KR102667700B1 - Laminated films and methods for producing laminated films - Google Patents
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Abstract
보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 억제할 수 있고, 또한 수지층의 경화 불균일을 억제할 수 있는 적층 필름을 제공한다. 본 발명에 관한 적층 필름은, 기재와, 수지층과, 보호 필름을 구비하고, 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있거나, 또는 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작다.A laminated film is provided that can suppress cracking of the resin layer during peeling of the protective film and also suppress uneven curing of the resin layer. The laminated film according to the present invention is provided with a base material, a resin layer, and a protective film, and on one end side of the laminated film, the end faces of the base material and the protective film are each turned outward with respect to the end face of the resin layer. It protrudes, and on the other end side of the laminated film opposite to the one end side, the end surfaces of the base material, the resin layer, and the protective film are aligned, or the one end side and the one end side of the laminated film On both sides of the opposite end side, the end surfaces of the base material and the protective film each protrude outward with respect to the end face of the resin layer, and the base material and the end surface on the other end side are respectively protruded outward. The protruding distance of the protective film is smaller than the protruding distance between the base material and the protective film on the one end side.
Description
본 발명은 기재와, 수지층과, 보호 필름을 구비하는 적층 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 기재와, 수지층과, 보호 필름을 구비하는 적층 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated film comprising a base material, a resin layer, and a protective film. Additionally, the present invention relates to a method for producing a laminated film comprising a base material, a resin layer, and a protective film.
종래, 반도체 장치, 적층판 및 프린트 배선판 등의 전자 부품을 얻기 위해서, 여러가지 수지 조성물이 사용되고 있다. 예를 들어, 다층 프린트 배선판에서는, 내부의 층간을 절연하기 위한 절연층을 형성하거나, 표층 부분에 위치하는 절연층을 형성하거나 하기 위해서, 수지 조성물이 사용되고 있다. 상기 절연층을 형성하기 위해서, 수지층을 구비하는 적층 필름이 사용되고 있다.Conventionally, various resin compositions have been used to obtain electronic components such as semiconductor devices, laminated boards, and printed wiring boards. For example, in a multilayer printed wiring board, a resin composition is used to form an insulating layer to insulate the internal layers or to form an insulating layer located in the surface layer. In order to form the above insulating layer, a laminated film provided with a resin layer is used.
상기 적층 필름의 일례로서, 하기의 특허문헌 1에는, 지지체와, 수지 조성물층과, 보호 필름을 구비하는 보호 필름 구비 접착 시트가 개시되어 있다. 이 보호 필름 구비 접착 시트의 제조 시에는, 보호 필름 구비 접착 시트를 슬릿(절단)하는 공정이 행하여진다. 특허문헌 1의 실시예에서는, 보호 필름 구비 접착 시트의 폭 방향의 양단부가 슬릿되어 있다. 이 때문에, 특허문헌 1의 실시예에서는, 지지체와 수지 조성물층과 보호 필름의 폭 방향에 있어서의 양측의 단부면을 정렬시키고 있다.As an example of the laminated film,
기재와 수지층과 보호 필름을 구비하는 적층 필름에서는, 수지층의 사용 시에, 보호 필름이 박리된다. 또한, 보호 필름을 박리함으로써 노출된 수지층을, 금속층 등의 피착체(예를 들어, 기판과 금속인 배선 등과의 적층체)에 접착시켜서, 가열하거나 함으로써 수지층을 경화시킨다.In a laminated film including a base material, a resin layer, and a protective film, the protective film peels when the resin layer is used. Additionally, the resin layer exposed by peeling off the protective film is adhered to an adherend such as a metal layer (for example, a laminate of a substrate and metal wiring, etc.), and the resin layer is cured by heating.
특허문헌 1에 기재된 바와 같은 종래의 적층 필름에서는, 보호 필름의 박리 시에, 수지층에 갈라짐이 발생하는 경우가 있다. 또한, 상기 적층 필름의 사용 시에, 적층 필름을 가열 오븐 등으로 가열하면, 열풍에 의해 기재가 수지층으로부터 부분적으로 박리되어, 수지층에 경화 불균일이 발생하는 경우가 있다.In conventional laminated films such as those described in
본 발명의 목적은, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 억제할 수 있고, 또한 수지층의 경화 불균일을 억제할 수 있는 적층 필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a laminated film that can suppress cracking of the resin layer during peeling of the protective film and can suppress uneven curing of the resin layer.
본 발명의 넓은 국면에 따르면, 기재와, 상기 기재의 표면 상에 적층된 수지층과, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에 적층된 보호 필름을 구비하고, 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있거나, 또는 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작은, 적층 필름이 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided a substrate, a resin layer laminated on a surface of the substrate, and a protective film laminated on a surface of the resin layer opposite to the substrate side, wherein the resin layer is laminated on one end side of the laminated film. wherein the end surfaces of the base material and the protective film each protrude outward with respect to the end face of the resin layer, and on the other end side of the laminated film opposite to the end face, the base material and the The end surfaces of the resin layer and the protective film are aligned, or the base material and the protective film are aligned with the end surfaces of the resin layer on both one end side of the laminated film and the other end side opposite to the one end side. The end surfaces of each protrude outward, and the protrusion distance between the base material and the protective film on the other end side is such that the protrusion distance between the base material and the protective film on the one end side protrudes. A laminated film that is smaller than the distance is provided.
본 발명에 관한 적층 필름의 어떤 특정한 국면에서는, 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있다.In a certain aspect of the laminated film according to the present invention, on one end side of the laminated film, the end surfaces of the base material and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer, and the end surfaces of the laminated film each protrude outward. On the other end side opposite to the one end, the end surfaces of the base material, the resin layer, and the protective film are aligned.
본 발명에 관한 적층 필름의 어떤 특정한 국면에서는, 적층 필름의 상기 일단부와 상기 타단부를 연결하는 방향에 있어서, 상기 기재의 치수를 W1㎜, 상기 수지층의 치수를 W2㎜로 했을 때에, W2/W1이 0.9 이상 0.999 이하이다.In a specific aspect of the laminated film according to the present invention, in the direction connecting the one end and the other end of the laminated film, when the size of the base material is W 1 mm and the size of the resin layer is W 2 mm , W 2 /W 1 is 0.9 or more and 0.999 or less.
본 발명에 관한 적층 필름의 어떤 특정한 국면에서는, 적층 필름의 상기 일단부와 상기 타단부를 연결하는 방향에 있어서, 상기 수지층의 치수를 W2㎜, 상기 보호 필름의 치수를 W3㎜로 했을 때에, W2/W3이 0.9 이상 0.999 이하이다.In a specific aspect of the laminated film according to the present invention, in the direction connecting the one end and the other end of the laminated film, the dimension of the resin layer is W 2 mm and the dimension of the protective film is W 3 mm. At this time, W 2 /W 3 is 0.9 or more and 0.999 or less.
본 발명에 관한 적층 필름의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 수지층이, 무기 충전재와, 경화제와, 열경화성 화합물을 포함한다.In a specific aspect of the laminated film according to the present invention, the resin layer contains an inorganic filler, a curing agent, and a thermosetting compound.
본 발명에 관한 적층 필름의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 수지층 100중량% 중, 상기 무기 충전재의 함유량이 30중량% 이상이다.In a specific aspect of the laminated film according to the present invention, the content of the inorganic filler is 30% by weight or more in 100% by weight of the resin layer.
본 발명의 넓은 국면에 따르면, 상술한 적층 필름의 제조 방법이며, 기재의 표면 상에, 수지층의 일단부측의 단부면에 대하여 상기 기재의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층을 배치하는 제1 공정과, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에, 상기 수지층의 상기 일단부측의 단부면에 대하여 보호 필름의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 보호 필름을 배치하는 제2 공정을 구비하고, 상기 수지층의 상기 일단부에 대응하는 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있거나, 또는 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작은 적층 필름을 얻는, 적층 필름의 제조 방법이 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is a method for producing the above-described laminated film, wherein a resin layer is disposed on the surface of a substrate so that the end surface of the substrate protrudes outward with respect to the end surface on the one end side of the resin layer. A first step, and a step of disposing a protective film on a surface of the resin layer opposite to the substrate side so that the end surface of the protective film protrudes outward with respect to the end surface of the one end side of the resin layer. 2 steps, wherein on one end of the laminated film corresponding to the one end of the resin layer, the end faces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end face of the resin layer, In addition, on the other end side of the laminated film opposite to the one end, the end surfaces of the substrate, the resin layer, and the protective film are aligned, or the other end surface of the laminated film is opposite to the one end. On both sides of the end side, the end surfaces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer, and the substrate and the protective film protrude outward on the other end side. A method for producing a laminated film is provided, which obtains a laminated film in which the protruding distance is smaller than the protruding distance between the base material and the protective film on the one end side.
본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법의 어떤 특정한 국면에서는, 해당 적층 필름의 제조 방법은, 상기 제2 공정 후에, 상기 수지층의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면을 정렬시키거나, 또는 상기 제2 공정 후에, 상기 수지층의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리를, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작게 하는 제3 공정을 더 구비한다.In a specific aspect of the method for manufacturing a laminated film according to the present invention, the method for manufacturing a laminated film is, after the second step, on the other end side of the resin layer opposite to the one end side, the substrate and the Aligning the end surfaces of the resin layer and the protective film, or after the second step, on the other end side of the resin layer opposite to the one end side, the substrate and the protection film on the other end side. A third step is further provided to make the protruding distance of the film smaller than the protruding distance between the base material and the protective film on the one end side.
본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 제3 공정에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름을 슬릿한다.In a certain situation of the manufacturing method of the laminated film which concerns on this invention, in the said 3rd process, the said base material, the said resin layer, and the said protective film are slitted.
본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법의 어떤 특정한 국면에서는, 상기 수지층의 상기 일단부에 대응하는 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있는 적층 필름을 얻는다.In a specific aspect of the method for manufacturing a laminated film according to the present invention, on the side of one end of the laminated film corresponding to the one end of the resin layer, the end surface of the base material and the protective film is relative to the end surface of the resin layer. A laminated film is obtained in which each of these protrudes outward and the end surfaces of the substrate, the resin layer, and the protective film are aligned on the other end side opposite to the one end of the laminated film.
본 발명에 관한 적층 필름은, 기재와, 상기 기재의 표면 상에 적층된 수지층과, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에 적층된 보호 필름을 구비한다. 본 발명에 관한 적층 필름은, 이하의 (1) 또는 (2)의 구성을 구비한다. (1) 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있다. (2) 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작다. 본 발명에 관한 적층 필름에서는, 상기 구성이 구비되어 있으므로, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 억제할 수 있고, 또한 수지층의 경화 불균일을 억제할 수 있다.The laminated film according to the present invention includes a base material, a resin layer laminated on the surface of the base material, and a protective film laminated on the surface of the resin layer opposite to the base material side. The laminated film according to the present invention has the following configuration (1) or (2). (1) On the one end side of the laminated film, the end surfaces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer, and the other end of the laminated film is opposite to the one end of the laminated film. On the side, the end surfaces of the base material, the resin layer, and the protective film are aligned. (2) On both one end side of the laminated film and the other end side opposite to the one end side, the end faces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end face of the resin layer, Moreover, the protruding distance between the substrate and the protective film on the other end side is smaller than the protruding distance between the substrate and the protective film on the one end side. Since the laminated film according to the present invention has the above structure, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be suppressed, and curing unevenness of the resin layer can also be suppressed.
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 적층 필름을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 적층 필름을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 적층 필름의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a laminated film according to a first embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a cross-sectional view schematically showing a laminated film according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining an example of a method for manufacturing a laminated film according to the first embodiment of the present invention.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명에 관한 적층 필름은, 기재와, 수지층과, 보호 필름을 구비한다. 본 발명에 관한 적층 필름에서는, 기재와, 수지층과, 보호 필름이 이 순으로 적층되어 있다. 상기 수지층은 상기 기재의 표면 상에 적층되어 있다. 상기 보호 필름은, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에 적층되어 있다.The laminated film according to the present invention includes a base material, a resin layer, and a protective film. In the laminated film according to the present invention, the base material, the resin layer, and the protective film are laminated in this order. The resin layer is laminated on the surface of the substrate. The protective film is laminated on the surface of the resin layer opposite to the substrate side.
본 발명에 관한 적층 필름은, 이하의 (1) 또는 (2)의 구성을 구비한다.The laminated film according to the present invention has the following configuration (1) or (2).
(1) 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있다.(이하, 적층 필름 (1)이라고 기재하는 경우가 있다)(1) On the one end side of the laminated film, the end surfaces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer, and the other end of the laminated film is opposite to the one end of the laminated film. On the side, the end surfaces of the substrate, the resin layer, and the protective film are aligned. (Hereinafter, it may be referred to as the laminated film (1).)
(2) 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 또한 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작다.(이하, 적층 필름 (2)라고 기재하는 경우가 있다)(2) On both one end side of the laminated film and the other end side opposite to the one end side, the end faces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end face of the resin layer, In addition, the protruding distance between the base material and the protective film on the other end side is smaller than the protruding distance between the base material and the protective film on the one end side. (hereinafter referred to as laminated film (2) ) may be written)
본 발명에 관한 적층 필름에서는, 상기 구성이 구비되어 있으므로, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 억제할 수 있고, 또한 수지층의 경화 불균일을 억제할 수 있다. 그 결과, 본 발명에 관한 적층 필름을 사용하여 제조하는 다층 프린트 배선판 등의 전자 부품의 절연 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Since the laminated film according to the present invention has the above structure, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be suppressed, and curing unevenness of the resin layer can also be suppressed. As a result, the insulation reliability of electronic components such as multilayer printed wiring boards manufactured using the laminated film according to the present invention can be improved.
본 발명에 관한 적층 필름에서는, 적층 필름의 타단부측에 있어서, 기재와, 수지층과, 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있거나, 적층 필름의 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작다. 적층 필름의 일단부와 타단부의 양쪽에 있어서, 기재와, 수지층과, 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있는 경우, 즉, 종래의 적층 필름의 경우, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐이 발생하기 쉽다. 이 때문에, 종래의 적층 필름에서는, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 억제하는 것은 곤란하다. 적층 필름의 일단부와 타단부의 양쪽에 있어서, 기재와, 수지층과, 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있지 않은 경우, 수지층에 대한 기재와 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리에 따라서는, 수지층의 경화 불균일이 발생하기 쉽기 때문에, 수지층의 경화 불균일을 억제하는 것은 곤란하다.In the laminated film according to the present invention, the end surfaces of the base material, the resin layer, and the protective film are aligned on the other end side of the laminated film, or the base material and the protective film are aligned on the other end side of the laminated film. The protruding distance is smaller than the protruding distance between the base material and the protective film on one end side. When the base material, the resin layer, and the end surfaces of the protective film are aligned on both one end and the other end of the laminated film, that is, in the case of a conventional laminated film, cracking of the resin layer occurs when the protective film is peeled off. This is easy to happen. For this reason, in the conventional laminated film, it is difficult to suppress cracking of the resin layer when the protective film is peeled. When the end surfaces of the base material, the resin layer, and the protective film are not aligned on both one end and the other end of the laminated film, depending on the protruding distance of the base material and the protective film with respect to the resin layer, Since uneven curing of the resin layer easily occurs, it is difficult to suppress uneven curing of the resin layer.
본 발명에 관한 적층 필름 (1)에서는, 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있다. 본 발명에 관한 적층 필름 (1)에서는, 적층 필름의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있다. 본 발명에 관한 적층 필름 (2)에서는, 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있다. 본 발명에 관한 적층 필름 (2)에서는, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작다. 본 발명에 관한 적층 필름에서는 상기 구성이 구비되어 있으므로, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 억제할 수 있고, 또한 수지층의 경화 불균일을 억제할 수 있다. 또한, 본 발명에 관한 적층 필름에서는, 상기 구성이 구비되어 있으므로, 적층 필름의 일단부측으로부터, 보호 필름을 용이하게 박리할 수 있다.In the laminated film (1) according to the present invention, on one end side of the laminated film, the end surfaces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer. In the
보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 억제, 또한 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제하는 관점에서는, 적층 필름 (1)과 적층 필름 (2) 중, 적층 필름 (1)이 바람직하다.From the viewpoint of further suppressing cracking of the resin layer when peeling off the protective film and further suppressing uneven curing of the resin layer, among the laminated film (1) and the laminated film (2), the laminated film (1) is preferable. .
상기 적층 필름 (1)의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면을 각각 외측으로 비어져 나오게 하는 방법으로서는, 적층 필름에 있어서의 각 층의 적층 시에, 단부면을 어긋나게 하는 방법을 들 수 있다.On the one end side of the
상기 적층 필름 (2)의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면을 각각 외측으로 비어져 나오게 하는 방법으로서는, 적층 필름에 있어서의 각 층의 적층 시에, 단부면을 어긋나게 하는 방법을 들 수 있다. 적층 필름 (2)에서는, 단부면의 어긋나게 하는 거리를 조정한다.On both the one end side of the
상기 적층 필름 (1)의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면을 정렬시키는 방법으로서는, 적층 필름에 있어서의 각 층의 적층 시에, 단부면을 정렬시키는 방법, 그리고, 기재와 수지층과 보호 필름의 적층체를 슬릿하는 방법을 들 수 있다.As a method of aligning the end surfaces of the substrate, the resin layer, and the protective film on the other end side opposite to the one end of the
상기 적층 필름 (2)의 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리를, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작게 하는 방법으로서는, 이하의 방법을 들 수 있다. 적층 필름에 있어서의 각 층의 적층 시에, 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리를, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작게 하는 방법. 기재와 수지층과 보호 필름 중의 기재 및 보호 필름을 슬릿하는 방법.A method of making the overhanging distance between the base material and the protective film on the other end side of the
본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법은, 이하의 (A) 또는 (B)의 구성을 구비한다. 제조 방법 (A)는 상기 적층 필름 (1)의 제조 방법이며, 제조 방법 (B)는 상기 적층 필름 (2)의 제조 방법이다. 본 발명에 관한 적층 필름 (1)의 제조 방법은, 이하의 (A)의 구성을 구비하는 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 적층 필름 (2)의 제조 방법은, 이하의 (B)의 구성을 구비하는 것이 바람직하다.The method for producing a laminated film according to the present invention has the following configurations (A) or (B). Manufacturing method (A) is a manufacturing method of the laminated film (1), and manufacturing method (B) is a manufacturing method of the laminated film (2). The manufacturing method of the laminated film (1) according to the present invention preferably has the following configuration (A). The manufacturing method of the laminated film (2) according to the present invention preferably has the following configuration (B).
(A) 본 발명에 관한 적층 필름 (1)의 제조 방법은, 기재의 표면 상에, 수지층의 일단부측의 단부면에 대하여 상기 기재의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층을 배치하는 제1 공정을 구비한다. 본 발명에 관한 적층 필름 (1)의 제조 방법은, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에, 상기 수지층의 상기 일단부측의 단부면에 대하여 보호 필름의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 보호 필름을 배치하는 제2 공정을 구비한다. 본 발명에 관한 적층 필름 (1)의 제조 방법에서는, 상기 수지층의 상기 일단부에 대응하는 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있는 적층 필름을 얻는다. 본 발명에 관한 적층 필름 (1)의 제조 방법에서는, 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있는 적층 필름 (1)을 얻는다.(A) The manufacturing method of the laminated film (1) according to the present invention includes arranging a resin layer on the surface of a substrate so that the end surface of the substrate protrudes outward with respect to the end surface on the one end side of the resin layer. A first process is provided. The manufacturing method of the laminated film (1) according to the present invention is such that, on the surface of the resin layer opposite to the substrate side, the end face of the protective film is hollowed outward with respect to the end face of the one end side of the resin layer. A second step of arranging the protective film so that it sticks out is provided. In the method for manufacturing the laminated film (1) according to the present invention, on the side of one end of the laminated film corresponding to the one end of the resin layer, the end faces of the base material and the protective film are aligned with the end face of the resin layer. A laminated film is obtained, each protruding outward. In the method for manufacturing the laminated film (1) according to the present invention, the end surfaces of the substrate, the resin layer, and the protective film are aligned on the other end side opposite to the one end of the laminated film ( 1) gets
(B) 본 발명에 관한 적층 필름 (2)의 제조 방법은, 기재의 표면 상에, 수지층의 일단부측의 단부면에 대하여 상기 기재의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층을 배치하는 제1 공정을 구비한다. 이 제1 공정에 있어서, 기재의 표면 상에, 수지층의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽 단부면에 대하여 상기 기재의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층을 배치하는 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 적층 필름 (2)의 제조 방법은, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에, 상기 수지층의 상기 일단부측의 단부면에 대하여 보호 필름의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 보호 필름을 배치하는 제2 공정을 구비한다. 이 제2 공정에 있어서, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에, 상기 수지층의 상기 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽 단부면에 대하여 보호 필름의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 보호 필름을 배치하는 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 적층 필름 (2)의 제조 방법에서는, 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있는 적층 필름 (2)를 얻는다. 본 발명에 관한 적층 필름 (2)의 제조 방법에서는, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작은 적층 필름 (2)를 얻는다.(B) The method for producing the laminated film (2) according to the present invention includes arranging a resin layer on the surface of a substrate so that the end surface of the substrate protrudes outward with respect to the end surface on the one end side of the resin layer. A first process is provided. In this first step, a resin layer is formed on the surface of the substrate so that the end surfaces of the substrate protrude outward with respect to both end surfaces of one end of the resin layer and the other end opposite to the one end. It is desirable to place The manufacturing method of the laminated film (2) according to the present invention is such that, on the surface of the resin layer opposite to the substrate side, the end face of the protective film is hollowed outward with respect to the end face of the one end side of the resin layer. A second step of arranging the protective film so that it sticks out is provided. In this second step, on the surface of the resin layer opposite to the substrate side, the ends of the protective film are applied to both end surfaces of the resin layer on the one end side and the other end side opposite to the one end side. It is desirable to arrange the protective film so that the side surface protrudes outward. In the method for manufacturing the laminated film (2) according to the present invention, the substrate and the protective film are connected to the end surface of the resin layer on both one end side of the laminated film and the other end side opposite to the one end side. A laminated film (2) with each end surface protruding outward is obtained. In the method for manufacturing the laminated film (2) according to the present invention, the protrusion distance between the substrate and the protective film on the other end side is the protrusion distance between the substrate and the protective film on the one end side. A laminated film (2) smaller than the distance shown is obtained.
본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법 (A)는 상기 제2 공정 후에, 상기 수지층의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면을 정렬시키는 제3 공정을 더 구비하는 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법 (A)에서는, 상기 제2 공정에 있어서, 상기 수지층의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면을 정렬시켜도 된다.The manufacturing method (A) of the laminated film according to the present invention is, after the second step, on the other end side opposite to the one end of the resin layer, the end surfaces of the base material, the resin layer, and the protective film are It is desirable to further provide a third process for alignment. In the method (A) for manufacturing a laminated film according to the present invention, in the second step, at the other end of the resin layer opposite to the one end, an end of the substrate, the resin layer, and the protective film is formed. You can align the sides.
본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법 (B)는 상기 제2 공정 후에, 상기 수지층의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리를, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작게 하는 제3 공정을 더 구비하는 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 적층 필름의 제조 방법 (B)에서는, 상기 제2 공정에 있어서, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리를, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작게 해도 된다.The method (B) for producing a laminated film according to the present invention is, after the second step, on the other end side of the resin layer opposite to the one end side, the substrate and the protective film on the other end side. It is preferable to further provide a third step of making the protruding distance smaller than the protruding distance between the base material and the protective film on the one end side. In the method (B) for manufacturing a laminated film according to the present invention, in the second step, the protruding distance between the substrate and the protective film on the other end side is adjusted to the distance between the substrate and the protective film on the one end side. It may be smaller than the protruding distance of the protective film.
적층 필름 (1)의 타단부측에 있어서 단부면을 보다 한층 평탄하게 하는 관점, 적층 필름 (2)의 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리를, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 보다 한층 작게 하는 관점에서는, 이하의 슬릿을 행하는 것이 바람직하다. 상기 제3 공정에 있어서, 상기 수지층을 슬릿하는 것이 바람직하다. 상기 제3 공정에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름을 슬릿하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of further flattening the end surface on the other end side of the
본 발명에 관한 적층 필름에서는, 수지층의 사용 시에, 보호 필름은 박리된다. 보호 필름 박리 후의 상기 수지층의 표면에는 일반적으로 금속층 등의 피착체(예를 들어, 기판과 금속인 배선의 적층체 등)가 적층된다.In the laminated film according to the present invention, the protective film peels when the resin layer is used. An adherend such as a metal layer (for example, a laminate of a substrate and metal wiring, etc.) is generally laminated on the surface of the resin layer after peeling the protective film.
이하, 도면을 참조하면서, 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 적층 필름을 모식적으로 도시하는 단면도이다. 도 1은, 상기 적층 필름 (1)을 도시하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a laminated film according to a first embodiment of the present invention. Fig. 1 is a cross-sectional view showing the
적층 필름(1)은 일단부(1a)와, 일단부(1a)와는 반대의 타단부(1b)를 갖는다. 적층 필름(1)의 일단부(1a)와 타단부(1b)는 서로 대향하는 양측의 단부이다.The
적층 필름(1)은 기재(4)와, 수지층(2)과, 보호 필름(3)을 구비한다. 보호 필름(3)은 수지층(2)의 제1 표면(2a)에 적층되어 있다. 기재(4)는 수지층(2)의 제1 표면(2a)과는 반대측의 제2 표면(2b)에 적층되어 있다.The
적층 필름(1)의 일단부(1a)와 타단부(1b)를 연결하는 방향에 있어서, 기재(4)의 치수는, 수지층(2)의 치수보다도 크다. 보호 필름(3)의 치수는, 수지층(2)의 치수보다도 크다. 적층 필름(1)의 일단부(1a)와 타단부(1b)를 연결하는 방향에 있어서, 수지층(2)의 치수는, 기재(4)의 치수보다도 작다. 수지층(2)의 치수는, 보호 필름(3)의 치수보다도 작다.In the direction connecting one end 1a and the other end 1b of the
적층 필름(1)의 일단부(1a)측에 있어서, 수지층(2)의 단부면에 대하여 기재(4)와 보호 필름(3)의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있다. 적층 필름(1)의 일단부(1a)에 있어서, 기재(4)와, 수지층(2)의 단부면은 정렬되어 있지 않고, 수지층(2)과 보호 필름(3)의 단부면은 정렬되어 있지 않다. 적층 필름(1)의 일단부(1a)측의 단부면은, 수지층(2) 부분이 오목해진 오목 형상이다. 적층 필름(1)의 일단부(1a)측에 있어서, 기재(4)에 수지층(2)이 적층되어 있지 않은 부분이 존재하고, 보호 필름(3)에 수지층(2)이 적층되어 있지 않은 부분이 존재한다.On the one end 1a side of the
적층 필름(1)의 타단부(1b)측에 있어서, 기재(4)와, 수지층(2)과, 보호 필름(3)의 단부면은 정렬되어 있다.On the other end 1b side of the
도 2는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 적층 필름을 모식적으로 도시하는 단면도이다. 도 2는, 상기 적층 필름 (2)를 도시하는 단면도이다.Fig. 2 is a cross-sectional view schematically showing a laminated film according to a second embodiment of the present invention. Fig. 2 is a cross-sectional view showing the
적층 필름(1A)은 일단부(1Aa)와, 일단부(1Aa)와는 반대의 타단부(1Ab)를 갖는다. 적층 필름(1A)의 일단부(1Aa)와 타단부(1Ab)는 서로 대향하는 양측의 단부이다.The laminated film 1A has one end 1Aa and the other end 1Ab opposite to the one end 1Aa. One end 1Aa and the other end 1Ab of the laminated film 1A are opposite ends.
적층 필름(1A)은 기재(4A)와, 수지층(2A)과, 보호 필름(3A)을 구비한다. 보호 필름(3A)은 수지층(2A)의 제1 표면(2Aa)에 적층되어 있다. 기재(4A)는 수지층(2A)의 제1 표면(2Aa)과는 반대측의 제2 표면(2Ab)에 적층되어 있다.The laminated film 1A includes a base material 4A, a resin layer 2A, and a protective film 3A. The protective film 3A is laminated on the first surface 2Aa of the resin layer 2A. The base material 4A is laminated on the second surface 2Ab of the resin layer 2A opposite to the first surface 2Aa.
적층 필름(1A)의 일단부(1Aa)와 타단부(1Ab)를 연결하는 방향에 있어서, 기재(4A)의 치수는, 수지층(2A)의 치수보다도 크다. 보호 필름(3A)의 치수는, 수지층(2A)의 치수보다도 크다. 적층 필름(1A)의 일단부(1Aa)와 타단부(1Ab)를 연결하는 방향에 있어서, 수지층(2A)의 치수는, 기재(4A)의 치수보다도 작다. 수지층(2A)의 치수는, 보호 필름(3A)의 치수보다도 작다.In the direction connecting one end 1Aa and the other end 1Ab of the laminated film 1A, the size of the substrate 4A is larger than the size of the resin layer 2A. The size of the protective film 3A is larger than the size of the resin layer 2A. In the direction connecting one end 1Aa and the other end 1Ab of the laminated film 1A, the size of the resin layer 2A is smaller than the size of the substrate 4A. The size of the resin layer 2A is smaller than the size of the protective film 3A.
적층 필름(1A)의 일단부(1Aa)측에 있어서, 수지층(2A)의 단부면에 대하여 기재(4A)와 보호 필름(3A)의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있다. 적층 필름(1A)의 일단부(1Aa)에 있어서, 기재(4A)와, 수지층(2A)의 단부면은 정렬되어 있지 않고, 수지층(2A)과 보호 필름(3A)의 단부면은 정렬되어 있지 않다. 적층 필름(1A)의 일단부(1Aa)측의 단부면은, 수지층(2A) 부분이 오목해진 오목 형상이다. 적층 필름(1A)의 일단부(1Aa)측에 있어서, 기재(4A)에 수지층(2A)이 적층되어 있지 않은 부분이 존재하고, 보호 필름(3A)에 수지층(2A)이 적층되어 있지 않은 부분이 존재한다.On the one end 1Aa side of the laminated film 1A, the end surfaces of the base material 4A and the protective film 3A each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer 2A. In one end 1Aa of the laminated film 1A, the end surfaces of the base material 4A and the resin layer 2A are not aligned, and the end surfaces of the resin layer 2A and the protective film 3A are aligned. It is not done. The end surface of the laminated film 1A on the one end 1Aa side has a concave shape in which the resin layer 2A portion is concave. On the one end 1Aa side of the laminated film 1A, there is a portion where the resin layer 2A is not laminated on the substrate 4A, and the resin layer 2A is not laminated on the protective film 3A. There are parts that are not there.
적층 필름(1A)의 타단부(1Ab)측에 있어서, 수지층(2A)의 단부면에 대하여 기재(4A)와 보호 필름(3A)의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있다. 적층 필름(1A)의 타단부(1Ab)에 있어서, 기재(4A)와, 수지층(2A)의 단부면은 정렬되어 있지 않고, 수지층(2A)과 보호 필름(3A)의 단부면은 정렬되어 있지 않다. 적층 필름(1A)의 타단부(1Ab)측의 단부면은, 수지층(2A) 부분이 오목해진 오목 형상이다. 적층 필름(1A)의 타단부(1Ab)측에 있어서, 기재(4A)에 수지층(2A)이 적층되어 있지 않은 부분이 존재하고, 보호 필름(3A)에 수지층(2A)이 적층되어 있지 않은 부분이 존재한다.On the other end 1Ab side of the laminated film 1A, the end surfaces of the base material 4A and the protective film 3A each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer 2A. At the other end 1Ab of the laminated film 1A, the end surfaces of the base material 4A and the resin layer 2A are not aligned, and the end surfaces of the resin layer 2A and the protective film 3A are aligned. It is not done. The end surface of the laminated film 1A on the other end 1Ab side has a concave shape in which the resin layer 2A portion is concave. On the other end 1Ab side of the laminated film 1A, there is a portion where the resin layer 2A is not laminated on the substrate 4A, and the resin layer 2A is not laminated on the protective film 3A. There are parts that are not there.
적층 필름(1A)의 타단부(1Ab)측에 있어서의 기재(4A)와 보호 필름(3A)의 비어져 나와 있는 거리는, 일단부(1Aa)측에 있어서의 기재(4A)와 보호 필름(3A)의 비어져 나와 있는 거리보다도 작다.The protruding distance between the substrate 4A and the protective film 3A on the other end 1Ab side of the laminated film 1A is the distance between the substrate 4A and the protective film 3A on the one end 1Aa side. ) is smaller than the overhanging distance.
도 3은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 적층 필름의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면도이다. 도 3은, 상기 적층 필름의 제조 방법 (A)의 일례를 설명하기 위한 단면도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining an example of a method for manufacturing a laminated film according to the first embodiment of the present invention. Figure 3 is a cross-sectional view for explaining an example of the method (A) for manufacturing the laminated film.
도 1에 도시하는 적층 필름(1)은 예를 들어, 도 3의 (a)와, 도 3의 (b-1) 또는 도 3의 (b-2)와, 도 3의 (c)에 도시하는 각 공정을 거쳐서 얻을 수 있다. 도 3의 (a)와, 도 3의 (b-1) 또는 도 3의 (b-2)와, 도 3의 (c)에 도시하는 각 공정을 일부 변경함으로써, 도 2에 도시하는 적층 필름(1A)을 얻을 수도 있다.The
도 3의 (a)에 도시하는 바와 같이, 기재(4)의 표면 상에, 수지층(2)의 일단부측의 단부면에 대하여 기재(4)의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층(2)을 배치한다(제1 공정). 도 3의 (a)에서는, 수지층(2)의 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 단부면에 대하여 기재(4)의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층(2)을 배치하고 있다. 수지층(2)의 상기 타단부측의 단부면과 기재(4)의 단부면이 정렬되도록 수지층(2)을 배치해도 된다.As shown in Figure 3 (a), on the surface of the
수지층(2)을 배치할 때에 수지층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 기재(4)의 표면 상에 도공하고, 수지 조성물을 필름화하여, 수지층을 형성해도 된다.When disposing the
상기 수지 조성물에 의해 수지층을 형성할 때에, 수지 조성물을 건조시키는 것이 바람직하다. 건조 시의 온도는, 바람직하게는 80℃ 이상, 보다 바람직하게는 100℃ 이상, 바람직하게는 160℃ 이하, 보다 바람직하게는 140℃ 이하이다. 건조시킴으로써, 수지 조성물 중의 용제를 휘발시킬 수 있다. 수지층(2)은 B 스테이지 필름인 것이 바람직하다.When forming a resin layer using the resin composition, it is preferable to dry the resin composition. The temperature during drying is preferably 80°C or higher, more preferably 100°C or higher, preferably 160°C or lower, and more preferably 140°C or lower. By drying, the solvent in the resin composition can be volatilized. It is preferable that the
이어서, 도 3의 (b-1) 또는 도 3의 (b-2)에 도시하는 바와 같이, 수지층(2)의 기재(4)측과는 반대의 표면 상에, 수지층(2)의 상기 일단부측의 단부면에 대하여 보호 필름(3)의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 보호 필름(3)을 배치한다(제2 공정).Next, as shown in FIG. 3(b-1) or FIG. 3(b-2), on the surface opposite to the
도 3의 (b-1) 및 도 3의 (b-2)에서는 모두, 수지층(2)의 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 기재(4)와 수지층(2)과 보호 필름(3)의 단부면은 정렬되어 있지 않다. 도 3의 (b-1)에서는, 수지층(2)의 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 단부면에 대하여 보호 필름(3)의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층(2)을 배치하고 있다. 도 3의 (b-2)에서는, 수지층(2)의 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 단부면에 대하여 보호 필름(3)의 단부면이 내측으로 되도록 수지층(2)을 배치하고 있다. 제2 공정에서는, 수지층(2)의 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 기재와 수지층과 보호 필름의 단부면을 정렬시켜도 된다.In both FIG. 3(b-1) and FIG. 3(b-2), the
보호 필름의 수지층의 기재측과는 반대의 표면 상으로의 배치 방법은, 라미네이트에 의해 행하는 것이 바람직하다. 이 경우, 라미네이트 시의 온도는, 바람직하게는 70℃ 이하, 보다 바람직하게는 65℃ 이하이다. 라미네이트 시의 온도의 하한은, 특별히 한정되지 않지만, 통상, 20℃ 또는 25℃ 등이다. 또한, 라미네이트 시의 압력은, 바람직하게는 0.01MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.02MPa 이상, 바람직하게는 1.0MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.8MPa 이하이다.The method of arranging the protective film on the surface opposite to the substrate side of the resin layer is preferably carried out by lamination. In this case, the temperature during lamination is preferably 70°C or lower, more preferably 65°C or lower. The lower limit of the temperature during lamination is not particularly limited, but is usually 20°C or 25°C. Additionally, the pressure during lamination is preferably 0.01 MPa or more, more preferably 0.02 MPa or more, preferably 1.0 MPa or less, and more preferably 0.8 MPa or less.
도 3의 (b-1) 및 도 3의 (b-2)에서는, 수지층(2)의 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 기재(4)와 수지층(2)과 보호 필름(3)의 단부면은 정렬되어 있지 않다. 이 때문에, 도 3의 (c)에 도시하는 바와 같이, 수지층(2)의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 기재(4)와 수지층(2)과 보호 필름(3)의 단부면을 정렬시키는 공정을 행한다(제3 공정). 예를 들어, 도 3의 (b-1) 및 도 3의 (b-2)에 도시하는 슬릿 위치 X에서, 기재(4)와 수지층(2)과 보호 필름(3)의 적층체를 슬릿함으로써, 기재(4)와 수지층(2)과 보호 필름(3)의 단부면을 용이하게 정렬시킬 수 있다. 그 결과, 도 1에 도시하는 적층 필름(1)을 얻을 수 있다.In Figure 3 (b-1) and Figure 3 (b-2), on the other end side opposite to the one end of the
상기 적층 필름은, MD(Machine Direction) 방향과, TD(Transverse Direction) 방향을 갖는 것이 바람직하다. MD 방향은, 적층 필름의 제조 시의 적층 필름의 흐름 방향이며, 예를 들어, 길이 방향이다. TD 방향은, 적층 필름의 제조 시의 적층 필름의 흐름 방향과 직교하는 방향이며, 또한 적층 필름의 두께 방향과 직교하는 방향이다. 상기 적층 필름이, MD 방향과, TD 방향을 갖는 경우, 상기 TD 방향이 폭 방향이다. 상기 적층 필름의 상기 일단부와 상기 타단부는, 적층 필름의 폭 방향의 서로 대향하는 양측의 단부인 것이 바람직하다.The laminated film preferably has a MD (Machine Direction) direction and a TD (Transverse Direction) direction. The MD direction is the flow direction of the laminated film during production of the laminated film, for example, the longitudinal direction. The TD direction is a direction perpendicular to the flow direction of the laminated film during production of the laminated film, and is a direction orthogonal to the thickness direction of the laminated film. When the laminated film has an MD direction and a TD direction, the TD direction is the width direction. It is preferable that the one end and the other end of the laminated film are opposite ends in the width direction of the laminated film.
본 발명에 관한 적층 필름의 상기 일단부와 상기 타단부를 연결하는 방향에 있어서, 상기 기재의 치수를 W1㎜, 상기 수지층의 치수를 W2㎜, 상기 보호 필름의 치수를 W3㎜로 한다. 본 발명에 관한 적층 필름에서는, 통상, W1이 W2보다 크고, 또한 W3이 W2보다 크다. 본 발명에 관한 적층 필름은, 통상, W1>W2를 충족하고, W3>W2를 충족한다.In the direction of connecting the one end and the other end of the laminated film according to the present invention, the size of the base material is W 1 mm, the size of the resin layer is W 2 mm, and the size of the protective film is W 3 mm. do. In the laminated film according to the present invention, W 1 is usually larger than W 2 and W 3 is larger than W 2 . The laminated film according to the present invention usually satisfies W 1 >W 2 and satisfies W 3 >W 2 .
W2/W1(수지층 치수의 기재 치수에 대한 비)은 바람직하게는 0.9 이상, 보다 바람직하게는 0.92 이상, 더욱 바람직하게는 0.94 이상, 특히 바람직하게는 0.96 이상이다. W2/W1(수지층 치수의 기재 치수에 대한 비)은 바람직하게는 0.999 이하, 보다 바람직하게는 0.998 이하, 더욱 바람직하게는 0.997 이하, 특히 바람직하게는 0.996 이하이다. W2/W1이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 억제, 또한 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제할 수 있다.W 2 /W 1 (ratio of the resin layer dimension to the substrate dimension) is preferably 0.9 or more, more preferably 0.92 or more, further preferably 0.94 or more, and particularly preferably 0.96 or more. W 2 /W 1 (ratio of the resin layer dimension to the substrate dimension) is preferably 0.999 or less, more preferably 0.998 or less, further preferably 0.997 or less, and particularly preferably 0.996 or less. If W 2 /W 1 is more than the above lower limit and below the above upper limit, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be further suppressed, and curing unevenness of the resin layer can be further suppressed.
W2/W3(수지층 치수의 보호 필름 치수에 대한 비)은 바람직하게는 0.9 이상, 보다 바람직하게는 0.92 이상, 더욱 바람직하게는 0.94 이상, 특히 바람직하게는 0.96 이상이다. W2/W3(수지층 치수의 보호 필름 치수에 대한 비)은 바람직하게는 0.999 이하, 보다 바람직하게는 0.998 이하, 더욱 바람직하게는 0.997 이하, 특히 바람직하게는 0.996 이하이다. W2/W3이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 억제, 또한 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제할 수 있다.W 2 /W 3 (ratio of the resin layer dimension to the protective film dimension) is preferably 0.9 or more, more preferably 0.92 or more, further preferably 0.94 or more, and particularly preferably 0.96 or more. W 2 /W 3 (ratio of the resin layer dimension to the protective film dimension) is preferably 0.999 or less, more preferably 0.998 or less, further preferably 0.997 or less, particularly preferably 0.996 or less. If W 2 /W 3 is more than the above lower limit and below the above upper limit, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be further suppressed, and curing unevenness of the resin layer can be further suppressed.
W3/W1(보호 필름 치수의 기재 치수에 대한 비)은 바람직하게는 0.997 이상, 보다 바람직하게는 0.998 이상, 더욱 바람직하게는 0.999 이상, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다. W3/W1(보호 필름 치수의 기재 치수에 대한 비)은 바람직하게는 1.01 이하, 보다 바람직하게는 1.009 이하, 더욱 바람직하게는 1.008 이하, 특히 바람직하게는 1.007 이하이다. W3/W1이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 억제, 또한 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제할 수 있다.W 3 /W 1 (ratio of the protective film dimension to the substrate dimension) is preferably 0.997 or greater, more preferably 0.998 or greater, further preferably 0.999 or greater, and particularly preferably 1.0 or greater. W 3 /W 1 (ratio of the protective film dimension to the substrate dimension) is preferably 1.01 or less, more preferably 1.009 or less, further preferably 1.008 or less, particularly preferably 1.007 or less. If W 3 /W 1 is more than the above lower limit and below the above upper limit, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be further suppressed, and curing unevenness of the resin layer can be further suppressed.
상기 적층 필름 (1) 및 상기 적층 필름 (2)에 있어서, 일단부측에 있어서의 기재가 비어져 나와 있는 거리는, 0㎜ 초과, 바람직하게는 3㎜ 이상, 바람직하게는 15㎜ 이하, 보다 바람직하게는 10㎜ 이하이다. 상기 적층 필름 (1) 및 상기 적층 필름 (2)에 있어서, 일단부측에 있어서의 보호 필름이 비어져 나와 있는 거리는, 0㎜ 초과, 바람직하게는 3㎜ 이상, 바람직하게는 15㎜ 이하, 보다 바람직하게는 10㎜ 이하이다. 상기 비어져 나와 있는 거리가 각각 상기 상한 이하이면, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 억제, 또한 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제할 수 있다.In the above-mentioned laminated film (1) and the above-mentioned laminated film (2), the distance over which the substrate protrudes on one end side is greater than 0 mm, preferably 3 mm or more, preferably 15 mm or less, more preferably is less than 10 mm. In the laminated film (1) and the laminated film (2), the distance over which the protective film protrudes at one end is greater than 0 mm, preferably 3 mm or more, preferably 15 mm or less, more preferably Typically, it is less than 10 mm. If the overhanging distance is less than or equal to the upper limit, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be further suppressed, and curing unevenness of the resin layer can be further suppressed.
상기 적층 필름 (2)에 있어서, 타단부측에 있어서의 기재가 비어져 나와 있는 거리와, 일단부측에 있어서의 기재가 비어져 나와 있는 거리의 차의 절댓값은, 0㎜ 초과, 바람직하게는 3㎜ 이상, 보다 바람직하게는 5㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 10㎜ 이상이다. 상기 적층 필름 (2)에 있어서, 타단부측에 있어서의 보호 필름이 비어져 나와 있는 거리와, 일단부측에 있어서의 보호 필름이 비어져 나와 있는 거리의 차의 절댓값은, 0㎜ 초과, 바람직하게는 3㎜ 이상, 보다 바람직하게는 5㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 10㎜ 이상이다. 상기 차의 절댓값이 각각 상기 하한 이상이면 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 억제, 또한 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제할 수 있다.In the
상기 적층 필름 (2)에 있어서, 타단부측에 있어서의 기재가 비어져 나와 있는 거리는, 0㎜ 초과, 바람직하게는 10㎜ 이하, 보다 바람직하게는 5㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 1㎜ 이하이다. 상기 적층 필름 (2)에 있어서, 타단부측에 있어서의 보호 필름이 비어져 나와 있는 거리는, 0㎜ 초과, 바람직하게는 10㎜ 이하, 보다 바람직하게는 5㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 1㎜ 이하이다. 상기 비어져 나와 있는 거리가 각각 상기 상한 이하이면, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 억제, 또한 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제할 수 있다.In the
이하, 본 발명에 관한 적층 필름을 구성하는 각 층의 상세를 설명한다.Hereinafter, details of each layer constituting the laminated film according to the present invention will be described.
(기재)(write)
상기 기재로서는, 금속박, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 및 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름 등의 폴리에스테르 수지 필름, 폴리에틸렌 필름 및 폴리프로필렌 필름 등의 올레핀 수지 필름, 그리고 폴리이미드 필름 등을 들 수 있다. 상기 기재의 표면은, 필요에 따라, 이형 처리되어 있어도 된다. 상기 기재는, 금속박이어도 되고, 수지 필름이어도 된다. 상기 기재는, 수지 필름인 것이 바람직하다. 상기 기재로서, 금속박을 사용하는 경우, 상기 금속박은 구리박인 것이 바람직하다.Examples of the substrate include metal foil, polyester resin films such as polyethylene terephthalate film and polybutylene terephthalate film, olefin resin films such as polyethylene film and polypropylene film, and polyimide film. The surface of the substrate may be subjected to mold release treatment as needed. The base material may be a metal foil or a resin film. The base material is preferably a resin film. When using metal foil as the base material, it is preferable that the metal foil is copper foil.
적층 필름의 조작성을 양호하게 하고, 또한 수지층의 라미네이트성을 양호하게 하는 관점에서는, 상기 기재의 두께는, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상, 바람직하게는 75㎛ 이하, 보다 바람직하게는 60㎛ 이하이다.From the viewpoint of improving the operability of the laminated film and improving the lamination properties of the resin layer, the thickness of the substrate is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, preferably 75 μm or less, More preferably, it is 60㎛ or less.
(수지층)(resin layer)
상기 수지층은 기재의 표면 상에 적층된다. 상기 수지층은, 후술하는 무기 충전재와, 후술하는 경화제와, 후술하는 열가소성 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The resin layer is laminated on the surface of the substrate. The resin layer preferably contains an inorganic filler described later, a curing agent described later, and a thermoplastic compound described later.
이하, 수지층에 사용되는 각 성분의 상세를 설명한다.Hereinafter, details of each component used in the resin layer will be described.
[무기 충전재][Inorganic filler]
상기 수지층은, 무기 충전재를 포함하는 것이 바람직하다. 무기 충전재의 사용에 의해, 상기 수지층의 경화물의 열에 의한 치수 변화가 작아진다. 또한, 상기 수지층의 경화물의 표면의 표면 조도가 보다 한층 작아져, 경화물과 금속층의 접착 강도가 높아진다. 상기 무기 충전재는, 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어 있어도 된다.The resin layer preferably contains an inorganic filler. By using an inorganic filler, the dimensional change due to heat of the cured product of the resin layer is reduced. Additionally, the surface roughness of the surface of the cured product of the resin layer becomes smaller, and the adhesive strength between the cured product and the metal layer increases. As for the said inorganic filler, only one type may be used, and two or more types may be used together.
종래의 적층 필름에서는, 수지층이 무기 충전재를 포함하면, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐이 발생하기 쉽다. 그러나, 본 발명에 관한 적층 필름에서는, 수지층이 무기 충전재를 포함하는 경우에도, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 효과적으로 억제할 수 있다.In a conventional laminated film, if the resin layer contains an inorganic filler, cracking of the resin layer is likely to occur when the protective film is peeled. However, in the laminated film according to the present invention, even when the resin layer contains an inorganic filler, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be effectively suppressed.
상기 무기 충전재로서는, 실리카, 탈크, 클레이, 마이카, 하이드로탈사이트, 알루미나, 산화마그네슘, 수산화알루미늄, 질화알루미늄, 및 질화붕소 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic filler include silica, talc, clay, mica, hydrotalcite, alumina, magnesium oxide, aluminum hydroxide, aluminum nitride, and boron nitride.
경화물의 표면의 표면 조도를 작게 하고, 경화물과 금속층의 접착 강도를 보다 한층 높게 하고, 또한 경화물의 표면에 보다 한층 미세한 배선을 형성하고, 또한 경화물에 의해 양호한 절연 신뢰성을 부여하는 관점에서는, 상기 무기 충전재는, 실리카 또는 알루미나인 것이 바람직하고, 실리카인 것이 보다 바람직하고, 용융 실리카인 것이 더욱 바람직하다. 실리카의 사용에 의해, 경화물의 열팽창률이 보다 한층 낮아지고, 또한 경화물의 표면의 표면 조도가 효과적으로 작아져, 경화물과 금속층의 접착 강도가 효과적으로 높아진다. 실리카의 형상은 구상인 것이 바람직하다.From the viewpoint of reducing the surface roughness of the surface of the cured product, further increasing the adhesive strength between the cured product and the metal layer, forming finer wiring on the surface of the cured product, and providing good insulation reliability by the cured product, The inorganic filler is preferably silica or alumina, more preferably silica, and even more preferably fused silica. By using silica, the coefficient of thermal expansion of the cured product is further lowered, the surface roughness of the surface of the cured product is effectively reduced, and the adhesive strength between the cured product and the metal layer is effectively increased. The shape of the silica is preferably spherical.
경화 환경에 구애되지 않고, 수지의 경화를 진행시키고, 경화물의 유리 전이 온도를 효과적으로 높게 하고, 경화물의 열선팽창 계수를 효과적으로 작게 하는 관점에서는, 상기 무기 충전재는 구상 실리카인 것이 바람직하다.From the viewpoint of advancing the curing of the resin regardless of the curing environment, effectively increasing the glass transition temperature of the cured product, and effectively reducing the thermal expansion coefficient of the cured product, it is preferable that the inorganic filler is spherical silica.
상기 무기 충전재의 평균 입경은, 바람직하게는 10㎚ 이상, 보다 바람직하게는 50㎚ 이상, 더욱 바람직하게는 100㎚ 이상, 바람직하게는 5㎛ 이하, 보다 바람직하게는 3㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 1㎛ 이하, 특히 바람직하게는 0.5㎛ 이하이다. 상기 무기 충전재의 평균 입경이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 경화물과 금속층의 접착 강도가 보다 한층 높아진다.The average particle diameter of the inorganic filler is preferably 10 nm or more, more preferably 50 nm or more, even more preferably 100 nm or more, preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, even more preferably It is 1㎛ or less, especially preferably 0.5㎛ or less. If the average particle size of the inorganic filler is equal to or greater than the lower limit and equal to or smaller than the upper limit, the adhesive strength between the cured product and the metal layer increases further.
상기 무기 충전재의 평균 입경으로서, 50%가 되는 메디안 직경(d50)의 값이 채용된다. 상기 평균 입경은, 레이저 회절 산란 방식의 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정 가능하다.As the average particle diameter of the inorganic filler, the value of the median diameter (d50) equal to 50% is adopted. The average particle size can be measured using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring device.
상기 무기 충전재는, 구상인 것이 바람직하고, 구상 실리카인 것이 보다 바람직하다. 이 경우에는, 경화물의 표면의 표면 조도가 효과적으로 작아지고, 또한 경화물과 금속층의 접착 강도가 효과적으로 높아진다. 상기 무기 충전재가 구상일 경우에는, 상기 무기 충전재의 애스펙트비는 바람직하게는 2 이하, 보다 바람직하게는 1.5 이하이다.It is preferable that the said inorganic filler is spherical, and it is more preferable that it is spherical silica. In this case, the surface roughness of the surface of the cured product is effectively reduced, and the adhesive strength between the cured product and the metal layer is effectively increased. When the inorganic filler is spherical, the aspect ratio of the inorganic filler is preferably 2 or less, more preferably 1.5 or less.
상기 무기 충전재는, 표면 처리되어 있는 것이 바람직하고, 커플링제에 의한 표면 처리물인 것이 보다 바람직하고, 실란 커플링제에 의한 표면 처리물인 것이 더욱 바람직하다. 이에 의해, 조화 경화물의 표면의 표면 조도가 보다 한층 작아져, 경화물과 금속층의 접착 강도가 보다 한층 높아지고, 또한 경화물의 표면에 보다 한층 미세한 배선이 형성되고, 또한 보다 한층 양호한 배선간 절연 신뢰성 및 층간 절연 신뢰성을 경화물에 부여할 수 있다.The inorganic filler is preferably surface-treated, more preferably surface-treated with a coupling agent, and even more preferably surface-treated with a silane coupling agent. As a result, the surface roughness of the surface of the roughened cured product is further reduced, the adhesive strength between the cured product and the metal layer is further increased, further finer wiring is formed on the surface of the cured product, and further improved inter-wiring insulation reliability and Interlayer insulation reliability can be imparted to the cured product.
상기 커플링제로서는, 실란 커플링제, 티타늄 커플링제 및 알루미늄 커플링제 등을 들 수 있다. 상기 실란 커플링제로서는, 메타크릴실란, 아크릴실란, 아미노실란, 이미다졸실란, 비닐실란, 및 에폭시실란 등을 들 수 있다.Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanium coupling agents, and aluminum coupling agents. Examples of the silane coupling agent include methacryl silane, acrylic silane, amino silane, imidazole silane, vinyl silane, and epoxy silane.
상기 수지층 100중량% 중, 상기 무기 충전재의 함유량은, 바람직하게는 30중량% 이상, 보다 바람직하게는 40중량% 이상, 더욱 바람직하게는 50중량% 이상, 특히 바람직하게는 60중량% 이상, 가장 바람직하게는 70중량% 이상, 바람직하게는 90중량% 이하, 보다 바람직하게는 85중량% 이하, 더욱 바람직하게는 83중량% 이하, 특히 바람직하게는 80중량% 이하이다. 상기 무기 충전재의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 경화물의 표면의 표면 조도가 보다 한층 작아져, 경화물과 금속층의 접착 강도가 보다 한층 높아지고, 또한 경화물의 표면에 보다 한층 미세한 배선이 형성된다. 또한, 이 무기 충전재의 함유량이면, 경화물의 열팽창률을 낮게 함과 동시에, 스미어 제거성을 양호하게 하는 것도 가능하다. 상기 무기 충전재의 함유량이 상기 하한 이상이면 유전 정접이 효과적으로 낮아진다. 상기 무기 충전재의 함유량이 상기 상한 이하이면, 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐을 보다 한층 효과적으로 억제할 수 있다.In 100% by weight of the resin layer, the content of the inorganic filler is preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, further preferably 50% by weight or more, particularly preferably 60% by weight or more, Most preferably, it is 70% by weight or more, preferably 90% by weight or less, more preferably 85% by weight or less, further preferably 83% by weight or less, and particularly preferably 80% by weight or less. If the content of the inorganic filler is more than the above lower limit and less than the above upper limit, the surface roughness of the surface of the cured product becomes smaller, the adhesive strength between the cured product and the metal layer is further increased, and further finer wiring is formed on the surface of the cured product. do. Moreover, if the content of this inorganic filler is sufficient, it is possible to lower the coefficient of thermal expansion of the cured product and improve smear removal properties. When the content of the inorganic filler is more than the above lower limit, the dielectric loss tangent is effectively lowered. If the content of the inorganic filler is below the upper limit, cracking of the resin layer during peeling of the protective film can be suppressed more effectively.
[열경화성 화합물][Thermosetting compound]
상기 수지층은, 열경화성 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 열경화성 화합물은 특별히 한정되지 않는다. 상기 열경화성 화합물로서, 종래 공지된 열경화성 화합물을 사용 가능하다.The resin layer preferably contains a thermosetting compound. The thermosetting compound is not particularly limited. As the thermosetting compound, conventionally known thermosetting compounds can be used.
상기 열경화성 화합물로서는, 스티렌 화합물, 페녹시 화합물, 옥세탄 화합물, 에폭시 화합물, 에피술피드 화합물, (메트)아크릴 화합물, 페놀 화합물, 아미노 화합물, 불포화 폴리에스테르 화합물, 폴리우레탄 화합물, 실리콘 화합물 및 폴리이미드 화합물 등을 들 수 있다. 상기 열경화성 화합물은, 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.Examples of the thermosetting compounds include styrene compounds, phenoxy compounds, oxetane compounds, epoxy compounds, episulfide compounds, (meth)acrylic compounds, phenol compounds, amino compounds, unsaturated polyester compounds, polyurethane compounds, silicone compounds, and polyimides. Compounds, etc. can be mentioned. As for the said thermosetting compound, only 1 type may be used, and 2 or more types may be used together.
상기 열경화성 화합물은, 에폭시 화합물인 것이 바람직하다. 해당 에폭시 화합물은, 적어도 1개의 에폭시기를 갖는 유기 화합물을 말한다. 상기 열경화성 화합물 및 상기 에폭시 화합물은, 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.The thermosetting compound is preferably an epoxy compound. The epoxy compound refers to an organic compound having at least one epoxy group. As for the said thermosetting compound and the said epoxy compound, only 1 type may be used, and 2 or more types may be used together.
상기 에폭시 화합물로서는, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물, 페놀노볼락형 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 화합물, 비페닐노볼락형 에폭시 화합물, 비페놀형 에폭시 화합물, 나프탈렌형 에폭시 화합물, 플루오렌형 에폭시 화합물, 페놀아르알킬형 에폭시 화합물, 나프톨아르알킬형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 화합물, 안트라센형 에폭시 화합물, 아다만탄 골격을 갖는 에폭시 화합물, 트리시클로데칸 골격을 갖는 에폭시 화합물, 나프틸렌에테르형 에폭시 화합물, 및 트리아진핵을 골격에 갖는 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compounds include bisphenol A-type epoxy compounds, bisphenol F-type epoxy compounds, bisphenol S-type epoxy compounds, phenol novolak-type epoxy compounds, biphenyl-type epoxy compounds, biphenyl novolak-type epoxy compounds, biphenol-type epoxy compounds, Naphthalene type epoxy compound, fluorene type epoxy compound, phenol aralkyl type epoxy compound, naphthol aralkyl type epoxy compound, dicyclopentadiene type epoxy compound, anthracene type epoxy compound, epoxy compound with adamantane skeleton, tricyclodecane Examples include epoxy compounds having a skeleton, naphthylene ether type epoxy compounds, and epoxy compounds having a triazine nucleus in the skeleton.
경화물과 금속층의 접착 강도를 보다 한층 높게 하는 관점에서는, 상기 에폭시 화합물은, 방향족 골격을 갖는 것이 바람직하고, 비페닐 골격을 갖는 것이 바람직하고, 비페닐형 에폭시 화합물인 것이 바람직하다.From the viewpoint of further increasing the adhesive strength between the cured product and the metal layer, the epoxy compound preferably has an aromatic skeleton, preferably has a biphenyl skeleton, and is preferably a biphenyl-type epoxy compound.
상기 에폭시 화합물의 분자량은 1000 이하인 것이 보다 바람직하다. 이 경우에는, 수지층을 기재 상에 라미네이트한 경우에, 무기 충전재를 균일하게 존재시킬 수 있다.It is more preferable that the molecular weight of the epoxy compound is 1000 or less. In this case, when the resin layer is laminated on the substrate, the inorganic filler can be uniformly present.
에폭시 화합물의 분자량, 및 후술하는 경화제의 분자량은, 에폭시 화합물 또는 경화제가 중합체가 아닐 경우, 및 에폭시 화합물 또는 경화제의 구조식을 특정할 수 있는 경우에는, 당해 구조식으로부터 산출할 수 있는 분자량을 의미한다. 또한, 에폭시 화합물 또는 경화제가 중합체일 경우에는, 중량 평균 분자량을 의미한다.The molecular weight of the epoxy compound and the molecular weight of the curing agent described later mean the molecular weight that can be calculated from the structural formula when the epoxy compound or curing agent is not a polymer and when the structural formula of the epoxy compound or curing agent can be specified. Additionally, when the epoxy compound or curing agent is a polymer, it means the weight average molecular weight.
상기 수지층 100중량% 중, 상기 열경화성 화합물(열경화성 화합물이 에폭시 화합물일 경우에는 에폭시 화합물)의 함유량은, 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 20중량% 이상, 바람직하게는 70중량% 이하, 보다 바람직하게는 65중량% 이하, 더욱 바람직하게는 60중량% 이하, 특히 바람직하게는 55중량% 이하이다. 상기 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 절연층과 금속층의 접착 강도를 보다 한층 높게 할 수 있다.The content of the thermosetting compound (epoxy compound when the thermosetting compound is an epoxy compound) in 100% by weight of the resin layer is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and preferably 70% by weight. Below, more preferably 65% by weight or less, further preferably 60% by weight or less, particularly preferably 55% by weight or less. If the content is more than the lower limit and less than the upper limit, the adhesive strength between the insulating layer and the metal layer can be further increased.
[경화제][Hardener]
상기 수지층은 경화제를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 경화제는 특별히 한정되지 않는다. 상기 경화제로서, 종래 공지된 경화제를 사용 가능하다. 상기 경화제는 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.The resin layer preferably contains a curing agent. The curing agent is not particularly limited. As the curing agent, a conventionally known curing agent can be used. Only one type of the said hardening|curing agent may be used, and two or more types may be used together.
상기 경화제로서는, 시아네이트에스테르 화합물(시아네이트에스테르 경화제), 페놀 화합물(페놀 경화제), 아민 화합물(아민 경화제), 티올 화합물(티올 경화제), 이미다졸 화합물, 포스핀 화합물, 산 무수물, 활성 에스테르 화합물 및 디시안디아미드 등을 들 수 있다. 상기 열경화성 화합물이 에폭시 화합물일 경우, 상기 경화제는, 상기 에폭시 화합물의 에폭시기와 반응 가능한 관능기를 갖는 것이 바람직하다.As the curing agent, cyanate ester compound (cyanate ester curing agent), phenol compound (phenol curing agent), amine compound (amine curing agent), thiol compound (thiol curing agent), imidazole compound, phosphine compound, acid anhydride, active ester compound. and dicyandiamide. When the thermosetting compound is an epoxy compound, the curing agent preferably has a functional group capable of reacting with the epoxy group of the epoxy compound.
상기 시아네이트에스테르 화합물로서는, 노볼락형 시아네이트에스테르 수지, 비스페놀형 시아네이트에스테르 수지, 그리고 이들이 일부 삼량화된 프리폴리머 등을 들 수 있다. 상기 노볼락형 시아네이트에스테르 수지로서는, 페놀노볼락형 시아네이트에스테르 수지 및 알킬페놀형 시아네이트에스테르 수지 등을 들 수 있다. 상기 비스페놀형 시아네이트에스테르 수지로서는, 비스페놀 A형 시아네이트에스테르 수지, 비스페놀 E형 시아네이트에스테르 수지 및 테트라메틸비스페놀 F형 시아네이트에스테르 수지 등을 들 수 있다.Examples of the cyanate ester compound include novolak-type cyanate ester resin, bisphenol-type cyanate ester resin, and a prepolymer obtained by partially trimerizing these. Examples of the novolak-type cyanate ester resin include phenol novolak-type cyanate ester resin and alkylphenol-type cyanate ester resin. Examples of the bisphenol-type cyanate ester resin include bisphenol A-type cyanate ester resin, bisphenol E-type cyanate ester resin, and tetramethylbisphenol F-type cyanate ester resin.
상기 시아네이트에스테르 화합물의 시판품으로서는, 페놀노볼락형 시아네이트에스테르 수지(론자 재팬사제 「PT-30」 및 「PT-60」), 및 비스페놀형 시아네이트에스테르 수지가 삼량화된 프리폴리머(론자 재팬사제 「BA-230S」, 「BA-3000S」, 「BTP-1000S」 및 「BTP-6020S」) 등을 들 수 있다.Commercially available products of the cyanate ester compound include phenol novolak-type cyanate ester resin (“PT-30” and “PT-60” manufactured by Lonza Japan), and a prepolymer in which bisphenol-type cyanate ester resin is trimerized (manufactured by Lonza Japan). “BA-230S”, “BA-3000S”, “BTP-1000S”, and “BTP-6020S”).
상기 페놀 화합물로서는, 노볼락형 페놀, 비페놀형 페놀, 나프탈렌형 페놀, 디시클로펜타디엔형 페놀, 아르알킬형 페놀 및 디시클로펜타디엔형 페놀 등을 들 수 있다.Examples of the phenol compounds include novolak-type phenol, biphenol-type phenol, naphthalene-type phenol, dicyclopentadiene-type phenol, aralkyl-type phenol, and dicyclopentadiene-type phenol.
상기 페놀 화합물의 시판품으로서는, 노볼락형 페놀(DIC사제 「TD-2091」), 비페닐노볼락형 페놀(메이와 가세이사제 「MEH-7851」), 아르알킬형 페놀 화합물(메이와 가세이사제 「MEH-7800」), 그리고 아미노트리아진 골격을 갖는 페놀(DIC사제 「LA1356」 및 「LA3018-50P」) 등을 들 수 있다.Commercially available products of the above phenolic compounds include novolak-type phenol (“TD-2091” manufactured by DIC), biphenyl novolac-type phenol (“MEH-7851” manufactured by Meiwa Kasei), and aralkyl-type phenol compound (Meiwa Kasei). “MEH-7800”), and phenol having an aminotriazine skeleton (“LA1356” and “LA3018-50P” manufactured by DIC).
유전 정접을 보다 한층 낮게 하는 관점에서, 상기 경화제는, 활성 에스테르 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 활성 에스테르 화합물이란, 구조체 중에 에스테르 결합을 적어도 하나 포함하고, 또한 에스테르 결합의 양측에 방향족 환이 결합하고 있는 화합물을 말한다. 활성 에스테르 화합물의 바람직한 예로서는, 하기 식 (1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.From the viewpoint of further lowering the dielectric loss tangent, it is preferable that the curing agent contains an active ester compound. The active ester compound refers to a compound that contains at least one ester bond in the structure and has aromatic rings bonded to both sides of the ester bond. Preferred examples of the active ester compound include compounds represented by the following formula (1).
상기 식 (1) 중, X1 및 X2는 각각, 방향족 환을 포함하는 기를 나타낸다. 상기 방향족 환을 포함하는 기의 바람직한 예로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 벤젠환, 및 치환기를 갖고 있어도 되는 나프탈렌환 등을 들 수 있다. 상기 치환기로서는, 탄화수소기를 들 수 있다. 해당 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 12 이하, 보다 바람직하게는 6 이하, 더욱 바람직하게는 4 이하이다.In the formula (1), X1 and X2 each represent a group containing an aromatic ring. Preferred examples of the group containing the aromatic ring include a benzene ring that may have a substituent, and a naphthalene ring that may have a substituent. Examples of the substituent include a hydrocarbon group. The carbon number of the hydrocarbon group is preferably 12 or less, more preferably 6 or less, and still more preferably 4 or less.
상기 식 (1) 중, X1 및 X2의 조합으로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 벤젠환과, 치환기를 갖고 있어도 되는 벤젠환의 조합, 치환기를 갖고 있어도 되는 벤젠환과 치환기를 갖고 있어도 되는 나프탈렌환의 조합을 들 수 있다. 또한, X1 및 X2의 조합으로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프탈렌환과 치환기를 갖고 있어도 되는 나프탈렌환의 조합을 들 수 있다. In the formula (1), examples of the combination of X1 and . Additionally, examples of the combination of X1 and X2 include a combination of a naphthalene ring that may have a substituent and a naphthalene ring that may have a substituent.
상기 활성 에스테르 화합물은 특별히 한정되지 않는다. 상기 활성 에스테르 화합물의 시판품으로서는, DIC사제 「HPC-8000-65T」, 「EXB9416-70BK」, 「EXB8100-65T」, 및 「EXB-8000L-65MT」 등을 들 수 있다.The active ester compound is not particularly limited. Commercially available products of the active ester compound include "HPC-8000-65T", "EXB9416-70BK", "EXB8100-65T", and "EXB-8000L-65MT" manufactured by DIC.
상기 경화제의 분자량은 1000 이하인 것이 바람직하다. 이 경우에는, 수지층을 기재 상에 라미네이트한 경우에, 무기 충전재를 균일하게 존재시킬 수 있다.The molecular weight of the curing agent is preferably 1000 or less. In this case, when the resin layer is laminated on the substrate, the inorganic filler can be uniformly present.
상기 수지층 중의 상기 무기 충전재를 제외하는 성분 100중량% 중, 상기 열경화성 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량, 및 상기 에폭시 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량은, 바람직하게는 75중량% 이상, 보다 바람직하게는 80중량% 이상, 바람직하게는 99중량% 이하, 보다 바람직하게는 97중량% 이하이다. 상기 열경화성 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량, 및 상기 에폭시 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 보다 한층 양호한 경화물이 얻어지고, 용융 점도를 조정할 수 있기 때문에 무기 충전재의 분산성이 양호해진다. 또한, 경화 과정에서, 의도하지 않는 영역으로 수지층이 번지는 것을 방지할 수 있다. 또한, 경화물의 열에 의한 치수 변화를 보다 한층 억제할 수 있다. 또한, 상기 열경화성 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량, 및 상기 에폭시 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량이 상기 하한 이상이면 용융 점도가 너무 낮아지지 않아, 경화 과정에서, 의도하지 않는 영역으로 절연 필름이 과도하게 번지기 어렵게 되는 경향이 있다. 또한, 상기 열경화성 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량, 및 상기 에폭시 화합물과 상기 경화제의 합계의 함유량이 상기 상한 이하이면, 회로 기판의 구멍 또는 요철에 대한 매립이 용이해지고, 또한 무기 충전재가 불균일하게 존재하기 어렵게 되는 경향이 있다.Among 100% by weight of components excluding the inorganic filler in the resin layer, the total content of the thermosetting compound and the curing agent, and the total content of the epoxy compound and the curing agent, are preferably 75% by weight or more, more preferably Preferably it is 80% by weight or more, preferably 99% by weight or less, and more preferably 97% by weight or less. If the total content of the thermosetting compound and the curing agent, and the total content of the epoxy compound and the curing agent are more than the lower limit and less than the upper limit, a better cured product can be obtained and the melt viscosity can be adjusted, so the inorganic filler The dispersibility becomes good. Additionally, during the curing process, the resin layer can be prevented from spreading to unintended areas. Additionally, dimensional changes due to heat in the cured product can be further suppressed. In addition, if the total content of the thermosetting compound and the curing agent, and the total content of the epoxy compound and the curing agent are more than the above lower limit, the melt viscosity will not be too low, and the insulating film will not be excessive in unintended areas during the curing process. It tends to be difficult to spread. In addition, if the total content of the thermosetting compound and the curing agent, and the total content of the epoxy compound and the curing agent are below the upper limit, embedding into holes or irregularities of the circuit board becomes easy, and the inorganic filler is unevenly present. It tends to be difficult to do.
상기 수지층 중의 상기 무기 충전재를 제외하는 성분 100중량% 중, 상기 경화제의 함유량은, 바람직하게는 30중량% 이상, 보다 바람직하게는 40중량% 이상이며, 바람직하게는 70중량% 이하, 보다 바람직하게는 60중량% 이하이다. 상기 경화제의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 보다 한층 양호한 경화물이 얻어지고, 유전 정접이 효과적으로 낮아진다.Among 100% by weight of components excluding the inorganic filler in the resin layer, the content of the curing agent is preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, preferably 70% by weight or less, and more preferably 70% by weight or less. Typically, it is 60% by weight or less. If the content of the curing agent is more than the lower limit and less than the upper limit, a better cured product is obtained and the dielectric loss tangent is effectively lowered.
[열가소성 수지][Thermoplastic resin]
상기 수지층은, 열가소성 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 열가소성 수지로서는, 폴리비닐아세탈 수지 및 페녹시 수지 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지는, 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.The resin layer preferably contains a thermoplastic resin. Examples of the thermoplastic resin include polyvinyl acetal resin and phenoxy resin. As for the said thermoplastic resin, only 1 type may be used, and 2 or more types may be used together.
경화 환경에 구애되지 않고, 유전 정접을 효과적으로 낮게 하고, 또한 금속 배선의 밀착성을 효과적으로 높이는 관점에서는, 상기 열가소성 수지는, 페녹시 수지인 것이 바람직하다. 페녹시 수지의 사용에 의해, 수지층의 회로 기판의 구멍 또는 요철에 대한 매립성의 악화 및 무기 충전재의 불균일화가 억제된다. 또한, 페녹시 수지의 사용에 의해, 용융 점도를 조정 가능하기 때문에 무기 충전재의 분산성이 양호해지고, 또한 경화 과정에서, 의도하지 않는 영역으로 수지층이 번지기 어렵게 된다. 상기 페녹시 수지는 특별히 한정되지 않는다. 상기 페녹시 수지로서, 종래 공지된 페녹시 수지를 사용 가능하다. 상기 페녹시 수지는, 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.From the viewpoint of effectively lowering the dielectric loss tangent and effectively increasing adhesion to metal wiring, regardless of the curing environment, it is preferable that the thermoplastic resin is a phenoxy resin. By using the phenoxy resin, deterioration of the embedding properties of the resin layer into holes or irregularities of the circuit board and unevenness of the inorganic filler are suppressed. In addition, since the melt viscosity can be adjusted by using the phenoxy resin, the dispersibility of the inorganic filler improves, and it becomes difficult for the resin layer to spread into unintended areas during the curing process. The phenoxy resin is not particularly limited. As the phenoxy resin, conventionally known phenoxy resins can be used. As for the said phenoxy resin, only 1 type may be used, and 2 or more types may be used together.
상기 페녹시 수지로서는, 예를 들어, 비스페놀 A형의 골격, 비스페놀 F형의 골격, 비스페놀 S형의 골격, 비페닐 골격, 노볼락 골격, 나프탈렌 골격 및 이미드 골격 등의 골격을 갖는 페녹시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the phenoxy resin include, for example, a phenoxy resin having a skeleton such as a bisphenol A-type skeleton, a bisphenol F-type skeleton, a bisphenol S-type skeleton, a biphenyl skeleton, a novolak skeleton, a naphthalene skeleton, and an imide skeleton. etc. can be mentioned.
상기 페녹시 수지의 시판품으로서는, 예를 들어, 신닛테츠스미킨 가가쿠사제의 「YP50」, 「YP55」 및 「YP70」, 그리고 미쯔비시 가가꾸사제의 「1256B40」, 「4250」, 「4256H40」, 「4275」, 「YX6954BH30」 및 「YX8100BH30」 등을 들 수 있다.Commercially available products of the phenoxy resin include, for example, "YP50", "YP55", and "YP70" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd., and "1256B40", "4250", and "4256H40" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. “4275”, “YX6954BH30”, and “YX8100BH30”, etc. can be mentioned.
보존 안정성이 보다 한층 우수한 수지층을 얻는 관점에서는, 상기 열가소성 수지의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 5000 이상, 보다 바람직하게는 10000 이상, 바람직하게는 100000 이하, 보다 바람직하게는 50000 이하이다.From the viewpoint of obtaining a resin layer with even more excellent storage stability, the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, preferably 100,000 or less, and more preferably 50,000 or less.
상기 열가소성 수지의 상기 중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정된 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량을 나타낸다.The weight average molecular weight of the thermoplastic resin represents the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
상기 열가소성 수지 및 상기 페녹시 수지의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 수지층 중의 상기 무기 충전재를 제외하는 성분 100중량% 중, 상기 열가소성 수지의 함유량(상기 열가소성 수지가 페녹시 수지일 경우에는 페녹시 수지의 함유량)은 바람직하게는 1중량% 이상, 보다 바람직하게는 5중량% 이상, 바람직하게는 30중량% 이하, 보다 바람직하게는 15중량% 이하이다. 상기 열가소성 수지의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 수지층의 회로 기판의 구멍 또는 요철에 대한 매립성이 양호해진다. 상기 열가소성 수지의 함유량이 상기 하한 이상이면 수지층의 형성이 보다 한층 용이해져, 보다 한층 양호한 절연층이 얻어진다. 상기 열가소성 수지의 함유량이 상기 상한 이하이면, 경화물의 열팽창률이 보다 한층 낮아진다. 경화물의 표면의 표면 조도가 보다 한층 작아져, 경화물과 금속층의 접착 강도가 보다 한층 높아진다.The content of the thermoplastic resin and the phenoxy resin is not particularly limited. Among 100% by weight of components excluding the inorganic filler in the resin layer, the content of the thermoplastic resin (if the thermoplastic resin is a phenoxy resin, the content of the phenoxy resin) is preferably 1% by weight or more, more preferably It is 5% by weight or more, preferably 30% by weight or less, and more preferably 15% by weight or less. If the content of the thermoplastic resin is more than the lower limit and less than the upper limit, the embedding property of the resin layer into holes or irregularities of the circuit board becomes good. If the content of the thermoplastic resin is more than the above lower limit, the formation of the resin layer becomes easier, and an even better insulating layer is obtained. If the content of the thermoplastic resin is below the upper limit, the coefficient of thermal expansion of the cured product is further lowered. The surface roughness of the surface of the cured product is further reduced, and the adhesive strength between the cured product and the metal layer is further increased.
[경화 촉진제][Curing accelerator]
상기 수지층은, 경화 촉진제를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 경화 촉진제의 사용에 의해 경화 속도가 보다 한층 빨라진다. 수지층을 빠르게 경화시킴으로써, 경화물에 있어서의 가교 구조가 균일해짐과 함께, 미반응된 관능기 수가 줄어들어, 결과적으로 가교 밀도가 높아진다. 상기 경화 촉진제는 특별히 한정되지 않고 종래 공지된 경화 촉진제를 사용 가능하다. 상기 경화 촉진제는, 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.The resin layer preferably contains a curing accelerator. The curing speed is further accelerated by the use of the curing accelerator. By quickly curing the resin layer, the crosslinked structure in the cured product becomes uniform, the number of unreacted functional groups decreases, and as a result, the crosslinking density increases. The curing accelerator is not particularly limited, and conventionally known curing accelerators can be used. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used, and 2 or more types may be used together.
상기 경화 촉진제로서는, 예를 들어, 이미다졸 화합물, 인 화합물, 아민 화합물 및 유기 금속 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the curing accelerator include imidazole compounds, phosphorus compounds, amine compounds, and organometallic compounds.
상기 이미다졸 화합물로서는, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸륨트리멜리테이트, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-[2'-운데실이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-[2'-에틸-4'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진이소시아누르산 부가물, 2-페닐이미다졸이소시아누르산 부가물, 2-메틸이미다졸이소시아누르산 부가물, 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸 및 2-페닐-4-메틸-5-디히드록시메틸이미다졸 등을 들 수 있다.Examples of the imidazole compounds include 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 2-phenyl. -4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole Sol, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyano Ethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1' )]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2'-undecylimidazolyl-(1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 -[2'-ethyl-4'-methylimidazolyl-(1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1') ]-Ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazoleisocyanuric acid adduct, 2-methylimidazoleisocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihyde Roxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-dihydroxymethylimidazole, etc. are mentioned.
상기 인 화합물로서는, 트리페닐포스핀 등을 들 수 있다.Examples of the phosphorus compound include triphenylphosphine.
상기 아민 화합물로서는, 디에틸아민, 트리에틸아민, 디에틸렌테트라민, 트리에틸렌테트라민 및 4,4-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다.Examples of the amine compounds include diethylamine, triethylamine, diethylenetetramine, triethylenetetramine, and 4,4-dimethylaminopyridine.
상기 유기 금속 화합물로서는, 나프텐산아연, 나프텐산코발트, 옥틸산주석, 옥틸산코발트, 비스아세틸아세토네이트코발트(II) 및 트리스아세틸아세토네이트코발트(III) 등을 들 수 있다.Examples of the organometallic compounds include zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin octylate, cobalt octylate, cobalt(II) bisacetylacetonate, and cobalt(III) trisacetylacetonate.
상기 경화 촉진제의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 수지층 중의 상기 무기 충전재를 제외하는 성분 100중량% 중, 상기 경화 촉진제의 함유량은 바람직하게는 0.005중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.01중량% 이상, 바람직하게는 5중량% 이하, 보다 바람직하게는 3중량% 이하이다. 상기 경화 촉진제의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 수지층이 효율적으로 경화된다. 상기 경화 촉진제의 함유량이 보다 바람직한 범위이면, 수지층의 보존 안정성이 보다 한층 높아지고, 또한 보다 한층 양호한 경화물이 얻어진다.The content of the curing accelerator is not particularly limited. Among 100% by weight of components excluding the inorganic filler in the resin layer, the content of the curing accelerator is preferably 0.005% by weight or more, more preferably 0.01% by weight or more, preferably 5% by weight or less, more preferably It is 3% by weight or less. If the content of the curing accelerator is equal to or greater than the lower limit and equal to or lower than the upper limit, the resin layer is efficiently cured. If the content of the curing accelerator is in a more preferable range, the storage stability of the resin layer is further improved, and a better cured product is obtained.
[용제][solvent]
상기 수지층은, 용제를 포함하지 않거나 또는 포함한다. 또한, 상기 용제는, 상기 무기 충전재를 포함하는 슬러리를 얻기 위하여 사용되어도 된다. 상기 용제는 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.The resin layer does not contain or contains a solvent. Additionally, the solvent may be used to obtain a slurry containing the inorganic filler. Only one type of the said solvent may be used, and two or more types may be used together.
상기 용제로서는, 아세톤, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 2-프로판올, 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 1-메톡시-2-프로판올, 2-아세톡시-1-메톡시프로판, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤, N,N-디메틸포름아미드, 메틸이소부틸케톤, N-메틸-피롤리돈, n-헥산, 시클로헥산, 시클로헥사논 및 혼합물인 나프타 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include acetone, methanol, ethanol, butanol, 2-propanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol, 2-acetoxy-1-methoxypropane, toluene, Examples include xylene, methyl ethyl ketone, N,N-dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, N-methyl-pyrrolidone, n-hexane, cyclohexane, cyclohexanone, and mixtures of naphtha.
상기 용제의 대부분은, 상기 수지층을 성형할 때에 제거되는 것이 바람직하다. 따라서, 상기 용제의 비점은 바람직하게는 200℃ 이하, 보다 바람직하게는 180℃ 이하이다. 상기 수지층에 있어서의 상기 용제의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 상기 수지층의 층 형상을 유지할 수 있을 정도로, 상기 용제의 함유량은 적절히 변경 가능하다.It is preferable that most of the solvent is removed when molding the resin layer. Therefore, the boiling point of the solvent is preferably 200°C or lower, more preferably 180°C or lower. The content of the solvent in the resin layer is not particularly limited. The content of the solvent can be appropriately changed to the extent that the layer shape of the resin layer can be maintained.
[다른 성분][Other ingredients]
내충격성, 내열성, 수지의 상용성 및 작업성 등의 개선을 목적으로 하여, 상기 수지층에는, 레벨링제, 난연제, 커플링제, 착색제, 산화 방지제, 자외선 열화 방지제, 소포제, 증점제, 요변성 부여제 및 상기 열경화성 화합물 이외의 다른 열경화성 수지 등을 첨가해도 된다.For the purpose of improving impact resistance, heat resistance, resin compatibility and workability, etc., the resin layer contains a leveling agent, a flame retardant, a coupling agent, a colorant, an antioxidant, an ultraviolet ray deterioration inhibitor, an antifoaming agent, a thickener, and a thixotropy imparting agent. And other thermosetting resins other than the above thermosetting compounds may be added.
상기 커플링제로서는, 실란 커플링제, 티타늄 커플링제 및 알루미늄 커플링제 등을 들 수 있다. 상기 실란 커플링제로서는, 비닐실란, 아미노실란, 이미다졸실란 및 에폭시실란 등을 들 수 있다.Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanium coupling agents, and aluminum coupling agents. Examples of the silane coupling agent include vinyl silane, amino silane, imidazole silane, and epoxy silane.
상기 다른 열경화성 수지로서는, 폴리페닐렌에테르 수지, 디비닐벤질에테르 수지, 폴리아릴레이트 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 폴리이미드 수지, 벤조옥사진 수지, 벤조옥사졸 수지, 비스말레이미드 수지 및 아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다.Examples of the other thermosetting resins include polyphenylene ether resin, divinylbenzyl ether resin, polyarylate resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, benzoxazine resin, benzoxazole resin, bismaleimide resin, and acrylate resin. etc. can be mentioned.
상기 수지층을 얻는 방법으로서는, 이하의 방법 등을 들 수 있다. 압출기를 사용하여, 수지층을 형성하기 위한 재료를 용융 혼련하고, 압출한 후, T다이 또는 서큘러 다이 등에 의해 필름상으로 성형하는 압출 성형법. 용제를 포함하는 수지층을 형성하기 위한 재료를 캐스팅하여 필름상으로 성형하는 캐스팅 성형법. 종래 공지된 기타의 필름 성형법. 또한, 기재 상에 수지층을 형성하기 위한 재료를 적층하고, 가열 건조시켜, 수지층을 얻을 수도 있다. 박형화에 대응 가능한 점에서, 압출 성형법 또는 캐스팅 성형법이 바람직하다. 필름에는 시트가 포함된다.Methods for obtaining the resin layer include the following methods. An extrusion molding method in which materials for forming a resin layer are melted and kneaded using an extruder, extruded, and then molded into a film using a T die or circular die. A casting molding method that casts a material to form a solvent-containing resin layer and molds it into a film. Other conventionally known film forming methods. Additionally, the resin layer can also be obtained by laminating the materials for forming the resin layer on the substrate and heating and drying them. Since it can accommodate thinning, the extrusion molding method or casting molding method is preferable. Film includes sheets.
수지층을 형성하기 위한 재료를 필름상으로 성형하고, 열에 의한 경화가 너무 진행하지 않을 정도로, 예를 들어 50℃ 내지 150℃에서 1분간 내지 10분간 가열 건조시킴으로써, B 스테이지 필름인 수지층을 얻을 수 있다.The material for forming the resin layer is molded into a film and dried by heating at 50°C to 150°C for 1 to 10 minutes to the extent that heat curing does not proceed too much, to obtain a resin layer that is a B stage film. You can.
상술한 바와 같은 건조 공정에 의해 얻을 수 있는 필름상의 수지층을 B 스테이지 필름이라고 칭한다. 상기 B 스테이지 필름은 반경화 상태에 있다. 반경화물은, 완전히 경화되어 있지 않아, 경화가 더욱 진행될 수 있다.The film-shaped resin layer obtained through the above-described drying process is called a B-stage film. The B stage film is in a semi-cured state. The semi-cured product is not completely hardened, and hardening may proceed further.
상기 수지층은, B 스테이지 필름인 것이 바람직하다.It is preferable that the resin layer is a B stage film.
수지층(수지층이 B 스테이지 필름인 경우에는, B 스테이지 필름)의 라미네이트성을 보다 한층 양호하게 하여, 수지층의 경화 불균일을 보다 한층 억제하는 관점에서는, 상기 수지층의 두께는, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상, 바람직하게는 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 100㎛ 이하이다.From the viewpoint of further improving the lamination properties of the resin layer (when the resin layer is a B stage film, the B stage film) and further suppressing uneven curing of the resin layer, the thickness of the resin layer is preferably It is 5㎛ or more, more preferably 10㎛ or more, preferably 200㎛ or less, more preferably 100㎛ or less.
(보호 필름)(protective film)
상기 보호 필름은, 상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에 적층된다.The protective film is laminated on the surface of the resin layer opposite to the substrate side.
상기 보호 필름의 재료로서는, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀, 그리고 폴리에틸렌테레프탈레이트 등을 들 수 있다. 상기 보호 필름의 재료는, 폴리올레핀인 것이 바람직하고, 폴리프로필렌인 것이 보다 바람직하다.Materials for the protective film include polyolefins such as polypropylene and polyethylene, and polyethylene terephthalate. The material of the protective film is preferably polyolefin, and more preferably polypropylene.
수지층의 보호성을 보다 한층 양호하게 하는 관점에서는, 상기 보호 필름의 두께는, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상, 바람직하게는 75㎛ 이하, 보다 바람직하게는 60㎛ 이하이다.From the viewpoint of further improving the protection of the resin layer, the thickness of the protective film is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, preferably 75 μm or less, and more preferably 60 μm or less. am.
(적층 필름의 다른 상세)(Other details of laminated film)
본 발명에 관한 적층 필름은, 다층 프린트 배선판에 있어서, 절연층을 형성하기 위하여 적합하게 사용된다. 본 발명에 관한 적층 필름의 수지층에 의해 절연층을 형성할 수 있다.The laminated film according to the present invention is suitably used to form an insulating layer in a multilayer printed wiring board. An insulating layer can be formed with the resin layer of the laminated film according to the present invention.
다층 프린트 배선판의 일례로서, 회로 기판과, 해당 회로 기판 상에 적층된 복수의 절연층과, 복수의 상기 절연층 사이에 배치된 금속층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 들 수 있다. 상기 절연층 중 적어도 1층이 상기 수지층에 의해 형성된다. 상기 회로 기판에 접하고 있는 절연층이 상기 수지층에 의해 형성되어도 된다. 2개의 절연층 사이에 배치된 절연층이 상기 수지층에 의해 형성되어도 된다. 상기 회로 기판으로부터 가장 떨어진 절연층이 상기 수지층에 의해 형성되어도 된다. 복수의 상기 절연층 중, 상기 회로 기판으로부터 이격된 절연층의 외측의 표면 상에, 금속층이 배치되어 있어도 된다.An example of a multilayer printed wiring board is a multilayer printed wiring board including a circuit board, a plurality of insulating layers laminated on the circuit board, and a metal layer disposed between the plurality of insulating layers. At least one of the insulating layers is formed by the resin layer. The insulating layer in contact with the circuit board may be formed by the resin layer. An insulating layer disposed between two insulating layers may be formed by the resin layer. The insulating layer furthest from the circuit board may be formed by the resin layer. Among the plurality of insulating layers, a metal layer may be disposed on the outer surface of the insulating layer spaced apart from the circuit board.
이하, 실시예 및 비교예를 드는 것에 의해, 본 발명을 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이하의 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be specifically explained by giving examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.
이하의 기재, 보호 필름을 준비하였다.The following substrates and protective films were prepared.
(기재)(write)
폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(린텍사제 「AL5」, 두께 38㎛, 폭 550㎜)Polyethylene terephthalate (PET) film (“AL5” manufactured by Lintec, thickness 38 ㎛, width 550 mm)
(보호 필름)(protective film)
보호 필름(오지 에프텍스사제 「알판 MA-411」, 두께 15㎛, 폭 550㎜)Protective film (“Alpan MA-411” manufactured by Oji Ftex, thickness 15㎛, width 550mm)
(수지층을 형성하기 위한 재료)(Material for forming the resin layer)
이하와 같이 하여, 수지층을 형성하기 위한 재료를 준비하였다.Materials for forming a resin layer were prepared as follows.
수지층을 형성하기 위한 재료:Materials for forming the resin layer:
아미노페닐실란 처리 실리카(애드마텍스사제 「SOC2」)의 시클로헥사논 슬러리(고형분 70중량%) 107중량부를 준비하였다. 이 슬러리에, 비페닐형 에폭시 화합물(닛본 가야꾸사제 「NC3000H」) 11중량부와, 비스페놀 A형 에폭시 화합물(DIC사제 「850S」) 5중량부와, 시클로헥사논 7.9중량부와, 메틸에틸케톤 7.7중량부를 첨가하였다. 교반기를 사용하여, 1200rpm으로 60분간 교반하고, 미용해물이 없어진 것을 확인하였다. 그 후, 아미노트리아진 변성 페놀노볼락 경화제(DIC사제 「LA-1356」)의 메틸에틸케톤 혼합 용액(고형분 50중량%) 11중량부와, 페놀노볼락 경화제(메이와 가세이사제 「H4」) 3중량부를 첨가하고, 1200rpm으로 60분간 교반하고, 미용해물이 없어진 것을 확인하였다. 그 후, 비스페놀 아세토페논 골격 페녹시 수지(미쯔비시 가가꾸사제 「YX6954」)의 메틸에틸케톤 및 시클로헥사논 혼합 용액(고형분 30중량%)을 준비하였다. 해당 혼합 용액(고형분 30중량%) 2.5중량부와, 2-에틸-4-메틸이미다졸(시꼬꾸 가세이 고교사제 「2E4MZ」) 0.1중량부와, 레벨링제(구스모토 가세이사제 「LS-480」) 0.01중량부를 더 첨가하였다. 1200rpm으로 30분간 교반하여, 수지층을 형성하기 위한 재료(바니시)를 얻었다.107 parts by weight of cyclohexanone slurry (solid content: 70% by weight) of aminophenylsilane-treated silica (“SOC2” manufactured by Admatex) was prepared. In this slurry, 11 parts by weight of a biphenyl type epoxy compound (“NC3000H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 5 parts by weight of a bisphenol A-type epoxy compound (“850S” manufactured by DIC Corporation), 7.9 parts by weight of cyclohexanone, and methyl ethyl. 7.7 parts by weight of ketone was added. Using a stirrer, the mixture was stirred at 1200 rpm for 60 minutes, and it was confirmed that undissolved substances had disappeared. After that, 11 parts by weight of a methyl ethyl ketone mixed solution (solid content: 50% by weight) of an aminotriazine-modified phenol novolak curing agent (“LA-1356” manufactured by DIC) and a phenol novolak curing agent (“H4” manufactured by Maywa Kasei Corporation). ) 3 parts by weight were added, stirred at 1200 rpm for 60 minutes, and it was confirmed that undissolved substances had disappeared. After that, a mixed solution of bisphenol acetophenone skeleton phenoxy resin (“YX6954” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in methyl ethyl ketone and cyclohexanone (solid content: 30% by weight) was prepared. 2.5 parts by weight of the mixed solution (solid content 30% by weight), 0.1 part by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole (“2E4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Industries, Ltd.), and a leveling agent (“LS-” manufactured by Kusumoto Kasei Corporation) 480") 0.01 parts by weight was further added. It was stirred at 1200 rpm for 30 minutes to obtain a material (varnish) for forming a resin layer.
(실시예 1)(Example 1)
기재의 표면 상에 수지층을 배치하는 공정:Process of disposing a resin layer on the surface of a substrate:
다이 코터를 사용하여, 기재 상에, 얻어진 수지층을 형성하기 위한 재료(바니시)를 기재의 폭 방향에 있어서의 양단부로부터 70㎜의 범위를 제외하고, 폭 410㎜로 도공한 후, 평균 온도 100℃에서 3분간 건조시켜서, 용제를 휘발시켰다. 이와 같이 하여, 기재 상에, 두께가 40㎛이며, 폭이 410㎜인 수지층을 형성하였다.Using a die coater, the material (varnish) for forming the obtained resin layer was applied onto the substrate to a width of 410 mm, excluding a range of 70 mm from both ends in the width direction of the substrate, and then applied at an average temperature of 100 mm. It was dried at ℃ for 3 minutes to volatilize the solvent. In this way, a resin layer with a thickness of 40 μm and a width of 410 mm was formed on the substrate.
수지층의 표면 상에 보호 필름을 배치하는 공정:Process of placing a protective film on the surface of the resin layer:
수지층의 기재측과는 반대의 표면 상에, 보호 필름을 압력 0.4MPa, 온도 50℃에서 열 라미네이트한 후, 롤상으로 권취하여, 기재와 수지층과 보호 필름의 적층체를 얻었다.The protective film was heat laminated on the surface opposite to the base material side of the resin layer at a pressure of 0.4 MPa and a temperature of 50°C, and then wound into a roll to obtain a laminate of the base material, the resin layer, and the protective film.
적층체의 폭 방향에 있어서의 한쪽 단부면을 정렬시키는 공정:Process of aligning one end surface in the width direction of the laminate:
얻어진 적층체의 폭 방향에 있어서의 한쪽 단부(타단부)로부터 내측을 향하여 84㎜의 위치, 및 해당 타단부와는 반대의 단부(일단부)로부터 내측을 향하여 66㎜의 위치를, 슬리터를 사용하여 10m/분의 속도로 슬릿하고, 타단부측의 기재의 단부면과 수지층의 단부면과 보호 필름의 단부면을 정렬시켰다. 이와 같이 하여, 기재의 폭 방향의 치수(W1)가 400㎜, 수지층의 폭 방향의 치수(W2)가 396㎜, 보호 필름의 폭 방향의 치수(W3)가 400㎜인 적층 필름을 얻었다.A slitter was placed at a position of 84 mm inward from one end (the other end) in the width direction of the obtained laminate, and at a position of 66 mm inward from the end (one end) opposite to the other end. was used to slit at a speed of 10 m/min, and the end surface of the base material, the end surface of the resin layer, and the end surface of the protective film on the other end side were aligned. In this way, a laminated film in which the width direction dimension (W 1 ) of the substrate is 400 mm, the width direction dimension (W 2 ) of the resin layer is 396 mm, and the width direction dimension (W 3 ) of the protective film is 400 mm. got it
(실시예 2)(Example 2)
기재의 표면 상에 수지층을 배치하는 공정:Process of disposing a resin layer on the surface of a substrate:
실시예 1과 마찬가지로 하여 수지층을 형성하였다.A resin layer was formed in the same manner as in Example 1.
수지층의 표면 상에 보호 필름을 배치하는 공정:Process of placing a protective film on the surface of the resin layer:
실시예 1과 마찬가지로 하여, 기재와 수지층과 보호 필름의 적층체를 얻었다.In the same manner as in Example 1, a laminate of the base material, the resin layer, and the protective film was obtained.
적층 필름의 타단부 단부면을 정렬시키는 공정:Process of aligning the other end surface of the laminated film:
얻어진 적층체의 폭 방향에 있어서의 한쪽 단부(타단부)로부터 내측을 향하여 120㎜의 위치, 및 해당 타단부와는 반대의 단부(일단부)로부터 내측을 향하여 30㎜의 위치를, 슬리터를 사용하여 10m/분의 속도로 슬릿하고, 타단부측의 기재의 단부면과 수지층의 단부면과 보호 필름의 단부면을 정렬시켰다. 이와 같이 하여, 기재의 폭 방향의 치수(W1)가 400㎜, 수지층의 폭 방향의 치수(W2)가 360㎜, 보호 필름의 폭 방향의 치수(W3)가 400㎜인 적층 필름을 얻었다.A slitter was placed at a position of 120 mm inward from one end (the other end) in the width direction of the obtained laminate, and at a position of 30 mm inward from the end (one end) opposite to the other end. was used to slit at a speed of 10 m/min, and the end surface of the base material, the end surface of the resin layer, and the end surface of the protective film on the other end side were aligned. In this way, a laminated film in which the width direction dimension (W 1 ) of the substrate is 400 mm, the width direction dimension (W 2 ) of the resin layer is 360 mm, and the width direction dimension (W 3 ) of the protective film is 400 mm. got it
(실시예 3)(Example 3)
기재의 표면 상에 수지층을 배치하는 공정:Process of disposing a resin layer on the surface of a substrate:
실시예 1과 마찬가지로 하여 수지층을 형성하였다.A resin layer was formed in the same manner as in Example 1.
수지층의 표면 상에 보호 필름을 배치하는 공정:Process of placing a protective film on the surface of the resin layer:
실시예 1과 마찬가지로 하여, 기재와 수지층과 보호 필름의 적층체를 얻었다.In the same manner as in Example 1, a laminate of the base material, the resin layer, and the protective film was obtained.
적층체의 폭 방향에 있어서의 한쪽 단부면을 정렬시키는 공정:Process of aligning one end surface in the width direction of the laminate:
얻어진 적층체의 폭 방향에 있어서의 한쪽 단부(타단부)로부터 내측을 향하여 140㎜의 위치, 및 해당 타단부와는 반대의 단부(일단부)로부터 내측을 향하여 10㎜의 위치를, 슬리터를 사용하여 10m/분의 속도로 슬릿하고, 타단부측의 기재의 단부면과 수지층의 단부면과 보호 필름의 단부면을 정렬시켰다. 이와 같이 하여, 기재의 폭 방향의 치수(W1)가 340㎜, 수지층의 폭 방향의 치수(W2)가 400㎜, 보호 필름의 폭 방향의 치수(W3)가 400㎜인 적층 필름을 얻었다.A slitter was placed at a position of 140 mm inward from one end (the other end) in the width direction of the obtained laminate, and at a position of 10 mm inward from the end (one end) opposite to the other end. was used to slit at a speed of 10 m/min, and the end surface of the base material, the end surface of the resin layer, and the end surface of the protective film on the other end side were aligned. In this way, a laminated film in which the width direction dimension (W 1 ) of the substrate is 340 mm, the width direction dimension (W 2 ) of the resin layer is 400 mm, and the width direction dimension (W 3 ) of the protective film is 400 mm. got it
(비교예 1)(Comparative Example 1)
기재의 표면 상에 수지층을 배치하는 공정:Process of disposing a resin layer on the surface of a substrate:
실시예 1과 마찬가지로 하여 수지층을 형성하였다.A resin layer was formed in the same manner as in Example 1.
수지층의 표면 상에 보호 필름을 배치하는 공정:Process of placing a protective film on the surface of the resin layer:
실시예 1과 마찬가지로 하여, 기재와 수지층과 보호 필름의 적층체를 얻었다.In the same manner as in Example 1, a laminate of the base material, the resin layer, and the protective film was obtained.
얻어진 적층체의 폭 방향에 있어서의 한쪽 단부(타단부)로부터 내측을 향하여 48㎜의 위치, 및 해당 타단부와는 반대의 단부(일단부)로부터 내측을 향하여 48㎜의 위치를, 슬리터를 사용하여 10m/분의 속도로 슬릿하였다. 이와 같이 하여, 기재의 폭 방향의 치수(W1)가 454㎜, 수지층의 폭 방향의 치수(W2)가 410㎜, 보호 필름의 폭 방향의 치수(W3)가 454㎜이며, 적층 필름의 폭 방향에 있어서의 양쪽 단부면이 정렬되어 있지 않은 적층 필름을 얻었다.A slitter was placed at a position of 48 mm inward from one end (the other end) in the width direction of the obtained laminate, and at a position of 48 mm inward from the end (one end) opposite to the other end. It was slit at a speed of 10 m/min. In this way, the width direction dimension (W 1 ) of the base material is 454 mm, the width direction dimension (W 2 ) of the resin layer is 410 mm, and the width direction dimension (W 3 ) of the protective film is 454 mm, and the lamination A laminated film was obtained in which both end surfaces in the width direction of the film were not aligned.
(비교예 2)(Comparative Example 2)
기재의 표면 상에 수지층을 배치하는 공정:Process of disposing a resin layer on the surface of a substrate:
실시예 1과 마찬가지로 하여 수지층을 형성하였다.A resin layer was formed in the same manner as in Example 1.
수지층의 표면 상에 보호 필름을 배치하는 공정:Process of placing a protective film on the surface of the resin layer:
실시예 1과 마찬가지로 하여, 기재와 수지층과 보호 필름의 적층체를 얻었다.In the same manner as in Example 1, a laminate of the base material, the resin layer, and the protective film was obtained.
적층체의 폭 방향에 있어서의 양 단부면을 정렬시키는 공정:Process of aligning both end surfaces in the width direction of the laminate:
얻어진 적층체의 폭 방향에 있어서의 한쪽 양단부(타단부)로부터 내측을 향하여 75㎜의 위치, 및 해당 타단부와는 반대의 단부(일단부)로부터 내측을 향하여 75㎜의 위치를, 슬리터를 사용하여 10m/분의 속도로 슬릿하였다. 이와 같이 하여, 기재의 폭 방향의 치수(W1), 수지층의 폭 방향의 치수(W2), 및 보호 필름의 폭 방향의 치수(W3)가 모두 400㎜이며, 적층 필름의 폭 방향에 있어서의 양쪽 단부면이 정렬되어 있는 적층 필름을 얻었다.A slitter was placed at a position of 75 mm inward from one end (the other end) in the width direction of the obtained laminate, and at a position of 75 mm inward from the end (one end) opposite to the other end. It was slit at a speed of 10 m/min. In this way, the width direction dimension of the base material (W 1 ), the width direction dimension of the resin layer (W 2 ), and the width direction dimension of the protective film (W 3 ) are all 400 mm, and the width direction of the laminated film A laminated film was obtained in which both end surfaces were aligned.
(평가)(evaluation)
(1) 보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐(1) Cracking of the resin layer when peeling off the protective film
얻어진 적층 필름을 길이(MD 방향) 500㎜로 잘라낸 후, 보호 필름을 박리하였다. 노출된 수지층을 눈으로 보아 관찰하고, 수지층의 갈라짐을 평가하였다.After the obtained laminated film was cut to 500 mm in length (MD direction), the protective film was peeled. The exposed resin layer was observed with the naked eye, and cracking of the resin layer was evaluated.
[보호 필름의 박리 시의 수지층의 갈라짐의 판정 기준][Criteria for judging cracks in the resin layer when peeling off the protective film]
○: 수지층에 갈라짐이 없다○: There are no cracks in the resin layer.
×: 수지층에 갈라짐이 있다×: There are cracks in the resin layer
(2) 수지층의 경화 불균일(2) Non-uniform curing of the resin layer
얻어진 적층 필름을 길이(MD 방향) 380㎜로 잘라낸 후, 보호 필름을 박리하였다. 노출된 수지층의 표면 상에, 유리 에폭시 기판(히따찌 가세이사제 「E679FGR」)을 라미네이트하여, 기재와 수지층과 유리 에폭시 기판의 적층체를 얻었다. 부언하면, 상기 라미네이트는, 메이키 세이사쿠쇼사제 「배치식 진공 라미네이터 MVLP-500IIA」를 사용하여, 라미네이트 압 0.4MPa, 라미네이트 온도 90℃, 및 라미네이트 시간 20초, 그리고 프레스 압력 0.8MPa, 프레스 온도 90℃, 및 프레스 시간 20초의 조건에서 행하였다.After cutting the obtained laminated film to a length (MD direction) of 380 mm, the protective film was peeled. On the surface of the exposed resin layer, a glass epoxy substrate (“E679FGR” manufactured by Hitachi Chemical Company) was laminated to obtain a laminate of the substrate, the resin layer, and the glass epoxy substrate. Incidentally, the above laminate was prepared using a “batch type vacuum laminator MVLP-500IIA” manufactured by Meiki Seisakusho, with a laminating pressure of 0.4 MPa, a laminating temperature of 90°C, a laminating time of 20 seconds, a press pressure of 0.8 MPa, and a press temperature of 0.8 MPa. It was conducted under conditions of 90°C and a press time of 20 seconds.
얻어진 기재와 수지층과 유리 에폭시 기판의 적층체를, 가열 오븐(ESPEC사제 「SPHH-201」)에 넣고, 온도 170℃에서 60분간 가열하여, 수지층을 경화시켰다. 가열 후, 상온에 방치하여 냉각한 후, 기재를 박리하고, 수지층(경화물)과 유리 에폭시 기판의 적층체를 얻었다.The obtained laminate of the base material, the resin layer, and the glass epoxy substrate was placed in a heating oven (“SPHH-201” manufactured by ESPEC) and heated at a temperature of 170°C for 60 minutes to cure the resin layer. After heating, it was left to cool at room temperature, and then the base material was peeled off to obtain a laminate of the resin layer (cured product) and the glass epoxy substrate.
얻어진 수지층(경화물)과 유리 에폭시 기판의 적층체로부터, 마이크로그라인더(우라와 고교사제 「UC210」)를 사용하여, 수지층(경화물)의 폭 방향에 있어서의 양단부, 및 폭 방향에 있어서의 중앙부의 수지층(경화물)을 폭 20㎜×길이 100㎜×두께 0.04㎜로 깍아내어, 3개의 경화물 샘플을 얻었다.From the obtained laminate of the resin layer (cured product) and the glass epoxy substrate, using a microgrinder (“UC210” manufactured by Urawa Kogyo Co., Ltd.), both ends in the width direction of the resin layer (cured product) and the The resin layer (cured product) in the central part was cut to 20 mm in width x 100 mm in length x 0.04 mm in thickness, and three samples of the cured product were obtained.
TA 인스트루먼트사제 「Q2000」을 사용하여, 얻어진 3개의 경화물 샘플의 유리 전이 온도 Tg를 3℃/분의 승온 속도, 온도 범위 -30℃ 내지 250℃의 조건에서 측정을 행하였다. 얻어진 측정 결과에 있어서, 3개의 경화물 샘플의 Tg의 최댓값과 최솟값의 차를 구함으로써, 수지층의 경화 불균일을 평가하였다.Using "Q2000" manufactured by TA Instruments, the glass transition temperature Tg of the three obtained cured samples was measured under the conditions of a temperature increase rate of 3°C/min and a temperature range of -30°C to 250°C. In the obtained measurement results, the curing unevenness of the resin layer was evaluated by determining the difference between the maximum and minimum values of Tg of the three cured samples.
[수지층의 경화 불균일의 판정 기준][Criteria for determining uneven curing of the resin layer]
○: Tg의 최댓값과 최솟값의 차가 5℃ 이하○: The difference between the maximum and minimum Tg values is 5°C or less.
△: Tg의 최댓값과 최솟값의 차가 5℃ 초과 15℃ 미만△: The difference between the maximum and minimum values of Tg is more than 5℃ and less than 15℃
×: Tg의 최댓값과 최솟값의 차가 15℃ 이상×: The difference between the maximum and minimum values of Tg is 15°C or more.
적층 필름의 구성, 및 결과를 하기의 표 1에 나타내었다.The composition of the laminated film and the results are shown in Table 1 below.
1, 1A: 적층 필름
1a, 1Aa: 일단부
1b, 1Ab: 타단부
2, 2A: 수지층
2a, 2Aa: 제1 표면
2b, 2Ab: 제2 표면
3, 3A: 보호 필름
4, 4A: 기재
X: 슬릿 위치1, 1A: Laminated film
1a, 1Aa: one end
1b, 1Ab: other end
2, 2A: Resin layer
2a, 2Aa: first surface
2b, 2Ab: second surface
3, 3A: Protective film
4, 4A: Description
X: Slit location
Claims (10)
상기 기재의 표면 상에 적층된 수지층과,
상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에 적층된 보호 필름을 구비하고,
적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있거나, 또는 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작은, 적층 필름.With equipment,
A resin layer laminated on the surface of the substrate,
A protective film is laminated on a surface of the resin layer opposite to the substrate side,
On one end side of the laminated film, the end surfaces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer, and on the other end side of the laminated film opposite to the one end side, The end surfaces of the base material, the resin layer, and the protective film are aligned, or on both one end side of the laminated film and the other end side opposite to the one end side, with respect to the end face of the resin layer. and the end surfaces of the protective film each protrude outward, and the protruding distance between the base material and the protective film on the other end side is the distance between the base material and the protective film on the one end side. A laminated film that is smaller than the protruding distance.
기재의 표면 상에, 수지층의 일단부측의 단부면에 대하여 상기 기재의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 수지층을 배치하는 제1 공정과,
상기 수지층의 상기 기재측과는 반대의 표면 상에, 상기 수지층의 상기 일단부측의 단부면에 대하여 보호 필름의 단부면이 외측으로 비어져 나오도록 보호 필름을 배치하는 제2 공정을 구비하고,
상기 제2 공정 후에, 상기 수지층의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면을 정렬시키거나, 또는 상기 제2 공정 후에, 상기 수지층의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리를, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작게 하는 제3 공정을 구비하고,
상기 수지층의 상기 일단부에 대응하는 적층 필름의 일단부측에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 적층 필름의 상기 일단부와는 반대의 타단부측에 있어서, 상기 기재와 상기 수지층과 상기 보호 필름의 단부면이 정렬되어 있거나, 또는 적층 필름의 일단부측과 상기 일단부와는 반대의 타단부측의 양쪽에 있어서, 상기 수지층의 단부면에 대하여 상기 기재와 상기 보호 필름의 단부면이 각각 외측으로 비어져 나와 있고, 상기 타단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리가, 상기 일단부측에 있어서의 상기 기재와 상기 보호 필름의 비어져 나와 있는 거리보다도 작은 적층 필름을 얻는, 적층 필름의 제조 방법.A method for producing the laminated film according to claim 1, comprising:
A first step of arranging a resin layer on the surface of a substrate so that the end surface of the substrate protrudes outward with respect to the end surface on one end of the resin layer;
A second step of arranging a protective film on a surface of the resin layer opposite to the substrate side so that the end surface of the protective film protrudes outward with respect to the end surface on the one end side of the resin layer, ,
After the second step, the end surfaces of the substrate, the resin layer, and the protective film are aligned on the other end side opposite to the one end of the resin layer, or after the second step, the end surfaces of the protective film are aligned. On the other end side of the stratum opposite to the one end side, the protruding distance between the base material and the protective film on the other end side is defined as the distance between the base material and the protective film on the one end side. A third process is provided to reduce the protruding distance,
On the one end side of the laminated film corresponding to the one end of the resin layer, the end surfaces of the substrate and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer, and the one end of the laminated film On the opposite end side, the end surfaces of the substrate, the resin layer, and the protective film are aligned, or on both one end side of the laminated film and the other end side opposite to the one end side, The end surfaces of the base material and the protective film each protrude outward with respect to the end surface of the resin layer, and the protrusion distance between the base material and the protective film on the other end side is the protrusion distance on the one end side. A method for producing a laminated film, wherein a laminated film is obtained that is smaller than the protruding distance between the base material and the protective film.
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