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KR102725244B1 - Adhesive laminate, method of using adhesive laminate, and method of producing cured encapsulation having cured resin film - Google Patents

Adhesive laminate, method of using adhesive laminate, and method of producing cured encapsulation having cured resin film Download PDF

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KR102725244B1
KR102725244B1 KR1020207025463A KR20207025463A KR102725244B1 KR 102725244 B1 KR102725244 B1 KR 102725244B1 KR 1020207025463 A KR1020207025463 A KR 1020207025463A KR 20207025463 A KR20207025463 A KR 20207025463A KR 102725244 B1 KR102725244 B1 KR 102725244B1
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야스히코 카키우치
나오야 오카모토
타다토모 야마다
타케히토 나카야마
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

기재(Y) 및 점착제층(X)를 가지고, 어느 하나의 층에 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 점착 시트(I), 및 열경화성 수지층(Z)를 갖는 경화 수지막 형성용 시트 (II)를 구비하고, 접착 시트(I)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체로서, 상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해 접착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 분리 하는 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive laminate comprising an expandable adhesive sheet (I) having a substrate (Y) and an adhesive layer (X), one of which contains expandable particles, and a cured resin film forming sheet (II) having a thermosetting resin layer (Z), wherein the adhesive sheet (I) and the thermosetting resin layer (Z) of the cured resin film forming sheet (II) are directly laminated, and wherein the laminate is formed by separating the adhesive sheet (I) and the cured resin film forming sheet (II) at an interface P by expanding the expandable particles.

Description

점착성 적층체, 점착성 적층체의 사용 방법, 및 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 제조 방법Adhesive laminate, method of using adhesive laminate, and method of producing cured encapsulation having cured resin film

본 발명은, 점착성 적층체, 및 점착성 적층체의 사용 방법, 및 상기 점착성 적층체를 이용한 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive laminate, a method for using the adhesive laminate, and a method for producing a cured encapsulation body having a cured resin film using the adhesive laminate.

점착 시트는, 부재를 반영구적으로 고정하는 용도뿐 아니라, 건재, 내장재, 전자 부품 등을 가공하거나 검사할 때에, 대상이 되는 부재를 가고정하기 위한 가고정 용도에 사용되는 경우가 있다.Adhesive sheets are used not only for the purpose of permanently fixing a material, but also for the purpose of temporarily fixing the material to be processed or inspected, such as building materials, interior materials, and electronic components.

이러한 가고정 용도의 점착 시트에는, 사용 시의 접착성과 사용 후의 박리성의 양립이 요구된다.For these types of adhesive sheets for temporary fixing purposes, both adhesiveness during use and peelability after use are required.

예를 들면, 특허문헌 1에는, 기재의 적어도 한 면에, 열팽창성 미소구를 함유하는 열팽창성 점착층이 설치된, 전자 부품 절단 시의 가고정용의 가열 박리형 점착 시트가 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a heat-peelable adhesive sheet for temporary fixation when cutting electronic components, wherein a heat-expandable adhesive layer containing heat-expandable microspheres is provided on at least one side of the substrate.

이 가열 박리형 점착 시트는, 열팽창성 점착층의 두께에 대해서, 열팽창성 미소구의 최대 입자경을 조정하고, 가열 전의 열팽창성 점착층 표면의 중심선 평균 조도를 0.4㎛ 이하로 조정되어 있다.This heat-peelable adhesive sheet has a maximum particle size of heat-expandable microspheres adjusted with respect to the thickness of the heat-expandable adhesive layer, and the average roughness of the center line of the surface of the heat-expandable adhesive layer before heating is adjusted to 0.4 ㎛ or less.

특허문헌 1에는, 상기 가열 박리형 점착 시트는, 전자 부품 절단 시에는, 피착체와의 첩부 면적을 충분히 확보할 수 있기 때문에, 칩 날림 등의 접착 결함을 방지할 수 있는 접착성을 발휘할 수 있고, 한편 사용 후에는, 가열하여 열팽창성 미소구를 팽창시키면, 피착체의 접촉 면적을 감소시켜, 용이하게 박리할 수 있는 취지의 기재가 있다.Patent Document 1 describes that the heat-peelable adhesive sheet can exhibit adhesive properties that prevent adhesion defects such as chipping because it can secure a sufficient bonding area with the adherend when cutting an electronic component, and on the other hand, after use, by heating and expanding the heat-expandable microspheres, the contact area with the adherend is reduced, enabling easy peeling.

특허문헌 1 : 일본 특허 제3594853호 공보Patent Document 1: Japanese Patent No. 3594853

특허문헌 1에 기재된 바와 같은 점착 시트를 이용한 가공의 공정에서는, 점착 시트를 이용하여 가공해야 할 대상물(이하, 「가공 대상물」이라고도 한다)을 가고정하고, 가공 대상물에 대해서 가공을 실시한 후, 가공 대상물이 점착 시트로부터 분리된다.In a processing process using an adhesive sheet as described in Patent Document 1, an object to be processed (hereinafter also referred to as “object to be processed”) is temporarily fixed using an adhesive sheet, and after processing is performed on the object to be processed, the object to be processed is separated from the adhesive sheet.

그런데, 상기 가공으로서 반도체 칩 등의 가공 대상물을 경화성 수지로 이루어지는 봉지재에 의해서 피복하고, 상기 봉지재를 경화시켜 경화 봉지체를 형성하는 봉지 가공을 실시하는 경우가 있다.However, there are cases where the above processing is performed by covering a processing target, such as a semiconductor chip, with a sealing material made of a curable resin and curing the sealing material to form a cured sealing body.

여기서, 특허문헌 1에 기재된 바와 같은 점착 시트를 이용하여, 상기의 봉지 가공을 실시한 경우, 경화 봉지체를 형성한 후, 가열하여 상기 점착 시트와 경화 봉지체를 분리한 경우에, 분리 후의 경화 봉지체가 열수축에 의해서 휘어지는 경향이 있다.Here, when the above-described bagging process is performed using the adhesive sheet as described in Patent Document 1, and after forming a cured bag, when the adhesive sheet and the cured bag are separated by heating, the cured bag after separation tends to warp due to heat shrinkage.

휘어짐이 생겨 표면이 평탄하지 않은 경화 봉지체는, 예를 들면, 다음 공정에서 경화 봉지체의 연삭을 행한 경우에, 균열이 발생하기 쉬워지는 등의 폐해가 생기기 쉬워지거나 경화 봉지체를 장치에 의해서 반송할 때에, 암(arm)에 의한 경화 봉지체의 전달시에 결함이 발생하기 쉬워진다.A cured bag having an uneven surface due to warping is likely to cause problems such as cracks when the cured bag is ground in the next process, or defects are likely to occur when the cured bag is conveyed by an arm when the cured bag is returned by a device.

또한, 경화 봉지체의 한쪽의 표면에 수지막을 더 설치해 수지막을 가지는 경화 봉지체로 하는 경우도 있다.Additionally, there are cases where a resin film is further installed on one surface of a curing bag to create a curing bag having a resin film.

이러한 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조하려면, 통상은, 형성한 경화 봉지체의 한쪽의 표면에, 별도 준비한 수지막 형성용 시트를 첩부하여, 수지막 형성용 시트를 경화시켜 수지막을 형성하는 공정을 거칠 필요가 있다.To manufacture a cured bag having such a resin film, it is usually necessary to go through a process of attaching a separately prepared resin film forming sheet to one surface of the formed cured bag, curing the resin film forming sheet, and forming a resin film.

또한, 경화 봉지체는, 상술한 바와 같이, 제조시에 휘어짐이 생기기 쉽기 때문에, 이 경화 봉지체의 휘어짐에 기인한, 수지막 형성용 시트를 첩부할 때의 작업성의 저하나, 경화하여 이루어지는 수지막과 경화 봉지체의 밀착성의 저하의 점도 염려된다.In addition, since the cured bag body is prone to warping during manufacturing as described above, there are concerns about the deterioration of workability when attaching a sheet for forming a resin film due to warping of the cured bag body, as well as the deterioration of the adhesion between the cured resin film and the cured bag body.

또한, 얻어지는 수지막을 가지는 경화 봉지체도, 또한 휘어짐이 커지는 경우도 있어, 다음 공정에서 여러가지 폐해를 일으킬 우려가 있다.In addition, the cured bag having the obtained resin film may also have a large warpage, which may cause various problems in the next process.

본 발명은, 봉지 대상물을 지지체에 고정해 봉지 가공을 실시할 수 있는 동시에, 봉지 가공 후에는 약한 힘으로 지지체로부터 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있고, 또한 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 생산성을 향상시켜 제조할 수 있는 점착성 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention aims to provide an adhesive laminate capable of improving productivity by manufacturing a cured bag having a cured resin film, which can secure a bagging object to a support and perform bagging processing, and at the same time can be easily and collectively separated from the support with a weak force after bagging processing, and further has a flat surface by suppressing warping.

본 발명자들은, 기재 및 점착제층을 가지고, 어느 하나의 층에 팽창성 입자를 포함하는 층을 포함하는 팽창성의 점착 시트(I), 및 열경화성 수지층(Z)을 가지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 구비하고, 점착 시트(I)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층한 구성을 가지는 점착성 적층체가, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아냈다.The present inventors have found that an adhesive laminate having an expandable adhesive sheet (I) having a substrate and an adhesive layer, one of which includes a layer containing expandable particles, and a sheet (II) for forming a cured resin film having a thermosetting resin layer (Z), can solve the above-mentioned problem.

즉, 본 발명은, 이하의 [1] ~ [13]에 관한 것이다.That is, the present invention relates to the following [1] to [13].

[1]기재(Y)와 점착제층(X)을 가지고, 어느 하나의 층에 팽창성 입자를 포함하는 팽창성의 점착 시트(I), 및[1] An expandable adhesive sheet (I) having a substrate (Y) and an adhesive layer (X), wherein one of the layers includes expandable particles, and

열경화성 수지층(Z)을 가지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 구비하고A sheet (II) for forming a cured resin film having a thermosetting resin layer (Z) is provided.

점착 시트(I)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체로서,An adhesive laminate formed by directly laminating an adhesive sheet (I) and a thermosetting resin layer (Z) of a sheet (II) for forming a cured resin film,

상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 분리되는, 점착성 적층체.An adhesive laminate, which is separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film by a treatment for expanding the above-mentioned expandable particles.

[2]상기 팽창성 입자는 열팽창성 입자인, 상기 [1]에 기재된 점착성 적층체.[2] The adhesive laminate described in [1] above, wherein the expandable particles are heat-expandable particles.

[3]열경화성 수지층(Z)은 중합체 성분(A)과 열경화성 성분(B)을 포함하는 열경화성 조성물(z)로 형성된 층인, 상기 [1]또는 [2]에 기재된 점착성 적층체.[3] The adhesive laminate described in [1] or [2] above, wherein the thermosetting resin layer (Z) is a layer formed of a thermosetting composition (z) containing a polymer component (A) and a thermosetting component (B).

[4]점착 시트(I)가 가지는 점착제층(X)은, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)으로 이루어지고,[4] The adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) is composed of a first adhesive layer (X1) and a second adhesive layer (X2).

제1점착제층(X1)과 제2점착제층(X2)에 의해 기재(Y)가 끼워지고The substrate (Y) is sandwiched between the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2).

제1점착제층(X1)의 점착 표면은, 열경화성 수지층(Z)과 직접 적층한 구성을 가지는, 상기 [1] ~ [3] 중 어느 한 항에 기재된 점착성 적층체.An adhesive laminate according to any one of [1] to [3] above, wherein the adhesive surface of the first adhesive layer (X1) has a configuration in which it is directly laminated with the thermosetting resin layer (Z).

[5]기재(Y)는, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 기재층(Y1)을 가지는, 상기 [1] ~ [4] 중 어느 한 항에 기재된 점착성 적층체.[5] The substrate (Y) is an adhesive laminate according to any one of [1] to [4], having an expandable substrate layer (Y1) containing expandable particles.

[6]점착제층(X)은, 비팽창성 점착제층인, 상기 [5]에 기재된 점착성 적층체.[6] The adhesive laminate described in [5] above, wherein the adhesive layer (X) is a non-expandable adhesive layer.

[7]기재(Y)는, 팽창성 기재층(Y1) 및 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는, 상기 [5]에 기재된 점착성 적층체.[7] The substrate (Y) is an adhesive laminate as described in [5], having an intumescent substrate layer (Y1) and a non-intumescent substrate layer (Y2).

[8]팽창성 기재층(Y1)의 표면 상에 제1점착제층(X1)이 적층되고,[8] A first adhesive layer (X1) is laminated on the surface of the expandable substrate layer (Y1),

비팽창성 기재층(Y2)의 표면 상에 제2점착제층(X2)이 적층된 구성을 가지는, 상기 [7]에 기재된 점착성 적층체.An adhesive laminate as described in [7] above, having a configuration in which a second adhesive layer (X2) is laminated on the surface of a non-intumescent substrate layer (Y2).

[9]제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)은, 비팽창성 점착제층인, 상기 [8]에 기재된 점착성 적층체.[9] The adhesive laminate described in [8] above, wherein the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2) are non-expandable adhesive layers.

[10]경화 수지막 형성용 시트(II)가, 열경화성 수지층(Z)만으로 이루어지는, 상기 [1] ~ [9] 중 어느 한 항에 기재된 점착성 적층체.[10] An adhesive laminate according to any one of [1] to [9], wherein the sheet (II) for forming a cured resin film is composed only of a thermosetting resin layer (Z).

[11]경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면에 봉지 대상물을 재치하고,[11] Place the bagging target on the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film,

상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하기 위해서 이용되는, 상기 [1] ~ [10] 중 어느 한 항에 기재된 점착성 적층체.An adhesive laminate according to any one of the above [1] to [10], which is used to form a cured encapsulation body including the encapsulation object by covering the surface of the encapsulation object and at least the peripheral portion of the encapsulation object with an encapsulation material and thermally curing the encapsulation material.

[12]상기 봉지재를 열경화시킬 때에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화하여, 경화 수지막을 형성할 수 있고,[12] When the above-mentioned sealing material is heat-cured, the thermosetting resin layer (Z) can also be heat-cured to form a cured resin film.

상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻기 위해서 이용되는, 상기 [11]에 기재된 점착성 적층체.An adhesive laminate as described in [11], which is used to obtain a cured encapsulated body having a cured resin film by separating the expandable particles at the interface P through an expansion treatment.

[13]상기 [1] ~ [12] 중 어느 한 항에 기재된 점착성 적층체의 사용 방법으로서,[13] A method of using an adhesive laminate as described in any one of the above [1] to [12],

경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면에 봉지 대상물을 재치하고,Place the bagging object on the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film,

상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하는, 점착성 적층체의 사용 방법.A method for using an adhesive laminate, comprising covering the surface of the above-mentioned bagging object and at least the periphery of the above-mentioned bagging object and a sheet (II) for forming a cured resin film with a bagging material, and thermally curing the bagging material to form a cured bagging body including the above-mentioned bagging object.

[14]상기 봉지재를 경화시킬 때에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜 경화 수지막을 형성시키는 동시에,[14] When the above-mentioned sealant is cured, the thermosetting resin layer (Z) is also cured to form a cured resin film.

상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻는, 상기 [13]에 기재된 점착성 적층체의 사용 방법.A method for using the adhesive laminate described in [13], wherein the above expandable particles are separated from the interface P by an expanding treatment, thereby obtaining a cured encapsulated body having a cured resin film.

[15]상기 [1] ~ [12] 중 어느 한 항에 기재된 점착성 적층체를 이용하여 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조하는 방법으로서, 하기 공정(i) ~ (iii)를 가지는, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 제조 방법.[15] A method for manufacturing a cured encapsulating body having a cured resin film using the adhesive laminate described in any one of the above [1] to [12], comprising the following steps (i) to (iii).

·공정(i):상기 점착성 적층체가 가지는 점착 시트(I)의 점착제층(X)의 점착 표면과 지지체를 첩부하여, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면의 일부에, 봉지 대상물을 재치하는 공정.·Process (i): A process of attaching the adhesive surface of the adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and a support to place an object to be sealed on part of the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film.

·공정(ii):상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하는 동시에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜 경화 수지막을 형성하는 공정.·Process (ii): A process of covering the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film on at least the peripheral portion of the above-mentioned sealing object and the above-mentioned sealing object with a sealing material, thermally curing the sealing material to form a cured sealing body including the above-mentioned sealing object, and simultaneously thermally curing the thermosetting resin layer (Z) to form a cured resin film.

·공정(iii):상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻는 공정.·Process (iii): A process for obtaining a cured encapsulated body having a cured resin film by separating the expandable particles from the interface P through a treatment for expanding the expandable particles.

본 발명의 점착성 적층체는, 봉지 대상물을 지지체에 고정해 봉지 가공을 실시할 수 있는 동시에, 봉지 가공 후에는 약한 힘으로 지지체로부터 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있다.The adhesive laminate of the present invention can perform a bagging process by fixing a bagging object to a support, and at the same time, can be easily and collectively separated from the support with a weak force after the bagging process.

또한, 상기 점착성 적층체를 이용함으로써, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를, 생산성을 향상시켜 제조할 수 있다.In addition, by using the above adhesive laminate, a cured encapsulation body having a cured resin film with a flat surface that suppresses warping can be manufactured with improved productivity.

도 1은 본 발명의 제1 형태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는, 상기 점착성 적층체의 단면 모식도이다.
도 2는 본 발명의 제2 형태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는, 상기 점착성 적층체의 단면 모식도이다.
도 3은 본 발명의 제3 형태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는, 상기 점착성 적층체의 단면 모식도이다.
도 4는 도 1(a)에 나타내는 점착성 적층체(1a)를 이용하여 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조하는 공정을 나타낸 단면 모식도이다.
Figure 1 is a cross-sectional schematic diagram of an adhesive laminate showing the configuration of the first form of the adhesive laminate of the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional schematic diagram of an adhesive laminate of the second form of the present invention, showing the configuration of the adhesive laminate.
Figure 3 is a cross-sectional schematic diagram of an adhesive laminate showing the configuration of a third form of the adhesive laminate of the present invention.
Fig. 4 is a cross-sectional schematic diagram showing a process for manufacturing a cured encapsulation body having a cured resin film using the adhesive laminate (1a) shown in Fig. 1(a).

본 명세서에서, 대상이 되는 층이 「비팽창성층」인지 아닌지는, 팽창시키기 위한 처리를 3분간 행한 후, 상기 처리의 전후에 하기 식으로부터 산출되는 체적 변화율이 5 체적% 미만인 경우, 상기 층은 「비팽창성층」이라고 판단한다.In this specification, whether or not the target layer is a "non-inflatable layer" is determined to be a "non-inflatable layer" if, after performing a treatment for expansion for 3 minutes, the volume change rate calculated from the following formula before and after the treatment is less than 5 volume%.

·체적 변화율(%)={(처리 후의 상기 층의 체적-처리 전의 상기 층의 체적)/처리 전의 상기 층의 체적}×100·Volume change rate (%) = {(Volume of the layer after treatment - volume of the layer before treatment) / volume of the layer before treatment} × 100

또한 「팽창시키기 위한 처리」로는, 예를 들면, 열팽창성 입자를 포함하는 층인 경우, 상기 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t)에서 3분간의 가열 처리를 행하면 좋다.In addition, as for the “treatment for expansion”, for example, in the case of a layer containing thermally expandable particles, it is good to perform a heat treatment for 3 minutes at the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles.

본 명세서에서, 「유효 성분」이란, 대상이 되는 조성물에 포함되는 성분 가운데, 희석 용매를 제외한 성분을 가리킨다.In this specification, “active ingredient” refers to a component included in the target composition, excluding a dilution solvent.

본 명세서에서, 질량 평균 분자량(Mw)은, 겔투과 크로마토그래피(GPC) 법으로 측정되는 표준 폴리스티렌 환산값이고, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 기초해 측정한 값이다.In this specification, the mass average molecular weight (Mw) is a standard polystyrene conversion value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method, and specifically, a value measured based on the method described in the examples.

본 명세서에서, 예를 들면, 「(메타)아크릴산」이란, 「아크릴산」과「메타크릴산」의 쌍방을 나타내고, 다른 유사 용어도 마찬가지이다.In this specification, for example, “(meth)acrylic acid” refers to both “acrylic acid” and “methacrylic acid”, and the same applies to other similar terms.

본 명세서에서, 바람직한 수치 범위(예를 들면, 함유량 등의 범위)에 대해서, 단계적으로 기재된 하한치 및 상한치는, 각각 독립해 조합할 수 있다. 예를 들면, 「바람직하게는 10 ~ 90, 보다 바람직하게는 30 ~ 60」의 기재로부터, 「바람직한 하한치(10)」와「보다 바람직한 상한치(60)」를 조합하여, 「10 ~ 60」라고 할 수도 있다.In this specification, for a preferred numerical range (e.g., a range of content, etc.), the lower and upper limits described stepwise can be independently combined. For example, from the description of "preferably 10 to 90, more preferably 30 to 60," the "preferable lower limit (10)" and the "more preferable upper limit (60)" can be combined to say "10 to 60."

〔점착성 적층체의 특성〕〔Characteristics of adhesive laminate〕

본 발명의 점착성 적층체는, 기재(Y)와 점착제층(X)을 가지고, 어느 하나의 층에 팽창성 입자를 포함하는 팽창성의 점착 시트(I), 및 열경화성 수지층(Z)을 가지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 구비하고, 점착 시트(I)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층한 구성을 가진다.The adhesive laminate of the present invention comprises a substrate (Y) and an adhesive layer (X), an expandable adhesive sheet (I) including expandable particles in one layer, and a sheet (II) for forming a cured resin film having a thermosetting resin layer (Z), and has a configuration in which the adhesive sheet (I) and the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film are directly laminated.

본 발명의 점착성 적층체는, 점착 시트(I)의 어느 하나의 층을, 팽창성 입자를 포함하는 층으로 함으로써, 상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리(이하, 「팽창 처리」라고도 한다)에 의해서, 점착 시트(I)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 분리할 수 있다.The adhesive laminate of the present invention can be separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film by making one of the layers of the adhesive sheet (I) a layer containing expandable particles and then performing a treatment to expand the expandable particles (hereinafter also referred to as “expansion treatment”).

즉, 본 발명의 점착성 적층체는, 팽창 처리에 의해서, 팽창성 입자가 팽창하여, 상기 팽창성 입자를 포함하는 층의 표면에 요철이 생겨 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 접촉 면적이 감소한다. 그 결과, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서, 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있다.That is, in the adhesive laminate of the present invention, the expandable particles expand by the expansion treatment, so that the surface of the layer including the expandable particles becomes uneven, thereby reducing the contact area between the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film. As a result, the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film can be easily separated at once with a weak force at the interface P.

또한 계면 P에서 분리할 때에 행하는, 팽창성 입자를 팽창시키는 처리로는, 사용하는 팽창성 입자의 종류에 맞춰 선택된다.In addition, the treatment for expanding the expandable particles when separating at interface P is selected according to the type of expandable particles used.

예를 들면, 열팽창성 입자를 이용하는 경우에는, 상기 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t) 이상의 온도에서의 가열 처리가 적절하다.For example, when using thermally expandable particles, heat treatment at a temperature higher than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles is appropriate.

또한, 본 발명의 점착성 적층체는, 열경화성 수지층(Z)을 가지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 구비하고, 열경화성 수지층(Z)의 한쪽의 표면은 점착 시트(I)와 직접 적층한 구성이 된다.In addition, the adhesive laminate of the present invention comprises a sheet (II) for forming a cured resin film having a thermosetting resin layer (Z), and one surface of the thermosetting resin layer (Z) is configured to be directly laminated with the adhesive sheet (I).

또한 열경화성 수지층(Z)의 점착 시트(I)가 적층하는 측과는 반대의 표면 측에는, 봉지 대상물이 재치된다. 봉지 대상물은, 열경화성 수지층(Z) 다른 쪽의 표면 상에 직접 재치해도 좋고, 열경화성 수지층(Z) 다른 쪽의 표면 상에 설치된 점착제층을 개재하여 재치해도 좋다.In addition, an object to be sealed is placed on the surface side opposite to the side on which the adhesive sheet (I) of the thermosetting resin layer (Z) is laminated. The object to be sealed may be placed directly on the surface of the other side of the thermosetting resin layer (Z), or may be placed via an adhesive layer provided on the surface of the other side of the thermosetting resin layer (Z).

본 발명의 점착성 적층체는, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면에 봉지 대상물을 재치하고, 상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하기 위해서 이용되는 것이 바람직하다.The adhesive laminate of the present invention is preferably used to form a cured encapsulation body including the encapsulation object by placing the encapsulation object on the surface of the cured resin film forming sheet (II), covering the encapsulation object and at least the peripheral portion of the cured resin film forming sheet (II) with an encapsulation material, and thermally curing the encapsulation material.

또한, 본 발명의 점착성 적층체는, 상기 봉지재를 열경화시킬 때에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화하여, 경화 수지막을 형성할 수 있고, 상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻기 위해서 이용되는 것이 보다 바람직하다.In addition, it is more preferable that the adhesive laminate of the present invention be used to obtain a cured encapsulating body having a cured resin film by separating the thermosetting resin layer (Z) from the interface P by a treatment that expands the expandable particles when the encapsulating material is heat-cured to form a cured resin film.

예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 바와 같은 점착 시트의 점착 표면에, 봉지 대상물을 재치 후, 봉지 대상물 및 그 주변부의 점착 표면을 봉지재로 피복하고, 봉지재를 열경화시켜, 경화 봉지체를 제조하는 경우를 생각한다.For example, consider a case where a bagging object is placed on the adhesive surface of an adhesive sheet as described in Patent Document 1, the adhesive surface of the bagging object and its surrounding area is covered with a bagging material, and the bagging material is heat-cured to produce a cured bagging body.

봉지재를 열경화시켰을 때, 봉지재가 수축하려고 하는 응력이 작용하지만, 점착 시트가 지지체에 고정되어 있기 때문에, 봉지재의 응력은 억제되어 있다.When the encapsulating material is heat-cured, a stress is applied that causes the encapsulating material to shrink, but since the adhesive sheet is fixed to the support, the stress in the encapsulating material is suppressed.

그러나, 지지체 및 점착 시트로부터 분리하여 얻어진 경화 봉지체는, 수축하려고 하는 응력을 억제하기 어려워진다. 분리 후의 경화 봉지체는, 봉지 대상물이 존재하는 측의 표면 측과 그 반대의 표면 측에서, 봉지재의 존재량이 다르기 때문에, 수축 응력에 차이가 생기기 쉽다. 그 수축 응력의 차이가 경화 봉지체에 생기는 휘어짐의 원인이 된다.However, the cured bag obtained by separating from the support and the adhesive sheet has difficulty in suppressing the stress that tends to shrink. Since the amount of the sealing material is different on the surface side where the sealing target exists and the surface side opposite to it in the cured bag after separation, the shrinkage stress is likely to differ. This difference in shrinkage stress causes warping in the cured bag.

또한, 생산성의 관점에서, 가열 후의 경화 봉지체는, 어느 정도의 열을 띤 상태로, 지지체 및 점착 시트로부터 분리되는 것이 일반적이다. 이 때문에, 분리 후에도, 봉지재의 경화가 진행하는 동시에, 자연 냉각에 수반하는 수축도 생기기 때문에, 경화 봉지체에 휘어짐이 보다 생기기 쉬운 상태가 된다.In addition, from the viewpoint of productivity, the cured bag body after heating is usually separated from the support and adhesive sheet while still heated to a certain degree. For this reason, even after separation, as the curing of the bag body progresses, shrinkage also occurs due to natural cooling, making it easier for the cured bag body to warp.

반면, 본 발명의 점착성 적층체는, 열경화성 수지층(Z)을 가지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 구비하고 있는 것으로, 이하의 이유로부터, 경화 봉지체의 휘어짐을 억제할 수 있다.On the other hand, the adhesive laminate of the present invention comprises a sheet (II) for forming a cured resin film having a thermosetting resin layer (Z), and can suppress warping of the cured encapsulation body for the following reasons.

즉, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면에 봉지 대상물을 재치하고, 봉지재로 피복하고, 봉지재를 열경화시키면, 동시에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화한다. 이 때, 봉지재의 존재량이 적고, 봉지재의 경화에 의한 수축 응력이 작다고 생각되는 봉지 대상물이 존재하는 측의 표면 측에는, 열경화성 수지층(Z)이 설치되어 있기 때문에, 열경화성 수지층(Z)의 열경화에 의한 수축 응력이 작용한다.That is, when the sealing target object is placed on the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film, covered with a sealing material, and the sealing material is heat-cured, the thermosetting resin layer (Z) is also heat-cured at the same time. At this time, since the thermosetting resin layer (Z) is provided on the surface side of the side where the sealing target object exists, where the amount of the sealing material present is small and the shrinkage stress due to the curing of the sealing material is considered to be small, the shrinkage stress due to the heat-curing of the thermosetting resin layer (Z) acts.

그 결과, 경화 봉지체의 2개의 표면간의 수축 응력의 차이를 줄일 수 있어 휘어짐이 효과적으로 억제된 경화 봉지체를 얻을 수 있다고 생각된다.As a result, it is thought that the difference in shrinkage stress between the two surfaces of the cured bag can be reduced, thereby obtaining a cured bag with effectively suppressed warpage.

또한, 경화 봉지체의 휘어짐의 억제에 기여하고 있는 열경화성 수지층(Z)은, 열경화함으로써 경화 수지막으로 할 수 있다. 그리고, 상술의 팽창 처리를 행해, 계면 P에서 분리시킴으로써, 별도 경화 수지막을 형성하기 위한 공정을 거치지 않고, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있다고 생각된다.In addition, the thermosetting resin layer (Z) that contributes to suppressing warping of the cured encapsulation body can be formed into a cured resin film by heat curing. And, by performing the above-described expansion treatment and separating it from the interface P, it is thought that a cured encapsulation body having a cured resin film that suppresses warping and has a flat surface can be manufactured without going through a separate process for forming a cured resin film.

〔점착성 적층체의 구성〕〔Composition of adhesive laminate〕

도 1 ~ 3은, 본 발명의 제1 형태 ~ 제3 형태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는, 상기 점착성 적층체의 단면 모식도이다. 이하, 본 발명의 일 형태인, 도 1 ~ 3에 나타내는 점착성 적층체의 구성에 대해 설명한다.Figures 1 to 3 are cross-sectional schematic diagrams of adhesive laminates showing the configurations of the adhesive laminates of the first to third embodiments of the present invention. Hereinafter, the configurations of the adhesive laminates shown in Figures 1 to 3, which are embodiments of the present invention, will be described.

또한 이하의 본 발명의 제1 형태 ~ 제3 형태의 점착성 적층체에서, 지지체와 첩부하는 점착제층(X)(혹은 제2점착제층(X2))의 점착 표면, 및 경화 수지막 형성용 시트(II)의 점착 시트(I) 측과는 반대측의 표면에는, 박리재를 더 적층한 구성으로 해도 좋다.In addition, in the adhesive laminates of the first to third forms of the present invention below, a release agent may be further laminated on the adhesive surface of the adhesive layer (X) (or the second adhesive layer (X2)) that is attached to the support, and the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film on the opposite side to the adhesive sheet (I).

<제1 형태의 점착성 적층체><First type of adhesive laminate>

본 발명의 제1 형태의 점착성 적층체로는, 도 1에 나타내는 점착성 적층체(1a, 1b)를 들 수 있다.As an adhesive laminate of the first type of the present invention, an adhesive laminate (1a, 1b) shown in Fig. 1 can be exemplified.

점착성 적층체(1a, 1b)는, 기재(Y)와 점착제층(X)을 가지는 점착 시트(I), 및 열경화성 수지층(Z)으로 이루어지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 구비하고, 점착 시트(I)의 기재(Y)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층한 구성을 가진다.An adhesive laminate (1a, 1b) comprises an adhesive sheet (I) having a substrate (Y) and an adhesive layer (X), and a sheet (II) for forming a cured resin film comprising a thermosetting resin layer (Z), and has a configuration in which the substrate (Y) of the adhesive sheet (I) and the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film are directly laminated.

그런데, 본 발명의 점착성 적층체가 가지는 점착 시트(I)는, 어느 하나의 층에 팽창성 입자를 포함한다.However, the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate of the present invention contains expandable particles in one layer.

본 발명의 제1 형태의 점착성 적층체는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 기재(Y)가, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 기재층(Y1)을 가진다.The adhesive laminate of the first type of the present invention, as shown in Fig. 1, has a substrate (Y) having an expandable substrate layer (Y1) including expandable particles.

팽창성 기재층(Y1)을 가지는 기재(Y)로는, 도 1(a)에 나타내는 점착성 적층체(1a)와 같이, 팽창성 기재층(Y1)만으로 이루어지는 단층 구성의 기재이어도 좋고, 도 1(b)에 나타내는 점착성 적층체(1b)와 같이, 팽창성 기재층(Y1) 및 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는 복층 구성의 기재이어도 좋다.As the substrate (Y) having the expandable substrate layer (Y1), it may be a single-layer substrate composed only of the expandable substrate layer (Y1), such as the adhesive laminate (1a) shown in Fig. 1(a), or it may be a multi-layer substrate having an expandable substrate layer (Y1) and a non-expandable substrate layer (Y2), such as the adhesive laminate (1b) shown in Fig. 1(b).

도 1(a)에 나타내는 점착성 적층체(1a)는, 팽창 처리에 의해서, 팽창성 기재층(Y1)에 포함되는 팽창성 입자가 팽창하고, 팽창성 기재층(Y1)의 표면에 요철이 생겨 열경화성 수지층(Z)과의 접촉 면적이 감소한다.In the adhesive laminate (1a) shown in Fig. 1(a), the expandable particles included in the expandable base layer (Y1) expand due to the expansion treatment, and the surface of the expandable base layer (Y1) becomes uneven, thereby reducing the contact area with the thermosetting resin layer (Z).

한편, 점착제층(X)의 점착 표면이 지지체와 충분히 밀착하도록 첩부됨으로써, 팽창성 기재층(Y1)의 점착제층(X) 측의 표면에, 요철을 일으키는 힘이 발생해도, 점착제층으로부터의 반발하는 힘이 생기기 쉽다. 이 때문에, 팽창성 기재층(Y1)의 점착제층(X) 측의 표면에는, 요철이 형성되기 어렵다.Meanwhile, since the adhesive surface of the adhesive layer (X) is attached so as to be sufficiently closely attached to the support, even if a force that causes unevenness is generated on the surface of the adhesive layer (X) side of the expandable substrate layer (Y1), a repulsive force from the adhesive layer is likely to be generated. For this reason, it is difficult for unevenness to be formed on the surface of the adhesive layer (X) side of the expandable substrate layer (Y1).

그 결과, 점착성 적층체(1a)는, 점착 시트(I)의 기재(Y)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서, 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있게 된다.As a result, the adhesive laminate (1a) can be easily separated in one go with a weak force at the interface P between the substrate (Y) of the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film.

또한 점착성 적층체(1a)가 가지는 점착제층(X)을, 지지체에 대한 점착력이 높아지는 점착제 조성물로 형성함으로써 계면 P로 보다 용이하게 분리 가능해지도록 설계할 수도 있다.In addition, the adhesive layer (X) of the adhesive laminate (1a) can be designed to be more easily separated at the interface P by forming it with an adhesive composition that increases adhesive strength to a support.

또한 팽창성 입자에 의한 응력을 점착제층(X) 측에 전달하는 것을 억제하는 관점에서, 도 1(b)에 나타내는 점착성 적층체(1b)와 같이, 기재(Y)가, 팽창성 기재층(Y1) 및 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of suppressing the transfer of stress by the expandable particles to the adhesive layer (X) side, it is preferable that the substrate (Y) has an expandable substrate layer (Y1) and a non-expandable substrate layer (Y2), as in the adhesive laminate (1b) shown in Fig. 1(b).

팽창성 기재층(Y1)의 팽창성 입자의 팽창에 의한 응력은, 비팽창성 기재층(Y2)에 의해서 억제되기 때문에, 점착제층(X)에는 거의 전달되지 않는다.The stress caused by the expansion of the expandable particles of the expandable substrate layer (Y1) is hardly transmitted to the adhesive layer (X) because it is suppressed by the non-expandable substrate layer (Y2).

이 때문에, 점착제층(X)의 지지체와의 밀착성은, 팽창 처리의 전후에 거의 변함없이, 지지체와의 밀착성을 양호하게 유지할 수 있다.For this reason, the adhesion of the adhesive layer (X) to the support can be maintained well without change before and after the expansion treatment.

또한 도 1(b)에 나타내는 점착성 적층체(1b)와 같이, 팽창성 기재층(Y1)과 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층하여, 비팽창성 기재층(Y2)의 표면 상에 점착제층(X)이 적층한 구성인 것이 바람직하다.In addition, as in the adhesive laminate (1b) shown in Fig. 1(b), it is preferable to have a configuration in which the expandable substrate layer (Y1) and the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film are directly laminated, and the adhesive layer (X) is laminated on the surface of the non-expandable substrate layer (Y2).

<제2 형태의 점착성 적층체><Second type adhesive laminate>

본 발명의 제2 형태의 점착성 적층체로는, 도 2에 나타내는 점착성 적층체(2a, 2b)를 들 수 있다.As an adhesive laminate of the second type of the present invention, an adhesive laminate (2a, 2b) shown in Fig. 2 can be exemplified.

점착성 적층체(2a, 2b)는, 점착 시트(I)가 가지는 점착제층(X)이, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)으로 구성되고, 제1점착제층(X1)과 제2점착제층(X2)에 의해 기재(Y)가 끼워지고 제1점착제층(X1)의 점착 표면이, 열경화성 수지층(Z)과 직접 적층한 구성을 가진다.The adhesive laminate (2a, 2b) has a configuration in which the adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) is composed of a first adhesive layer (X1) and a second adhesive layer (X2), a substrate (Y) is sandwiched between the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2), and the adhesive surface of the first adhesive layer (X1) is directly laminated with a thermosetting resin layer (Z).

또한 본 발명의 제2 형태의 점착성 적층체에서, 제2점착제층(X2)의 점착 표면은, 지지체에 첩부된다.In addition, in the adhesive laminate of the second form of the present invention, the adhesive surface of the second adhesive layer (X2) is attached to a support.

본 발명의 제2 형태의 점착성 적층체에서도, 기재(Y)가, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 기재층(Y1)을 가지는 것이 바람직하다.In the second form of the adhesive laminate of the present invention, it is also preferable that the substrate (Y) has an expandable substrate layer (Y1) containing expandable particles.

팽창성 기재층(Y1)을 가지는 기재(Y)로는, 도 2(a)에 나타내는 점착성 적층체(2a)와 같이, 팽창성 기재층(Y1)만으로 이루어지는 단층 구성의 기재이어도 좋고, 도 2(b)에 나타내는 점착성 적층체(2b)와 같이, 팽창성 기재층(Y1) 및 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는 복층 구성의 기재이어도 좋다.As the substrate (Y) having the expandable substrate layer (Y1), it may be a single-layer substrate composed only of the expandable substrate layer (Y1), such as the adhesive laminate (2a) shown in Fig. 2(a), or it may be a multi-layer substrate having an expandable substrate layer (Y1) and a non-expandable substrate layer (Y2), such as the adhesive laminate (2b) shown in Fig. 2(b).

다만, 상술한 바와 같이, 팽창 처리의 전후에 제2점착제층(X2)과 지지체의 밀착성을 양호하게 유지하는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 기재(Y)가, 팽창성 기재층(Y1) 및 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는 것이 바람직하다.However, from the viewpoint of forming an adhesive laminate that maintains good adhesion between the second adhesive layer (X2) and the support before and after the expansion treatment as described above, it is preferable that the substrate (Y) has an expandable substrate layer (Y1) and a non-expandable substrate layer (Y2).

또한 본 발명의 제2 형태의 점착성 적층체에서, 팽창성 기재층(Y1) 및 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는 기재(Y)를 이용하는 경우, 도 2(b)에 나타낸 바와 같이, 팽창성 기재층(Y1)의 표면 상에 제1점착제층(X1)이 적층되고, 비팽창성 기재층(Y2)의 표면 상에 제2점착제층(X2)이 적층된 구성을 가지는 것이 바람직하다.In addition, in the adhesive laminate of the second form of the present invention, when using a substrate (Y) having an expandable substrate layer (Y1) and a non-expandable substrate layer (Y2), it is preferable to have a configuration in which a first adhesive layer (X1) is laminated on the surface of the expandable substrate layer (Y1) and a second adhesive layer (X2) is laminated on the surface of the non-expandable substrate layer (Y2), as shown in Fig. 2(b).

본 발명의 제2 형태의 점착성 적층체는, 팽창 처리에 의해서, 기재(Y)를 구성하는 팽창성 기재층(Y1) 중의 팽창성 입자가 팽창해, 팽창성 기재층(Y1)의 표면에 요철이 생긴다.In the second form of the adhesive laminate of the present invention, the expandable particles in the expandable substrate layer (Y1) constituting the substrate (Y) expand through expansion treatment, thereby forming unevenness on the surface of the expandable substrate layer (Y1).

그리고, 팽창성 기재층(Y1)의 표면에 생긴 요철에 의해서 제1점착제층(X1)도 밀어 올려져 제1점착제층(X1)의 점착 표면에도 요철이 형성되기 때문에, 제1점착제층(X1)과 열경화성 수지층(Z)의 접촉 면적이 감소한다.In addition, since the first adhesive layer (X1) is also pushed up by the unevenness formed on the surface of the inflatable substrate layer (Y1), and unevenness is also formed on the adhesive surface of the first adhesive layer (X1), the contact area between the first adhesive layer (X1) and the thermosetting resin layer (Z) decreases.

그 결과, 팽창 처리에 의해서, 점착 시트(I)의 제1점착제층(X1)과 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서, 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있게 된다.As a result, by the expansion treatment, the first adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film can be easily separated at the interface P with a weak force.

또한 본 발명의 제2 형태의 점착성 적층체에서, 계면 P에서 보다 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 점착 시트(I)가 가지는 기재(Y)의 팽창성 기재층(Y1)과 제1점착제층(X1)이 직접 적층한 구성인 것이 바람직하다.In addition, in the second form of the adhesive laminate of the present invention, from the viewpoint of making the adhesive laminate easily and collectively separable with a weaker force at the interface P, it is preferable that the adhesive sheet (I) has a configuration in which the expandable substrate layer (Y1) of the substrate (Y) and the first adhesive layer (X1) are directly laminated.

<제3 형태의 점착성 적층체><Third type adhesive laminate>

본 발명의 제3 형태의 점착성 적층체로는, 도 3에 나타내는 점착성 적층체(3)를 들 수 있다.As a third type of adhesive laminate of the present invention, an adhesive laminate (3) shown in Fig. 3 can be exemplified.

도 3에 나타내는 점착성 적층체(3)는, 기재(Y)의 한쪽의 표면 측에, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)을 가지고, 기재(Y) 다른 쪽의 표면 측에, 비팽창성 점착제층인 제2점착제층(X2)을 가지는 점착 시트(I)를 구비하고, 제1점착제층(X1)과, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층한 구성을 가진다.The adhesive laminate (3) shown in Fig. 3 has an adhesive sheet (I) having, on one surface side of a substrate (Y), a first adhesive layer (X1) which is an expandable adhesive layer containing expandable particles, and on the other surface side of the substrate (Y), a second adhesive layer (X2) which is a non-expandable adhesive layer, and has a configuration in which the first adhesive layer (X1) and a thermosetting resin layer (Z) of a sheet (II) for forming a cured resin film are directly laminated.

점착성 적층체(3)에서, 제2점착제층(X2)의 점착 표면은, 지지체에 첩부된다.In the adhesive laminate (3), the adhesive surface of the second adhesive layer (X2) is attached to a support.

또한 본 발명의 제3 형태의 점착성 적층체가 가지는 기재(Y)는, 비팽창성 기재층으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the substrate (Y) of the adhesive laminate of the third form of the present invention is composed of a non-expandable substrate layer.

본 발명의 제3 형태의 점착성 적층체는, 팽창 처리에 의해서, 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1) 중의 팽창성 입자가 팽창하여, 제1점착제층(X1) 표면에 요철이 생겨 제1점착제층(X1)과 열경화성 수지층(Z)의 접촉 면적이 감소한다.In the adhesive laminate of the third form of the present invention, by expansion treatment, the expandable particles in the first adhesive layer (X1), which is an expandable adhesive layer, expand, so that unevenness is created on the surface of the first adhesive layer (X1), thereby reducing the contact area between the first adhesive layer (X1) and the thermosetting resin layer (Z).

한편, 제1점착제층(X1)의 기재(Y) 측의 표면은, 기재(Y)가 적층되어 있기 때문에, 요철은 생기기 어렵다.Meanwhile, the surface of the substrate (Y) side of the first adhesive layer (X1) is unlikely to have unevenness because the substrate (Y) is laminated.

이 때문에, 팽창 처리에 의해서, 제1점착제층(X1)의 열경화성 수지층(Z) 측의 표면에 요철이 형성되기 쉽고, 그 결과, 점착 시트(I)의 제1점착제층(X1)과 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서, 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있게 된다.For this reason, by the expansion treatment, unevenness is easily formed on the surface of the thermosetting resin layer (Z) side of the first adhesive layer (X1), and as a result, the first adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film can be easily separated at once with a weak force at the interface P.

〔점착성 적층체의 각종 물성〕〔Various properties of adhesive laminate〕

본 발명의 일 형태의 점착성 적층체는, 팽창 처리에 의해서, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서, 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있게 된다.One form of the adhesive laminate of the present invention can be easily and collectively separated with a weak force at the interface P between the adhesive sheet (I) and the sheet for forming a cured resin film (II) by expansion treatment.

여기서, 본 발명의 일 형태의 점착성 적층체에서, 열경화성 수지층(Z)을 열경화시켜 경화 수지막으로 한 후에, 팽창 처리에 의해서, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 경화하여 이루어지는 경화 수지막의 계면 P에서 분리할 때의 박리력(F1)으로는, 통상 0 ~ 2000 mN/25 mm, 바람직하게는 0 ~ 1000 mN/25 mm, 보다 바람직하게는 0 ~ 500 mN/25 mm, 더 바람직하게는 0 ~ 150 mN/25 mm, 더욱더 바람직하게는 0 ~ 100 mN/25 mm, 더욱더 바람직하게는 0 ~ 50 mN/25 mm이다.Here, in one form of the adhesive laminate of the present invention, after the thermosetting resin layer (Z) is thermosetted to form a cured resin film, the peeling force (F 1 ) when separating at the interface P of the cured resin film formed by curing the thermosetting resin layer (Z) of the adhesive sheet (I) and the cured resin film-forming sheet ( II ) by expansion treatment is usually 0 to 2000 mN/25 mm, preferably 0 to 1000 mN/25 mm, more preferably 0 to 500 mN/25 mm, still more preferably 0 to 150 mN/25 mm, still more preferably 0 to 100 mN/25 mm, and still more preferably 0 to 50 mN/25 mm.

박리력(F1)이 0 mN/25 mm인 경우에는, 실시예에 기재된 방법으로 박리력을 측정하려고 해도, 박리력이 너무 작기 때문에 측정 불가하게 되는 경우도 포함된다.In cases where the peeling force (F 1 ) is 0 mN/25 mm, even if the peeling force is measured by the method described in the examples, there are also cases where the peeling force is too small to be measured.

또한, 열경화성 수지층(Z)의 열경화 전 및 팽창 처리 전에, 봉지 대상물을 충분히 고정하고, 봉지 작업에 악영향을 미치지 않게 하는 관점에서, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)의 밀착성은 높은 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of sufficiently fixing the bagging object and not adversely affecting the bagging operation before the thermal curing and expansion treatment of the thermosetting resin layer (Z), it is preferable that the adhesion between the adhesive sheet (I) and the thermosetting resin layer (Z) of the cured resin film forming sheet (II) be high.

상기 관점에서, 본 발명의 일 형태의 점착성 적층체에서, 열경화성 수지층(Z)의 열경화 전 및 팽창 처리를 행하기 전에, 점착 시트(I)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)의 계면 P에서 분리할 때의 박리력(F0)으로는, 바람직하게는 100 mN/25 mm 이상, 보다 바람직하게는 130 mN/25 mm 이상, 더 바람직하게는 160 mN/25 mm 이상이고, 또한, 바람직하게는 50000 mN/25 mm 이하이다.From the above viewpoint, in one form of the adhesive laminate of the present invention, before thermal curing of the thermosetting resin layer (Z) and before performing the expansion treatment, the peeling force (F 0 ) when separating at the interface P between the adhesive sheet (I) and the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film is preferably 100 mN/25 mm or more, more preferably 130 mN/25 mm or more, still more preferably 160 mN/25 mm or more, and further preferably 50000 mN/25 mm or less.

본 발명의 일 형태의 점착성 적층체에서, 박리력(F1)와 박리력(F0)의 비〔(F1)/(F0)〕는, 바람직하게는 0 ~ 0.9, 보다 바람직하게는 0 ~ 0.8, 더 바람직하게는 0 ~ 0.5, 더욱더 바람직하게는 0 ~ 0.2이다.In one form of the adhesive laminate of the present invention, the ratio of peel strength (F 1 ) to peel strength (F 0 ) [(F 1 )/(F 0 )] is preferably 0 to 0.9, more preferably 0 to 0.8, still more preferably 0 to 0.5, and still more preferably 0 to 0.2.

박리력(F1) 및 박리력(F0)은, 실시예에 기재된 방법에 기초해 측정된 값을 의미한다.Peeling strength (F 1 ) and peeling strength (F 0 ) refer to values measured based on the method described in the examples.

또한 박리력(F1)을 측정할 때의 온도 조건으로는, 열팽창성 입자를 이용한 경우에는, 그 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t) 이상이면 좋다.In addition, when measuring the peeling force (F 1 ), the temperature condition should be higher than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles when using thermally expandable particles.

또한, 박리력(F0)을 측정할 때의 온도 조건으로는, 열팽창성 입자를 이용한 경우에는, 그 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t) 미만이면 좋지만, 기본적으로는, 실온(23℃)이다.In addition, the temperature condition for measuring the peeling force (F 0 ) is preferably lower than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles when using thermally expandable particles, but is basically room temperature (23°C).

본 발명의 일 형태의 점착성 적층체에서, 실온(23℃)에서의, 점착 시트(I)가 가지는 점착제층(X)(제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2))의 점착력으로는, 바람직하게는 0.1 ~ 10.0N/25 mm, 보다 바람직하게는 0.2 ~ 8.0N/25 mm, 더 바람직하게는 0.4 ~ 6.0N/25 mm, 더욱더 바람직하게는 0.5 ~ 4.0N/25 mm이다.In one form of the adhesive laminate of the present invention, the adhesive strength of the adhesive layer (X) (the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2)) of the adhesive sheet (I) at room temperature (23°C) is preferably 0.1 to 10.0 N/25 mm, more preferably 0.2 to 8.0 N/25 mm, still more preferably 0.4 to 6.0 N/25 mm, and still more preferably 0.5 to 4.0 N/25 mm.

점착 시트(I)가 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)을 가지는 경우, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)의 점착력은, 각각 상기 범위인 것이 바람직하지만, 지지체와의 밀착성을 향상시켜, 계면 P에서 일괄적으로 보다 용이하게 분리할 수 있게 하는 관점에서, 지지체와 첩부되는 제2점착제층(X2)의 점착력이, 제1점착제층(X1)의 점착력보다도 높은 것이 보다 바람직하다.When the adhesive sheet (I) has a first adhesive layer (X1) and a second adhesive layer (X2), it is preferable that the adhesive strengths of the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2) are each within the above range, but from the viewpoint of improving adhesion to the support and enabling easier separation at the interface P, it is more preferable that the adhesive strength of the second adhesive layer (X2) attached to the support is higher than the adhesive strength of the first adhesive layer (X1).

또한, 본 발명의 일 형태의 점착성 적층체에서, 봉지 대상물과의 밀착성을 양호하게 하는 관점에서, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 봉지 대상물이 재치되는 측의 표면이, 점착성을 가지는 것이 바람직하다.In addition, in one form of the adhesive laminate of the present invention, from the viewpoint of improving adhesion with the object to be sealed, it is preferable that the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film, on the side where the object to be sealed is placed, has adhesiveness.

구체적으로는, 실온(23℃)에서의, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 봉지 대상물이 재치되는 측의 표면의 점착력으로는, 바람직하게는 0.01 ~ 5 N/25 mm, 보다 바람직하게는 0.05 ~ 4 N/25 mm, 더 바람직하게는 0.1 ~ 3 N/25 mm이다.Specifically, the adhesive strength of the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film at room temperature (23°C) on the side where the sealing target is placed is preferably 0.01 to 5 N/25 mm, more preferably 0.05 to 4 N/25 mm, and even more preferably 0.1 to 3 N/25 mm.

여기서, 경화 수지막 형성용 시트(II)가 열경화성 수지층(Z)만으로 구성되어 있는 경우에는, 열경화성 수지층(Z)의 표면의 점착력이 상기 범위가 되도록 조정되어 있으면 좋다.Here, in the case where the sheet (II) for forming a cured resin film is composed only of a thermosetting resin layer (Z), it is preferable that the adhesive strength of the surface of the thermosetting resin layer (Z) be adjusted to be within the above range.

또한, 경화 수지막 형성용 시트(II)가, 열경화성 수지층(Z) 및 점착제층을 가지는 경우에는, 점착제층의 점착력이 상기 범위가 되도록 조정되어 있으면 좋다.In addition, when the sheet (II) for forming a cured resin film has a thermosetting resin layer (Z) and an adhesive layer, it is preferable that the adhesive strength of the adhesive layer be adjusted to be within the above range.

또한 본 명세서에서, 이러한 점착력은, 실시예에 기재된 방법에 따라 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, such adhesive strength means a value measured according to the method described in the examples.

점착 시트(I)가 가지는 기재(Y)는, 비점착성 기재이다.The substrate (Y) of the adhesive sheet (I) is a non-adhesive substrate.

본 발명에서, 비점착성 기재인가 아닌가의 판단은, 대상이 되는 기재의 표면에 대해서, JIS Z0237:1991에 준거해 측정한 프로브 택 값이 50 mN/5mmφ 미만이면, 상기 기재를 「비점착성 기재」라고 판단한다.In the present invention, the determination of whether or not the substrate is a non-adhesive substrate is made by determining that, for the surface of the target substrate, if the probe tack value measured in accordance with JIS Z0237: 1991 is less than 50 mN/5 mmφ, the substrate is judged to be a “non-adhesive substrate.”

본 발명의 일 형태에서 이용되는 점착 시트(I)가 가지는 기재(Y)의 표면에서의 프로브 택 값은, 각각 독립적으로, 통상 50 mN/5mmφ 미만이지만, 바람직하게는 30 mN/5mmφ 미만, 보다 바람직하게는 10 mN/5mmφ 미만, 더 바람직하게는 5 mN/5mmφ 미만이다.The probe tack value on the surface of the substrate (Y) of the adhesive sheet (I) used in one embodiment of the present invention is each independently usually less than 50 mN/5 mmφ, preferably less than 30 mN/5 mmφ, more preferably less than 10 mN/5 mmφ, and even more preferably less than 5 mN/5 mmφ.

또한 본 명세서에서, 기재의 표면에서의 프로브 택 값은, 실시예에 기재된 방법에 따라 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, the probe tack value on the surface of the substrate means a value measured according to the method described in the examples.

이하, 본 발명의 점착성 적층체를 구성하는 각 층에 대해 설명한다.Hereinafter, each layer constituting the adhesive laminate of the present invention will be described.

[점착 시트(I)의 구성][Composition of adhesive sheet (I)]

본 발명의 점착성 적층체가 가지는 점착 시트(I)는, 기재(Y)와 점착제층(X)을 가지고, 어느 하나의 층에 팽창성 입자를 포함하는 팽창성의 점착 시트이다.The adhesive sheet (I) of the adhesive laminate of the present invention is an expandable adhesive sheet having a substrate (Y) and an adhesive layer (X), and including expandable particles in one of the layers.

팽창성 입자를 포함하는 층이, 기재(Y)의 구성에 포함되는 경우와 점착제층(X)의 구성에 포함되는 경우에, 본 발명의 일 형태에서 이용되는 점착 시트(I)는, 이하의 형태로 나뉜다.In a case where a layer including expandable particles is included in the composition of the substrate (Y) and in a case where it is included in the composition of the adhesive layer (X), the adhesive sheet (I) used in one embodiment of the present invention is divided into the following forms.

·제1 형태의 점착 시트(I):팽창성 입자를 포함하는 팽창성 기재층(Y1)을 가지는 기재(Y)를 구비하는 점착 시트(I).· First type of adhesive sheet (I): An adhesive sheet (I) having a substrate (Y) having an expandable substrate layer (Y1) containing expandable particles.

·제2 형태의 점착 시트(I):기재(Y)의 양면 측에, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)과 비팽창성 점착제층인 제2점착제층(X2)을 가지는 점착 시트(I).·Second type adhesive sheet (I): An adhesive sheet (I) having, on both sides of a substrate (Y), a first adhesive layer (X1) which is an expandable adhesive layer containing expandable particles, and a second adhesive layer (X2) which is a non-expandable adhesive layer.

<제1 형태의 점착 시트(I)><First type of adhesive sheet (I)>

제1 형태의 점착 시트(I)로는, 도 1 ~ 2에 나타낸 바와 같이, 기재(Y)가, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 기재층(Y1)을 가지는 것을 들 수 있다.As a first type of adhesive sheet (I), as shown in Figs. 1 and 2, an example is one in which the substrate (Y) has an expandable substrate layer (Y1) containing expandable particles.

제1 형태의 점착 시트(I)에서, 계면 P에서 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있게 하는 관점에서, 점착제층(X)은, 비팽창성 점착제층인 것이 바람직하다.In the first type of adhesive sheet (I), from the viewpoint of enabling easy and unitary separation with a weak force at the interface P, it is preferable that the adhesive layer (X) is a non-expandable adhesive layer.

구체적으로는, 도 1에 나타내는 점착성 적층체(1a, 1b)가 가지는 점착 시트(I)에서는, 점착제층(X)이, 비팽창성 점착제층인 것이 바람직하다.Specifically, in the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate (1a, 1b) shown in Fig. 1, it is preferable that the adhesive layer (X) is a non-expandable adhesive layer.

또한, 도 2에 나타내는 점착성 적층체(2a, 2b)가 가지는 점착 시트(I)에서는, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)의 모두가, 비팽창성 점착제층인 것이 바람직하다.In addition, in the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate (2a, 2b) shown in Fig. 2, it is preferable that both the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2) are non-expandable adhesive layers.

제1 형태의 점착 시트(I)의 팽창 처리 전의 기재(Y)의 두께는, 바람직하게는 10 ~ 1000㎛, 보다 바람직하게는 20 ~ 700㎛, 더 바람직하게는 25 ~ 500㎛, 더욱더 바람직하게는 30 ~ 300㎛이다.The thickness of the substrate (Y) before the expansion treatment of the adhesive sheet (I) of the first form is preferably 10 to 1000 µm, more preferably 20 to 700 µm, further preferably 25 to 500 µm, and still more preferably 30 to 300 µm.

제1 형태의 점착 시트(I)의 팽창 처리 전의 점착제층(X)의 두께는, 바람직하게는 1 ~ 60㎛, 보다 바람직하게는 2 ~ 50㎛, 더 바람직하게는 3 ~ 40㎛, 더욱더 바람직하게는 5 ~ 30㎛이다.The thickness of the adhesive layer (X) before the expansion treatment of the adhesive sheet (I) of the first form is preferably 1 to 60 µm, more preferably 2 to 50 µm, further preferably 3 to 40 µm, and still more preferably 5 to 30 µm.

또한 본 명세서에서, 예를 들면, 도 2에 나타낸 바와 같이, 점착 시트(I)가, 복수의 점착제층을 가지는 경우, 상기의 「점착제층(X)의 두께」는, 각각의 점착제층 두께(도 2에서는, 점착제층(X1) 및 (X2)의 각각의 두께)을 의미한다.In addition, in the present specification, for example, as shown in FIG. 2, when the adhesive sheet (I) has a plurality of adhesive layers, the “thickness of the adhesive layer (X)” means the thickness of each adhesive layer (in FIG. 2, the thickness of each of the adhesive layers (X1) and (X2)).

또한, 본 명세서에서, 점착성 적층체를 구성하는 각 층의 두께는, 실시예에 기재된 방법에 따라 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, the thickness of each layer constituting the adhesive laminate means a value measured according to the method described in the examples.

제1 형태의 점착 시트(I)에서, 팽창 처리 전에서, 팽창성 기재층(Y1)과 점착제층(X)의 두께 비〔(Y1)/(X)〕로는, 바람직하게는 1000 이하, 보다 바람직하게는 200 이하, 더 바람직하게는 60 이하, 더욱더 바람직하게는 30 이하이다.In the adhesive sheet (I) of the first form, before the expansion treatment, the thickness ratio [(Y1)/(X)] of the expandable substrate layer (Y1) and the adhesive layer (X) is preferably 1000 or less, more preferably 200 or less, further preferably 60 or less, and still more preferably 30 or less.

상기 두께 비가 1000 이하이면, 팽창 처리에 의해서, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있게 하는 점착성 적층체로 할 수 있다.When the above thickness ratio is 1000 or less, an adhesive laminate can be formed that can be easily and collectively separated with a weak force at the interface P of the adhesive sheet (I) and the sheet for forming a cured resin film (II) by expansion treatment.

또한 상기 두께 비는, 바람직하게는 0.2 이상, 보다 바람직하게는 0.5 이상, 더 바람직하게는 1.0 이상, 더욱더 바람직하게는 5.0 이상이다.In addition, the thickness ratio is preferably 0.2 or more, more preferably 0.5 or more, further preferably 1.0 or more, and even more preferably 5.0 or more.

또한, 제1 형태의 점착 시트(I)에서는, 기재(Y)가, 도 1(a)에 나타내는, 팽창성 기재층(Y1)만으로 구성된 것이어도 좋고, 도 1(b)에 나타내는, 경화 수지막 형성용 시트(II) 측에 팽창성 기재층(Y1)을 가지고, 점착제층(X) 측에 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는 것이어도 좋다.In addition, in the adhesive sheet (I) of the first form, the substrate (Y) may be composed only of the expandable substrate layer (Y1) as shown in Fig. 1(a), or may have the expandable substrate layer (Y1) on the side of the sheet (II) for forming a cured resin film as shown in Fig. 1(b) and the non-expandable substrate layer (Y2) on the side of the adhesive layer (X).

제1 형태의 점착 시트(I)에서, 팽창 처리 전에, 팽창성 기재층(Y1)과 비팽창성 기재층(Y2)의 두께 비〔(Y1)/(Y2)〕로는, 바람직하게는 0.02 ~ 200, 보다 바람직하게는 0.03 ~ 150, 더 바람직하게는 0.05 ~ 100이다.In the adhesive sheet (I) of the first form, before the expansion treatment, the thickness ratio [(Y1)/(Y2)] of the expandable substrate layer (Y1) and the non-expandable substrate layer (Y2) is preferably 0.02 to 200, more preferably 0.03 to 150, and even more preferably 0.05 to 100.

<제2 형태의 점착 시트(I)><Second type adhesive sheet (I)>

제2 형태의 점착 시트(I)로는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 기재(Y)의 양면 측에, 각각, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)과 비팽창성 점착제층인 제2점착제층(X2)을 가지는 것을 들 수 있다.As an adhesive sheet (I) of the second type, as shown in Fig. 3, there may be mentioned one having, on both sides of the substrate (Y), a first adhesive layer (X1) which is an expandable adhesive layer containing expandable particles, and a second adhesive layer (X2) which is a non-expandable adhesive layer.

또한 제2 형태의 점착 시트(I)는, 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)과, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 접촉한다.In addition, in the second type of adhesive sheet (I), the first adhesive layer (X1), which is an expandable adhesive layer, and the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film are in direct contact.

또한 제2 형태의 점착 시트(I)에서, 기재(Y)는, 비팽창성 기재인 것이 바람직하다. 비팽창성 기재는, 비팽창성 기재층(Y2)만으로 구성된 것이 바람직하다.In addition, in the adhesive sheet (I) of the second type, the substrate (Y) is preferably a non-expandable substrate. The non-expandable substrate is preferably composed only of a non-expandable substrate layer (Y2).

제2 형태의 점착 시트(I)에서, 팽창 처리 전에, 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)과 비팽창성 점착제층인 제2점착제층(X2)의 두께 비〔(X1)/(X2)〕로는, 바람직하게는 0.1 ~ 80, 보다 바람직하게는 0.3 ~ 50, 더 바람직하게는 0.5 ~ 15이다.In the adhesive sheet (I) of the second form, before the expansion treatment, the thickness ratio [(X1)/(X2)] of the first adhesive layer (X1) which is an expandable adhesive layer and the second adhesive layer (X2) which is a non-expandable adhesive layer is preferably 0.1 to 80, more preferably 0.3 to 50, and even more preferably 0.5 to 15.

또한, 제2 형태의 점착 시트(I)에서, 팽창 처리 전에, 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)과 기재(Y)의 두께 비〔(X1)/(Y1)〕로는, 바람직하게는 0.05 ~ 20, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 10, 더 바람직하게는 0.2 ~ 3이다.In addition, in the adhesive sheet (I) of the second form, before the expansion treatment, the thickness ratio [(X1)/(Y1)] of the first adhesive layer (X1), which is an expandable adhesive layer, and the substrate (Y) is preferably 0.05 to 20, more preferably 0.1 to 10, and even more preferably 0.2 to 3.

이하, 점착 시트(I)를 구성하는 어느 하나의 층에 포함되는 팽창성 입자에 대해 설명한 다음, 기재(Y)를 구성하는 팽창성 기재층(Y1), 비팽창성 기재층(Y2), 및 점착제층(X)에 관해서 상술한다.Hereinafter, the expandable particles included in one layer constituting the adhesive sheet (I) will be described, and then the expandable substrate layer (Y1), the non-expandable substrate layer (Y2), and the adhesive layer (X) constituting the substrate (Y) will be described in detail.

<팽창성 입자><Expandable Particles>

본 발명에서 이용되는 팽창성 입자로는, 소정의 팽창 처리에 의해서 팽창하는 입자이면 좋다.The expandable particles used in the present invention may be particles that expand through a predetermined expansion treatment.

본 발명의 일 형태에서 이용되는, 팽창성 입자의 23℃에서 팽창 전의 평균 입자경은, 바람직하게는 3 ~ 100㎛, 보다 바람직하게는 4 ~ 70㎛, 더 바람직하게는 6 ~ 60㎛, 더욱더 바람직하게는 10 ~ 50㎛이다.The average particle diameter of the expandable particles used in one embodiment of the present invention before expansion at 23°C is preferably 3 to 100 μm, more preferably 4 to 70 μm, further preferably 6 to 60 μm, and still more preferably 10 to 50 μm.

또한 팽창성 입자의 팽창 전의 평균 입자경이란, 체적 중위 입자경(D50)이고, 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치(예를 들면, Malvern 사 제, 제품명 「MASTERSIZER 3000」)를 이용하여 측정한, 팽창 전의 팽창성 입자의 입자 분포에서, 팽창 전의 팽창성 입자의 입자경이 작은 쪽으로 계산한 누적 체적 빈도가 50%에 상당하는 입자경을 의미한다.In addition, the average particle size of the expandable particles before expansion is the median volume particle size ( D50 ), and means the particle size at which the cumulative volume frequency calculated with the smaller particle size of the expandable particles before expansion corresponds to 50% in the particle distribution of the expandable particles before expansion measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device (e.g., product name “MASTERSIZER 3000” manufactured by Malvern).

본 발명의 일 형태에서 이용되는, 팽창성 입자의 23℃에서의 팽창 전의 90% 입자경(D90)으로는, 바람직하게는 10 ~ 150㎛, 보다 바람직하게는 20 ~ 100㎛, 더 바람직하게는 25 ~ 90㎛, 더욱더 바람직하게는 30 ~ 80㎛이다.The 90% particle diameter ( D90 ) before expansion at 23°C of the expandable particles used in one embodiment of the present invention is preferably 10 to 150 μm, more preferably 20 to 100 μm, further preferably 25 to 90 μm, and still more preferably 30 to 80 μm.

또한 팽창성 입자의 팽창 전의 90% 입자경(D90)이란, 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치(예를 들면, Malvern 사 제, 제품명 「MASTERSIZER 3000」)를 이용하여 측정한, 팽창 전의 팽창성 입자의 입자 분포에서, 팽창 전의 팽창성 입자의 입자경이 작은 쪽으로 계산한 누적 체적 빈도가 90%에 상당하는 입자경을 의미한다.In addition, the 90% particle diameter ( D90 ) of the expandable particles before expansion means the particle diameter at which the cumulative volume frequency calculated with the smaller particle diameter of the expandable particles before expansion corresponds to 90% in the particle distribution of the expandable particles before expansion, as measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device (e.g., MASTERSIZER 3000 manufactured by Malvern).

본 발명의 일 형태에서 이용되는 팽창성 입자로는, 팽창개시온도(t) 이상의 가열 처리에 의해서 팽창하는 열팽창성 입자인 것이 바람직하다.The expandable particles used in one embodiment of the present invention are preferably thermally expandable particles that expand by heat treatment at a temperature higher than the expansion initiation temperature (t).

본 발명의 일 형태에서 이용되는 열팽창성 입자는, 봉지재를 경화시킬 때 팽창하지 않는, 봉지재의 경화 온도보다 높은 팽창개시온도(t)를 가지는 입자이면 좋고, 구체적으로는, 팽창개시온도(t)가 60 ~ 270℃로 조정된 열팽창성 입자인 것이 바람직하다.The heat-expandable particles used in one embodiment of the present invention may be particles having an expansion initiation temperature (t) higher than the curing temperature of the encapsulating material and not expanding when the encapsulating material is cured. Specifically, it is preferable that the heat-expandable particles be particles having an expansion initiation temperature (t) adjusted to 60 to 270°C.

또한 팽창개시온도(t)는, 사용하는 봉지재의 경화 온도에 따라 적절히 선택된다.Additionally, the expansion initiation temperature (t) is appropriately selected depending on the curing temperature of the encapsulating material used.

또한 본 명세서에서, 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t)는, 이하의 방법에 기초해 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles means a value measured based on the following method.

(열팽창성 입자의 팽창개시온도(t)의 측정법)(Method for measuring the expansion start temperature (t) of thermally expandable particles)

직경 6.0 mm(내경 5.65 mm), 깊이 4.8 mm의 알루미늄 컵에, 측정 대상이 되는 열팽창성 입자 0.5 mg를 가하고 그 위에 알루미늄 뚜껑(직경 5.6 mm, 두께 0.1 mm)를 배치한 시료를 제작한다.A sample is prepared by adding 0.5 mg of the thermally expandable particles to be measured to an aluminum cup with a diameter of 6.0 mm (inner diameter of 5.65 mm) and a depth of 4.8 mm and placing an aluminum lid (diameter of 5.6 mm and thickness of 0.1 mm) on top.

동적점탄성 측정 장치를 이용하여, 그 시료에 알루미늄뚜껑 상부로부터, 가압자로 0.01 N의 힘을 가한 상태에서, 시료의 높이를 측정한다. 그리고, 가압자로 0.01 N의 힘을 가한 상태에서, 20℃에서 300℃까지 10℃/min의 승온 속도로 가열하고, 가압자의 수직 방향에서의 변위량을 측정하고, 정방향에의 변위 개시 온도를 팽창개시온도(t)로 한다.Using a dynamic viscoelasticity measuring device, the height of the sample is measured from the top of the aluminum lid while a force of 0.01 N is applied to the sample with a pressurizer. Then, while a force of 0.01 N is applied to the sample with the pressurizer, the sample is heated from 20°C to 300°C at a heating rate of 10°C/min, and the displacement in the vertical direction of the pressurizer is measured, and the temperature at which the displacement in the positive direction begins is taken as the expansion initiation temperature (t).

열팽창성 입자로는, 열가소성 수지로 구성된 외각과 상기 외각에 내포되고, 또한 소정의 온도까지 가열되면 기화하는 내포 성분으로 구성되는, 마이크로 캡슐화 발포제인 것이 바람직하다.As the heat-expandable particle, a microencapsulated foaming agent is preferably formed of an outer shell made of a thermoplastic resin and an encapsulated component enclosed in the outer shell and vaporized when heated to a predetermined temperature.

마이크로 캡슐화 발포제의 외각을 구성하는 열가소성 수지로는, 예를 들면, 염화비닐리덴-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 부티랄, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴, 폴리염화비닐리덴, 폴리설폰 등을 들 수 있다.Thermoplastic resins forming the outer shell of the microencapsulated foaming agent include, for example, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, polyvinylidene chloride, polysulfone, etc.

외각에 내포된 내포 성분으로는, 예를 들면, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 이소부탄, 이소펜탄, 이소헥산, 이소헵탄, 이소옥탄, 이소노난, 이소데칸, 시클로프로판, 시클로부탄, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄, 네오 펜탄, 도데칸, 이소도데칸, 시클로트리데칸, 헥실 시클로헥산, 트리데칸, 테트라데칸, 펜타데칸, 헥사데칸, 헵타데칸, 옥타데칸, 노나데칸, 이소트리데칸, 4-메틸 도데칸, 이소테트라데칸, 이소펜타데칸, 이소헥사데칸, 2, 2, 4, 4, 6, 8, 8-헵타메틸노난, 이소헵타데칸, 이소옥타데칸, 이소노나데칸, 2, 6, 10, 14-테트라메틸펜타데칸, 시클로트리데칸, 헵틸 시클로헥산, n-옥틸 시클로헥산, 시클로펜타데칸, 노닐 시클로헥산, 데실 시클로헥산, 펜타데실 시클로헥산, 헥사 데실 시클로헥산, 헵타데실 시클로헥산, 옥타데실 시클로헥산 등을 들 수 있다.The inclusion components included in the outer shell include, for example, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, isobutane, isopentane, isohexane, isoheptane, isooctane, isononane, isodecane, cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, neopentane, dodecane, isododecane, cyclotridecane, hexyl cyclohexane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane, nonadecane, isotridecane, 4-methyl dodecane, isotetradecane, isopentadecane, isohexadecane, 2, 2, 4, 4, 6, 8, 8-heptamethylnonane, isoheptadecane, Examples thereof include isooctadecane, isononadecane, 2, 6, 10, 14-tetramethylpentadecane, cyclotridecane, heptyl cyclohexane, n-octyl cyclohexane, cyclopentadecane, nonyl cyclohexane, decyl cyclohexane, pentadecyl cyclohexane, hexadecyl cyclohexane, heptadecyl cyclohexane, and octadecyl cyclohexane.

이러한 내포 성분은, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These included ingredients may be used alone, or two or more may be used in combination.

열팽창성 입자의 팽창개시온도(t)는, 내포 성분의 종류를 적절히 선택하여 조정할 수 있다.The expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles can be adjusted by appropriately selecting the type of inclusion component.

본 발명의 일 형태에서 이용되는 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t) 이상의 온도까지 가열한 경우의 체적 최대 팽창율은, 바람직하게는 1.5 ~ 100배, 보다 바람직하게는 2 ~ 80배, 더 바람직하게는 2.5 ~ 60배, 더욱더 바람직하게는 3 ~ 40배이다.The maximum volume expansion ratio of the heat-expandable particles used in one embodiment of the present invention when heated to a temperature higher than the expansion initiation temperature (t) is preferably 1.5 to 100 times, more preferably 2 to 80 times, further preferably 2.5 to 60 times, and still more preferably 3 to 40 times.

<팽창성 기재층(Y1)><Inflatable substrate layer (Y1)>

본 발명의 일 형태에서 이용되는 점착 시트(I)가 가지는 팽창성 기재층(Y1)은, 팽창성 입자를 함유하고, 소정의 팽창 처리에 의해서, 팽창할 수 있는 층이다.The expandable substrate layer (Y1) of the adhesive sheet (I) used in one embodiment of the present invention is a layer that contains expandable particles and can be expanded by a predetermined expansion treatment.

팽창성 기재층(Y1) 중의 팽창성 입자의 함유량은, 팽창성 기재층(Y1)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 1 ~ 40 질량%, 보다 바람직하게는 5 ~ 35 질량%, 더 바람직하게는 10 ~ 30 질량%, 더욱더 바람직하게는 15 ~ 25 질량%이다.The content of expandable particles in the expandable substrate layer (Y1) is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 35 mass%, further preferably 10 to 30 mass%, and even more preferably 15 to 25 mass%, with respect to the total mass (100 mass%) of the expandable substrate layer (Y1).

또한 팽창성 기재층(Y1)과 적층하는 다른 층의 층간 밀착성을 향상시키는 관점에서, 팽창성 기재층(Y1)의 표면에 대해서, 산화법이나 요철화법 등에 의한 표면 처리, 이접착 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시해도 좋다.In addition, from the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the intumescent substrate layer (Y1) and other layers laminated therewith, surface treatment by an oxidation method or a roughening method, adhesive treatment, or primer treatment may be performed on the surface of the intumescent substrate layer (Y1).

산화법으로는, 예를 들면, 코로나 방전 처리, 플라스마 방전 처리, 크롬산처리(습식), 열풍 처리, 오존, 및 자외선 조사 처리 등을 들 수 있고, 요철화법으로는, 예를 들면, 샌드 블레스트법, 용제 처리법 등을 들 수 있다.Examples of oxidation methods include corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromic acid treatment (wet), hot air treatment, ozone, and ultraviolet irradiation treatment, and examples of roughening methods include sand blasting and solvent treatment.

본 발명의 일 형태에서, 팽창성 기재층(Y1)은, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층인 것이 바람직하고, 상기 열팽창성 기재층이 하기 요건(1)을 만족하는 것이 보다 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the expandable substrate layer (Y1) is preferably a heat-expandable substrate layer containing heat-expandable particles, and it is more preferable that the heat-expandable substrate layer satisfies the following requirement (1).

·요건(1):열팽창성 입자의 팽창개시온도(t)에서 열팽창성 기재층의 저장 탄성률 E'(t)가, 1.0×107 Pa 이하이다.·Requirement (1): The storage elastic modulus E'(t) of the thermally expandable base layer at the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles is 1.0×10 7 Pa or less.

또한 본 명세서에서, 소정의 온도에서의 열팽창성 기재층의 저장 탄성률 E'는, 실시예에 기재된 방법에 따라 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, the storage elastic modulus E' of the thermally expandable substrate layer at a given temperature means a value measured according to the method described in the examples.

상기 요건(1)은, 열팽창성 입자가 팽창하기 직전의 열팽창성 기재층의 강성을 나타내는 지표라고 말할 수 있다.The above requirement (1) can be said to be an indicator of the rigidity of the thermally expandable base layer immediately before the thermally expandable particles expand.

점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 약한 힘으로 용이하게 분리할 수 있게 하기 위해서는, 팽창개시온도(t) 이상의 온도까지 가열한 경우에, 점착 시트(I)의 열경화성 수지층(Z)과 적층되어 있는 측의 표면에, 요철이 형성되기 쉽게 할 필요가 있다.In order to enable easy separation with a weak force at the interface P of the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film, it is necessary to easily form unevenness on the surface of the side laminated with the thermosetting resin layer (Z) of the adhesive sheet (I) when heated to a temperature higher than the expansion initiation temperature (t).

즉, 상기 요건(1)을 만족하는 열팽창성 기재층은, 팽창개시온도(t)에서 열팽창성 입자가 팽창해 충분히 커져, 열경화성 수지층(Z)이 적층되어 있는 측의 점착 시트(I)의 표면에, 요철이 형성되기 쉬워진다.That is, in the heat-expandable base material layer satisfying the above requirement (1), the heat-expandable particles expand and become sufficiently large at the expansion initiation temperature (t), so that unevenness is easily formed on the surface of the adhesive sheet (I) on the side where the thermosetting resin layer (Z) is laminated.

그 결과, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 약한 힘으로 용이하게 분리할 수 있게 하는 점착성 적층체가 될 수 있다.As a result, an adhesive laminate can be formed that can be easily separated with a weak force at the interface P between the adhesive sheet (I) and the sheet for forming a cured resin film (II).

요건(1)에서 규정하는, 열팽창성 기재층의 저장 탄성률 E'(t)는, 상기 관점에서, 바람직하게는 9.0×106 Pa 이하, 보다 바람직하게는 8.0×106 Pa 이하, 더 바람직하게는 6.0×106 Pa 이하, 더욱더 바람직하게는 4.0×106 Pa 이하, 더욱더 바람직하게는 1.0×106 Pa 이하이다.The storage elastic modulus E'(t) of the heat-expandable substrate layer as stipulated in requirement (1) is, from the above viewpoint, preferably 9.0×10 6 Pa or less, more preferably 8.0×10 6 Pa or less, further preferably 6.0×10 6 Pa or less, still more preferably 4.0×10 6 Pa or less, and still more preferably 1.0×10 6 Pa or less.

또한, 팽창한 열팽창성 입자의 유동을 억제해, 열경화성 수지층(Z)이 적층되어 있는 측의 점착 시트(I)의 표면에 형성되는 요철의 형상 유지성을 향상시켜, 계면 P에서 약한 힘으로 보다 용이하게 분리할 수 있게 하는 관점에서, 요건(1)에서 규정하는, 열팽창성 기재층의 저장 탄성률 E'(t)는, 바람직하게는 1.0×103 Pa 이상, 보다 바람직하게는 1.0×104 Pa 이상, 더 바람직하게는 1.0×105 Pa 이상이다.In addition, from the viewpoint of suppressing the flow of expanded heat-expandable particles, improving the shape retention of the unevenness formed on the surface of the adhesive sheet (I) on the side where the thermosetting resin layer (Z) is laminated, and enabling easier separation with a weak force at the interface P, the storage elastic modulus E'(t) of the heat-expandable base material layer specified in requirement (1) is preferably 1.0×10 3 Pa or more, more preferably 1.0×10 4 Pa or more, and even more preferably 1.0×10 5 Pa or more.

팽창성 기재층(Y1)은, 수지 및 팽창성 입자를 포함하는 수지 조성물(y)로 형성하는 것이 바람직하다.It is preferable that the expandable base layer (Y1) be formed of a resin composition (y) containing resin and expandable particles.

또한 수지 조성물(y)에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 필요에 따라서, 기재용 첨가제를 함유해도 좋다.In addition, the resin composition (y) may contain a base additive as needed, within a range that does not impair the effects of the present invention.

기재용 첨가제로는, 예를 들면, 자외선 흡수제, 광안정제, 산화 방지제, 대전 방지제, 슬립제, 안티 블로킹제, 착색제 등을 들 수 있다.Examples of additives for use in the composition include ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, antistatic agents, slip agents, anti-blocking agents, and colorants.

또한 이러한 기재용 첨가제는, 각각 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Additionally, these additives for substrates may be used alone or in combination of two or more.

이러한 기재용 첨가제를 함유하는 경우, 각각의 기재용 첨가제의 함유량은, 상기 수지 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.0001 ~ 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.001 ~ 10 질량부이다.When containing such substrate additives, the content of each substrate additive is preferably 0.0001 to 20 parts by mass, more preferably 0.001 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin.

팽창성 기재층(Y1)의 형성 재료인 수지 조성물(y)에 포함되는 팽창성 입자에 대해서는, 상술한 바와 같고, 열팽창성 입자인 것이 바람직하다.As for the expandable particles included in the resin composition (y), which is the forming material of the expandable base layer (Y1), they are as described above, and are preferably heat-expandable particles.

팽창성 입자의 함유량은, 수지 조성물(y)의 유효 성분의 전량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 1 ~ 40 질량%, 보다 바람직하게는 5 ~ 35 질량%, 더 바람직하게는 10 ~ 30 질량%, 더욱더 바람직하게는 15 ~ 25 질량%이다.The content of the expandable particles is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 35 mass%, further preferably 10 to 30 mass%, and even more preferably 15 to 25 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective ingredient of the resin composition (y).

팽창성 기재층(Y1)의 형성 재료인 수지 조성물(y)에 포함되는 수지로는, 비점착성 수지이어도 좋고, 점착성 수지이어도 좋다.The resin included in the resin composition (y), which is a forming material of the expandable base layer (Y1), may be either a non-adhesive resin or an adhesive resin.

즉, 수지 조성물(y)에 포함되는 수지가 점착성 수지이어도, 수지 조성물(y)로부터 팽창성 기재층(Y1)을 형성하는 과정에서, 상기 점착성 수지가 중합성 화합물과 중합 반응해, 얻어지는 수지가 비점착성 수지가 되어, 상기 수지를 포함하는 팽창성 기재층(Y1)이 비점착성이 되면 좋다.That is, even if the resin included in the resin composition (y) is an adhesive resin, in the process of forming the expandable base layer (Y1) from the resin composition (y), the adhesive resin undergoes a polymerization reaction with a polymerizable compound, so that the obtained resin becomes a non-adhesive resin, and the expandable base layer (Y1) including the resin becomes non-adhesive.

수지 조성물(y)에 포함되는 상기 수지의 질량 평균 분자량(Mw)으로는, 바람직하게는 1000 ~ 100만, 보다 바람직하게는 1000 ~ 70만, 더 바람직하게는 1000 ~ 50만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the resin included in the resin composition (y) is preferably 10 million to 1,000,000, more preferably 10 million to 700,000, and even more preferably 10 million to 500,000.

또한, 상기 수지가 2종 이상의 구성 단위를 가지는 공중합체인 경우, 상기 공중합체의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 및 그래프트 공중합체의 어느 하나이어도 좋다.In addition, when the resin is a copolymer having two or more types of structural units, the form of the copolymer is not particularly limited, and may be any one of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.

수지의 함유량은, 수지 조성물(y)의 유효 성분의 전량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 50 ~ 99 질량%, 보다 바람직하게는 60 ~ 95 질량%, 더 바람직하게는 65 ~ 90 질량%, 더욱더 바람직하게는 70 ~ 85 질량%이다.The content of the resin is preferably 50 to 99 mass%, more preferably 60 to 95 mass%, further preferably 65 to 90 mass%, and even more preferably 70 to 85 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective ingredients of the resin composition (y).

또한 상기 요건(1)을 만족하는 팽창성 기재층(Y1)을 형성하는 관점에서, 수지 조성물(y)에 포함되는 상기 수지로는, 아크릴 우레탄계 수지 및 올레핀계 수지로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of forming an expandable base layer (Y1) satisfying the above requirement (1), it is preferable that the resin included in the resin composition (y) includes at least one selected from an acrylic urethane resin and an olefin resin.

또한, 상기 아크릴 우레탄계 수지로는, 이하의 수지(U1)가 바람직하다.In addition, among the acrylic urethane resins, the following resin (U1) is preferable.

·우레탄 프리폴리머(UP)와 (메타)아크릴산 에스테르를 포함하는 비닐 화합물을 중합하여 이루어지는 아크릴 우레탄계 수지(U1).·Acrylic urethane resin (U1) formed by polymerizing a vinyl compound containing a urethane prepolymer (UP) and a (meth)acrylic acid ester.

(아크릴 우레탄계 수지(U1))(Acrylic urethane resin (U1))

아크릴 우레탄계 수지(U1)의 주쇄가 되는 우레탄 프리폴리머(UP)로는, 폴리올과 다가 이소시아네이트의 반응물을 들 수 있다.As a urethane prepolymer (UP) that becomes the main chain of an acrylic urethane resin (U1), a reaction product of a polyol and a polyvalent isocyanate can be mentioned.

또한 우레탄 프리폴리머(UP)는, 쇄 연장제를 이용한 쇄 연장 반응을 더 실시하여 얻어진 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the urethane prepolymer (UP) be obtained by further performing a chain extension reaction using a chain extender.

우레탄 프리폴리머(UP)의 원료가 되는 폴리올로는, 예를 들면, 알킬렌형 폴리올, 에테르형 폴리올, 에스테르형 폴리올, 에스테르 아미드형 폴리올, 에스테르·에테르형 폴리올, 카보네이트형 폴리올 등을 들 수 있다.Examples of polyols that are raw materials for urethane prepolymer (UP) include alkylene type polyols, ether type polyols, ester type polyols, ester amide type polyols, ester/ether type polyols, carbonate type polyols, etc.

이러한 폴리올은, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These polyols may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 일 형태에서 이용되는 폴리올로는, 디올이 바람직하고, 에스테르형 디올, 알킬렌형 디올 및 카보네이트형 디올이 보다 바람직하고, 에스테르형 디올, 카보네이트형 디올이 더 바람직하다.As the polyol used in one embodiment of the present invention, a diol is preferable, an ester-type diol, an alkylene-type diol and a carbonate-type diol are more preferable, and an ester-type diol and a carbonate-type diol are still more preferable.

에스테르형 디올로는, 예를 들면, 1, 3-프로판디올, 1, 4-부탄디올, 1, 5-펜탄 디올, 네오펜틸 글리콜, 1, 6-헥산디올 등의 알칸 디올; 에틸렌글리콜, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 알킬렌 글리콜; 등의 디올류로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상과, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 4, 4-디페닐디카르복실산, 디페닐 메탄-4, 4'-디카르복실산, 호박산, 아디핀산, 아젤라인산, 세바신산, 헤트산, 말레인산, 푸말산, 이타콘산, 시클로헥산-1, 3-디카르복실산, 시클로헥산-1, 4-디카르복실산, 헥사히드로프탈산, 헥사히드로이소프탈산, 헥사히드로테레프탈산, 메틸 헥사히드로프탈산 등의 디카르복실산 및 이들의 무수물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상과의 축중합체를 들 수 있다.Examples of ester-type diols include alkane diols such as 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentane diol, neopentyl glycol, and 1,6-hexanediol; alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and dipropylene glycol; Examples of the polymer include a condensation polymer with one or more compounds selected from diols such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, 4,4-diphenyldicarboxylic acid, diphenyl methane-4,4'-dicarboxylic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, hetonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid, cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid, hexahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, methyl hexahydrophthalic acid, and one or more compounds selected from dicarboxylic acids and anhydrides thereof.

구체적으로는, 폴리에틸렌 아디페이트 디올, 폴리부틸렌 아디페이트 디올, 폴리헥사메틸렌 아디페이트 디올, 폴리헥사메틸렌 이소프탈레이트 디올, 폴리네오펜틸 아디페이트 디올, 폴리에틸렌 프로필렌 아디페이트 디올, 폴리에틸렌 부틸렌 아디페이트 디올, 폴리부틸렌 헥사메틸렌아디페이트 디올, 폴리디에틸렌 아디페이트 디올, 폴리(폴리테트라메틸렌에테르) 아디페이트 디올, 폴리(3-메틸펜틸렌 아디페이트) 디올, 폴리에틸렌 아제레이트 디올, 폴리에틸렌 세바케이트 디올, 폴리부틸렌 아제레이트 디올, 폴리부틸렌 세바케이트 디올 및 폴리네오펜틸 테레프탈레이트 디올 등을 들 수 있다.Specifically, examples thereof include polyethylene adipate diol, polybutylene adipate diol, polyhexamethylene adipate diol, polyhexamethylene isophthalate diol, polyneopentyl adipate diol, polyethylene propylene adipate diol, polyethylene butylene adipate diol, polybutylene hexamethylene adipate diol, polydiethylene adipate diol, poly(polytetramethylene ether) adipate diol, poly(3-methylpentylene adipate) diol, polyethylene azelate diol, polyethylene sebacate diol, polybutylene azelate diol, polybutylene sebacate diol, and polyneopentyl terephthalate diol.

알킬렌형 디올로는, 예를 들면, 1, 3-프로판디올, 1, 4-부탄디올, 1, 5-펜탄 디올, 네오펜틸 글리콜, 1, 6-헥산디올 등의 알칸 디올; 에틸렌글리콜, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 알킬렌 글리콜; 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리부틸렌 글리콜 등의 폴리알킬렌 글리콜; 폴리테트라메틸렌글리콜 등의 폴리옥시 알킬렌 글리콜; 등을 들 수 있다.Examples of the alkylene diols include alkane diols such as 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentane diol, neopentyl glycol, and 1,6-hexanediol; alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and dipropylene glycol; polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polybutylene glycol; polyoxyalkylene glycols such as polytetramethylene glycol; etc.

카보네이트형 디올로는, 예를 들면, 1, 4-테트라메틸렌카보네이트디올, 1, 5-펜타메틸렌카보네이트디올, 1, 6-헥사메틸렌카보네이트디올, 1,2-프로필렌 카보네이트 디올, 1, 3-프로필렌 카보네이트 디올, 2,2-디메틸 프로필렌 카보네이트 디올, 1, 7-헵타메틸렌카보네이트디올, 1, 8-옥타메틸렌카보네이트디올, 1, 4-시클로헥산 카보네이트 디올 등을 들 수 있다.Examples of carbonate-type diols include 1,4-tetramethylene carbonate diol, 1,5-pentamethylene carbonate diol, 1,6-hexamethylene carbonate diol, 1,2-propylene carbonate diol, 1,3-propylene carbonate diol, 2,2-dimethyl propylene carbonate diol, 1,7-heptamethylene carbonate diol, 1,8-octamethylene carbonate diol, 1,4-cyclohexane carbonate diol, etc.

우레탄 프리폴리머(UP)의 원료가 되는 다가 이소시아네이트로는, 방향족 폴리이소시아네이트, 지방족 폴리이소시아네이트, 지환식 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.Polyisocyanates that are raw materials for urethane prepolymer (UP) include aromatic polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates, and alicyclic polyisocyanates.

이러한 다가 이소시아네이트는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These polyisocyanates may be used alone or in combination of two or more.

또한, 이러한 다가 이소시아네이트는, 트리메티롤프로판 어덕트형 변성체, 물과 반응시킨 뷰렛형 변성체, 이소시아누레이트환을 함유시킨 이소시아누레이트형 변성체이어도 좋다.In addition, these polyvalent isocyanates may be trimethylolpropane adduct-type modified products, water-reacted biuret-type modified products, or isocyanurate-type modified products containing an isocyanurate ring.

이들 중에서도, 본 발명의 일 형태에서 이용되는 다가 이소시아네이트로는, 디이소시아네이트가 바람직하고, 4, 4'-디페닐 메탄 디이소시아네이트(MDI), 2, 4-톨릴렌 디이소시아네이트(2, 4-TDI), 2, 6-톨릴렌 디이소시아네이트(2, 6-TDI), 헥사메틸렌 디이소시아네이트(HMDI), 및 지환식 디이소시아네이트로부터 선택되는 1종 이상이 보다 바람직하다.Among these, as the polyisocyanate used in one embodiment of the present invention, diisocyanate is preferable, and at least one selected from 4,4'-diphenyl methane diisocyanate (MDI), 2,4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI), 2,6-tolylene diisocyanate (2,6-TDI), hexamethylene diisocyanate (HMDI), and alicyclic diisocyanate is more preferable.

지환식 디이소시아네이트로는, 예를 들면, 3-이소시아네이토메틸-3, 5, 5-트리메틸 시클로헥실 이소시아네이트(이소포론 디이소시아네이트, IPDI), 1, 3-시클로펜탄 디이소시아네이트, 1, 3-시클로헥산 디이소시아네이트, 1, 4-시클로헥산 디이소시아네이트, 메틸-2, 4-시클로헥산 디이소시아네이트, 메틸-2, 6-시클로헥산 디이소시아네이트 등을 들 수 있지만, 이소포론 디이소시아네이트(IPDI)가 바람직하다.Examples of alicyclic diisocyanates include 3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate (isophorone diisocyanate, IPDI), 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, methyl-2,4-cyclohexane diisocyanate, methyl-2,6-cyclohexane diisocyanate, and the like, but isophorone diisocyanate (IPDI) is preferred.

본 발명의 일 형태에서, 아크릴 우레탄계 수지(U1)의 주쇄가 되는 우레탄 프리폴리머(UP)로는, 디올과 디이소시아네이트의 반응물이고, 양말단에 에틸렌성 불포화기를 가지는 직쇄 우레탄 프리폴리머가 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the urethane prepolymer (UP) that becomes the main chain of the acrylic urethane resin (U1) is preferably a straight-chain urethane prepolymer that is a reaction product of a diol and a diisocyanate and has an ethylenically unsaturated group at both terminals.

상기 직쇄 우레탄 프리폴리머의 양말단에 에틸렌성 불포화기를 도입하는 방법으로는, 디올과 디이소시아네이트 화합물을 반응하여 이루어지는 직쇄 우레탄 프리폴리머의 말단의 NCO기와, 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트를 반응시키는 방법을 들 수 있다.As a method for introducing an ethylenically unsaturated group to both terminals of the above-mentioned straight-chain urethane prepolymer, an example of which is a method of reacting an NCO group at the terminal of a straight-chain urethane prepolymer formed by reacting a diol and a diisocyanate compound with a hydroxyalkyl (meth)acrylate can be mentioned.

히드록시알킬 (메타)아크릴레이트로는, 예를 들면, 2-히드록시 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시 부틸 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of hydroxyalkyl (meth)acrylates include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, etc.

아크릴 우레탄계 수지(U1)의 측쇄가 되는, 비닐 화합물로는, 적어도 (메타)아크릴산 에스테르를 포함한다.The vinyl compound that becomes the side chain of the acrylic urethane resin (U1) contains at least (meth)acrylic acid ester.

(메타)아크릴산 에스테르로는, 알킬 (메타)아크릴레이트 및 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하고, 알킬 (메타)아크릴레이트 및 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트를 병용하는 것이 보다 바람직하다.As the (meth)acrylic acid ester, at least one selected from alkyl (meth)acrylate and hydroxyalkyl (meth)acrylate is preferable, and it is more preferable to use alkyl (meth)acrylate and hydroxyalkyl (meth)acrylate in combination.

알킬 (메타)아크릴레이트 및 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트를 병용하는 경우, 알킬 (메타)아크릴레이트 100 질량부에 대한, 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트의 배합 비율로는, 바람직하게는 0.1 ~ 100 질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 30 질량부, 더 바람직하게는 1.0 ~ 20 질량부, 더욱더 바람직하게는 1.5 ~ 10 질량부이다.When using an alkyl (meth)acrylate and a hydroxyalkyl (meth)acrylate in combination, the blending ratio of the hydroxyalkyl (meth)acrylate to 100 parts by mass of the alkyl (meth)acrylate is preferably 0.1 to 100 parts by mass, more preferably 0.5 to 30 parts by mass, further preferably 1.0 to 20 parts by mass, and still more preferably 1.5 to 10 parts by mass.

상기 알킬 (메타)아크릴레이트가 가지는 알킬기의 탄소수로는, 바람직하게는 1 ~ 24, 보다 바람직하게는 1 ~ 12, 더 바람직하게는 1 ~ 8, 더욱더 바람직하게는 1 ~ 3이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the above alkyl (meth)acrylate is preferably 1 to 24, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 8, and still more preferably 1 to 3.

또한, 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트로는, 상술의 직쇄 우레탄 프리폴리머의 양말단에 에틸렌성 불포화기를 도입하기 위해서 이용되는 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트와 같은 것을 들 수 있다.In addition, examples of the hydroxyalkyl (meth)acrylate include the hydroxyalkyl (meth)acrylate used to introduce ethylenically unsaturated groups to both terminals of the linear urethane prepolymer described above.

(메타)아크릴산 에스테르 이외의 비닐 화합물로는, 예를 들면, 스티렌,α-메틸 스티렌, 비닐 톨루엔 등의 방향족 탄화수소계 비닐 화합물; 메틸 비닐 에테르, 에틸 비닐 에테르 등의 비닐 에테르류; 아세트산비닐, 프로피온산 비닐, (메타)아크릴로니트릴, N-비닐 피롤리돈, (메타)아크릴산, 말레인산, 푸말산, 이타콘산, 메타(아크릴아미드) 등의 극성기 함유 모노머; 등을 들 수 있다.Examples of vinyl compounds other than (meth)acrylic acid esters include aromatic hydrocarbon vinyl compounds such as styrene, α-methyl styrene, and vinyl toluene; vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; and polar group-containing monomers such as vinyl acetate, vinyl propionate, (meth)acrylonitrile, N-vinyl pyrrolidone, (meth)acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and meta(acrylamide).

이들은 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These can be used alone or in combination of two or more.

비닐 화합물 중의 (메타)아크릴산 에스테르의 함유량으로는, 상기 비닐 화합물의 전량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 40 ~ 100 질량%, 보다 바람직하게는 65 ~ 100 질량%, 더 바람직하게는 80 ~ 100 질량%, 더욱더 바람직하게는 90 ~ 100 질량%이다.The content of (meth)acrylic acid ester in the vinyl compound is preferably 40 to 100 mass%, more preferably 65 to 100 mass%, further preferably 80 to 100 mass%, and even more preferably 90 to 100 mass%, with respect to the total amount (100 mass%) of the vinyl compound.

비닐 화합물 중의 알킬 (메타)아크릴레이트 및 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트의 합계 함유량으로는, 상기 비닐 화합물의 전량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 40 ~ 100 질량%, 보다 바람직하게는 65 ~ 100 질량%, 더 바람직하게는 80 ~ 100 질량%, 더욱더 바람직하게는 90 ~ 100 질량%이다.The total content of alkyl (meth)acrylate and hydroxyalkyl (meth)acrylate in the vinyl compound is preferably 40 to 100 mass%, more preferably 65 to 100 mass%, further preferably 80 to 100 mass%, and even more preferably 90 to 100 mass%, with respect to the total amount (100 mass%) of the vinyl compound.

본 발명의 일 형태에서 이용되는 아크릴 우레탄계 수지(U1)에서, 우레탄 프리폴리머(UP)로부터 유래하는 구성 단위(u11)와 비닐 화합물로부터 유래하는 구성 단위(u12)의 함유량비〔(u11)/(u12)〕로는, 질량비로, 바람직하게는 10/90 ~ 80/20, 보다 바람직하게는 20/80 ~ 70/30, 더 바람직하게는 30/70 ~ 60/40, 더욱더 바람직하게는 35/65 ~ 55/45이다.In the acrylic urethane resin (U1) used in one embodiment of the present invention, the content ratio [(u11)/(u12)] of the structural unit (u11) derived from the urethane prepolymer (UP) and the structural unit (u12) derived from the vinyl compound is preferably 10/90 to 80/20, more preferably 20/80 to 70/30, still more preferably 30/70 to 60/40, and still more preferably 35/65 to 55/45, in mass ratio.

(올레핀계 수지)(olefin resin)

수지 조성물(y)에 포함되는 수지로서 적합한, 올레핀계 수지로는, 올레핀 모노머로부터 유래하는 구성 단위를 적어도 가지는 중합체이다.An olefin-based resin suitable as a resin included in the resin composition (y) is a polymer having at least a structural unit derived from an olefin monomer.

상기 올레핀 모노머로는, 탄소수 2 ~ 8의α-올레핀이 바람직하고, 구체적으로는, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 이소부틸렌, 1-헥센 등을 들 수 있다.As the above olefin monomer, an α-olefin having 2 to 8 carbon atoms is preferable, and specific examples thereof include ethylene, propylene, butylene, isobutylene, and 1-hexene.

이들 중에서도, 에틸렌 및 프로필렌이 바람직하다.Among these, ethylene and propylene are preferred.

구체적인 올레핀계 수지로는, 예를 들면, 초저밀도 폴리에틸렌(VLDPE, 밀도:880kg/㎥ 이상 910 kg/㎥ 미만), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE, 밀도:910kg/㎥ 이상 915 kg/㎥ 미만), 중밀도 폴리에틸렌(MDPE, 밀도:915kg/㎥ 이상 942 kg/㎥ 미만), 고밀도 폴리에틸렌(HDPE, 밀도:942kg/㎥ 이상), 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌 등의 폴리에틸렌 수지; 폴리프로필렌 수지(PP); 폴리부텐 수지(PB); 에틸렌-프로필렌 공중합체; 올레핀계 엘라스토머(TPO); 폴리(4-메틸-1-펜텐)(PMP); 에틸렌-아세트산비닐 공중합체(EVA); 에틸렌-비닐 알코올 공중합체(EVOH); 에틸렌-프로필렌-(5-에티리덴 2-노르보르넨) 등의 올레핀계 3원 공중합체; 등을 들 수 있다.Specific olefin resins include, for example, ultra-low-density polyethylene (VLDPE, density: 880 kg/㎥ or more and less than 910 kg/㎥), low-density polyethylene (LDPE, density: 910 kg/㎥ or more and less than 915 kg/㎥), medium-density polyethylene (MDPE, density: 915 kg/㎥ or more and less than 942 kg/㎥), high-density polyethylene (HDPE, density: 942 kg/㎥ or more), linear low-density polyethylene, etc.; polypropylene resin (PP); polybutene resin (PB); ethylene-propylene copolymer; olefin elastomer (TPO); poly(4-methyl-1-pentene) (PMP); ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA); ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH); olefin terpolymers such as ethylene-propylene-(5-ethylidene-2-norbornene); etc.

본 발명의 일 형태에서, 올레핀계 수지는, 산 변성, 수산기 변성, 및 아크릴 변성으로부터 선택되는 1종 이상의 변성을 더 실시한 변성 올레핀계 수지이어도 좋다.In one embodiment of the present invention, the olefin resin may be a modified olefin resin that has undergone at least one modification selected from acid modification, hydroxyl modification, and acrylic modification.

예를 들면, 올레핀계 수지에 대해서 산 변성을 실시하여 이루어지는 산 변성 올레핀계 수지로는, 상술의 무변성의 올레핀계 수지에, 불포화 카르복실산 또는 그 무수물을, 그래프트 중합시켜 이루어지는 변성 중합체를 들 수 있다.For example, as an acid-modified olefin resin produced by carrying out acid modification on an olefin resin, an example of a modified polymer produced by graft polymerizing an unsaturated carboxylic acid or its anhydride onto the above-described unmodified olefin resin can be mentioned.

상기의 불포화 카르복실산 또는 그 무수물로는, 예를 들면, 말레인산, 푸말산, 이타콘산, 시트라콘산, 글루타콘산, 테트라히드로프탈산, 아코니트산, (메타)아크릴산, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 글루타콘산, 무수 시트라콘산, 무수 아코니트산, 노르보르넨지카르복실산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the above unsaturated carboxylic acids or anhydrides thereof include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, glutaconic acid, tetrahydrophthalic acid, aconitic acid, (meth)acrylic acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, glutaconic anhydride, citraconic anhydride, aconitic anhydride, norbornene dicarboxylic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride.

또한 불포화 카르복실산 또는 그 무수물은, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.In addition, unsaturated carboxylic acids or their anhydrides may be used alone or in combination of two or more.

올레핀계 수지에 대해서 아크릴 변성을 실시하여 이루어지는 아크릴 변성 올레핀계 수지로는, 주쇄인 상술의 무변성의 올레핀계 수지에, 측쇄로서 알킬 (메타)아크릴레이트를 그래프트 중합시켜 이루어지는 변성 중합체를 들 수 있다.As an acrylic-modified olefin resin produced by performing acrylic modification on an olefin resin, an example of a modified polymer produced by graft polymerizing an alkyl (meth)acrylate as a side chain to the above-described unmodified olefin resin as a main chain can be exemplified.

상기의 알킬 (메타)아크릴레이트가 가지는 알킬기의 탄소수로는, 바람직하게는 1 ~ 20, 보다 바람직하게는 1 ~ 16, 더 바람직하게는 1 ~ 12이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the above alkyl (meth)acrylate is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and even more preferably 1 to 12.

상기의 알킬 (메타)아크릴레이트로는, 예를 들면, 후술의 모노머(a1')로서 선택할 수 있는 화합물과 같은 것을 들 수 있다.As the above alkyl (meth)acrylate, examples thereof include compounds that can be selected as the monomer (a1') described below.

올레핀계 수지에 대해서 수산기 변성을 실시하여 이루어지는 수산기 변성 올레핀계 수지로는, 주쇄인 상술의 무변성의 올레핀계 수지에, 수산기 함유 화합물을 그래프트 중합시켜 이루어지는 변성 중합체를 들 수 있다.As a hydroxyl-modified olefin resin produced by carrying out hydroxyl group modification on an olefin resin, an example thereof is a modified polymer produced by graft polymerizing a hydroxyl group-containing compound onto the above-described unmodified olefin resin as the main chain.

상기의 수산기 함유 화합물로는, 예를 들면, 2-히드록시 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시 부틸 (메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트류; 비닐 알코올, 알릴 알코올 등의 불포화 알코올류 등을 들 수 있다.Examples of the above hydroxyl group-containing compounds include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; unsaturated alcohols such as vinyl alcohol and allyl alcohol;

(아크릴 우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지)(Resins other than acrylic urethane resins and olefin resins)

본 발명의 일 형태에서, 수지 조성물(y)에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 아크릴 우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지를 함유해도 좋다.In one embodiment of the present invention, the resin composition (y) may contain a resin other than an acrylic urethane resin and an olefin resin, within a range that does not impair the effects of the present invention.

이러한 수지로는, 예를 들면, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐 알코올 등의 비닐계 수지; 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리스티렌; 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체; 3 아세트산셀룰로오스; 폴리카보네이트; 아크릴 우레탄계 수지에는 해당하지 않는 폴리우레탄; 폴리설폰; 폴리에테르 에테르 케톤; 폴리에테르설폰; 폴리페닐렌설파이드; 폴리에테르이미드, 폴리이미드 등의 폴리이미드계 수지; 폴리아미드계 수지; 아크릴 수지; 불소계 수지 등을 들 수 있다.Examples of such resins include vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and polyvinyl alcohol; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polystyrene; acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer; triacetate cellulose; polycarbonate; polyurethanes other than acrylic urethane resins; polysulfone; polyether ether ketone; polyether sulfone; polyphenylene sulfide; polyimide resins such as polyetherimide and polyimide; polyamide resins; acrylic resins; fluorine resins, and the like.

다만, 상기 요건(1)을 만족하는 팽창성 기재층(Y1)을 형성하는 관점에서, 수지 조성물(y) 중의 아크릴 우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지의 함유 비율은, 적은 것이 바람직하다.However, from the viewpoint of forming an expandable base layer (Y1) that satisfies the above requirement (1), it is preferable that the content ratio of resins other than acrylic urethane resin and olefin resin in the resin composition (y) be small.

아크릴 우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지의 함유 비율로는, 수지 조성물(y) 중에 포함되는 수지의 전량 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 30 질량부 미만, 보다 바람직하게는 20 질량부 미만, 보다 바람직하게는 10 질량부 미만, 더 바람직하게는 5 질량부 미만, 더욱더 바람직하게는 1 질량부 미만이다.The content ratio of resin other than acrylic urethane resin and olefin resin is preferably less than 30 parts by mass, more preferably less than 20 parts by mass, more preferably less than 10 parts by mass, even more preferably less than 5 parts by mass, and even more preferably less than 1 part by mass, with respect to 100 parts by mass of the total amount of resin contained in the resin composition (y).

(무용제형 수지 조성물(y1))(Dance-type resin composition (y1))

본 발명의 일 형태에서 이용되는 수지 조성물(y)로서 질량 평균 분자량(Mw)이 50000 이하인 에틸렌성 불포화기를 가지는 올리고머와, 에너지선 중합성 모노머와, 상술의 팽창성 입자를 배합하여 이루어지고, 용제를 배합하지 않는, 무용제형 수지 조성물(y1)을 들 수 있다.As a resin composition (y) used in one embodiment of the present invention, an example is a solvent-free resin composition (y1) which is formed by blending an oligomer having an ethylenically unsaturated group having a mass average molecular weight (Mw) of 50,000 or less, an energy ray polymerizable monomer, and the expandable particles described above, and does not blend a solvent.

무용제형 수지 조성물(y1)에서는, 용제를 배합하지 않지만, 에너지선 중합성 모노머가, 상기 올리고머의 가역성의 향상에 기여하는 것이다.In the non-solvent type resin composition (y1), no solvent is mixed, but the energy ray polymerizable monomer contributes to the improvement of the reversibility of the oligomer.

무용제형 수지 조성물(y1)로 형성한 도막에 대해서, 에너지선을 조사함으로써 상기 요건(1)을 만족하는 팽창성 기재층(Y1)을 형성하기 쉽다.For a film formed with a non-woven resin composition (y1), it is easy to form an expandable base layer (Y1) that satisfies the above requirement (1) by irradiating it with energy rays.

또한 무용제형 수지 조성물(y1)에 배합되는 팽창성 입자의 종류나 형상, 배합량(함유량)에 대해서는, 상술한 바와 같다.In addition, the type, shape, and mixing amount (content) of the expandable particles blended in the non-woven resin composition (y1) are as described above.

무용제형 수지 조성물(y1)에 포함되는 상기 올리고머의 질량 평균 분자량(Mw)은, 50000 이하이지만, 바람직하게는 1000 ~ 50000, 보다 바람직하게는 2000 ~ 40000, 더 바람직하게는 3000 ~ 35000, 더욱더 바람직하게는 4000 ~ 30000이다.The mass average molecular weight (Mw) of the oligomer included in the non-woven resin composition (y1) is 50,000 or less, but is preferably 1,000 to 50,000, more preferably 2,000 to 40,000, still more preferably 3,000 to 35,000, and still more preferably 4,000 to 30,000.

또한, 상기 올리고머로는, 상술의 수지 조성물(y)에 포함되는 수지 가운데, 질량 평균 분자량이 50000 이하인 에틸렌성 불포화기를 가지는 것이면 좋지만, 상술의 우레탄 프리폴리머(UP)가 바람직하다.In addition, as the above oligomer, any resin included in the resin composition (y) described above that has an ethylenically unsaturated group and a mass average molecular weight of 50,000 or less is preferable, but the above-described urethane prepolymer (UP) is preferable.

또한 상기 올리고머로는, 에틸렌성 불포화기를 가지는 변성 올레핀계 수지도 사용할 수 있다.In addition, as the above oligomer, a modified olefin resin having an ethylenically unsaturated group can also be used.

무용제형 수지 조성물(y1) 중에서의, 상기 올리고머 및 에너지선 중합성 모노머의 합계 함유량은, 무용제형 수지 조성물(y1)의 전량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 50 ~ 99 질량%, 보다 바람직하게는 60 ~ 95 질량%, 더 바람직하게는 65 ~ 90 질량%, 더욱더 바람직하게는 70 ~ 85 질량%이다.In the solvent-free resin composition (y1), the total content of the oligomer and energy-ray polymerizable monomer is preferably 50 to 99 mass%, more preferably 60 to 95 mass%, further preferably 65 to 90 mass%, and still more preferably 70 to 85 mass%, with respect to the total amount (100 mass%) of the solvent-free resin composition (y1).

에너지선 중합성 모노머로는, 예를 들면, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 아다만탄 (메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸 아크릴레이트 등의 지환식 중합성 화합물; 페닐 히드록시 프로필 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 페놀 에틸렌 옥시드 변성 아크릴레이트 등의 방향족 중합성 화합물; 테트라히드로푸르푸릴 (메타)아크릴레이트, 몰포린 아크릴레이트, N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카프로락탐 등의 복소환식 중합성 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the energy-ray polymerizable monomer include alicyclic polymerizable compounds such as isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxy (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, adamantane (meth)acrylate, and tricyclodecane acrylate; aromatic polymerizable compounds such as phenyl hydroxypropyl acrylate, benzyl acrylate, and phenol ethylene oxide-modified acrylate; and heterocyclic polymerizable compounds such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, morpholine acrylate, N-vinyl pyrrolidone, and N-vinyl caprolactam.

이러한 에너지선 중합성 모노머는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These energy-ray polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

상기 올리고머와 에너지선 중합성 모노머의 배합비(상기 올리고머/에너지선 중합성 모노머)는, 바람직하게는 20/80 ~ 90/10, 보다 바람직하게는 30/70 ~ 85/15, 더 바람직하게는 35/65 ~ 80/20이다.The mixing ratio of the above oligomer and the energy ray polymerizable monomer (the above oligomer/energy ray polymerizable monomer) is preferably 20/80 to 90/10, more preferably 30/70 to 85/15, and even more preferably 35/65 to 80/20.

본 발명의 일 형태에서, 무용제형 수지 조성물(y1)은, 광중합개시제를 더 배합하여 이루어지는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, it is preferable that the non-solvent type resin composition (y1) further comprises a photopolymerization initiator.

광중합개시제를 함유함으로써 비교적 저에너지의 에너지선의 조사에 의해서, 충분히 경화 반응을 진행시킬 수 있다.By containing a photopolymerization initiator, the curing reaction can be sufficiently promoted by irradiation with relatively low-energy energy rays.

광중합개시제로는, 예를 들면, 1-히드록시-시클로헥실페닐케톤, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤질 페닐 설파이드, 테트라메틸 티우람 모노설파이드, 아조비스이소부티롤니트릴, 디벤질, 디아세틸, 8-클로로안스라퀴논 등을 들 수 있다.Examples of photopolymerization initiators include 1-hydroxy-cyclohexylphenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzyl phenyl sulfide, tetramethyl thiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, 8-chloroanthraquinone, and the like.

이러한 광중합개시제는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

광중합개시제의 배합량은, 상기 올리고머 및 에너지선 중합성 모노머의 전량(100 질량부)에 대해서, 바람직하게는 0.01 ~ 5 질량부, 보다 바람직하게는 0.01 ~ 4 질량부, 더 바람직하게는 0.02 ~ 3 질량부이다.The amount of the photopolymerization initiator to be blended is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.01 to 4 parts by mass, and even more preferably 0.02 to 3 parts by mass, relative to the total amount (100 parts by mass) of the oligomer and energy ray polymerizable monomer.

<비팽창성 기재층(Y2)><Non-inflatable substrate layer (Y2)>

기재(Y)를 구성하는 비팽창성 기재층(Y2)의 형성 재료로는, 예를 들면, 종이재, 수지, 금속 등을 들 수 있고, 본 발명의 일 형태의 점착성 적층체의 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다.Examples of the forming material of the non-expandable substrate layer (Y2) constituting the substrate (Y) include paper, resin, metal, etc., and can be appropriately selected depending on the intended use of one type of adhesive laminate of the present invention.

종이재로는, 예를 들면, 박엽지, 중질지, 상질지, 함침지, 코트지, 아트지, 황산지, 글래신지등을 들 수 있다.Examples of paper materials include thin-leaf paper, medium-quality paper, high-quality paper, impregnated paper, coated paper, art paper, sulfur-acid paper, and glassine paper.

수지로는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 수지; 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐 알코올, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐 알코올 공중합체 등의 비닐계 수지; 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리스티렌; 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체; 3 아세트산셀룰로오스; 폴리카보네이트; 폴리우레탄, 아크릴 변성 폴리우레탄 등의 우레탄 수지; 폴리메틸펜텐; 폴리설폰; 폴리에테르 에테르 케톤; 폴리에테르설폰; 폴리페닐렌설파이드; 폴리에테르이미드, 폴리이미드 등의 폴리이미드계 수지; 폴리아미드계 수지; 아크릴 수지; 불소계 수지 등을 들 수 있다.Examples of the resin include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-vinyl alcohol copolymer; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polystyrene; acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer; triacetate cellulose; polycarbonate; urethane resins such as polyurethane and acrylic modified polyurethane; polymethylpentene; polysulfone; polyether ether ketone; polyether sulfone; polyphenylene sulfide; polyimide resins such as polyetherimide and polyimide; polyamide resins; acrylic resins; fluorine resins, etc.

금속으로는, 예를 들면, 알루미늄, 주석, 크롬, 티탄 등을 들 수 있다.Metals include, for example, aluminum, tin, chromium, and titanium.

이러한 형성 재료는, 1종으로 구성되어 있어도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These forming materials may be composed of one type, or may be used in combination of two or more types.

2종 이상의 형성 재료를 병용한 비팽창성 기재층(Y2)으로는, 종이재를 폴리에틸렌 등의 열가소성 수지로 라미네이트 한 것이나, 수지를 포함하는 수지 필름 또는 시트의 표면에 금속막을 형성한 것 등을 들 수 있다.As a non-expandable substrate layer (Y2) using two or more types of forming materials, examples thereof include a laminate of paper material with a thermoplastic resin such as polyethylene, or a metal film formed on the surface of a resin film or sheet containing resin.

또한 금속층의 형성 방법으로는, 예를 들면, 상기 금속을 진공 증착, 스퍼터링, 이온 도금 등의 PVD법에 따라 증착하는 방법, 또는, 상기 금속으로 이루어지는 금속박을 일반적인 점착제를 이용하여 첩부하는 방법 등을 들 수 있다.In addition, as a method for forming a metal layer, examples thereof include a method of depositing the metal by a PVD method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a method of attaching a metal foil made of the metal using a general adhesive.

또한 비팽창성 기재층(Y2)과 적층하는 다른 층의 층간 밀착성을 향상시키는 관점에서, 비팽창성 기재층(Y2)이 수지를 포함하는 경우, 비팽창성 기재층(Y2)의 표면에 대해서도, 상술의 팽창성 기재층(Y1)과 마찬가지로, 산화법이나 요철화법 등에 의한 표면 처리, 이접착 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시해도 좋다.In addition, from the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the non-expandable substrate layer (Y2) and other layers laminated, when the non-expandable substrate layer (Y2) contains resin, surface treatment by an oxidation method or a roughening method, adhesion treatment, or primer treatment may be performed on the surface of the non-expandable substrate layer (Y2), similarly to the above-described expandable substrate layer (Y1).

또한, 비팽창성 기재층(Y2)이 수지를 포함하는 경우, 상기 수지와 함께, 수지 조성물(y)에도 함유할 수 있는, 상술의 기재용 첨가제를 함유해도 좋다.In addition, when the non-expandable substrate layer (Y2) contains a resin, it may contain the above-described substrate additive that can also be contained in the resin composition (y) together with the resin.

비팽창성 기재층(Y2)은, 상술의 방법에 기초해 판단되는, 비팽창성의 층이다.The non-intumescent substrate layer (Y2) is a non-intumescent layer determined based on the method described above.

이 때문에, 상술의 식으로부터 산출되는 비팽창성 기재층(Y2)의 체적 변화율(%)로는, 5 체적% 미만이지만, 바람직하게는 2 체적% 미만, 보다 바람직하게는 1 체적% 미만, 더 바람직하게는 0.1 체적% 미만, 더욱더 바람직하게는 0.01 체적% 미만이다.For this reason, the volume change rate (%) of the non-expandable substrate layer (Y2) calculated from the above formula is less than 5 volume%, but is preferably less than 2 volume%, more preferably less than 1 volume%, even more preferably less than 0.1 volume%, and even more preferably less than 0.01 volume%.

또한, 비팽창성 기재층(Y2)은, 체적 변화율이 상기 범위인 한, 팽창성 입자를 함유해도 좋다. 예를 들면, 비팽창성 기재층(Y2)에 포함되는 수지를 선택함으로써 팽창성 입자가 포함되어 있었다고 해도, 체적 변화율을 상기 범위로 조정할 수 있다.In addition, the non-expandable substrate layer (Y2) may contain expandable particles as long as the volume change rate is within the above range. For example, even if expandable particles are contained, the volume change rate can be adjusted to the above range by selecting the resin included in the non-expandable substrate layer (Y2).

다만, 비팽창성 기재층(Y2) 중의 팽창성 입자의 함유량은, 적을수록 바람직하다.However, the smaller the content of expandable particles in the non-expandable substrate layer (Y2), the more desirable it is.

구체적인 팽창성 입자의 함유량으로는, 비팽창성 기재층(Y2)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 통상 3 질량% 미만, 바람직하게는 1 질량% 미만, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 미만, 더 바람직하게는 0.01 질량% 미만, 더욱더 바람직하게는 0.001 질량% 미만이다.The content of specific expandable particles is usually less than 3 mass%, preferably less than 1 mass%, more preferably less than 0.1 mass%, further preferably less than 0.01 mass%, and even more preferably less than 0.001 mass%, with respect to the total mass (100 mass%) of the non-expandable substrate layer (Y2).

<점착제층(X)><Adhesive layer (X)>

본 발명의 일 형태에서 이용되는 점착 시트(I)가 가지는 점착제층(X)은, 점착성 수지를 포함하는 점착제 조성물(x)로 형성할 수 있다.The adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) used in one embodiment of the present invention can be formed from an adhesive composition (x) containing an adhesive resin.

또한, 점착제 조성물(x)은, 필요에 따라서, 가교제, 점착 부여제, 중합성 화합물, 중합개시제 등의 점착제용 첨가제를 함유해도 좋다.In addition, the adhesive composition (x) may contain, if necessary, an adhesive additive such as a crosslinking agent, a tackifier, a polymerizable compound, or a polymerization initiator.

이하, 점착제 조성물(x)에 포함되는 각 성분에 대해 설명한다.Below, each component included in the adhesive composition (x) is described.

또한 점착 시트(I)가, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)을 가지는 경우에도, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)도, 이하에 나타내는 각 성분을 함유하는 점착제 조성물(x)로 형성할 수 있다.In addition, even when the adhesive sheet (I) has a first adhesive layer (X1) and a second adhesive layer (X2), the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2) can also be formed using an adhesive composition (x) containing each component shown below.

(점착성 수지)(adhesive resin)

본 발명의 일 형태에서 이용되는 점착성 수지로는, 상기 수지 단독으로 점착성을 가지고, 질량 평균 분자량(Mw)이 1만 이상의 중합체이면 좋다.The adhesive resin used in one embodiment of the present invention may be a polymer that has adhesiveness alone and has a mass average molecular weight (Mw) of 10,000 or more.

본 발명의 일 형태에서 이용되는 점착성 수지의 질량 평균 분자량(Mw)으로는, 점착력의 향상의 관점에서, 바람직하게는 1만 ~ 200만, 보다 바람직하게는 2만 ~ 150만, 더 바람직하게는 3만 ~ 100만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the adhesive resin used in one embodiment of the present invention is preferably 10,000 to 2 million, more preferably 20,000 to 1.5 million, and even more preferably 30,000 to 1 million, from the viewpoint of improving adhesive strength.

구체적인 점착성 수지로는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리이소부틸렌계 수지 등의 고무계 수지, 폴리에스테르계 수지, 올레핀계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐 에테르계 수지 등을 들 수 있다.Specific adhesive resins include, for example, rubber-based resins such as acrylic resins, urethane-based resins, and polyisobutylene-based resins, polyester-based resins, olefin-based resins, silicone-based resins, and polyvinyl ether-based resins.

이러한 점착성 수지는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These adhesive resins may be used alone or in combination of two or more types.

또한, 이러한 점착성 수지가, 2종 이상의 구성 단위를 가지는 공중합체인 경우, 상기 공중합체의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 및 그래프트 공중합체의 어느 하나이어도 좋다.In addition, when the adhesive resin is a copolymer having two or more types of structural units, the form of the copolymer is not particularly limited, and may be any one of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.

본 발명의 일 형태에서 이용되는 점착성 수지는, 상기의 점착성 수지의 측쇄에 중합성 관능기를 도입한, 에너지선 경화형의 점착성 수지이어도 좋다.The adhesive resin used in one embodiment of the present invention may be an energy ray-curable adhesive resin having a polymerizable functional group introduced into the side chain of the adhesive resin.

에너지선 경화형의 점착성 수지를 포함하는 조성물로 형성한 점착제층으로 함으로써, 에너지선을 조사하는 것으로 점착력을 저하시킬 수 있다.By forming an adhesive layer using a composition containing an energy ray-curable adhesive resin, the adhesive strength can be reduced by irradiating the energy ray.

상기 중합성 관능기로는, (메타)아크릴로일기, 비닐기 등을 들 수 있다.Examples of the polymerizable functional group include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, etc.

또한, 에너지선으로는, 자외선이나 전자선을 들 수 있지만, 자외선이 바람직하다.Also, as energy rays, ultraviolet rays or electron rays can be mentioned, but ultraviolet rays are preferable.

또한 에너지선을 조사하여 점착력을 저하할 수 있는 점착제층의 형성 재료로는, 중합성 관능기를 가지는 모노머 또는 올리고머를 함유하는 조성물이어도 좋다.In addition, as a material for forming an adhesive layer capable of reducing adhesive strength by irradiating energy rays, a composition containing a monomer or oligomer having a polymerizable functional group may be used.

이러한 조성물에는, 광중합개시제를 더 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that such compositions further contain a photopolymerization initiator.

본 발명의 일 형태에서, 우수한 점착력을 발현시키는 관점에서, 점착성 수지가, 아크릴계 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, from the viewpoint of exhibiting excellent adhesive strength, it is preferable that the adhesive resin contains an acrylic resin.

또한 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)을 가지는 점착 시트(I)를 이용하는 경우, 경화 수지막 형성용 시트(II)와 접촉되어 있는 제1점착제층(X1)에 아크릴계 수지가 포함됨으로써, 제1점착제층의 표면에 요철을 형성하기 쉽게 할 수 있다.In addition, when using an adhesive sheet (I) having a first adhesive layer (X1) and a second adhesive layer (X2), since the first adhesive layer (X1) in contact with the sheet (II) for forming a cured resin film contains an acrylic resin, it is easy to form unevenness on the surface of the first adhesive layer.

점착성 수지 중의 아크릴계 수지의 함유 비율로는, 점착제 조성물(x) 또는 점착제층(X)에 포함되는 점착성 수지의 전량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 30 ~ 100 질량%, 보다 바람직하게는 50 ~ 100 질량%, 더 바람직하게는 70 ~ 100 질량%, 더욱더 바람직하게는 85 ~ 100 질량%이다.The content ratio of the acrylic resin in the adhesive resin is preferably 30 to 100 mass%, more preferably 50 to 100 mass%, further preferably 70 to 100 mass%, and even more preferably 85 to 100 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the adhesive resin contained in the adhesive composition (x) or the adhesive layer (X).

점착성 수지의 함유량으로는, 점착제 조성물(x)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 점착제층(X)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 35 ~ 100 질량%, 보다 바람직하게는 50 ~ 100 질량%, 더 바람직하게는 60 ~ 98 질량%, 더욱더 바람직하게는 70 ~ 95 질량%이다.The content of the adhesive resin is preferably 35 to 100 mass%, more preferably 50 to 100 mass%, further preferably 60 to 98 mass%, and even more preferably 70 to 95 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective ingredient of the adhesive composition (x) or the total mass (100 mass%) of the adhesive layer (X).

(가교제)(Bridger)

본 발명의 일 형태에서, 점착제 조성물(x)은, 관능기를 가지는 점착성 수지를 함유하는 경우, 가교제를 더 함유하는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, when the adhesive composition (x) contains an adhesive resin having a functional group, it is preferable to further contain a crosslinking agent.

상기 가교제는, 관능기를 가지는 점착성 수지와 반응시켜, 상기 관능기를 가교 기점으로 점착성 수지끼리 가교하는 것이다.The above crosslinking agent reacts with an adhesive resin having a functional group to crosslink the adhesive resins using the functional group as a crosslinking starting point.

가교제로는, 예를 들면, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다.Examples of crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents.

이러한 가교제는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These cross-linkers may be used alone or in combination of two or more.

이러한 가교제 중에서도, 응집력을 높여 점착력을 향상시키는 관점, 및 입수하기 쉬움 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하다.Among these cross-linking agents, isocyanate-based cross-linking agents are preferable from the viewpoints of increasing cohesion and improving adhesiveness, and ease of acquisition.

가교제의 함유량은, 점착성 수지가 가지는 관능기의 수에 따라 적절히 조정되는 것이지만, 관능기를 가지는 점착성 수지 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.01 ~ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.03 ~ 7 질량부, 더 바람직하게는 0.05 ~ 5 질량부이다.The content of the crosslinking agent is appropriately adjusted depending on the number of functional groups possessed by the adhesive resin, but is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 7 parts by mass, and even more preferably 0.05 to 5 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the adhesive resin having functional groups.

(점착 부여제)(adhesive agent)

본 발명의 일 형태에서, 점착제 조성물(x)은, 점착력을 보다 향상시키는 관점에서, 점착 부여제를 더 함유해도 좋다.In one embodiment of the present invention, the adhesive composition (x) may further contain a tackifier from the viewpoint of further improving adhesive strength.

본 명세서에서, 「점착 부여제」란, 상술의 점착성 수지의 점착력을 보조적으로 향상시키는 성분이고, 질량 평균 분자량(Mw)이 1만 미만의 올리고머를 가리키고, 상술의 점착성 수지와는 구별되는 것이다.In this specification, the term “tackifier” refers to a component that auxiliary improves the adhesive strength of the above-described adhesive resin, and refers to an oligomer having a mass average molecular weight (Mw) of less than 10,000, and is distinct from the above-described adhesive resin.

점착 부여제의 질량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 400 ~ 10000, 보다 바람직하게는 500 ~ 8000, 더 바람직하게는 800 ~ 5000이다.The mass average molecular weight (Mw) of the adhesive agent is preferably 400 to 10,000, more preferably 500 to 8,000, and even more preferably 800 to 5,000.

점착 부여제로는, 예를 들면, 로진계 수지, 테르펜계 수지, 스티렌계 수지, 석유 나프타의 열분해로 생성하는 펜텐, 이소프렌, 피페린, 1, 3-펜타디엔 등의 C5유분을 공중합하여 얻어지는 C5계 석유 수지, 석유 나프타의 열분해로 생성하는 인 덴, 비닐 톨루엔 등의 C9 유분을 공중합하여 얻어지는 C9계 석유 수지, 및 이들을 수소화한 수소화 수지 등을 들 수 있다.Examples of the tackifier include rosin-based resins, terpene-based resins, styrene-based resins, C5-based petroleum resins obtained by copolymerizing C5 fractions such as pentene, isoprene, piperine, and 1,3-pentadiene produced by the thermal decomposition of petroleum naphtha, C9-based petroleum resins obtained by copolymerizing C9 fractions such as indene and vinyl toluene produced by the thermal decomposition of petroleum naphtha, and hydrogenated resins obtained by hydrogenating these.

점착 부여제의 연화점은, 바람직하게는 60 ~ 170℃, 보다 바람직하게는 65 ~ 160℃, 더 바람직하게는 70 ~ 150℃이다.The softening point of the adhesive is preferably 60 to 170°C, more preferably 65 to 160°C, and even more preferably 70 to 150°C.

또한 본 명세서에서, 점착 부여제의 「연화점」은, JIS K 2531에 준거해 측정한 값을 의미한다.In addition, in this specification, the “softening point” of the tackifier means a value measured in accordance with JIS K 2531.

점착 부여제는, 단독으로 이용해도 좋고, 연화점이나 구조가 다른 2종 이상을 병용해도 좋다.The adhesive may be used alone, or two or more types with different softening points or structures may be used in combination.

그리고, 2종 이상의 복수의 점착 부여제를 이용하는 경우, 이러한 복수의 점착 부여제의 연화점의 가중평균이, 상기 범위에 속하는 것이 바람직하다.In addition, when using two or more types of multiple tackifiers, it is preferable that the weighted average of the softening points of these multiple tackifiers falls within the above range.

점착 부여제의 함유량은, 점착제 조성물(x)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 점착제층(X)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 0.01 ~ 65 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 50 질량%, 더 바람직하게는 1 ~ 40 질량%, 더욱더 바람직하게는 2 ~ 30 질량%이다.The content of the adhesive agent is preferably 0.01 to 65 mass%, more preferably 0.1 to 50 mass%, further preferably 1 to 40 mass%, and even more preferably 2 to 30 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective ingredient of the adhesive composition (x) or the total mass (100 mass%) of the adhesive layer (X).

(광중합개시제)(Photopolymerization initiator)

본 발명의 일 형태에서, 점착제 조성물(x)이, 에너지선 경화형의 조성물이고, 에너지선 경화형의 점착성 수지, 혹은 중합성 관능기를 가지는 모노머 또는 올리고머를 포함하는 경우, 상기 조성물은, 광중합개시제를 더 함유하는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, when the adhesive composition (x) is an energy ray-curable composition and includes an energy ray-curable adhesive resin, or a monomer or oligomer having a polymerizable functional group, it is preferable that the composition further contains a photopolymerization initiator.

광중합개시제를 함유함으로써 비교적 저에너지의 에너지선의 조사에 의해서, 충분히 경화 반응을 진행시킬 수 있다.By containing a photopolymerization initiator, the curing reaction can be sufficiently promoted by irradiation with relatively low-energy energy rays.

또한 광중합개시제로는, 상술의 무용제형 수지 조성물(y1)에 배합되는 것과 같은 것을 들 수 있다.In addition, as a photopolymerization initiator, the same ones as those incorporated in the solvent-free resin composition (y1) described above can be mentioned.

광중합개시제의 함유량은, 에너지선 경화형의 점착성 수지 100 질량부 혹은 중합성 관능기를 가지는 모노머 또는 올리고머 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.01 ~ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.03 ~ 5 질량부, 더 바람직하게는 0.05 ~ 2 질량부이다.The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 5 parts by mass, and even more preferably 0.05 to 2 parts by mass, per 100 parts by mass of the energy ray-curable adhesive resin or 100 parts by mass of the monomer or oligomer having a polymerizable functional group.

(점착제용 첨가제)(additive for adhesive)

본 발명의 일 형태에서, 점착제 조성물(x)은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 상술의 첨가제 이외에도, 일반적인 점착제에 사용되는 점착제용 첨가제를 함유하고 있어도 좋다.In one embodiment of the present invention, the adhesive composition (x) may contain, in addition to the additives described above, an additive for an adhesive used in a general adhesive, within a range that does not impair the effects of the present invention.

이러한 점착제용 첨가제로는, 예를 들면, 산화 방지제, 연화제(가소제), 방청제, 안료, 염료, 지연제, 반응 촉진제(촉매), 자외선 흡수제, 대전 방지제 등을 들 수 있다.Examples of such adhesive additives include antioxidants, softeners (plasticizers), rust inhibitors, pigments, dyes, retarders, reaction accelerators (catalysts), ultraviolet absorbers, and antistatic agents.

또한 이러한 점착제용 첨가제는, 각각 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Additionally, these adhesive additives may be used alone or in combination of two or more.

이러한 점착제용 첨가제를 함유하는 경우, 각각의 점착제용 첨가제의 함유량은, 점착성 수지 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.0001 ~ 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.001 ~ 10 질량부이다.When containing such adhesive additives, the content of each adhesive additive is preferably 0.0001 to 20 parts by mass, more preferably 0.001 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive resin.

또한 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)을 가지는 상술의 제2 형태의 점착 시트(I)를 이용하는 경우, 팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)의 형성 재료로는, 상술의 점착제 조성물(x)에, 팽창성 입자를 더 함유하는 팽창성 점착제 조성물(x11)로 형성된다.In addition, when using the adhesive sheet (I) of the second type described above having the first adhesive layer (X1) which is an expandable adhesive layer, the forming material of the first adhesive layer (X1) which is an expandable adhesive layer is formed of an expandable adhesive composition (x11) which further contains expandable particles in the adhesive composition (x) described above.

상기 팽창성 입자는, 상술한 바와 같다.The above expandable particles are as described above.

팽창성 입자의 함유량으로는, 팽창성 점착제 조성물(x11)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 팽창성 점착제층의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 1 ~ 70 질량%, 보다 바람직하게는 2 ~ 60 질량%, 더 바람직하게는 3 ~ 50 질량%, 더욱더 바람직하게는 5 ~ 40 질량%이다.The content of the expandable particles is preferably 1 to 70 mass%, more preferably 2 to 60 mass%, further preferably 3 to 50 mass%, and even more preferably 5 to 40 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective ingredient of the expandable adhesive composition (x11) or the total mass (100 mass%) of the expandable adhesive layer.

한편, 점착제층(X)이 비팽창성 점착제층인 경우, 비팽창성 점착제층의 형성 재료인 점착제 조성물 중의 팽창성 입자의 함유량은 매우 적을수록 바람직하다.Meanwhile, when the adhesive layer (X) is a non-expandable adhesive layer, it is preferable that the content of expandable particles in the adhesive composition, which is a forming material of the non-expandable adhesive layer, be very small.

비팽창성 점착제층의 형성 재료인 점착제 조성물(x) 중의 팽창성 입자의 함유량으로는, 점착제 조성물(x)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 점착제층(X)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 1 질량% 미만, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 미만, 더 바람직하게는 0.01 질량% 미만, 더욱더 바람직하게는 0.001 질량% 미만이다.The content of expandable particles in the adhesive composition (x), which is a material for forming a non-expandable adhesive layer, is preferably less than 1 mass%, more preferably less than 0.1 mass%, further preferably less than 0.01 mass%, and even more preferably less than 0.001 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective ingredient of the adhesive composition (x) or the total mass (100 mass%) of the adhesive layer (X).

또한 도 2에 나타내는 점착성 적층체(2a, 2b)와 같이, 비팽창성 점착제층인, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)을 가지는 점착 시트(I)를 이용하는 경우, 23℃에서 비팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)의 저장 전단 탄성률 G'(23)은, 바람직하게는 1.0×108 Pa 이하, 보다 바람직하게는 5.0×107 Pa 이하, 더 바람직하게는 1.0×107 Pa 이하이다.In addition, when using an adhesive sheet (I) having a first adhesive layer (X1) and a second adhesive layer (X2), which are non-expandable adhesive layers, such as the adhesive laminate (2a, 2b) shown in Fig. 2, the storage shear modulus G' (23) of the first adhesive layer (X1), which is a non-expandable adhesive layer, at 23°C is preferably 1.0×10 8 Pa or less, more preferably 5.0×10 7 Pa or less, even more preferably 1.0×10 7 Pa or less.

비팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)의 저장 전단 탄성률 G'(23)이 1.0×108 Pa 이하이면, 예를 들면, 도 2에 나타내는 점착성 적층체(2a, 2b)와 같은 구성으로 한 경우에, 팽창 처리에 의한 팽창성 기재층(Y1) 중의 팽창성 입자의 팽창에 의해, 경화 수지막 형성용 시트(II)와 접촉되어 있는 제1점착제층(X1) 표면에 요철이 형성되기 쉬워진다.If the storage shear modulus G'(23) of the first adhesive layer (X1) which is a non-expandable adhesive layer is 1.0×10 8 Pa or less, then, for example, in the case of a configuration such as the adhesive laminate (2a, 2b) shown in Fig. 2, unevenness is likely to be formed on the surface of the first adhesive layer (X1) which is in contact with the sheet (II) for forming a cured resin film due to expansion of the expandable particles in the expandable base material layer (Y1) by the expansion treatment.

그 결과, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있게 하는 점착성 적층체로 할 수 있다.As a result, an adhesive laminate can be formed that can be easily and collectively separated with a weak force at the interface P of the adhesive sheet (I) and the sheet for forming a cured resin film (II).

또한 23℃에서 비팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)의 저장 전단 탄성률 G'(23)은, 바람직하게는 1.0×104 Pa 이상, 보다 바람직하게는 5.0×104 Pa 이상, 더 바람직하게는 1.0×105 Pa 이상이다.In addition, the storage shear modulus G'(23) of the first adhesive layer (X1), which is a non-expandable adhesive layer at 23°C, is preferably 1.0×10 4 Pa or more, more preferably 5.0×10 4 Pa or more, and even more preferably 1.0×10 5 Pa or more.

[경화 수지막 형성용 시트(II)의 구성][Composition of sheet (II) for forming a cured resin film]

본 발명의 점착성 적층체가 가지는 경화 수지막 형성용 시트(II)는, 열경화성 수지층(Z)을 가지는 것이다.The sheet (II) for forming a cured resin film of the adhesive laminate of the present invention has a thermosetting resin layer (Z).

본 발명의 일 형태에서 이용되는 경화 수지막 형성용 시트(II)는, 열경화성 수지층(Z)만으로 이루어지는 단층 구성이어도 좋고, 열경화성 수지층(Z)의 한쪽의 표면 측에 다른 층을 설치한 복층 구성이어도 좋다.The sheet (II) for forming a cured resin film used in one embodiment of the present invention may have a single-layer configuration consisting solely of a thermosetting resin layer (Z), or may have a multi-layer configuration in which another layer is provided on one surface side of the thermosetting resin layer (Z).

다만, 본 발명의 일 형태에서 이용되는 경화 수지막 형성용 시트(II)에서, 열경화성 수지층(Z)의 한쪽의 표면 측에는 다른 층을 설치해도 좋지만, 열경화성 수지층(Z) 다른 쪽의 표면 측은, 다른 층은 설치하지 않고, 점착 시트(I)와 직접 적층한다.However, in the sheet (II) for forming a cured resin film used in one embodiment of the present invention, another layer may be provided on one surface side of the thermosetting resin layer (Z), but on the other surface side of the thermosetting resin layer (Z), another layer is not provided and is directly laminated with the adhesive sheet (I).

여기서, 본 발명의 일 형태에서 이용되는 경화 수지막 형성용 시트(II)에서, 열경화성 수지층(Z)의 한쪽의 표면 측에, 점착제층을 더 가지고 있어도 좋고, 또한, 열경화성 수지층(Z)과 상기 점착제층의 사이에 비열경화성 기재층을 가지고 있어도 좋다.Here, in the sheet (II) for forming a cured resin film used in one embodiment of the present invention, an adhesive layer may be further provided on one surface side of the thermosetting resin layer (Z), and further, a non-thermosetting substrate layer may be provided between the thermosetting resin layer (Z) and the adhesive layer.

상기 점착제층은, 상술의 점착제층(X)의 형성 재료인 점착제 조성물(x)로 형성할 수 있다. 또한, 상기 비열경화성 기재층도, 상술의 비팽창성 기재층(Y2)과 같은 형성 재료로 형성할 수 있다.The above-described adhesive layer can be formed using an adhesive composition (x) which is a forming material of the above-described adhesive layer (X). In addition, the above-described non-thermosetting substrate layer can also be formed using the same forming material as the above-described non-expandable substrate layer (Y2).

이하, 경화 수지막 형성용 시트(II)가 가지는 열경화성 수지층(Z)에 대해 설명한다.Below, the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film is described.

<열경화성 수지층(Z)><Thermosetting resin layer (Z)>

열경화성 수지층(Z)은, 열경화해 경화 수지막을 형성할 수 있는 조성물로 형성되어 있으면 좋지만, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 중합체 성분(A)과 열경화성 성분(B)을 포함하는 열경화성 조성물(z)로 형성된 층인 것이 바람직하다.The thermosetting resin layer (Z) may be formed of a composition capable of forming a cured resin film by thermosetting. However, from the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulated body having a cured resin film that suppresses warping and has a flat surface, it is preferable that the layer be formed of a thermosetting composition (z) containing a polymer component (A) and a thermosetting component (B).

또한 열경화성 조성물(z)은, 착색제(C), 커플링제(D), 및 무기 충전재(E)로부터 선택되는 1종 이상을 더 함유해도 좋지만, 상기 관점에서, 적어도 무기 충전재(E)를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, the thermosetting composition (z) may further contain one or more selected from a colorant (C), a coupling agent (D), and an inorganic filler (E), but from the above viewpoint, it is preferable to contain at least an inorganic filler (E).

열경화성 수지층(Z)의 두께로는, 바람직하게는 1 ~ 500㎛, 보다 바람직하게는 5 ~ 300㎛, 더 바람직하게는 10 ~ 200㎛, 더욱더 바람직하게는 15 ~ 100㎛이다.The thickness of the thermosetting resin layer (Z) is preferably 1 to 500 ㎛, more preferably 5 to 300 ㎛, further preferably 10 to 200 ㎛, and even more preferably 15 to 100 ㎛.

휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 23℃에서 열경화성 수지층(Z)을 열경화하여 이루어지는 경화 수지막의 저장 탄성률 E'는, 바람직하게는 1.0×107 Pa 이상, 보다 바람직하게는 1.0×108 Pa 이상, 더 바람직하게는 1.0×109 Pa 이상, 더욱더 바람직하게는 5.0×109 Pa 이상이고, 또한, 바람직하게는 1.0×1013 Pa 이하, 보다 바람직하게는 1.0×1012 Pa 이하, 더 바람직하게는 5.0×1011 Pa 이하, 더욱더 바람직하게는 1.0×1011 Pa 이하이다.From the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulated body having a cured resin film having a flat surface by suppressing warping, the storage elastic modulus E' of the cured resin film formed by heat-curing the thermosetting resin layer (Z) at 23°C is preferably 1.0×10 7 Pa or more, more preferably 1.0×10 8 Pa or more, further preferably 1.0×10 9 Pa or more, further preferably 5.0×10 9 Pa or more, and further preferably 1.0×10 13 Pa or less, more preferably 1.0×10 12 Pa or less, further preferably 5.0×10 11 Pa or less, further preferably 1.0×10 11 Pa or less.

이하, 열경화성 수지층(Z)의 형성 재료인 열경화성 조성물(z)에 포함되는 각종 성분에 대해서, 설명한다.Below, various components included in the thermosetting composition (z), which is a forming material of the thermosetting resin layer (Z), are described.

(중합체 성분(A))(Polymer component (A))

열경화성 조성물(z)에 포함되는 중합체 성분(A)은, 질량 평균 분자량이 2만 이상이고, 적어도 1종의 반복 단위를 가지는 화합물을 의미한다.The polymer component (A) included in the thermosetting composition (z) means a compound having a mass average molecular weight of 20,000 or more and at least one type of repeating unit.

형성되는 열경화성 수지층(Z)에 중합성 성분(A)을 함유함으로써 열경화성 수지층(Z)에 가요성 및 조막성을 부여해, 시트 성상 유지성을 양호하게 할 수 있다.By including a polymerizable component (A) in the thermosetting resin layer (Z) formed, flexibility and film-forming properties can be imparted to the thermosetting resin layer (Z), thereby improving the sheet property retention.

중합체 성분(A)의 질량 평균 분자량(Mw)으로는, 바람직하게는 2만 이상, 보다 바람직하게는 2만 ~ 300만, 더 바람직하게는 5만 ~ 200만, 더욱더 바람직하게는 10만 ~ 150만, 더욱더 바람직하게는 20만 ~ 100만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the polymer component (A) is preferably 20,000 or more, more preferably 20,000 to 3 million, still more preferably 50,000 to 2 million, still more preferably 100,000 to 1.5 million, and still more preferably 200,000 to 1 million.

성분(A)의 함유량은, 열경화성 조성물(z)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 열경화성 수지층(Z)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 5 ~ 50 질량%, 보다 바람직하게는 8 ~ 40 질량%, 더 바람직하게는 10 ~ 30 질량%이다.The content of component (A) is preferably 5 to 50 mass%, more preferably 8 to 40 mass%, and even more preferably 10 to 30 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective components of the thermosetting composition (z) or the total mass (100 mass%) of the thermosetting resin layer (Z).

중합체 성분(A)으로는, 예를 들면, 아크릴계 중합체, 폴리에스테르, 페녹시계 수지, 폴리카보네이트, 폴리에테르, 폴리우레탄, 폴리실록산, 고무계 중합체 등을 들 수 있다.Examples of the polymer component (A) include acrylic polymers, polyesters, phenoxy resins, polycarbonates, polyethers, polyurethanes, polysiloxanes, rubber polymers, etc.

이러한 중합체 성분(A)은, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These polymer components (A) may be used alone or in combination of two or more.

또한 본 명세서에서, 에폭시기를 가지는 아크릴계 중합체나, 에폭시기를 가지는 페녹시 수지는, 열경화성을 가지고 있지만, 이들이 질량 평균 분자량이 2만 이상이고, 적어도 1종의 반복 단위를 가지는 화합물이면, 중합체 성분(A)의 개념에 포함되는 것으로 한다.In addition, in this specification, an acrylic polymer having an epoxy group or a phenoxy resin having an epoxy group is thermosetting, but if they are a compound having a mass average molecular weight of 20,000 or more and at least one type of repeating unit, they are included in the concept of a polymer component (A).

이들 중에서도, 중합체 성분(A)이, 아크릴계 중합체(A1)를 포함하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the polymer component (A) contains an acrylic polymer (A1).

중합체 성분(A) 중의 아크릴계 중합체(A1)의 함유 비율은, 중합체 성분(A)의 전량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 60 ~ 100 질량%, 보다 바람직하게는 70 ~ 100 질량%, 더 바람직하게는 80 ~ 100 질량%, 더욱더 바람직하게는 90 ~ 100 질량%이다.The content ratio of the acrylic polymer (A1) in the polymer component (A) is preferably 60 to 100 mass%, more preferably 70 to 100 mass%, further preferably 80 to 100 mass%, and even more preferably 90 to 100 mass%, with respect to the total amount (100 mass%) of the polymer component (A).

(아크릴계 중합체(A1))(Acrylic polymer (A1))

아크릴계 중합체(A1)의 질량 평균 분자량(Mw)은, 열경화성 수지층(Z)에 가요성 및 조막성을 부여하는 관점에서, 바람직하게는 2만 ~ 300만, 보다 바람직하게는 10만 ~ 150만, 더 바람직하게는 15만 ~ 120만, 더욱더 바람직하게는 25만 ~ 100만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the acrylic polymer (A1) is preferably 20,000 to 3 million, more preferably 100,000 to 1.5 million, further preferably 150,000 to 1.2 million, and still more preferably 250,000 to 1 million, from the viewpoint of imparting flexibility and film-forming properties to the thermosetting resin layer (Z).

아크릴계 중합체(A1)의 유리 전이 온도(Tg)는, 열경화성 수지층(Z)의 표면에 양호한 점착성을 부여하는 관점, 및 점착성 적층체를 이용하여 제조되는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 신뢰성을 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 -60 ~ 50℃, 보다 바람직하게는 -50 ~ 30℃, 더 바람직하게는 -40 ~ 10℃, 더욱더 바람직하게는 -35 ~ 5℃이다.The glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer (A1) is preferably -60 to 50°C, more preferably -50 to 30°C, even more preferably -40 to 10°C, and still more preferably -35 to 5°C, from the viewpoint of imparting good adhesion to the surface of the thermosetting resin layer (Z) and improving the reliability of a cured encapsulation body having a cured resin film manufactured using the adhesive laminate.

아크릴계 중합체(A1)로는, 알킬 (메타)아크릴레이트를 주성분으로 하는 중합체를 들 수 있고, 구체적으로는, 탄소수 1 ~ 18의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트(a1')(이하, 「모노머(a1')」라고도 한다)로부터 유래하는 구성 단위(a1)를 포함하는 아크릴계 중합체가 바람직하고, 구성 단위(a1)와 함께 관능기 함유 모노머(a2')(이하, 「모노머(a2')」라고도 한다)로부터 유래하는 구성 단위(a2)를 포함하는 아크릴계 공중합체가 보다 바람직하다.As the acrylic polymer (A1), a polymer having an alkyl (meth)acrylate as a main component can be exemplified, and specifically, an acrylic polymer including a structural unit (a1) derived from an alkyl (meth)acrylate (a1') having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter also referred to as a "monomer (a1')") is preferable, and an acrylic copolymer including a structural unit (a2) derived from a functional group-containing monomer (a2') (hereinafter also referred to as a "monomer (a2')") together with the structural unit (a1) is more preferable.

아크릴계 중합체(A1)는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Acrylic polymer (A1) may be used alone or in combination of two or more types.

또한 아크릴계 중합체(A1)가 공중합체인 경우, 상기 공중합체의 형태는, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 교호 공중합체, 그래프트 공중합체의 어느 하나이어도 좋다.In addition, when the acrylic polymer (A1) is a copolymer, the form of the copolymer may be any one of a block copolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a graft copolymer.

모노머(a1')가 가지는 알킬기의 탄소수는, 열경화성 수지층(Z)에 가요성 및 조막성을 부여하는 관점에서, 바람직하게는 1 ~ 18이고, 보다 바람직하게는 1 ~ 12, 더 바람직하게는 1 ~ 8이다. 상기 알킬기는, 직쇄 알킬기이어도 좋고, 분기쇄 알킬기이어도 좋다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the monomer (a1') is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, and even more preferably 1 to 8, from the viewpoint of imparting flexibility and film-forming properties to the thermosetting resin layer (Z). The alkyl group may be a straight-chain alkyl group or a branched-chain alkyl group.

이러한 모노머(a1')는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These monomers (a1') may be used alone or in combination of two or more.

점착성 적층체를 이용하여 제조되는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 신뢰성을 향상시키는 관점에서, 모노머(a1')가, 탄소수 1 ~ 3의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하고, 메틸 (메타)아크릴레이트를 포함하는 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of improving the reliability of a cured encapsulating body having a cured resin film manufactured using an adhesive laminate, it is preferable that the monomer (a1') contains an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and it is more preferable that it contains methyl (meth)acrylate.

상기 관점에서, 탄소수 1 ~ 3의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트로부터 유래하는 구성 단위(a11)의 함유량은, 아크릴계 중합체(A1)의 전구성 단위(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 1 ~ 80 질량%, 보다 바람직하게는 5 ~ 80 질량%, 더 바람직하게는 10 ~ 80 질량%이다.From the above viewpoint, the content of the structural unit (a11) derived from an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferably 1 to 80 mass%, more preferably 5 to 80 mass%, and even more preferably 10 to 80 mass%, with respect to the precursor unit (100 mass%) of the acrylic polymer (A1).

또한, 열경화성 수지층(Z)을 열경화시켜 이루어지는 경화 수지막의 글로스 값을 상승시켜, 레이저 마킹 적성을 향상시키는 관점에서, 모노머(a1')가, 탄소수 4 이상의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하고, 탄소수 4 ~ 6의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 포함하는 것이 보다 바람직하고, 부틸 (메타)아크릴레이트를 포함하는 것이 더 바람직하다.In addition, from the viewpoint of increasing the gloss value of the cured resin film formed by heat-curing the thermosetting resin layer (Z) and improving the laser marking suitability, it is preferable that the monomer (a1') contains an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 4 or more carbon atoms, more preferably an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 4 to 6 carbon atoms, and even more preferably butyl (meth)acrylate.

상기 관점에서, 탄소수 4 이상(바람직하게는 4 ~ 6, 더 바람직하게는 4)의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트로부터 유래하는 구성 단위(a12)의 함유량은, 아크릴계 중합체(A1)의 전구성 단위(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 1 ~ 70 질량%, 보다 바람직하게는 5 ~ 65 질량%, 더 바람직하게는 10 ~ 60 질량%이다.From the above viewpoint, the content of the structural unit (a12) derived from an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 4 or more carbon atoms (preferably 4 to 6, more preferably 4) is preferably 1 to 70 mass%, more preferably 5 to 65 mass%, and even more preferably 10 to 60 mass%, with respect to the precursor unit (100 mass%) of the acrylic polymer (A1).

구성 단위(a1)의 함유량은, 아크릴계 중합체(A1)의 전구성 단위(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 50 질량% 이상, 보다 바람직하게는 50 ~ 99 질량%, 더 바람직하게는 55 ~ 90 질량%, 더 바람직하게는 60 ~ 90 질량%이다.The content of the constituent unit (a1) is preferably 50 mass% or more, more preferably 50 to 99 mass%, further preferably 55 to 90 mass%, and further preferably 60 to 90 mass%, relative to the precursor unit (100 mass%) of the acrylic polymer (A1).

모노머(a2')로는, 히드록시기 함유 모노머 및 에폭시기 함유 모노머로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하다.As the monomer (a2'), at least one selected from a hydroxyl group-containing monomer and an epoxy group-containing monomer is preferable.

또한 모노머(a2')는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.In addition, the monomer (a2') may be used alone or in combination of two or more types.

히드록시기 함유 모노머로는, 상술의 수산기 함유 화합물과 같은 것을 들 수 있고, 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트가 바람직하고, 2-히드록시 에틸 (메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다.As the hydroxyl group-containing monomer, examples thereof include the hydroxyl group-containing compounds described above, with hydroxyalkyl (meth)acrylate being preferable and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate being more preferable.

에폭시 함유 모노머로는, 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트, β-메틸글리시딜 (메타)아크릴레이트, (3, 4-에폭시 시클로헥실) 메틸 (메타)아크릴레이트, 3-에폭시 시클로-2-히드록시 프로필 (메타)아크릴레이트 등의 에폭시기 함유 (메타)아크릴레이트; 글리시딜크로토네이트, 알릴글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy-containing monomers include epoxy group-containing (meth)acrylates such as glycidyl (meth)acrylate, β-methylglycidyl (meth)acrylate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth)acrylate, and 3-epoxycyclo-2-hydroxypropyl (meth)acrylate; glycidyl crotonate, and allyl glycidyl ether.

이들 중에서도, 에폭시 함유 모노머로는, 에폭시기 함유 (메타)아크릴레이트가 바람직하고, 글리시딜 (메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다.Among these, as the epoxy-containing monomer, an epoxy group-containing (meth)acrylate is preferable, and glycidyl (meth)acrylate is more preferable.

구성 단위(a2)의 함유량은, 아크릴계 중합체(A1)의 전구성 단위(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 1 ~ 50 질량%, 보다 바람직하게는 5 ~ 45 질량%, 더 바람직하게는 10 ~ 40 질량%, 더욱더 바람직하게는 10 ~ 30 질량%이다.The content of the constituent unit (a2) is preferably 1 to 50 mass%, more preferably 5 to 45 mass%, further preferably 10 to 40 mass%, and even more preferably 10 to 30 mass%, relative to the precursor unit (100 mass%) of the acrylic polymer (A1).

또한 아크릴계 중합체(A1)는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 상기의 구성 단위(a1) 및 (a2) 이외의 다른 모노머로부터 유래하는 구성 단위를 가지고 있어도 좋다.In addition, the acrylic polymer (A1) may have a structural unit derived from a monomer other than the structural units (a1) and (a2) described above, as long as the effects of the present invention are not impaired.

그 외의 모노머로는, 예를 들면, 아세트산비닐, 스티렌, 에틸렌, α-올레핀등을 들 수 있다.Other monomers include, for example, vinyl acetate, styrene, ethylene, and α-olefins.

<열경화성 성분(B)><Thermosetting component (B)>

열경화성 성분(B)은, 열경화성 수지층(Z)을 열경화시키고, 경질의 경화 수지막을 형성하는 역할을 담당하는 것이고, 질량 평균 분자량이 2만 미만의 화합물이다.The thermosetting component (B) is responsible for thermosetting the thermosetting resin layer (Z) and forming a hard cured resin film, and is a compound having a mass average molecular weight of less than 20,000.

경화성 성분(B)의 질량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 10,000 이하, 보다 바람직하게는 100 ~ 10,000이다.The mass average molecular weight (Mw) of the curable component (B) is preferably 10,000 or less, more preferably 100 to 10,000.

열경화성 성분(B)으로는, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 에폭시기를 가지는 화합물인 에폭시 화합물(B1) 및 열경화제(B2)를 포함하는 것이 바람직하고, 에폭시 화합물(B1) 및 열경화제(B2)와 함께, 경화촉진제(B3)를 더 포함하는 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulated body having a cured resin film having a flat surface by suppressing warping, the thermosetting component (B) preferably includes an epoxy compound (B1) that is a compound having an epoxy group and a thermosetting agent (B2), and it is more preferable to further include a curing accelerator (B3) together with the epoxy compound (B1) and the thermosetting agent (B2).

에폭시 화합물(B1)로는, 예를 들면, 다관능계 에폭시 수지, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 및 그 수소 첨가물, 오르소크레졸노볼락에폭시수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 페닐렌 골격형 에폭시 수지 등의 분자 중에 2 관능 이상 가져, 질량 평균 분자량이 2만 미만인 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound (B1) include epoxy compounds having two or more functional groups in the molecule and a mass average molecular weight of less than 20,000, such as multifunctional epoxy resins, bisphenol A diglycidyl ether and hydrogenated products thereof, orthocresol novolac epoxy resins, dicyclopentadiene-type epoxy resins, biphenyl-type epoxy resins, bisphenol A-type epoxy resins, bisphenol F-type epoxy resins, and phenylene skeleton-type epoxy resins.

에폭시 화합물(B1)은, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Epoxy compounds (B1) may be used alone or in combination of two or more types.

에폭시 화합물(B1)의 함유량은, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 중합체 성분(A) 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 1 ~ 500 질량부, 보다 바람직하게는 3 ~ 300 질량부, 더 바람직하게는 10 ~ 150 질량부, 더욱더 바람직하게는 20 ~ 120 질량부이다.From the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulating body having a cured resin film having a flat surface by suppressing warping, the content of the epoxy compound (B1) is preferably 1 to 500 parts by mass, more preferably 3 to 300 parts by mass, further preferably 10 to 150 parts by mass, and still more preferably 20 to 120 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymer component (A).

열경화제(B2)는, 에폭시 화합물(B1)에 대한 경화제로서 기능한다.The thermosetting agent (B2) functions as a curing agent for the epoxy compound (B1).

열경화제로는, 1 분자 중에 에폭시기와 반응할 수 있는 관능기를 2개 이상 가지는 화합물이 바람직하다.As a thermosetting agent, a compound having two or more functional groups capable of reacting with an epoxy group per molecule is preferable.

상기 관능기로는 페놀성 수산기, 알코올성 수산기, 아미노기, 카르복실기, 및 산 무수물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 페놀성 수산기, 아미노기, 또는 산 무수물이 바람직하고, 페놀성 수산기, 또는 아미노기가 보다 바람직하고, 아미노기가 더 바람직하다.Examples of the functional group include a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an acid anhydride. Among these, from the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulating body having a cured resin film that suppresses warping and has a flat surface, a phenolic hydroxyl group, an amino group, or an acid anhydride is preferable, a phenolic hydroxyl group or an amino group is more preferable, and an amino group is even more preferable.

페놀기를 가지는 페놀계 열경화제로는, 예를 들면, 다관능계 페놀 수지, 비페놀, 노볼락형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔계 페놀 수지, 자일록(xylok)형 페놀 수지, 아랄킬 페놀 수지 등을 들 수 있다.Examples of phenolic thermosetting agents having a phenol group include multifunctional phenol resins, biphenols, novolac-type phenol resins, dicyclopentadiene-type phenol resins, xylok-type phenol resins, and aralkyl phenol resins.

아미노기를 가지는 아민계 열경화제로는, 예를 들면, 디시안디아미드(DICY) 등을 들 수 있다.Examples of amine-based heat curing agents having an amino group include dicyandiamide (DICY).

이러한 열경화제(B2)는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These thermosetting agents (B2) may be used alone or in combination of two or more.

열경화제(B2)의 함유량은, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 에폭시 화합물(B1) 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1 ~ 500 질량부, 보다 바람직하게는 1 ~ 200 질량부이다.From the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulated body having a cured resin film having a flat surface by suppressing warping, the content of the heat curing agent (B2) is preferably 0.1 to 500 parts by mass, more preferably 1 to 200 parts by mass, per 100 parts by mass of the epoxy compound (B1).

경화촉진제(B3)는, 열경화성 수지층(Z)을 열경화시킬 때에, 열경화의 속도를 높이는 기능을 가지는 화합물이다.A curing accelerator (B3) is a compound that has the function of increasing the speed of thermal curing when thermally curing a thermosetting resin layer (Z).

경화촉진제(B3)로는, 예를 들면, 트리에틸렌 디아민, 벤질 디메틸 아민, 트리에탄올 아민, 디메틸 아미노에탄올, 트리스(디메틸 아미노메틸) 페놀 등의 3급 아민류; 2-메틸 이미다졸, 2-페닐 이미다졸, 2-페닐-4-메틸 이미다졸, 2-페닐-4, 5-디히드록시 메틸 이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시 메틸 이미다졸 등의 이미다졸류; 트리부틸포스핀, 디페닐 포스핀, 트리페닐 포스핀 등의 유기 포스핀류; 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트, 트리페닐 포스핀 테트라페닐 보레이트 등의 테트라페닐 붕소 염 등을 들 수 있다.Examples of the curing accelerator (B3) include tertiary amines such as triethylenediamine, benzyl dimethyl amine, triethanol amine, dimethyl aminoethanol, and tris (dimethyl aminomethyl) phenol; imidazoles such as 2-methyl imidazole, 2-phenyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl imidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxy methyl imidazole, and 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxy methyl imidazole; organic phosphines such as tributylphosphine, diphenyl phosphine, and triphenyl phosphine; and tetraphenyl boron salts such as tetraphenylphosphoniumtetraphenylborate and triphenyl phosphine tetraphenyl borate.

이러한 경화촉진제(B13)는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These hardening accelerators (B13) may be used alone or in combination of two or more types.

경화촉진제(B3)의 함유량은, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 에폭시 화합물(B1) 및 열경화제(B2)의 합계량 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.01 ~ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 6 질량부, 더 바람직하게는 0.3 ~ 4 질량부이다.From the viewpoint of producing an adhesive laminate having a cured encapsulated body having a cured resin film having a flat surface by suppressing warping, the content of the curing accelerator (B3) is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 6 parts by mass, and even more preferably 0.3 to 4 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the epoxy compound (B1) and the heat curing agent (B2).

<착색제(C)><Colorant (C)>

본 발명의 일 형태에서 이용되는 열경화성 조성물(z)은, 착색제(C)를 더 함유해도 좋다.The thermosetting composition (z) used in one embodiment of the present invention may further contain a colorant (C).

착색제(C)를 포함하는 열경화성 조성물(z)로 형성한 열경화성 수지층(Z)은, 열경화해 경화 수지막으로 한 경우에, 상기 경화 수지막이, 주위의 장치로부터 발생하는 적외선 등을 차폐하고, 봉지 대상물(반도체 칩 등)의 오작동을 방지할 수 있다.A thermosetting resin layer (Z) formed from a thermosetting composition (z) containing a coloring agent (C) can, when thermosetting to form a cured resin film, shield infrared rays and the like generated from a surrounding device and prevent malfunction of a sealing target (semiconductor chip, etc.).

착색제(C)로는, 유기 또는 무기의 안료 및 염료를 이용할 수 있다.As a coloring agent (C), organic or inorganic pigments and dyes can be used.

염료로는, 예를 들면, 산성 염료, 반응 염료, 직접 염료, 분산 염료, 양이온 염료 등의 어느 염료이어도 이용할 수 있다.Any dye can be used as the dye, for example, an acid dye, a reactive dye, a direct dye, a disperse dye, or a cationic dye.

또한, 안료로는, 특별히 제한되지 않고, 공지의 안료로부터 적절히 선택하여 이용할 수 있다.In addition, as a pigment, there is no particular limitation and it can be appropriately selected and used from known pigments.

이들 중에서도, 전자파나 적외선의 차폐성이 양호하고, 또한 레이저 마킹법에 따르는 식별성을 보다 향상시키는 관점에서, 흑색 안료가 바람직하다.Among these, black pigment is preferable from the viewpoint of having good shielding properties against electromagnetic waves and infrared rays and further improving identification according to the laser marking method.

흑색 안료로는, 예를 들면, 카본 블랙, 산화철, 이산화 망간, 아닐린 블랙, 활성탄 등을 들 수 있지만, 반도체 칩의 신뢰성을 높이는 관점에서, 카본 블랙이 바람직하다.Examples of black pigments include carbon black, iron oxide, manganese dioxide, aniline black, and activated carbon, but carbon black is preferable from the viewpoint of increasing the reliability of semiconductor chips.

또한 이러한 착색제(C)는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Additionally, these colorants (C) may be used alone or in combination of two or more.

성분(C)의 함유량은, 열경화성 조성물(z)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 열경화성 수지층(Z)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 0.1 ~ 30 질량%, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 25 질량%, 더 바람직하게는 1.0 ~ 15 질량%, 더욱더 바람직하게는 1.2 ~ 5 질량%이다.The content of component (C) is preferably 0.1 to 30 mass%, more preferably 0.5 to 25 mass%, further preferably 1.0 to 15 mass%, and even more preferably 1.2 to 5 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective components of the thermosetting composition (z) or the total mass (100 mass%) of the thermosetting resin layer (Z).

<커플링제(D)><Coupling agent (D)>

본 발명의 일 형태에서 이용되는 열경화성 조성물(z)은, 커플링제(D)를 더 함유해도 좋다.The thermosetting composition (z) used in one embodiment of the present invention may further contain a coupling agent (D).

커플링제(D)를 포함하는 열경화성 조성물(z)로 형성한 열경화성 수지층(Z)은, 봉지 대상물과의 접착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 열경화성 수지층(Z)을 열경화시켜 이루어지는 경화 수지막에 대해서, 내열성을 손상하지 않고, 내수성을 향상시킬 수도 있다.A thermosetting resin layer (Z) formed from a thermosetting composition (z) containing a coupling agent (D) can improve adhesion to a sealing target. In addition, for a cured resin film formed by thermosetting the thermosetting resin layer (Z), water resistance can be improved without impairing heat resistance.

커플링제(D)로는, 성분(A)이나 성분(B)이 가지는 관능기와 반응하는 화합물이 바람직하고, 구체적으로는, 실란 커플링제가 바람직하다.As the coupling agent (D), a compound that reacts with a functional group of component (A) or component (B) is preferable, and specifically, a silane coupling agent is preferable.

실란 커플링제로는, 예를 들면, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3, 4-에폭시 시클로헥실) 에틸트리메톡시실란, 3-(메타크릴록시프로필) 트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-6-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-6-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 비스(3-트리에톡시 실릴 프로필) 테트라설판, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 이미다졸실란 등을 들 수 있다.Examples of the silane coupling agent include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-(methacryloxypropyl)trimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-6-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-6-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis(3-triethoxy silyl propyl)tetrasulfane, methyltrimethoxysilane, Examples include methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and imidazole silane.

이러한 커플링제(D)는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These coupling agents (D) may be used alone or in combination of two or more.

커플링제(D)의 분자량으로는, 바람직하게는 100 ~ 15000, 보다 바람직하게는 125 ~ 10000, 보다 바람직하게는 150 ~ 5000, 더 바람직하게는 175 ~ 3000, 더욱더 바람직하게는 200 ~ 2000이다.The molecular weight of the coupling agent (D) is preferably 100 to 15,000, more preferably 125 to 10,000, more preferably 150 to 5,000, more preferably 175 to 3,000, and still more preferably 200 to 2,000.

성분(D)의 함유량은, 열경화성 조성물(z)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 열경화성 수지층(Z)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 0.01 ~ 10 질량%, 보다 바람직하게는 0.05 ~ 7 질량%, 더 바람직하게는 0.10 ~ 4 질량%, 더욱더 바람직하게는 0.15 ~ 2 질량%이다.The content of component (D) is preferably 0.01 to 10 mass%, more preferably 0.05 to 7 mass%, further preferably 0.10 to 4 mass%, and still more preferably 0.15 to 2 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective components of the thermosetting composition (z) or the total mass (100 mass%) of the thermosetting resin layer (Z).

<무기 충전재(E)><Weapon Refill (E)>

본 발명의 일 형태에서 이용되는 열경화성 조성물(z)은, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 무기 충전재(E)를 더 함유하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulated body having a cured resin film having a flat surface by suppressing warping, the thermosetting composition (z) used in one embodiment of the present invention preferably further contains an inorganic filler (E).

무기 충전재(E)를 포함하는 열경화성 조성물(z)로 형성한 열경화성 수지층(Z)은, 봉지재를 열경화시킬 때에, 경화 봉지체의 2개의 표면간의 수축 응력의 차이를 작아지도록, 상기 열경화성 수지층(Z)의 열경화의 정도를 조정할 수 있다. 그 결과, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻을 수 있다.A thermosetting resin layer (Z) formed of a thermosetting composition (z) containing an inorganic filler (E) can adjust the degree of thermosetting of the thermosetting resin layer (Z) so that the difference in shrinkage stress between two surfaces of the cured encapsulating body is reduced when the encapsulating material is thermosetted. As a result, a cured encapsulating body having a cured resin film with a flat surface that suppresses warping can be obtained.

또한, 열경화성 수지층(Z)을 열경화하여 이루어지는 경화 수지막의 열 팽창 계수를 적절한 범위로 조정할 수 있고, 봉지 대상물의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 경화 수지막의 흡습율을 저감시킬 수도 있다.In addition, the coefficient of thermal expansion of the cured resin film formed by heat-curing the thermosetting resin layer (Z) can be adjusted to an appropriate range, and the reliability of the sealing target can be improved. In addition, the moisture absorption rate of the cured resin film can also be reduced.

무기 충전재(E)로는, 비팽창성의 것이면 좋고, 예를 들면, 실리카, 알루미나, 탈크, 탄산칼슘, 산화 티탄, 산화철, 탄화규소, 질화 붕소 등의 분말, 이들을 구형화한 비즈, 단결정 섬유 및 유리 섬유 등의 비열팽창성 입자를 들 수 있다.As the inorganic filler (E), it is preferable that it be non-expandable, and examples thereof include powders of silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium oxide, iron oxide, silicon carbide, boron nitride, spherical beads of these, non-heat-expandable particles such as single crystal fibers, and glass fibers.

이러한 무기 충전재(E)는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.These weapon fillers (E) can be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서도, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 실리카, 또는 알루미나가 바람직하다.Among these, silica or alumina is preferable from the viewpoint of being an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulating body having a cured resin film with a flat surface that suppresses warping.

무기 충전재(E)의 평균 입자경으로는, 형성되는 열경화성 수지층(Z)을 열경화하여 이루어지는 경화 수지막의 글로스 값을 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.3 ~ 50㎛, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 30㎛, 더 바람직하게는 0.7 ~ 10㎛이다.The average particle size of the inorganic filler (E) is preferably 0.3 to 50 µm, more preferably 0.5 to 30 µm, and even more preferably 0.7 to 10 µm from the viewpoint of improving the gloss value of the cured resin film formed by thermosetting the formed thermosetting resin layer (Z).

성분(E)의 함유량은, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조할 수 있는 점착성 적층체로 하는 관점에서, 열경화성 조성물(z)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 열경화성 수지층(Z)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 25 ~ 80 질량%, 보다 바람직하게는 30 ~ 70 질량%, 더 바람직하게는 40 ~ 65 질량%, 더욱더 바람직하게는 45 ~ 60 질량%이다.From the viewpoint of producing an adhesive laminate capable of producing a cured encapsulated body having a cured resin film having a flat surface by suppressing warping, the content of component (E) is preferably 25 to 80 mass%, more preferably 30 to 70 mass%, further preferably 40 to 65 mass%, and still more preferably 45 to 60 mass%, relative to the total amount (100 mass%) of the effective components of the thermosetting composition (z) or the total mass (100 mass%) of the thermosetting resin layer (Z).

<그 외의 첨가제><Other additives>

본 발명의 일 형태에서 이용되는 열경화성 조성물(z)은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 또한 상술의 성분(A) ~ (E) 이외의 다른 첨가제를 함유해도 좋다.The thermosetting composition (z) used in one embodiment of the present invention may contain additives other than the components (A) to (E) described above, as long as the effects of the present invention are not impaired.

다른 첨가제로는, 예를 들면, 가교제, 레벨링제, 가소제, 대전 방지제, 산화 방지제, 이온 포착제, 게터링제, 연쇄 이동제 등을 들 수 있다.Other additives may include, for example, crosslinking agents, leveling agents, plasticizers, antistatic agents, antioxidants, ion scavengers, gettering agents, and chain transfer agents.

다만, 성분(A) ~ (E) 이외의 다른 첨가제의 합계 함유량으로는, 열경화성 조성물(z)의 유효 성분의 전량(100 질량%) 또는 열경화성 수지층(Z)의 전질량(100 질량%)에 대해서, 바람직하게는 0 ~ 20 질량%, 보다 바람직하게는 0 ~ 10 질량%, 더 바람직하게는 0 ~ 5 질량%이다.However, the total content of additives other than components (A) to (E) is preferably 0 to 20 mass%, more preferably 0 to 10 mass%, and even more preferably 0 to 5 mass%, with respect to the total amount (100 mass%) of the effective ingredients of the thermosetting composition (z) or the total mass (100 mass%) of the thermosetting resin layer (Z).

〔점착성 적층체의 사용 방법〕〔How to use the adhesive laminate〕

본 발명의 점착성 적층체는, 봉지 대상물을 지지체에 고정해 봉지 가공을 실시할 수 있음과 동시에, 봉지 가공 후에는 약한 힘으로 지지체로부터 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있다. 또한, 상기 점착성 적층체를 이용함으로써, 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 생산성을 향상시켜 제조할 수 있다.The adhesive laminate of the present invention can fix a bagging object to a support and perform bagging processing, and at the same time, can be easily separated from the support with a weak force after bagging processing. In addition, by using the adhesive laminate, a cured bagging body having a cured resin film with a flat surface that suppresses warping can be manufactured with improved productivity.

이 때문에, 본 발명의 점착성 적층체는,For this reason, the adhesive laminate of the present invention,

경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면에 봉지 대상물을 재치하고,Place the bagging object on the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film,

상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하는, 사용 방법이 바람직하다.A method of use is preferable, which comprises covering the surface of the above-mentioned bagging object and at least the periphery of the above-mentioned bagging object, the sheet (II) for forming a cured resin film, with a bagging material, and thermally curing the bagging material to form a cured bagging body including the above-mentioned bagging object.

또한 상기의 사용 방법에서, 상기 봉지재를 경화시킬 때에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜 경화 수지막을 형성시킴과 동시에, 상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻도록 사용하는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described method of use, when curing the encapsulating material, it is preferable to use it so that the thermosetting resin layer (Z) is also thermosetted to form a cured resin film, and at the same time, the expandable particles are separated from the interface P by a treatment that expands them, thereby obtaining a cured encapsulating body having a cured resin film.

위에서 설명한 바와 같이 본 발명의 점착성 적층체를 사용함으로써 휘어짐을 억제해 평탄한 표면을 가지는 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를, 생산성을 향상시켜 제조할 수 있다.As described above, by using the adhesive laminate of the present invention, a cured encapsulating body having a cured resin film having a flat surface with suppressed warping can be manufactured with improved productivity.

또한 상기의 사용 방법에서, 점착성 적층체의 적합한 구성은 상술한 바와 같고, 봉지재의 종류나, 봉지재의 피복 방법, 열경화의 모든 조건 등에 대해서는, 이하에 나타내는, 「경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 제조 방법」의 항에 기재한 바와 같다.In addition, in the above-described method of use, the suitable composition of the adhesive laminate is as described above, and the type of the encapsulating material, the method of covering the encapsulating material, all conditions of thermal curing, etc. are as described in the section of “Method for producing a cured encapsulating body having a cured resin film” shown below.

〔경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 제조 방법〕〔Method for manufacturing a cured encapsulated body having a cured resin film〕

본 발명의 점착성 적층체를 이용하여 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조하는 방법으로는, 하기 공정(i) ~ (iii)를 가지는 방법을 들 수 있다.As a method for manufacturing a cured encapsulating body having a cured resin film using the adhesive laminate of the present invention, a method having the following steps (i) to (iii) can be exemplified.

·공정(i):상기 점착성 적층체가 가지는 점착 시트(I)의 점착제층(X)의 점착 표면과 지지체를 첩부하여, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면의 일부에, 봉지 대상물을 재치하는 공정.·Process (i): A process of attaching the adhesive surface of the adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and a support to place an object to be sealed on part of the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film.

·공정(ii):상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하는 동시에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜, 경화 수지막을 형성하는 공정.·Process (ii): A process of covering the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film on at least the peripheral portion of the above-mentioned sealing object and the above-mentioned sealing object with a sealing material, thermally curing the sealing material to form a cured sealing body including the above-mentioned sealing object, and simultaneously thermally curing the thermosetting resin layer (Z) to form a cured resin film.

·공정(iii):상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻는 공정.·Process (iii): A process for obtaining a cured encapsulated body having a cured resin film by separating the expandable particles from the interface P through a treatment for expanding the expandable particles.

도 4는, 도 1(a)에 나타내는 점착성 적층체(1a)를 이용하여 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조하는 공정을 나타낸 단면 모식도이다. 이하, 도 4를 적절히 참조하면서, 상술의 각 공정에 대해 설명한다.Fig. 4 is a cross-sectional schematic diagram showing a process for manufacturing a cured encapsulation body having a cured resin film using the adhesive laminate (1a) shown in Fig. 1(a). Hereinafter, each of the above-described processes will be described with appropriate reference to Fig. 4.

<공정(i)><Fairness (i)>

공정(i)은, 상기 점착성 적층체가 가지는 점착 시트(I)의 점착제층(X)의 점착 표면과 지지체를 첩부하여, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면의 일부에, 봉지 대상물을 재치하는 공정이다.Process (i) is a process of attaching the adhesive surface of the adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and a support to place an object to be sealed on part of the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film.

도 4(a)에는, 본 공정에서, 점착성 적층체(1a)를 이용하여, 점착 시트(I)의 점착제층(X)의 점착 표면을 지지체(50)에 첩부하고, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)의 표면의 일부에, 봉지 대상물(60)을 재치한 상태를 나타내고 있다.Fig. 4(a) shows a state in which, in this process, the adhesive surface of the adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) is attached to a support (50) using an adhesive laminate (1a), and a sealing target object (60) is placed on a part of the surface of the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film.

또한 도 4(a)에서는, 도 1(a)에 나타내는 점착성 적층체(1a)를 이용한 예를 나타내고 있지만, 다른 구성을 가지는 본 발명의 점착성 적층체를 이용하는 경우에도, 마찬가지로 상기 지지체, 상기 점착성 적층체, 및 상기 봉지 대상물을 이 순서로 적층 또는 재치한다.In addition, Fig. 4(a) shows an example using the adhesive laminate (1a) shown in Fig. 1(a), but even when using the adhesive laminate of the present invention having a different configuration, the support, the adhesive laminate, and the bagging object are similarly laminated or placed in this order.

공정(i)에서의 온도 조건으로는, 팽창성 입자가 팽창하지 않는 온도에서 행해지는 것이 바람직하다.As for the temperature conditions in process (i), it is preferable that it be carried out at a temperature at which the expandable particles do not expand.

예를 들면, 팽창성 입자로서 열팽창성 입자를 이용하는 경우에는, 상기 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t) 미만이면 좋지만, 0 ~ 80℃의 환경 하(팽창개시온도(t)가 60 ~ 80℃인 경우에는, 팽창개시온도(t) 미만의 환경 하)에서 행해지는 것이 바람직하다.For example, when using a thermally expandable particle as an expandable particle, it is preferable that the temperature be lower than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particle, but it is preferable that the temperature be lower than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particle.

상기 지지체는, 점착성 적층체의 점착제층(X)의 점착 표면의 전면에 첩부되는 것이 바람직하다.It is preferable that the above support be attached to the entire surface of the adhesive surface of the adhesive layer (X) of the adhesive laminate.

따라서, 지지체는, 판상인 것이 바람직하다. 또한, 점착제층(X)의 점착 표면과 첩부되는 측의 지지체의 표면의 면적은, 도 4에 나타낸 바와 같이, 점착제층(X)의 점착 표면의 면적 이상인 것이 바람직하다.Therefore, it is preferable that the support be plate-shaped. In addition, it is preferable that the surface area of the support on the side to be attached to the adhesive surface of the adhesive layer (X) is greater than the area of the adhesive surface of the adhesive layer (X), as shown in Fig. 4.

상기 지지체를 구성하는 재질로는, 봉지 대상물의 종류나, 공정(ii)에서 사용하는 봉지재의 종류 등에 따라, 기계 강도나 내열성 등의 요구되는 특성을 고려 후, 적절히 선택된다.The material constituting the above support is appropriately selected after considering the required characteristics, such as mechanical strength and heat resistance, depending on the type of the bagging target object or the type of bagging material used in process (ii).

구체적인 지지체를 구성하는 재질로는, 예를 들면, SUS 등의 금속재료; 유리, 실리콘 웨이퍼 등의 비금속 무기 재료; 에폭시 수지, ABS 수지, 아크릴 수지, 엔지니어링 플라스틱, 슈퍼 엔지니어링 플라스틱, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지 등의 수지재료; 유리 에폭시 수지 등의 복합재료 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, SUS, 유리, 및 실리콘 웨이퍼 등이 바람직하다.Materials constituting a specific support include, for example, metallic materials such as SUS; non-metallic inorganic materials such as glass and silicon wafers; resin materials such as epoxy resin, ABS resin, acrylic resin, engineering plastic, super engineering plastic, polyimide resin, and polyamideimide resin; and composite materials such as glass epoxy resin. Among these, SUS, glass, and silicon wafers are preferable.

또한 엔지니어링 플라스틱으로는, 나일론, 폴리카보네이트(PC), 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등을 들 수 있다.Other engineering plastics include nylon, polycarbonate (PC), and polyethylene terephthalate (PET).

슈퍼 엔지니어링 플라스틱으로는, 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리에테르 설폰(PES), 및 폴리에테르 에테르 케톤(PEEK) 등을 들 수 있다.Super engineering plastics include polyphenylene sulfide (PPS), polyether sulfone (PES), and polyether ether ketone (PEEK).

상기 지지체의 두께는, 봉지 대상물의 종류나, 공정(ii)에서 사용하는 봉지재의 종류 등에 따라 적절히 선택되지만, 바람직하게는 20㎛ 이상 50 mm 이하이고, 보다 바람직하게는 60㎛ 이상 20 mm 이하이다.The thickness of the above support is appropriately selected depending on the type of the bagging target object, the type of bagging material used in process (ii), etc., but is preferably 20 ㎛ or more and 50 mm or less, and more preferably 60 ㎛ or more and 20 mm or less.

한편, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면의 일부에 재치되는 봉지 대상물로는, 예를 들면, 반도체 칩, 반도체 웨이퍼, 화합물 반도체, 반도체 패키지, 전자 부품, 사파이어 기판, 디스플레이, 패널용 기판 등을 들 수 있다.Meanwhile, examples of the sealing target placed on a part of the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film include semiconductor chips, semiconductor wafers, compound semiconductors, semiconductor packages, electronic components, sapphire substrates, displays, panel substrates, etc.

예를 들면, 봉지 대상물이 반도체 칩인 경우, 본 발명의 점착성 적층체를 이용함으로써, 경화 수지막을 가지는 반도체 칩을 제조할 수 있다.For example, when the packaging target is a semiconductor chip, a semiconductor chip having a cured resin film can be manufactured by using the adhesive laminate of the present invention.

반도체 칩은, 종래 공지의 것을 사용할 수 있어 그 회로면에는, 트랜지스터, 저항, 콘덴서 등의 회로 소자로 구성되는 집적회로가 형성되고 있다.Semiconductor chips can be made of conventionally known materials, and an integrated circuit composed of circuit elements such as transistors, resistors, and capacitors is formed on the circuit surface.

그리고, 반도체 칩은, 회로면과는 반대측의 이면이, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면으로 덮이도록 재치되는 것이 바람직하다. 이 경우, 재치 후, 반도체 칩의 회로면이 표출한 상태가 된다.And, it is preferable that the semiconductor chip be placed so that the back side opposite to the circuit surface is covered with the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film. In this case, after placement, the circuit surface of the semiconductor chip is exposed.

반도체 칩의 재치에는, Flip Chip Bonder, die bonder 등의 공지의 장치를 이용할 수 있다.For bonding semiconductor chips, known devices such as Flip Chip Bonder and die bonder can be used.

반도체 칩의 배치의 레이아웃, 배치 수 등은, 목적으로 하는 패키지의 형태, 생산 수 등에 따라 적절히 결정하면 좋다.The layout of the semiconductor chip arrangement, the number of arrangements, etc. should be appropriately determined according to the type of package intended for the purpose, the number of productions, etc.

여기서, FOWLP, FOPLP 등과 같이, 반도체 칩을 칩 사이즈보다도 큰 영역을 봉지재로 덮고, 반도체 칩의 회로면만이 아니라, 봉지재의 표면 영역에서도 재배선층을 형성하는 패키지에 적용되는 것이 바람직하다.Here, it is desirable to apply it to a package in which a semiconductor chip is covered with an encapsulating material over an area larger than the chip size, such as FOWLP, FOPLP, etc., and a redistribution layer is formed not only on the circuit surface of the semiconductor chip but also on the surface area of the encapsulating material.

이 때문에, 반도체 칩은, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면의 일부에 재치되는 것이고, 복수의 반도체 칩이, 일정한 간격을 두고 정렬된 상태로, 상기 표면에 재치되는 것이 바람직하고, 복수의 반도체 칩이, 일정한 간격을 두고, 복수행 및 복수열의 매트릭스상으로 정렬된 상태로 상기 표면에 재치되는 것이 보다 바람직하다.For this reason, the semiconductor chip is placed on a part of the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film, and it is preferable that a plurality of semiconductor chips are placed on the surface in a state of being aligned at a constant interval, and it is more preferable that a plurality of semiconductor chips are placed on the surface in a state of being aligned in a matrix of multiple rows and multiple columns at a constant interval.

반도체 칩끼리의 간격은, 목적으로 하는 패키지의 형태 등에 따라 적절히 결정하면 좋다.The spacing between semiconductor chips can be appropriately determined depending on the type of package being used.

<공정(ii)><Fair Process (ii)>

공정(ii)은, 상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고 (이하, 「피복 처리」라고도 한다), 상기 봉지재를 열경화시켜(이하, 「열경화 처리」라고도 한다), 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하는 동시에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜, 경화 수지막을 형성하는 공정이다.Process (ii) is a process of covering the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film, including the sealing object and at least the peripheral portion of the sealing object, with a sealing material (hereinafter also referred to as “covering treatment”), thermally curing the sealing material (hereinafter also referred to as “thermosetting treatment”), thereby forming a cured sealing body including the sealing object, and simultaneously thermally curing the thermosetting resin layer (Z) to form a cured resin film.

공정(ii)의 피복 처리에서는, 우선, 봉지 대상물과 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면의 적어도 봉지 대상물의 주변부를 봉지재로 피복한다.In the covering treatment of process (ii), first, at least the peripheral portion of the surface of the sealing target object and the sheet (II) for forming a cured resin film is covered with a sealing material.

봉지재는, 봉지 대상물의 표출되어 있는 면전체를 덮으면서, 복수의 반도체 칩끼리의 틈에도 충전된다.The encapsulating material covers the entire exposed surface of the encapsulating object and is also filled into the gaps between multiple semiconductor chips.

예를 들면, 도 4(b)에는, 봉지 대상물(60) 및 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면을 모두 덮도록 봉지재로 피복한 상태를 나타내고 있다.For example, Fig. 4(b) shows a state in which the surfaces of the bagging target (60) and the sheet (II) for forming a cured resin film are covered with a bagging material.

봉지재는, 봉지 대상물 및 이것에 부수하는 요소를 외부 환경으로부터 보호하는 기능을 가지는 것이다.A bagging material has the function of protecting the bagging object and its associated elements from the external environment.

본 발명의 제조 방법에 이용하는 봉지재는, 열경화성 수지를 포함하는, 열경화성의 봉지재이다.The encapsulating material used in the manufacturing method of the present invention is a thermosetting encapsulating material containing a thermosetting resin.

또한, 봉지재는, 실온에서, 과립상, 펠릿상, 필름상 등의 고형이어도 좋고, 조성물의 형태가 된 액상이어도 좋지만, 작업성의 관점에서, 필름상의 봉지재인 봉지 수지 필름이 바람직하다.In addition, the sealing material may be in a solid form such as granules, pellets, or films at room temperature, or may be in a liquid form in the form of a composition, but from the viewpoint of workability, a film-shaped sealing material, that is, a sealing resin film, is preferable.

피복 방법으로는, 종래의 봉지 공정에 적용되고 있는 방법 중에서, 봉지재의 종류에 따라 적절히 선택하여 적용할 수 있고, 예를 들면, 롤 라미네이트법, 진공 프레스법, 진공 라미네이트법, 스핀 코트법, 다이코트법, 트랜스퍼 몰딩법, 압축 성형 몰드법 등을 적용할 수 있다.As a covering method, any of the methods applied in the conventional bagging process can be appropriately selected and applied depending on the type of bagging material, and examples thereof include a roll lamination method, a vacuum press method, a vacuum lamination method, a spin coat method, a die coat method, a transfer molding method, and a compression molding method.

그리고, 피복 처리를 행한 후, 봉지재를 열경화시켜, 봉지 대상물이 봉지재에 의해서 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체를 얻는다.Then, after performing the covering treatment, the encapsulating material is heat-cured to obtain a cured encapsulating body in which the encapsulating object is encapsulated by the encapsulating material.

또한 공정(ii)의 피복 처리 및 열경화 처리는, 팽창성 입자가 팽창하지 않는 온도에서 행해지고, 예를 들면, 열팽창성 입자를 포함하는 층을 가지는 점착성 적층체를 이용하는 경우, 상기 열팽창성 입자의 팽창개시온도(t) 미만의 온도 조건에서 행해지는 것이 바람직하다.In addition, the covering treatment and heat curing treatment of process (ii) are preferably performed at a temperature at which the expandable particles do not expand, and for example, when using an adhesive laminate having a layer including heat-expandable particles, it is preferable to perform the treatment under a temperature condition lower than the expansion initiation temperature (t) of the heat-expandable particles.

또한, 피복 공정과 열경화 공정이란, 별도로 실시해도 좋지만, 피복 공정에 서 봉지재를 가열하는 경우에는, 상기 가열에 의해서, 그대로 봉지재를 열경화시켜, 피복 공정과 열경화 공정을 동시에 실시해도 좋다.In addition, the covering process and the heat-curing process may be performed separately, but when the sealing material is heated in the covering process, the sealing material may be heat-cured as is by the heating, and the covering process and the heat-curing process may be performed simultaneously.

본 공정에서는, 봉지재의 열경화 처리와 동시에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜, 경화 수지막을 형성한다.In this process, simultaneously with the heat curing treatment of the encapsulating material, the thermosetting resin layer (Z) is also heat cured to form a cured resin film.

본 발명의 제조 방법에서는, 도 4(b)에 나타낸 바와 같이, 봉지재(70)로 봉지된 봉지 대상물(60) 측에 열경화성 수지층(Z)이 설치된 상태로, 열경화 처리를 행한다.In the manufacturing method of the present invention, as shown in Fig. 4(b), a thermosetting resin layer (Z) is installed on the side of a bagging object (60) sealed with a bagging material (70), and a thermosetting treatment is performed.

열경화성 수지층(Z)이 설치되어 있기 때문에, 얻어지는 경화 봉지체의 2개의 표면간의 수축 응력의 차이를 작게 할 수 있어 경화 봉지체에 생기는 휘어짐이 효과적으로 억제할 수 있는 것으로 생각된다.Since the thermosetting resin layer (Z) is installed, it is thought that the difference in shrinkage stress between the two surfaces of the resulting cured bag can be reduced, so that warping occurring in the cured bag can be effectively suppressed.

<공정(iii)><Process (iii)>

공정(iii)은, 상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻는 공정이다.Process (iii) is a process of obtaining a cured encapsulated body having a cured resin film by separating the expandable particles from the interface P through a treatment that expands them.

도 4(c)는, 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리한 상태를 나타내고 있다.Figure 4(c) shows a state in which the expandable particles are separated from the interface P by a process for expanding them.

도 4(c)에 나타낸 바와 같이, 계면 P에서 분리시킴으로써, 봉지 대상물(60)이 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체(80)과 열경화성 수지층(Z)이 열경화되어 이루어지는 경화 수지막(Z')을 가지는, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체(100)을 얻을 수 있다.As shown in Fig. 4(c), by separating at the interface P, a cured encapsulation body (80) in which a sealing target (60) is encapsulated and a cured resin film (Z') in which a thermosetting resin layer (Z) is thermosetted can be obtained, thereby obtaining a cured encapsulation body (100) having a cured resin film.

또한 경화 수지막(Z')의 존재는, 경화 봉지체에 생기는 휘어짐이 효과적으로 억제할 수 있는 기능을 가짐과 동시에, 봉지 대상물을 보호해, 봉지 대상물의 신뢰성의 향상에 기여한다.In addition, the presence of the cured resin film (Z') has the function of effectively suppressing warping occurring in the cured bag, while protecting the bagged object, thereby contributing to improving the reliability of the bagged object.

공정(iii)에서의 「팽창시키는 처리」는, 사용하고 있는 팽창성 입자의 종류에 따라 실시되는 것이다.The “expanding treatment” in process (iii) is performed depending on the type of expandable particles being used.

예를 들면, 열팽창성 입자를 이용하고 있는 경우, 열 팽창개시온도(t) 이상으로의 가열에 의해서, 상기 열팽창성 입자를 팽창시킴으로써, 경화 수지막 형성용 시트(II) 측의 점착 시트(I)의 표면에 요철이 생긴다. 그 결과, 계면 P에서 약한 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있다.For example, when using thermally expandable particles, by heating to a temperature higher than the thermal expansion initiation temperature (t), the thermally expandable particles are expanded, thereby creating unevenness on the surface of the adhesive sheet (I) on the sheet (II) side for forming a cured resin film. As a result, they can be easily separated in one go with a weak force at the interface P.

열팽창성 입자를 팽창시킬 때의 「팽창개시온도(t) 이상의 온도」로는, 「팽창개시온도(t)+10℃」이상 「팽창개시온도(t)+60℃」이하인 것이 바람직하고, 「팽창개시온도(t)+15℃」이상 「팽창개시온도(t)+40℃」이하인 것이 보다 바람직하다.When expanding the thermally expandable particles, the “temperature higher than the expansion initiation temperature (t)” is preferably higher than “expansion initiation temperature (t) + 10°C” and lower than “expansion initiation temperature (t) + 60°C,” and more preferably higher than “expansion initiation temperature (t) + 15°C” and lower than “expansion initiation temperature (t) + 40°C.”

또한 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 분리시키기 쉽게 하는 관점에서, 가열시의 열원은, 지지체 측에 설치되는 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of making it easy to separate at the interface P between the adhesive sheet (I) and the sheet for forming the cured resin film (II), it is preferable that the heat source during heating be installed on the support side.

이와 같이 하여 얻어진, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체는, 이 후, 경화 봉지체를 반도체 칩의 회로면이 노출할 때까지 연삭하고, 회로면에 대해서 재배선을 행하거나 외부 전극 패드를 형성해, 외부 전극 패드와 외부 단자 전극을 접속시키는 등의 공정을 거쳐도 좋다.The cured encapsulation body having the cured resin film thus obtained may then undergo a process such as grinding the cured encapsulation body until the circuit surface of the semiconductor chip is exposed, performing rewiring on the circuit surface, forming an external electrode pad, and connecting the external electrode pad and the external terminal electrode.

또한, 경화 봉지체에 외부 단자 전극이 접속된 후, 개편화시켜, 반도체 장치를 제조할 수도 있다.In addition, after an external terminal electrode is connected to the hardened bag body, it can be separated to manufacture a semiconductor device.

실시예Example

본 발명에서, 이하의 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한 이하의 제조예 및 실시예에서의 물성치는, 이하의 방법에 따라 측정한 값이다.In the present invention, the following examples will be described in detail, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, the physical properties in the following manufacturing examples and examples are values measured according to the following methods.

<질량 평균 분자량(Mw)><Mass average molecular weight (Mw)>

겔 침투 크로마토 그래프 장치(TOSOH CORPORATION 제, 제품명 「HLC-8020」)를 이용하고, 하기의 조건 하에서 측정하고, 표준 폴리스티렌 환산에서 측정한 값을 이용하였다.A gel permeation chromatograph (TOSOH CORPORATION, product name “HLC-8020”) was used to measure under the following conditions, and the values measured in standard polystyrene conversion were used.

(측정 조건)(Measurement conditions)

·컬럼:「TSK guard column HXL-L」 「TSK gel G2500HXL」 「TSK gel G2000HXL」 「TSK gel G1000HXL」(모두 TOSOH CORPORATION 제)을 순차 연결한 것·Column: 「TSK guard column HXL-L」 「TSK gel G2500HXL」 「TSK gel G2000HXL」 「TSK gel G1000HXL」 (all made by TOSOH CORPORATION) connected in sequence

·컬럼 온도:40℃·Column temperature: 40℃

·전개 용매:테트라히드로푸란·Developing solvent: Tetrahydrofuran

·유속:1.0mL/min·Flow rate: 1.0mL/min

<각 층의 두께의 측정><Measurement of thickness of each layer>

주식회사 Teclock 제의 정압두께 측정기 (제품번호:「PG-02J」, 표준 규격:JIS K6783, Z1702, Z1709에 준거)를 이용하여 측정하였다.Measurement was made using a static pressure thickness gauge manufactured by Teclock Co., Ltd. (Product number: “PG-02J”, standard specifications: compliant with JIS K6783, Z1702, Z1709).

<팽창성 기재층(Y1)의 저장 탄성률 E'><Storage elastic modulus E' of the intumescent substrate layer (Y1)>

형성한 팽창성 기재층(Y1)을, 종 5 mm×횡 30 mm×두께 200㎛의 크기로 하고, 박리재를 제거한 것을 시험 샘플로 하였다.The formed expandable substrate layer (Y1) was made into a test sample with a size of 5 mm in length × 30 mm in width × 200 ㎛ in thickness, and the release agent was removed.

동적점탄성 측정 장치(TA Instruments 사 제, 제품명 「DMAQ800」)를 이용하고, 시험 개시 온도 0℃, 시험 종료 온도 300℃, 승온 속도 3℃/분, 진동수 1 Hz, 진폭 20㎛의 조건에서, 소정의 온도에서의, 상기 시험 샘플의 저장 탄성률 E'를 측정하였다.Using a dynamic viscoelasticity measuring device (TA Instruments, product name “DMAQ800”), the storage elastic modulus E’ of the test sample at a specified temperature was measured under the conditions of a test start temperature of 0°C, a test end temperature of 300°C, a heating rate of 3°C/min, a frequency of 1 Hz, and an amplitude of 20 μm.

<점착제층(X1) 및 (X2)의 저장 전단 탄성률 G'><Storage shear modulus G' of adhesive layers (X1) and (X2)>

형성한 점착제층(X1) 및 (X2)을, 직경 8 mm의 원형으로 절단한 것을, 박리재를 제거해, 적층하여, 두께 3 mm로 한 것을 시험 샘플로 하였다.The formed adhesive layers (X1) and (X2) were cut into circles with a diameter of 8 mm, the release agent was removed, and the layers were laminated to a thickness of 3 mm to serve as test samples.

점탄성 측정 장치(Anton Paar 사 제, 장치명 「MCR300」)을 이용하여, 시험 개시 온도 0℃, 시험 종료 온도 300℃, 승온 속도 3℃/분, 진동수 1 Hz의 조건에서, 비틀림 전단법에 따라서, 소정의 온도에서의, 시험 샘플의 저장 전단 탄성률 G'를 측정하였다.Using a viscoelasticity measuring device (Anton Paar, device name: "MCR300"), the storage shear modulus G' of the test sample at a specified temperature was measured according to the torsional shear method under the conditions of a test start temperature of 0°C, a test end temperature of 300°C, a heating rate of 3°C/min, and a frequency of 1 Hz.

<열경화성 수지층(Z)의 열경화 후의 경화 수지막의 저장 탄성률 E'><Storage elastic modulus E' of the cured resin film after heat curing of the thermosetting resin layer (Z)>

열경화성 수지층(Z)을 두께 200㎛가 되도록 적층한 후, 대기 분위기 하에서 오븐 내에 넣고 130℃에서, 2시간 가열하고, 두께 200㎛의 열경화성 수지층(Z)을 열경화시켜, 경화 수지막으로 하였다.After laminating the thermosetting resin layer (Z) to a thickness of 200 μm, the layer was placed in an oven under an air atmosphere and heated at 130°C for 2 hours to heat the 200 μm thick thermosetting resin layer (Z) to form a cured resin film.

동적점탄성 측정 장치(TA Instruments 사 제, 제품명 「DMAQ800」)를 이용하고, 시험 개시 온도 0℃, 시험 종료 온도 300℃, 승온 속도 3℃/분, 진동수 11 Hz, 진폭 20㎛의 조건에서, 23℃에서 형성한 경화 수지막의 저장 탄성률 E'를 측정하였다.Using a dynamic viscoelasticity measuring device (TA Instruments, product name “DMAQ800”), the storage elastic modulus E’ of the cured resin film formed at 23°C was measured under the conditions of a test start temperature of 0°C, a test end temperature of 300°C, a heating rate of 3°C/min, a frequency of 11 Hz, and an amplitude of 20 μm.

<프로브 택 값><Probe Tack Value>

측정 대상이 되는 기재를 한 변 10 mm의 정방형으로 절단한 후, 23℃, 50%RH(상대습도)의 환경 하에서 24시간 정치한 것을 시험 샘플로 하였다.The material to be measured was cut into a square with a side size of 10 mm, and then left to stand for 24 hours in an environment of 23°C and 50% RH (relative humidity), which was used as a test sample.

23℃, 50%RH(상대습도)의 환경 하에서, 프로브 택 테스터 (TESTER SANGYO CO,. LTD. 제, 제품명 「TE-6001」)를 이용하고, 시험 샘플의 표면에서의 프로브 택 값을, JIS Z0237:1991에 준거해 측정하였다.In an environment of 23℃ and 50%RH (relative humidity), a probe tack tester (TESTER SANGYO CO,. LTD., product name “TE-6001”) was used to measure the probe tack value on the surface of the test sample in accordance with JIS Z0237: 1991.

구체적으로는, 직경 5 mm의 스텐레스 강철 제품의 프로브를, 1초간, 접촉하중 0.98N/㎠로 시험 샘플의 표면에 접촉시킨 후, 상기 프로브를 10 mm/초의 속도로, 시험 샘플의 표면에서 떼어 내는데 필요한 힘을 측정하고, 얻어진 값을, 그 시험 샘플의 프로브 택 값로 하였다.Specifically, a probe of a stainless steel product having a diameter of 5 mm was brought into contact with the surface of a test sample for 1 second at a contact load of 0.98 N/cm2, and then the force required to remove the probe from the surface of the test sample at a speed of 10 mm/sec was measured, and the obtained value was taken as the probe tack value of the test sample.

<점착력의 측정><Measurement of adhesive strength>

박리 필름 상에 형성한 점착제층 또는 열경화성 수지층(Z)의 표면에, 두께 50㎛의 PET 필름(TOYOBO CO., LTD. 제, 제품명 「Cosmo Shine A4100」)을 적층하였다.A PET film (manufactured by TOYOBO CO., LTD., product name “Cosmo Shine A4100”) having a thickness of 50 ㎛ was laminated on the surface of an adhesive layer or a thermosetting resin layer (Z) formed on a release film.

그리고, 박리 필름을 제거하고, 표출한 점착제층 또는 열경화성 수지층(Z)의 표면을, 피착체인 스텐레스 강판(SUS304 360번 연마)에 첩부하고, 23℃, 50%RH(상대습도)의 환경 하에서, 24시간 정치한 후, 같은 환경 하에서, JIS Z0237:2000에 기초해, 180°박리법에 따라, 인장 속도 300 mm/분으로, 23℃에서의 점착력을 측정하였다.Then, the peeling film was removed, and the surface of the exposed adhesive layer or thermosetting resin layer (Z) was attached to a stainless steel plate (SUS304, No. 360 polished) as an adherend, and after leaving it in an environment of 23°C and 50%RH (relative humidity) for 24 hours, the adhesive strength at 23°C was measured at a tensile speed of 300 mm/min according to the 180° peeling method based on JIS Z0237:2000 in the same environment.

제조예 1(우레탄 프리폴리머의 합성)Manufacturing Example 1 (Synthesis of urethane prepolymer)

질소 분위기 하의 반응 용기 내에, 질량 평균 분자량 1,000의 폴리카보네이트 디올 100 질량부(고형분비)에 대해서, 이소포론 디이소시아네이트를, 폴리카보네이트 디올의 수산기와 이소포론 디이소시아네이트의 이소시아네이트기의 당량비가 1/1이 되도록 배합하고, 톨루엔 160 질량부를 더 가하고, 질소 분위기 하에서, 교반하면서, 이소시아네이트기 농도가 이론량에 도달할 때까지, 80℃에서 6시간 이상 반응시켰다.In a reaction vessel under a nitrogen atmosphere, 100 parts by mass (solid content ratio) of polycarbonate diol having a mass average molecular weight of 1,000 was mixed with isophorone diisocyanate such that the equivalent ratio of the hydroxyl group of the polycarbonate diol to the isocyanate group of isophorone diisocyanate was 1/1, 160 parts by mass of toluene was further added, and under a nitrogen atmosphere, with stirring, the mixture was reacted at 80°C for 6 hours or more until the isocyanate group concentration reached the theoretical amount.

이어서, 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트(2-HEMA) 1.44 질량부(고형분비)를 톨루엔 30 질량부에 희석한 용액을 첨가하고, 양말단의 이소시아네이트기가 소멸할 때까지, 80℃에서 6시간 더 반응시켜 질량 평균 분자량 2.9만의 우레탄 프리폴리머를 얻었다.Next, a solution of 1.44 parts by mass (solid content ratio) of 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA) diluted with 30 parts by mass of toluene was added, and the mixture was reacted at 80°C for an additional 6 hours until the isocyanate groups at both ends disappeared, thereby obtaining a urethane prepolymer having a mass average molecular weight of 29,000.

제조예 2(아크릴 우레탄계 수지의 합성)Manufacturing Example 2 (Synthesis of acrylic urethane resin)

질소 분위기 하의 반응 용기 내에, 제조예 1에서 얻은 우레탄 프리폴리머 100 질량부(고형분비), 메틸 메타크릴레이트(MMA) 117 질량부(고형분비), 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트(2-HEMA) 5.1 질량부(고형분비), 1-티오글리세롤 1.1 질량부(고형분비), 및 톨루엔 50 질량부를 가해 교반하면서, 105℃까지 승온하였다.In a reaction vessel under a nitrogen atmosphere, 100 parts by mass (solid content) of the urethane prepolymer obtained in Manufacturing Example 1, 117 parts by mass (solid content) of methyl methacrylate (MMA), 5.1 parts by mass (solid content) of 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA), 1.1 parts by mass (solid content) of 1-thioglycerol, and 50 parts by mass of toluene were added, stirred, and the temperature was increased to 105°C.

그리고, 반응 용기 내에, 라디칼 개시제(Japan Finechem Inc. 제, 제품명 「ABN-E」) 2.2 질량부(고형분비)를 톨루엔 210 질량부로 더 희석한 용액을, 105℃로 유지한 채로 4시간에 걸쳐 적하하였다.Then, in the reaction vessel, a solution of 2.2 parts by mass (solid content ratio) of a radical initiator (product name: "ABN-E" manufactured by Japan Finechem Inc.) diluted with 210 parts by mass of toluene was added dropwise over 4 hours while maintaining the temperature at 105°C.

적하 종료 후, 105℃에서 6시간 반응시켜, 질량 평균 분자량 10.5만의 아크릴 우레탄계 수지의 용액을 얻었다.After completion of loading, the reaction was performed at 105°C for 6 hours to obtain a solution of an acrylic urethane resin having a mass average molecular weight of 105,000.

제조예 3(열경화성 조성물의 조제)Manufacturing Example 3 (Preparation of thermosetting composition)

하기에 나타내는 종류 및 배합량(모두 「유효 성분비」)의 각 성분을 배합하고, 메틸 에틸 케톤으로 더 희석하고, 균일하게 교반하여 고형분 농도(유효 성분 농도) 61 질량%의 경화성 조성물의 용액을 조제하였다.Each component of the type and mixing amount shown below (all “effective ingredient ratio”) was mixed, further diluted with methyl ethyl ketone, and stirred uniformly to prepare a solution of a curable composition having a solid content concentration (effective ingredient concentration) of 61 mass%.

·아크릴계 중합체:배합량=26.07 질량부·Acrylic polymer: Blending amount = 26.07 parts by mass

n-부틸 아크릴레이트 10 질량부, 메틸 아크릴레이트 70 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 5 질량부, 및 2-히드록시 에틸 아크릴레이트 15 질량부를 공중합하여 이루어지는 아크릴계 중합체(질량 평균 분자량:40만, 유리 전이 온도:-1℃), 상기 성분(A1)에 상당.An acrylic polymer (mass average molecular weight: 400,000, glass transition temperature: -1°C) obtained by copolymerizing 10 parts by mass of n-butyl acrylate, 70 parts by mass of methyl acrylate, 5 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, equivalent to the above component (A1).

·에폭시 화합물(1):배합량=10.4 질량부·Epoxy compound (1): Mixing amount = 10.4 parts by mass

비스페놀 A형 에폭시 수지(Mitsubishi Chemical Corporation 제, 제품명 「jER828」, 에폭시 당량=184 ~ 194 g/eq), 상기 성분(B1)에 상당.Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "jER828", epoxy equivalent = 184 to 194 g/eq), equivalent to the above component (B1).

·에폭시 화합물(2):배합량=5.2 질량부·Epoxy compound (2): Mixing amount = 5.2 parts by mass

디시클로펜타디엔형 에폭시 수지(DIC 주식회사 제, 제품명 「EPICLON HP-7200 HH」, 에폭시 당량=255 ~ 260 g/eq), 상기 성분(B1)에 상당.Dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, product name “EPICLON HP-7200 HH”, epoxy equivalent = 255 to 260 g/eq), equivalent to the above component (B1).

·에폭시 화합물(3):배합량=1.7 질량부·Epoxy compound (3): Mixing amount = 1.7 parts by mass

비스페놀 A형 에폭시 수지(Mitsubishi Chemical Corporation 제, 제품명 「jER1055」, 에폭시 당량=800 ~ 900 g/eq), 상기 성분(B1)에 상당.Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "jER1055", epoxy equivalent = 800 to 900 g/eq), equivalent to the above component (B1).

·열경화제:배합량=0.42 질량부·Thermosetting agent: Mixing amount = 0.42 parts by mass

디시안디아미드(ADEKA 사 제, 제품명 「ADEKA HARDNA EH-3636 AS」, 활성 수소량=21 g/eq), 상기 성분(B2)에 상당.Dicyandiamide (manufactured by ADEKA, product name “ADEKA HARDNA EH-3636 AS”, active hydrogen content = 21 g/eq), equivalent to the above component (B2).

·경화촉진제:배합량=0.42 질량부·Curing accelerator: Mixing amount = 0.42 parts by mass

2-페닐-4, 5-디히드록시 메틸 이미다졸(SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION 제, 제품명 「Curezol 2 PHZ」), 상기 성분(B3)에 상당.2-Phenyl-4,5-dihydroxymethyl imidazole (manufactured by SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION, product name “Curezol 2 PHZ”), equivalent to the above ingredient (B3).

·착색제:배합량=0.20 질량부·Colorant: Mixing amount = 0.20 parts by mass

카본 블랙(Mitsubishi Chemical Corporation 제, 제품명 「#MA650」, 평균 입자경=28 nm), 상기 성분(C)에 상당.Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name “#MA650”, average particle size = 28 nm), equivalent to the above component (C).

·실란 커플링제:배합량=0.09 질량부·Silane coupling agent: Mixing amount = 0.09 parts by mass

3-글리시독시프로필트리메톡시실란(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제, 제품명 「KBM403」), 분자량=236.64, 상기 성분(D)에 상당.3-Glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name “KBM403”), molecular weight = 236.64, equivalent to the above component (D).

·무기 충전재:배합량=55.5 질량부·Weapon filler: Mixing amount = 55.5 parts by mass

실리카 필러(Admatechs 사 제, 제품명 「SC2050MA」, 평균 입자경=0.5㎛), 상기 성분(E)에 상당.Silica filler (manufactured by Admatechs, product name “SC2050MA”, average particle size = 0.5 μm), equivalent to the above component (E).

이하의 실시예에서의 각 층의 형성에서 사용한 점착성 수지, 첨가제, 열팽창성 입자, 및 박리재의 상세는 이하와 같다.Details of the adhesive resin, additives, heat-expandable particles, and release agents used in the formation of each layer in the examples below are as follows.

<점착성 수지><Adhesive Resin>

·아크릴계 공중합체(i):2-에틸 헥실 아크릴레이트(2 EHA)/2-히드록시 에틸 아크릴레이트(HEA)=80.0/20.0(질량비)로 이루어지는 원료 모노머로부터 유래하는 구성 단위를 가지는, Mw60만의 아크릴계 공중합체.·Acrylic copolymer (i): An acrylic copolymer having an Mw of only 60, having a constituent unit derived from a raw material monomer consisting of 2-ethylhexyl acrylate (2 EHA)/2-hydroxyethyl acrylate (HEA) = 80.0/20.0 (mass ratio).

·아크릴계 공중합체(ii):n-부틸 아크릴레이트(BA)/메틸 메타크릴레이트(MMA)/2-히드록시 에틸 아크릴레이트(HEA)/아크릴산=86.0/8.0/5.0/1.0(질량비)로 이루어지는 원료 모노머로부터 유래하는 구성 단위를 가지는, Mw 60만의 아크릴계 공중합체.·Acrylic copolymer (ii): An acrylic copolymer having an Mw of 600,000, having a constituent unit derived from a raw material monomer consisting of n-butyl acrylate (BA)/methyl methacrylate (MMA)/2-hydroxyethyl acrylate (HEA)/acrylic acid = 86.0/8.0/5.0/1.0 (mass ratio).

<첨가제><Additives>

·이소시아네이트 가교제(i):TOSOH CORPORATION 제, 제품명 「Coronate L」, 고형분 농도:75 질량%.·Isocyanate crosslinking agent (i): TOSOH CORPORATION, product name “Coronate L”, solid content concentration: 75 mass%.

<열팽창성 입자><Thermal Expansion Particles>

·열팽창성 입자(i):KUREHA CORPORATION, 제품명 「S2640」, 팽창개시온도(t)=208℃, 평균 입자경(D50)=24㎛, 90% 입자경(D90)=49㎛.·Thermal expandable particles (i): KUREHA CORPORATION, product name "S2640", expansion start temperature (t) = 208℃, average particle diameter (D 50 ) = 24㎛, 90% particle diameter (D 90 ) = 49㎛.

<박리재><Park Li-jae>

·중박리 필름:LINTEC Corporation 제, 제품명 「SP-PET382150」, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름의 한 면에, 실리콘계 박리제로 형성된 박리제층을 설치한 것, 두께:38㎛.·Heavy-duty release film: Manufactured by LINTEC Corporation, product name "SP-PET382150", a release agent layer formed with a silicone-based release agent is installed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film, thickness: 38 μm.

·경박리 필름:LINTEC Corporation 제, 제품명 「SP-PET381031」, PET 필름의 한 면에, 실리콘계 박리제로 형성된 박리제층을 설치한 것, 두께:38㎛.·Light release film: Manufactured by LINTEC Corporation, product name "SP-PET381031", a release agent layer formed with a silicone-based release agent is installed on one side of the PET film, thickness: 38㎛.

실시예 1Example 1

도 2(b)에 나타내는 점착성 적층체(2b)에서, 점착 시트(I)의 제2점착제층(X2), 및 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z) 상에, 더욱 박리재를 적층한 구성을 가지는 점착성 적층체를, 이하의 순서대로 제작하였다.In the adhesive laminate (2b) shown in Fig. 2(b), an adhesive laminate having a configuration in which a release agent is further laminated on the second adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (I) and the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film was produced in the following order.

[1]점착 시트(I)의 제작[1] Production of adhesive sheet (I)

(1-1) 제1점착제층(X1)의 형성(1-1) Formation of the first adhesive layer (X1)

점착성 수지인, 상기 아크릴계 공중합체(i)의 고형분 100 질량부에, 상기 이소시아네이트계 가교제(i) 5.0 질량부(고형분비)를 배합하고, 톨루엔으로 희석하고, 균일하게 교반하여 고형분 농도(유효 성분 농도) 25 질량%의 점착제 조성물을 조제하였다.To 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (i), which is an adhesive resin, 5.0 parts by mass (solid content ratio) of the isocyanate crosslinking agent (i) was mixed, diluted with toluene, and stirred uniformly to prepare an adhesive composition having a solid content concentration (effective ingredient concentration) of 25% by mass.

그리고, 상기 중박리 필름의 박리제층의 표면에, 상기 점착제 조성물을 도포해 도막을 형성해, 상기 도막을 100℃에서 60초간 건조하여 두께 5㎛의 비열팽창성 점착제층인 제1점착제층(X1)을 형성하였다.Then, the adhesive composition was applied to the surface of the release agent layer of the above-mentioned heavy-duty film to form a coating film, and the coating film was dried at 100° C. for 60 seconds to form a first adhesive layer (X1) which is a non-thermally expandable adhesive layer having a thickness of 5 μm.

또한 23℃에서 제1점착제층(X1)의 저장 전단 탄성률 G'(23)은, 2.5×105 Pa이었다.Additionally, the storage shear modulus G'(23) of the first adhesive layer (X1) at 23°C was 2.5×10 5 Pa.

또한, 상기 방법에 기초해 측정한, 제1점착제층(X1)의 점착력은, 0.3N/25 mm이었다.Additionally, the adhesive strength of the first adhesive layer (X1) measured based on the above method was 0.3 N/25 mm.

(1-2) 제2점착제층(X2)의 형성(1-2) Formation of the second adhesive layer (X2)

점착성 수지인, 상기 아크릴계 공중합체(ii)의 고형분 100 질량부에, 상기 이소시아네이트계 가교제(i) 0.8 질량부(고형분비)를 배합하고, 톨루엔으로 희석하고, 균일하게 교반하여 고형분 농도(유효 성분 농도) 25 질량%의 점착제 조성물을 조제하였다.To 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (ii), which is an adhesive resin, 0.8 parts by mass (solid content ratio) of the isocyanate crosslinking agent (i) was mixed, diluted with toluene, and stirred uniformly to prepare an adhesive composition having a solid content concentration (effective ingredient concentration) of 25% by mass.

그리고, 상기 경박리 필름의 박리제층의 표면에, 상기 점착제 조성물을 도포해 도막을 형성해, 상기 도막을 100℃에서 60초간 건조하여 두께 10㎛의 제2점착제층(X2)을 형성하였다.Then, the adhesive composition was applied to the surface of the release layer of the light-release film to form a coating film, and the coating film was dried at 100° C. for 60 seconds to form a second adhesive layer (X2) having a thickness of 10 μm.

또한 23℃에서 제2점착제층(X2)의 저장 전단 탄성률 G'(23)은, 9.0×104 Pa이었다.Additionally, the storage shear modulus G'(23) of the second adhesive layer (X2) at 23°C was 9.0×10 4 Pa.

또한, 상기 방법에 기초해 측정한, 제2점착제층(X2)의 점착력은, 1.0N/25 mm이었다.Additionally, the adhesive strength of the second adhesive layer (X2) measured based on the above method was 1.0 N/25 mm.

(1-3) 기재(Y)의 제작(1-3) Production of the device (Y)

제조예 2에서 얻은 아크릴 우레탄계 수지의 고형분 100 질량부에, 상기 이소시아네이트계 가교제(i) 6.3 질량부(고형분비), 촉매로서 디옥틸 주석 비스(2-에틸헥사노에이트) 1.4 질량부(고형분비), 및 상기 열팽창성 입자(i)를 배합하고, 톨루엔으로 희석하고, 균일하게 교반하여 고형분 농도(유효 성분 농도) 30 질량%의 수지 조성물을 조제하였다.In 100 parts by mass of the acrylic urethane resin obtained in Manufacturing Example 2, 6.3 parts by mass (solid content ratio) of the isocyanate crosslinking agent (i), 1.4 parts by mass (solid content ratio) of dioctyl tin bis(2-ethylhexanoate) as a catalyst, and the heat-expandable particles (i) were mixed, diluted with toluene, and stirred uniformly to prepare a resin composition having a solid content concentration (effective ingredient concentration) of 30% by mass.

또한 얻어진 수지 조성물 중의 유효 성분의 전량(100 질량%)에 대한, 열팽창성 입자(i)의 함유량은 20 질량%이었다.In addition, the content of the heat-expandable particles (i) was 20 mass% with respect to the total amount (100 mass%) of the effective ingredient in the obtained resin composition.

그리고, 비열팽창성 기재인, 두께 50㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름(TOYOBO CO., LTD. 제, 제품명 「Cosmo Shine A4100」, 프로브 택 값:0mN/5mmφ)의 표면 상에, 상기 수지 조성물을 도포해 도막을 형성해, 상기 도막을 100℃에서 120초간 건조하여 두께 50㎛의 팽창성 기재층(Y1)을 형성하였다.Then, the resin composition was applied onto the surface of a 50 ㎛ thick polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by TOYOBO CO., LTD., product name “Cosmo Shine A4100”, probe tack value: 0 mN/5 mmφ), which is a non-thermal expansion substrate, to form a coating film, and the coating film was dried at 100° C. for 120 seconds to form an expandable substrate layer (Y1) with a thickness of 50 ㎛.

여기서, 상기의 비열팽창성 기재인 PET 필름은, 비팽창성 기재층(Y2)에 상당한다.Here, the PET film, which is the non-expandable substrate, corresponds to the non-expandable substrate layer (Y2).

이상과 같이 하여, 두께 50㎛의 팽창성 기재층(Y1) 및 두께 50㎛의 비팽창성 기재층(Y2)으로 이루어지는 기재(Y)를 제작하였다.In this manner, a substrate (Y) comprising an expandable substrate layer (Y1) having a thickness of 50 μm and a non-expandable substrate layer (Y2) having a thickness of 50 μm was manufactured.

또한 팽창성 기재층(Y1)의 물성치를 측정하는 샘플로서 상기 경박리 필름의 박리제층의 표면에, 상기 수지 조성물을 도포해 도막을 형성해, 상기 도막을 100℃에서 120초간 건조하여 두께 50㎛의 팽창성 기재층(Y1)을 마찬가지로 형성하였다.In addition, as a sample for measuring the physical properties of the intumescent substrate layer (Y1), the resin composition was applied to the surface of the release agent layer of the light-release film to form a coating film, and the coating film was dried at 100° C. for 120 seconds to similarly form an intumescent substrate layer (Y1) having a thickness of 50 μm.

그리고, 상술의 측정 방법에 기초해, 팽창성 기재층(Y1)의 각 온도에서의 저장 탄성률 및 프로브 택 값을 측정하였다. 상기 측정 결과는, 이하와 같았다.And, based on the measurement method described above, the storage elastic modulus and probe tack value of the intumescent substrate layer (Y1) at each temperature were measured. The measurement results were as follows.

·23℃에서의 저장 탄성률 E'(23)=2.0×108Pa·Storage elastic modulus E'(23)=2.0× 108Pa at 23℃

·100℃에서의 저장 탄성률 E'(100)=3.0×106Pa·Storage elastic modulus at 100℃ E'(100)=3.0× 106 Pa

·208℃에서의 저장 탄성률 E'(208)=5.0×105Pa·Storage elastic modulus at 208℃ E'(208)=5.0×10 5 Pa

·프로브 택 값=0 mN/5mmφ·Probe tack value = 0 mN/5mmφ

(1-4) 각 층의 적층(1-4) Lamination of each layer

상기 (1-3)에서 제작한 기재(Y)의 비팽창성 기재층(Y2)과 상기 (1-2)로 형성한 제2점착제층(X2)을 첩합하는 동시에, 팽창성 기재층(Y1)과 상기 (1-1)로 형성한 제1점착제층(X1)을 첩합하였다.The non-expandable substrate layer (Y2) of the substrate (Y) manufactured in the above (1-3) and the second adhesive layer (X2) formed in the above (1-2) were bonded together, and at the same time, the expandable substrate layer (Y1) and the first adhesive layer (X1) formed in the above (1-1) were bonded together.

그리고, 경박리 필름/제2점착제층(X2)/비팽창성 기재층(Y2)/팽창성 기재층(Y1)/제1점착제층(X1)/중박리 필름을 이 순서로 적층하여 이루어지는, 점착 시트(I)를 제작하였다.And, an adhesive sheet (I) was manufactured by laminating in this order a light release film/second adhesive layer (X2)/non-expandable substrate layer (Y2)/expandable substrate layer (Y1)/first adhesive layer (X1)/heavy release film.

[2]경화 수지막 형성용 시트(II)의 제작[2] Production of sheet (II) for forming a cured resin film

상기 경박리 필름의 박리 처리면 상에, 제조예 3에서 조제한 경화성 조성물의 용액을 도포해 도막을 형성해, 상기 도막을 120℃에서 2분간 건조시켜, 두께 25㎛의 열경화성 수지층(Z)을 형성해, 열경화성 수지층(Z) 및 경박리 필름으로 이루어지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 제작하였다.A solution of the curable composition prepared in Manufacturing Example 3 was applied onto the peeling-treated surface of the above-mentioned light-release film to form a coating film, and the coating film was dried at 120°C for 2 minutes to form a thermosetting resin layer (Z) having a thickness of 25 μm, thereby producing a sheet (II) for forming a cured resin film comprising a thermosetting resin layer (Z) and a light-release film.

또한 형성한 열경화성 수지층(Z)의 점착력은 0.5N/25 mm이었다.Additionally, the adhesive strength of the formed thermosetting resin layer (Z) was 0.5 N/25 mm.

또한, 열경화성 수지층(Z)의 열경화 후의 경화 수지막의 저장 탄성률 E'는 6.5×109 Pa이었다.In addition, the storage elastic modulus E' of the cured resin film after heat curing of the thermosetting resin layer (Z) was 6.5×10 9 Pa.

[3]점착성 적층체의 제작[3] Production of adhesive laminate

상기 [1]에서 제작한 점착 시트(I)의 중박리 필름을 제거해, 표출된 제1점착제층(X1)과, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표출되어 있는 열경화성 수지층(Z)의 표면을 첩합해 점착성 적층체를 얻었다.The release film of the adhesive sheet (I) manufactured in the above [1] was removed, and the first adhesive layer (X1) that was exposed and the surface of the thermosetting resin layer (Z) that was exposed of the sheet (II) for forming a cured resin film were bonded together to obtain an adhesive laminate.

상기 점착성 적층체에 대해서, 팽창 처리인 가열 처리의 전후 각각에서는, 점착 시트(I)의 제1점착제층(X1)과 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 분리할 때의 박리력(F0), (F1)를 하기 방법에 기초해 측정하였다.For the above-mentioned adhesive laminate, before and after the heat treatment, which is an expansion treatment, the peeling force (F 0 ) and (F 1 ) at the interface P between the first adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film were measured based on the following method.

그 결과, 가열 처리 전의 계면 P에서 분리할 때의 박리력(F0)=200 mN/25 mm, 가열 처리 후의 계면 P에서 분리할 때의 박리력(F1)=0 mN/25 mm가 되어, 박리력(F1)와 박리력(F0)의 비〔(F1)/(F0)〕는 0이었다.As a result, the peeling force (F 0 ) when separating from the interface P before heat treatment = 200 mN/25 mm, and the peeling force (F 1 ) when separating from the interface P after heat treatment = 0 mN/25 mm, so the ratio of the peeling force (F 1 ) and the peeling force (F 0 ) [(F 1 )/(F 0 )] was 0.

<박리력(F0)의 측정><Measurement of peeling force (F 0 )>

제작한 점착성 적층체를 23℃, 50%RH(상대습도)의 환경 하에서, 24시간 정치한 후, 점착성 적층체의 점착 시트(I) 측의 경박리 필름을 제거해, 표출된 제2점착제층(X2)을 스텐레스 판(SUS304, 360번 연마)에 첩부했다.After the manufactured adhesive laminate was left to stand for 24 hours in an environment of 23°C and 50% RH (relative humidity), the release film on the adhesive sheet (I) side of the adhesive laminate was removed, and the exposed second adhesive layer (X2) was attached to a stainless steel plate (SUS304, polished 360 times).

이어서, 점착성 적층체가 첩부된 스텐레스 판의 단부를, 만능 인장 시험기 (ORIENTEC Co.,LTD. 제, 제품명 「텐시론 UTM-4-100」)의 하부 척에 고정하였다.Next, the end of the stainless steel plate to which the adhesive laminate was attached was fixed to the lower chuck of a universal tensile testing machine (product name “Tensilon UTM-4-100” manufactured by ORIENTEC Co., LTD.).

또한, 점착성 적층체의 점착 시트(I)의 제1점착제층(X1)과 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 박리하도록, 만능 인장 시험기의 상부 척으로 점착성 적층체의 경화 수지막 형성용 시트(II)를 고정하였다.In addition, the sheet (II) for forming a cured resin film of the adhesive laminate was fixed to the upper chuck of a universal tensile tester so as to peel off at the interface P between the first adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and the sheet (II) for forming a cured resin film.

그리고, 상기와 같은 환경 하에서, JIS Z0237:2000에 기초해, 180°박리법에 따라, 인장 속도 300 mm/분으로, 계면 P에서 박리한 경우에 측정된 박리력을 「박리력(F0)」이라고 하였다.And, under the above environment, based on JIS Z0237:2000, in accordance with the 180° peeling method, when peeling was performed at the interface P at a tensile speed of 300 mm/min, the measured peeling force was referred to as the “peel force (F 0 ).”

<박리력(F1)의 측정><Measurement of peeling force (F 1 )>

제작한 점착성 적층체의 점착 시트(I) 측의 경박리 필름을 제거해, 표출된 제2점착제층(X2)을 스텐레스 판(SUS304, 360번 연마)에 첩부했다.The release film on the adhesive sheet (I) side of the manufactured adhesive laminate was removed, and the exposed second adhesive layer (X2) was attached to a stainless steel plate (SUS304, polished 360 times).

그리고, 스텐레스 판 및 점착성 적층체를, 240℃에서 3분간 가열해, 점착성 적층체의 열팽창성 기재층(Y1) 중의 열팽창성 입자를 팽창시켰다.Then, the stainless steel plate and the adhesive laminate were heated at 240°C for 3 minutes to expand the thermally expandable particles in the thermally expandable base layer (Y1) of the adhesive laminate.

그 다음은, 상술의 박리력(F0)의 측정과 마찬가지로 하여, 상기 조건에서, 점착 시트(I)의 제1점착제층(X1)과 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 박리한 경우에 측정된 박리력을 「박리력(F1)」이라고 하였다.Next, similarly to the measurement of the peeling force (F 0 ) described above, the peeling force measured when peeling occurred at the interface P between the first adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film under the above conditions was referred to as the “peeling force (F 1 ).”

또한 박리력(F1)의 측정에서, 만능 인장 시험기의 상부 척으로, 점착성 적층체의 경화 수지막 형성용 시트(II)를 고정하려고 한 경우, 계면 P에서 경화 수지막 형성용 시트(II)가 완전하게 분리해 버려, 고정을 할 수 없는 경우에는, 측정을 종료해, 이 때의 박리력(F1)은 「0 mN/25 mm」라고 하였다.In addition, in the measurement of the peeling force (F 1 ), when attempting to fix the sheet (II) for forming a cured resin film of the adhesive laminate to the upper chuck of the universal tensile tester, if the sheet (II) for forming a cured resin film completely separates at the interface P and fixing is not possible, the measurement is terminated, and the peeling force (F 1 ) at this time is defined as “0 mN/25 mm”.

실시예 2Example 2

이하의 순서로 의해, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제작하였다.A cured encapsulation body having a cured resin film was manufactured in the following order.

(1) 반도체 칩의 재치(1) The ingenuity of semiconductor chips

실시예 1에서 제작한 점착성 적층체가 가지는 점착 시트(I) 측의 경박리 필름을 제거해, 표출한 점착 시트(I)의 제2점착제층(X2)의 점착 표면을 지지체(유리)와 첩부했다.The release film on the adhesive sheet (I) side of the adhesive laminate produced in Example 1 was removed, and the adhesive surface of the second adhesive layer (X2) of the exposed adhesive sheet (I) was attached to a support (glass).

그리고, 경화 수지막 형성용 시트(II) 측의 경박리 필름도 제거해, 표출한 열경화성 수지층(Z)의 표면 상에, 9개의 반도체 칩(각각의 칩 사이즈는 6.4mm×6.4 mm, 칩 두께는 200㎛(#2000))를, 각 반도체 칩의 회로면과는 반대측의 이면이 상기 표면과 접하도록, 필요한 간격으로 두고 재치하였다.Then, the light-release film on the side of the sheet (II) for forming the cured resin film was also removed, and nine semiconductor chips (each chip size was 6.4 mm × 6.4 mm, and the chip thickness was 200 ㎛ (#2000)) were placed on the surface of the exposed thermosetting resin layer (Z) at the necessary intervals so that the back surface of each semiconductor chip, opposite to the circuit surface, was in contact with the surface.

(2) 경화 봉지체의 형성(2) Formation of hardened capsules

9개의 상기 반도체 칩과 상기 반도체 칩의 적어도 주변부의 열경화성 수지층(Z)의 표면을, 봉지재인, 열경화성의 봉지 수지 필름에 의해서 피복하고, 진공 가열 가압 라미네이터 (ROHM and HAAS 사 제의 「7024 HP5」)을 이용하고, 봉지 수지 필름을 열경화시켜, 경화 봉지체를 제작하였다.The surfaces of the thermosetting resin layer (Z) of the nine semiconductor chips and at least the peripheral portions of the semiconductor chips were covered with a thermosetting encapsulating resin film, which is a sealing material, and a vacuum heating and pressure laminator ("7024 HP5" manufactured by ROHM and HAAS) was used to heat-cur the encapsulating resin film, thereby producing a cured encapsulating body.

또한 봉지 조건은, 하기이다.Also, the bagging conditions are as follows.

·예열 온도:테이블 및 다이아프램 모두 100℃·Preheating temperature: 100℃ for both table and diaphragm

·진공:60초간·Vacuum: 60 seconds

·다이나믹 프레스 모드:30초간·Dynamic press mode: 30 seconds

·스태틱 프레스 모드:10초간·Static press mode: 10 seconds

·봉지 온도:180℃×60분간·Bag temperature: 180℃×60 minutes

또한 이 봉지 수지 필름의 열경화와 함께, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)도, 상기의 환경 하에서 경화시켜, 경화 수지막으로 하였다.In addition, along with the thermal curing of the bag resin film, the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film was also cured under the above-mentioned environment to form a cured resin film.

(3) 계면 P에서의 분리(3) Separation at interface P

상기 (2)의 후, 열팽창성 입자의 팽창개시온도(208℃) 이상이 되는 240℃에서 3분간의 가열 처리를 행하였다. 그리고, 점착 시트(I)의 제1점착제층(X1)과, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 열경화하여 이루어지는 경화 수지막의 계면 P에서, 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있었다.After the above (2), a heat treatment was performed at 240°C for 3 minutes, which is higher than the expansion initiation temperature (208°C) of the heat-expandable particles. Then, the first adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) and the thermosetting resin layer (Z) of the sheet (II) for forming a cured resin film were easily and collectively separated at the interface P of the cured resin film formed by thermal curing.

계면 P에서 분리 후, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻을 수 있었다.After separation at interface P, a cured encapsulated body having a cured resin film was obtained.

또한 얻어진 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를, 실온(25℃)까지 냉각했지만, 휘어짐은 보이지 않았다.In addition, the cured encapsulated body having the obtained cured resin film was cooled to room temperature (25°C), but no warping was observed.

1a, 1b, 2a, 2b, 3 점착성 적층체
(I) 점착 시트
(X) 점착제층
 (X1) 제1점착제층
 (X2) 제2점착제층
(Y) 기재
  (Y1) 열팽창성 기재층
  (Y2) 비열팽창성 기재층
(II) 경화 수지막 형성용 시트
(Z) 열경화성 수지층
(Z') 경화 수지막
P  점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면
50  지지체
60  봉지 대상물
70  봉지재
80  경화 봉지체
100  경화 수지막을 가지는 경화 봉지체
1a, 1b, 2a, 2b, 3 adhesive laminates
(I) Adhesive sheet
(X) Adhesive layer
(X1) First adhesive layer
(X2) Second adhesive layer
(Y) Description
(Y1) Thermal expansion substrate layer
(Y2) Non-thermal expansion substrate layer
(II) Sheet for forming a cured resin film
(Z) Thermosetting resin layer
(Z') Cured resin film
Interface between P adhesive sheet (I) and sheet for forming cured resin film (II)
50 support
60 bags of objects
70 bag materials
80 hardened bag
Curing bag having 100 curing resin film

Claims (15)

기재(Y)와 점착제층(X)을 가지고, 어느 하나의 층에 팽창성 입자를 포함하는 팽창성의 점착 시트(I), 및
열경화성 수지층(Z)을 가지는 경화 수지막 형성용 시트(II)를 구비하고,
점착 시트(I)와, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 열경화성 수지층(Z)이 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체로서,
기재(Y)는, 팽창성 입자를 포함하는 팽창성 기재층(Y1)을 가지며,
상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 점착 시트(I)와 경화 수지막 형성용 시트(II)의 계면 P에서 분리되는, 점착성 적층체.
An expandable adhesive sheet (I) having a substrate (Y) and an adhesive layer (X), wherein one of the layers contains expandable particles, and
A sheet (II) for forming a cured resin film having a thermosetting resin layer (Z) is provided.
An adhesive laminate formed by directly laminating an adhesive sheet (I) and a thermosetting resin layer (Z) of a sheet (II) for forming a cured resin film,
The substrate (Y) has an expandable substrate layer (Y1) containing expandable particles,
An adhesive laminate, which is separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the sheet (II) for forming a cured resin film by a treatment for expanding the above-mentioned expandable particles.
제1항에 있어서,
상기 팽창성 입자는 열팽창성 입자인, 점착성 적층체.
In the first paragraph,
An adhesive laminate wherein the above expandable particles are heat-expandable particles.
제1항 또는 제2항에 있어서,
열경화성 수지층(Z)은 중합체 성분(A)과 열경화성 성분(B)을 포함하는 열경화성 조성물(z)로 형성된 층인, 점착성 적층체.
In paragraph 1 or 2,
An adhesive laminate, wherein the thermosetting resin layer (Z) is a layer formed of a thermosetting composition (z) containing a polymer component (A) and a thermosetting component (B).
제1항 또는 제2항에 있어서,
점착 시트(I)가 가지는 점착제층(X)은, 제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)으로 구성되고,
제1점착제층(X1)과 제2점착제층(X2)에 의해 기재(Y)가 끼워지고,
제1점착제층(X1)의 점착 표면은, 열경화성 수지층(Z)과 직접 적층한 구성을 가지는, 점착성 적층체.
In paragraph 1 or 2,
The adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) is composed of a first adhesive layer (X1) and a second adhesive layer (X2).
The substrate (Y) is sandwiched between the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2),
An adhesive laminate having an adhesive surface of a first adhesive layer (X1) that is directly laminated with a thermosetting resin layer (Z).
제1항 또는 제2항에 있어서,
점착제층(X)은, 비팽창성 점착제층인, 점착성 적층체.
In paragraph 1 or 2,
The adhesive layer (X) is an adhesive laminate that is a non-intumescent adhesive layer.
제1항 또는 제2항에 있어서,
기재(Y)는, 팽창성 기재층(Y1) 및 비팽창성 기재층(Y2)을 가지는, 점착성 적층체.
In paragraph 1 or 2,
The substrate (Y) is an adhesive laminate having an intumescent substrate layer (Y1) and a non-intumescent substrate layer (Y2).
제6항에 있어서,
팽창성 기재층(Y1)의 표면 상에 제1점착제층(X1)이 적층되고,
비팽창성 기재층(Y2)의 표면 상에 제2점착제층(X2)이 적층된 구성을 가지는, 점착성 적층체.
In Article 6,
A first adhesive layer (X1) is laminated on the surface of the inflatable substrate layer (Y1),
An adhesive laminate having a configuration in which a second adhesive layer (X2) is laminated on the surface of a non-intumescent substrate layer (Y2).
제7항에 있어서,
제1점착제층(X1) 및 제2점착제층(X2)은, 비팽창성 점착제층인, 점착성 적층체.
In Article 7,
An adhesive laminate, wherein the first adhesive layer (X1) and the second adhesive layer (X2) are non-intumescent adhesive layers.
제1항 또는 제2항에 있어서,
경화 수지막 형성용 시트(II)는, 열경화성 수지층(Z)만으로 이루어지는, 점착성 적층체.
In paragraph 1 or 2,
The sheet (II) for forming a cured resin film is an adhesive laminate composed only of a thermosetting resin layer (Z).
제1항 또는 제2항에 있어서,
경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면에 봉지 대상물을 재치하고,
상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하기 위해서 이용되는, 점착성 적층체.
In paragraph 1 or 2,
Place the bagging object on the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film,
An adhesive laminate used to form a cured encapsulation body including the encapsulation object by covering the surface of the encapsulation object and at least the peripheral portion of the encapsulation object with a encapsulation material and thermally curing the encapsulation material.
제10항에 있어서,
상기 봉지재를 열경화시킬 때에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화하여, 경화 수지막을 형성할 수 있고,
상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻기 위해서 이용되는, 점착성 적층체.
In Article 10,
When the above-mentioned encapsulating material is heat-cured, the thermosetting resin layer (Z) can also be heat-cured to form a cured resin film.
An adhesive laminate used to obtain a cured encapsulated body having a cured resin film by separating the above-mentioned expandable particles from the interface P through an expanding treatment.
제1항 또는 제2항에 있어서,
팽창성 기재층(Y1)은 아크릴 우레탄계 수지 및 올레핀계 수지로부터 선택되는 1종 이상, 및 상기 팽창성 입자를 포함하는 수지 조성물(y)로부터 형성되는 것인, 점착성 적층체.
In paragraph 1 or 2,
An adhesive laminate, wherein the expandable base layer (Y1) is formed from a resin composition (y) comprising at least one selected from an acrylic urethane resin and an olefin resin, and the expandable particles.
제1항 또는 제2항에 기재된 점착성 적층체의 사용 방법으로서,
경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면에 봉지 대상물을 재치하고,
상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하는, 점착성 적층체의 사용 방법.
A method of using the adhesive laminate described in claim 1 or claim 2,
Place the bagging object on the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film,
A method for using an adhesive laminate, comprising covering the surface of the above-mentioned bagging object and at least the periphery of the above-mentioned bagging object and a sheet (II) for forming a cured resin film with a bagging material, and thermally curing the bagging material to form a cured bagging body including the above-mentioned bagging object.
제13항에 있어서,
상기 봉지재를 경화시킬 때에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜 경화 수지막을 형성시킴과 동시에,
상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻는, 점착성 적층체의 사용 방법.
In Article 13,
When the above encapsulating material is cured, the thermosetting resin layer (Z) is also cured to form a cured resin film.
A method for using an adhesive laminate, wherein the above expandable particles are separated from the interface P by an expanding treatment, thereby obtaining a cured encapsulated body having a cured resin film.
제1항 또는 제2항에 기재된 점착성 적층체를 이용하여 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 제조하는 방법으로서, 하기 공정(i) ~ (iii)를 가지는, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체의 제조 방법.
·공정(i):상기 점착성 적층체가 가지는 점착 시트(I)의 점착제층(X)의 점착 표면과 지지체를 첩부하여, 경화 수지막 형성용 시트(II)의 표면의 일부에, 봉지 대상물을 재치하는 공정.
·공정(ii):상기 봉지 대상물과, 상기 봉지 대상물의 적어도 주변부의 경화 수지막 형성용 시트(II)의 상기 표면을 봉지재로 피복하고, 상기 봉지재를 열경화시켜, 상기 봉지 대상물을 포함하는 경화 봉지체를 형성하는 동시에, 열경화성 수지층(Z)도 열경화시켜, 경화 수지막을 형성하는 공정.
·공정(iii):상기 팽창성 입자를 팽창시키는 처리에 의해서, 계면 P에서 분리시켜, 경화 수지막을 가지는 경화 봉지체를 얻는 공정.
A method for manufacturing a cured encapsulating body having a cured resin film by using the adhesive laminate described in claim 1 or claim 2, the method comprising the following steps (i) to (iii).
·Process (i): A process of attaching the adhesive surface of the adhesive layer (X) of the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and a support to place an object to be sealed on part of the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film.
·Process (ii): A process of covering the surface of the sheet (II) for forming a cured resin film on at least the peripheral portion of the above-mentioned sealing object and the above-mentioned sealing object with a sealing material, thermally curing the sealing material to form a cured sealing body including the above-mentioned sealing object, and simultaneously thermally curing the thermosetting resin layer (Z) to form a cured resin film.
·Process (iii): A process for obtaining a cured encapsulated body having a cured resin film by separating the expandable particles from the interface P through a treatment for expanding the expandable particles.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115348997B (en) * 2020-03-25 2025-01-10 大日本印刷株式会社 Method for producing foamable adhesive sheet and article
JP7517341B2 (en) 2020-07-31 2024-07-17 東レ株式会社 Manufacturing method of laminate
JP2022107395A (en) * 2021-01-08 2022-07-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 Thermosetting resin composition and electronic component equipment
CN113320255B (en) * 2021-04-23 2023-06-02 刘显志 Polyurethane laminated composite film suitable for organic solid waste composting fermentation

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006291137A (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Nitto Denko Cs System Kk Pressure sensitive adhesive tape and method for using the same
JP2009035635A (en) * 2007-08-01 2009-02-19 Nitto Denko Corp Stain resistant heat peelable adhesive sheet
JP2012033636A (en) * 2010-07-29 2012-02-16 Nitto Denko Corp Thermal peeling sheet integrated film for semiconductor rear face, method of collecting semiconductor element, and method of manufacturing semiconductor device
WO2016076131A1 (en) * 2014-11-13 2016-05-19 Dic株式会社 Double-sided adhesive tape, article, and separation method

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5750234A (en) * 1996-06-07 1998-05-12 Avery Dennison Corporation Interior automotive laminate with thermoplastic low gloss coating
JP3594853B2 (en) 1999-11-08 2004-12-02 日東電工株式会社 Heat release adhesive sheet
JP2003264205A (en) 2002-03-08 2003-09-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of semiconductor device
JP2005255829A (en) 2004-03-11 2005-09-22 Nitto Denko Corp Heat-releasable adhesive sheet and processing method of adherend
JP3804805B2 (en) * 2004-05-17 2006-08-02 日東電工株式会社 Heat release type adhesive sheet
US7785938B2 (en) * 2006-04-28 2010-08-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd Semiconductor integrated circuit, manufacturing method thereof, and semiconductor device using semiconductor integrated circuit
JP2009152490A (en) 2007-12-21 2009-07-09 Furukawa Electric Co Ltd:The Chip protecting film
JP4939574B2 (en) * 2008-08-28 2012-05-30 日東電工株式会社 Thermosetting die bond film
JP5599157B2 (en) * 2009-04-24 2014-10-01 株式会社きもと Adhesive sheet
JP5738191B2 (en) * 2009-09-15 2015-06-17 三井化学株式会社 Surface protection film
JP2011102383A (en) 2009-10-14 2011-05-26 Nitto Denko Corp Thermosetting die-bonding film
JP5589388B2 (en) 2010-01-06 2014-09-17 住友ベークライト株式会社 Thermosetting adhesive composition and semiconductor device
CN102947930B (en) 2010-04-20 2016-08-10 日东电工株式会社 Film for flip chip type semiconductor back surface, dicing tape-integrated film for semiconductor back surface, the production method of semiconductor device and flip chip type semiconductor device
JP5681377B2 (en) * 2010-04-20 2015-03-04 日東電工株式会社 Manufacturing method of semiconductor device and flip chip type semiconductor device
JP2012184324A (en) * 2011-03-04 2012-09-27 Nitto Denko Corp Tacky adhesive sheet for fixation of thin-film substrate
WO2013011850A1 (en) * 2011-07-15 2013-01-24 日東電工株式会社 Method for manufacturing electronic component and adhesive sheet used in method for manufacturing electronic component
JP6001273B2 (en) * 2012-02-13 2016-10-05 信越化学工業株式会社 Protective film for semiconductor wafer and method for manufacturing semiconductor chip
JP5937397B2 (en) 2012-03-26 2016-06-22 株式会社巴川製紙所 Adhesive sheet for manufacturing semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP5937398B2 (en) 2012-03-26 2016-06-22 株式会社巴川製紙所 Adhesive sheet for manufacturing semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
EP2969253B1 (en) * 2013-03-15 2019-09-04 Akzo Nobel Coatings International B.V. Dry primer film composite and use thereof
CA2907767A1 (en) * 2013-03-28 2014-10-02 Mitsubishi Chemical Corporation Composition for interlayer filler of layered semiconductor device, layered semiconductor device, and process for producing layered semiconductor device
CN105482726B (en) * 2014-09-17 2019-05-07 晟碟信息科技(上海)有限公司 Dicing-tape and stripping means
TWI688633B (en) * 2014-09-22 2020-03-21 日商琳得科股份有限公司 Work fixing sheet having resin layer
WO2016125796A1 (en) * 2015-02-06 2016-08-11 旭硝子株式会社 Film, method for producing same, and method for producing semiconductor element using film
JP6471643B2 (en) * 2015-08-06 2019-02-20 Agc株式会社 Glass laminate and method for producing the same
JP2017092335A (en) * 2015-11-13 2017-05-25 日東電工株式会社 Method of manufacturing semiconductor package
JP7220135B2 (en) * 2018-11-01 2023-02-09 信越化学工業株式会社 LAMINATED PRODUCTION METHOD AND SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006291137A (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Nitto Denko Cs System Kk Pressure sensitive adhesive tape and method for using the same
JP2009035635A (en) * 2007-08-01 2009-02-19 Nitto Denko Corp Stain resistant heat peelable adhesive sheet
JP2012033636A (en) * 2010-07-29 2012-02-16 Nitto Denko Corp Thermal peeling sheet integrated film for semiconductor rear face, method of collecting semiconductor element, and method of manufacturing semiconductor device
WO2016076131A1 (en) * 2014-11-13 2016-05-19 Dic株式会社 Double-sided adhesive tape, article, and separation method

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