KR102480574B1 - System of manufacturing high concentrated chlorine deoxide - Google Patents
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Abstract
본 발명은 살균력이 우수한 이산화염소 가스를 나노버블 전위수에 투입 용해시키고 용해되지 않은 상태로 남은 이산화염소 가스를 회수하여 다음 순서로 직렬 연결된 나노버블 전위수에 재 투입시켜 용해시키는 과정을 다단계로 반복 운용하는 폐루프 방식이고 고농도 이산화염소수로의 농도조절이 용이하며 적은 용량의 순수한 이산화염소 가스로 대량 생산하고 잔여 이산화염소 가스는 포집과 다단계 처리를 거쳐 중화와 분해시켜 무해한 상태로 변환한 후 대기에 방출하므로 친환경적으로 운용하는 고농도 이산화염소수 제조 시스템에 관한 것으로 고압의 전위 인가에 의하여 높은 활성화 상태로 변환된 산소가 정제수에 나노버블 형태로 용해된 나노버블전위수를 생성하는 전위수 생성부, 아염소산나트륨과 무수구연산을 혼합하여 압력이 유지된 상태의 이산화염소를 생성하는 이산화염소 생성부, 전위수 생성부와 이산화염소 생성부에 각각 연결 설치되고 전위수 생성부로부터 나노버블전위수를 공급받고 이산화염소 생성부로부터 이산화염소를 공급받아 이산화염소수를 폐루프의 다단계로 각각 제조하는 염소수 조제부, 염소수 조제부에 연결 설치되어 다단계로 각각 제조된 이산화염소수를 각각 정량 배출하고 이산화염소수 제조 시스템을 구성하는 각 기능부를 감시하며 해당 제어신호를 각각 출력하는 정량조절제어부를 포함하는 특징에 의하여 활성도 높은 나노버블 전위수에 이산화염소 가스를 빠르게 용해시키므로 이산화염소수를 신속하게 대량 생산하고, 나노버블 전위수에 용해되지 않고 남은 이산화염소 가스를 회수하여 다음 단계의 나노버블 전위수에 다시 용해시키는 과정을 다단계 반복하므로 이산화염소수의 순도조절이 용이하고 적은 용량의 이산화염소 가스를 이용하여 대량의 이산화염소수를 빠르게 생산하며, 여분의 이산화염소 가스를 강제 포집하여 중화시키고 고온필터 처리하여 인체에 무해한 상태로 분해 한 후 대기 중에 방출하므로 생산과정이 매우 친환경적인 효과가 있다. In the present invention, the process of dissolving chlorine dioxide gas having excellent sterilization power into nano-bubble potential water, recovering the undissolved chlorine dioxide gas, and re-injecting it into nano-bubble potential water connected in series in the following order to dissolve it is repeated in multiple steps. It is a closed-loop operation method, and it is easy to control the concentration with high-concentration chlorine dioxide water. It produces a large amount of pure chlorine dioxide gas in a small volume, and the remaining chlorine dioxide gas is neutralized and decomposed through collection and multi-stage treatment, and converted to a harmless state before being returned to the atmosphere. It relates to a system for producing high-concentration chlorine dioxide water that is operated in an environmentally friendly manner because it emits a potential water generator that generates nano-bubble potential water in which oxygen converted to a highly activated state by applying a high-voltage potential is dissolved in nano-bubble form in purified water, a A chlorine dioxide generator that generates chlorine dioxide in a pressure-maintained state by mixing sodium chlorate and anhydrous citric acid, is connected to the potential water generator and the chlorine dioxide generator, respectively, and is supplied with nanobubble potential water from the potential water generator A chlorine water preparation unit that receives chlorine dioxide from the chlorine dioxide generation unit and produces chlorine dioxide in multiple stages in a closed loop. It is connected to the chlorine water preparation unit and discharges the chlorine dioxide water produced in multiple stages at a fixed rate, respectively. It monitors each functional part constituting the water manufacturing system and quickly dissolves chlorine dioxide gas in nano-bubble potential water with high activity by the feature including a quantitative control control unit that outputs the corresponding control signal, so that chlorine dioxide water is rapidly mass-produced. By repeating the process of recovering chlorine dioxide gas remaining undissolved in nano-bubble potential water and re-dissolving it in nano-bubble potential water in a multi-step process, it is easy to control the purity of chlorine dioxide water and using a small amount of chlorine dioxide gas It produces a large amount of chlorine dioxide water quickly, forcibly captures excess chlorine dioxide gas, neutralizes it, decomposes it in a harmless state by processing it with a high-temperature filter, and releases it into the atmosphere, so the production process is very eco-friendly.
Description
본 발명은 고농도 이산화염소수 제조 시스템에 관한 것으로 더욱 상세하게는 살균력이 우수한 이산화염소 가스를 나노버블 전위수에 투입 용해시키고 용해되지 않은 상태로 남은 이산화염소 가스를 회수하여 다음 순서로 직렬 연결된 나노버블 전위수에 재 투입시켜 용해시키는 과정을 다단계로 반복 운용하는 폐루프 방식이고 고농도 이산화염소수로의 농도조절이 용이하며 적은 용량의 순수한 이산화염소 가스로 대량 생산하고 잔여 이산화염소 가스는 포집과 다단계 처리를 거쳐 중화와 분해시켜 무해한 상태로 변환한 후 대기에 방출하므로 친환경적으로 운용하는 고농도 이산화염소수 제조 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a system for producing high-concentration chlorine dioxide water, and more particularly, by dissolving chlorine dioxide gas having excellent sterilizing power into nano-bubble potential water, and recovering the remaining undissolved chlorine dioxide gas to form nano-bubbles connected in series in the following order. It is a closed-loop method in which the process of re-injecting into potential water and dissolving it is operated repeatedly in multiple steps. It is about a high-concentration chlorine dioxide production system that is operated in an eco-friendly way because it is converted into a harmless state by neutralization and decomposition and then released into the atmosphere.
이산화염소는 강한 산화력으로 인하여 살균소독, 표백, 탈색 및 탈취 효과가 다른 염소계 소독제보다 탁월하다. 또한, 트리할로메탄(THMs), 할로 아세트 나이트릴(HANs), 할로아세텍 애시드(HAAs) 등의 발암성 유기할로겐계 화합물을 생성하지 않으며, 또 수중에 존재하는 다른 유기물과 반응하여 유기 염소계 화합물을 생성하지 않으므로 정수장의 수돗물, 하폐수의 살균소독 및 탈취제로 널리 사용되고 있다. 또한, 햇빛이나 온도에 의해 신속히 분해되어 잔유성이 없어 친환경성 소독제로도 알려져 있어 최근 그 관심이 높아지고 있다. Chlorine dioxide is superior to other chlorine-based disinfectants in disinfection, bleaching, decolorization and deodorization effects due to its strong oxidizing power. In addition, it does not generate carcinogenic organohalogen-based compounds such as trihalomethanes (THMs), haloacetanitriles (HANs), and haloacetac acids (HAAs), and reacts with other organic substances present in water to form organic chlorine-based compounds. Since it does not produce compounds, it is widely used as a disinfectant and deodorizer for tap water and wastewater at water purification plants. In addition, since it is quickly decomposed by sunlight or temperature and does not have residual oil, it is also known as an eco-friendly disinfectant, and interest in it has recently increased.
펄프와 섬유의 표백, 탈색 용도로 하루 수십 톤의 이산화염소가 필요한 곳에서는 소금을 무경막 고온 전기 분해하여 제조한 염소산나트륨(NaClO3)과 환원제인 아황산가스, 염산, 메틸알코올, 과산화수소 포르마린 등을 사용하여 이산화염소(ClO2)를 제조하였으며 그 반응식은 아래의 화학식 1 및 화학식 2 에서 보는 바와 같다. In places where tens of tons of chlorine dioxide per day is required for bleaching and decoloring of pulp and fibers, sodium chlorate (NaClO3) produced by non-film high-temperature electrolysis of salt and sulfurous acid gas as reducing agents, hydrochloric acid, methyl alcohol, and hydrogen peroxide formalin are used. To prepare chlorine dioxide (ClO2), the reaction schemes are as shown in Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2 below.
(화학식 1) (Formula 1)
2NaClO3 + H2SO3 → 2ClO2 + Na2SO4 + H2O 2NaClO3 + H2SO3 → 2ClO2 + Na2SO4 + H2O
(화학식 2)(Formula 2)
2NaClO3 + 4HCl → 2ClO2 + 2NaCl + 2H2O 2NaClO3 + 4HCl → 2ClO2 + 2NaCl + 2H2O
이와 같은 이산화염소 대용량 제조방식은 소금 정제 시설, 소금 전기분해 시설, 아황산가스 발생시설 등 큰 시설물의 장치와 설비가 필요한 대형 시설산업이므로 비교적 적은 용량의 이산화염소가 요구되는 곳에서 사용할 수 없었다. This large-capacity chlorine dioxide manufacturing method is a large-scale facility industry that requires equipment and equipment for large facilities such as salt refinery facilities, salt electrolysis facilities, and sulfurous acid gas generating facilities, so it could not be used where a relatively small amount of chlorine dioxide is required.
하루에 수십 내지 수백 Kg 의 이산화염소가 필요한 경우에는 원료로써 아염소산나트륨을 사용하여 이산화염소를 제조하는 방식을 채택하므로 해당 시설과 장치비가 비교적 저렴하고 간편하였으며, 이 경우에 산화제로서 염소, 염산, 차아염소산나트륨 등이 사용되었다. When tens to hundreds of Kg of chlorine dioxide is required per day, the method of manufacturing chlorine dioxide using sodium chlorite as a raw material is adopted, so the facility and equipment costs are relatively inexpensive and simple. In this case, chlorine, hydrochloric acid, Sodium hypochlorite and the like were used.
한편, 아염소산나트륨과 염소를 이용하여 이산화염소를 제조하는 경우에는 아래와 같은 화학식 3 의 반응식이 적용된다. On the other hand, in the case of producing chlorine dioxide using sodium chlorite and chlorine, the following reaction formula (3) is applied.
(화학식 3) (Formula 3)
2NaClO2 +Cl2 → 2ClO2 + 2NaCl 2NaClO2 +Cl2 → 2ClO2 + 2NaCl
그러나 화학식 3 과 같은 방식으로 이산화염소를 제조하는 경우에는 맹독성이고 고압의 염소가스를 취급하게 되어 매우 위험하며, 염소 누출 시를 대비한 안전시설과 전문 인력이 배치되어야 하고 농도가 낮은 저농도의 이산화염소 수용액을 소용량 제조하기 어려운 문제점이 있다. However, when chlorine dioxide is produced in the same way as in Chemical Formula 3, it is very dangerous to deal with toxic and high-pressure chlorine gas, and safety facilities and professional personnel must be deployed in case of chlorine leakage, and low-concentration chlorine dioxide with low concentration There is a problem in that it is difficult to prepare a small amount of an aqueous solution.
또한, 이산화염소 제조의 다른 방법은 아염소산나트륨과 황산 또는 염산을 이용하는 것으로 아래의 화학식 4 및 화학식 5 의 반응식이 적용된다. In addition, another method of producing chlorine dioxide is to use sodium chlorite and sulfuric acid or hydrochloric acid, and the following reaction formulas (4) and (5) are applied.
(화학식 4)(Formula 4)
5NaClO2 + H2SO4 → 4ClO2 + 2Na2SO4 + NaCl + 2H2O 5NaClO2 + H2SO4 → 4ClO2 + 2Na2SO4 + NaCl + 2H2O
(화학식 5) (Formula 5)
5NaClO2 + 4HCl → 4ClO2 + 5NaCl + 2H2O 5NaClO2 + 4HCl → 4ClO2 + 5NaCl + 2H2O
(화학식 6) (Formula 6)
2NaClO2 + NaClO + H2SO4 → 2ClO2 + Na2SO4 + NaCl + H2O2NaClO2 + NaClO + H2SO4 → 2ClO2 + Na2SO4 + NaCl + H2O
(화학식 7) (Formula 7)
2NaClO2 + NaClO + 2HCl → 2ClO2 + 3NaCl + H2O 2NaClO2 + NaClO + 2HCl → 2ClO2 + 3NaCl + H2O
화학식 6 또는 7 을 이용하는 이산화염소 제조장치는 반응물의 비율과 농도, 반응물의 신속하고 균일한 혼합, 산의 농도 등을 적절하게 제어함으로써 ClO2-, ClO3-, Cl2, ClO-, Cl- 등의 부산물을 최소화한다. Chlorine dioxide production apparatus using Chemical Formula 6 or 7 appropriately controls the ratio and concentration of reactants, rapid and uniform mixing of reactants, concentration of acid, etc. by-products such as ClO2-, ClO3-, Cl2, ClO-, Cl- to minimize
한편, 이러한 반응식에서 아염소산염과 황산 또는 무기산 염산이 일정한 농도 이상인 경우 아염소산염의 불균등 분해 반응이 빠르게 일어나면서 차아염소산(HClO)과 염소산(HClO3)이 아래의 화학식 8 반응식과 같이 생성된다. On the other hand, in this reaction scheme, when chlorite and sulfuric acid or inorganic hydrochloric acid are at a certain concentration or higher, the heterogeneous decomposition reaction of chlorite occurs quickly, and hypochlorous acid (HClO) and chloric acid (HClO3) are generated as shown in the chemical formula 8 below.
(화학식 8) (Formula 8)
2NaClO2 + 2HCl → HClO3 + HClO + 2NaCl 2NaClO2 + 2HCl → HClO3 + HClO + 2NaCl
또한, 이러한 반응이 잘 이루어지는 반응조건과 반응이 잘 진행되는 진행조건을 알아내거나 확보하는 것이 비교적 매우 어려워 고순도가 일정하게 유지되는 이산화염소 수용액을 높은 수율로 지속 생산하기 어렵다는 문제가 있다. In addition, there is a problem in that it is relatively difficult to find out or secure the reaction conditions in which these reactions occur well and the progress conditions in which the reaction proceeds well.
이러한 문제를 일부 해결한 종래 기술로 대한민국 특허 등록번호 제10-1870282호(2018. 06. 18.)에 의한 것으로 ‘이산화염소를 이용한 살균수 제조 장치’가 있다. As a prior art that partially solves these problems, there is a 'sterilizing water manufacturing device using chlorine dioxide' according to Korean Patent Registration No. 10-1870282 (2018. 06. 18.).
도 1 은 종래기술의 일 실시 예에 의한 이산화염소수 제조장치 기능 구성도 이다. 1 is a functional block diagram of an apparatus for producing chlorine dioxide water according to an embodiment of the prior art.
이하, 첨부된 도면을 상세히 설명하면 이산화염소의 원료(10)를 원료펌프(40)에 의하여 반응조에 투입 한 후 전기반응에 의하여 생성된 이산화염소를 에어펑프(20)와 3단자 밸브(50)를 구동시켜 저장용기(200)로 이송하여 이산화염소수를 생성한다. 이산화염소수는 조절펌프(300)와 제 1 벤츄리 인젝터(500)에 의하여 물이흐르는 수도배관(70)에 투입되어 희석되며, 제 2 벤츄리 인젝터(600)에 의하여 센서모듈(100)에 투입되므로 농도가 감지되고, 감지된 농도에 의하여 조절펌프(300)를 제어하므로 이산화염소의 농도를 조절하는 구성이다. Hereinafter, the accompanying drawings will be described in detail. After the
종래기술은 생성된 이산화염소수의 희석을 간편하게 처리하는 장점이 있으나 농도의 정확성을 유지하기 어려운 등의 문제가 여전히 남아 있다. The prior art has the advantage of conveniently handling the dilution of the generated chlorine dioxide water, but problems such as difficulty in maintaining the accuracy of the concentration still remain.
따라서 적은 용량의 이산화염소 가스를 효율적으로 이용하고 높은 활성도의 전위수를 사용하여 순도 조절이 용이하면서도 순도가 높은 이산화염소수를 친환경적으로 안전하게 대량 반복 생산하는 기술을 개발할 필요가 있다. Therefore, it is necessary to develop a technology that efficiently uses a small amount of chlorine dioxide gas and uses potential water with high activity to easily control the purity and safely and repeatedly produces high-purity chlorine dioxide in an eco-friendly manner.
상기와 같은 종래 기술의 문제점과 필요성을 해소하기 위하여 안출한 본 발명은 활성도 높은 나노버블 전위수에 이산화염소 가스를 빠르게 용해시키므로 이산화염소수를 신속하게 생산하는 고농도 이산화염소수 제조 시스템을 제공하는 것이 그 목적이다. The present invention, which was devised to solve the problems and needs of the prior art as described above, is to provide a high-concentration chlorine dioxide water production system that rapidly produces chlorine dioxide water by quickly dissolving chlorine dioxide gas in highly active nanobubble potential water. that's the purpose
한편, 본 발명은 이산화염소수 생산에서 활성도 높은 나노버블 전위수에 용해되지 않고 남은 이산화염소 가스를 회수하여 다음 단계의 나노버블 전위수에 다시 용해시키는 과정을 다단계 반복하므로 이산화염소수의 순도조절이 용이하고 적은 용량의 이산화염소 가스를 이용하여 대량의 이산화염소수를 빠르게 생산하는 고농도 이산화염소수 제조 시스템을 제공하는 것이 그 목적이다. On the other hand, the present invention recovers the remaining chlorine dioxide gas that is not dissolved in the highly active nano-bubble potential water in the production of chlorine dioxide water and repeats the process of dissolving it in the nano-bubble potential water in the next step in multiple steps, so that the purity of the chlorine dioxide water can be adjusted. Its object is to provide a high-concentration chlorine dioxide water production system that quickly produces a large amount of chlorine dioxide water using a small amount of chlorine dioxide gas.
또한, 본 발명은 이산화염소수 생산 과정에서 여분의 이산화염소 가스를 강제 포집하여 중화시키고 고온필터 처리하여 인체에 무해한 상태로 분해 한 후 대기 중에 방출하므로 생산과정이 매우 친환경적인 고농도 이산화염소수 제조 시스템을 제공하는 것이 그 목적이다. In addition, the present invention forcibly captures and neutralizes excess chlorine dioxide gas in the process of producing chlorine dioxide water, processes it with a high-temperature filter, decomposes it in a harmless state to the human body, and releases it into the atmosphere, so that the production process is very environmentally friendly. Its purpose is to provide
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 안출한 본 발명의 이산화염소수 제조 시스템은 고압의 전위 인가에 의하여 높은 활성화 상태로 변환된 산소가 정제수에 나노버블 형태로 용해된 나노버블전위수를 생성하는 전위수 생성부(1000); 아염소산나트륨과 무수구연산을 혼합하여 압력이 유지된 상태의 이산화염소를 생성하는 이산화염소 생성부(2000); 상기 전위수 생성부(1000)와 이산화염소 생성부(2000)에 각각 연결 설치되고 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 공급받고 상기 이산화염소 생성부(2000)로부터 이산화염소를 공급받아 이산화염소수를 폐루프의 다단계로 각각 제조하는 염소수 조제부(3000); 상기 염소수 조제부(3000)에 연결 설치되어 다단계로 각각 제조된 이산화염소수를 각각 정량 배출하고 이산화염소수 제조 시스템을 구성하는 각 기능부를 감시하며 해당 제어신호를 각각 출력하는 정량조절제어부(4000); 를 포함할 수 있다. The chlorine dioxide water production system of the present invention, devised to achieve the above object, is a potential water that generates nanobubble potential water in which oxygen converted to a highly activated state by applying a high voltage potential is dissolved in the purified water in the form of nanobubbles. generating
상기 정량조절제어부(4000)에 연결 설치되어 다단계로 각각 제조된 이산화염소수를 각각 정량 공급받아 저장하고 교반하여 균일한 농도를 유지하는 저장교반부(5000); 를 더 포함할 수 있다. A
상기 염소수 조제부(3000)와 저장교반부(5000)에 각각 연결 설치되며 여분의 이산화염소 가스를 각각 포집하여 중화시키고 가열하여 친환경적이며 무해한 공기로 변환 시킨 후 대기중에 배출하는 중화가열배출부(6000); 를 더 포함할 수 있다.The chlorine
상기 전위수 생성부(1000)는 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 산소를 발생하는 산소발생장치(1010); 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 고전압의 전위 신호를 발생하는 고전압발생부(1020); 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정제수를 정량으로 공급시키는 정제수정량펌프(1030); 상기 산소발생장치(1010)에 연결되고 발생된 산소를 유입하여 습기를 제거시키는 산소건조부(1040): 상기 고전압발생부(1020)의 고전압 신호를 인가받고 상기 산소건조부(1040)로부터 배출되는 산소에 전위를 인가하여 활성화 산소를 생성하는 전위발생기(1050): 상기 전위발생기(1050)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 활성화 산소를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 전위수방향성밸브(1060); 상기 정제수정량펌프(1030)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정제수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 전위수방향성밸브(1070); 상기 제 2 방향성밸브(1070)에 연결되어 유입되는 정제수로부터 이물질을 여과하는 제 1 필터(1080); 상기 제 1 필터(1080)에 연결되고 유입되는 정제수에 활성화 산소를 나노버블 형태로 혼합시켜 나노버블전위수를 제조하고 저장하는 나노버블전위수제조탱크(1090); 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부에 설치되어 유입되는 정제수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 1 레벨센서(1100); 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 전위수순환방향성밸브(1110); 상기 전위수순환방향성밸브(1110)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)로부터 정량 인출하고 다시 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)에 공급시키는 나노버블전위수정량순환펌프(1120); 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제 1 나노버블전위수정량펌프(1120)가 정량 공급하는 나노버블전위수의 흐름에 의하여 상기 제 1 전위수방향성밸브(1060)가 공급하는 활성화산소를 나노버블 형태로 유입하고 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)에 공급하는 나노버블발생기(1130); 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부에 설치되고 나노버블전위수의 활성산소 농도를 측정하는 전위수농도측정부(1140); 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 하단면 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 전위수방향성밸브(1150); 상기 제 3 전위수방향성밸브(1150)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)로부터 정량 인출하여 염소수 제어부(3000)에 공급시키는 나노버블전위수정량공급펌프(1160); 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부 압력을 측정하는 전위수압력측정부(1170); 를 포함할 수 있다. The potential water generating unit 1000 includes an oxygen generating device 1010 generating oxygen according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000; a high voltage generator 1020 generating a high voltage potential signal according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000; Purification correction pump 1030 for supplying purified water in a fixed amount according to the corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000; An oxygen drying unit 1040 connected to the oxygen generator 1010 and introducing generated oxygen to remove moisture: receiving a high voltage signal from the high voltage generator 1020 and discharging from the oxygen drying unit 1040 Potential generator 1050 for generating activated oxygen by applying a potential to oxygen: An agent connected to the potential generator 1050 and allowing or blocking active oxygen to flow in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000 1 potential directional valve 1060; A second potential water directional valve 1070 connected to the purified water pump 1030 and allowing or blocking the flow of purified water in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000; A first filter 1080 connected to the second directional valve 1070 and filtering foreign substances from the introduced purified water; a nano-bubble potential water production tank 1090 connected to the first filter 1080 and mixing active oxygen with purified water in the form of nano-bubbles to prepare and store nano-bubble potential water; A first level sensor 1100 installed inside the nano-bubble potential water production tank 1090 to measure the level of the incoming purified water and notify the quantitative adjustment control unit 4000; A potential water circulation directional valve 1110 that is connected to the nano-bubble potential water production tank 1090 and circulates nano-bubble potential water in a selected direction according to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 or blocks the circulation. ; It is connected to the potential water circulation
상기 이산화염소 생성부(2000)는 아염소산나트륨이 정제수에 24 % 농도로 희석된 아염소산나트륨수 80 리터가 저장되는 에이제 탱크(2010); 상기 에이제 탱크(2010)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정량의 아염소산나트륨수를 배출시키는 에이제 정량펌프(2020); 상기 에이제 정량펌프(2020)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 아염소산나트륨수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 에이제 방향성밸브(2030); 무수구연산 25 킬로그람(Kg)이 40 리터의 정제수에 용해된 무수구연산수가 저장되는 비제 탱크(2040); 상기 비제 탱크(2040)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정량의 무수구연산수를 배출시키는 비제 정량펌프(2050); 상기 비제 정량펌프(2050)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 무수구연산수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 비제 방향성밸브(2060); 상기 에이제 방향성밸브(2030)와 비제 방향성밸브(2060)에 각각 연결되어 아염소산나트륨수와 무수구연산수를 공급받고 반응시켜 이산화염소수를 제조하는 에이비제반응기(2070); 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 산소를 발생하는 산소발생기(2080); 상기 산소발생기(2080)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 발생된 산소를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 산소방향성밸브(2090); 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 정량으로 유입시키는 염소가스정량유입펌프(2100); 상기 에이비제반응기(2070)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 염소가스정량유입펌프(2100)가 정량으로 공급하는 이산화염소 가스의 흐름에 의하여 상기 산소방향성밸브(2090)가 공급하는 산소를 유입하고 상기 에이비제반응기(2070)에 공급하는 산소정압벤츄리부(2110); 상기 에이비제반응기(2070)의 상측 일단부에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 염소가스 방향성밸브(2120); 를 포함할 수 있다. The chlorine dioxide generating unit 2000 includes an agent tank 2010 in which 80 liters of sodium chlorite diluted in purified water with sodium chlorite at a concentration of 24% are stored; An AJ metering pump 2020 connected to the AJ tank 2010 and discharging a fixed amount of sodium chlorite water in response to a corresponding control signal of the AJ tank 2010; An AJ directional valve 2030 connected to the AJ metering pump 2020 and configured to flow or block sodium chlorite water in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000; A Bizet tank 2040 in which 25 kilograms (Kg) of anhydrous citric acid is dissolved in 40 liters of purified water to store anhydrous citric acid water; A non-jet metering pump 2050 connected to the non-jet tank 2040 and discharging a fixed amount of anhydrous citric acid water according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000; A non-made directional valve 2060 connected to the non-made metering pump 2050 and configured to flow or block anhydrous citric acid water in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000; A BJ reactor 2070 connected to the AJ directional valve 2030 and the BJ directional valve 2060 to receive and react with sodium chlorite and anhydrous citric acid to produce chlorine dioxide; An oxygen generator 2080 generating oxygen according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000; An oxygen directional valve 2090 connected to the oxygen generator 2080 and configured to flow or block oxygen generated by a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000 in a selected direction; A chlorine gas metering inlet pump 2100 for introducing chlorine dioxide gas in a metered amount according to a corresponding control signal of the metering control unit 4000; Oxygen supplied by the oxygen directional valve 2090 is introduced by the flow of chlorine dioxide gas connected to the lower end of one side of the ABJ reactor 2070 and supplied by the chlorine gas metering inlet pump 2100 in a fixed amount, An oxygen constant pressure venturi unit 2110 supplying the ABJ reactor 2070; A chlorine gas directional valve 2120 connected to one end of the upper side of the ABJ reactor 2070 and configured to flow or block chlorine dioxide gas in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000; can include
상기 염소수 조제부(3000)는 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 상기 염소수 조제부(2000)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시키는 제 1 제 조제부(3100); 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 상기 제 1 제 조제부(3100)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시키는 제 2 제 조제부(3200); 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 상기 제 2 제 조제부(3200)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시키는 제 3 제 조제부(3300); 를 포함할 수 있다. The chlorine
상기 제 1 제 조제부(3100)는 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 제 양방향성밸브(3110); 상기 제 1 제 양방향성밸브(3110)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 상기 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 1 염소수를 조제하는 제 1 염소수탱크(3120); 상기 제 1 염소수탱크(3120)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 제 1 염소수일방향성밸브(3130); 상기 제 1 염소수일방향성밸브(3130)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제1 염소수를 상기 제 1 염소수탱크(3120)로부터 정량 인출하고 다시 상기 제 1 염소수탱크(3120)에 공급시키는 제1염소수정량순환펌프(3140); 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제1염소수정량순환펌프(3140)가 정량 공급하는 제1염소수의 흐름에 의하여 상기 이산화염소생성부(2000)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 상기 제 1 염소수탱크(3120)에 공급하는 제 1 벤츄리(3150); 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 1 염소수레벨센서(3160); 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부에 설치되고 제 1 염소수의 농도를 측정하여 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 1 염소수농도측정부(3170); 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부 압력을 측정하는 제 1 염소압력측정부(3180); 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부 상측에 설치되고 제 1 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수하는 제 1 염소가스 회수부(3190); 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 1 염소수탱크(3120) 내부의 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출하는 제 1 염소가스배출밸브(3192); 를 포함할 수 있다. The
상기 제 2 제 조제부(3200)는 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 제 양방향성밸브(3210); 상기 제 2 제 양방향성밸브(3210)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 상기 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 2 염소수를 조제하는 제 2 염소수탱크(3220); 상기 제 2 염소수탱크(3220)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 제 2 염소수일방향성밸브(3230); 상기 제 2 염소수일방향성밸브(3230)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 상기 제 2 염소수탱크(3220)로부터 정량 인출하고 다시 상기 제 2 염소수탱크(3220)에 공급시키는 제 2 염소수정량순환펌프(3240); 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제2염소수정량순환펌프(3240)가 정량 공급하는 제2 염소수의 흐름에 의하여 상기 제 1 제 조제부(3100)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 상기 제 2 염소수탱크(3220)에 공급하는 제 2 벤츄리(3250); 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 2 염소수레벨센서(3260); 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부에 설치되고 제 2 염소수의 농도를 측정하여 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 2 염소수농도측정부(3270); 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부 압력을 측정하는 제 2 염소압력측정부(3280); 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부 상측에 설치되고 제 2 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수하는 제 2 염소가스 회수부(3290); 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 2 염소수탱크(3220) 내부의 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출하는 제 2 염소가스배출밸브(3292); 상기 제 1 염소수탱크(3120)로부터 회수되는 이산화염소 가스를 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 염소가스방향성밸브(3294); 를 포함할 수 있다. The
상기 제 3 제 조제부(3300)는 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 제 양방향성밸브(3310); 상기 제 3 제 양방향성밸브(3310)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 상기 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 3 염소수를 조제하는 제 3 염소수탱크(3320); 상기 제 3 염소수탱크(3320)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 제 3 염소수일방향성밸브(3330); 상기 제 3 염소수일방향성밸브(3330)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 상기 제 3 염소수탱크(3320)로부터 정량 인출하고 다시 상기 제 3 염소수탱크(3320)에 공급시키는 제 3 염소수정량순환펌프(3340); 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제3염소수정량순환펌프(3340)가 정량 공급하는 제3 염소수의 흐름에 의하여 상기 제 2 제 조제부(3200)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 상기 제 3 염소수탱크(3320)에 공급하는 제 3 벤츄리(3350); 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 3 염소수레벨센서(3360); 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부에 설치되고 제 3 염소수의 농도를 측정하여 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 3 염소수농도측정부(3370); 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부 압력을 측정하는 제 3 염소압력측정부(3380); 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부 상측에 설치되고 제 3 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수하는 제 3 염소가스 회수부(3390); 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 3 염소수탱크(3320) 내부의 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출하는 제 3 염소가스배출밸브(3392); 상기 제 2 염소수탱크(3220)로부터 회수되는 이산화염소 가스를 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 염소가스방향성밸브(3394); 를 포함할 수 있다. The third bi-directional valve (the third bi-directional valve ( 3310); The chlorine dioxide gas connected to the third
상기 정량조절제어부(4000)는 상기 염소수 조제부(3000)의 제 1 염소수탱크(3120)에 저장된 제 1 염소수를 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 염소수 인출밸브(4010); 상기 염소수 조제부(3000)의 제 2 염소수탱크(3220)에 저장된 제 2 염소수를 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 염소수 인출밸브(4020); 상기 염소수 조제부(3000)의 제 3 염소수탱크(3320)에 저장된 제 3 염소수를 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 염소수 인출밸브(4030); 상기 고농도 이산화염소수 제조 시스템을 구성하는 각 기능부를 감시하며 해당 제어신호를 각각 출력하는 이산화염소중앙제어부(4040); 상기 제 1 염소수 인출밸브(4010)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수를 정량 유입하는 제1정량유입펌프(4050); 상기 제 2 염소수 인출밸브(4020)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 정량 유입하는 제2정량유입펌프(4060); 상기 제 3 염소수 인출밸브(4030)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 정량 유입하는 제3정량유입펌프(4070); 상기 제 1 정량유입펌프(4050)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 1 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 염소수 공급밸브(4080); 상기 제 2 정량유입펌프(4060)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 2 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 염소수 공급밸브(4090); 상기 제 3 정량유입펌프(4070)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 3 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 염소수 공급밸브(4100); 를 포함할 수 있다.The quantitative
상기 저장교반부(5000)는 상기 정량조절제어부(4000)의 제 1 염소수 공급밸브(4080)와 제 2 염소수 공급밸브(4090)와 제 3 염소수 공급밸브(4100)에 각각 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의해 각각 정해진 정량이 유입되는 제 1 염소수와 제 2 염소수와 제 3 염소수를 공급받아 저장하고 혼합시켜 이산화염소수를 제조하는 염소수제조탱크(5100); 상기 염소수제조탱크(5100)의 내부 일부분에 설치되고 각각의 해당 정량으로 유입되는 제 1 염소수와 제 2 염소수와 제 3 염소수가 혼합되어 제조된 이산화염소수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제조탱크 레벨센서(5200); 상기 염소수제조탱크(5100)의 외부 일부분에 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 해당 구동축의 회전속도가 조절되는 교반구동부(5300); 상기 염소수제조탱크(5100)의 내부 일부분에 회전 상태로 설치되고 연결 설치된 교반구동부(5300)의 회전 구동력을 인가받아 교반날개(5410)를 회전 구동하는 회전교반부(5400); 상기 염소수제조탱크(5100)의 하단 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제조된 이산화염소수를 배촐하는 배출밸브(5500); 상기 염소수제조탱크(5100)의 상단 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 선택된 일방향으로 배출하거나 차단하는 가스배출밸브(5600); 를 포함할 수 있다. The storage and
상기 중화가열배출부(6000)는 상기 염소수 조제부(3000)로부터 배출되는 이산화염소 가스와 상기 저장교반부(5000)로부터 배출되는 이산화염소 가스를 각각 유입하고 티오황산나트륨으로 염소가스를 중화시켜 1 차로 정화시키는 염소중화부(6100); 상기 염소중화부(6100)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 중화된 가스를 정량 배출시키는 중화가스정량배출펌프(6200); 상기 중화가스정량배출펌프(6200)에 연결 설치되고 유입된 가스를 고온으로 가열하여 2차로 정화시키며 이물질을 여과시켜 3 차로 정화시킨 후 대기중으로 방출하는 가열필터부(6300); 를 포함할 수 있다. The neutralization heating and discharging
상기와 같은 구성의 본 발명은 활성도 높은 나노버블 전위수에 이산화염소 가스를 빠르게 용해시키므로 이산화염소수를 신속하게 대량 생성하는 장점이 있다. The present invention having the configuration as described above has the advantage of rapidly generating a large amount of chlorine dioxide water because the chlorine dioxide gas is quickly dissolved in the highly active nanobubble potential water.
한편, 본 발명은 활성도 높은 나노버블 전위수에 용해되지 않고 남은 이산화염소 가스를 회수하여 다음 단계의 나노버블 전위수에 다시 용해시키는 과정을 다단계 반복하므로 이산화염소수의 순도조절이 용이하고 적은 용량의 이산화염소 가스를 이용하여 대량의 이산화염소수를 빠르게 생산하는 장점이 있다. On the other hand, the present invention recovers the remaining chlorine dioxide gas that is not dissolved in the highly active nanobubble potential water and repeats the process of dissolving it in the nanobubble potential water in the next step in multiple steps, so it is easy to control the purity of the chlorine dioxide water and There is an advantage in rapidly producing a large amount of chlorine dioxide water using chlorine dioxide gas.
또한, 본 발명은 여분의 이산화염소 가스를 강제 포집하여 중화시키고 고온필터 처리하여 인체에 무해한 상태로 분해 한 후 대기 중에 방출하므로 생산과정이 매우 친환경적인 장점이 있다. In addition, the present invention forcibly collects and neutralizes excess chlorine dioxide gas, processes it with a high-temperature filter, decomposes it in a state harmless to the human body, and releases it into the atmosphere, so the production process is very environmentally friendly.
도 1 은 종래기술의 일 실시 예에 의한 이산화염소수 제조장치 기능 구성도,
도 2 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 고농도 이산화염소수 제조 시스템의 기능 구성도,
도 3 은 본 발명의 일 실시 예에 의한 전위수 생성부의 세부 기능 구성도,
도 4 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 이산화염소 생성부의 세부 기능 구성도,
도 5 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 염소수 조제부의 세부 기능 구성도,
도 6 은 본 발명의 일 실시 예에 의한 정량조절제어부의 세부 기능 구성도,
도 7 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 저장교반부의 세부 기능 구성도,
그리고
도 8 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 중화가열배출부의 세부 기능 구성도 이다. 1 is a functional block diagram of an apparatus for producing chlorine dioxide water according to an embodiment of the prior art;
2 is a functional block diagram of a system for producing high-concentration chlorine dioxide water according to an embodiment of the present invention;
3 is a detailed functional configuration diagram of a potential number generation unit according to an embodiment of the present invention;
4 is a detailed functional configuration diagram of a chlorine dioxide generator according to an embodiment of the present invention;
5 is a detailed functional configuration diagram of a chlorine water preparation unit according to an embodiment of the present invention;
6 is a detailed functional configuration diagram of a quantitative control unit according to an embodiment of the present invention;
7 is a detailed functional configuration diagram of a storage stirring unit according to an embodiment of the present invention;
And
8 is a detailed functional configuration diagram of a neutralization heating discharge unit according to an embodiment of the present invention.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. Since the present invention can apply various transformations and have various embodiments, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all conversions, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technologies may obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.
이하에서 정량이란 정해진 용량이 정해진 속도로 흐로도록 하는 상태를 의미하고, 각각의 기능부에 따라 정량의 해당 값은 각각 다를 수 있으나 정량으로 일관되게 표현하기로 한다. Hereinafter, quantification means a state in which a predetermined capacity flows at a predetermined speed, and the corresponding value of quantification may be different depending on each functional unit, but it will be consistently expressed as quantification.
도 2 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 고농도 이산화염소수 제조 시스템의 기능 구성도 이고, 도 3 은 본 발명의 일 실시 예에 의한 전위수 생성부의 세부 기능 구성도 이며, 도 4 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 이산화염소 생성부의 세부 기능 구성도 이고, 도 5 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 염소수 조제부의 세부 기능 구성도 이며, 도 6 은 본 발명의 일 실시 예에 의한 정량조절제어부의 세부 기능 구성도 이고, 도 7 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 저장교반부의 세부 기능 구성도 이며, 도 8 는 본 발명의 일 실시 예에 의한 중화가열배출부의 세부 기능 구성도 이다. 2 is a functional configuration diagram of a high-concentration chlorine dioxide water production system according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a detailed functional configuration diagram of a potential water generator according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is a detailed functional configuration diagram of a chlorine dioxide generation unit according to an embodiment, and FIG. 5 is a detailed functional configuration diagram of a chlorine water preparation unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a quantitative control control unit according to an embodiment of the present invention 7 is a detailed functional configuration diagram of the storage agitation unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a detailed functional configuration diagram of the neutralization heating discharge unit according to an embodiment of the present invention.
멸균(sterilization) 또는 소독(disinfection) 공정은 보호대상 물체의 표면 또는 그 내부에 분포하는 세균을 완전히 죽이거나 소멸시키는 것으로, 멸균은 무균(無菌)의 상태로 만드는 과정이고, 소독은 대상 물체의 표면 또는 그 내부에 있는 병원균을 죽여 전파력 또는 감염력을 제거하므로 안전한 상태로 만드는 과정이며, 멸균이 소독의 가장 안전한 형태이다. The sterilization or disinfection process completely kills or destroys bacteria distributed on the surface or inside of the object to be protected. Sterilization is the process of making it sterile, and disinfection is the surface of the object to be protected. Or it is a process that makes it safe because it kills the pathogens inside and removes the power of transmission or infection, and sterilization is the safest form of disinfection.
즉, 소독은 병원성미생물(이하, ‘미생물’이라 한다.)을 제거하거나 또는 활동하지 못하게 하여 감염력을 억제시켜 미생물에 의한 오염을 방지하는 과정이고, 살균은 모든 미생물을 완전히 제거하여 무균상태로 만드는 과정이며, 일반적인 미생물은 외계 또는 대기 중에 노출된 상태에서 저항력이 약하므로 비병원성의 미생물 보다 쉽게 제거할 수 있다. That is, disinfection is a process of preventing contamination by microorganisms by suppressing infectivity by removing or inactivating pathogenic microorganisms (hereinafter referred to as 'microorganisms'), and sterilization is a process of completely removing all microorganisms to make them sterile It is a process, and since general microorganisms have weak resistance when exposed to the outside world or the atmosphere, they can be removed more easily than non-pathogenic microorganisms.
미생물은 그 종류에 따라 살균작용에 대한 저항력이 다르며 특히, 포자 형성균의 경우에는 보통의 살균조건에서 휴면상태로 있다가 조건이 좋아지면 다시 증식하고, 같은 종류의 세균이라 해도 식품, 혈액, 가래, 분변 등의 단백질과 공존하는 경우 생리식염수에 현탁 되어있는 경우보다 훨씬 저항력이 강해진다. Microorganisms have different resistance to sterilization depending on their type. In particular, in the case of spore-forming bacteria, they remain dormant under normal sterilization conditions and proliferate again when conditions improve, and even bacteria of the same type can be used in food, blood, and phlegm. When coexisting with protein, such as feces, the resistance becomes much stronger than when suspended in physiological saline.
병원균이 전염될 때는 단백질과 공존하는 경우가 일반적이므로 살균조건은 그 대상, 목적에 따라 여러 가지 살균 또는 소독방법이 있다. When pathogens are transmitted, they usually coexist with proteins, so there are various sterilization or disinfection methods depending on the target and purpose of sterilization.
소독(消毒)은 병의 감염이나 전염을 막기 위하여 병원균을 제거하고 특히, 저항력 없는 박테리아 포자와 같은 미생물은 제거하지 못하며, 모든 미생물을 제거하는 극한의 물리적, 화학적 과정을 거치는 살균보다 영향이 덜한 햇빛, 열, 약품 등으로 소독을 진행한다. Disinfection (消毒) removes pathogens to prevent infection or transmission of disease, and in particular, cannot remove microorganisms such as non-resistant bacterial spores. , heat, chemicals, etc. to disinfect.
일반적으로 화학적 소독법은 소독약제로 세균을 제거하는 방식이며, 액체를 사용하는 경우와 기체를 사용하는 경우가 있고, 물리적 소독법은 완전하다 할 수 있으나 대상물에 따라 실시할 수 없는 경우도 있다. In general, chemical disinfection is a method of removing bacteria with a disinfectant, and sometimes liquid or gas is used.
소독약이 구비할 조건은 살균력이 강하고 무해(無害)하며, 취급 방법이 간단하고, 소독 대상물을 손상시키지 않으며 생산이 용이하고 값이 저렴하며, 냄새가 없는 것이 비교적 바람직하다. The conditions to be provided for the disinfectant are strong sterilization, harmless, simple handling, no damage to the object to be disinfected, easy to produce, inexpensive, and odorless.
소독약으로 석탄산(C6H5OH), 크레졸 비누액(크레졸, CH3C6H4OH), 포름알데히드(HCHO), 승홍수(염화제2수은, HgCl2), 알콜제, 역성비누액, 염소제(염소, 표백분, 차이산화염소 나트륨, 염소무기 화합물), 요드제, 생석회, 과산화수소, 약용비누, 머어규로크롬액 등이 용도와 대상물과 전염병 종류에 따라 선택적으로 사용되고 있다. As a disinfectant, phenolic acid (C6H5OH), cresol soap solution (cresol, CH3C6H4OH), formaldehyde (HCHO), sublime water (mercuric chloride, HgCl2), alcohol, reverse soap solution, chlorine agent (chlorine, bleaching powder, dibasic chlorine dioxide) , chlorine inorganic compounds), iodine, quicklime, hydrogen peroxide, medicinal soap, marguerochrome liquid, etc. are selectively used depending on the purpose, object, and type of infectious disease.
석탄산은 3 % 농도의 수용액을 사용하고 세균단백 응고작용, 세포 용해작용, 효소계 작용 등에 따라 살균작용하며, 결점은 피부점막에 자극성, 마비성, 금속 부식성, 바이러스와 아포에 대한 효력이 적으며 장점은 살균력에 안전성 있고 오래 보관해도 화학변화가 이루어지지 않는 특징이 있으며 의류, 용기, 오물, 대변, 토사물 등의 소독에 적합한 것으로 알려져 있다. Phenolic acid uses a 3% concentration aqueous solution and sterilizes according to bacterial protein coagulation, cell lysis, enzyme system, etc. The disadvantages are irritation to the skin mucous membrane, paralysis, metal corrosion, and low effectiveness against viruses and spores. Silver is safe in its sterilizing power and does not undergo chemical change even when stored for a long time, and is known to be suitable for disinfection of clothes, containers, dirt, feces, and vomit.
크레졸 비누액은 물에 잘 녹지 않으므로 크레졸 비누액 3 에 물 97 의 비율로 희석하여 크레졸비누액을 만들어 사용하고, 소독력이 강해서 석탄산의 2배 소독효과가 있으며, 바이러스에는 소독효과가 적으나 세균소독에는 효과가 큰 것으로 알려져 있다. Since cresol soap solution is not well soluble in water, it is used to make cresol soap solution by diluting it at a ratio of 3 parts of cresol soap solution to 97 parts of water. is known to be highly effective.
포름알데히드는 메틸알콜(메탄올)을 산화시켜 만든 가스체이며 강한 자극성의 냄새가 있고 물에 잘 용해되며 환원력이 강하고 낮은 농도에서도 살균작용이 있으며 메틸알콜을 사용한 간단한 발생기가 있고, 밀폐된 실내나 특별하게 만든 상자 속에서 발생시켜 그 내부에 있는 물건을 소독하는데 쓰인다. Formaldehyde is a gas made by oxidizing methyl alcohol (methanol). It has a strong irritating odor, dissolves well in water, has strong reducing power, has a sterilizing effect even at low concentrations, and has a simple generator using methyl alcohol. It is generated in a box made to sterilize the objects inside.
포르말린은 포름알데히드가 37 % 이상 포함된 수용액이고 높은 희석농도에서 단백질에 작용하여 미생물이 회복할 수 없을 정도로 강한 살균력을 가지며, 아포에 대해서도 강한 살균 효과가 있고, 포르말린은 일반 소독용으로 사용시 1 내지 1.5 % 수용액을 사용하며, 용도는 의류, 도자기, 목 제품, 셀룰로이드, 고무제품 등의 소독에 적합한 것으로 알려져 있다. Formalin is an aqueous solution containing 37% or more of formaldehyde and has strong bactericidal power that microorganisms cannot recover by acting on proteins at high dilution concentration, and has a strong bactericidal effect against spores. It uses a 1.5% aqueous solution and is known to be suitable for disinfection of clothing, ceramics, wood products, celluloid, and rubber products.
승홍수는 물에 잘 녹지 않는 무색, 무취의 독성이 강하며 금속을 부식시키므로 플라스틱 용기를 사용하고 약액은 푸크신 등으로 염색해서 구별하며 살균력은 강하나 약 액도가 높을수록 더 강하고, 피부소독에는 0.1 내지 0.5 % 수용액을 사용하며 대장균, 포도상 구균을 5 내지 10분에 사멸시키고 점막에 자극성이 강하지만 고무제품, 금속제품 등의 소독에 사용할 수 없다. Seunghongsoo is colorless, odorless, highly toxic, insoluble in water, and corrosive to metals, so plastic containers are used, and chemical solutions are distinguished by dyeing with fuchsin. It uses 0.5% aqueous solution, kills Escherichia coli and staphylococcus in 5 to 10 minutes, and is highly irritating to mucous membranes, but cannot be used for disinfection of rubber products and metal products.
메틸알콜은 70 내지 75 % 수용액에서 살균력이 강하며 주로 수지, 피부, 기구 등의 소독에 사용되고 사용법이 간편하나 증발이 빠르고 무포자균에 효과적이나 아포 형성균에는 효과가 없다. Methyl alcohol has strong bactericidal power in 70 to 75% aqueous solution and is mainly used for disinfection of resin, skin, instruments, etc.
역성비누액은 침투력과 살균력이 강한 계면 활성제이고 0.1 내지 0.5 % 의 수용액으로 사용한다. 무색, 무취, 무자극이고 수지, 기구, 용기소독에 적당하며 미용에 널리 사용하고, 세정력은 거의 없으며, 결핵균에도 효력이 없는 것으로 알려져 있다. Inverse soap solution is a surfactant with strong penetrating and sterilizing power and is used as an aqueous solution of 0.1 to 0.5%. It is colorless, odorless, and non-irritating, suitable for sterilization of resins, instruments, and containers, widely used in beauty, has little cleaning power, and is known to be ineffective against tuberculosis bacilli.
염소제 소독제인 할로겐(halogen) 원소에는 불소, 염소, 옥소 등이 있으며 주로 생활세포 내에서 단백질과 할로겐 복합물을 형성하여 세포대사를 중단시켜 균체를 죽게 하는 염소는 기체 상태로 살균력이 크지만 강한 자극성과 부식성에 의하여 상수도, 하수도 등의 대규모 소독에 쓰이며 표백분(클로르석회 CaOCl2)은 물속에서 발생기 염소를 생성하여 살균작용을 하며, 음료수나 수영장 소독에 쓰이고 음료수 소독에는 0.2 내지 0.4 ppm 농도의 수준으로 사용하고 차이산화염소 나트륨(NaOCl)은 용액 중에서 발생하는 염소 원소에 의해 살균작용을 한다. Halogen elements, which are chlorine disinfectants, include fluorine, chlorine, and iodine. Chlorine, which mainly forms a protein and halogen complex in living cells to stop cell metabolism and kills cells, has great sterilizing power in a gaseous state but is a strong irritant. It is used for large-scale disinfection of waterworks and sewage due to its hypercorrosiveness, and bleaching powder (chlorolime CaOCl2) generates chlorine generated in water for sterilization, and is used for disinfection of drinking water and swimming pools. In addition, sodium chlorine oxide (NaOCl) has a sterilizing effect by chlorine element generated in the solution.
요드제는 염소제와 같이 살균력이 강하나 짙은 농도에서 피부 점막에 대한 부작용이 적고 수지(手指), 기구 등의 소독에 약 100 배 용액(유효 요오드량 100 내지 200 ppm)을 사용하며 금속을 부식시키고 과민성 피부가 거칠어지는 단점이 있다. Iodine has strong bactericidal power like chlorine, but at a high concentration, it has few side effects on the skin and mucous membranes, and uses about 100 times the solution (effective amount of
생석회는 생석회 양의 반 정도 물을 부가해서 진흙과 같은 상태로 만들거나 석회유(石灰乳)로 5배(20%) 수용액을 만들어 사용하고 물이나 습기 찬 장소 소독에는 가루를 직접 뿌리며 분뇨, 토사물, 분뇨통, 쓰레기통, 하수도, 수조 등의 소독에 사용되고. 결핵균과 아포 등에 대해 효과가 없는 결점이 있으며, 장점으로는 값이 싸기 때문에 광범위한 영역의 소독에 적합하다. Quicklime is used by adding half of the amount of quicklime water to make it into a mud-like state or by making a 5 times (20%) aqueous solution with lime milk. It is used for disinfection of manure bins, trash cans, sewers, water tanks, etc. It has a drawback of not being effective against tuberculosis bacillus and spores, and is suitable for wide area disinfection because it is inexpensive.
과산화수소(H2O2)와 같은 산화제 소독약은 설퍼하이드릴(Sulphurhydryl,-SH)기를 산화시킴으로써 세포대사를 중단시키는 약제이고 2.5 내지 3.5 % 수용액(옥시풀)으로 소독에 사용되며, 색이 없고 투명하며, 냄새가 없으나 때로는 오존과 같은 냄새가 나는 액체로 병원체를 산화시켜 살균한다. Oxidizing agent disinfectant such as hydrogen peroxide (H2O2) is a drug that stops cell metabolism by oxidizing sulfurhydryl (-SH) groups, and is used for disinfection with a 2.5 to 3.5% aqueous solution (oxypool). It is colorless, transparent, and odorless. There is no, but sometimes it sterilizes by oxidizing pathogens with a liquid that smells like ozone.
약용비누는 비누기제(基劑)에 여러가지 살균제를 첨가한 것으로 비누의 세정작용과 살균제에 의한 화학적 소독작용을 동시에 작용시키며, 손 피부소독 등에 사용된다. Medicinal soap is a product in which various disinfectants are added to a soap base, and the soap's cleaning action and the chemical disinfection action by the disinfectant are simultaneously acted, and it is used for hand skin disinfection.
머어큐로크롬액은 빨간약으로 호칭되며 2 % 수용액이고, 상처 소독시 그대로 사용되며 화학적으로 무기 수은화합물에 속하여 자극이 없는 순한 살균제이고 과민성 사람은 주의해야 하며, 세균의 발육 억제작용이 비교적 오래 지속된다. Mercurochrome solution is called red medicine and is a 2% aqueous solution. It is used as it is when disinfecting wounds. It is chemically a mild disinfectant that belongs to inorganic mercury compounds and is non-irritating. People with hypersensitivity should be careful, and the effect of inhibiting the growth of bacteria lasts for a relatively long time. do.
전염병 종류별 소독 대상물을 살펴보면 다음과 같다. Disinfection targets by type of infectious disease are as follows.
첫째 : 장티푸스, 파라티푸스, 콜레라. 이질의 경우 경구전염으로 소화기계 전염병이고 환자의 분뇨, 토사물, 잔여 음식물, 식기, 변소 등이 문제가 되며, 환자의 의류, 침구, 오물, 쓰레기통, 하수구 등을 소독한다. First: Typhoid, Paratyphoid, Cholera. In the case of dysentery, it is an oral infection and is an infectious disease of the digestive system, and the patient's excretion, vomit, residual food, tableware, and toilet are problems.
둘째 : 천연두, 성홍열인 경우 환자의 콧물, 객담, 농즙(膿汁), 오염기구, 의류, 침구, 운반기구, 환자의 음식기구, 침실의 방바닥, 간호인. 접촉자의 신체와 의류 등을 소독한다. Second: In the case of smallpox or scarlet fever, the patient's runny nose, sputum, pus, contaminated equipment, clothing, bedding, transport equipment, food utensils for the patient, bedroom floor, and caregiver. Disinfect the body and clothing of contacts.
셋째 : 디프테리아 경우 유행성 뇌척수막염 환자의 콧물, 객담, 오염된 기구, 환자가 사용한 식기, 서적, 완구, 침구, 병실 내의 방바닥 기타 물건 및 간호인의 의류, 신체 등을 소독한다. Third: In the case of diphtheria, disinfect mucus, sputum, contaminated instruments, tableware, books, toys, bedding, other items on the floor in the ward, and the clothes and body of the caregiver.
넷째 : 폴리오 경우 이질 소독에 준하나 발병 초에는 디프테리아의 소독에 준한다. Fourth: In the case of polio, it is equivalent to disinfection for dysentery, but it is equivalent to disinfection for diphtheria at the beginning of the outbreak.
발병 균에 의한 피해를 줄이기 위하여 취약지역에 다양한 방법을 동원한 지속적 방역소독을 실시하고 파리, 모기 등의 위생해충을 구제하므로 전염병 발생이 쉬운 감염병을 사전에 예방한다. In order to reduce the damage caused by pathogenic bacteria, continuous quarantine and disinfection is carried out in vulnerable areas using various methods and sanitary pests such as flies and mosquitoes are eliminated to prevent infectious diseases that easily occur.
식품에 의한 발병은 콜레라, 이질, 장티푸스 등과 같은 경구전염병과 결핵, 탄저병, 브루셀라증(살모넬라증), 조류독감(AI) 등과 같은 인축 공통전염병과 회충, 요충, 조충, 페디스토마, 간디스토마 등과 같은 기생충병과 식중독(세균성, 자연독, 화학물질, 기타요인)이 있으며, 생성 원인에 따라 분류하면 식품원재료 본래성분의 유해, 유독성분에 의하여 병해가 발생하는 내인성과 식품의 생산, 생육, 제조, 가공, 저장, 유통, 소비 등의 과정에서 외부로부터 유해, 유독물질이 혼입되거나 오염되어 병해를 일으키는 외인성과 식품의 제조, 가공, 저장, 유통 과정에서 물리적, 화학적, 생물학적 요인에 의해 유독물질이 생성되어 병해를 일으키는 유인성이 있다. Foodborne outbreaks include oral infectious diseases such as cholera, dysentery, and typhoid fever, common human infectious diseases such as tuberculosis, anthrax, brucellosis (salmonellosis), and avian flu (AI), and parasitic diseases such as roundworm, pinworm, tapeworm, pedistoma, and candistoma. There is food poisoning (bacteria, natural poison, chemical substances, and other factors), and if classified according to the cause of production, endogenous diseases caused by harmful and toxic components of the original ingredients of food materials, and production, growth, manufacturing, processing, and storage of food In the process of distribution, consumption, etc., harmful or toxic substances are mixed or contaminated from the outside and cause diseases, and toxic substances are generated by physical, chemical, and biological factors in the process of manufacturing, processing, storing, and distribution of food. There is an attraction that causes
또한, 전염병 발생에는 감염원, 감염경로, 숙주의 감수성이 필요하며, 질병이 발생되면 감염원으로서 질적, 양적의 충분한 병원체가 존재하고, 충분한 접촉기회가 있으며, 병원체 감수성이 많은 사람이 존재해야 한다. In addition, the outbreak of an infectious disease requires the source of infection, the route of infection, and the susceptibility of the host. When a disease occurs, there must be sufficient pathogens in both quality and quantity as sources of infection, sufficient contact opportunities, and people with high pathogen susceptibility.
대부분의 전염병은 감염원, 감염경로, 감수성의 3가지 조건이 갖추어졌을 때에 발생하고 유행하며 일단 발생하면 식중독처럼 일과성으로 끝나지 않고 격리나 접촉자의 검변 소독 등 엄중한 대응이 있어야 하므로 철저한 예방이 중요하며 손가락 소독 등의 습관화가 중요하다. Most infectious diseases occur and become prevalent when the three conditions of infection source, infection route, and susceptibility are met, and once they occur, they do not end as a transient like food poisoning, but require strict measures such as quarantine or disinfection of the stool of contacts. Habituation such as disinfection is important.
한편, 이산화염소(ClO2)는 1814년 Humphrey Davy에 의해 처음 발견 되었으며, 1900년 Berge에 의해 수처리용 살균제로 사용이 제안된 이후 미국, 유럽 등지 에서는 음용수 살균, 냄새 제거, 표백 등의 용도로 널리 사용되고 있으며, 특히 1972년 이후 이산화염소는 염소와 달리 물속의 유기성 오염물질과 반응하여 발암물질인 트리할로메탄을 생성하지 않는다는 것이 밝혀졌다. On the other hand, chlorine dioxide (ClO2) was first discovered by Humphrey Davy in 1814, and since its use as a disinfectant for water treatment was proposed by Berge in 1900, it has been widely used in the United States and Europe for drinking water sterilization, odor removal, and bleaching. In particular, since 1972, it has been found that chlorine dioxide, unlike chlorine, does not react with organic contaminants in water to produce trihalomethane, a carcinogen.
그러나 국내에서는 국내법상(수용액의 경우) 염소와 병행(후처리)처리하여 철(Fe), 망간(Mn)등의 중금속 제거용도로 그 사용을 제한하고 있으나 미국 식품의약국에서는 리스테리아균과 대장균 O157 : H7(E. coli O157 : H7), 살모넬라균(Salmonella sp.)을 최소 10 만 분의 1 수준까지 감소시킬 수 있는 효능을 살균제의 기준으로 제시하고 있는바, 이산화염소의 효능은 식품의약국의 이 같은 규제 기준을 만족하며, 현재 사용 가능한 다른 어떤 살균 방법보다 과실과 야채를 오염시킨 리스테리아균을 박멸하는데 좋은 효과를 보이는 것으로 확인되고 리스테리아균을 대상으로 삼은 이유는 다른 종류의 병원성 세균에 비해 이 세균을 제거하는 것이 특히 더 힘들기 때문인데 리스테리아균은 냉장고나 냉동고에서도 생존할 수 있을 만큼 강한 생명력이 있으며 그 활성을 제거하는 것이 어렵다고 알려져 있다. However, domestic law restricts its use to the removal of heavy metals such as iron (Fe) and manganese (Mn) by treating it in parallel (post-treatment) with chlorine (in the case of aqueous solution), but the US Food and Drug Administration restricts its use to Listeria and Escherichia coli O157. : H7 (E. coli O157 : H7), Salmonella sp. The efficacy that can reduce to at least 1/100,000 levels is suggested as a standard for disinfectants, and the efficacy of chlorine dioxide is recognized by the Food and Drug Administration It satisfies these regulatory standards and has been found to be more effective in eradicating Listeria bacteria that contaminate fruits and vegetables than any other currently available sterilization method. This is because it is particularly difficult to remove this bacterium. It is known that listeria bacteria have strong enough vitality to survive in refrigerators or freezers, and it is difficult to eliminate their activity.
이산화염소 살균의 장점 중 하나는 사과 수확 전과 후의 가공 과정에 적용하고, 오염균 제거를 위해 가열 멸균 장치가 없는 소규모 단위에서 이용하며, 가열에 따라 과실의 맛이 변하는 문제점이 없다. One of the advantages of chlorine dioxide sterilization is that it is applied to the processing process before and after harvesting apples, and it is used in small-scale units without heat sterilization equipment to remove contaminants, and there is no problem that the taste of fruits changes according to heating.
이산화염소는 대부분의 환경분야에서 위해도가 낮으며 균과 바이러스를 사멸시키고 이산화염소 용액은 식재료의 신선도 유지와 특정 장소의 소독, 위생처리와 정수처리와 살균 소독에 효과가 있다. 따라서 인체나 동물의 건강을 위한 모든 식품의 신선도를 유지하고, 바이러스와 세균을 최소화하는 생활환경을 제공하는 액상의 이산화염소수는 모든 공간에서 사용될 수 있고 특히, 과채류의 신선도 유지와 수명 연장에 사용된다. Chlorine dioxide has a low risk in most environmental fields and kills germs and viruses. The chlorine dioxide solution is effective in maintaining the freshness of food ingredients, disinfecting certain places, sanitary treatment, water purification, and sterilization. Therefore, liquid chlorine dioxide water, which maintains the freshness of all food for the health of humans and animals and provides a living environment that minimizes viruses and bacteria, can be used in all spaces, especially for maintaining the freshness of fruits and vegetables and extending their lifespan. do.
이산화염소는 강한 산화력과 살균성이 있으며 융점 -59 ℃, 비점 11 ℃ 이고, 상온에서 가스상 물질이며 상온 상압에서 물 약 3000 ppm(mg/l)의 용해도를 가지고, 공기 중 가스농도 10 % 이상이면 폭발성이 있으며 살균, 소독, 탈취, 표백용 등으로 사용되며, 이산화염소를 이용한 살균수 제조에는 고농도의 이산화염소를 희석하는 과정이 필수적이다. Chlorine dioxide has strong oxidizing and bactericidal properties, has a melting point of -59 ℃, a boiling point of 11 ℃, is a gaseous substance at room temperature, has a solubility of about 3000 ppm (mg/l) in water at room temperature and pressure, and is explosive if the gas concentration in the air is over 10%. It is used for sterilization, disinfection, deodorization, bleaching, etc., and the process of diluting high-concentration chlorine dioxide is essential for the production of sterilizing water using chlorine dioxide.
이러한 이산화염소는 운반과 저장이 비교적 위험하므로 운반과 저장이 금지되고, 필요한 현장에서 해당 발생장치로 직접 생산하는 것이 매우 밀반적이다. Since such chlorine dioxide is relatively dangerous to transport and store, transport and storage are prohibited, and it is very secretive to produce it directly with the corresponding generator at the required site.
따라서 활성도 높은 나노버블 전위수에 이산화염소 가스를 빠르게 용해시켜 이산화염소수를 신속하게 대량 생산하는 과정에서 남은 가스를 회수하고 다음 단계에서 재사용하는 다단계에 의하여 순도조절이 매우 용이하며 적은 용량의 이산화염소 가스를 이용하고 여분의 가스는 강제 포집하여 중화시키며 고온필터 처리하여 3단계로 정화시키므로 인체에 무해한 상태의 친환경적 공기로 변환 또는 분해 한 후 대기에 방출하므로 친환경적으로 운용되는 시스템을 제공하는 것이 추구하는 기술적 사상이다. Therefore, by rapidly dissolving chlorine dioxide gas in highly active nanobubble potential water to quickly mass-produce chlorine dioxide water, the remaining gas is recovered and reused in the next step. Gas is used, surplus gas is forcibly collected and neutralized, and high-temperature filter processing is used to purify it in three stages. Therefore, it is converted or decomposed into environmentally friendly air harmless to the human body and then released into the atmosphere. It is a technical idea.
이하, 첨부된 모든 도면을 참조하여 상세히 설명하면 고농도 이산화염소수 제조 시스템(900)은 전위수 생성부(1000)와 이산화염소 생성부(2000)와 염소수 조제부(3000)와 정량조절제어부(4000)와 저장교반부(5000)와 중화가열배출부(6000)를 포함하는 구성이다. Hereinafter, when described in detail with reference to all accompanying drawings, the high-concentration chlorine
전위수 생성부(1000)는 고압의 전위 인가에 의하여 높은 활성화 상태로 변환된 산소가 정제수에 나노버블 형태로 용해된 나노버블전위수를 생성한다. The
전위수 생성부(1000)는 산소발생장치(1010)와 고전압발생부(1020)와 정제수정량펌프(1030)와 산소건조부(1040)와 전위발생기(1050)와 제 1 전위수방향성밸브(1060)와 제 2 전위수방향성밸브(1070)와 제 1 필터(1080)와 나노버블전위수제조탱크(1090)와 제 1 레벨센서(1100)와 전위수순환방향성밸브(1110)와 나노버블전위수정량순환펌프(1120)와 나노버블발생기(1130)와 전위수농도측정부(1140)와 제 3 전위수방향성밸브(1150)와 나노버블전위수정량공급펌프(1160)와 전위수압력측정부(1170)를 포함하는 구성이다. The
산소발생장치(1010)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 산소를 발생한다. 산소발생장치 구성 및 작용은 일반적으로 잘 알려져 있으므로 구체적인 설명을 생략하기로 한다. The
고전압발생부(1020)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 고전압의 전위 신호를 발생하며, 발생되는 전위 신호는 1000 내지 5000 볼트(V) 범위 중에서 선택된 어느 하나의 전위를 발생하고 2000 볼트의 전위 신호를 발생하는 구성이 비교적 바람직하다. The
정제수정량펌프(1030)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 외부에서 생산된 정제수를 정량으로 유입시켜 공급되도록 한다.The purified
이하의 설명에서 정량펌프는 해당 제어신호에 의하여 정해진 용량의 액체를 이송 또는 유입시키는 펌프이고 잘 알려져 있는 구성이므로 더 이상의 구체적인 설명을 생략하기로 한다. In the following description, the metering pump is a pump that transfers or introduces a liquid of a predetermined capacity by a corresponding control signal, and since it is a well-known configuration, further detailed description will be omitted.
산소건조부(1040)는 산소발생장치(1010)에 연결되고 발생된 산소를 유입하여 습기를 제거시킨다. 산소발생장치(1010)에서 발생된 산소는 여러 가지 형태의 수분(습기)을 포함하는 것이 일반적이므로 수분을 제거할 필요가 있다. The
전위발생기(1050)는 고전압발생부(1020)의 고전압 신호를 인가받고 산소건조부(1040)로부터 배출되는 산소에 전위를 1000 내지 5000 볼트 범위 중에서 선택된 어느 하나의 전위에 의한 고전압을 인가하여 산소 원자와 산소 원자가 형성하는 결합 각도를 변위시켜 활성화율이 높은 활성화 산소를 생성한다. The
제 1 전위수방향성밸브(1060)는 전위발생기(1050)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 활성화 산소를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. 첨부된 도면에서는 전위발생기(1050)에서 발생된 활성화 산소를 나노버블전위수제조탱크(1090)에 유입되도록 하는 일방향으로 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이송되도록 하거나 이송을 차단한다. The first potential water
제 2 전위수방향성밸브(1070)는 정제수정량펌프(1030)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정제수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. 첨부된 도면에서는 정제수가 나노버블전위수제조탱크(1090)에 유입되도록 하는 일방향으로 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이송되도록 하거나 이송을 차단한다. The second potential water
제 1 필터(1080)는 제 2 방향성밸브(1070)에 연결되어 유입되는 정제수에 포함될 수 있는 소정 크기 이상의 이물질이 통과하지 못하도록 여과한다. 제 1 필터(1080)는 10 마이크로미터(um) 크기 이상의 이물질이 통과하지 못하도록 여과하는 구성이 매우 바람직하다. 10 마이크로미터(um) 크기 이하의 이물질이 통과하지 못하도록 여과하는 경우 필터의 교체주기가 빨라지고, 가격이 높아지는 문제와 정세수의 유입속도가 늦어지므로 전체적인 생산성이 낮아지는 문제가 있다. The
나노버블전위수제조탱크(1090)는 제 1 필터(1080)에 연결되고 유입되는 정제수에 활성화 산소를 나노버블 형태로 혼합시켜 활성화가 높은 나노버블전위수를 제조하고 저장한다. The nanobubble potential
제 1 레벨센서(1100)는 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부에 설치되어 유입되는 정제수의 레벨을 측정하고 정량조절제어부(4000)에 통보한다. 제 1 레벨센서(1100)는 나노버블전위수제조탱크(1090)에 적정한 용량의 정제수 또는 나노버블전위수가 유입되어 저장되도록 레벨을 측정하며, 이러한 레벨센서의 구성은 잘 알려져 있으므로 이하에서 더 이상의 구체적인 설명을 생략하기로 한다. The
전위수순환방향성밸브(1110)는 나노버블전위수제조탱크(1090)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 흐르지 못하도록 흐름을 차단한다. The potential water circulation
나노버블전위수정량순환펌프(1120)는 전위수순환방향성밸브(1110)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 나노버블전위수제조탱크(1090)로부터 정량 인출하고 나노버블발생기(1130)를 경유하여 다시 나노버블전위수제조탱크(1090)에 공급되도록 순환시킨다. The nanobubble potential correction
나노버블발생기(1130)는 나노버블전위수제조탱크(1090)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 제 1 나노버블전위수정량펌프(1120)가 정량 공급하는 나노버블전위수의 흐름에 의하여 제 1 전위수방향성밸브(1060)가 공급하는 활성화산소를 나노(nano) 크기의 버블인 나노버블 형태로 유입하면서 나노버블전위수제조탱크(1090)에 공급한다. The
전위수농도측정부(1140)는 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내측 일부분에 설치되고 나노버블전위수의 활성산소 농도를 측정하여 정량조절제어부(4000)에 통보한다. 전위수농도측정부(1140)는 일반적으로 알 수 있는 구성이므로 더 이상의 상세한 설명을 생략한다. The potential water
제 3 전위수방향성밸브(1150)는 나노버블전위수제조탱크(1090)의 하단면 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The third potential water
나노버블전위수정량공급펌프(1160)는 제 3 전위수방향성밸브(1150)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 나노버블전위수제조탱크(1090)로부터 정량 인출하여 염소수 제어부(3000)에 공급시킨다. The nanobubble potential correction
전위수압력측정부(1170)는 나노버블전위수제조탱크(1090)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부 압력을 측정한다. The potential water
정량조절제어부(4000)는 전위수압력측정부(1170)가 측정한 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부 압력이 허용 범위(한도)를 넘어서는 것으로 판단되면 해당 제어신호를 출력하여 제 3 전위수방향성밸브(1150)를 개방상태로 제어하고 나노버블전위수정량공급펌프(1160)를 제어하여 압력이 허용 범위로 낮아질 때 까지 나노버블전위수를 염소수 조제부(3000)로 강제 배출시킨다. 한편, 정량조절제어부(4000)는 해당 제어신호를 출력하므로 제 1 전위수방향성밸브(1060)와 제 2 전위수방향성밸브(1070)는 차단 상태로 제어하고 외부로부터 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부로 산소와 정제수의 유입을 차단한다. 즉, 정량조절제어부(4000)는 해당 제어신호와 감시에 의하여 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부 압력은 안정적으로 유지된다. When it is determined that the internal pressure of the nano-bubble potential
이산화염소 생성부(2000)는 아염소산나트륨과 무수구연산을 혼합하여 압력이 유지된 상태의 이산화염소를 생성한다. The chlorine
이산화염소 생성부(2000)는 에이제 탱크(2010)와 에이제 정량펌프(2020)와 에이제 방향성밸브(2030)와 비제 탱크(2040)와 비제 정량펌프(2050)와 비제 방향성밸브(2060)와 에이비제반응기(2070)와 산소발생기(2080)와 산소방향성밸브(2090)와 염소가스정량유입펌프(2100)와 산소정압벤츄리부(2110)와 염소가스 방향성밸브(2120)와 반응수압력측정부(2130)와 반응수 배출밸브(2140)를 포함하는 구성이다. The
에이제 탱크(2010)는 아염소산나트륨이 정제수에 24 % 농도로 희석된 아염소산나트륨수 80 리터가 저장된다. 에이제 탱크(2010)는 스테인레스 재질의 탱크로 이루어지는 것이 바람직하지만 공업용 플라스틱류가 포함되는 플라스틱 종류의 탱크를 사용할 수도 된다. The AJ tank (2010) stores 80 liters of sodium chlorite diluted in purified water to a concentration of 24%. The
에이제 정량펌프(2020)는 에이제 탱크(2010)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정량의 아염소산나트륨수를 배출시킨다. The
에이제 방향성밸브(2030)는 에이제 정량펌프(2020)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 아염소산나트륨수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 흐름을 차단한다. The AJ
비제 탱크(2040)는 무수구연산 25 킬로그람(Kg)이 40 리터의 정제수에 용해된 무수구연산수가 저장된다. 비제 탱크(2040)는 스테인레스 재질의 탱크로 이루어지는 것이 바람직하지만 공업용 플라스틱류가 포함되는 플라스틱 종류의 탱크를 사용할 수도 된다. The
비제 정량펌프(2050)는 비제 탱크(2040)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정량의 무수구연산수를 배출시킨다. The
비제 방향성밸브(2060)는 비제 정량펌프(2050)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 무수구연산수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 흐름을 차단한다. The BJ
에이비제반응기(2070)는 에이제 방향성밸브(2030)와 비제 방향성밸브(2060)에 각각 연결되어 아염소산나트륨수와 무수구연산수를 공급받고 반응시켜 이산화염소수를 제조한다. 에이비제반응기(2070)는 스테인레스 재질의 탱크로 이루어지는 것이 바람직하지만 공업용 플라스틱류가 포함되는 플라스틱 종류의 탱크를 사용할 수도 된다. The
산소발생기(2080)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 산소를 발생한다. The
산소방향성밸브(2090)는 산소발생기(2080)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 발생된 산소를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 흐름을 차단한다. The oxygen
염소가스정량유입펌프(2100)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 외부로부터 이산화염소 가스를 정량으로 유입시킨다. The chlorine gas
산소정압벤츄리부(2110)는 에이비제반응기(2070)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 염소가스정량유입펌프(2100)가 정량으로 공급하는 이산화염소 가스의 흐름에 의하여 산소방향성밸브(2090)가 공급하는 산소를 유입하고 에이비제반응기(2070)에 공급한다. The oxygen constant
염소가스 방향성밸브(2120)는 에이비제반응기(2070)의 상측 일단부에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 선택된 일방향으로 배출시켜 흐르게 하거나 배출 흐름을 차단한다. The chlorine gas
반응수압력측정부(2130)는 에이비제반응기(2070) 내부 일부분에 설치되고 에이비제반응기(2070) 내부의 가스에 의한 압력을 측정하여 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The reaction water
반응수 배출밸브(2140)는 에이비제반응기(2070)의 하측단 일부분에 연결 설치되고 해당 제어에 의하여 에이비제반응기(2070)의 내부에 저장된 이산화염소수를 외부로 배출한다. 반응수 배출밸브(2140)는 필요에 의하여 수동으로 제어될 수 있으며 도면에는 표시하지 않았으나 안전한 해당 시설에 연결되는 것으로 기재하고 이해한다. The reaction
염소수 조제부(3000)는 전위수 생성부(1000)와 이산화염소 생성부(2000)에 각각 연결 설치되고 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 공급받고 이산화염소 생성부(2000)로부터 이산화염소를 공급받아 이산화염소수를 폐루프의 다단계로 각각 제조한다. The chlorine
염소수 조제부(3000)는 제 1 제 조제부(3100)와 제 2 제 조제부(3200)와 제 3 제 조제부(3300)로 이루어진다.The chlorine
제 1 제 조제부(3100)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 염소수 조제부(2000)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시킨다. 제 1 제 조제부(3100)의 상세 구성을 이하에서 다시 설명한다.The
제 2 제 조제부(3200)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 제 1 제 조제부(3100)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시킨다. 제 2 제 조제부(3200)의 상세 구성을 이하에서 다시 설명한다.The
제 3 제 조제부(3300)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 제 2 제 조제부(3200)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시킨다. 제 3 제 조제부(3300)의 상세 구성을 이하에서 다시 설명한다. The
제 1 제 조제부(3100)는 제 1 제 양방향성밸브(3110)와 제 1 염소수탱크(3120)와 제 1 염소수일방향성밸브(3130)와 제1염소수정량순환펌프(3140)와 제 1 벤츄리(3150)와 제 1 염소수레벨센서(3160)와 제 1 염소수농도측정부(3170)와 제 1 염소압력측정부(3180)와 제 1 염소가스 회수부(3190)와 제 1 염소가스배출밸브(3192)를 포함하는 구성이다. The
제 1 제 양방향성밸브(3110)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The first bi-directional valve 3110 allows or blocks the flow of nanobubble potential water from the
제 1 염소수탱크(3120)는 제 1 제 양방향성밸브(3110)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 1 염소수를 조제한다. The first
제 1 염소수일방향성밸브(3130)는 제 1 염소수탱크(3120)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단한다. The first chlorine water one-
제 1 염소수정량순환펌프(3140)는 제 1 염소수일방향성밸브(3130)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제1 염소수를 제 1 염소수탱크(3120)로부터 정량 인출하고 다시 제 1 염소수탱크(3120)에 공급시킨다. The first chlorine correction
제 1 벤츄리(3150)는 제 1 염소수탱크(3120)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 제1염소수정량순환펌프(3140)가 정량 공급하는 제1염소수의 흐름에 의하여 이산화염소생성부(2000)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 제 1 염소수탱크(3120)에 공급한다. The
제 1 염소수레벨센서(3160)는 제 1 염소수탱크(3120)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The first chlorine
제 1 염소수농도측정부(3170)는 제 1 염소수탱크(3120)의 내부에 설치되고 제 1 염소수의 농도를 측정하여 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The first chlorine water
제 1 염소압력측정부(3180)는 제 1 염소수탱크(3120)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수탱크(3120)의 내부 압력을 측정한다. The first chlorine
제 1 염소가스 회수부(3190)는 제 1 염소수탱크(3120)의 내부 상측에 설치되고 제 1 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수한다. The first chlorine
제 1 염소가스배출밸브(3192)는 제 1 염소수탱크(3120)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수탱크(3120) 내부의 압력이 허용 압력 범위보다 높은 경우 강제 배출하여야 되는 잉여 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출한다. The first chlorine
제 2 제 조제부(3200)는 제 2 제 양방향성밸브(3210)와 제 2 염소수탱크(3220)와 제 2 염소수일방향성밸브(3230)와 제 2 염소수정량순환펌프(3240)와 제 2 벤츄리(3250)와 제 2 염소수레벨센서(3260)와 제 2 염소수농도측정부(3270)와 제 2 염소압력측정부(3280)와 제 2 염소가스 회수부(3290)와 제 2 염소가스배출밸브(3292)를 포함하는 구성이다. The
제 2 제 양방향성밸브(3210)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The second
제 2 염소수탱크(3220)는 제 2 제 양방향성밸브(3210)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 2 염소수를 조제한다. The second
제 2 염소수일방향성밸브(3230)는 제 2 염소수탱크(3220)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단한다. The second chlorine water one-
제 2 염소수정량순환펌프(3240)는 제 2 염소수일방향성밸브(3230)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 제 2 염소수탱크(3220)로부터 정량 인출하고 다시 제 2 염소수탱크(3220)에 공급시킨다. The second chlorine correction
제 2 벤츄리(3250)는 제 2 염소수탱크(3220)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 제2염소수정량순환펌프(3240)가 정량 공급하는 제2 염소수의 흐름에 의하여 제 1 제 조제부(3100)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 제 2 염소수탱크(3220)에 공급한다. The
제 2 염소수레벨센서(3260)는 제 2 염소수탱크(3220)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The second chlorine
제 2 염소수농도측정부(3270)는 제 2 염소수탱크(3220)의 내부에 설치되고 제 2 염소수의 농도를 측정하여 상기 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The second chlorine
제 2 염소압력측정부(3280)는 제 2 염소수탱크(3220)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수탱크(3220)의 내부 압력을 측정한다. The second chlorine
제 2 염소가스 회수부(3290)는 제 2 염소수탱크(3220)의 내부 상측에 설치되고 제 2 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수한다. The second chlorine
제 2 염소가스배출밸브(3292)는 제 2 염소수탱크(3220)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수탱크(3220) 내부의 압력이 허용 압력 범위보다 높은 경우 강제 배출하여야 되는 잉여 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출한다. The second chlorine
제 1 염소가스방향성밸브(3294)는 제 1 염소수탱크(3120)에서 나노버블전위수에 용해되지 못하고 제 1 염소수탱크(3120)로부터 회수되어 유입되는 이산화염소 가스를 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The first chlorine gas
제 3 제 조제부(3300)는 제 3 제 양방향성밸브(3310)와 제 3 염소수탱크(3320)와 제 3 염소수일방향성밸브(3330)와 제 3 염소수정량순환펌프(3340)와 제 3 벤츄리(3350)와 제 3 염소수레벨센서(3360)와 제 3 염소수농도측정부(3370)와 제 3 염소압력측정부(3380)와 제 3 염소가스 회수부(3390)와 제 3 염소가스배출밸브(3392)와 제 2 염소가스방향성밸브(3394)를 포함하는 구성이다. The
제 3 제 양방향성밸브(3310)는 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The third
제 3 염소수탱크(3320)는 제 3 제 양방향성밸브(3310)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 3 염소수를 조제한다. The third
제 3 염소수일방향성밸브(3330)는 제 3 염소수탱크(3320)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단한다. The third chlorine water one-
제 3 염소수정량순환펌프(3340)는 제 3 염소수일방향성밸브(3330)에 연결되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 제 3 염소수탱크(3320)로부터 정량 인출하고 다시 제 3 염소수탱크(3320)에 공급시킨다. The third chlorine correction
제 3 벤츄리(3350)는 제 3 염소수탱크(3320)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 제3염소수정량순환펌프(3340)가 정량 공급하는 제3 염소수의 흐름에 의하여 제 2 제 조제부(3200)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 제 3 염소수탱크(3320)에 공급한다. The
제 3 염소수레벨센서(3360)는 제 3 염소수탱크(3320)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The third chlorine
제 3 염소수농도측정부(3370)는 제 3 염소수탱크(3320)의 내부에 설치되고 제 3 염소수의 농도를 측정하여 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The third chlorine water concentration measuring unit 3370 is installed inside the third
제 3 염소압력측정부(3380)는 제 3 염소수탱크(3320)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수탱크(3320)의 내부 압력을 측정한다. The third chlorine
제 3 염소가스 회수부(3390)는 제 3 염소수탱크(3320)의 내부 상측에 설치되고 제 3 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수한다. The third chlorine
제 3 염소가스배출밸브(3392)는 제 3 염소수탱크(3320)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수탱크(3320) 내부의 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출한다. The third chlorine
제 2 염소가스방향성밸브(3394)는 제 2 염소수탱크(3220)에서 나노버블전위수에 용해되지 못하고 제 1 염소수탱크(3120)로부터 회수되어 유입되는 이산화염소 가스를 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The second chlorine gas
정량조절제어부(4000)는 염소수 조제부(3000)에 연결 설치되어 다단계로 각각 제조된 이산화염소수를 각각 정량 배출하고 이산화염소수 제조 시스템을 구성하는 각 기능부를 감시하며 해당 제어신호를 각각 출력한다. The quantitative
정량조절제어부(4000)는 제 1 염소수 인출밸브(4010)와 제 2 염소수 인출밸브(4020)와 제 3 염소수 인출밸브(4030)와 이산화염소중앙제어부(4040)와 제1정량유입펌프(4050)와 제2정량유입펌프(4060)와 제3정량유입펌프(4070)와 제 1 염소수 공급밸브(4080)와 제 2 염소수 공급밸브(4090)와 제 3 염소수 공급밸브(4100)를 포함하는 구성이다. The quantitative
제 1 염소수 인출밸브(4010)는 염소수 조제부(3000)의 제 1 염소수탱크(3120)에 저장된 제 1 염소수를 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The first chlorine
제 2 염소수 인출밸브(4020)는 염소수 조제부(3000)의 제 2 염소수탱크(3220)에 저장된 제 2 염소수를 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The second chlorine
제 3 염소수 인출밸브(4030)는 염소수 조제부(3000)의 제 3 염소수탱크(3320)에 저장된 제 3 염소수를 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The third chlorine
이산화염소중앙제어부(4040)는 고농도 이산화염소수 제조 시스템(900)을 구성하는 각 기능부, 구동부를 각각 감시하며 해당 제어신호를 각각 출력한다. The chlorine dioxide
제 1 정량유입펌프(4050)는 제 1 염소수 인출밸브(4010)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수를 정량 유입한다. The first fixed-
제 2 정량유입펌프(4060)는 제 2 염소수 인출밸브(4020)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 정량 유입한다. The second
제3정량유입펌프(4070)는 제 3 염소수 인출밸브(4030)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 정량 유입한다. The third
제 1 염소수 공급밸브(4080)는 제 1 정량유입펌프(4050)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 1 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The first chlorine
제 2 염소수 공급밸브(4090)는 제 2 정량유입펌프(4060)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 2 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The second chlorine
제 3 염소수 공급밸브(4100)는 제 3 정량유입펌프(4070)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 3 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단한다. The third chlorine
저장교반부(5000)는 정량조절제어부(4000)에 연결 설치되어 다단계로 각각 제조된 이산화염소수를 각각 정량 공급받아 저장하고 교반하여 균일한 농도를 유지한다. The
저장교반부(5000)는 염소수제조탱크(5100)와 제조탱크 레벨센서(5200)와 교반구동부(5300)와 회전교반부(5400)와 배출밸브(5500)와 가스배출밸브(5600)와 제조탱크압력측정부(5700)를 포함하는 구성이다. The
염소수제조탱크(5100)는 제 1 염소수 공급밸브(4080)와 제 2 염소수 공급밸브(4090)와 제 3 염소수 공급밸브(4100)에 각각 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의해 각각 정해진 정량이 유입되는 제 1 염소수와 제 2 염소수와 제 3 염소수를 공급받아 저장하고 혼합시켜 이산화염소수를 제조한다. The chlorine
제조탱크 레벨센서(5200)는 염소수제조탱크(5100)의 내부 일부분에 설치되고 각각의 해당 정량으로 유입되는 제 1 염소수와 제 2 염소수와 제 3 염소수가 혼합되어 제조된 이산화염소수의 레벨을 측정하고 정량조절제어부(4000)에 통보한다. The production
교반구동부(5300)는 염소수제조탱크(5100)의 외부 일부분에 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 해당 구동축의 회전속도가 조절된다. The
회전교반부(5400)는 염소수제조탱크(5100)의 내부 일부분에 회전 상태로 설치되고 연결 설치된 교반구동부(5300)의 회전 구동력을 인가받아 교반날개(5410)를 회전구동 한다. The
배출밸브(5500)는 염소수제조탱크(5100)의 하단 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제조된 이산화염소수를 배촐한다. The
배출밸브(5500)는 필요에 의하여 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호를 차단시키고 수동으로 제어하여 제조된 이산화염소수를 임의 용량 배촐 시킬 수 있다. The
가스배출밸브(5600)는 염소수제조탱크(5100)의 상단 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 선택된 일방향으로 배출되도록 하거나 차단시킨다. The
제조탱크압력측정부(5700)는 염소수제조탱크(5100)의 상측 일부분에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 염소수제조탱크(5100)의 내부 압력을 측정하여 정량조절제어부(4000)에 통보한다. 정량조절제어부(4000)는 제조탱크압력측정부(5700)의 내부 압력이 허용 또는 설정된 범위를 넘어서는 것으로 판단되면 가스배출밸브(5600)를 개방상태로 제어하여 내부의 이산화염소 가스를 강제 배출시킨다. The production tank
중화가열배출부(6000)는 염소수 조제부(3000)와 저장교반부(5000)에 각각 연결 설치되며 잉여 또는 여분 또는 적정압력 이상의 검출에 의하여 강제 배출되는 이산화염소 가스를 각각 포집하여 중화시키고 가열하여 친환경적이며 무해한 공기로 변환 시킨 후 대기중에 배출한다. The neutralization
중화가열배출부(6000)는 염소중화부(6100)와 중화가스정량배출펌프(6200)와 가열필터부(6300)를 포함하는 구성이다. The neutralization
염소중화부(6100)는 염소수 조제부(3000)로부터 배출되는 이산화염소 가스와 저장교반부(5000)로부터 배출되는 이산화염소 가스를 각각 유입하고 티오황산나트륨으로 염소가스를 중화시켜 1 차로 정화시킨다. The
중화가스정량배출펌프(6200)는 염소중화부(6100)에 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 중화된 가스를 정량 배출시킨다. The neutralized gas
가열필터부(6300)는 중화가스정량배출펌프(6200)에 연결 설치되고 유입된 가스를 고온으로 가열하여 2 차로 정화시키며 이물질을 여과시켜 3 차로 정화시켜 친환경 공기로 변환시킨 후 대기중으로 방출한다. The
상기와 같은 구성의 본 발명은 활성도 높은 나노버블 전위수에 이산화염소 가스를 빠르게 용해시키므로 이산화염소수를 신속하게 대량 생산하고, 나노버블 전위수에 용해되지 않고 남은 이산화염소 가스를 회수하여 다음 단계의 나노버블 전위수에 다시 용해시키는 과정을 다단계 반복하므로 이산화염소수의 순도조절이 용이하고 적은 용량의 이산화염소 가스를 이용하여 대량의 이산화염소수를 낮은 생산비용으로 빠르게 생산하며, 여분의 이산화염소 가스를 강제 포집하여 중화시키고 고온필터 처리하므로 다단계에 의하여 인체에 무해한 상태로 분해 한 후 대기 중에 방출하여 생산과정이 매우 친환경적인 장점이 있다. Since the present invention having the above configuration rapidly dissolves chlorine dioxide gas in highly active nanobubble potential water, chlorine dioxide water is rapidly mass-produced, and chlorine dioxide gas remaining undissolved in nanobubble potential water is recovered for the next step. Since the process of re-dissolving in nano-bubble potential water is repeated in multiple steps, it is easy to control the purity of the chlorine dioxide water, and a large amount of chlorine dioxide water is quickly produced at low production cost using a small amount of chlorine dioxide gas, and excess chlorine dioxide gas is forcibly collected, neutralized, and treated with a high-temperature filter, so it is decomposed in a harmless state to the human body in multiple steps and then released into the atmosphere, so the production process is very environmentally friendly.
이상에서 본 발명은 기재된 구체 예에 대해서 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다. Although the present invention has been described in detail with respect to the specific examples described above, it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible within the scope of the technical idea of the present invention, and it is natural that these changes and modifications fall within the scope of the appended claims.
900 : 고농도 이산화염소수 제조 시스템
1000 : 전위수 생성부 1010 : 산소발생장치
1020 : 고전압발생부 1030 : 정제수정량펌프
1040 : 산소건조부 1050 : 전위발생기
1060 : 제 1 전위수방향성밸브 1070 : 제 2 전위수방향성밸브
1080 : 제 1 필터 1090 : 나노버블전위수제조탱크
1100 : 제 1 레벨센서 1110 : 전위수순환방향성밸브
1120 : 나노버블전위수정량순환펌프 1130 : 나노버블발생기
1140 : 전위수농도측정부 1150 : 제 3 전위수방향성밸브(
1160 : 나노버블전위수정량공급펌프 1170 : 전위수압력측정부
2000 : 이산화염소 생성부 3000 : 염소수 조제부
4000 : 정량조절제어부 5000 ; 저장교반부
6000 : 중화가열배출부900: high-concentration chlorine dioxide water production system
1000: potential water generator 1010: oxygen generator
1020: high voltage generator 1030: purified water pump
1040: oxygen drying unit 1050: potential generator
1060: first potential directional valve 1070: second potential directional valve
1080: first filter 1090: nanobubble potential water production tank
1100: first level sensor 1110: potential water circulation directional valve
1120: nanobubble potential correction volume circulation pump 1130: nanobubble generator
1140: potential water concentration measurement unit 1150: third potential water directional valve (
1160: nanobubble potential correction amount supply pump 1170: potential water pressure measuring unit
2000: chlorine dioxide generation unit 3000: chlorine water preparation unit
4000:
6000: neutral heating discharge unit
Claims (12)
아염소산나트륨과 무수구연산을 혼합하여 압력이 유지된 상태의 이산화염소를 생성하는 이산화염소 생성부(2000);
상기 전위수 생성부(1000)와 이산화염소 생성부(2000)에 각각 연결 설치되고 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 공급받고 상기 이산화염소 생성부(2000)로부터 이산화염소를 공급받아 이산화염소수를 폐루프의 다단계로 각각 제조하는 염소수 조제부(3000);
상기 염소수 조제부(3000)에 연결 설치되어 다단계로 각각 제조된 이산화염소수를 각각 정량 배출하고 이산화염소수 제조 시스템을 구성하는 각 기능부를 감시하며 해당 제어신호를 각각 출력하는 정량조절제어부(4000); 를 포함하고,
상기 전위수 생성부(1000)는
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 산소를 발생하는 산소발생장치(1010);
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 고전압의 전위 신호를 발생하는 고전압발생부(1020);
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정제수를 정량으로 공급시키는 정제수정량펌프(1030);
상기 산소발생장치(1010)에 연결되고 발생된 산소를 유입하여 습기를 제거시키는 산소건조부(1040):
상기 고전압발생부(1020)의 고전압 신호를 인가받고 상기 산소건조부(1040)로부터 배출되는 산소에 전위를 인가하여 활성화 산소를 생성하는 전위발생기(1050):
상기 전위발생기(1050)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 활성화 산소를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 전위수방향성밸브(1060);
상기 정제수정량펌프(1030)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정제수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 전위수방향성밸브(1070);
상기 제 2 방향성밸브(1070)에 연결되어 유입되는 정제수로부터 이물질을 여과하는 제 1 필터(1080);
상기 제 1 필터(1080)에 연결되고 유입되는 정제수에 활성화 산소를 나노버블 형태로 혼합시켜 나노버블전위수를 제조하고 저장하는 나노버블전위수제조탱크(1090);
상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부에 설치되어 유입되는 정제수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 1 레벨센서(1100);
상기 나노버블전위수제조탱크(1090)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 전위수순환방향성밸브(1110);
상기 전위수순환방향성밸브(1110)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)로부터 정량 인출하고 다시 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)에 공급시키는 나노버블전위수정량순환펌프(1120);
상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제 1 나노버블전위수정량펌프(1120)가 정량 공급하는 나노버블전위수의 흐름에 의하여 상기 제 1 전위수방향성밸브(1060)가 공급하는 활성화산소를 나노버블 형태로 유입하고 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)에 공급하는 나노버블발생기(1130);
상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부에 설치되고 나노버블전위수의 활성산소 농도를 측정하는 전위수농도측정부(1140);
상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 하단면 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 전위수방향성밸브(1150);
상기 제 3 전위수방향성밸브(1150)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 나노버블전위수를 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)로부터 정량 인출하여 염소수 제어부(3000)에 공급시키는 나노버블전위수정량공급펌프(1160);
상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 나노버블전위수제조탱크(1090)의 내부 압력을 측정하는 전위수압력측정부(1170); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
a potential water generator 1000 generating nanobubble potential water in which oxygen converted to a highly activated state by applying a high voltage potential is dissolved in purified water in the form of nanobubbles;
A chlorine dioxide generating unit (2000) for generating chlorine dioxide under pressure by mixing sodium chlorite and anhydrous citric acid;
It is connected and installed to the potential water generator 1000 and the chlorine dioxide generator 2000 respectively, receives nano-bubble potential water from the potential water generator 1000, and supplies chlorine dioxide from the chlorine dioxide generator 2000. Chlorine water preparation unit 3000 for receiving and producing chlorine dioxide in multiple stages of a closed loop;
Quantitative adjustment control unit (4000 ); including,
The potential number generator 1000
An oxygen generating device 1010 generating oxygen according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
a high voltage generator 1020 generating a high voltage potential signal according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
Purification correction pump 1030 for supplying purified water in a fixed amount according to the corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
An oxygen drying unit 1040 connected to the oxygen generator 1010 and removing moisture by introducing generated oxygen:
A potential generator 1050 receiving a high voltage signal from the high voltage generator 1020 and generating activated oxygen by applying a potential to oxygen discharged from the oxygen drying unit 1040:
A first potential number directional valve 1060 connected to the potential generator 1050 and allowing or blocking active oxygen to flow in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000;
A second potential water directional valve 1070 connected to the purified water pump 1030 and allowing or blocking the flow of purified water in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
A first filter 1080 connected to the second directional valve 1070 and filtering foreign substances from the introduced purified water;
a nano-bubble potential water production tank 1090 connected to the first filter 1080 and mixing active oxygen with purified water in the form of nano-bubbles to prepare and store nano-bubble potential water;
A first level sensor 1100 installed inside the nano-bubble potential water production tank 1090 to measure the level of the incoming purified water and notify the quantitative adjustment control unit 4000;
A potential water circulation directional valve 1110 that is connected to the nano-bubble potential water production tank 1090 and circulates nano-bubble potential water in a selected direction according to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 or blocks the circulation. ;
It is connected to the potential water circulation directional valve 1110, and the nanobubble potential water is drawn out from the nanobubble potential water production tank 1090 in a fixed amount according to the corresponding control signal of the quantitative control unit 4000, and the nanobubble potential water again. a nanobubble potential correction volume circulation pump 1120 supplying the production tank 1090;
The first potential water directional valve ( a nano bubble generator 1130 which introduces the activated oxygen supplied by 1060) in the form of nano bubbles and supplies it to the nano bubble potential water production tank 1090;
a potential water concentration measuring unit 1140 installed inside the nano bubble potential water production tank 1090 and measuring the active oxygen concentration of the nano bubble potential water;
A third potential water directional valve (connected to and installed on a part of the lower surface of the nano bubble potential water production tank 1090 and allowing or blocking nano bubble potential water to flow in a selected direction by a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 ( 1150);
It is connected to the third potential water directional valve 1150 and by the corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000, nano-bubble potential water is quantitatively withdrawn from the nano-bubble potential water production tank 1090, and the chlorine water control unit 3000 ) to supply a nanobubble potential correction amount supply pump 1160;
Potential water pressure measurement for measuring the internal pressure of the nano-bubble potential water production tank 1090 connected to the upper part of the nano-bubble potential water production tank 1090 and in accordance with the corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000 part 1170; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 정량조절제어부(4000)에 연결 설치되어 다단계로 각각 제조된 이산화염소수를 각각 정량 공급받아 저장하고 교반하여 균일한 농도를 유지하는 저장교반부(5000); 를 더 포함하는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to claim 1,
A storage agitation unit 5000 connected to the quantitative control unit 4000 to receive, store, and stir the chlorine dioxide water produced in multiple steps to maintain a uniform concentration; A high-concentration chlorine dioxide production system further comprising a.
상기 염소수 조제부(3000)와 저장교반부(5000)에 각각 연결 설치되며 여분의 이산화염소 가스를 각각 포집하여 중화시키고 가열하여 친환경적이며 무해한 공기로 변환 시킨 후 대기중에 배출하는 중화가열배출부(6000); 를 더 포함하는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to claim 2,
The chlorine water preparation unit 3000 and the storage agitation unit 5000 are installed in connection with each other, and the excess chlorine dioxide gas is collected, neutralized, heated, converted into environmentally friendly and harmless air, and then discharged into the atmosphere. Neutralization heating discharge unit ( 6000); A high-concentration chlorine dioxide production system further comprising a.
상기 이산화염소 생성부(2000)는
아염소산나트륨이 정제수에 24 % 농도로 희석된 아염소산나트륨수 80 리터가 저장되는 에이제 탱크(2010);
상기 에이제 탱크(2010)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정량의 아염소산나트륨수를 배출시키는 에이제 정량펌프(2020);
상기 에이제 정량펌프(2020)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 아염소산나트륨수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 에이제 방향성밸브(2030);
무수구연산 25 킬로그람(Kg)이 40 리터의 정제수에 용해된 무수구연산수가 저장되는 비제 탱크(2040);
상기 비제 탱크(2040)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 정량의 무수구연산수를 배출시키는 비제 정량펌프(2050);
상기 비제 정량펌프(2050)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 무수구연산수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 비제 방향성밸브(2060);
상기 에이제 방향성밸브(2030)와 비제 방향성밸브(2060)에 각각 연결되어 아염소산나트륨수와 무수구연산수를 공급받고 반응시켜 이산화염소수를 제조하는 에이비제반응기(2070);
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 산소를 발생하는 산소발생기(2080);
상기 산소발생기(2080)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 발생된 산소를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 산소방향성밸브(2090);
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 정량으로 유입시키는 염소가스정량유입펌프(2100);
상기 에이비제반응기(2070)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 염소가스정량유입펌프(2100)가 정량으로 공급하는 이산화염소 가스의 흐름에 의하여 상기 산소방향성밸브(2090)가 공급하는 산소를 유입하고 상기 에이비제반응기(2070)에 공급하는 산소정압벤츄리부(2110);
상기 에이비제반응기(2070)의 상측 일단부에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 염소가스 방향성밸브(2120); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to any one of claims 1 to 3,
The chlorine dioxide generator 2000
An AJ tank (2010) in which 80 liters of sodium chlorite diluted with purified water to a concentration of 24% are stored;
An AJ metering pump 2020 connected to the AJ tank 2010 and discharging a fixed amount of sodium chlorite water in response to a corresponding control signal of the AJ tank 2010;
An AJ directional valve 2030 connected to the AJ metering pump 2020 and configured to flow or block sodium chlorite water in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000;
A Bizet tank 2040 in which 25 kilograms (Kg) of anhydrous citric acid is dissolved in 40 liters of purified water to store anhydrous citric acid water;
A non-jet metering pump 2050 connected to the non-jet tank 2040 and discharging a fixed amount of anhydrous citric acid water according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
A non-made directional valve 2060 connected to the non-made metering pump 2050 and configured to flow or block anhydrous citric acid water in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000;
A BJ reactor 2070 connected to the AJ directional valve 2030 and the BJ directional valve 2060 to receive and react with sodium chlorite and anhydrous citric acid to produce chlorine dioxide;
An oxygen generator 2080 generating oxygen according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
An oxygen directional valve 2090 connected to the oxygen generator 2080 and configured to flow or block oxygen generated by a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000 in a selected direction;
A chlorine gas metering inlet pump 2100 for introducing chlorine dioxide gas in a metered amount according to a corresponding control signal of the metering control unit 4000;
Oxygen supplied by the oxygen directional valve 2090 is introduced by the flow of chlorine dioxide gas connected to the lower end of one side of the ABJ reactor 2070 and supplied by the chlorine gas metering inlet pump 2100 in a fixed amount, An oxygen constant pressure venturi unit 2110 supplying the ABJ reactor 2070;
A chlorine gas directional valve 2120 connected to one end of the upper side of the ABJ reactor 2070 and configured to flow or block chlorine dioxide gas in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 염소수 조제부(3000)는
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 상기 염소수 조제부(3000)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시키는 제 1 제 조제부(3100);
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 상기 제 1 제 조제부(3100)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시키는 제 2 제 조제부(3200);
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 정량으로 유입하고 강제 순환되는 나노버블전위수에 의하여 상기 제 2 제 조제부(3200)로부터 유입되는 이산화염소 가스를 용해시키는 제 3 제 조제부(3300); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to any one of claims 1 to 3,
The chlorine water preparation unit 3000
The nanobubble potential water is introduced in a fixed amount from the potential water generator 1000 by the corresponding control signal of the quantitative control control unit 4000, and the chlorine water preparation unit 3000 is introduced by the forcibly circulated nanobubble potential water A first preparation unit 3100 for dissolving chlorine dioxide gas to be;
The nanobubble potential water is introduced in a fixed amount from the potential water generation unit 1000 by the corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000, and the first agent preparation unit 3100 by the forcibly circulated nanobubble potential water. a second preparation unit 3200 for dissolving the introduced chlorine dioxide gas;
The nanobubble potential water is introduced in a fixed amount from the potential water generation unit 1000 by the corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000, and the second agent preparation unit 3200 by the forcibly circulated nanobubble potential water. a third preparation unit 3300 for dissolving the introduced chlorine dioxide gas; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 제 1 제 조제부(3100)는
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 제 양방향성밸브(3110);
상기 제 1 제 양방향성밸브(3110)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 상기 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 1 염소수를 조제하는 제 1 염소수탱크(3120);
상기 제 1 염소수탱크(3120)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 제 1 염소수일방향성밸브(3130);
상기 제 1 염소수일방향성밸브(3130)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제1 염소수를 상기 제 1 염소수탱크(3120)로부터 정량 인출하고 다시 상기 제 1 염소수탱크(3120)에 공급시키는 제1염소수정량순환펌프(3140);
상기 제 1 염소수탱크(3120)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제1염소수정량순환펌프(3140)가 정량 공급하는 제1염소수의 흐름에 의하여 상기 이산화염소생성부(2000)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 상기 제 1 염소수탱크(3120)에 공급하는 제 1 벤츄리(3150);
상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 1 염소수레벨센서(3160);
상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부에 설치되고 제 1 염소수의 농도를 측정하여 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 1 염소수농도측정부(3170);
상기 제 1 염소수탱크(3120)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부 압력을 측정하는 제 1 염소압력측정부(3180);
상기 제 1 염소수탱크(3120)의 내부 상측에 설치되고 제 1 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수하는 제 1 염소가스 회수부(3190);
상기 제 1 염소수탱크(3120)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 1 염소수탱크(3120) 내부의 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출하는 제 1 염소가스배출밸브(3192); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to claim 6,
The first preparation unit 3100
a first bi-directional valve 3110 for allowing or blocking nanobubble potential water from the potential water generating unit 1000 to flow in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
The chlorine dioxide gas connected to the first bi-directional valve 3110 and introduced by the corresponding control signal of the quantitative control unit 4000 is dissolved in the nanobubble potential water that is quantitatively introduced from the potential water generator 1000 a first chlorine water tank 3120 to prepare a first chlorine water;
A first chlorine water one-way valve (3130) that is connected to the first chlorine water tank 3120 and circulates the first chlorine water in a selected direction in response to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 or blocks the circulation. );
It is connected to the first chlorine water one-way valve 3130, and the first chlorine water is taken out from the first chlorine water tank 3120 in a fixed amount according to the control signal of the quantitative control unit 4000, and the first chlorine water is returned to the first chlorine water tank 3120. a first chlorine water circulation pump 3140 supplying water to the tank 3120;
The chlorine dioxide generator 2000 is supplied by the flow of the first chlorine water connected to the lower end of one side of the first chlorine water tank 3120 and supplied by the first chlorine water circulation pump 3140 in a fixed amount. a first venturi (3150) which introduces chlorine dioxide gas and supplies it to the first chlorine water tank (3120);
A first chlorine water level sensor 3160 installed inside the first chlorine water tank 3120 to measure the level of the incoming nanobubble potential water and notify the quantitative adjustment control unit 4000;
a first chlorine concentration measuring unit 3170 installed inside the first chlorine water tank 3120 and measuring the concentration of the first chlorine water and notifying the quantitative control unit 4000;
A first chlorine pressure measuring unit connected to an upper part of the first chlorine water tank 3120 and measuring the internal pressure of the first chlorine water tank 3120 according to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 (3180);
a first chlorine gas recovery unit 3190 installed inside the first chlorine water tank 3120 and recovering chlorine dioxide gas not dissolved in the first chlorine water;
A first chlorine water tank 3120 connected to an upper portion of the first chlorine water tank 3120 and unidirectionally discharging chlorine dioxide gas inside the first chlorine water tank 3120 in response to a corresponding control signal from the quantitative control control unit 4000 1 chlorine gas discharge valve 3192; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 제 2 제 조제부(3200)는
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 제 양방향성밸브(3210);
상기 제 2 제 양방향성밸브(3210)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 상기 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 2 염소수를 조제하는 제 2 염소수탱크(3220);
상기 제 2 염소수탱크(3220)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 제 2 염소수일방향성밸브(3230);
상기 제 2 염소수일방향성밸브(3230)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 상기 제 2 염소수탱크(3220)로부터 정량 인출하고 다시 상기 제 2 염소수탱크(3220)에 공급시키는 제 2 염소수정량순환펌프(3240);
상기 제 2 염소수탱크(3220)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제2염소수정량순환펌프(3240)가 정량 공급하는 제2 염소수의 흐름에 의하여 상기 제 1 제 조제부(3100)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 상기 제 2 염소수탱크(3220)에 공급하는 제 2 벤츄리(3250);
상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 2 염소수레벨센서(3260);
상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부에 설치되고 제 2 염소수의 농도를 측정하여 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 2 염소수농도측정부(3270);
상기 제 2 염소수탱크(3220)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부 압력을 측정하는 제 2 염소압력측정부(3280);
상기 제 2 염소수탱크(3220)의 내부 상측에 설치되고 제 2 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수하는 제 2 염소가스 회수부(3290);
상기 제 2 염소수탱크(3220)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 2 염소수탱크(3220) 내부의 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출하는 제 2 염소가스배출밸브(3292);
상기 제 1 염소수탱크(3120)로부터 회수되는 이산화염소 가스를 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 염소가스방향성밸브(3294); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to claim 6,
The second preparation unit 3200
a second bi-directional valve 3210 for allowing or blocking nanobubble potential water from the potential water generating unit 1000 to flow in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
The chlorine dioxide gas connected to the second bi-directional valve 3210 and introduced by the corresponding control signal of the quantitative control unit 4000 is dissolved in the nanobubble potential water that is quantitatively introduced from the potential water generator 1000. a second chlorine water tank 3220 for preparing second chlorine water;
A second chlorine water one-way valve (3230) installed connected to the second chlorine water tank 3220 and circulating the second chlorine water in a selected direction in response to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 or blocking the circulation. );
It is connected to the second chlorine water one-way valve 3230, and the second chlorine water is drawn out from the second chlorine water tank 3220 in a fixed amount according to the corresponding control signal of the quantitative control unit 4000, and the second chlorine water is returned again. a second chlorine correction amount circulation pump 3240 supplying the tank 3220;
The first preparation unit 3100 is connected to the lower end of one side of the second chlorine water tank 3220 and is connected to the flow of the second chlorine water supplied by the second chlorine water circulation pump 3240 in a fixed amount. a second venturi (3250) for introducing chlorine dioxide gas and supplying it to the second chlorine water tank (3220);
A second chlorine water level sensor 3260 installed inside the second chlorine water tank 3220 to measure the level of the incoming nanobubble potential water and notify the quantitative adjustment control unit 4000;
a second chlorine water concentration measuring unit 3270 installed inside the second chlorine water tank 3220 and measuring the concentration of the second chlorine water and notifying the quantitative control unit 4000;
A second chlorine pressure measurement unit connected to an upper part of the second chlorine water tank 3220 and measuring the internal pressure of the second chlorine water tank 3220 according to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 (3280);
a second chlorine gas recovery unit 3290 installed inside the upper side of the second chlorine water tank 3220 and recovering chlorine dioxide gas not dissolved in the second chlorine water;
A device connected to an upper portion of the second chlorine water tank 3220 and unidirectionally discharging chlorine dioxide gas inside the second chlorine water tank 3220 in response to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 2 chlorine gas discharge valve 3292;
a first chlorine gas directional valve 3294 for allowing or blocking the flow of chlorine dioxide gas recovered from the first chlorine water tank 3120 in one direction selected by the corresponding control signal of the quantitative control unit 4000; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 제 3 제 조제부(3300)는
상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 전위수 생성부(1000)로부터 나노버블전위수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 제 양방향성밸브(3310);
상기 제 3 제 양방향성밸브(3310)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 유입되는 이산화염소 가스를 상기 전위수 생성부(1000)로부터 정량 유입되는 나노버블전위수에 용해시켜 제 3 염소수를 조제하는 제 3 염소수탱크(3320);
상기 제 3 염소수탱크(3320)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 선택된 일방향으로 순환시켜 흐르게 하거나 순환을 차단하는 제 3 염소수일방향성밸브(3330);
상기 제 3 염소수일방향성밸브(3330)에 연결되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 상기 제 3 염소수탱크(3320)로부터 정량 인출하고 다시 상기 제 3 염소수탱크(3320)에 공급시키는 제 3 염소수정량순환펌프(3340);
상기 제 3 염소수탱크(3320)의 일측면 하단부에 연결 설치되고 상기 제3염소수정량순환펌프(3340)가 정량 공급하는 제3 염소수의 흐름에 의하여 상기 제 2 제 조제부(3200)가 공급하는 이산화염소 가스를 유입하고 상기 제 3 염소수탱크(3320)에 공급하는 제 3 벤츄리(3350);
상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부에 설치되어 유입되는 나노버블전위수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 3 염소수레벨센서(3360);
상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부에 설치되고 제 3 염소수의 농도를 측정하여 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제 3 염소수농도측정부(3370);
상기 제 3 염소수탱크(3320)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부 압력을 측정하는 제 3 염소압력측정부(3380);
상기 제 3 염소수탱크(3320)의 내부 상측에 설치되고 제 3 염소수에 용해되지 않은 이산화염소 가스를 회수하는 제 3 염소가스 회수부(3390);
상기 제 3 염소수탱크(3320)의 상측 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 상기 제 3 염소수탱크(3320) 내부의 이산화염소 가스를 일방향성으로 배출하는 제 3 염소가스배출밸브(3392);
상기 제 2 염소수탱크(3220)로부터 회수되는 이산화염소 가스를 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 염소가스방향성밸브(3394); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to claim 6,
The third preparation unit 3300
a third bi-directional valve 3310 for allowing or blocking nanobubble potential water from the potential water generating unit 1000 to flow in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative adjustment control unit 4000;
The chlorine dioxide gas connected to the third bi-directional valve 3310 and introduced by the corresponding control signal of the quantitative control unit 4000 is dissolved in the nanobubble potential water that is quantitatively introduced from the potential water generator 1000. a third chlorine water tank 3320 for preparing third chlorine water;
A third chlorine water one-way valve (3330) installed connected to the third chlorine water tank 3320 and circulating the third chlorine water in a selected one direction according to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 or blocking the circulation. );
It is connected to the third chlorine water one-way valve 3330, and the third chlorine water is taken out from the third chlorine water tank 3320 in a fixed amount according to the control signal of the quantitative control unit 4000, and the third chlorine water is returned. a third chlorine correction amount circulation pump 3340 supplying the tank 3320;
The second preparation unit 3200 is connected to the lower end of one side of the third chlorine water tank 3320 and is connected to the third chlorine water supplied by the third chlorine water circulation pump 3340 in a fixed amount. a third venturi (3350) for introducing chlorine dioxide gas and supplying it to the third chlorine water tank (3320);
A third chlorine water level sensor 3360 installed inside the third chlorine water tank 3320 to measure the level of the incoming nanobubble potential water and notify the quantitative adjustment control unit 4000;
a third chlorine concentration measuring unit 3370 installed inside the third chlorine water tank 3320 and measuring the concentration of the third chlorine water and notifying the quantitative control unit 4000;
A third chlorine pressure measurement unit connected to an upper part of the third chlorine water tank 3320 and measuring the internal pressure of the third chlorine water tank 3320 according to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000 (3380);
a third chlorine gas recovery unit 3390 installed inside the upper side of the third chlorine water tank 3320 and recovering chlorine dioxide gas not dissolved in the third chlorine water;
A third chlorine water tank 3320 connected to an upper portion of the third chlorine water tank 3320 and unidirectionally discharging chlorine dioxide gas inside the third chlorine water tank 3320 in response to a corresponding control signal from the quantitative control control unit 4000. 3 chlorine gas discharge valve 3392;
a second chlorine gas directional valve 3394 for allowing or blocking the flow of chlorine dioxide gas recovered from the second chlorine water tank 3220 in one direction selected by the corresponding control signal of the quantitative control unit 4000; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 정량조절제어부(4000)는
상기 염소수 조제부(3000)의 제 1 염소수탱크(3120)에 저장된 제 1 염소수를 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 염소수 인출밸브(4010);
상기 염소수 조제부(3000)의 제 2 염소수탱크(3220)에 저장된 제 2 염소수를 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 염소수 인출밸브(4020);
상기 염소수 조제부(3000)의 제 3 염소수탱크(3320)에 저장된 제 3 염소수를 해당 제어신호에 의하여 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 염소수 인출밸브(4030);
상기 고농도 이산화염소수 제조 시스템을 구성하는 각 기능부를 감시하며 해당 제어신호를 각각 출력하는 이산화염소중앙제어부(4040);
상기 제 1 염소수 인출밸브(4010)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 1 염소수를 정량 유입하는 제1정량유입펌프(4050);
상기 제 2 염소수 인출밸브(4020)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 2 염소수를 정량 유입하는 제2정량유입펌프(4060);
상기 제 3 염소수 인출밸브(4030)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 제 3 염소수를 정량 유입하는 제3정량유입펌프(4070);
상기 제 1 정량유입펌프(4050)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 1 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 1 염소수 공급밸브(4080);
상기 제 2 정량유입펌프(4060)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 2 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 2 염소수 공급밸브(4090);
상기 제 3 정량유입펌프(4070)에 연결되고 이산화염소중앙제어부(4040)의 해당 제어신호에 의하여 정량 유입되는 제 3 염소수를 선택된 일방향으로 흐르게 하거나 차단하는 제 3 염소수 공급밸브(4100); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to any one of claims 1 to 3,
The quantitative adjustment control unit 4000
a first chlorine water take-off valve 4010 for allowing or blocking the flow of the first chlorine water stored in the first chlorine water tank 3120 of the chlorine water preparation unit 3000 in one direction selected by a corresponding control signal;
a second chlorine water outlet valve 4020 for allowing or blocking the flow of the second chlorine water stored in the second chlorine water tank 3220 of the chlorine water preparation unit 3000 in one direction selected by a corresponding control signal;
a third chlorine water withdrawal valve 4030 for allowing or blocking the flow of the third chlorine water stored in the third chlorine water tank 3320 of the chlorine water preparation unit 3000 in one direction selected by the corresponding control signal;
A chlorine dioxide central control unit 4040 that monitors each functional unit constituting the high-concentration chlorine dioxide water production system and outputs a corresponding control signal, respectively;
A first fixed-rate inlet pump 4050 connected to the first chlorine water withdrawal valve 4010 and injecting the first chlorine water in a fixed amount according to a corresponding control signal of the chlorine dioxide central control unit 4040;
a second metering inlet pump 4060 connected to the second chlorine water withdrawal valve 4020 and injecting the second chlorine water in a metered amount according to a corresponding control signal of the chlorine dioxide central control unit 4040;
a third constant-rate inlet pump 4070 connected to the third chlorine water withdrawal valve 4030 and injecting the third chlorine water in a fixed amount according to a corresponding control signal of the chlorine dioxide central control unit 4040;
A first chlorine water supply valve (4080) connected to the first fixed-rate inlet pump 4050 and allowing or blocking the flow of the first chlorine water introduced in a fixed amount by a corresponding control signal of the chlorine dioxide central control unit 4040 in a selected direction;
A second chlorine water supply valve 4090 that is connected to the second fixed-rate inlet pump 4060 and allows or blocks the second chlorine water introduced in a fixed amount by a corresponding control signal from the chlorine dioxide central control unit 4040 in a selected direction;
A third chlorine water supply valve 4100 connected to the third fixed-rate inlet pump 4070 and configured to flow or block the third chlorine water introduced in a fixed amount by a corresponding control signal from the chlorine dioxide central control unit 4040 in a selected direction; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 저장교반부(5000)는
상기 정량조절제어부(4000)의 제 1 염소수 공급밸브(4080)와 제 2 염소수 공급밸브(4090)와 제 3 염소수 공급밸브(4100)에 각각 연결 설치되고 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의해 각각 정해진 정량이 유입되는 제 1 염소수와 제 2 염소수와 제 3 염소수를 공급받아 저장하고 혼합시켜 이산화염소수를 제조하는 염소수제조탱크(5100);
상기 염소수제조탱크(5100)의 내부 일부분에 설치되고 각각의 해당 정량으로 유입되는 제 1 염소수와 제 2 염소수와 제 3 염소수가 혼합되어 제조된 이산화염소수의 레벨을 측정하고 상기 정량조절제어부(4000)에 통보하는 제조탱크 레벨센서(5200);
상기 염소수제조탱크(5100)의 외부 일부분에 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 해당 구동축의 회전속도가 조절되는 교반구동부(5300);
상기 염소수제조탱크(5100)의 내부 일부분에 회전 상태로 설치되고 연결 설치된 교반구동부(5300)의 회전 구동력을 인가받아 교반날개(5410)를 회전 구동하는 회전교반부(5400);
상기 염소수제조탱크(5100)의 하단 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 제조된 이산화염소수를 배촐하는 배출밸브(5500);
상기 염소수제조탱크(5100)의 상단 일부분에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 이산화염소 가스를 선택된 일방향으로 배출하거나 차단하는 가스배출밸브(5600); 를 포함하여 이루어지는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to claim 2 or 3,
The storage stirring unit 5000
Connected to the first chlorine water supply valve 4080, the second chlorine water supply valve 4090, and the third chlorine water supply valve 4100 of the quantitative control control unit 4000, respectively, and corresponding to the corresponding quantitative control control unit 4000 A chlorine water production tank 5100 for receiving, storing, and mixing the first chlorine water, the second chlorine water, and the third chlorine water, each of which is supplied in a predetermined amount by a control signal, to produce chlorine dioxide water;
It is installed in an inner part of the chlorine water production tank 5100 and measures the level of chlorine dioxide water produced by mixing the first chlorine water, the second chlorine water, and the third chlorine water flowing into each corresponding quantity, and adjusting the quantity A manufacturing tank level sensor 5200 notifying the control unit 4000;
a stirring drive unit 5300 installed on an external portion of the chlorine water production tank 5100 and adjusting the rotational speed of a corresponding drive shaft in response to a corresponding control signal from the quantitative control unit 4000;
A rotation agitation unit 5400 that is installed in a rotational state at an inner part of the chlorine water production tank 5100 and rotationally drives the agitation blades 5410 by receiving the rotational driving force of the agitation drive unit 5300 connected thereto;
A discharge valve 5500 connected to a lower portion of the chlorine water production tank 5100 and discharging chlorine dioxide water produced by the corresponding control signal of the quantitative control control unit 4000;
A gas discharge valve 5600 connected to an upper part of the chlorine water production tank 5100 and discharging or blocking chlorine dioxide gas in a selected direction according to a corresponding control signal of the quantitative control unit 4000; High-concentration chlorine dioxide water production system comprising a.
상기 중화가열배출부(6000)는
상기 염소수 조제부(3000)로부터 배출되는 이산화염소 가스와 상기 저장교반부(5000)로부터 배출되는 이산화염소 가스를 각각 유입하고 티오황산나트륨으로 염소가스를 중화시켜 1 차로 정화시키는 염소중화부(6100);
상기 염소중화부(6100)에 연결 설치되고 상기 정량조절제어부(4000)의 해당 제어신호에 의하여 중화된 가스를 정량 배출시키는 중화가스정량배출펌프(6200);
상기 중화가스정량배출펌프(6200)에 연결 설치되고 유입된 가스를 고온으로 가열하여 2차로 정화시키며 이물질을 여과시켜 3 차로 정화시킨 후 대기중으로 방출하는 가열필터부(6300); 를 포함하는 고농도 이산화염소수 제조 시스템.
According to claim 3,
The neutralization heating discharge unit 6000
A chlorine neutralization unit (6100) for first purifying the chlorine dioxide gas discharged from the chlorine water preparation unit (3000) and the chlorine dioxide gas discharged from the storage agitation unit (5000) by respectively introducing and neutralizing the chlorine gas with sodium thiosulfate ;
a neutralized gas metering discharge pump 6200 connected to the chlorine neutralization unit 6100 and discharging neutralized gas in a metered amount according to a corresponding control signal of the metering control unit 4000;
a heating filter unit 6300 connected to the neutral gas metering discharge pump 6200, heating the inflow gas to a high temperature to secondarily purify it, filtering foreign substances, tertiarily purifying it, and discharging it into the atmosphere; High-concentration chlorine dioxide production system comprising a.
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