KR102282214B1 - 가스 배리어성 점착 시트의 점착층용 조성물, 상기 조성물로부터 제조되는 가스 배리어성 점착 시트, 상기 가스 배리어성 점착 시트가 구비된 광학시트 - Google Patents
가스 배리어성 점착 시트의 점착층용 조성물, 상기 조성물로부터 제조되는 가스 배리어성 점착 시트, 상기 가스 배리어성 점착 시트가 구비된 광학시트 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 2는 비교예 1에 따라 제조된 가스 배리어성 점착 시트의 단면을 나타내는 SEM 사진이다.
도 3은 일 실시예에 따라 제조된 QD-고분자 매트릭스 복합체 위의 일면에 가스 배리어성 점착 시트가 접착된 광학시트의 사진이다.
도 4는 일 실시예에 따라 제조된 QD-고분자 매트릭스 복합체의 양면에 가스 배리어성 점착 시트가 접착된 광학시트의 단면 SEM 사진이다.
도 5는 실시예 1 및 비교예 3에서 제조된 가스 배리어성 점착 시트의 점착층 상에 cross hatch cutter를 사용하여 패턴을 형성한 후, 3M 테이프를 붙였단 뗌으로써 패턴의 유지 여부를 나타내는 단면 사진이다.
도 6 (a) 및 (b)는 실시예 1 및 비교예3에 따라 제조된 가스 배리어성 점착 시트의 점착층 상에 cross hatch cutter를 사용하여 패턴을 형성한 후, 3M 테이프를 붙였단 뗌으로써 패턴의 유지 여부를 나타내는 사진으로서, 이로부터 가스 배리어성 점착 시트 내 배리어층과 점착층 사이의 접착 강도를 확인할 수 있다.
점착층 형성 물질 조성 (중량%) | |
실시예1 | A-DCP/4T/MPTMS (60/30/10) |
실시예2 | A-DCP/HDDA/MPTMS (45/35/20) |
실시예3 | A-DCP/HDDA/TMPTA/MPTMS (45/35/10/10) |
실시예4 | A-DCP/4T/HDDA/MPTMS (50/30/10/10) |
실시예5 | A-DCP/TMPTA/4T/MPTMS (50/20/20/10) |
실시예6 | A-DCP/TMPTA/4T/TMSPM (50/30/10/10) |
실시예7 | A-DCP/TMPTA/4T/TMSPM (50/10/20/20) |
실시예8 | 4T/TTT/TMSPM (55/35/10) |
Claims (20)
- 고분자 매트릭스 내에 분산된 반도체 나노결정을 포함하는 단일의 광학재료 층; 및 상기 광학재료 층의 표면에 배치되고 가스 차단층 및 상기 가스 차단층 상에 직접 접촉하는 점착층을 포함하는 가스 배리어성 점착 시트를 포함하는 광학시트로서,
상기 가스 배리어성 점착 시트의 점착층은 상기 광학재료 층과 직접 접촉하고,
상기 가스 차단층은 실리카(SiO2), 티타니아(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 산화아연(ZnO2), 알루미나(Al2O3), 산화인듐주석(ITO) 또는 이들의 조합을 포함하고,
상기 점착층은 하기 화학식 1-6으로 표시되는 화합물, 하기 화학식 1-7로 표시되는 화합물, 하기 화학식 1-8로 표시되는 화합물, 또는 이들의 혼합물인 제1 물질; 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인 제2 물질; 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물인 제3 물질을 포함하는 조성물의 중합 생성물을 포함하는 광학시트:
[화학식 1-6]
[화학식 1-7]
화학식 1-7에서, R1은 C1 내지 C20의 알킬렌기, 또는 하나 이상의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기이고, R2는 수소 또는 메틸기임;
[화학식 1-8]
화학식 1-8에서, R은 C1 내지 C10의 알킬기임;
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
R1은 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 사이클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로사이클로알킬기; C1 내지 C10의 알콕시기; 히드록시기; -NH2; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 아민기 (-NRR', 여기에서 R과 R'은 서로 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C30의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); 이소시아네이트기; 할로겐; -ROR' (여기에서 R은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기이고 R'은 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); 아실 할라이드(-RC(=O)X, 여기에서 R은 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고 X는 할로겐임); -C(=O)OR' (여기에서 R'은 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); -CN; 또는 -C(=O)ONRR' (여기에서 R과 R'은 서로 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임)에서 선택되고,
L1은 탄소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 지환족 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 방향족 탄화수소기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 헤테로 방향족 탄화수소기이되, 상기 치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기에 포함된 서로 인접하지 않은 메틸렌(-CH2-)은 설포닐(-SO2-), 카르보닐(CO), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-SO-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있고,
Y1는 단일결합; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30의 탄소-탄소 이중결합을 가지는 지방족 탄화수소기; 적어도 하나의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기 또는 C2 내지 C30의 탄소-탄소 이중결합을 가지는 지방족 탄화수소기이고,
m은 1 이상의 정수이고,
k1은 0 또는 1 이상의 정수이고 k2는 1 이상의 정수이고,
m과 k2의 합은 2 이상의 정수이되,
m 은 Y1 의 원자가를 넘지 않고, k1 와 k2 의 합은 L1 의 원자가를 넘지 않음;
[화학식 3]
상기 화학식 3에서,
Ra는 C1 내지 C 20의 알킬렌, 알케닐렌, 알키닐렌, 또는 아릴렌기이고,
Rb 및 Rc는 각각 동일하거나 서로 다른 C1 내지 C20의 지방족 또는 지환족 탄화수소기이고,
X는 (메트)아크릴레이트기, 머캡토기, 또는 에폭시기이고,
k는 1 내지 3 의 정수 중 하나임. - 제1항에서, 상기 제1 물질은 상기 화학식 1-7로 표시되는 화합물인 광학시트.
- 제1항에서, 상기 조성물은, 상기 조성물 전체 중량을 기준으로, 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질을 70 중량% 내지 99 중량% 포함하고, 상기 제3 물질을 1 중량% 내지 30 중량% 포함하는 광학시트.
- 제1항에서, 상기 조성물은
하기 화학식 1-4로 표시되는 화합물, 하기 화학식 1-5로 표시되는 화합물, 하기 화학식 1-9로 표시되는 화합물, 하기 화학식 1-10으로 표시되는 화합물, 하기 화학식 1-11로 표시되는 화합물, 하기 화학식 1-12로 표시되는 화합물, 또는 이들의 혼합물을 더 포함하는 광학시트:
[화학식 1-4]
[화학식 1-5]
[화학식 1-9]
화학식 1-9에서, A는 C1 내지 C10의 알킬기 또는 히드록시기이고, R1은 각각 동일하거나 상이하고, 직접 결합, C1 내지 C20의 알킬렌기, 하나 이상의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C20의 알킬렌이고, R2는 수소 또는 메틸기이고;
[화학식 1-10]
화학식 1-10에서, R1은 직접 결합, C1 내지 C20의 알킬렌, 또는 하나 이상의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C20의 알킬렌이고, R2는 수소 또는 메틸기이고;
[화학식 1-11]
화학식 1-11에서, R은 직접 결합, C1 내지 C20의 알킬렌, 또는 하나 이상의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C20의 알킬렌이고,
[화학식 1-12]
화학식 1-12에서, R1은 C4 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기이고, R2는 수소 또는 메틸기이다. - 제1항에서, 상기 제2 물질은 하기 화학식 2-2의 트리메틸올프로판 트리스(3-머캅토프로피오네이트), 하기 화학식 2-3의 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 하기 화학식 2-4의 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트(pentaerythritol tetrakis(2-mercaptoacetate)), 하기 화학식 2-5의 트리스 [2-(3-머캅토프로피오닐옥시)알킬] 이소시아누레이트(tris[2-(3-mercaptopropionyloxy)alkyl] isocyanurate), 하기 화학식 2-6의 화합물, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광학시트:
[화학식 2-2]
[화학식 2-3]
[화학식 2-4]
[화학식 2-5]
화학식 2-5에서, R은 각각 독립적으로 C1 내지 C20의 알킬렌임.
[화학식 2-6]
. - 제1항에서, 상기 제3 물질은 N-머캡토프로필트리메톡시실란 또는 3-(트리메톡시실릴)프로필 메타크릴레이트인 광학시트.
- 제1항에서, 상기 조성물은 광개시제를 더 포함하는 광학시트.
- 제1항에서, 상기 조성물은, 상기 조성물 전체 중량을 기준으로, 상기 제3 물질을 10 중량% 내지 30 중량% 포함하는 광학시트.
- 제1항에서, 상기 점착층은 상기 가스 차단층 위에 상기 조성물을 도포한 후 경화시켜 제조되는 광학시트.
- 제9항에서, 상기 경화는 광 경화, 열 경화, 또는 이들의 조합을 포함하는 광학시트.
- 제1항에서, 상기 제2 물질은 하기 화학식 2-1로 표시되는 화합물을 포함하고,
상기 제3 물질은 N-머캡토프로필트리메톡시실란 또는 3-(트리메톡시실릴)프로필 메타크릴레이트를 포함하는 광학시트:
[화학식 2-1]
상기 화학식 2-1에서,
L1'는 탄소, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 방향족 탄화수소기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로 방향족 탄화수소기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 지환족 탄화수소기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로 지환족 탄화수소기이고,
Ya 내지 Yd는 각각 독립적으로, 직접결합; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 알킬렌기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30의 알케닐렌기; 또는 적어도 하나의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C30의 알킬렌기 또는 C2 내지 C30의 알케닐렌기이고,
Ra 내지 Rd는 화학식 2의 R1 또는 SH이되, Ra 내지 Rd중 적어도 1개는 SH이다. - 제1항에서, 상기 점착층과 반대되는 면에 상기 가스 차단층 위로 보호층을 더 포함하는 광학시트.
- 제12항에서, 상기 보호층은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), PES(폴리에틸렌 술폰), 또는 PEN을 포함하는 광학시트.
- 제1항에서, 상기 가스 차단층은 SiO2를 포함하는 광학시트.
- 제1항에서, 상기 고분자 매트릭스는 폴리(메타)아크릴레이트, 에폭시, 폴리우레아, 또는 폴리우레탄을 포함하는 광학시트.
- 제15항에서, 상기 고분자 매트릭스는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나의 화합물을 더 포함하여 제조되는 것인 광학시트:
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
X는 탄소-탄소 이중결합 또는 탄소-탄소 삼중결합을 가지는 지방족 유기기, 탄소-탄소 이중결합 또는 탄소-탄소 삼중결합을 가지는 방향족 유기기, 또는 탄소-탄소 이중결합 또는 탄소-탄소 삼중결합을 가지는 지환족 유기기이고,
R2는 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 사이클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로사이클로알킬기; C1 내지 C10의 알콕시기; 히드록시기; NH2; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 아민기(-NRR', 여기에서 R과 R'은 서로 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C30의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); 이소시아네이트기; 할로겐; -ROR' (여기에서 R은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기이고 R'은 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); 아실 할라이드(-RC(=O)X, 여기에서 R은 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고 X는 할로겐임); -C(=O)OR' (여기에서 R'은 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); -CN; 또는 -C(=O)ONRR' (여기에서 R과 R'은 서로 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임)에서 선택되고,
L2는 탄소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 지환족 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 방향족 탄화수소기, 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로 방향족 탄화수소기이고,
Y2는 단일결합; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30의 탄소-탄소 이중결합을 가지는 지방족 탄화수소기; 또는 적어도 하나의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기 또는 C2 내지 C30의 탄소-탄소 이중결합을 가지는 지방족 탄화수소기이고, n은 1 이상의 정수이고,
k3은 0 또는 1 이상의 정수이고 k4는 1 이상의 정수이고,
n과 k4의 합은 2 이상의 정수이되, n 은 Y2 의 원자가를 넘지 않고, k3 와 k4 의 합은 L2 의 원자가를 넘지 않음;
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
R1은 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 사이클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 헤테로사이클로알킬기; C1 내지 C10의 알콕시기; 히드록시기; -NH2; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 아민기(-NRR', 여기에서 R과 R'은 서로 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C30의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); 이소시아네이트기; 할로겐; -ROR' (여기에서 R은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기이고 R'은 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); 아실 할라이드(-RC(=O)X, 여기에서 R은 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고 X는 할로겐임); -C(=O)OR' (여기에서 R'은 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임); -CN; 또는 -C(=O)ONRR' (여기에서 R과 R'은 서로 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임)에서 선택되고,
L1은 탄소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 지환족 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 방향족 탄화수소기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 헤테로 방향족 탄화수소기이되, 상기 치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기에 포함된 서로 인접하지 않은 메틸렌(-CH2-)은 설포닐(-SO2-), 카르보닐(CO), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-SO-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있고,
Y1는 단일결합; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30의 탄소-탄소 이중결합을 가지는 지방족 탄화수소기; 적어도 하나의 메틸렌(-CH2-)이 설포닐(-S(=O)2-), 카르보닐(-C(=O)-), 에테르(-O-), 설파이드(-S-), 설폭사이드(-S(=O)-), 에스테르(-C(=O)O-), 아마이드(-C(=O)NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임), 이민(-NR-)(여기서 R은 수소 또는 C1 내지 C10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기임) 또는 이들의 조합으로 치환된 C1 내지 C30의 지방족 포화 탄화수소기 또는 C2 내지 C30의 탄소-탄소 이중결합을 가지는 지방족 탄화수소기이고,
m은 1 이상의 정수이고,
k1은 0 또는 1 이상의 정수이고 k2는 1 이상의 정수이고,
m과 k2의 합은 2 이상의 정수이되,
m 은 Y1 의 원자가를 넘지 않고, k1 와 k2 의 합은 L1 의 원자가를 넘지 않음. - 제1항에 따른 광학시트를 포함하는 광학기기.
- 제17항에서, 상기 광학기기는 백라이트유닛(BLU) 또는 액정 디스플레이 (LCD)를 더 포함하는 광학기기.
- 고분자 매트릭스 내에 분산된 반도체 나노결정을 포함하는 단일의 광학재료 층; 및 상기 광학재료 층의 표면에 배치되고 가스 차단층 및 상기 가스 차단층 상에 직접 접촉하는 점착층을 포함하는 가스 배리어성 점착 시트를 포함하는 광학시트로서,
상기 가스 배리어성 점착 시트의 점착층은 상기 광학재료 층과 직접 접촉하고,
상기 가스 차단층은 실리카(SiO2), 티타니아(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 산화아연(ZnO2), 알루미나(Al2O3), 산화인듐주석(ITO) 또는 이들의 조합을 포함하고,
상기 점착층은 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 및 3-(트리메톡시실릴)프로필 메타크릴레이트를 포함하는 조성물의 중합 생성물을 포함하는 광학시트. - 고분자 매트릭스 내에 분산된 반도체 나노결정을 포함하는 단일의 광학재료 층; 및 상기 광학재료 층의 표면에 배치되고 가스 차단층 및 상기 가스 차단층 상에 직접 접촉하는 점착층을 포함하는 가스 배리어성 점착 시트를 포함하는 광학시트로서,
상기 가스 배리어성 점착 시트의 점착층은 상기 광학재료 층과 직접 접촉하고,
상기 가스 차단층은 실리카(SiO2), 티타니아(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 산화아연(ZnO2), 알루미나(Al2O3), 산화인듐주석(ITO) 또는 이들의 조합을 포함하고,
상기 점착층은 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 중 적어도 하나; 트리사이클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트; 및 N-메르캅토프로필트리메톡시실란을 포함하는 조성물의 중합 생성물을 포함하는 광학시트.
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