내부 공간에 배치되어 상기 기판(S)을 향해 세정액을 분사시켜 상기 기판(S) 표면상에 잔류하는 이물질을 제거한다.The cleaning module 300 is disposed in the interior space of the cleaning chamber 100 and sprays a cleaning solution toward the substrate S to remove foreign substances remaining on the surface of the substrate S.

이때, 상기 세정모듈(300)은 상기 기판(S)의 상부면으로 세정액을 분사하기 위한 제1 분사노즐(310) 및 상기 기판(S)의 하부면으로 세정액을 분사하기 위한 제2 분사노즐(330)을 포함할 수 있다.At this time, the cleaning module 300 includes a first spray nozzle 310 for spraying the cleaning liquid to the upper surface of the substrate S and a second spray nozzle for spraying the cleaning liquid to the lower surface of the substrate S ( 330) may be included.

상기 제1 분사노즐(310)은 상기 기판(S)의 상부를 가로지르는 바(bar) 형상으로 형성되어, 상기 슬림형 롤러(210)들에 의해 일 방향으로 이송되는 상기 기판(S)의 상면에 세정액을 분사하여 상기 기판(S)의 상면에 묻은 이물질을 제거하게 된다. 이때, 상기 제1 분사노즐(310)은 상기 세정액을 토출시키기 위한 복수개의 제1 분사구(311)가 구비될 수 있다.The first injection nozzle 310 is formed in a bar shape crossing the upper portion of the substrate S, and is transferred in one direction by the slim rollers 210 on the upper surface of the substrate S. The cleaning solution is sprayed to remove foreign substances attached to the upper surface of the substrate (S). In this case, the first injection nozzle 310 may be provided with a plurality of first injection holes 311 for discharging the cleaning liquid.

상기 제2 분사노즐(330)은 상기 세정챔버(100)의 내부에 설치되되, 상기 기판(S)의 하부측에 설치되어 상기 기판(S)의 하부측으로 세정액을 분사하여 기판(S)의 하부에 묻어 있는 이물질을 제거한다. 이때, 상기 제2 분사노즐(330)은 상기 세정액을 토출시키기 위한 복수개의 제2 분사구(331)가 구비될 수 있다.The second injection nozzle 330 is installed inside the cleaning chamber 100 , is installed on the lower side of the substrate S, and sprays a cleaning solution to the lower side of the substrate S to lower the substrate S. Remove any foreign matter on the In this case, the second injection nozzle 330 may be provided with a plurality of second injection holes 331 for discharging the cleaning liquid.

상기 제2 분사노즐(330)의 구조는 상기 제1 분사노즐(310)의 구조와 동일하여 자세한 설명은 생략하기로 한다.The structure of the second injection nozzle 330 is the same as that of the first injection nozzle 310 , and thus a detailed description thereof will be omitted.

본 고안의 일 실시예에 따른 상기 슬림형 롤러(210)의 폭(도6의 W)은 상기 반송샤프트(230)의 직경(도6의 D1)보다 작게 형성되는 것이 바람직하며, 상기 슬림형 롤러(210)의 폭(W)은 상기 반송샤프트(230)의 반지름(도6의 D2)보다 작게 형성되는 것이 더욱 바람직하다.The width (W in FIG. 6) of the slim roller 210 according to an embodiment of the present invention is preferably formed to be smaller than the diameter (D1 in FIG. 6) of the conveying shaft 230, and the slim roller 210 ) is more preferably formed to be smaller than the radius (D2 in FIG. 6) of the conveying shaft 230 (W).

즉, 본 고안의 일 실시예에 따른 상기 슬림형 롤러(210)의 폭(W)을 상기 반송샤프트(230)의 반지름(D2)보다 작게 형성함에 따라, 상기 제1 분사노즐(310)로부터 분사되는 세정액과 상기 슬림형 롤러(210)와 접촉되는 접촉 면적이 작아지게 됨으로써, 도 5에 도시된 바와 같이, 세정액이 상기 슬림형 롤러(210)와 부딪혀 상향 이동되는 상승기류의 비중이 작어지게 된다. That is, as the width W of the slim roller 210 according to an embodiment of the present invention is formed smaller than the radius D2 of the conveying shaft 230, the first injection nozzle 310 is injected. As the contact area between the cleaning liquid and the slim roller 210 is reduced, as shown in FIG. 5 , the specific gravity of the upward airflow in which the cleaning liquid collides with the slim roller 210 and moves upward becomes smaller.

이에 따라, 분사되는 세정액의 상승기류에 의한 영향으로 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 방지할 수 있게 된다.Accordingly, it is possible to prevent a phenomenon in which the substrate S vibrates or warps due to the influence of the rising air flow of the sprayed cleaning liquid.

한편, 상기 슬림형 롤러(210)와 이웃하는 슬림형 롤러(210) 사이에는 비상 방지부(400)가 형성될 수 있다. Meanwhile, an emergency prevention unit 400 may be formed between the slim roller 210 and the adjacent slim roller 210 .

상기 비상 방지부(400)는 분사되는 세정액의 일부가 유입될 수 있다.A portion of the sprayed cleaning liquid may be introduced into the emergency prevention unit 400 .

즉, 상기 비상 방지부(400)로 유입된 상기 일부의 세정액은 상기 슬림형 롤러(210)와 이웃하는 슬림형 롤러(210)의 양 측면에 부딪히게 되어 상기 기판(S) 측으로 비상되는 것을 방지할 수 있어, 세정액의 기류에 의한 영향으로 상기 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 더욱 방지할 수 있게 된다.That is, the part of the cleaning liquid flowing into the emergency prevention unit 400 collides with both sides of the slim roller 210 and the adjacent slim roller 210 to prevent flying toward the substrate S. Therefore, it is possible to further prevent the phenomenon that the substrate S vibrates or warps due to the influence of the airflow of the cleaning liquid.

도 3 및 도 6은 본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 일부 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다. 이때, 도 6a는 본 고안의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 일부 구성을 나타낸 것이고, 도 6b는 도 6a의 A의 부분의 측면을 나타낸 상태에서 세정액 흡입유닛에 의해 세정액이 흡입되면서, 상기 슬림형 롤로 주변의 상승기류가 제거되는 상태를 나타낸 것이다.3 and 6 are views schematically showing some configurations of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. At this time, FIG. 6A shows a partial configuration of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a side view of part A of FIG. 6A while the cleaning liquid is sucked by the cleaning liquid suction unit, the slim type It shows the state in which the updraft around the roll is removed.

도 6을 참조하면, 본 고안의 일 실시예에 따른 상기 기판(S)세정장치는 세정액 흡입유닛(500)을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6 , the substrate (S) cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a cleaning liquid suction unit 500 .

상기 세정액 흡입유닛(500)은 상기 슬림형 롤러(210)의 하부에 배치되어, 상기 세정모듈(300)로부터 분사되는 상기 세정액을 흡입하여 상기 세정액의 상승기류를 제거할 수 있다. 이러한 상기 세정액 흡입유닛(500)은 흡입챔버(510)와, 흡입연결구(530) 및 흡입구동원(550)을 포함할 수 있다.The cleaning liquid suction unit 500 may be disposed under the slim roller 210 to suck the cleaning liquid sprayed from the cleaning module 300 to remove the upward airflow of the cleaning liquid. The cleaning liquid suction unit 500 may include a suction chamber 510 , a suction connector 530 , and a suction driving source 550 .

상기 흡입챔버(510)는 상기 슬림형 롤러(210)의 하부 영역 중 적어도 일부가 수용되도록 설치되어 상기 제1 분사노즐(310)에 의해 분사되는 세정액을 수용할 수 있다.The suction chamber 510 may be installed to accommodate at least a portion of the lower region of the slim roller 210 to receive the cleaning liquid sprayed by the first spray nozzle 310 .

상기 흡입연결구(530)는 상기 흡입챔버(510)의 내부 공간과 연통되도록 설되어 상기 흡입챔버(510)로 유입된 세정액을 외부로 배출시킬 수 있다.The suction connector 530 may be installed to communicate with the inner space of the suction chamber 510 to discharge the cleaning liquid flowing into the suction chamber 510 to the outside.

상기 흡입구동원(550)은 상기 흡입연결구(530)와 연결되어 상기 슬림형 롤러(210) 주변의 세정액을 흡입시키기 위한 흡입력을 제공할 수 있다. 이때, 상기 흡입구동원(550)은 흡입펌프 및 흡입팬 등이 사용될 수 있다.The suction driving source 550 may be connected to the suction connector 530 to provide a suction force for sucking the cleaning liquid around the slim roller 210 . In this case, the suction driving source 550 may be a suction pump or a suction fan.

즉, 상기 제1 분사노즐(310)에 의해 분사되는 세정액이 상기 슬림형 롤러(210)들 측으로 분사되면, 상기 분사된 세정액의 일부는 상기 흡입챔버(510)의 내부에 수용되고, 일부는 상기 슬림형 롤러(210)와 부딪히면서 상기 흡입챔버(510) 내부에서 비산되는 현상을 발생하게 된다. That is, when the cleaning liquid sprayed by the first spray nozzle 310 is sprayed toward the slim rollers 210 , a portion of the sprayed cleaning liquid is accommodated in the suction chamber 510 , and a portion of the sprayed cleaning liquid is accommodated in the suction chamber 510 . As it collides with the roller 210 , a phenomenon of scattering occurs inside the suction chamber 510 .

이때, 상기 흡입구동원(550)을 작동시키게 되면 상기 흡입챔버(510)에 수용된 세정액 및 비산된 세정액은 상기 흡입연결구(530)를 통해 외부로 배출시킬 수 있다. At this time, when the suction driving source 550 is operated, the cleaning liquid accommodated in the suction chamber 510 and the scattered cleaning liquid may be discharged to the outside through the suction connector 530 .

이에 따라, 상기 슬림형 롤러(210) 주변의 세정액에 대한 기류는 종래와 다르게, 하강기류가 발생하게 되어 상기 세정액의 기류에 의해 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 방지할 수 있게 된다. Accordingly, the airflow for the cleaning liquid around the slim roller 210 is different from the conventional one, and a descending airflow is generated, thereby preventing the substrate S from shaking or warping due to the airflow of the cleaning liquid.

한편, 도시되지는 않았지만, 상기 세정액 흡입유닛(500)은 제어부를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, although not shown, the cleaning liquid suction unit 500 may further include a control unit.

상기 제어부는 상기 기판(S)이 상기 슬림형 롤러(210)에 진입되기 전에는 상기 세정액 흡입유닛(500)의 흡인력을 높이고, 상기 기판(s)이 상기 슬림형 롤러(210)에 진입된 이후에는 상기 흡인력을 낮추거나 멈출 수 있도록 상기 흡입구동원(550)을 제어할 수 있다.The control unit increases the suction power of the cleaning liquid suction unit 500 before the substrate S enters the slim roller 210, and after the substrate S enters the slim roller 210, the suction power It is possible to control the suction driving source 550 to lower or stop.

더욱 구체적으로, 상기 제어부는 상기 기판(S)이 상기 슬림형 롤러(210)에 진입되기 전에는 상기 흡입구동원(550)을 제어하여 상기 슬림형 롤러(210) 주변의 상기 세정액을 흡입하기 위한 흡인력을 높여 상기 슬림형 롤러(210) 주변의 상기 세정액을 완벽히 흡입할 수 있도록 한다.More specifically, the control unit controls the suction driving source 550 before the substrate S enters the slim roller 210 to increase the suction force for sucking the cleaning liquid around the slim roller 210, The cleaning liquid around the slim roller 210 can be completely sucked.

그러나, 상기 기판(S)이 상기 슬림형 롤러(210)로 진입되어 세정이 이루어지게 되면, 상기 슬림형 롤러의 주변에는 소량의 세정액만 존재하기 때문에 상기 세정액 흡입유닛(500)의 흡인력을 높게 할 필요가 없다. 이때, 상기 제어부를 통해 상기 흡입구동원(550)을 제어하여 흡인력을 낮추거나 멈추게 한다.However, when the substrate S enters the slim roller 210 and cleaning is performed, there is only a small amount of cleaning liquid around the slim roller, so it is necessary to increase the suction power of the cleaning liquid suction unit 500. none. At this time, the suction driving source 550 is controlled through the control unit to lower or stop the suction force.

즉, 상기 제어부에 의해 상기 세정액 흡입유닛(500)을 선택적으로 제어할 수 있어 상기 세정액 흡입수단(500)을 구동하기 위한 구동전력을 낮출 수 있는 이점이 있다. That is, since the control unit can selectively control the washing solution suction unit 500 , there is an advantage in that the driving power for driving the washing solution suction unit 500 can be reduced.

지금부터는 본 고안의 일 실시예에 따른 상기 기판세정장치의 작용을 설명하기로 한다.From now on, the operation of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described.

상기 기판(S)의 세정을 위해 상기 세정챔버(100)로 상기 기판(S)이 유입되면, 상기 세정챔버(100) 내부에 설치된 상기 제1 분사노즐(310) 및 제2 분사노즐(330)로부터 상기 세정액이 분사된다.When the substrate (S) is introduced into the cleaning chamber (100) for cleaning the substrate (S), the first injection nozzle (310) and the second injection nozzle (330) installed inside the cleaning chamber (100) The cleaning liquid is sprayed from

상기 기판(S)이 상기 제1 분사노즐(310) 측으로 이송되기 전에는 상기 제1 분사노즐(310)에 의해 분사되는 세정액의 상기 슬림형 롤러(210)들 측으로 분사된다.Before the substrate S is transferred to the first spray nozzle 310 , the cleaning liquid sprayed by the first spray nozzle 310 is sprayed toward the slim rollers 210 .

이때, 상기 슬림형 롤러(210)들 측으로 분사된 상기 세정액은 상기 슬림형 롤러(210)들과 부딪히면서 상기 세정액 흡입유닛(500)의 상기 흡입챔버(510)에 수용되는 것과 동시에 상기 흡입챔버(510) 내부 즉, 상기 슬림형 롤러(210)들 주변에서 비산된다.At this time, the cleaning liquid sprayed toward the slim rollers 210 is accommodated in the suction chamber 510 of the cleaning liquid suction unit 500 while colliding with the slim rollers 210 and at the same time inside the suction chamber 510 . That is, they are scattered around the slim rollers 210 .

이때, 상기 흡입구동원(550)을 작동시켜 흡입챔버(510) 내부에 수용된 세정액 및 상기 슬림형 롤러(210)들 주면에서 비산된 세정액을 흡입시켜 흡입연결구(530)를 통해 외부로 배출시킨다.At this time, the suction driving source 550 is operated to suck the cleaning liquid accommodated in the suction chamber 510 and the cleaning liquid scattered from the main surfaces of the slim rollers 210 , and discharge it to the outside through the suction connector 530 .

이에 따라, 상기 슬림형 롤러(210)들 주변으로 분사된 세정액은 외부로 배출되면서 상기 슬림형 롤러(210)들 주변에는 하강기류가 발생하게 된다.Accordingly, while the cleaning liquid sprayed around the slim rollers 210 is discharged to the outside, a downdraft is generated around the slim rollers 210 .

결과적으로 상기 기판(S)의 선단부는 상기 세정액의 기류에 의한 영향을 받지 않게 됨에 따라, 상기 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 방지하게 되어 할 수 있기 때문에 상기 기판(S)의 손상을 줄일 수 있게 된다. As a result, since the tip of the substrate S is not affected by the airflow of the cleaning liquid, the substrate S can be prevented from shaking or warping, thereby reducing damage to the substrate S. be able to

이와 동일하게, 상기 기판의 세정이 완료된 상태에서 상기 기판이 배출되는 과정에서도 상기 기판(S)의 후단부는 상기 세정액의 기류에 의한 영향을 받지 않게 되어 상기 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 방지할 수 있다.Similarly, even in the process of discharging the substrate in a state in which the cleaning of the substrate is completed, the rear end of the substrate S is not affected by the airflow of the cleaning liquid, thereby preventing the substrate S from shaking or warping. can do.

이상 상술한 바와 같은, 본 고안의 따른 상기 기판세정장치는 상기 기판의 하부에 슬림형 롤러(210)를 배치하고, 상기 슬림형 롤러(210)의 하부에 세정액 흡입유닛(500)을 구비함으로써, 세정액의 상승기류를 제거할 수 있어, 세정액의 기류에 의한 영향으로 상기 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다. 이에 따라, 상기 기판(S)의 원활한 이송을 가능하게 하여 공정 불량을 최소화할 수 있다.As described above, in the substrate cleaning apparatus according to the present invention, a slim roller 210 is disposed on the lower portion of the substrate, and a cleaning liquid suction unit 500 is provided under the slim roller 210, so that the cleaning liquid It is possible to remove the updraft, and there is an effect that prevents the substrate S from shaking or warping due to the influence of the airflow of the cleaning liquid. Accordingly, by enabling smooth transfer of the substrate S, process defects can be minimized.

도 7은 본 고안의 다른 실시예에 따른 슬림형 롤러(600)의 구조를 나타낸 도면이다.7 is a view showing the structure of the slim roller 600 according to another embodiment of the present invention.

지금부터는 본 고안의 다른 실시예에 따른 슬림형 롤러(600)에 대해 설명하면 다음과 같다.From now on, the slim roller 600 according to another embodiment of the present invention will be described as follows.

도 7을 참조하면, 본 고안의 다른 실시예에 따른 슬림형 롤러(600)는 복수개의 단위 롤러(610)와, 연결부재(630) 및 비상 방지홈부(650)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 7 , the slim roller 600 according to another embodiment of the present invention may include a plurality of unit rollers 610 , a connecting member 630 , and an emergency prevention groove 650 .

본 고안의 일 실시예에서의 상기 슬림형 롤러(210)는 각각의 상기 슬림형 롤러(210)를 제작하여 반송샤프트(230)에 결합시킨 구조를 제시하였으나, 본 고안의 다른 실시예에 따른 상기 슬림형 롤러(600)는 후술하는 연결부재(630)에 의해 연결된 상기 단위 롤러(610)들을 제작하여 상기 단위 롤러(610)들을 상기 반송샤프트(230)에 결합시킨 구조를 제시한다. Although the slim roller 210 in one embodiment of the present invention has a structure in which each of the slim roller 210 is manufactured and coupled to the transport shaft 230, the slim roller according to another embodiment of the present invention Reference numeral 600 shows a structure in which the unit rollers 610 connected by a connection member 630 to be described later are manufactured, and the unit rollers 610 are coupled to the conveying shaft 230 .

즉, 본 고안의 실시예에 따른 슬림형 롤러(210)는 상기 복수개의 단위 롤러(610)가 상기 연결부재(630)에 의해 연결되도록 형성될 수 있다.That is, the slim roller 210 according to the embodiment of the present invention may be formed such that the plurality of unit rollers 610 are connected by the connecting member 630 .

이때, 상기 연결부재(630)의 일단은 상기 단위 롤러(610)의 일측면에 연결되고 타단은 이웃하는 단위 롤러(610)의 일측면에 연결되어 상기 단위 롤러(610)와 상기 이웃하는 단위 롤러(610)를 연결시킬 수 있다.At this time, one end of the connecting member 630 is connected to one side of the unit roller 610 and the other end is connected to one side of the unit roller 610 adjacent to the unit roller 610 and the neighboring unit roller. 610 may be connected.

상기 연결부재(630)는 상기 각 단위 롤러와 함께 상기 반송샤프트(230)에 관통된 상태로 결합되고, 상기 단위 롤러(610)들은 상기 반송샤프트(230)와 함께 일체로 회전될 수 있다.The connecting member 630 is coupled to the conveying shaft 230 together with each of the unit rollers while being penetrated, and the unit rollers 610 may be integrally rotated together with the conveying shaft 230 .

상기 비상 방지홈부(650)는 상기 이웃하는 단위 롤러(610) 사이에 오목하게 형성되어, 상기 단위 롤러(610)들 측으로 분사되는 상기 세정액의 일부를 유입시켜 상기 기판(S) 측으로 비상되는 것을 방지한다.The emergency prevention groove 650 is formed concavely between the adjacent unit rollers 610 to introduce a portion of the cleaning solution sprayed toward the unit rollers 610 to prevent flying toward the substrate S. do.

즉, 상기 비상 방지홈부(650)로 유입된 상기 일부의 세정액은 상기 단위 롤러(610)와 이웃하는 단위 롤러(610)의 양 측면에 부딪히게 되어 상기 기판(S) 측으로 비상되는 것을 방지할 수 있어, 비상되는 세정액에 의한 영향으로 상기 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 방지할 수 있게 된다.That is, the part of the cleaning liquid introduced into the emergency prevention groove 650 collides with both sides of the unit roller 610 and the adjacent unit roller 610 to prevent flying toward the substrate S. Thus, it is possible to prevent a phenomenon in which the substrate S vibrates or warps due to the influence of the flying cleaning solution.

이상 상술한 바와 같은, 본 고안의 다른 실시예에 따른 상기 기판세정장치는 상기 단위 롤러(610)들 사이에 상기 비상 방지홈부(650)가 형성된 것에 의해 상기 단위 롤러(610)들 측으로 분사되는 상기 세정액이 상기 기판(S) 측으로 비상되는 것을 방지함에 따라, 세정액의 기류에 의한 영향으로 상기 기판(S)이 떨리거나 휘어지는 현상을 더욱 방지할 수 있다. As described above, in the substrate cleaning apparatus according to another embodiment of the present invention, the emergency prevention groove 650 is formed between the unit rollers 610, so that the unit rollers 610 are sprayed. As the cleaning liquid is prevented from flying toward the substrate S, it is possible to further prevent the substrate S from shaking or warping due to the airflow of the cleaning liquid.

상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 고안의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 고안을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.Although the preferred embodiment of the present invention has been described with reference to the drawings as described above, those skilled in the art can variously change the present invention within the scope without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. may be modified or changed.

100: 세정챔버 110: 베이스 플레이트
120: 설치 프레임 200: 이송유닛
210: 슬림형 롤러 230: 반송 샤프트
250: 샤프트 구동부 251: 모터
252: 제1 기어 253: 회전축
254: 제2 기어 255: 제3 기어
256: 제4 기어 300: 세정모듈
310: 제1 분사노즐 311: 제1 분사구
330: 제2 분사노즐 331: 제2 분사구
400: 비상 방지부 500: 세정액 흡입유닛
510: 흡입챔버 530: 흡입연결구
550: 흡입구동원 600: 슬림형 롤러
610: 단위 롤러 630: 연결부재
650: 비상 방지홈부100: cleaning chamber 110: base plate
120: installation frame 200: transfer unit
210: slim roller 230: conveying shaft
250: shaft driving unit 251: motor
252: first gear 253: rotation shaft
254: second gear 255: third gear
256: fourth gear 300: cleaning module
310: first injection nozzle 311: first injection port
330: second injection nozzle 331: second injection port
400: emergency prevention unit 500: cleaning liquid suction unit
510: suction chamber 530: suction connector
550: suction driving source 600: slim roller
610: unit roller 630: connecting member
650: emergency prevention groove

Claims

a cleaning chamber forming a space in which the substrate is cleaned;
a conveying shaft disposed in the inner space of the cleaning chamber and provided with a plurality of slim rollers for conveying the substrate;
a cleaning module disposed in the interior space of the cleaning chamber to spray a cleaning solution toward the substrate;
a base plate installed under the cleaning chamber;
a pair of installation frames provided on the upper surface of the base plate; and
A cleaning liquid suction unit installed on the installation frame in the inner space of the cleaning chamber and disposed under the slim roller to suck the cleaning liquid sprayed from the cleaning module to remove an updraft of the cleaning liquid,
The width of the slim roller is formed smaller than the diameter of the conveying shaft,
The cleaning liquid suction unit,
a suction chamber disposed under each of the slim rollers and accommodating at least a portion of a lower region of the slim roller;
a suction connector installed to communicate with the inner space of the suction chamber;
and a suction driving source connected to the suction connector to provide a suction force to suck the cleaning liquid around the slim roller.

delete

The method of claim 1,
The cleaning liquid suction unit,
Substrate cleaning apparatus further comprising a control unit for controlling the suction driving source to increase the suction force before the substrate enters the slim roller, and to lower or stop the suction force after the substrate enters the slim roller.

a cleaning chamber forming a space in which the substrate is cleaned;
a conveying shaft disposed in the inner space of the cleaning chamber and provided with a plurality of slim rollers for conveying the substrate; and
and a cleaning module disposed in the interior space of the cleaning chamber to spray the cleaning liquid toward the substrate; and
The width of the slim roller is formed smaller than the diameter of the conveying shaft,
The slim roller is
a plurality of unit rollers;
A connecting member installed through the conveying shaft, one end connected to one side of the unit roller and the other end connected to one side of the neighboring unit roller to connect the unit roller and the neighboring unit roller; ,
and an emergency prevention groove formed concavely between the adjacent unit rollers to prevent a portion of the cleaning liquid sprayed toward the unit rollers from flying toward the substrate.

6. The method of claim 5,
The unit rollers are a substrate cleaning apparatus, characterized in that rotated integrally with the conveying shaft.