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KR101733543B1 - Chlorine gas treatment system - Google Patents

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KR101733543B1
KR101733543B1 KR1020160175335A KR20160175335A KR101733543B1 KR 101733543 B1 KR101733543 B1 KR 101733543B1 KR 1020160175335 A KR1020160175335 A KR 1020160175335A KR 20160175335 A KR20160175335 A KR 20160175335A KR 101733543 B1 KR101733543 B1 KR 101733543B1
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KR
South Korea
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chlorine gas
liquid
neutralizing
microbubble
generating body
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KR1020160175335A
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Korean (ko)
Inventor
정재억
정용준
Original Assignee
부산가톨릭대학교 산학협력단
주식회사 한국이엔지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by 부산가톨릭대학교 산학협력단, 주식회사 한국이엔지 filed Critical 부산가톨릭대학교 산학협력단
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Abstract

본 발명은 유입되는 염소가스(Cl2)를 포함하는 가스를 내부에 수용된 액체 내에서 미세화시켜 중화하는 마이크로버블 중화장치 및 마이크로버블 중화장치와 연결되어 염소가스를 중화하기 위한 중화처리액을 액체에 공급하는 처리액 공급부를 포함하되, 중화처리액은, 염소가스를 중화하기 위한 알칼리성 수용액으로 형성되는 중화제와, 염소가스의 재생성을 방지하도록 티오황산이온(S2O3 2-)을 포함하는 반응제를 포함하는 염소가스 처리시스템을 제공한다.
상기한 바에 따르면, 처리액 공급부의 티오황산나트륨을 포함하는 반응제와 중화제를 통하여 폐수 처리 시 염소가 다시 염소가스로 환원되는 것을 방지하여 염소가스의 방출을 방지할 수 있으며, 마이크로버블 생성장치를 통하여 유입되는 염소가스를 액체 내에서 마이크로버블로 미세화 함으로써 염소가스와 액체의 접촉면적 및 접촉시간을 월등히 향상시킴으로써 반응효율을 증대시킬 수 있다.
The present invention relates to a microbubble neutralizing device for neutralizing gas containing inflow chlorine gas (Cl 2 ) in a liquid contained therein and for neutralizing a neutralizing process liquid for neutralizing chlorine gas by being connected to the microbubble neutralizing device Wherein the neutralizing treatment liquid comprises a neutralizing agent formed of an alkaline aqueous solution for neutralizing chlorine gas and a neutralizing agent formed of a neutralizing agent for neutralizing chlorine gas and a reaction containing thiosulfate ion (S 2 O 3 2- ) to prevent the regeneration of chlorine gas The present invention provides a chlorine gas treatment system including a chlorine gas treatment system.
According to the above description, it is possible to prevent the chlorine gas from being reduced to the chlorine gas again during the wastewater treatment through the reactive agent including the sodium thiosulfate in the treatment liquid supply unit and the neutralizer to prevent the chlorine gas from being released, By refining the introduced chlorine gas with microbubbles in the liquid, the contact area and the contact time of the chlorine gas and the liquid are remarkably improved, so that the reaction efficiency can be increased.

Description

염소가스 처리시스템 {Chlorine gas treatment system}  Chlorine gas treatment system

본 발명은 염소가스 처리시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폐수 처리 등에서 발생되는 염소가스를 효과적으로 제거할 수 있는 염소가스 처리시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a chlorine gas processing system, and more particularly, to a chlorine gas processing system capable of effectively removing chlorine gas generated in wastewater treatment or the like.

일반적으로 유체처리방법은 처리수의 종류 및 처리목적에 따라 폭기, 탈기, 산화, 환원, 중화 및 분진처리 등의 방법을 이용하여 처리하고 있으며, 이러한 유체 처리방법은 기체와 액체 또는 고체와 액체, 액체와 액체 의 반응을 이용하여 수행한다. Generally, a fluid treatment method is treated by a method such as aeration, deaeration, oxidation, reduction, neutralization and dust treatment depending on the type of treatment water and treatment purpose. Such a fluid treatment method is a method in which a gas, a liquid, It is carried out using the reaction of liquid and liquid.

가령, 유기물이 포함된 처리 수 내 에 호기성 미생물과 산소를 공급하여 미생물에 의한 유기물 분해가 이루어지도록 하는 폭기장치의 경우 미생물의 유기물 분해를 촉진하기 위해 처리 수 내 산소의 농도를 조절해야할 필요성에 의하여 공기 중의 산소 또는 순수산소를 고압 용해시키고 있으며, 탈기장치의 경우 고농도의 암모니아 혹은 휘발성 유기물질이 함유된 폐수에 산소를 공급하여 암모니아 또는 휘발성 유기물질이 탈기 제거되도록 하고 있으며, 산화, 환원, 중화 반응을 이용한 악취처리시설의 경우에는 처리수에 산화제, 환원제 및 중화제를 투입하고 이를 악취물질과 잘 반응시켜서 각각의 악취물질들을 제거하도록 하고 있으며, 분진처리장치의 경우 물을 이용하여 분진이 흡착되어 제거되도록 하고 있다. For example, in the case of an aeration apparatus that allows organic matter to be decomposed by microorganisms by supplying aerobic microorganisms and oxygen to the treated water containing organic matter, it is necessary to control the concentration of oxygen in the treated water in order to accelerate the decomposition of organic matters in the microorganism In the case of the degassing apparatus, ammonia or volatile organic substances are deaerated and removed by supplying oxygen to wastewater containing high concentration of ammonia or volatile organic substances, and oxidation, reduction, neutralization reaction , The oxidant, reducing agent and neutralizing agent are added to the treated water and reacted with the odorous substance to remove the respective odorous substances. In the case of the dust treating apparatus, dust is adsorbed and removed by using water .

반응식 1Scheme 1

Figure 112016125470303-pat00001
Figure 112016125470303-pat00001

반응식 2Scheme 2

Figure 112016125470303-pat00002
Figure 112016125470303-pat00002

그런데, 종래에는 유체처리장치에서 염소를 중화 반응시켜 폐수를 폐수처리장으로 투입하면, 폐수처리장에서는 pH 농도를 조절하기 위하여 폐수에 염산을 투입하게 되는데, 이러면 상기 반응식 1 및 2에서와 같이 염소가 다시 환원되는 현상이 발생되면서 염소가스가 대기 중으로 방출되는 문제점이 있었다. Conventionally, when chlorine is neutralized in a fluid treatment apparatus and wastewater is introduced into the wastewater treatment plant, hydrochloric acid is added to the wastewater to adjust the pH concentration in the wastewater treatment plant. In this case, There is a problem that the chlorine gas is released into the atmosphere as the reduction phenomenon occurs.

대한민국 특허등록 제10-1107098호Korean Patent Registration No. 10-1107098

본 발명은, 폐수 처리 시 염소가 다시 염소가스로 환원되는 것을 방지하여 염소가스 배출을 방지하고, 유입되는 염소가스를 액체 내에서 마이크로버블로 미세화 함으로써 염소가스와 액체의 접촉면적 및 접촉시간을 늘려 반응효율을 향상시킬 수 있는 염소가스 처리시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention prevents the chlorine gas from being reduced to chlorine gas again during the wastewater treatment and prevents the chlorine gas discharge and increases the contact area and the contact time of the chlorine gas and the liquid by refining the inflowing chlorine gas with microbubbles in the liquid And it is an object of the present invention to provide a chlorine gas processing system capable of improving reaction efficiency.

본 발명은 유입되는 염소가스(Cl2)를 포함하는 가스를 내부에 수용된 액체 내에서 미세화시켜 중화하는 마이크로버블 중화장치 및 상기 마이크로버블 중화장치와 연결되어 상기 염소가스를 중화하기 위한 중화처리액을 상기 액체에 공급하는 처리액 공급부를 포함하되, 상기 중화처리액은, 상기 염소가스를 중화하기 위한 알칼리성 수용액으로 형성되는 중화제와, 상기 염소가스의 재생성을 방지하도록 티오황산이온(S2O3 2- ,thiosulfate ion)을 포함하는 반응제를 포함하는 염소가스 처리시스템을 제공한다. The present invention relates to a microbubble neutralizing device for neutralizing gas containing inflow chlorine gas (Cl 2 ) in a liquid contained therein, and a neutralization treatment liquid for neutralizing the chlorine gas, which is connected to the microbubble neutralization device Wherein the neutralizing treatment liquid comprises a neutralizing agent formed of an alkaline aqueous solution for neutralizing the chlorine gas and a treatment liquid supplying unit supplying a thiosulfate ion (S 2 O 3 2 - , a thiosulfate ion).

본 발명에 따른 염소가스 처리시스템은 다음과 같은 효과를 제공한다.The chlorine gas treatment system according to the present invention provides the following effects.

첫째, 처리액 공급부의 티오황산나트륨을 포함하는 반응제와 중화제를 통하여 폐수 처리 시 염소가 다시 염소가스로 환원되는 것을 방지하여 염소가스의 방출을 방지할 수 있다.First, the chlorine gas is prevented from being reduced to chlorine gas during the wastewater treatment through the reactive agent including the sodium thiosulfate in the treatment liquid supply unit and the neutralizer, thereby preventing the chlorine gas from being released.

둘째, 마이크로버블 생성장치를 통하여 유입되는 염소가스를 액체 내에서 마이크로버블로 미세화 함으로써 염소가스와 액체의 접촉면적 및 접촉시간을 월등히 향상시킴으로써 반응효율을 증대시킬 수 있다. Second, by refining chlorine gas flowing through the microbubble generator with microbubbles in the liquid, the contact area and the contact time of the chlorine gas and the liquid are greatly improved, thereby increasing the reaction efficiency.

셋째, 구조가 간단하여 투자비용을 절감할 수 있으며, 설치면적을 축소시킬 수 있고 설비비 및 전기료를 포함하는 유지관리비를 저감시킬 수 있어 경제적이다.Third, it is economical because it is possible to reduce the investment cost by simplifying the structure, to reduce the installation area, and to reduce the maintenance cost including the equipment cost and electricity cost.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 염소가스 처리시스템의 구성을 나타내는 구성도이다.
도 2는 도 1의 염소가스 처리시스템에서 마이크로버블 중화장치의 구성을 나타내는 구성도이다.
도 3은 도 1의 염소가스 처리시스템에서 마이크로버블 중화장치의 다른 실시예를 나타내는 구성도이다.
도 4는 도 1의 염소가스 처리시스템에서 제어부의 제어흐름을 나타내는 블록도이다.
1 is a configuration diagram showing the configuration of a chlorine gas processing system according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a configuration diagram showing a configuration of a microbubble neutralizing apparatus in the chlorine gas processing system of Fig. 1; Fig.
3 is a configuration diagram showing another embodiment of the microbubble neutralizing device in the chlorine gas processing system of FIG.
4 is a block diagram showing a control flow of the control unit in the chlorine gas processing system of FIG.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 염소가스 처리시스템은, 마이크로버블 중화장치(100)와, 처리액 공급부(200)와, 제어부(300)를 포함한다. 상기 마이크로버블 중화장치(100)는 마이크로버블을 이용하여 유입되는 염소가스(Cl2)를 포함하는 가스에서 상기 염소가스(Cl2)를 중화시키는 역할을 한다. 한편, 여기서 상기 염소가스는 염소가스 발생처(10)로부터 배출되며, 상기 염소가스 발생처(10)는 악취가스, 분뇨처리장, 축사, 하수처리장, 폐수처리장치 등 각종 발생처가 될 수 있으며, 염소가스 발생처(10)로부터 배출되는 유체는 상기한 염소가스 외에 다른 유해가스가 포함될 수 있다.Referring to FIG. 1, a chlorine gas treatment system according to an embodiment of the present invention includes a microbubble neutralization apparatus 100, a treatment liquid supply unit 200, and a control unit 300. In that the gas microbubbles neutralization device 100 includes a chlorine gas (Cl 2) flowing by using the microbubbles it serves to neutralize the chlorine gas (Cl 2). Here, the chlorine gas is discharged from the chlorine gas generator 10, and the chlorine gas generator 10 may be various sources such as a malodorous gas, a manure treatment plant, a housing, a sewage treatment plant, a wastewater treatment apparatus, The fluid discharged from the main body 10 may include other harmful gas other than the chlorine gas.

도 2를 참조하면, 상기 마이크로버블 중화장치(100)는, 염소가스를 유입한 후 액체에 기액 접촉하게 하여, 염소가스의 염소성분을 액체에 용해시켜 제거하며 마이크로버블 생성몸체(110)와, 마이크로버블 생성장치(120)와, 흡입펌프(130)를 포함한다. 2, the microbubble neutralization apparatus 100 includes a micro bubble generating body 110 for dissolving and removing a chlorine component of a chlorine gas in a liquid by bringing the chlorine gas into contact with the liquid, A micro bubble generating device 120, and a suction pump 130.

상기 마이크로버블 생성몸체(110)는 상기 염소가스가 유입되는 유입구와, 유입된 상기 염소가스가 상기 흡입펌프(130)에 의하여 흡입배출되는 배출구가 각각 형성되어 있으며, 내부에는 상기 유입구와 상기 배출구와 연통되고 상기 염소가스의 염소성분을 용해시키는 액체가 수용되며, 상기 중화처리액이 공급되는 저장공간이 마련되어 있다. 여기서, 상기 액체는 취급이 용이하고 경제적인 이유로 적용된 바람직한 실시예로 물을 적용하는 것이 바람직하나 오일 등 상기한 목적을 달성할 수 있다면 다양한 액체를 적용할 수 있음은 물론이다. The micro bubble generating body 110 is formed with an inlet through which the chlorine gas flows and an outlet through which the introduced chlorine gas is sucked and discharged by the suction pump 130, A liquid for communicating and dissolving the chlorine component of the chlorine gas is accommodated, and a storage space for supplying the neutralization treatment liquid is provided. Here, it is preferable to apply water as a preferred embodiment of the liquid applied for reasons of ease of handling and economy, but it goes without saying that various liquids can be applied as long as the above objects can be achieved.

여기서, 상기 마이크로버블 생성몸체(110)는 상기 흡입펌프(130)가 작동하면, 흡입펌프(130)의 흡입력에의하여 상기 저장공간이 대기압보다 다소 낮은 음(-)압 상태가 되며, 이에 따라 상기 저장공간 내 상기 액체의 수위가 상승하여 상기 마이크로버블 생성장치(120)가 액체에 잠기게 된다. When the suction pump 130 is operated, the microbubble generating body 110 is brought into a negative pressure state in which the storage space is slightly lower than the atmospheric pressure by the suction force of the suction pump 130, The level of the liquid in the storage space rises and the micro bubble generator 120 is immersed in the liquid.

상기 저장공간은, 상기 염소가스와 상기 액체가 유입되며 내부에 상기 액체가 수용되는 서브공간(111)과, 상기 서브공간(111)과 연통되어 상기 염소가스가 유입되고 상기 액체가 수용되며 상기 마이크로버블 생성장치(120)가 설치되는 메인공간(112)을 포함한다.Wherein the storage space includes a subspace (111) in which the chlorine gas and the liquid are introduced and the liquid is received therein, and the subspace (111) is communicated with the chlorine gas to receive the liquid, And a main space 112 in which the bubble generator 120 is installed.

상기 마이크로버블 생성몸체(110)는, 복수개가 상기 저장공간 내 상기 마이크로버블 생성장치(120)의 상측에 서로 이격되면서 엇갈리게 배치되어 상기 마이크로버블 생성장치(120)로부터 유출되는 염소가스가 충돌하는 차단판들을 포함한다.A plurality of micro bubble generating bodies (110) are staggered while being spaced apart from each other on the upper side of the micro bubble generating device (120) in the storage space, so that chlorine gas flowing out from the micro bubble generating device Lt; / RTI >

또한, 상기 마이크로버블 생성몸체(110)는, 상기 차단판들의 상부에 배치되고 스테인레스 망 등으로 이루어져 수분을 제거하는 엘리미네이터를 포함한다. In addition, the micro bubble generating body 110 includes an eliminator which is disposed on the blocking plates and is made of stainless steel or the like to remove moisture.

상기 마이크로버블 생성장치(120)는 상기 마이크로버블 생성몸체(110) 내에 설치되며, 작동 시 상기 염소가스를 상기 액체 내에서 미세화시켜 마이크로버블이 형성되도록 하여 상기 염소가스를 상기 액체에 의하여 제거한다. 상기 마이크로버블 생성장치(120)는 노즐부(121)와, 충돌부(122)를 포함한다. The micro bubble generating device 120 is installed in the micro bubble generating body 110. In operation, the micro bubble generating device 120 refines the chlorine gas in the liquid to form a micro bubble, thereby removing the chlorine gas by the liquid. The micro bubble generator 120 includes a nozzle 121 and a collision part 122.

상기 노즐부(121)는 작동 시 상기 흡입펌프(130)에 의하여 수위가 상승하면 유출부가 상승된 액체에 침지되고, 내부에는 유입부를 통하여 유입된 상기 염소가스의 유동속도를 증가시키도록 유동단면적이 점차적으로 좁아지도록 형성되어 상기 염소가스를 액체 내에서 분사되게 한다. When the water level rises by the suction pump 130 during operation, the outlet portion is immersed in the raised liquid, and the flow cross-sectional area of the nozzle portion 121 is increased to increase the flow rate of the chlorine gas introduced through the inlet portion So that the chlorine gas is injected in the liquid.

상기 충돌부(122)는 상기 유출부로부터 이격되게 위치하여 상기 노즐부(121)로부터 분사되는 상기 염소가스가 저면으로 충돌되어 상기 염소가스를 미세화시키는 역할을 한다. 상기 충돌부(122)는, 플레이트 형상으로 상기 염소가스의 유출방향에 대하여 수평한 방향으로 위치하고, 염소가스가 하면에 충돌하면서 측면으로 퍼져나가게 하고 상하방향으로 다단으로 이격되게 적층 배치되는 하나 또는 복수개의 충돌판들로 형성된다.The impact portion 122 is spaced apart from the outflow portion so that the chlorine gas injected from the nozzle portion 121 collides with the bottom surface to refine the chlorine gas. The impact portion 122 may include one or a plurality of collision portions 122 disposed in a plate shape and in a horizontal direction with respect to the outflow direction of the chlorine gas and arranged so that chlorine gas collides with the lower surface and spreads to the side, Collision plates.

한편, 상기 마이크로버블 생성장치(120)는, 도시하지 않았지만 상기 노즐부(121)의 상부 측면을 따라 슬라이딩 가능하게 결합하여, 슬라이딩 이동에 따라 상기 유출부의 통과 단면적을 조절하는 조절부재와, 상기 마이크로버블생성몸체와 결합하고, 상기 노즐부(121)로부터 상기 충돌부(122)를 횡방향 및 종방향으로 이동시키는 위치조절부를 포함할 수 있다. 상기 위치조절부는, 상기 마이크로버블 생성몸체(110)와 결합하고 종방향을 따라 장공의 제1슬라이딩홀이 형성된 높이조절판과, 상기 충돌부(122)와 결합하고 횡방향을 따라 장공의 제2슬라이딩홀이 형성된 결합판과, 상기 제1슬라이딩홀과 상기 제2슬라이딩홀에 동시에 체결되어 상기 높이조절판과 상기 결합판을 체결하고 상기 충돌부(122)의 위치를 고정하는 체결부재를 포함한다.The micro bubble generator 120 includes an adjusting member that is slidably coupled along an upper side surface of the nozzle unit 121 to adjust the cross-sectional area of the outlet unit according to the sliding movement, And a position adjusting unit coupled to the bubble generating body and moving the impact unit 122 from the nozzle unit 121 in the lateral and longitudinal directions. The position regulating unit includes a height regulating plate having a long sloped first sliding hole coupled with the micro bubble generating body 110 and a long sloping second sliding part coupled with the impact part 122, And a fastening member fastened to the first sliding hole and the second sliding hole at the same time to fasten the height adjusting plate and the coupling plate and to fix the position of the impact portion 122.

상기 흡입펌프(130)는, 상기 마이크로버블 생성몸체(110)의 출구와 연통되어, 상기 저장공간 내 상기 기체를 흡입하고, 흡입력에 의하여 상기 저장공간을 음(-)압 상태가 되도록 하여 상기 액체의 수위를 상승시키는 역할을 한다.The suction pump 130 communicates with the outlet of the micro bubble generating body 110 to suck the gas in the storage space and to bring the storage space into a negative pressure state by a suction force, Of the water level.

상기 처리액 공급부(200)는, 상기 염소가스를 중화하기 위한 중화처리액을 상기 마이크로버블 중화장치(100)로 공급하는 역할을 한다. 상기 처리액 공급부(200)는, 중화제를 상기 마이크로버블 생성몸체(110)에 공급하는 중화제공급부(210)와, 반응제를 상기 마이크로버블 생성몸체(110)에 공급하는 반응제공급부(220)를 포함한다.The treatment liquid supply unit 200 serves to supply a neutralization treatment liquid for neutralizing the chlorine gas to the microbubble neutralization apparatus 100. The treatment liquid supply unit 200 includes a neutralizing agent supply unit 210 for supplying a neutralizing agent to the microbubble generating body 110 and a reaction providing unit 220 for supplying a reactant to the microbubble generating body 110 .

상기 중화제공급부(210)는, 상기 중화제를 저장하는 중화제 저장탱크(213)와, 상기 마이크로버블 생성몸체(110)와 상기 중화제 저장탱크(213)를 서로 연통시키는 중화제 공급라인(211)과, 상기 중화제 공급라인(211) 상에 설치되는 중화제 공급펌프(212)와, 상기 중화제 공급라인(211) 상에 설치되는 중화제 조절밸브를 포함한다.The neutralizing agent supply unit 210 includes a neutralizing agent storage tank 213 for storing the neutralizing agent, a neutralizing agent supply line 211 for connecting the microbubble generating body 110 and the neutralizing agent storage tank 213, A neutralizing agent supply pump 212 installed on the neutralizing agent supply line 211 and a neutralizing agent control valve provided on the neutralizing agent supply line 211.

상기 반응제공급부(220)는, 상기 반응제를 저장하는 반응제 저장탱크(223)와, 상기 마이크로버블 생성몸체(110)와 상기 반응제 저장탱크(223)를 서로 연통시키는 반응제 공급라인(221)과, 상기 반응제 공급라인(221) 상에 설치되는 반응제 공급펌프(222)와, 상기 반응제 공급라인(221) 상에 설치되는 반응제 조절잴브를 포함한다. The reaction providing unit 220 includes a reactant storage tank 223 for storing the reactant and a reactant supply line 223 for communicating the microbubble generating body 110 and the reactant storage tank 223 with each other A reactant supply pump 222 installed on the reactant supply line 221 and a reactant adjuster installed on the reactant supply line 221.

상기 중화처리액은 상기 염소가스를 중화하기 위한 알칼리성 수용액으로 형성되는 중화제와, 상기 염소가스의 재생성을 방지하도록 티오황산이온(S2O3 2- ,thiosulfate ion)을 포함하여 상기 염소가스와 상기 중화제의 반응에서 환원되는 염소가스와 반응하는 반응제를 포함한다. 여기서, 상기 중화제는, 알칼리성 용액으로 수산화나트륨(NaOH) 수용액 또는 수산화칼륨(KOH) 수용액을 포함한다.Wherein the neutralization treatment liquid comprises a neutralizing agent formed of an alkaline aqueous solution for neutralizing the chlorine gas and a chlorine gas containing thiosulfate ion (S 2 O 3 2- , thiosulfate ion) to prevent regeneration of the chlorine gas, And a reactive agent which reacts with the chlorine gas reduced in the reaction of the neutralizing agent. Here, the neutralizing agent includes an aqueous solution of sodium hydroxide (NaOH) or an aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) as an alkaline solution.

이에, 상기 반응제는, 상기 중화제인 수산화나트륨(NaOH) 수용액 또는 수산화칼륨(KOH) 수용액에 대응하여 티오황산나트륨(Na2S2O3) 수용액 또는 티오황산칼륨(K2S2O3) 수용액을 포함하여 이루어진다.The reactant may be an aqueous solution of sodium thiosulfate (Na 2 S 2 O 3 ) or an aqueous solution of potassium thiosulfate (K 2 S 2 O 3 ) corresponding to the aqueous solution of sodium hydroxide (NaOH) or potassium hydroxide (KOH) .

상기한 중화제와 반응제에 대한 반응식을 반응식3 및 반응식4에 나타내고 있다. 먼저, 반응식 3은 중화제를 수산화나트륨 수용액을 사용하고 티오황산나트륨을 반응제로 사용한 경우의 반응식이다. 이를 살펴보면, 상기 염소가스 처리시스템은 폐수처리시 pH농도를 조절하기 위한 염산을 투입하였을 때 염소가 환원되는 형상이 발생되어 염소가스가 대기로 방출되는 종래와는 달리, 티오황산나트륨의 반응제를 투입함으로써 염산을 투입하여 발생되는 차아염소산 나트륨을 황산나트륨으로 치환시켜 배출시킬 수 있도록 한다. Reaction formulas for the neutralizing agent and the reactant are shown in Reaction Formula 3 and Reaction Formula 4. First, the reaction formula 3 is a reaction formula in which an aqueous solution of sodium hydroxide is used as a neutralizing agent and sodium thiosulfate is used as a reactant. Unlike the conventional method in which the chlorine gas is discharged to the atmosphere due to the generation of chlorine reducing form when hydrochloric acid is added to control the pH concentration in the wastewater treatment, the chlorine gas treatment system is provided with a reactant of sodium thiosulfate So that sodium hypochlorite generated by adding hydrochloric acid can be replaced with sodium sulfate and discharged.

반응식 3Scheme 3

Figure 112016125470303-pat00003
Figure 112016125470303-pat00003

반응식 4는 수산화칼륨 수용액을 중화제로 사용하고 티오황산나트륨을 반응제로 사용한 경우의 반응식을 나타낸 경우이다. 이를 살펴보면, 또한, 티오황산나트륨 반응제에 의하여 차염소산나트륨과 염소가스의 재생성 없이 염화칼륨과 황산칼륨의 안정된 화합물로 치환됨을 알 수 있다. 상기한 바에 따르면, 상기 염소가스 처리시스템은 수산화나트륨 수용액 또는 수산화칼륨 수용액의 중화제와 티오황산나트륨의 반응제를 통하여 염소가스의 재생성을 방지하여 염소가스의 배출을 방지할 수 있다. Scheme 4 shows a reaction scheme in which an aqueous solution of potassium hydroxide is used as a neutralizing agent and sodium thiosulfate is used as a reactant. As a result, it can be seen that the sodium thiosulfate reactant substitutes stable compounds of potassium chloride and potassium sulfate without regeneration of sodium hypochlorite and chlorine gas. According to the above, the chlorine gas treatment system can prevent regeneration of chlorine gas through the reactant of the sodium hydroxide aqueous solution or the aqueous solution of potassium hydroxide and neutralizing agent of sodium thiosulfate to prevent the discharge of chlorine gas.

반응식 4Scheme 4

Figure 112016125470303-pat00004
Figure 112016125470303-pat00004

한편, 상기 중화제는 수산화나트륨 수용액 또는 수산화칼륨 수용액을 예로 하여 나타내었으나, 이는 바람직한 실시예로 이 외 수산화칼슘 수용액, 수산화마그네슘 수용액 등 상기한 목적을 달성할 수 있다면 다양한 중화제를 적용할 수도 있으며, 이에 따라 상기 반응제도 티오황산이온(S2O3 2-)을 포함하는 다른 물질로 변경될 수 있음은 물론이다. The neutralizing agent is exemplified by an aqueous sodium hydroxide solution or an aqueous potassium hydroxide solution. However, the neutralizing agent may be various neutralizing agents as long as the above objects can be achieved, such as an aqueous solution of calcium hydroxide and an aqueous solution of magnesium hydroxide. It goes without saying that the reaction system may be changed to another substance including thiosulfate ion (S 2 O 3 2- ).

도 3은 상기 마이크로버블 중화장치(100a)의 다른 실시예를 나타내는 도면이다. 도면을 참조하면, 상기 마이크로버블 중화장치(100a)는, 마마이크로버블 생성몸체(140)와, 마이크로버블 생성장치(150)를 포함한다.3 is a view showing another embodiment of the microbubble neutralization apparatus 100a. Referring to FIG. 1, the microbubble neutralizing apparatus 100a includes a micro micro bubble generating body 140 and a micro bubble generating apparatus 150.

상기 마마이크로버블 생성몸체(140)는 상기 중화처리액이 유입되는 유입구(미도시)와, 저장공간의 가스가 배출되는 배출구가 각각 형성되어 있으며, 내부에는 상기 유입구와 상기 배출구와 연통되고 액체가 수용되며, 상기 중화처리액이 공급되는 저장공간이 마련되어 있다.The micro bubble generating body 140 is formed with an inlet (not shown) through which the neutralization treatment liquid flows and an outlet through which the gas in the storage space is discharged. The inside of the micro bubble generating body 140 communicates with the inlet and the outlet, And a storage space in which the neutralization treatment liquid is supplied is provided.

상기 마이크로버블 생성장치(150)는, 상기 염소가스를 상기 액체(1) 내에 미세화시키고 마이크로버블화하여 상기 액체에 의하여 상기 염소가스를 제거하는 것으로 가스공급관(151)과, 충돌부(152)를 포함한다. 상기 가스공급관(151)은 관 형상으로 삽입단부가 상기 마마이크로버블 생성몸체(140) 내에 위치하도록 상기 마마이크로버블 생성몸체(140)에 삽입 고정되고, 상기 마마이크로버블 생성몸체(140) 내로 상기 염소가스를 포함하는 가스를 공급하며, 작동 시 상기 염소가스가 토출되는 단부가 상기 액체 내에 잠기도록 되어 있다.The micro bubble generator 150 is configured to micronize and micro bubble the chlorine gas in the liquid 1 to remove the chlorine gas by the liquid to form a gas supply pipe 151 and a collision part 152 . The gas supply pipe 151 is inserted and fixed in the tubular micro bubble generating body 140 such that an insertion end thereof is positioned within the tub microbubble generating body 140, A gas containing chlorine gas is supplied, and an end of the chlorine gas to which the chlorine gas is discharged during operation is immersed in the liquid.

상기 충돌부(152)는, 상기 가스공급관(151)의 단부로부터 이격되게 설치되고 작동 시 상기 액체(1) 내에 잠기며 상기 가스공급관(151)으로부터 유출되는 상기 염소가스가 하면에 충돌하게 하여 상기 액체 내에서 미세화시켜 마이크로버블이 형성되도록 한다. 여기서, 충돌부(152)는 도시된 바와 같이 수평한 방향으로 위치하는 복수개의 충돌판들로 이루어져 다단으로 형성될 수 있다. 하지만, 이는 일 실시예로 다단이 아닌 하나의 충돌판이 수평한 방향으로 배치될 수 있음은 물론이다. The impact portion 152 is provided to be spaced from the end portion of the gas supply pipe 151 and is immersed in the liquid 1 during operation so that the chlorine gas flowing out from the gas supply pipe 151 collides with the lower surface, So that microbubbles are formed in the liquid. Here, the collision portion 152 may include a plurality of impingement plates positioned in a horizontal direction as shown in FIG. However, it goes without saying that, in one embodiment, it is possible to arrange one impingement plate other than the multi-stage in a horizontal direction.

상기한 바에 따르면, 상기 마이크로버블 중화장치(100a)는 마마이크로버블 생성몸체(140)에 관 형상의 가스공급관을 이용한 마이크로버블 생성장치(150)를 이용하기 때문에, 구조가 간단하여 제조단가를 낮출 수 있어 경제적이며, 제조 및 취급이 용이하고 포터블(Portable)하게 제조가 가능하다.Since the micro bubble neutralizing apparatus 100a uses the micro bubble generating apparatus 150 using the gas supply pipe of the tubular shape in the micro micro bubble generating body 140, the micro bubble neutralizing apparatus 100a has a simple structure, Which is economical, easy to manufacture and handle, and can be manufactured in a portable manner.

도 4를 참조하면, 상기 마이크로버블 중화장치(100)는 상기 마이크로버블 생성몸체(110)의 저장공간에 수용된 액체의 pH농도를 감지하는 측정센서(310)를 구비하고, 이에 상기 측정센서(310)로부터 상기 액체의 pH농도에 대한 정보를 수신하여 상기 마이크로버블 중화장치(100,100a)를 제어하는 상기 제어부(300)를 포함한다.4, the microbubble neutralization apparatus 100 includes a measurement sensor 310 for sensing a pH concentration of liquid contained in a storage space of the microbubble generating body 110, and the measurement sensor 310 And a controller 300 for receiving information on the pH of the liquid from the microbubble neutralizer 100 or 100a and controlling the microbubble neutralizer 100 or 100a.

상기 제어부(300)는, 상기 흡입펌프(130)의 작동을 제어하여 상기 마이크로버블 중화장치(100)의 작동을 제어한다. 또한 상기 제어부(300)는, 상기 액체의 pH농도에 대응하여 상기 처리액 공급부(200)의 중화제공급펌프(212)와 반응제공급펌프(222)를 제어하여 액체(1) 내 상기 중화제와 반응제의 공급량을 제어할 수 있다. 여기서, 상기 액체의 pH농도는 염소가스가 액체 내 미세화되어 용해된 정도를 판단할 수 있는 것으로서, 이에 상기 제어부(300)는 상기 염소가스가 중화되어 제거될 수 있도록 액체의 최적 pH농도가 되게 한다. The control unit 300 controls the operation of the microbubble neutralizer 100 by controlling the operation of the suction pump 130. The control unit 300 controls the neutralizing agent supply pump 212 and the reactant supply pump 222 of the treatment liquid supply unit 200 in response to the pH concentration of the liquid to react with the neutralizing agent in the liquid 1 The supply amount of the agent can be controlled. Herein, the pH concentration of the liquid can determine the degree to which the chlorine gas is refined and dissolved in the liquid, and the controller 300 makes the chlorine gas become the optimum pH concentration of the liquid so that the chlorine gas can be neutralized and removed .

한편, 상기 염소가스 처리시스템은, 폐수저장조(400)와 조절제투입부(500)를 포함한다. 상기 폐수저장조(400)는 상기 마이크로버블 중화장치(100)와 연결되어 상기 저장공간으로부터 배출되는 상기 유체를 저장한다.Meanwhile, the chlorine gas treatment system includes a wastewater reservoir 400 and a regulator injection unit 500. The waste water storage tank 400 is connected to the microbubble neutralization apparatus 100 to store the fluid discharged from the storage space.

상기 조절제투입부(500)는 상기 폐수저장조(400)에 저장된 상기 유체의 pH농도를 조절하기 위하여 염산(HCl)과 같은 조절제를 투입하는 역할을 한다. 상기 조절제투입부(500)는 조절제 공급펌프(510)와 상기 조절제를 저장하는 조절제 저장탱크(520)를 포함한다. The adjusting agent input unit 500 functions to input a controlling agent such as hydrochloric acid (HCl) to control the pH concentration of the fluid stored in the wastewater reservoir 400. The controller 500 includes an adjuster feed pump 510 and an adjuster storage tank 520 for storing the adjuster.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

10... 염소가스 발생처 100,100a...마이크로버블 중화장치
110,140... 마이크로버블 생성몸체 111... 서브공간
112... 메인공간 120,150... 마이크로버블 생성장치
121... 노즐부 122,152... 충돌부
130... 흡입펌프 200... 처리액 공급부
210... 중화제공급부 211... 중화제 공급라인
212... 중화제 공급펌프 213... 중화제 저장탱크
220... 반응제공급부 221... 반응제 공급라인
222... 반응제 공급펌프 223... 반응제 저장탱크
300... 제어부 310... 측정센서
400... 폐수저장조 500... 조절제투입부
510... 조절제 공급펌프 520... 조절제 저장탱크
10 ... chlorine gas source 100,100a ... micro bubble neutralizer
110,140 ... micro bubble generating body 111 ... subspace
112 ... main space 120, 150 ... micro bubble generator
121 ... nozzle parts 122, 152 ... collision parts
130 ... suction pump 200 ... treatment liquid supply unit
210 ... Neutralizing agent supplying section 211 ... Neutralizing agent supplying line
212 ... neutralizing agent supply pump 213 ... neutralizing agent storage tank
220 ... Reaction Providing Benefit 221 ... Reactant Supply Line
222 ... reactant supply pump 223 ... reactant storage tank
300 ... controller 310 ... measuring sensor
400 ... wastewater storage tank 500 ... adjuster injection unit
510 ... adjuster feed pump 520 ... adjuster storage tank

Claims (10)

유입되는 염소가스(Cl2)를 포함하는 가스를 내부에 수용된 액체 내에서 미세화시켜 중화하는 마이크로버블 중화장치; 및
상기 마이크로버블 중화장치와 연결되며, 상기 염소가스를 중화하기 위한 중화제와, 상기 중화제와 함께 공급되어 상기 염소가스의 재생성을 방지하도록 하는 반응제를 포함하는 중화처리액을 상기 액체에 공급하는 처리액 공급부를 포함하되,
상기 중화처리액은,
상기 염소가스를 중화하기 위한 알칼리성 수용액으로 형성되고, 수산화나트륨(NaOH, sodium hydroxide) 수용액 또는 수산화칼륨(KOH, potassium hydroxide) 수용액을 포함하는 중화제와, 상기 염소가스의 재생성을 방지하도록 티오황산이온(S2O3 2- ,thiosulfate ion)을 포함하며 상기 중화제에 대응하여 티오황산나트륨(Na2S2O3, sodium thiosulfate) 수용액 또는 티오황산칼륨(K2S2O3, potassium thiosulfate) 수용액을 포함하는 반응제를 포함하고,
상기 처리액 공급부는,
상기 중화제를 상기 마이크로버블 생성몸체에 공급하는 중화제공급부와, 상기 반응제를 상기 마이크로버블 생성몸체에 공급하는 반응제공급부를 포함하여, 상기 중화제와 상기 반응제를 상기 마이크로버블 생성몸체에 함께 공급하는 염소가스 처리시스템.
A microbubble neutralizing device for micronizing the gas containing the introduced chlorine gas (Cl 2 ) in the liquid contained therein to neutralize the gas; And
A neutralizing agent connected to the microbubble neutralizing device for neutralizing the chlorine gas and a reactive agent supplied together with the neutralizing agent to prevent regeneration of the chlorine gas, A supply portion,
In the neutralization treatment liquid,
A neutralizing agent formed of an alkaline aqueous solution for neutralizing the chlorine gas and containing an aqueous solution of sodium hydroxide (NaOH) or an aqueous solution of potassium hydroxide (KOH), and a neutralizing agent containing a thiosulfate ion S 2 O 3 2- , thiosulfate ion, and an aqueous solution of sodium thiosulfate (Na 2 S 2 O 3 ) or potassium thiosulfate (K 2 S 2 O 3 ) corresponding to the neutralizing agent And a reactive agent,
Wherein the processing liquid supply unit includes:
A neutralizing agent supply part for supplying the neutralizing agent to the microbubble generating body and a reaction providing part for supplying the reacting agent to the microbubble generating body so that the neutralizing agent and the reactant are supplied to the microbubble generating body together Chlorine gas treatment system.
청구항 1에 있어서,
상기 마이크로버블 중화장치는,
상기 염소가스가 유입되는 유입구와, 유입된 상기 염소가스가 배출되는 배출구가 각각 형성되어 있으며, 내부에는 상기 유입구와 상기 배출구와 연통되고 액체가 수용되며, 상기 중화처리액이 공급되는 저장공간이 마련된 마이크로버블 생성몸체와,
상기 마이크로버블 생성몸체 내에 설치되며, 유입부를 통하여 유입된 상기 염소가스의 유동속도를 증가시켜 유출부로 배출시키고, 작동 시 상기 유출부가 상기 액체에 침지되어 상기 염소가스가 상기 액체 내에서 분사되게 하는 노즐부와, 상기 유출부로부터 이격되게 위치하여 상기 노즐부로부터 분사되는 상기 염소가스가 저면으로 충돌되게 하는 충돌부를 포함하여, 작동 시 상기 염소가스를 상기 액체 내에서 미세화시켜 마이크로버블이 형성되도록 하여 상기 염소가스를 상기 액체에 의하여 제거하는 마이크로버블 생성장치를 포함하는 염소가스 처리시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the microbubble neutralization device comprises:
And an outlet port through which the chlorine gas is introduced and an outlet through which the chlorine gas is introduced are respectively formed in the inner space and the outer space, A micro bubble generating body,
A nozzle disposed in the micro bubble generating body for increasing the flow velocity of the chlorine gas introduced through the inlet and discharging the chlorine gas into the outlet, wherein the outlet is immersed in the liquid to spray the chlorine gas in the liquid; And a collision portion positioned to be spaced apart from the outflow portion and causing the chlorine gas injected from the nozzle portion to collide with the bottom surface, wherein the chlorine gas is refined in the liquid during operation to form a micro bubble, And a micro bubble generating device for removing the chlorine gas by the liquid.
청구항 2에 있어서,
상기 마이크로버블 생성몸체의 상기 저장공간은,
상기 염소가스와 상기 액체가 유입되며 내부에 상기 액체가 수용되는 서브공간과, 상기 서브공간과 연통되어 상기 염소가스가 유입되고 상기 액체가 수용되며 상기 마이크로버블 생성장치가 설치되는 메인공간을 포함하는 염소가스 처리시스템.
The method of claim 2,
Wherein the storage space of the microbubble generating body comprises:
A main space into which the chlorine gas and the liquid are introduced and in which the liquid is received, and a main space communicating with the subspace, into which the chlorine gas is introduced, the liquid is accommodated, and the microbubble generator is installed Chlorine gas treatment system.
청구항 1에 있어서,
상기 마이크로버블 중화장치는,
상기 염소가스가 유입되는 유입구와, 유입된 상기 염소가스가 배출되는 배출구가 각각 형성되어 있으며, 내부에는 상기 유입구와 상기 배출구와 연통되고 액체가 수용되며, 상기 중화처리액이 공급되는 저장공간이 마련된 마이크로버블 생성몸체와,
관 형상으로 삽입단부가 상기 마이크로버블 생성몸체 내에 위치하도록 상기 마이크로버블 생성몸체에 삽입 고정되고, 상기 마이크로버블 생성몸체 내로 상기 염소가스를 공급하며, 작동 시 상기 염소가스가 토출되는 단부가 상기 액체 내에 잠겨있는 가스공급관과, 상기 가스공급관의 단부로부터 이격되게 설치되고 작동 시 상기 액체 내에 잠기며 상기 가스공급관으로부터 유출되는 상기 염소가스가 하면에 충돌하게 하여 상기 액체 내에서 미세화시켜 마이크로버블이 형성되도록 하는 충돌부를 포함하여 상기 염소가스를 상기 액체에 의하여 제거하는 마이크로버블 생성장치를 포함하는 염소가스 처리시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the microbubble neutralization device comprises:
And an outlet port through which the chlorine gas is introduced and an outlet through which the chlorine gas is introduced are respectively formed in the inner space and the outer space, A micro bubble generating body,
Bubble generating body so that an insertion end thereof is inserted into the micro bubble generating body so as to be positioned in the micro bubble generating body and supplies the chlorine gas into the micro bubble generating body, And a micro bubble is formed in the liquid by causing the chlorine gas flowing out from the gas supply pipe to collide with the lower surface to be formed in the liquid. And a micro bubble generating device for removing the chlorine gas including the impact portion by the liquid.
청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
상기 충돌부는,
수평한 방향으로 위치하는 하나 또는 복수개의 충돌판들로 형성되는 염소가스 처리시스템.
The method according to claim 2 or 3,
The impact portion
Wherein the one or more impingement plates are positioned in a horizontal direction.
청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
상기 마이크로버블 생성몸체의 출구와 연통되어, 상기 저장공간 내 상기 가스를 흡입하고, 흡입력에 의하여 상기 저장공간을 음(-)압 상태가 되도록 하여 상기 액체의 수위를 상승시키는 흡입펌프를 더 포함하는 염소가스 처리시스템.
The method according to claim 2 or 3,
And a suction pump connected to the outlet of the micro bubble generating body to suck the gas in the storage space and increase the water level by causing the storage space to be in a negative pressure state by a suction force, Chlorine gas treatment system.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 마이크로버블 중화장치를 작동제어하고,
상기 액체의 pH농도에 대응하여 상기 중화처리액을 공급하도록 상기 처리액 공급부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 염소가스 처리시스템.
The method according to claim 1,
The microbubble neutralization device is operated and controlled,
And a control section for controlling the treatment liquid supply section to supply the neutralization treatment liquid in accordance with the pH concentration of the liquid.
청구항 2에 있어서,
상기 마이크로버블 중화장치와 연결되어 상기 저장공간으로부터 배출되는 상기 액체를 저장하는 폐수저장조와,
상기 폐수저장조에 저장된 상기 액체의 pH농도를 조절하기 위한 조절제를 투입하는 조절제투입부를 더 포함하는 염소가스 처리시스템.
The method of claim 2,
A waste water storage tank connected to the microbubble neutralization device and storing the liquid discharged from the storage space;
Further comprising a regulator injector for injecting a regulator to regulate the pH concentration of the liquid stored in the wastewater reservoir.
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