KR20040077560A - 액적 토출 장치 및 토출 이상 회복 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (50)
- 구동 회로에 의해 액추에이터를 구동하여, 캐비티 내의 액체를 노즐로부터 액적으로서 토출하는 복수의 액적 토출 헤드로 이루어지는 헤드 유닛을 갖는 액적 토출 장치로서,상기 액적 토출 헤드의 토출 이상(異常)을 그 원인과 함께 검출하는 토출 이상 검출 수단과,상기 노즐로부터 액적을 토출했을 때, 상기 토출 이상 검출 수단에 의해 토출의 이상이 검출된 경우에는, 그 토출 이상의 원인에 따라, 회복 처리를 실행하는 회복 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 회복 수단은,상기 액적 토출 헤드의 노즐이 배열되는 노즐면을 와이퍼에 의해 와이핑 처리하는 와이핑 수단과,상기 액추에이터를 구동하여 노즐로부터 상기 액적을 예비적으로 토출하는 플러싱 처리를 실행하는 플러싱 수단과,상기 액적 토출 헤드의 노즐면을 덮는 캡에 접속하는 펌프에 의해 펌프 흡인처리를 행하는 펌핑 수단을 포함하는 액적 토출 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단이 검출할 수 있는 토출 이상의 원인은, 상기 캐비티로의 기포 혼입과, 상기 노즐 부근의 액체의 건조에 의한 증점과, 상기 노즐 출구 부근으로의 지분(紙粉) 부착을 포함하고,상기 회복 수단은, 기포 혼입의 경우에는 상기 펌핑 수단에 의한 펌프 흡인 처리를 실행하고, 건조 증점의 경우에는 상기 플러싱 수단에 의한 플러싱 처리 또는 상기 펌핑 수단에 의한 펌프 흡인 처리를 실행하고, 지분 부착의 경우에는 적어도 상기 와이퍼에 의한 와이핑 처리를 실행하는 액적 토출 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 회복 수단은, 상기 토출 이상 검출 수단이 상기 헤드 유닛 내의 복수의 액적 토출 헤드에 상기 펌프 흡인 처리가 필요한 기포 혼입과 건조 증점을 검출한 경우에는, 상기 기포 혼입과 건조 증점으로 된 액적 토출 헤드에 대해 한번에 펌프 흡인 처리를 실행하는액적 토출 장치.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 액적 토출 헤드는, 상기 액추에이터의 구동에 의해 변위되는 진동판을 갖고,상기 토출 이상 검출 수단은, 상기 진동판의 잔류 진동을 검출하여, 해당 검출된 상기 진동판의 잔류 진동의 진동 패턴에 근거해서, 상기 액적의 토출 이상을 검출하는액적 토출 장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은,상기 진동판의 잔류 진동의 진동 패턴에 근거해서, 상기 액적 토출 헤드의 액적의 토출 이상의 유무를 판정하고, 또한 상기 액적 토출 헤드의 액적의 토출 이상이 있다고 판정했을 때, 그 토출 이상의 원인을 판정하는 판정 수단을 포함하는 액적 토출 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 진동판의 잔류 진동의 진동 패턴은, 상기 잔류 진동의 주기를 포함하는액적 토출 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 판정 수단은, 상기 진동판의 잔류 진동의 주기가 소정 범위의 주기보다도 짧을 때에는, 상기 캐비티 내에 기포가 혼입된 것으로 판정하고, 상기 진동판의 잔류 진동의 주기가 소정의 임계값보다도 길 때에는, 상기 노즐 부근의 액체가 건조에 의해 증점한 것으로 판정하고, 상기 진동판의 잔류 진동의 주기가 상기 소정 범위의 주기보다도 길고, 상기 소정의 임계값보다도 짧을 때에는, 상기 노즐의 출구 부근에 지분이 부착된 것으로 판정하는액적 토출 장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은, 발진 회로를 구비하고, 상기 진동판의 잔류 진동에 의해 변화하는 상기 액추에이터의 정전 용량 성분에 근거해서, 해당 발진 회로가 발진하는액적 토출 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 발진 회로는, 상기 액추에이터의 정전 용량 성분과, 상기 액추에이터에 접속되는 저항 소자의 저항 성분에 의한 CR 발진 회로를 구성하는액적 토출 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은, 상기 발진 회로의 출력 신호에서의 발진 주파수의 변화에 근거해서 생성되는 소정의 신호 그룹에 의해, 상기 진동판의 잔류 진동의 전압 파형을 생성하는 F/V 변환 회로를 포함하는액적 토출 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은, 상기 F/V 변환 회로에 의해 생성된 상기 진동판의 잔류 진동의 전압 파형을 소정의 파형으로 정형하는 파형 정형 회로를 포함하는액적 토출 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 파형 정형 회로는,상기 F/V 변환 회로에 의해 생성된 상기 진동판의 잔류 진동의 전압 파형으로부터 직류 성분을 제거하는 DC 성분 제거 수단과, 이 DC 성분 제거 수단에 의해 직류 성분이 제거된 전압 파형과 소정의 전압값을 비교하는 비교기를 포함하고,해당 비교기는, 해당 전압 비교에 근거해서, 구형파를 생성하여 출력하는액적 토출 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은, 상기 파형 정형 회로에 의해 생성된 상기 구형파로부터 상기 진동판의 잔류 진동의 주기를 계측하는 계측 수단을 포함하는액적 토출 장치.
- 제 14 항에 있어서,상기 계측 수단은, 카운터를 갖고, 해당 카운터가 기준 신호의 펄스를 카운트함으로써, 상기 구형파의 상승 에지간 또는 상승 에지와 하강 에지간의 시간을 계측하는액적 토출 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 액추에이터의 구동에 의한 상기 액적의 토출 동작 후, 상기 액추에이터와의 접속을 상기 구동 회로로부터 상기 토출 이상 검출 수단으로 전환하는 전환 수단을 더 구비하는액적 토출 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 액적 토출 장치는, 상기 토출 이상 검출 수단 및 상기 전환 수단을 각각 복수 구비하고,액적 토출 동작을 행한 상기 액적 토출 헤드에 대응하는 상기 전환 수단이 상기 액추에이터와의 접속을 상기 구동 회로로부터 대응하는 상기 토출 이상 검출 수단으로 전환하고, 해당 전환된 토출 이상 검출 수단은, 상기 액적의 토출 이상을 검출하는액적 토출 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 전환 수단은, 상기 액적 토출 헤드에 각각 대응하는 복수의 단위 전환 수단으로 구성되고,상기 토출 이상 검출 수단이 상기 복수 노즐 중 어느 하나의 노즐에 대해 상기 액적의 토출 이상을 검출할지를 결정하는 검출 결정 수단을 더 구비하고,상기 전환 수단은, 상기 검출 결정 수단에 의해 결정된 상기 액적 토출 헤드의 노즐에 대응하는 상기 액추에이터의 구동에 의한 상기 액적의 토출 동작 후, 상기 액추에이터와의 접속을 상기 구동 회로로부터 상기 토출 이상 검출 수단으로 전환하는액적 토출 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은, 검출 대상으로 되는 상기 노즐의 플러싱 처리에서의 액적 토출 동작 시 또는 인자 동작에서의 액적 토출 동작 시 중 어느 한 타이밍에서 상기 액적의 토출 이상을 검출하는액적 토출 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 액추에이터는, 정전식(靜電式) 액추에이터인 액적 토출 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 액추에이터는, 압전 소자의 피에조 효과를 이용한 압전 액추에이터인 액적 토출 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단에 의해 검출된 상기 액적의 토출 이상의 원인을 검출 대상의 노즐과 관련지어 기억하는 기억 수단을 더 구비하는액적 토출 장치.
- 구동 회로에 의해 액추에이터를 구동하여 액체가 충전된 캐비티 내의 압력을 변화시킴으로써 상기 캐비티에 연통되는 노즐로부터 상기 액체를 액적으로서 토출하는 복수의 액적 토출 헤드를 구비하고, 상기 액적 토출 헤드를 액적 수용물에 대하여 상대적으로 주사하면서 상기 노즐로부터 액적을 토출하여 상기 액적 수용물에착탄(着彈)시키는 액적 토출 장치로서,상기 노즐로부터의 액적의 토출 이상을 그 원인과 함께 검출하는 토출 이상 검출 수단과,상기 액적 토출 헤드에 대해, 액적의 토출 이상의 원인을 해소시키는 회복 처리를 행하는 회복 수단과,상기 토출 이상 검출 수단에 의해 토출 이상이 검출된 노즐을 그 원인과 관련지어 기억하는 기억 수단을 구비하되,상기 전체 노즐에 대하여 상기 토출 이상 검출 수단에 의한 검출을 행한 경우, 토출 이상이 발생한 이상 노즐이 있었을 때에는, 그 토출 이상의 원인에 따른 회복 처리를 적어도 상기 이상 노즐에 대하여 상기 회복 수단에 의해 실행하고, 그 후, 상기 이상 노즐에 대해서만 액적 토출 동작을 행하여 상기 토출 이상 검출 수단에 의한 검출을 재차 행하는 것을 특징으로 하는액적 토출 장치.
- 제 23 항에 있어서,상기 회복 수단은,상기 액적 토출 헤드의 노즐이 배열되는 노즐면을 와이퍼에 의해 닦아내는 와이핑 처리를 행하는 와이핑 수단과, 상기 액추에이터를 구동하여 상기 노즐로부터 액적을 예비적으로 토출하는 플러싱 처리를 실행하는 플러싱 수단과, 상기 액적토출 헤드의 노즐면을 덮는 캡에 접속하는 펌프에 의해 펌프 흡인 처리를 행하는 펌핑 수단을 포함하는액적 토출 장치.
- 제 24 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단이 검출할 수 있는 토출 이상의 원인은, 상기 캐비티로의 기포 혼입과, 상기 노즐 부근의 액체의 건조에 의한 증점과, 상기 노즐 출구 부근으로의 지분 부착을 포함하고,상기 회복 수단은,상기 이상 노즐의 토출 이상의 원인이, 기포 혼입인 경우에는 상기 펌핑 수단에 의한 펌프 흡인 처리를 실행하고, 건조 증점인 경우에는 상기 플러싱 수단에 의한 플러싱 처리 또는 상기 펌핑 수단에 의한 펌프 흡인 처리를 실행하고, 지분 부착의 경우에는 적어도 상기 와이퍼에 의한 와이핑 처리를 실행하는액적 토출 장치.
- 구동 회로에 의해 액추에이터를 구동하여 액체가 충전된 캐비티 내의 압력을 변화시킴으로써 상기 캐비티에 연통되는 노즐로부터 상기 액체를 액적으로서 토출하는 복수의 액적 토출 헤드를 구비하고, 상기 액적 토출 헤드를 액적 수용물에 대해 상대적으로 주사하면서 상기 노즐로부터 액적을 토출하여 상기 액적 수용물에 착탄시키는 액적 토출 장치로서,상기 노즐로부터의 액적의 토출 이상을 그 원인과 함께 검출하는 토출 이상 검출 수단과,상기 액적 토출 헤드에 대하여, 액적의 토출 이상의 원인을 해소시키는 회복 처리를 행하는 회복 수단과,상기 토출 이상 검출 수단에 의해 토출 이상이 검출된 노즐을 그 원인과 관련지어 기억하는 기억 수단을 구비하되,상기 회복 수단은, 상기 액추에이터를 구동하여 상기 노즐로부터 액적을 예비적으로 토출하는 플러싱 처리를 실행하는 플러싱 수단을 포함하고,상기 전체 노즐에 대하여 상기 토출 이상 검출 수단에 의한 검출을 행한 경우, 토출 이상이 발생한 이상 노즐이 있었을 때에는, 상기 이상 노즐에 대해서만 플러싱 처리를 실행한 후, 상기 이상 노즐에 대해서만 액적 토출 동작을 행하여 상기 토출 이상 검출 수단에 의한 검출을 재차 행하고, 토출 이상이 해소되어 있지 않는 재(再) 이상 노즐이 있었을 때에는, 해당 재 이상 노즐의 토출 이상의 원인에 따른 회복 처리를 적어도 상기 재 이상 노즐에 대해 상기 회복 수단에 의해 실행하고, 그 후, 상기 재 이상 노즐에 대해서만 액적 토출 동작을 행하여 상기 토출 이상 검출 수단에 의한 검출을 재차 실행하는것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
- 제 26 항에 있어서,상기 회복 수단은,상기 액적 토출 헤드의 노즐이 배열되는 노즐면을 와이퍼에 의해 닦아내는 와이핑 처리를 행하는 와이핑 수단과, 상기 액적 토출 헤드의 노즐면을 덮는 캡에 접속하는 펌프에 의해 펌프 흡인 처리를 행하는 펌핑 수단을 더 포함하는액적 토출 장치.
- 제 27 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단이 검출할 수 있는 토출 이상의 원인은, 상기 캐비티로의 기포 혼입과, 상기 노즐 부근의 액체의 건조에 의한 증점과, 상기 노즐 출구 부근으로의 지분 부착을 포함하고,상기 회복 수단은, 상기 재 이상 노즐의 토출 이상의 원인이, 기포 혼입 또는 건조 증점인 경우에는 상기 펌핑 수단에 의한 펌프 흡인 처리를 실행하고, 지분 부착의 경우에는 적어도 상기 와이퍼에 의한 와이핑 처리를 실행하는액적 토출 장치.
- 제 24 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 회복 수단은, 토출 이상의 원인에 따른 회복 처리를 행한 후, 상기 각 노즐에 대해 플러싱 처리를 실행하는액적 토출 장치.
- 제 24 항, 제 25 항, 제 27 항 및 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 와이핑 수단은,복수 조의 노즐 그룹마다 개별적으로 와이핑 처리할 수 있도록 구성되고, 상기 이상 노즐 또는 상기 재 이상 노즐의 토출 이상의 원인에 따라 와이핑 처리할 때, 상기 이상 노즐 또는 상기 재 이상 노즐을 포함하는 노즐 그룹에 대해서만 와이핑 처리를 행하는액적 토출 장치.
- 제 24 항, 제 25 항, 제 27 항 및 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 펌핑 수단은,복수 조의 노즐 그룹마다 개별적으로 펌프 흡인 처리를 행할 수 있도록 구성되고, 상기 이상 노즐 또는 상기 재 이상 노즐의 토출 이상의 원인에 따라 펌프 흡인 처리할 때, 상기 이상 노즐 또는 상기 재 이상 노즐을 포함하는 노즐 그룹에 대해서만 펌프 흡인 처리를 행하는액적 토출 장치.
- 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서,상기 복수 조의 노즐 그룹은, 토출하는 액적의 종류가 서로 다른 액적 토출 장치.
- 제 23 항 또는 제 26 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단에 의한 검출을 행한 결과, 토출 이상이 검출된 노즐이 있었을 경우, 그 취지를 통지하는 통지 수단을 더 구비하는액적 토출 장치.
- 제 23 항 또는 제 26 항에 있어서,상기 액적 토출 헤드의 액추에이터는, 상기 캐비티 내의 압력을 변화시키도록 변위할 수 있는 진동판을 갖고,상기 토출 이상 검출 수단은, 상기 진동판의 잔류 진동을 검출하여, 해당 검출된 상기 진동판의 잔류 진동의 진동 패턴에 근거해서, 토출 이상을 검출하는액적 토출 장치.
- 제 34 항에 있어서,상기 액추에이터는, 정전식 액추에이터인 액적 토출 장치.
- 제 34 항에 있어서,상기 액추에이터는, 압전 소자의 피에조 효과를 이용한 압전 액추에이터인 액적 토출 장치.
- 제 34 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은, 발진 회로를 구비하고, 상기 진동판의 잔류 진동에 의해 변화하는 상기 액추에이터의 정전 용량 성분에 근거해서, 해당 발진 회로가 발진되는액적 토출 장치.
- 제 37 항에 있어서,상기 발진 회로는, 상기 액추에이터의 정전 용량 성분과, 상기 액추에이터에 접속되는 저항 소자의 저항 성분에 의한 CR 발진 회로를 구성하는액적 토출 장치.
- 제 23 항 또는 제 26 항에 있어서,상기 액적 토출 헤드의 액추에이터는, 상기 캐비티 내에 충전된 액체를 가열하여 막비등(膜沸騰)을 생기게 할 수 있는 발열체를 갖고,상기 액적 토출 헤드는, 상기 캐비티 내의 압력의 변화에 따라 탄성적으로 변위하는 진동판과, 상기 진동판과 대향하도록 설치된 전극을 더 구비하고,상기 토출 이상 검출 수단은, 상기 진동판의 잔류 진동을 검출하여, 해당 검출된 상기 진동판의 잔류 진동의 진동 패턴에 근거해서, 토출 이상을 검출하는액적 토출 장치.
- 제 39 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은, 발진 회로를 구비하고, 상기 진동판과 상기 전극으로 구성되는 콘덴서의 정전 용량의, 상기 진동판의 잔류 진동에 따른 시간 경과적 변동에 근거해서, 해당 발진 회로가 발진되는액적 토출 장치.
- 제 40 항에 있어서,상기 발진 회로는, 상기 콘덴서의 정전 용량 성분과, 저항 소자의 저항 성분에 의한 CR 발진 회로를 구성하는액적 토출 장치.
- 제 34 항에 있어서,상기 진동판의 잔류 진동의 진동 패턴은, 상기 잔류 진동의 주기를 포함하는 액적 토출 장치.
- 제 34 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은,상기 진동판의 잔류 진동의 진동 패턴에 근거해서, 상기 액적 토출 헤드의 액적의 토출 이상 유무를 판정하고, 또한 상기 액적 토출 헤드의 액적의 토출 이상이 있다고 판정했을 때, 그 토출 이상의 원인을 판정하는 판정 수단을 포함하는액적 토출 장치.
- 제 43 항에 있어서,상기 판정 수단은,상기 진동판의 잔류 진동의 주기가 소정 범위의 주기보다도 짧을 때에는, 상기 캐비티 내에 기포가 혼입된 것으로 판정하고, 상기 진동판의 잔류 진동의 주기가 소정의 임계값보다도 길 때에는, 상기 노즐 부근의 액체가 건조에 의해 증점한 것으로 판정하며, 상기 진동판의 잔류 진동의 주기가 상기 소정 범위의 주기보다도 길고, 상기 소정의 임계값보다도 짧을 때에는, 상기 노즐의 출구 부근에 지분이 부착된 것으로 판정하는액적 토출 장치.
- 제 37 항, 제 38 항, 제 40 항 및 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은,상기 발진 회로의 출력 신호에 있어서의 발진 주파수의 변화에 근거해서 생성되는 소정의 신호 그룹에 의해, 상기 진동판의 잔류 진동의 전압 파형을 생성하는 F/V 변환 회로를 포함하는액적 토출 장치.
- 제 45 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은,상기 F/V 변환 회로에 의해 생성된 상기 진동판의 잔류 진동의 전압 파형을 소정의 파형으로 정형하는 파형 정형 회로를 포함하는액적 토출 장치.
- 제 46 항에 있어서,상기 파형 정형 회로는,상기 F/V 변환 회로에 의해 생성된 상기 진동판의 잔류 진동의 전압 파형으로부터 직류 성분을 제거하는 DC 성분 제거 수단과, 이 DC 성분 제거 수단에 의해 직류 성분이 제거된 전압 파형과 소정의 전압값을 비교하는 비교기를 포함하고, 해당 비교기는, 해당 전압 비교에 근거해서, 구형파를 생성하여 출력하는액적 토출 장치.
- 제 47 항에 있어서,상기 토출 이상 검출 수단은,상기 파형 정형 회로에 의해 생성된 상기 구형파로부터 상기 진동판의 잔류진동의 주기를 계측하는 계측 수단을 포함하는액적 토출 장치.
- 제 48 항에 있어서,상기 계측 수단은,카운터를 갖고, 해당 카운터가 기준 신호의 펄스를 카운트함으로써, 상기 구형파의 상승 에지간 또는 상승 에지와 하강 에지간의 시간을 계측하는액적 토출 장치.
- 구동 회로에 의해 액추에이터를 구동하여, 캐비티 내의 액체를 노즐로부터 액적으로서 토출하는 복수의 액적 토출 헤드로 이루어지는 헤드 유닛을 갖는 액적 토출 장치의 토출 이상의 회복 방법으로서,상기 액적 토출 헤드의 토출 이상을 그 원인과 함께 검출하여, 상기 노즐로부터 액적을 토출했을 때, 토출의 이상이 검출된 경우에는, 그 토출 이상의 원인에 따라, 회복 처리를 실행하는 것을 특징으로 하는토출 이상 회복 방법.
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