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KR20010078204A - 설포닐이미드 화합물의 제조방법 - Google Patents

설포닐이미드 화합물의 제조방법 Download PDF

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KR20010078204A
KR20010078204A KR1020010004549A KR20010004549A KR20010078204A KR 20010078204 A KR20010078204 A KR 20010078204A KR 1020010004549 A KR1020010004549 A KR 1020010004549A KR 20010004549 A KR20010004549 A KR 20010004549A KR 20010078204 A KR20010078204 A KR 20010078204A
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KR1020010004549A
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요네자와데츠오
사카모토요시타카
Original Assignee
모리타 시게루
모리타 가가쿠 고교 가부시키가이샤
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Application filed by 모리타 시게루, 모리타 가가쿠 고교 가부시키가이샤 filed Critical 모리타 시게루
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Abstract

본 발명은 하기 화학식 2로 나타내는 설포닐할로겐화물 중 적어도 하나와, 무수 암모니아 또는 암모늄염과, 하기 화학식 3으로 나타내는 불소화합물을 반응시킴에 의해서 하기 화학식 1로 나타내는 설포닐이미드(설폰이미드) 화합물을 공업적으로 용이한 동시에 저렴한 비용으로 또한 효율적으로 제조하는 것을 특징으로 한다.
(상기에서 X는 원소주기율표 Ⅶb족의 할로겐원소 중 F 또는 Cl이고, M은 원소주기율표 제 Ia족의 알칼리금속 중 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나이며, 또 Rf 1, Rf 2는 동일하거나 또는 다른 탄소원자수 1∼12의 플루오로알킬기, 퍼플루오로알킬기, 플루오로아릴기 또는 플루오로알케닐기의 사슬형 또는 가지형 화합물 중 하나이며, Rf는 하기 화학식 1의 Rf 1또는 Rf 2와 동일한 기를 나타낸다.)

Description

설포닐이미드 화합물의 제조방법{A METHOD FOR PREPARING A SULFONYLIMIDE COMPOUND}
본 발명은 하기 화학식 1로 나타내는 설포닐이미드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
(화학식 1)
MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)
설포닐이미드 화합물은 안전하고, 높은 에너지밀도를 갖으며, 또한 고전도도를 나타내기 때문에 리튬전지전해액의 용질로서 유망시되고 있으며, 유기합성의 분야에서 루이스산촉매나 이온전도제로서 유용한 물질이다.
화학식 1의 MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)로 나타내는 설포닐이미드 화합물은 INORGANIC CHEMISTRY VOL.23, No.23, P3720∼3723(1984)에서 D.D.Desmarteau에 의해 제안된 방법으로 합성할 수 있다.
이 합성방법으로서는 하기 반응식 1에 나타내는 바와 같이 트리플루오로메탄설포닐플로라이드와 암모니아를 반응시켜 얻어진 생성물을 염산으로 처리하여 트리플루오로메탄설포닐아미드가 되고, 그것을 나트륨메틸레이트와 반응시킨 후, 헥사메틸디실라잔과 반응시켜 얻어진 생성물을 트리플루오로메탄설포닐플로라이드와 반응시켜 이미드나트륨염을 얻는 방법이다.
그러나, 상기 방법은 반응이 다단계로 이루어졌기 때문에 그만큼 공정이 길어지고, 또 중간체를 얻기 위해서 고가인 헥사메틸디실라잔을 사용하지 않으면 안되며, 수율도 50%정도로 낮다.
또한, 상술한 화학식 1에 있어서, M은 원소주기율표 제 Ia족인 알칼리금속 중 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나를 나타내고, Rf 1, Rf 2는 동일하거나 또는 다른 탄소원소수 1∼12의 플루오로알킬기, 퍼플루오로알킬기, 플루오로아릴기 또는 플루오로알케닐기의 사슬형 또는 가지형 화합물의 어느 하나를 나타낸다(이하 동일).
또한, 일본 특표평 3-501860호 공보에는 실라잔 금속화합물과 퍼플루오로할로겐화 설포닐화합물을 반응시켜, 이미드화합물을 얻는 방법이 개시되어 있고, 일본 특표평 4-501118호 공보에는 이온성 질화물과 할로겐화 설폰산을 반응시켜 이미드화합물을 얻는 방법이 개시되어 있다.
그러나, 이들 경우에 이용되고 있는 실라잔 금속화합물이나 이온성 질화물은 모두 고가이므로, 비용이 적게 드는 제조방법이라고는 말할 수 없다.
또한, 일본 특개평 8-81436호 공보에는 무수 암모늄 또는 설포닐아미드와 설포닐플로라이드를 제3 아민 또는 복소 고리식 아민과 반응시켜 반응생성물을 알칼리금속, 알칼리토 금속을 포함하는 수산화물 등과 반응시켜 이미드 염류를 제조하는 방법이 개시되어 있다.
상기 방법에서는 1단계의 생성물은 아민염으로서 생성되기 때문에 무기염과 반응시키지 않으면 안된다. 또, 반응에 제3 아민 또는 복소 고리식 아민을 사용하기 때문에 악취 등에 의한 작업환경, 사용한 아민의 처분에 문제가 있다. 또한 반드시 무수 암모니아를 사용하기 때문에 반응용기로서의 오토크레이브나 저온의 냉각장치가 필요하게 되어, 대량생산에는 적합하지 않다.
이렇게 종래의 기술은 반응공정이 길고, 또 고가인 원료를 사용하기 때문에 공업적인 제조법이라고는 말하기 어렵다.
또, 일본 특개평 8-81436호 공보에서는 무수 암모니아와 퍼플루오로알칸설포닐플로라이드와 제3 아민을 반응시키고 있지만, 이미드염을 얻는 데에는 최저 두단계공정이 필요하며, 또 반응에 제3 아민 또는 복소 고리식 아민을 사용하기 때문에 악취 등에 의해 작업 환경이 오염될 가능성이 있다. 또 두번째 공정에서 생성물을 수용액속에서 알칼리 금속 등과 반응시키지 않으면 안되고, 그 때 유리되어 물과 함께 유출되는 아민을 적절하게 처분하지 않으면 안되기 때문에 그만큼 제조비용이 증대되는 요인이 된다.
본 발명은 이들 여러 문제를 해소하고, 공업적으로 용이한 동시에 저렴한 비용으로 또한 효율적으로 설포닐이미드 화합물을 제조하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자 등은 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 연구한 결과, 하기 화학식 3으로 나타내는 불소화합물을 이용함으로써 상술한 바와 같은 문제점이 없는 설포닐이미드 화합물(화학식 1로 나타낸다)을 공업적으로 용이하고, 비용이 저렴하며, 또한 효율적으로 제조할 수 있는 것을 발견하고 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
(화학식 1)
MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)
(화학식 3)
MF
즉, 본 발명은 하기 화학식 2로 나타내는 설포닐할로겐화물 중 적어도 하나와 무수 암모니아 또는 암모늄염을 화학식 3으로 나타내는 불소화합물의 존재하에서 반응시키는 것을 특징으로 한다.
(화학식 2)
RfSO2X
또한 상기 화학식 1 및 화학식 3에 있어서 M은 원소주기율표 제 Ia족의 알칼리 금속 중 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나를 나타내고, X는 원소주기율표 Ⅶb족의 할로겐원소 중 F 또는 Cl을 나타낸다(이미 설명함, 이하 동일). 또 상기 화학식 2에서 Rf는 화학식 1에서 Rf 1또는 Rf 2와 동일한 기를 나타낸다(이하 동일).
또, 하기 화학식 4로 나타내는 설포닐아미드,
화학식 2의 RfSO2X로 나타내는 설포닐할로겐화물 중 적어도 하나와,
화학식 3의 MF로 나타내는 불소화합물을 반응시킴으로써도 반드시 무수 암모니아를 사용하지 않아도 온화한 조건하에서 동시에 1단계의 반응만으로 화학식 1의 MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)로 나타내는 설포닐이미드 화합물을 제조할 수 있는 것을 발견하였다.
원소주기율표 제 Ia족의 알칼리금속에는 Li, Na, K, Rb, Cs, Fr이 존재하지만, 그 중에서도 특히 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나를 선택하여 이용하는 것이 바람직하다. 따라서 그 경우의 불소화합물은 LiF, NaF, KF(KF는 매연법에 의한 calcine-dried KF(cd KF), 스프레이-드라이법에 의한 spray-dried KF(sd KF)의 어느쪽을 사용하여도 좋다), CsF이다.
원소주기율표 제 Ia족의 알칼리금속 중에서도 Li, Na, K, Cs가 바람직한 이유는 이들이 비교적 저렴하며 또한 설포닐이미드 화합물을 공업적으로 용이한 동시에 저렴한 비용으로 또한 효율적으로 제조하는 데에 적합하기 때문이다. Li, Na, K, Cs 중에서도 K가 상기 면에서는 특히 바람직하다.
한편, 본 발명에 있어서는 암모늄염을 사용함으로써 설포닐이미드 화합물을 제조할 수 있지만, 그 경우의 암모늄염으로서는 불소화 암모늄 또는 산성 불소화암모늄을 사용하는 것이 바람직하다. 그 중 어느 하나를 사용하면 무수 암모니아를 사용한 경우와 같이 특수한 반응장치(내압용기)를 필요로 하지 않는다는 이점이 있다.
또한, 화학식 2의 RfSO2X로 나타내는 설포닐할로겐화물 중 현재 시약으로서 시판되고 있는 CF3SO2Cl은 이 종류의 화합물 중에서는 비교적 비점이 30℃로 높기 때문에 통상은 액체로서 취급할 수 있다.
또한 본 명세서에서 「설포닐이미드」는 정식으로는 「설폰이미드」로, 또 본 명세서에서 「설포닐아미드」는 정식으로는 「설폰아미드」로 표현되는 것과 같지만, 본 명세서에서는 양자를 각각 동일한 것으로서 간주한다.
다음에 본 발명의 실시형태를 설명한다.
종래의 기술에서는 다단계인 것이 이하의 반응식 2, 3, 4, 5에 나타낸 바와 같이 화학식 3의 MF로 나타내는 불소화합물과, 화학식 2의 RfSO2X로 나타내는 설포닐할로겐화물 중 적어도 하나와, 무수 암모니아 또는 암모늄염을 불활성 용매에 도입하여 반응시킴으로써 1단계로 제조할 수 있다.
이것은 화학식 3의 MF로 나타내는 불소화합물의 염기성에 의한 것이다.
(1) 화학식 1의 MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)의 Rf 1과 Rf 2가 같은 경우.
1몰의 무수 암모니아에 대하여 2몰의 화학식 2의 RfSO2X로 나타내는 설포닐할로겐화물 중 적어도 하나와, 6몰의 화학식 3의 MF로 나타내는 불소화합물을 반응용기에 도입하고, 용매속에서 반응시킨다.
반응후, 부생하는 2몰의 MX와 3몰의 산성 불소화물(MFHF)를 여과하여 여과액을 농축함으로써 화학식 1의 MN(SO2Rf)2로 나타내는 설포닐이미드 화합물을 제조할 수 있다.
(2) 화학식 1의 MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)의 Rf 1와 Rf 2가 다른 경우.
다음에 나타내는 바와 같은 적당한 공지의 방법에 의해 합성된 Rf 1기를 포함하는 설포닐아미드를 거쳐, 원하는 Rf 2기를 갖는 설포닐할로겐화물의 적어도 하나와 반응시킴으로써 목적으로 하는 기로 Rf 1기와 Rf 2기가 구성된 설포닐이미드 화합물을 제조할 수 있다.
(3)암모늄염을 사용하는 경우.
(반응식 5에서, Rf 1및 Rf 2는 동일하거나 또는 다르다)
1몰의 암모늄염에 대하여 2몰의 화학식 2의 RfSO2X로 나타내는 설포닐할로겐화물 중 적어도 하나와, 7몰의 화학식 3의 MF로 나타내는 불소화합물을 반응용기에 도입하고, 용매속에서 반응시킨다.
반응후, 부생하는 2몰의 MX와 4몰의 산성 불소화물(MFHF)를 여과하고, 여과액을 농축함으로써 화학식 1의 MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)로 나타내는 설포닐이미드 화합물을 제조할 수 있다.
이들의 반응은 약 -30℃에서 200℃의 온도범위에서 가능하며, 그 이하의 온도에서는 반응속도가 현저하게 늦고, 그 이상의 온도에서는 사용하는 화합물, 용매, 생성물의 분해가 생긴다. 보다 바람직한 온도범위는 0℃∼100℃이다.
사용 가능한 용매는 반응물질에 대하여 불활성이라면 특별히 제한되지 않고 사용할 수 있다. 예를 들면 에테르류로는 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등, 할로겐화 탄화수소로는 디클로로메탄, 디클로로에탄 등, 탄화수소로는 벤젠, 헵탄,헥산 등, 니트릴류로는 아세토니트릴 등을 사용할 수 있다.
또, 상기 이외의 다양한 설포닐이미드 화합물을 제조하기 위해서는 이들 제조법에서 얻어지는 설포닐이미드 화합물을 진한 황산과 같은 강산으로 산성화 하고, 증류함으로써 설포닐이미드산 〔HN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)〕을 합성하고, 또한 이 산에 대응하는 금속의 수산화물, 산화물, 탄산염, 초산염 중에서 선택된 화합물을 반응시키면 좋다.
이 경우에는 설포닐이미드 화합물을 합성할 때에 사용하는 화학식 3의 MF로 나타내는 불소화합물을 1종 또는 2종 혼합하여 사용하여도 좋다.
(실시예)
이하, 본 발명을 실시예에 의해 상세하게 설명한다. 단, 본 발명이 이들 실시예만으로 한정되지 않는 것은 물론이다.
(실시예 1)
가지 4개 달린 플라스크에 아세토니트릴 150ml, 불소화칼륨 23.4g, 트리플루오로메탄설포닐아미드(CF3SO2NH2) 20g을 가하였다. 40℃ 배쓰에 반응용기를 담그고, 충분히 교반하면서 트리플루오로메탄설포닐플로라이드(CF3SO2F) 25.1g을 도입하였다. 반응액을 여과하고, 여과액을 감압하에서 농축하여 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 칼륨(KN(SO2CF3)2) 42.7g을 얻었다. 수율은 99%이었다.
다음에 이 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 칼륨 42.7g을 진한 황산 60ml가 들어있는 플라스크에 가하고, 가열 용해하였다. 그 후 감압하에서 비스트리플루오로메탄설포닐이미드산(HN(SO2CF3)2) 34.6g을 증류에 의해 유출시켰다. 수율은 92%이었다.
얻어진 비스트리플루오로메탄설포닐이미드산 34.6g을 순수에 용해하고, 탄산리튬 4.5g과 반응시켰다. 과잉 탄산리튬은 여과하여 여과액을 농축하고 리튬비스트리플루오로메탄설포닐이미드(LiN(SO2CF3)2) 34.6g을 얻었다. 수율은 98%였다.
(실시예 2)
SUS(스테인레스)제 오토크레이브에 아세토니트릴 200ml, 불소화칼륨 68.3g을 가하고, 반응용기를 드라이아이스 메탄올욕으로 -60℃로 냉각하고, 무수 암모니아 5g을 도입하였다.
이어서, 트리플루오로메탄설포닐플로라이드(CF3SO2F)를 90.0g 도입하고, 충분히 교반하면서 실온으로 되돌렸다. 그 후 40℃ 배쓰에 반응용기를 담그고, 충분히 교반하면서 반응을 완결시켰다. 반응액을 여과하여 여과액을 감압하에서 농축하여 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 칼륨(KN(SO2CF3)2) 88.2g을 얻었다. 수율은 95%이었다.
(실시예 3)
가지 4개 달린 플라스크에 염화 메틸렌 1리터, 불소화 암모늄 10g, 불소화칼륨 78.4g을 가하였다. 40℃ 배쓰에 반응용기를 담그고, 충분히 교반하면서 트리플루오로메탄설포닐플로라이드(CF3SO2F)를 82.1g 도입하였다. 반응액을 여과하여 여액을 감압하 농축하여 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 칼륨(KN(SO2CF3)2) 81.5g을 얻었다. 수율은 95%이었다.
(실시예 4)
플라스크에 DMF(디메틸포름아미드) 300ml와 퍼플루오로부탄설포닐플로라이드(C4F9SO2F) 30g과 트리플루오로메탄설포닐아미드(CF3SO2NH2) 15.1g과 불소화나트륨 13g을 가하고, 100℃로 가온하여 충분히 교반하여 반응시켰다. 반응액을 여과하여 여과액을 감압하 농축하여 퍼플루오로부탄설포닐트리플루오로메탄설포닐이미드나트륨(NaN(SO2C4F9)(SO2CF3)) 35.1g을 얻었다. 수율은 78.0%이었다.
(실시예 5)
가지 4개 달린 플라스크에 아세토니트릴 200ml와 퍼플루오로부탄설포닐플로라이드(C4F9SO2F) 12g과 불소화세슘 15.0g과 불소화 암모늄 0.73g을 가하고, 50℃로 가온하여 충분히 교반하여 반응시켰다. 반응액을 여과하여 여과액을 감압하 농축하여 비스퍼플루오로부탄설포닐이미드세슘(CsN(SO2C4F9)2) 12.5g을 얻었다. 수율은 89.3%이었다.
(실시예 6)
SUS(스테인레스)제 오토크레이브에 염화 메틸렌 100ml, DMF(디메틸포름아미드) 100ml, 불소화리튬 30.5g을 가하고, 반응용기를 드라이아이스 메탄올욕으로 -60℃로 냉각하여 무수 암모니아 5g을 도입하였다.
이어서, 트리플루오로메탄설포닐플로라이드(CF3SO2F)를 100.0g 도입하고, 충분히 교반하면서 실온으로 되돌렸다. 그 후 50℃ 배쓰에 반응용기를 담그고, 충분히 교반하면서 반응시켰다. 반응액을 여과하여 여과액을 감압하 농축하였지만, 비스트리플루오로메탄설포닐이미드리튬(LiN(SO2CF3)2)은 1.7g(수율은 2.0%)밖에 얻을 수 없었다.
이 경우의 생성화합물의 양 및 수율은 다른 실시예의 경우에 비해 현단계에서는 상당히 낮지만, 이후의 연구에 의해 더욱 개선을 기대할 수 있으며, 본 발명은 이 경우를 당연히 포함하는 것이다.
(실시예 7)
가지 4개 달린 플라스크에 아세토니트릴 150ml, 불소화 칼륨 31.2g, 트리플루오로메탄설포닐아미드(CF3SO2NH2) 10g을 가하였다. 40℃ 배쓰에 반응용기를 담그고 충분히 교반하면서 트리플루오로메탄설포닐클로라이드(CF3SO2Cl) 11.3g을 도입하였다. 반응액을 여과하여 여과액을 감압하 농축하여 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 칼륨(KN(SO2CF3)2) 21.4g을 얻었다. 수율은 96%이었다.
다음에 이 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 칼륨 21.4g을 진한 황산 30ml을 넣은 플라스크에 가하고, 가열 용해하였다. 그 후 감압하에서 비스트리플루오로메탄설포닐이미드산 HN(SO2CF3)215.6g을 증류에 의해 유출시켰다. 수율은 83%이었다.
얻어진 비스트리플루오로메탄설포닐이미드산 15.6g을 순수에 용해하여 탄산 리튬 2.1g과 반응시켰다. 과잉의 탄산 리튬은 여과하여 여과액을 농축하고 리튬비스트리플루오로메탄설포닐이미드 LiN(SO2CF3)215.4g을 얻었다. 수율은 97%이었다.
(실시예 8)
가지 4개 달린 플라스크에 염화메틸렌 200ml, 불소화 암모늄 10g, 불소화 칼륨 110g을 가하였다. 40℃ 배쓰에 반응용기를 담그고 충분히 교반하면서 트리플루오로메탄설포닐클로라이드(CF3SO2Cl)를 91.0g 도입하였다. 반응액을 여과하여 여과액을 감압하 농축하여 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 칼륨(KN(SO2CF3)2) 81.0g을 얻었다. 수율은 94%이었다.
(실시예 9)
가지 4개 달린 플라스크에 불소화 암모늄 5g, 불소화 세슘 143.6g, 테트라히드로푸란 200ml을 가하였다. 반응용기를 충분히 교반하면서 트리플루오로메탄설포닐클로라이드(CF3SO2Cl) 22.8g을 가하고, 그 후 펜타플루오로에틸설포닐플로라이드 (C2F5SO2F) 27.3g을 가하였다. 반응액을 실시예 2와 동일하게 처리하여 퍼플루오로에탄설포닐트리플루오로메탄설포닐이미드 세슘(CsN(SO2C2F5)(SO2CF3)) 62g을 얻었다. 수율은 99.2%이었다.
(실시예 10)
SUS(스테인레스)제 오토크레이브에 염화 메틸렌 200ml, DMF(디메틸포름아미드) 300ml, 불소화 리튬 45.6g, 트리플루오로메탄설포닐클로라이드(CF3SO2Cl) 99.0g을 가하고, 반응용기를 메탄올 드라이아이스욕으로 -60℃로 냉각하고, 무수 암모니아 5g을 도입하였다.
충분히 교반하면서 실온으로 되돌려 그 후 80℃ 배쓰에 반응용기를 담그고 충분히 교반하면서 반응시켰다. 그 후 실시예 2와 동일하게 처리하였지만, 비스트리플루오로메탄설포닐이미드 리튬(LiN(SO2CF3)2)은 0.8g(수율 0.9%)밖에 얻을 수 없었다. 이 경우의 생성화합물의 양 및 수율은 다른 실시예의 경우에 비해 현단계에서는 상당히 낮지만, 이후의 연구에 의해 더욱 개선이 기대되고 있으며 본 발명은 이 경우를 당연히 포함하는 것이다.
(실시예 11)
SUS(스테인레스)제 오토크레이브에 염화 메틸렌 200ml, DMF(디메틸포름아미드) 300ml, 불소화 나트륨 74.1g, 트리플루오로메탄설포닐클로라이드(CF3SO2Cl) 49.5g을 가하고, 반응용기를 메탄올 드라이아이스욕으로 -60℃로 냉각하고, 무수 암모니아 5g을 도입하였다.
이어서 퍼플루오로부탄설포닐플로라이드 C4F9SO2F 88.8g을 가하고, 충분히 교반하면서 실온으로 되돌렸다. 그 후, 80℃ 배쓰에 반응용기를 담그고 충분히 교반하면서 반응시켰다. 그 후 실시예 2와 동일하게 처리하여 퍼플루오로부탄설포닐트리플루오로메탄설포닐이미드 나트륨(NaN(SO2C4F9)(SO2CF3)) 18g을 얻었다. 수율은 13.5%이었다.
또한 상기 각 실시예에서 얻어진 설포닐이미드 화합물은 적외흡수 스펙트럼으로 동정함으로써 각각 확인하였다.
청구항 1 또는 2 기재의 제조방법을 이용한 경우에는 리튬전지전해질이나 유기합성촉매로서 유용한 설포닐이미드 화합물을 공업적으로 용이한 동시에 저렴한 비용으로 또한 효율적으로 제조할 수 있는 효과가 있다.
특히 청구항 2 기재의 제조방법을 이용한 경우에는 반드시 무수 암모니아를 사용하지 않아도 온화한 조건하에서 1단계로 리튬전지전해질이나 유기합성촉매로서 유용한 설포닐이미드 화합물을 제조할 수 있는 효과가 있다.
또, 청구항 3에 기재된 발명에 의하면 무수 암모니아를 사용한 경우와 같이 특수한 반응장치(내압용기)를 필요로 하지 않는다는 이점이 있다.

Claims (3)

  1. 하기 화학식 1로 나타내지는 설포닐이미드 화합물의 제조방법에 있어서,
    (화학식 1)
    MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)
    (상기 화학식 1에서, M은 원소주기율표 제 Ia족의 알칼리금속 중 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나를 나타내고, Rf 1, Rf 2은 같거나 또는 다른 탄소원자수 1∼12의 플루오로알킬기, 퍼플루오로알킬기, 플루오로아릴기 또는 플루오로알케닐기의 사슬형 또는 가지형 화합물 중 하나를 나타낸다)
    하기 화학식 2로 나타내지는 설포닐할로겐화물의 적어도 하나와, 무수 암모니아 또는 암모늄염과, 하기 화학식 3으로 나타내지는 불소화합물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 설포닐이미드 화합물의 제조방법.
    (화학식 2)
    RfSO2X
    (상기 화학식 2에서, Rf는 상기 화학식 1에서 Rf 1또는 Rf 2와 동일한 기를 나타내고, X는 원소주기율표 Ⅶb족의 할로겐원소 중 F 또는 Cl을 나타낸다)
    (화학식 3)
    MF
    (상기 화학식 3에서, M은 원소주기율표 제 Ia족의 알칼리금속 중 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나를 나타낸다)
  2. 하기 화학식 1로 나타내지는 설포닐이미드 화합물의 제조방법에 있어서,
    (화학식 1)
    MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)
    (상기 화학식 1에서, M은 원소주기율표 제 Ⅰa족의 알칼리금속 중 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나를 나타내고, Rf 1, Rf 2은 같거나 또는 다른 탄소원자수 1∼12의 플루오로알킬기, 퍼플루오로알킬기, 플루오로아릴기 또는 플루오로알케닐기의 사슬형 또는 가지형 화합물 중 하나를 나타낸다)
    하기 화학식 4로 나타내지는 설포닐아미드와, 하기 화학식 2로 나타내지는 설포닐할로겐화물 중 적어도 하나와, 하기 화학식 3으로 나타내지는 불소화합물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 설포닐이미드 화합물의 제조방법.
    (화학식 4)
    RfSO2NH2
    (상기 화학식 4에서, Rf는 상기 화학식 1에서 Rf 1, Rf 2과 동일한 기를 나타낸다)
    (화학식 2)
    RfSO2X
    (상기 화학식 2에서, Rf는 상기 화학식 1에서 Rf 1, Rf 2와 동일한 기를 나타내고, X는 원소주기율표 Ⅶb족의 할로겐원소 중 F 또는 Cl을 나타낸다)
    (화학식 3)
    MF
    (상기 화학식 3에서, M은 원소주기율표 제 Ia족 알칼리금속 중 Li, Na, K, Cs 중 어느 하나를 나타낸다)
  3. 제 1 항에 있어서,
    암모늄염으로서 불소화 암모늄 또는 산성 불소화 암모늄을 사용하는 것을 특징으로 하는 설포닐이미드 화합물의 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101370995B1 (ko) * 2009-06-03 2014-03-10 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 이미드염의 제조 방법
KR20150082321A (ko) * 2012-11-16 2015-07-15 트리나프코 인크. 테트라부틸암모늄 비스(플루오로술포닐)이미드 및 관련 염의 합성

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