KR20030010704A - 질량 유동 계측 시스템 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (28)
- 질량 유동 계측기이며,일정 직경을 갖는 입구 및 일정 직경을 갖는 출구와, 입구와 출구 사이에 개재된 압력 균형 시스템과 입구 및 출구의 직경보다 작은 직경을 갖는 원통형 제한 벽을 갖는 제한 챔버를 구비한 유동 제한기와, 유동 제한기로부터 상류에 위치되어 보정 데이터를 갖는 계측 회로로의 입력값을 제공하는 압력 센서 및 온도 센서를 포함함으로써, 계측 회로는 보정 데이터와 압력 센서 및 온도 센서로부터의 입력값을 기초로 유동 출력 신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제1항에 있어서, 상기 제한 벽은 제한 챔버를 한정하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제1항에 있어서, 상기 제한 챔버는 제한 벽의 상류에 위치한 원뿔형 압축 벽과, 제한 챔버의 유효 단면적을 한정하는 내부 표면을 갖는 변형 가능한 튜브 부재, 압축 웨지, 압축 심, 제1 및 제2 쉐브론 부재 및 압축 너트를 구비한 가변 오리피스 조립체를 더 포함함으로써,압축 너트의 축회전은 제한 벽을 향해 너트를 변위시키고, 너트가 제한 벽을 향해 이동함에 따라 너트는 제1 및 제2 쉐브론 부재 및 압축 심을 통해 압축 웨지 상에 힘을 인가하고 방사상 내향으로 압축 웨지를 가압하여 변형 가능한 튜브 부재를 변형시키고 제한 챔버의 유효 단면적을 감소시키는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제1항에 있어서, 상기 계측 회로는 보정된 압력 신호를 얻기 위해 보정 데이터와 압력 신호를 조합하는 제1 가산 및 스케일링 시스템과, 보상된 온도 신호를 얻기 위해 기체 상수와 온도 신호를 조합하는 제2 가산 및 스케일링 시스템과, 유동 출력 신호를 얻기 위해 보정된 압력 신호와 보상된 온도 신호를 조합하는 제3 가산 및 스케일링 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제4항에 있어서, 상기 계측 회로는 특정 집적 회로의 적용예 상에서 구현된 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제4항에 있어서, 상기 계측 회로는 디지털 신호 프로세서 상에서 구현된 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제6항에 있어서, 상기 계측 회로는 보정 조건을 저장하기 위한 메모리 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제4항에 있어서, 상기 제1 가산 및 스케일링 시스템은 신호 조절 모듈과, 산술 논리 유닛과, 선택적 선형 증폭기와, 제1 및 제2 가산 및 스케일링 증폭기를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제4항에 있어서, 제2 가산 및 스케일링 시스템은 신호 조절 모듈과, 스케일링 및 이득 증폭기와, 가산 및 스케일링 배율기를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제4항에 있어서, 제3 가산 및 스케일링 시스템은 가산 및 스케일링 증폭기와, 유동 출력 신호를 발생시키는 버퍼 증폭기를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제8항에 있어서, 계측 회로는 회로로부터의 선형화 증폭기 또는 산술 논리 유닛 중 하나를 제거하는 스위치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 질량 유동 제어 시스템이며,질량 유동 계측기와 직렬 연결되고 질량 유동 제어 시스템을 통해 유동 속도를 제어할 수 있는 유동 제어기를 포함하며,상기 질량 유동 계측기는, 일정 직경을 갖는 입구 및 일정 직경을 갖는 출구와, 입구와 출구 사이에 개재된 압력 균형 시스템과 입구 및 출구의 직경보다 작은 직경을 갖는 원통형 제한 벽을 갖는 제한 챔버를 구비한 유동 제한기와, 유동 제한기로부터 상류에 위치되어 보정 데이터를 갖는 계측 회로로의 입력값을 제공하는 압력 센서 및 온도 센서를 포함함으로써, 계측 회로는 보정 데이터와 압력 센서 및 온도 센서로부터의 입력값을 기초로 유동 출력 신호를 발생시키며,상기 질량 유동 계측기는 밸브 제어 피드백 루프 시스템에 연결됨으로써, 질량 유동 계측기는 밸브 제어 피드백 루프 시스템에 유동 출력 신호를 전송하고, 상기 피드백 시스템은 유동 제어 신호를 발생시키도록 유동 출력 신호와 소정의 유동 속도를 비교하며,상기 밸브 제어 피드백 루프 시스템은 유동 제어기에 연결됨으로써, 상기 피드백 시스템은 유동 속도를 변경시키도록 유동 제어기를 작동하기 위해 유동 제어기에 유동 제어 신호를 전송하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제12항에 있어서, 제한 벽은 제한 챔버를 한정하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제12항에 있어서, 제한 챔버는 제한벽의 상류에 위치한 원뿔형 압축 벽과, 제한 챔버의 유효 단면적을 한정하는 내부 표면을 갖는 변형 가능한 튜브 부재, 압축 웨지, 압축 심, 제1 및 제2 쉐브론 부재 및 압축 너트를 구비한 가변 오리피스 조립체를 더 포함함으로써,압축 너트의 축회전은 제한 벽을 향해 너트를 변위시키고, 너트가 제한 벽을 향해 이동함에 따라 너트는 제1 및 제2 쉐브론 부재 및 압축 심을 통해 압축 웨지상에 힘을 인가하고 방사상 내향으로 압축 웨지를 가압하여 변형 가능한 튜브 부재를 변형시키고 제한 챔버의 유효 단면적을 감소시키는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제12항에 있어서, 상기 계측 회로는 보정된 압력 신호를 얻기 위해 보정 데이터와 압력 신호를 조합하는 제1 가산 및 스케일링 시스템과, 보상된 온도 신호를 얻기 위해 기체 상수와 온도 신호를 조합하는 제2 가산 및 스케일링 시스템과, 유동 출력 신호를 얻기 위해 보정된 압력 신호와 보상된 온도 신호를 조합하는 제3 가산 및 스케일링 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제12항에 있어서, 상기 계측 회로는 특정 집적 회로의 적용예 상에서 구현된 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제15항에 있어서, 상기 계측 회로는 디지털 신호 프로세서 상에서 구현된 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제15항에 있어서, 상기 제1 가산 및 스케일링 시스템은 신호 조절 모듈과, 산술 논리 유닛과, 선택적 선형 증폭기와, 제1 및 제2 가산 및 스케일링 증폭기를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제15항에 있어서, 제2 가산 및 스케일링 시스템은 신호 조절 모듈과, 스케일링 및 이득 증폭기와, 가산 및 스케일링 배율기를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 제15항에 있어서, 제3 가산 및 스케일링 시스템은 가산 및 스케일링 증폭기와, 유동 출력 신호를 발생시키는 버퍼 증폭기를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 일정 직경을 갖는 입구 및 일정 직경을 갖는 출구와, 입구와 출구 사이에 개재된 압력 균형 시스템과 가변 오리피스 조립체를 갖는 제한 챔버를 구비한 유동 제한기와, 입구 및 출구의 직경보다 작은 직경을 갖는 원통형 제한 벽과, 유동 제한기로부터 상류에 위치되어 보정 데이터를 갖는 계측 회로로의 입력값을 제공하는 압력 센서 및 온도 센서를 포함함으로써, 상기 계측 회로는 보정 데이터와 압력 센서 및 온도 센서로부터의 입력값을 기초로 유동 출력 신호를 발생시키는 유동 계측기 보정 방법이며,유동 계측기를 기준 유동 표준에 연결하는 단계와, 부 게이지 압력을 출구에 인가하는 단계와, 계측 회로 상에 영점을 설정하는 단계와, 계측기의 상류에 압력을 인가하는 단계와, 유동을 측정하는 단계와, 계측 회로의 보정 데이터로 특정 기체 상수를 입력하는 단계와, 주어진 입구 압력에 대해 가변 오리피스 조립체를 조절함으로써 최대 유동 범위를 얻는 단계와, 최대 유동의 10 %로 유동을 감소시키는 단계와, 압력과 온도를 측정하고 그 결과를 계측 회로에 저장하는 단계와, 최대 유동까지 10 % 증분만큼 유동을 증가시키는 단계와, 각 10 % 증분에서 압력과 온도를 측정하고 그 결과를 계측 회로에 저장하는 단계와, 계측 회로에 저장된 결과로부터 압력 대 질량 유동 속도의 그래프의 기울기를 계산하는 단계와, 기울기를 사용하여 계측 회로를 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 계측 회로는 산술 논리 유닛과 선형 증폭기를 더 포함하며, 그래프가 비선형인 경우, 상기 방법은 계측 회로를 설정하는데 사용하기 위한 보상된 압력 신호를 얻기 위해 필터링된 압력 신호 상에 구분적 선형 함수를 실행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 상기 방법은 전류를 측정하고 압력으로서 계측 회로 내에 결과를 저장하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 질량 유동 계측기이며,입구 및 출구와, 입구와 출구 사이에 개재됨으로써 유동 제한기를 통해 일정한 체적 유동을 유지하는 압력 균형 시스템 및 유동 제한기와, 유동 제한기로부터 상류에 위치되어 저장된 보정 인자(K), 저장된 기체 상수(R) 및 영 오프셋을 갖는 계측 회로로의 입력값(P, T)을 각각 제공하는 압력 센서와 온도 센서를 포함함으로써, 계측 회로는 저장된 보정 인자, 저장된 기체 상수, 영 오프셋 및 압력 센서와 온도 센서로부터의 입력값에 기초하여 방정식 y = mx+b 에 따라 유동 출력 신호를 발생시키며, 여기서 y는 질량 유동, x는 P, m은 KR/T, b는 영 오프셋인 것을 특징으로 하는 질량 유동 계측기.
- 질량 유동 제어 시스템이며,질량 유동 제어 시스템을 통해 유동 속도를 제어할 수 있고 질량 유동 계측기와 직렬 연결되고 계측 회로에 전압 신호를 발생시키는 유동 제어기를 포함하며,상기 질량 유동 계측기는, 일정 직경을 갖는 입구 및 일정 직경을 갖는 출구와, 입구와 출구 사이에 개재된 압력 균형 시스템과 입구 및 출구의 직경보다 작은 직경을 갖는 원통형 제한 벽을 갖는 제한 챔버를 구비한 유동 제한기와, 유동 제한기로부터 상류에 위치되어 계측 회로로의 입력값을 제공하는 온도 센서를 포함하고, 상기 계측 회로는 보정 데이터를 구비함으로써 상기 계측 회로는 보정 데이터와 온도 센서로부터의 입력값 및 전압 신호를 기초로 유동 출력 신호를 발생시키며,상기 질량 유동 계측기는 밸브 제어 피드백 루프 시스템에 연결됨으로써, 질량 유동 계측기는 밸브 제어 피드백 루프 시스템에 유동 출력 신호를 전송하고 상기 피드백 시스템은 유동 제어 신호를 발생시키도록 유동 출력 신호와 소정의 유동 속도를 비교하며,상기 밸브 제어 피드백 루프 시스템은 유동 제어기에 연결됨으로써, 상기 피드백 시스템은 유동 속도를 변경시키도록 유동 제어기를 작동하기 위해 유동 제어기에 유동 제어 신호를 전송하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제25항에 있어서, 유동 제어기는 압전 액츄에이터 제어 장치 및 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제25항에 있어서, 유동 제어기는 솔레노이드 액츄에이터 제어 장치 및 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
- 제25항에 있어서, 유동 제어기는 전압 신호로 전환되는 전류 신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는 질량 유동 제어 시스템.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US28359601P | 2001-04-13 | 2001-04-13 | |
US60/283,596 | 2001-04-13 | ||
US10/081,174 US6564824B2 (en) | 2001-04-13 | 2002-02-21 | Mass flow meter systems and methods |
US10/081,174 | 2002-02-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030010704A true KR20030010704A (ko) | 2003-02-05 |
Family
ID=26765285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020027016992A Ceased KR20030010704A (ko) | 2001-04-13 | 2002-04-15 | 질량 유동 계측 시스템 및 방법 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6564824B2 (ko) |
EP (1) | EP1386203B1 (ko) |
JP (1) | JP2004532411A (ko) |
KR (1) | KR20030010704A (ko) |
CN (1) | CN1302349C (ko) |
AT (1) | ATE368250T1 (ko) |
DE (1) | DE60221375T2 (ko) |
WO (1) | WO2002086645A1 (ko) |
Families Citing this family (141)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 2002-04-15 WO PCT/US2002/012051 patent/WO2002086645A1/en active IP Right Grant
- 2002-04-15 DE DE2002621375 patent/DE60221375T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-15 EP EP02723879A patent/EP1386203B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-23 US US10/226,378 patent/US6564825B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-28 US US10/229,634 patent/US6561207B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6564824B2 (en) | 2003-05-20 |
CN1461430A (zh) | 2003-12-10 |
ATE368250T1 (de) | 2007-08-15 |
JP2004532411A (ja) | 2004-10-21 |
US20020195145A1 (en) | 2002-12-26 |
DE60221375T2 (de) | 2008-05-08 |
EP1386203A1 (en) | 2004-02-04 |
EP1386203B1 (en) | 2007-07-25 |
CN1302349C (zh) | 2007-02-28 |
US20030000578A1 (en) | 2003-01-02 |
US20020174898A1 (en) | 2002-11-28 |
EP1386203A4 (en) | 2004-05-12 |
US6561207B2 (en) | 2003-05-13 |
WO2002086645A1 (en) | 2002-10-31 |
US6564825B2 (en) | 2003-05-20 |
DE60221375D1 (de) | 2007-09-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20021213 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20070413 Comment text: Request for Examination of Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20080818 Patent event code: PE09021S01D |
|
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20090128 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20080818 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |