KR102225279B1

KR102225279B1 - 디스플레이의 커버 부재 및 그 제조 방법

Info

Publication number: KR102225279B1
Application number: KR1020167015886A
Authority: KR
Inventors: 고지 이케가미; 게이이치 사하라
Original assignee: 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2014-03-14
Filing date: 2015-03-03
Publication date: 2021-03-09
Anticipated expiration: 2035-03-03
Also published as: TWI601982B; JP6402772B2; KR20160132813A; JP5979330B2; WO2015137196A1; CN106415333B; JPWO2015137196A1; CN106415333A; TW201546498A; JP2016153914A

Abstract

배경의 표면 반사가 적고, 높은 해상도를 갖는 디스플레이를 실현할 수 있는 디스플레이의 커버 부재를 제공한다. 커버 부재(1)의 한쪽의 주면(1a)은 요철면(2)에 의해 구성되어 있다. 요철면(2)의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)이 0.5° 내지 1.5°이다. 요철면(2)의 조도 곡면의 베어링 커브에 있어서, 면적률이 70％일 때의 높이를 H₁로 하고, 면적률이 99％일 때의 높이를 H₂로 하고, 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 산술 평균 조도를 Ra로 했을 때에, (H₁-H₂)/Ra가 0.25 이상이다.

Description

디스플레이의 커버 부재 및 그 제조 방법{DISPLAY COVER MEMBER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME}

본 발명은 디스플레이의 커버 부재 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

종래, 디스플레이의 표면에 있어서의 광의 정반사를 억제하기 위해서, 안티글레어(AG)층을 갖는 커버 부재를 디스플레이의 전면에 배치하는 것이 제안되어 있다(예를 들어 특허문헌 1을 참조).

일본 특허 공개 제2013-504514호 공보

커버 부재의 표면에 있어서의 광의 정반사를 억제하는 관점에서는, 커버 부재의 헤이즈가 커지도록, 안티글레어층의 표면 조도를 크게 하는 것이 바람직하다. 그러나, 헤이즈가 큰 커버 부재를 전면에 배치한 디스플레이는, 해상도가 낮아진다는 문제가 있다. 따라서, 정면 반사를 억제하고, 배경의 표면 반사를 억제하면서, 높은 해상도를 실현하는 것이 요망되고 있다.

본 발명의 주목적은, 배경의 표면 반사가 적고, 높은 해상도를 갖는 디스플레이를 실현할 수 있는 디스플레이의 커버 부재를 제공하는 데 있다.

본 발명에 관한 제1 디스플레이의 커버 부재에서는, 한쪽의 주면이 요철면에 의해 구성되어 있고, 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)이 0.5° 내지 1.5°, 또는, 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)가 1.0㎛ 내지 21.0㎛ 이며 또한 요철면의 조도 곡면의 베어링 커브에 있어서, 면적률이 70％일 때의 높이를 H₁로 하고, 면적률이 99％일 때의 높이를 H₂로 하고, 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 산술 평균 조도를 Ra로 했을 때에, (H₁-H₂)/Ra가 0.25 이상이다.

본 발명에 관한 제2 디스플레이의 커버 부재에서는, 한쪽의 주면이 요철면에 의해 구성되어 있고, 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)과 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)의 곱(θ×RSm)이 0.5°ㆍ㎛ 내지 40°ㆍ㎛이며 또한 요철면의 조도 곡면의 베어링 커브에 있어서, 면적률이 70％일 때의 높이를 H₁로 하고, 면적률이 99％일 때의 높이를 H₂로 하고, 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 산술 평균 조도를 Ra로 했을 때에, (H₁-H₂)/Ra가 0.25 이상이다.

본 발명에 관한 제1 또는 제2 디스플레이의 커버 부재는, 헤이즈가 0.5％ 이상 10％ 미만인 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 제1 또는 제2 디스플레이의 커버 부재는, 투광판과, 투광판의 일주면의 적어도 일부를 덮고 있어, 요철면을 구성하고 있는 코팅막을 구비하는 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 제1 또는 제2 디스플레이의 커버 부재는, 코팅막이 투광판의 일주면의 전체를 덮고 있는 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 제1 또는 제2 디스플레이의 커버 부재는, 코팅막이, 무기막에 의해 구성되어 있는 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 제1 또는 제2 디스플레이의 커버 부재는, 코팅막의 연필 경도가 6H 이상인 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 제1 또는 제2 디스플레이의 커버 부재는, 투광판이, 강화 유리판에 의해 구성되어 있는 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 디스플레이의 커버 부재의 제조 방법은, 상기 제1 또는 제2 디스플레이의 커버 부재를 제조하기 위한 방법이다. 본 발명에 관한 디스플레이의 커버 부재의 제조 방법에서는, 투광판 상에 스프레이법에 의해 요철면을 구성하는 코팅막을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 디스플레이의 커버 부재의 제조 방법에서는, 투광판을 유리판에 의해 구성하고, 코팅막을 형성한 후에, 유리판을 화학 강화하는 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 디스플레이의 커버 부재의 제조 방법에서는, 투광판으로서, 강화 유리판을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따르면, 배경의 표면 반사가 적고, 높은 해상도를 갖는 디스플레이를 실현할 수 있는 디스플레이의 커버 부재를 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 1 실시 형태에 따른 디스플레이의 커버 부재의 모식적 단면도이다.
도 2는 실시예 1에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯이다.
도 3은 실시예 2에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯이다.
도 4는 실시예 3에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯이다.
도 5는 실시예 4에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯이다.
도 6은 비교예 1에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯이다.
도 7은 비교예 2에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯이다.
도 8은 비교예 3에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯이다.
도 9는 실시예 1에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 형상을 나타내는 사시도이다.
도 10은 실시예 2에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 형상을 나타내는 사시도이다.
도 11은, 실시예 3에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 형상을 나타내는 사시도이다.
도 12는, 비교예 1에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 형상을 나타내는 사시도이다.
도 13은, 비교예 2에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 형상을 나타내는 사시도이다.
도 14는, 비교예 3에 있어서 제조한 커버 부재의 요철면의 형상을 나타내는 사시도이다.

이하, 본 발명을 실시한 바람직한 형태의 일례에 대하여 설명한다. 단, 하기의 실시 형태는, 단순한 예시이다. 본 발명은 다음의 실시 형태에 전혀 한정되지 않는다.

도 1은 본 실시 형태에 따른 디스플레이의 커버 부재(1)의 모식적 단면도이다. 커버 부재(1)는 디스플레이의 전면에 배치되어 사용되는 부재이다. 구체적으로는, 커버 부재(1)는 제1 주면(1a)이 외측(관찰자측)을 향하고, 제2 주면(1b)이 내측을 향하도록 디스플레이에 설치되어 사용된다. 커버 부재(1)는, 예를 들어 디스플레이의 전면판을 구성하는 부재이어도 되고, 전면판 상에 설치되는 부재이어도 된다.

커버 부재(1)의 제1 주면(1a)은 요철면(2)에 의해 구성되어 있다.

상세하게는, 본 실시 형태에서는, 커버 부재(1)는 투광판(10)과, 코팅막(11)을 갖는다. 다만 본 발명에 있어서, 커버 부재는, 하나의 부재에 의해 구성되어 있어도 된다.

투광판(10)은, 디스플레이로부터의 광을 투과시키는 것인 한에 있어서 특별히 한정되지 않는다. 투광판(10)은, 예를 들어 무알칼리 유리, 소다 석회 유리 등의 유리판, Li₂O-Al₂O₃-SiO₂계 결정화 유리 등의 결정화 유리판, 수지판 등에 의해 구성할 수 있다. 예를 들어, 커버 부재(1)에 높은 기계적 강도가 구해지는 경우에는, 투광판(10)을 강화 유리판에 의해 구성하는 것이 바람직하다.

투광판(10)의 두께는, 특별히 한정되지 않는다. 투광판(10)의 두께는, 예를 들어 0.03mm 내지 10mm 정도로 할 수 있다. 또한, 투광판(10)은, 강체이어도 되지만, 가요성을 갖고 있어도 된다. 투광판(10)은, 시트상이어도 된다.

또한, 투광판(10)으로서 적절하게 사용되는 강화 유리판은, 유리 조성으로서, 질량％로, SiO₂ 50 내지 80％, Al₂O₃ 5 내지 25％, B₂O₃ 0 내지 15％, Na₂O 1 내지 20％, K₂O 0 내지 10％를 함유하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 각 성분의 함유 범위를 한정한 이유를 하기에 나타낸다.

SiO₂는, 유리의 네트워크를 형성하는 성분이다. SiO₂의 함유량은, 바람직하게는 50 내지 80％, 52 내지 75％, 55 내지 72％, 55 내지 70％, 특히 55 내지 67.5％이다. SiO₂의 함유량이 너무 적으면, 유리화되기 어려워지고, 또한 열팽창 계수가 너무 높아져, 내열충격성이 저하되기 쉬워진다. 한편, SiO₂의 함유량이 너무 많으면, 용융성이나 성형성이 저하되기 쉬워진다.

Al₂O₃은, 이온 교환 성능을 높이는 성분이고, 또한 변형점이나 영률을 높이는 성분이다. Al₂O₃의 함유량은 5 내지 25％가 바람직하다. Al₂O₃의 함유량이 너무 적으면, 열팽창 계수가 너무 높아져, 내열충격성이 저하되기 쉬워지는 것에 추가하여, 이온 교환 성능을 충분히 발휘할 수 없을 우려가 발생한다. 따라서, Al₂O₃의 적합한 하한 범위는 7％ 이상, 8％ 이상, 10％ 이상, 12％ 이상, 14％ 이상, 15％ 이상, 특히 16％ 이상이다. 한편, Al₂O₃의 함유량이 너무 많으면, 유리에 실투 결정이 석출하기 쉬워져, 오버플로우 다운드로법 등으로 유리판을 성형하기 어려워진다. 또한 열팽창 계수가 너무 낮아져, 주변 재료의 열팽창 계수에 정합시키기 어려워지고, 또한 고온 점성이 높아져, 용융성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Al₂O₃의 적합한 상한 범위는 22％ 이하, 20％ 이하, 19％ 이하, 18％ 이하, 특히 17％ 이하이다.

B₂O₃은, 고온 점도나 밀도를 저하시키는 동시에, 유리를 안정화시켜 결정을 석출시키기 어렵게 하여, 액상 온도를 저하시키는 성분이다. 또한 크랙 레지스턴스를 높이는 성분이다. 그러나, B₂O₃의 함유량이 너무 많으면, 이온 교환 처리에 의해, 버닝이라고 불리는 표면의 착색이 발생하거나, 내수성이 저하되거나, 압축 응력층의 압축 응력값이 저하되거나, 압축 응력층의 응력 깊이가 작아지는 경향이 있다. 따라서, B₂O₃의 함유량은, 바람직하게는 0 내지 15％, 0.1 내지 12％, 1 내지 10％, 1초과 내지 8％, 1.5 내지 6％, 특히 2 내지 5％이다.

Na₂O는, 주요한 이온 교환 성분이며, 또한 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이는 성분이다. 또한, Na₂O는, 내실투성을 개선하는 성분이기도 하다. Na₂O의 함유량은 1 내지 20％이다. Na₂O의 함유량이 너무 적으면, 용융성이 저하되거나, 열팽창 계수가 저하되거나, 이온 교환 성능이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Na₂O를 도입하는 경우, Na₂O의 적합한 하한 범위는 10％ 이상, 11％ 이상, 특히 12％ 이상이다. 한편, Na₂O의 함유량이 너무 많으면, 열팽창 계수가 너무 높아져, 내열충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또한 변형점이 너무 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스를 잃어, 오히려 내실투성이 저하되는 경우가 있다. 따라서, Na₂O의 적합한 상한 범위는 17％ 이하, 특히 16％ 이하이다.

K₂O는, 이온 교환을 촉진하는 성분이며, 알칼리 금속 산화물 중에서는 압축 응력층의 응력 깊이를 증대시키는 효과가 큰 성분이다. 또한 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이는 성분이다. 나아가, 내실투성을 개선하는 성분이기도 하다. K₂O의 함유량은 0 내지 10％이다. K₂O의 함유량이 너무 많으면, 열팽창 계수가 너무 높아져, 내열충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또한 변형점이 너무 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스를 잃어, 오히려 내실투성이 저하되는 경향이 있다. 따라서, K₂O의 적합한 상한 범위는 8％ 이하, 6％ 이하, 4％ 이하, 특히 2％ 미만이다.

상기 성분 이외에도, 예를 들어 이하의 성분을 도입해도 된다.

Li₂O는, 이온 교환 성분인 동시에, 고온 점도를 저하시키고, 용융성이나 성형성을 높이는 성분이다. 또한 영률을 높이는 성분이다. 또한 알칼리 금속 산화물 중에서는 압축 응력값을 증대시키는 효과가 크다. 그러나, Li₂O의 함유량이 너무 많으면, 액상 점도가 저하되어, 유리가 실투하기 쉬워진다. 또한, 열팽창 계수가 너무 높아져, 내열충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또한, 저온 점성이 너무 저하되어, 응력 완화가 일어나기 쉬워지면, 오히려 압축 응력값이 작아지는 경우가 있다. 따라서, Li₂O의 함유량은, 바람직하게는 0 내지 3.5％, 0 내지 2％, 0 내지 1％, 0 내지 0.5％, 특히 0.01 내지 0.2％이다.

Li₂O+Na₂O+K₂O의 적합한 함유량은 5 내지 25％, 10 내지 22％, 15 내지 22％, 특히 17 내지 22％이다. Li₂O+Na₂O+K₂O의 함유량이 너무 적으면, 이온 교환 성능이나 용융성이 저하되기 쉬워진다. 한편, Li₂O+Na₂O+K₂O의 함유량이 너무 많으면, 유리가 실투하기 쉬워지는 것 외에, 열팽창 계수가 너무 높아져, 내열충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또한 변형점이 너무 저하되어, 높은 압축 응력값이 얻어지기 어려워지는 경우가 있다. 또한 액상 온도 부근의 점성이 저하되어, 높은 액상 점도를 확보하기 어려워지는 경우도 있다. 또한, 「Li₂O+Na₂O+K₂O」는, Li₂O, Na₂O 및 K₂O의 합량이다.

MgO는, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 성분이며, 알칼리 토류금속 산화물 중에서는, 이온 교환 성능을 높이는 효과가 큰 성분이다. 그러나, MgO의 함유량이 너무 많으면, 밀도나 열팽창 계수가 높아지기 쉽고, 또한 유리가 실투하기 쉬워진다. 따라서, MgO의 적합한 상한 범위는 12％ 이하, 10％ 이하, 8％ 이하, 5％ 이하, 특히 4％ 이하이다. 또한, 유리 조성 중에 MgO를 도입하는 경우, MgO의 적합한 하한 범위는 0.1％ 이상, 0.5％ 이상, 1％ 이상, 특히 2％ 이상이다.

CaO는, 다른 성분과 비교하여, 내실투성의 저하를 수반하지 않고, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 효과가 크다. CaO의 함유량은 0 내지 10％가 바람직하다. 그러나, CaO의 함유량이 너무 많으면, 밀도나 열팽창 계수가 높아지고, 또한 유리 조성의 성분 밸런스를 잃어, 오히려 유리가 실투하기 쉬워지거나, 이온 교환 성능이 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 적합한 함유량은 0 내지 5％, 0.01 내지 4％, 0.1 내지 3％, 특히 1 내지 2.5％이다.

SrO는, 내실투성의 저하를 수반하지 않고, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 성분이다. 그러나, SrO의 함유량이 너무 많으면, 밀도나 열팽창 계수가 높아지거나, 이온 교환 성능이 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스를 잃어, 오히려 유리가 실투하기 쉬워진다. SrO의 적합한 함유 범위는 0 내지 5％, 0 내지 3％, 0 내지 1％, 특히 0 내지 0.1％ 미만이다.

BaO는, 내실투성의 저하를 수반하지 않고, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 성분이다. 그러나, BaO의 함유량이 너무 많으면, 밀도나 열팽창 계수가 높아지거나, 이온 교환 성능이 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스를 잃어, 오히려 유리가 실투하기 쉬워진다. BaO의 적합한 함유 범위는 0 내지 5％, 0 내지 3％, 0 내지 1％, 특히 0 내지 0.1％ 미만이다.

ZnO는, 이온 교환 성능을 높이는 성분이며, 특히 압축 응력값을 증대시키는 효과가 큰 성분이다. 또한 저온 점성을 저하시키지 않고, 고온 점성을 저하시키는 성분이다. 그러나, ZnO의 함유량이 너무 많으면, 유리가 분상하거나, 내실투성이 저하되거나, 밀도가 높아지거나, 압축 응력층의 응력 깊이가 작아지는 경향이 있다. 따라서, ZnO의 함유량은 0 내지 6％, 0 내지 5％, 0 내지 1％, 0 내지 0.5％, 특히 0 내지 0.1％ 미만이 바람직하다.

ZrO₂는, 이온 교환 성능을 현저하게 높이는 성분인 동시에, 액상 점도 부근의 점성이나 변형점을 높이는 성분인데, 그 함유량이 너무 많으면, 내실투성이 현저하게 저하될 우려가 있고, 또한 밀도가 너무 높아질 우려가 있다. 따라서, ZrO₂의 적합한 상한 범위는 10％ 이하, 8％ 이하, 6％ 이하, 특히 5％ 이하이다. 또한, 이온 교환 성능을 높이고 싶을 경우, 유리 조성 중에 ZrO₂를 도입하는 것이 바람직하고, 그 경우, ZrO₂ 의 적합한 하한 범위는 0.001％ 이상, 0.01％ 이상, 0.5％, 특히 1％ 이상이다.

P₂O₅는, 이온 교환 성능을 높이는 성분이며, 특히 압축 응력층의 응력 깊이를 크게하는 성분이다. 그러나, P₂O₅의 함유량이 너무 많으면, 유리가 분상하기 쉬워진다. 따라서, P₂O₅의 적합한 상한 범위는 10％ 이하, 8％ 이하, 6％ 이하, 4％ 이하, 2％ 이하, 1％ 이하, 특히 0.1％ 미만이다.

청징제로서, As₂O₃, Sb₂O₃, SnO₂, F, Cl, SO₃의 군(바람직하게는 SnO₂, Cl, SO₃의 군)으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상을 0 내지 30000ppm(3％) 도입해도 된다. SnO₂+SO₃+Cl의 함유량은, 청징 효과를 적확하게 향수하는 관점에서, 바람직하게는 0 내지 10000ppm, 50 내지 5000ppm, 80 내지 4000ppm, 100 내지 3000ppm, 특히 300 내지 3000ppm이다. 여기서, 「SnO₂+SO₃+Cl」은, SnO₂, SO₃ 및 Cl의 합량을 가리킨다.

SnO₂의 적합한 함유 범위는 0 내지 10000ppm, 0 내지 7000ppm, 특히 50 내지 6000ppm이고, Cl의 적합한 함유 범위는 0 내지 1500ppm, 0 내지 1200ppm, 0 내지 800ppm, 0 내지 500ppm, 특히 50 내지 300ppm이다. SO₃의 적합한 함유 범위는 0 내지 1000ppm, 0 내지 800ppm, 특히 10 내지 500ppm이다.

Nd₂O₃, La₂O₃ 등의 희토류 산화물은, 영률을 높이는 성분이며, 또한 보색이 되는 색을 첨가하면, 소색하여, 유리의 색감을 컨트롤할 수 있는 성분이다. 그러나, 원료 자체의 비용이 높고, 또한 다량으로 도입하면, 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, 희토류 산화물의 함유량은, 바람직하게는 4％ 이하, 3％ 이하, 2％ 이하, 1％ 이하, 특히 0.5％ 이하이다.

본 발명에서는, 환경면의 배려로, 실질적으로 As₂O₃, F, PbO, Bi₂O₃을 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기서, 「실질적으로 As₂O₃을 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 As₂O₃을 첨가하지 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이며, 구체적으로는, As₂O₃의 함유량이 500ppm 미만인 것을 가리킨다. 「실질적으로 F를 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 F를 첨가하지 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이며, 구체적으로는, F의 함유량이 500ppm 미만인 것을 가리킨다. 「실질적으로 PbO를 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 PbO를 첨가하지 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이며, 구체적으로는, PbO의 함유량이 500ppm 미만인 것을 가리킨다. 「실질적으로 Bi₂O₃을 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 Bi₂O₃을 첨가하지 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이며, 구체적으로는, Bi₂O₃의 함유량이 500ppm 미만인 것을 가리킨다.

투광판(10)은, 제1 주면(10a)과, 제2 주면(10b)을 갖는다. 본 실시 형태에서는, 제1 및 제 2의 주면(10a), (10b)은, 각각, 평탄면이다. 커버 부재(1)의 제2 주면(1b)은 투광판(10)의 제2 주면(10b)에 의해 구성되어 있다. 투광판(10)의 제1 주면(10a) 상에는, 코팅막(11)이 설치되어 있다. 이 코팅막(11)에 의해, 요철면(2)을 구성하고 있는 제1 주면(10a)의 적어도 일부가 덮여 있다. 코팅막(11)은, 예를 들어 제1 주면(10a)의 전체를 덮고 있어도 되고, 제1 주면(10a)의 일부분을 덮고 있어도 된다. 코팅막(11)은, 예를 들어 섬 형상으로 설치되어 있어도 된다. 코팅막(11)이 제1 주면(10a)의 일부분을 덮고 있는 경우, 커버 부재(1)의 제1 주면(1a)은 코팅막(11)과 제1 주면(1a)에 의해 구성된다.

커버 부재(1)가 예를 들어 터치 센서 등에 사용되는 경우에는, 커버 부재(1)의 표면 내구성(내찰상성 등)이 높은 것이 구해진다. 이로 인해, 코팅막(11)이 경질인 것이 바람직하다. 코팅막(11)의 연필 경도는, 6H 이상인 것이 바람직하고, 7H 이상인 것이 보다 바람직하고, 8H 이상인 것이 더욱 바람직하고, 9H 이상인 것이 한층 바람직하다.

코팅막(11)은, 예를 들어 SiO₂, TiO₂, Al₂O₃, ZrO₂ 등의 무기 산화물로 이루어지는 무기막에 의해 구성할 수 있다. 그 중에서도, 코팅막(11)은, SiO₂에 의해 구성되어 있는 것이 바람직하다.

코팅막(11)의 두께는, 예를 들어 0.1㎛ 내지 5㎛인 것이 바람직하다.

또한, 본 실시 형태에서는, 코팅막(11)이 투광판(10)의 제1 주면(10a)에 직접 설치된 예에 대하여 설명한다. 단, 본 발명은 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 코팅막과 투광판과의 사이에, 반사 방지막 등이 설치되어 있어도 된다. 또한, 투광판의 제2 주면(10b) 상에도 반사 방지막이나 투명 도전막 등이 설치되어 있어도 된다.

또한, 반사 방지막은, 예를 들어 투광판(10)보다도 굴절률이 낮은 저굴절률 막, 상대적으로 굴절률이 낮은 저굴절률층과 상대적으로 굴절률이 높은 고굴절률층이 교대로 적층된 유전체 다층막이어도 된다. 반사 방지막은, 예를 들어 스퍼터링법이나 CVD법 등에 의해 형성할 수 있다.

투명 도전막은, 투광판(10)을 커버 유리로서 사용하는 경우에는, 터치 센서용의 전극으로서 기능한다. 투명 도전막으로서는, 예를 들어 주석 도프 산화인듐(ITO)막, 불소 도프 산화 주석(FTO)막, 안티몬 도프 산화 주석(ATO)막 등을 들 수 있다. 그 중에서도, ITO막은 전기 저항이 낮기 때문에 바람직하게 사용된다. ITO막은, 예를 들어 스퍼터링법에 의해 형성할 수 있다. 또한, FTO막이나 ATO막은, CVD(Chemical Vapor Deposition)법에 의해 형성할 수 있다.

본 실시 형태에서는, 코팅막(11)이 커버 부재(1)의 표면을 구성하고 있다. 단, 본 발명은 이 구성에 한정되지 않는다. 코팅막 상에, 예를 들어 지문의 부착을 방지하여, 발수성, 발유성을 부여하기 위한 안티 핑거 프린트막(AF막)이나 반사 방지막 등의 다른 막이 더 설치되어 있어도 된다.

또한, AF막은, 주쇄 중에 규소를 포함하는 불소 함유 중합체를 포함하는 것이 바람직하다. 불소 함유 중합체로서는, 예를 들어 주쇄 중에, -Si-O-Si- 유닛을 갖고 또한 불소를 포함하는 발수성의 관능기를 측쇄에 갖는 중합체를 들 수 있다. 불소 함유 중합체는, 예를 들어 실란올을 탈수 축합함으로써 합성할 수 있다.

투광판(10)의 요철면 측에, 반사 방지막과 AF막을 형성하는 경우에는, 요철면 상에 반사 방지막이 형성되고, 반사 방지막 상에 AF막이 형성되는 것이 바람직하다.

전술한 바와 같이, 커버 부재의 표면에 있어서의 광의 정반사를 억제하는 관점에서는, 커버 부재의 헤이즈를 크게 하는 것이 바람직하다. 그러나, 헤이즈가 큰 커버 부재를 전면에 배치한 디스플레이는, 해상도가 낮아진다는 문제가 있다. 즉, 헤이즈를 조정하는 것만으로는, 배경의 표면 반사 억제와, 높은 해상도를 양립시킬 수 없다.

본 발명자들은, 예의 연구한 결과, 높은 해상도를 얻기 위해서, 헤이즈를 어느 정도 작게 한 경우이어도, 하기의 조건(A)과 조건(C) 또는 조건(B)과 조건(C)이 만족되도록 하든가, 또는, 하기의 조건(C) 및 조건(D)이 만족되도록 함으로써, 배경의 표면 반사를 억제할 수 있는 것에 상도하였다.

조건(A): 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)이 0.5° 내지 1.5°

조건(B): 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)가 1.0㎛ 내지 21.0㎛

조건(C): (H₁-H₂)/Ra≥0.25

조건(D): 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)과 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)의 곱θ×RSm이 0.5 내지 40°ㆍ㎛

단,

H₁: 요철면(2)의 조도 곡면의 베어링 커브에 있어서, 면적률이 70％일 때의 높이,

H₂: 요철면(2)의 조도 곡면의 베어링 커브에 있어서, 면적률이 99％일 때의 높이,

Ra: 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 산술 평균 조도이다.

베어링 커브란, 표면의 조도 곡면의 높이 분포를 해석하는 방법인 베어링 커브 플롯법에 의해 작성된 그래프이다. 베어링 커브 플롯는, 표면 조도 데이터에 의해 표현되는 곡면으로부터 기준 면적만큼 발취한 부분에 있어서, 중심면에 평행한 절단 평면의 위치(높이 성분)를 변화시켰을 때, 그것에 수반하여 변화하는 면적률(상기 절단 평면에 의해 절단되는 산의 총단면적의 기준 면적에 대한 비율)을 그래프로 나타낸 것이다. 베어링 커브에서는, 종축이, 면적률(적산값)(％)이 되고, 횡축이 높이(nm)가 된다. 예를 들어, 베어링 커브의, (높이, 면적률)이 (Hnm, S％)인 포인트에 있어서는, 요철면의 전체의 면적에 대한, 높이가 Hnm 이상인 영역의 면적 비((높이가 H 이상인 영역의 면적)/(요철면의 전체의 면적))가 S％이라는 것이 된다.

따라서, 커버 부재(1)에서는, 요철면(2)의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)이 0.5° 내지 1.5°로 되어 있고, 또 (H₁-H₂)/Ra가 0.25 이상으로 설정되어 있다. 따라서, 커버 부재(1)를 사용함으로써, 배경의 표면 반사가 적고, 높은 해상도를 갖는 디스플레이를 실현할 수 있다. 이하, 이 효과에 대하여 보다 상세하게 설명한다.

본 실시 형태에서는, 요철면(2)의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)이 0.5° 내지 1.5°로 되어 있다(조건(A)). 이로 인해, 요철면(2)은 완만한 요철에 의해 구성되어 있다. 그것 외에, (H₁-H₂)/Ra가 0.25 이상으로 되어 있다(조건(C)). 여기서, (H₁-H₂)/Ra는, 요철면(2)의 골부에 있어서의, 평탄한 면의 면적 비율의 지표라고 생각할 수 있다. 요철면(2)의 골부에 있어서 평탄한 부분이 많을수록, (H₁-H₂)/Ra가 작아지고, 반대로, 요철면(2)의 골부에 있어서 평탄한 부분이 적을수록, (H₁-H₂)/Ra가 커진다. 이로 인해, 요철면(2)의 골부에 차지하는, 제1 주면(10a)과 평행한 영역의 비율이 적다. 따라서, 투과광이 확산되기 어려운데도 불구하고, 정반사가 발생하기 어렵다. 따라서, 커버 부재(1)를 사용함으로써, 배경의 표면 반사가 적고, 높은 해상도를 갖는 디스플레이를 실현할 수 있다.

예를 들어, 헤이즈를 일정하게 하면, 평균 경사각 θ가 작아질수록 요철면을 구성하는 요철이 평탄에 가까워지고, 요철면에 차지하는, 제1 주면(10a)과 평행한 영역의 비율이 많아지는 경향이 있다. 마찬가지로, (H₁-H₂)/Ra가 작을수록, 요철면의 골부에 차지하는, 제1 주면(10a)과 평행한 영역의 비율이 많아지는 경향이 있다. 따라서, 평균 경사각 θ가 크거나, (H₁-H₂)/Ra가 작거나 하는 경우에는, 정반사가 발생하기 쉬워져, 배경이 표면 반사되기 쉬워진다.

마찬가지로, 제1 주면(10a)이 노출되어 있는 경우도, 배경이 표면 반사되기 쉬워진다. 이로 인해, 코팅막(11)이 제1 주면(10a)의 전체를 덮고 있는 것이 바람직하다. 예를 들어, 코팅막(11)이 섬 형상인 경우에는, 제1 주면(10a)의 노출율이 높아진다. 이로 인해, 코팅막(11)은, 섬 형상이 아닌 것이 바람직하다.

조건(B)(요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)가 1.0㎛ 내지 21.0㎛)를 만족하도록 함으로써, 우수한 내찰상성과, 높은 해상도를 양립시킬 수 있다. 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)가 너무 작으면, 표면의 내구성(내찰상성)이 저하하는 경우가 있다. 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)가 너무 크면, 해상도가 저하하는 경우가 있다.

조건(D)(요철면의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)과 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)의 곱θ×RSm이 0.5 내지 40°ㆍ㎛)를 만족하도록 함으로써, 표면 반사를 억제하면서, 높은 해상도를 얻을 수 있다. 곱θ×RSm이 너무 작으면, 표면 반사가 두드러지게 되는 경우가 있다. 곱θ×RSm이 너무 크면, 해상도가 저하되는 경우가 있다.

또한, θ나 RSm에 관한 조건(A), 조건(B) 및 조건(D)을 바람직한 범위로 하는 관점에서는, 투광판(10)의 일주면의 적어도 일부를 덮고 있어, 요철면을 구성하고 있는 코팅막(11)을 설치하는 것이 바람직하다.

코팅막(11)은, 미립자 분산막 등과 같이 산란 입자를 포함하고 있지 않고, 균질한 막인 것이 바람직하다. 그 경우, 해상도를 보다 높일 수 있음과 함께, 표면 반사를 보다 효과적으로 억제할 수 있다.

코팅막(11)은, 투광판(10)보다도 저굴절률인 것이 바람직하다. 그 경우, 표면 반사를 보다 효과적으로 억제할 수 있다.

높은 해상도를 갖는 디스플레이를 보다 효과적으로 실현하는 관점에서, 평균 경사각 θ는, 0.9° 이하인 것이 바람직하고, 0.8° 이하인 것이 더욱 바람직하다.

배경의 표면 반사를 보다 효과적으로 억제하는 관점에서, (H₁-H₂)/Ra는, 0.45 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.5 이상인 것이 더욱 바람직하다.

높은 해상도를 갖는 디스플레이를 보다 효과적으로 실현하는 관점에서, 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)는 20.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 18.0㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

높은 해상도를 갖는 디스플레이를 보다 효과적으로 실현하는 관점에서, 곱θ×RSm은, 39°ㆍ㎛이하인 것이 바람직하고, 38°ㆍ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

또한, 본 발명에 있어서, 평균 경사각 θ은, 구체적으로는, 예를 들어 이하와 같이 하여 측정할 수 있다.

평균 경사각 θ의 측정 방법: 평균 경사각 θ은, 하기 수식 (1)로 정의된다.

평균 경사각 θ=tan^- ¹Δa ……(1) 수식 (1)에 있어서, Δa는, 하기 수식 (2)에 도시한 바와 같이, JIS B 0601-2013에 규정되는 조도 곡선의 기준 길이 l에 있어서, 인접하는 산의 정점과 곡의 최하점과의 차(높이h)의 절댓값의 합계(h1+h2+h3…+hn)를 상기 기준 길이 l로 나눈 값이다.

Δa =(h1+h2+h3…+hn)/l……(2) 평균 경사각은, 구체적으로는, 이하와 같이 측정할 수 있다.

요철면(2) 상을, 일방향을 따라 레이저나 촉침을 주사시킴으로써, 요철면(2)의 표면의 높이를 일방향을 따라 측정한다. 이 높이 측정을 행하는 일방향을 따른 길이(측정 길이)는, 예를 들어 200㎛ 내지 350㎛ 정도로 할 수 있다. 높이의 측정은, 예를 들어 0.5㎛ 간격으로 행할 수 있다.

이어서, 중심선 L을 결정한다. 구체적으로는, 요철면의 높이의 평균값을 통과하는 중심선 L을 결정한다.

이어서, 0.5㎛ 간격마다, 요철면(2)과 중심선 L과의 이루는 각의 크기 절댓값을 측정해 간다. 그리고, 0.5㎛ 간격마다 측정된 0.5㎛ 간격마다, 요철면(2)과 중심선 L과의 이루는 각의 크기의 절댓값을 평균함으로써, 평균 경사각 θ를 산출할 수 있다.

헤이즈는, 확산 투과광의 전체 광선 투과광에 대한 비율이다. 이로 인해, 헤이즈를 작게 함으로써, 확산 투과광을 적게 할 수 있다. 따라서, 높은 해상도를 실현할 수 있다. 커버 부재(1)의 헤이즈는, 10％ 미만인 것이 바람직하고, 4％ 미만인 것이 보다 바람직하고, 3％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 2％ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 단, 커버 부재(1)의 헤이즈가 너무 작으면, 배경의 표면 반사가 발생하기 쉬워지는 경우가 있다. 따라서, 커버 부재(1)의 헤이즈는, 0.5％ 이상인 것이 바람직하고, 0.8％ 이상인 것이 보다 바람직하다.

이어서, 커버 부재(1)의 제조 방법의 일례에 대하여 설명한다.

먼저, 투광판(10)을 준비한다. 이어서, 투광판(10)의 제1 주면(10a) 상에 스프레이법에 의해 투광성 재료를 도포하고, 건조시킴으로써 코팅막(11)을 성막할 수 있다. 스프레이법을 사용하여 코팅막(11)을 형성함으로써, θ나 RSm에 관한 조건(A), 조건(B) 및 조건(D)을 바람직한 범위로 하는 것이 용이해 진다.

보다 상세하게는, 코팅막(11)의 성막은, 이하와 같이 행할 수 있다. 코팅실 안을, 투광판(10)을 반송하면서, 투광판(10)의 반송 방향에 대하여 수직인 방향으로 노즐을 왕복 주사시키면서, 노즐로부터 투광성 재료를 투광판(10)을 향하여 토출해간다. 그 후, 얻어진 도포막을 건조시킴으로써 코팅막(11)을 완성시킬 수 있다. 성막 중는, 코팅실에, 상방부터 하방을 향하여 흐르는 층류를 부여하는 것이 바람직하다.

제조되는 커버 부재(1)의 평균 경사각 θ나 (H₁-H₂)/Ra는, 예를 들어 노즐로부터 토출하는 액적의 입경, 토출압, 단위 면적당으로 토출하는 양, 층류의 유량 등을 제어함으로써 조절할 수 있다.

예를 들어, 노즐로부터 토출하는 액적의 입경을 작게 함으로써, 평균 경사각 θ를 작게 할 수 있고, (H₁-H₂)/Ra를 크게 할 수 있다. 또한, 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)를 작게 할 수 있다. 노즐로부터 토출하는 액적의 입경은, 20㎛ 이하인 것이 바람직하고, 10㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.

예를 들어, 노즐로부터의 토출압을 높게 함으로써, 평균 경사각 θ를 작게 할 수 있고, (H₁-H₂)/Ra를 크게 할 수 있다. 노즐로부터의 토출압은, 예를 들어 0.25MPa 이상인 것이 바람직하고, 0.3MPa 이상인 것이 보다 바람직하다.

노즐로부터의 토출압을 낮게 함으로써, 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)를 작게 할 수 있다. 이 관점에서, 노즐로부터의 토출압은, 0.34MPa 이하인 것이 바람직하다.

예를 들어, 단위 면적당의 도포량을 적게 함으로써, 평균 경사각 θ를 작게 할 수 있고, (H₁-H₂)/Ra를 크게 할 수 있다. 단위 면적당의 도포량은, 예를 들어 50g/㎡ 이하인 것이 바람직하고, 48g/㎡ 이하인 것이 보다 바람직하다.

예를 들어, 층류의 유량을 많게 함으로써, 평균 경사각 θ를 작게 할 수 있고, (H₁-H₂)/Ra를 크게 할 수 있다. 층류의 유량은, 예를 들어 25㎥/분 이상인 것이 바람직하다.

또한, 투광판(10)을 강화 유리판에 의해 구성하는 경우에는, 강화 유리판 상에 코팅막(11)을 성막해도 되고, 유리판 상에 코팅막(11)을 성막한 후에, 유리판을 화학 강화나 풍냉 강화함으로써 강화해도 된다.

이하, 본 발명에 대해서, 구체적인 실시예에 기초하여, 더욱 상세하게 설명하나, 본 발명은 이하의 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니라, 그 요지를 변경하지 않는 범위에서 적절히 변경하여 실시하는 것이 가능하다.

(실시예 1 내지 3 및 비교예 1) 유리 평판(닛폰 덴키 가라스 가부시끼가이샤 제조 무알칼리 유리 평판, 두께 0.7mm) 상에 SiO₂ 성분을 포함하는 액을 스프레이법에 의해 도포하고, 건조시킴으로써, 코팅막을 형성하여, 커버 부재를 얻었다. 상세한 조건은, 표 1에 나타낸다.

(실시예 4) 유리 평판(닛폰 덴키 가라스 가부시끼가이샤 제조 강화 유리 평판, 두께 0.7mm) 상에 SiO₂ 성분을 포함하는 액을 스프레이법에 의해 도포하고, 건조시킴으로써, 코팅막을 형성하여, 커버 부재를 얻었다. 상세한 조건은, 표 1에 나타낸다.

(비교예 2, 3) 유리 평판(닛폰 덴키 가라스 가부시끼가이샤 제조 무알칼리 유리 평판, 두께 0.7mm)의 일주면을 에칭함으로써 요철을 형성하여, 커버 부재를 얻었다.

(헤이즈의 측정) JIS K 7136(2000)에 기초하여, 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제작한 커버 부재의 헤이즈를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[평균 경사각 θ 및 (H₁-H₂)/Ra의 측정] 상기 평균 경사각 θ의 측정 방법에 의해, 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제작한 커버 부재의 평균 경사각 θ를 구했다. 또한, 금회의 측정에 있어서, 기준 길이는 317㎛로 하였다. 또한, 317㎛×238㎛의 범위의 표면 조도 곡면으로부터, 베어링 커브 플롯법에 의해, (H₁-H₂)/Ra를 구했다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 측정한 요철면의 조도 곡선 및 베어링 커브 플롯을 도 2 내지 도 8에 나타낸다. 각 커버 부재의 요철면의 사시도를 도 9 내지 도 14에 도시한다.

(해상도의 평가) 선의 굵기 1mm, 높이 4mm, 폭 4mm의 크기의 문자 「c」의 상방, 높이 20mm의 위치에 커버 부재를 설치하고, 500mm 이격된 위치로부터 눈으로 문자 「c」를 관찰하였다. 그 때, 문자 「c」가 분명히 보이는 것을 ◎, 분명히 보이는데 약간 뿌옇게 흐려 있는 것을 ○, 뿌옇게 흐려 있지만 판별할 수 있는 것을 △, 희미해져서 판별할 수 없는 것을 ×라고 하는 판정을 행했다.

(표면 반사 정도의 평가) 커버 부재의 이면에 멘딩 테이프(3M사제)를 부착하고, 커버 부재 요철면에 형광등을 반사시켰다. 그 반사시킨 형광등이 희미해져서 완전히 보이지 않는 것을 ◎, 약간 보이는데 뿌옇게 흐려 있는 것을 ○, 형광등이 보이는데 약간 뿌옇게 흐려 있는 것을 △, 형광등이 또렷이 보이는 것을 ×라고 하는 판정을 행했다.

[표 1]

표 1에 나타나는 결과로부터, 헤이즈를 어느 정도 작게 한 경우에도, 하기의 조건(A) 또는 조건(B)과, 조건(C)이 만족되도록 할 것인가, 또는, 하기의 조건(C) 및 조건(D)이 만족되도록 함으로써, 높은 해상도를 실현하면서, 배경의 표면 반사를 억제할 수 있는 것을 알 수 있다.

1 : 커버 부재
1a : 제1 주면
1b : 제2 주면
2 : 요철면
10 : 투광판
10a : 제1 주면
10b : 제2 주면
11 : 코팅막

Claims

한쪽의 주면이 요철면에 의해 구성되어 있고,
상기 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)이 0.5° 내지 1.5°, 또는, 상기 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)가 1.0㎛ 내지 21.0㎛이며 또한 상기 요철면의 조도 곡면의 베어링 커브에 있어서, 면적률이 70％일 때의 높이를 H₁로 하고, 면적률이 99％일 때의 높이를 H₂로 하고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 산술 평균 조도를 Ra로 했을 때에, (H₁-H₂)/Ra가 0.25 이상인, 디스플레이의 커버 부재.
한쪽의 주면이 요철면에 의해 구성되어 있고,
상기 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각(θ)과 JIS B0601-2013으로 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이(RSm)의 곱(θ×RSm)이 0.5°ㆍ㎛ 내지 40°ㆍ㎛이며 또한 상기 요철면의 조도 곡면의 베어링 커브에 있어서, 면적률이 70％일 때의 높이를 H₁로 하고, 면적률이 99％일 때의 높이를 H₂로 하고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013으로 규정되는 산술 평균 조도를 Ra로 했을 때에, (H₁-H₂)/Ra가 0.25 이상인, 디스플레이의 커버 부재.
제1항 또는 제2항에 있어서,
헤이즈가 0.5％ 이상 10％ 미만인, 디스플레이의 커버 부재.
제1항 또는 제2항에 있어서,
투광판과,
상기 투광판의 한쪽의 주면의 적어도 일부를 덮고 있고, 상기 요철면을 구성하고 있는 코팅막을 구비하는, 디스플레이의 커버 부재.
제4항에 있어서,
상기 코팅막이 상기 투광판의 한쪽의 주면의 전체를 덮고 있는, 디스플레이의 커버 부재.
제4항에 있어서, 상기 코팅막이, 무기막에 의해 구성되어 있는, 디스플레이의 커버 부재.
제4항에 있어서,
상기 코팅막의 연필 경도가 6H 이상인, 디스플레이의 커버 부재.
제4항에 있어서,
상기 투광판이, 강화 유리판에 의해 구성되어 있는, 디스플레이의 커버 부재.
제1항 또는 제2항에 기재된 디스플레이의 커버 부재를 제조하는 방법이며,
투광판 상에 스프레이법에 의해 상기 요철면을 구성하는 코팅막을 형성하는, 디스플레이의 커버 부재의 제조 방법.
제9항에 있어서,
상기 투광판을 유리판에 의해 구성하고,
상기 코팅막을 형성한 후에, 상기 유리판을 화학 강화하는, 디스플레이의 커버 부재의 제조 방법.
제9항에 있어서,
상기 투광판으로서, 강화 유리판을 사용하는, 디스플레이의 커버 부재의 제조 방법.