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KR102215812B1 - 소자 기판 제조 방법 및 상기 방법을 이용하여 제조한 표시 장치 - Google Patents

소자 기판 제조 방법 및 상기 방법을 이용하여 제조한 표시 장치 Download PDF

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KR102215812B1
KR102215812B1 KR1020140002950A KR20140002950A KR102215812B1 KR 102215812 B1 KR102215812 B1 KR 102215812B1 KR 1020140002950 A KR1020140002950 A KR 1020140002950A KR 20140002950 A KR20140002950 A KR 20140002950A KR 102215812 B1 KR102215812 B1 KR 102215812B1
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South Korea
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manufacturing
inorganic adhesive
carrier substrate
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구현우
김태웅
김선호
최단비
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삼성디스플레이 주식회사
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Abstract

소자 기판 제조 방법은, 캐리어 기판 상에 탈착층를 형성하는 단계, 상기 탈착층의 적어도 일부 상에 무기 접착층을 형성하는 단계, 상기 캐리어 기판 상에 공정 기판을 형성하는 단계, 상기 공정 기판 상에 소자를 형성하는 단계, 및 상기 공정 기판을 상기 캐리어 기판으로부터 분리하는 단계를 포함한다.

Description

소자 기판 제조 방법 및 상기 방법을 이용하여 제조한 표시 장치{MANUFACTURING METHOD OF DEVICE SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE MANUFATURED BY USING THE METHOD}
본 발명은 소자 기판 제조 방법 및 상기 소자 기판 제조 방법으로 제조한 표시 장치에 관한 것이다.
액정표시소자(LCD: liquid crystal display), FED(field emission display), PDP(plasma display panel), OLED(organic light-emitting diode)와 같은 평판 표시 패널을 이용한 표시 장치는 텔레비전, 모바일 폰 등에 주로 적용되고 있다. 일반적으로 상기한 표시 장치는 유연성이 없는 유리 기판을 이용하여 제조되어 가요성이 없기 때문에 용도가 한정되었다. 이에 따라, 휘어지는 표시 장치를 제조하기 위한 여러 시도들이 늘어나고 있다. 일 예로, 기존의 유연성(Flexibility)이 없는 유리기판을 대신하여 플라스틱 등과 같이 유연성이 있는 재료를 사용하여 종이처럼 휘어져는 표시 장치가 개발되고 있다.
본 발명의 목적은 유연성이 있는 소자 기판을 용이하게 제조하는 방법 및 상기 방법으로 제조한 표시 장치를 제공하는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 소자 기판 제조 방법은, 캐리어 기판 상에 탈착층(debonding layer)를 형성하는 단계, 상기 탈착층의 적어도 일부 상에 무기 접착층을 형성하는 단계, 상기 캐리어 기판 상에 공정 기판을 형성하는 단계, 상기 공정 기판 상에 소자를 형성하는 단계, 및 상기 공정 기판을 상기 캐리어 기판으로부터 분리하는 단계를 포함한다.
상기 탈착층은 상기 공정 기판보다 큰 소수성을 가진다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 탈착층은 실란계 화합물을 포함할 수 있는 바, 예를 들어, 상기 실란계 화합물은 폴리디메틸실록산을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 탈착층은 상기 캐리어 기판 상에 자기 조립 단층막으로 이루어진 실란계 화합물층을 형성하고, 상기 캐리어 기판을 세정하여 형성할 수 있다.
상기 무기 접착층은 상기 탈착층보다 큰 친수성을 가질 수 있으며, 금속 산화물을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 금속 산화물은 Al2O3 및 AlZnO 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 무기 접착층은 금속 산화물을 증착하여 형성할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 무기 접착층은 상기 탈착층 상에 서로 이격된 섬 형상으로 형성되어 평면 상에서 볼 때 상기 탈착층의 일부와 중첩할 수 있으며, 또는, 상기 무기 접착층은 상기 탈착층의 전면(全面)에 형성될 수 있다.
상기 공정 기판은 상기 탈착층과 상기 공정 기판이 형성된 상기 캐리어 기판 상에 경화성 고분자층을 형성하고, 상기 경화성 고분자층을 경화시켜 형성할 수 있다.
상기 공정 기판은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리탄산에스테르(PC), 폴리술폰(polysulfone), 페놀수지(phenolic resin), 에폭시수지(epoxy resin), 폴리에스테르(polyester), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에스터(polyetherester), 폴리에테르마이드(polyetheramide), 아세트산 셀룰로이드(cellulose acetate), 지방성 폴리우레탄(aliphatic polyurethanes), 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile), 폴리테트라플루오르에틸렌(polytetrafluoroethlenes), 폴리비닐덴 불화물(polyvinylidene fluorides), 폴리(메틸(X-메타크릴레이트;methyl(x-methacrylates))), 알리파틱 또는 사이클릭 폴리올레핀(aliphatic or cyclic polyolefin), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리이미드(polyimide), 테플론과 같은 불소계 중합체(fluoropolymer), 폴리(에테르 에테르 케톤)(poly(ehterether ketone)), 폴리(에테르케톤)(poly(ether ketone)), 폴리(에틸렌 테트라플루오르에틸렌)불소중합체(poly (ethylene tetrafluoroethylene) fluoropolymer), 폴리(메타크릴산 메틸(methyl methacrylate)), 및 아릴레이트/메타크릴레이트 공중합체(acrylate/methacrylatecopolymers) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으며, 본 발명의 일 실시예에서는 상기 공정 기판이 폴리이미드를 포함할 수 있다.
상기 소자 기판 제조 방법을 제조한 표시 장치는 서로 반대되는 제1 면과 제2 면을 갖는 제1 기판과, 상기 제1 면에 제공된 화소, 및 상기 제2 면에 제공되며 친수성을 갖는 제1 무기 접착층을 포함한다.
상기 표시 장치는 상기 제1 기판에 대향하는 제3 면과 상기 제3 면에 반대되는 제4 면을 갖는 제2 기판, 및 상기 제4 면에 제공되며 친수성을 갖는 제2 무기 접착층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 은 공정 기판을 캐리어 기판으로부터 용이하게 분리할 수 있는 방법과 이를 이용하여 유연성 있는 소자 기판을 제조하는 방법을 제공한다. 또한, 상기한 방법으로 제조한 표시 장치를 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법을 설명한 순서도이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법을 순차적으로 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법으로 제조한 공정 기판에 있어서, 온도에 따른 공정 기판의 무게를 도시한 그래프이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예들에 있어서 무기접착층을 캐리어 기판의 전면에 형성한 것을 도시한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에 의해 제조된 표시 장치의 단면도이다.
도 6a 내지 도 6f는 도 11에 도시된 표시 장치의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법을 설명한 순서도이다. 도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법을 순차적으로 도시한 단면도이다. 이하, 도 1 및 도 2a 내지 도 2e를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법을 설명한다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판은 캐리어 기판(CS) 상에 탈착층(DBL)을 형성(S110)하고, 상기 탈착층(DBL) 상에 무기 접착층(ADL)을 형성(S120)하고, 상기 캐리어 기판(CS) 상에 공정 기판(PS)을 형성(S130)하고, 상기 공정 기판(PS) 상에 소자를 형성(S140)한 후, 상기 공정 기판(PS)을 상기 캐리어 기판(CS)으로부터 분리(S150)함으로써 제조한다.
도 1 및 도 2a를 참조하면, 캐리어 기판(CS)이 제공되고, 상기 캐리어 기판(CS) 상에 탈착층(DBL)이 형성된다.
상기 캐리어 기판(CS)은 이후 형성할 공정 기판(PS)을 지지하기 위한 것으로서, 상기 공정 기판(PS)과 동일한 면적을 가지거나 더 큰 면적을 가질 수 있다.
상기 캐리어 기판(CS)은 유리, 수정, 유기/무기 고분자 물질, 섬유강화플라스틱 등을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 캐리어 기판(CS)은 유리로 이루어질 수 있다.
상기 캐리어 기판(CS)은 가요성이 없는 경질 기판으로 제공된다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 캐리어 기판(CS)이 꼭 경질 기판으로 제공되어야 하는 것은 아니며, 공정 조건에 따라 적어도 일부가 가요성을 갖는 연질 기판으로 형성될 수 있다.
상기 탈착층(DBL)은 상기 캐리어 기판(CS)의 일면 상에 제공된다.
상기 탈착층(DBL)은 이후 형성될 공정 기판(PS)과 서로 다른 표면 에너지를 갖는 물질로 이루어진다. 예를 들어, 상기 탈착층(DBL)은 상기 공정 기판(PS)보다 더 큰 소수성을 갖는 물질로 이루어질 수 있다.
상기 탈착층(DBL)은 상기 공정 기판(PS) 상에 실란계 화합물을 포함하는 실란계 화합물층일 수 있다. 상기 실란계 화합물층은 이용한 자기 조립 단층막(self-assembled monolayer) 형태로 제공될 수 있다.
상기 실란계 화합물층은 상기 캐리어 기판(CS)을 전처리한 후, 상기 캐리어 기판(CS) 상에 자기 조립 단층막을 형성하고, 상기 캐리어 기판(CS)을 세정함으로써 형성될 수 있다.
상기 전처리 단계는 상기 캐리어 기판(CS)의 표면을 개질하기 이전에 상기 캐리어 기판(CS)을 일부 산화시킴으로써, 이후 개질 반응에서의 반응성을 높이기 위해 수행된다. 본 발명의 일 실시예에 있어서 상기 전처리 단계는 상기 캐리어 기판(CS)의 표면을 자외선 처리하거나, 산소(O2), 및/또는 오존(O3) 플라즈마 처리하는 것을 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 처리는 상기 캐리어 기판(CS)을 감압된 챔버 내에 넣고 플라즈마 주입기를 이용하여 챔버 내에 소정 시간 동안, 예를 들어, 30초∼1분간 동안, O2 또는 O3를 주입함으로써 이루어질 수 있다.
상기 자외선, 산소, 및/또는 오존으로 처리된 상기 캐리어 기판(CS)의 표면에는 반응성이 높은 -OH 기가 형성될 수 있다. 상기 -OH기는 후속되는 자기 조립 단일막의 형성을 용이하게 하며, 상기 자기 조립 단일막과 상기 캐리어 기판(CS) 사이의 접착력을 높인다. 상기 자외선의 강도 및 조사 시간은 상기 캐리어 기판(CS)의 재질에 따라 달라질 수 있다.
상기 전처리 단계는 상기 캐리어 기판(CS)의 물성에 따라 생략될 수 있는 바, 상기 캐리어 기판(CS)의 표면이 후술할 실란계 화합물이 충분히 반응할 수 있는 반응기를 갖고 있는 경우에는 생략 가능하다.
상기 자기 조립 단층막은 상기 캐리어 기판(CS)의 표면과 상호 작용하여 상기 캐리어 기판(CS)의 표면과 공유 결합, 수소 결합, 화학적 흡착 등의 결합이 가능한 작용기를 갖는 화합물을 상기 캐리어 기판(CS)에 제공함으로써, 상기 화합물이 상기 캐리어 기판(CS) 상에 2차원적으로 자기 정렬함으로써 형성될 수 있다.
상기 자기 조립 단층막을 형성하는 실란계 화합물은 하기 화학식 1과 같은 구조식을 가질 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112014002423741-pat00001
Z1, Z2, Z3 및 Z4는 독립적으로 -H, -CH3, -Cl, -CH3, -OCH3, -OCH2CH3, -OCOCH3, 또는 -OCH2CH2CH3이며, Z1, Z2, Z3 및 Z4는 모두가 -H이거나, -CH3이거나, -H 또는 -CH3인 경우는 제외한다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 실란계 화합물은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane; PDMS)을 포함한다. 상기 폴리디메틸실록산은 적절한 크기를 갖는 것으로 선택될 수 있다.
상기 실란계 화합물을 이용한 자기 조립 단층막은 액상 또는 기상에서 수행될 수 있다.
액상으로 자기 조립 단층막을 형성하는 단계는 실란계 화합물을 포함하는 용액을 준비하고, 상기 실란계 화합물 포함 용액을 상기 캐리어 기판(CS) 상에 도포함으로써 수행될 수 있다. 상기 실란계 화합물 포함 용액은 촉매로 물을 포함할 수 있다.
기상으로 자기 조립 단층막을 형성하는 단계는 상기 캐리어 기판(CS)을 실란 화합물과 함께 저압(예를 들어, 약 500Pa 이하)의 진공 챔버에 넣음으로써 수행될 수 있다. 상기 진공 챔버는 상기 실란 화합물이 기화될 수 있는 온도와 압력으로 유지된다. 여기서, 상기 진공 챔버 내의 공기를 밖으로 내보낸 후, 상기 실란 화합물이 상기 캐리어 기판(CS) 상에 자기 조립될 수 있도록 촉매로서 수증기를 투입시킬 수 있다. 상기 수증기는 상기 챔버내 압력이 약 500Pa을 유지하는 양으로 투입될 수 있다.
촉매로서 물을 사용하는 상기 액상 또는 기상 실란화 과정의 메커니즘은 다음 화학식 2와 같다. 하기 화학식 2에서는 설명의 편의를 위해 Z1이 수소 원자이고, Z2, Z3, 및 Z4,이 모두 -Cl인 경우를 일 예로서 나타내었다. 상자로 나타낸 부분은 캐리어 기판(CS)에 해당한다.
[화학식 2]
Figure 112014002423741-pat00002
촉매로서 물을 사용하지 않는 상기 액상 또는 기상 실란화 과정의 메커니즘은 다음 화학식 와 같다. 하기 화학식 5에서는 설명의 편의를 위해 Z1 이 수소 원자, Z2가 및 Z4가 -CH3, 및 Z3가 -OCH3 인 경우를 일 예로서 나타내었다. 상자로 나타낸 부분은 캐리어 기판(CS)에 해당한다.
[화학식 3]
Figure 112014002423741-pat00003
상기 캐리어 기판(CS) 상에 상기 화합물이 자기 정렬한 이후, 상기 캐리어 기판(CS)은 세정될 수 있다. 상기 캐리어 기판(CS)은 탈이온수 또는 순수 등의 세척액으로 세정될 수 있다. 상기 세정시 과량으로 제공된 상기 작용기를 갖는 화합물, 상기 캐리어 기판(CS) 표면의 작용기와 미반응한 화합물, 기타 불순물 등이 제거될 수 있다. 또한, 상기 세정 과정을 통해 상기 화합물이 불균일하게 정렬되거나 적층된 부분이 제거될 수 있다. 이에 따라 상기 화합물이 상기 캐리어 기판(CS) 전체에 균일하게 단일막을 형성할 수 있다.
상기한 바와 같이, 상기 자기 조립 단층막은 액상 또는 기상 증착으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
도 1 및 도 2b를 참조하면, 상기 탈착층(DBL) 상에는 이후 형성될 공정 기판(PS)이 상기 탈착층(DBL) 상에 부착될 수 있도록 하는 무기 접착층(ADL)이 제공된다. 상기 무기 접착층(ADL)은 상기 탈착층(DBL)보다 친수성이 큰 물질 중에서 선택될 수 있다. 상기 무기 접착층(ADL)은 금속 산화물을 증착하여 형성할 수 있다. 상기 금속 산화물은 예를 들어, Al2O3 및 AlZnO 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 무기 접착층(ADL)은 평면 상에서 볼 때 섬 형상을 가질 수 있다. 즉, 상기 무기 접착층(ADL)은 상기 탈착층(DBL) 상에 복수의 도메인들을 가지도록 형성되며, 각 도메인들은 서로 이격될 수 있다. 이에 따라, 평면 상에서 볼 때 상기 탈착층(DBL)의 일부와 중첩한다. 상기 무기 접착층(ADL) 재료는 상기 탈착층(DBL)과 달리 친수성을 띠기 때문에 상기 탈착층(DBL)에 형성될 때 서로 같은 친수성을 가지는 재료들끼리 모이며, 이에 따라 최종적인 무기 접착층(ADL)의 형태가 섬 형상을 가지도록 제조될 수 있다.
상기 탈착층(DBL)은 소수성을 띠므로, 상기 캐리어 기판(CS) 상에 상기 탈착층(DBL)만 있을 경우, 상기 공정 기판(PS)이 상기 캐리어 기판(CS) 상에 안정적으로 안착되지 않는다. 상기 무기 접착층(ADL)은 상기 공정 기판(PS)과 친화성이 있는 친수성 물질로 이루어지므로, 상기 무기 접착층(ADL)에 의해 상기 공정 기판(PS)이 상기 캐리어 기판(CS) 상에 적절한 접착력을 가지고 안착된다. 여기서, '안착'이라는 용어는 후술할 공정 기판(PS)이 상기 캐리어 기판(CS) 상에 접촉하고 있는 것을 의미하나, 서로 화학적으로 결합(예를 들어, 공유 결합)되어 분리되지 않은 상태가 된 것을 제외한다.
도 1 및 도 2c를 참조하면, 상기 탈착층(DBL) 상에 상기 공정 기판(PS)이 형성된다. 상기 공정 기판(PS)은 상기 탈착층(DBL)과 상기 공정 기판(PS)이 형성된 상기 캐리어 기판(CS) 상에 경화성 고분자층을 형성하고, 상기 경화성 고분자층을 경화시킴으로써 제조될 수 있다.
상기 경화성 고분자층은 슬릿 코팅, 잉크젯, 등 다양한 방법으로 상기 캐리어 기판(CS) 상에 형성될 수 있다.
상기 경화성 고분자층은 모노머, 다이머, 올리고머, 전구체 등과 같은 중합 가능한 물질로 이루어지며, 상기 모노머, 다이머, 올리고머, 전구체 등을 경화시킴으로써 형성 가능하다. 상기 경화는 열이나 자외선과 같은 에너지를 상기 고분자층에 인가함으로써 수행될 수 있다.
상기 경화된 고분자층은 기판으로서 사용될 수 있는 것으로 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리탄산에스테르(PC), 폴리술폰(polysulfone), 페놀수지(phenolic resin), 에폭시수지(epoxy resin), 폴리에스테르(polyester), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에스터(polyetherester), 폴리에테르마이드(polyetheramide), 아세트산 셀룰로이드(cellulose acetate), 지방성 폴리우레탄(aliphatic polyurethanes), 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile), 폴리테트라플루오르에틸렌(polytetrafluoroethlenes), 폴리비닐덴 불화물(polyvinylidene fluorides), 폴리(메틸(X-메타크릴레이트;methyl(x-methacrylates))), 알리파틱 또는 사이클릭 폴리올레핀(aliphatic or cyclic polyolefin), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리이미드(polyimide), 테플론과 같은 불소계 중합체(fluoropolymer), 폴리(에테르 에테르 케톤)(poly(ehterether ketone)), 폴리(에테르케톤)(poly(ether ketone)), 폴리(에틸렌 테트라플루오르에틸렌)불소중합체(poly (ethylene tetrafluoroethylene) fluoropolymer), 폴리(메타크릴산 메틸(methyl methacrylate)), 및 아릴레이트/메타크릴레이트 공중합체(acrylate/methacrylatecopolymers) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 경화성 고분자층은 폴리이미드를 포함할 수 있다.
상기 공정 기판(PS)은 경질 기판으로 형성될 수 있으나 적어도 일부 영역에서 가요성을 갖는 연질 기판으로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 공정 기판(PS)은 전체 영역에서 가요성을 가질 수도 있다. 또한 상기 공정 기판(PS)은 일부 영역에서 가요성을 가지며 나머지 영역에서 가요성을 가지지 않을 수 있다. 이 경우, 상기 공정 기판(PS)은 가요성을 갖는 연질 영역과 가요성을 갖지 않는 경질 영역을 가질 수 있다. 상기 연질 영역과 상기 경질 영역들에 있어서, "가요성이 있다" 또는 "가요성이 없다"와, "연질" 또는 "경질"이라는 용어는 공정 기판(PS)의 성질을 상대적으로 나타낸 용어로서, 상기 "가요성이 없다" 및 "경질"이라는 표현은 가요성이 아예 없어 단단한 경우뿐만 아니라, 가요성이 있기는 하나 연질 영역보다 작은 가요성을 가지는 경우를 포함한다.
도 1 및 도 2d를 참조하면, 상기 공정 기판(PS) 상에 소자(DV)가 형성된다.
상기 소자(DV)는 형성하고자 하는 장치에 따라 메모리 소자나 화소 등 다양한 종류로 제공될 수 있다.
상기 소자(DV)가 형성되는 동안 상기 공정 기판(PS)은 상기 캐리어 기판(CS) 상에 놓인 채로 반송 및 반출된다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 표시 장치에 사용되는 화소일 수 있다. 상기 화소는 배선, 상기 배선에 연결된 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터에 의해 스위칭 되는 전극, 및 상기 전극에 의해 제어되는 영상 표시층을 포함할 수 있다.
상기 배선부는 다수의 게이트 라인과, 상기 게이트 라인들에 교차하는 다수의 데이터 라인을 포함할 수 있다.
상기 박막 트랜지스터는 패시브 매트릭스 또는 액티브 매트릭스 구동이 가능하도록 복수 개로 제공될 수 있다. 상기 박막 트랜지스터가 액티브 매트릭스로 제공되는 경우, 상기 박막 트랜지스터는 복수로 제공되며, 각각이 상기 게이트 라인들 중 해당 게이트 라인에, 상기 데이터 라인들 중 해당 데이터 라인에 연결된다.
상기 전극은 복수개로 제공될 수 있으며, 각 박막 트랜지스터에 연결될 수 있다.
도시하지는 않았으나, 각 박막 트랜지스터는 게이트 전극, 액티브층, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함한다. 상기 게이트 전극은 상기 게이트 라인들 중에서 대응하는 게이트 라인으로부터 분기될 수 있다. 상기 액티브층은 상기 게이트 전극으로부터 절연되어 형성되며, 상기 액티브층 상에는 상기 액티브층이 노출되도록 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극이 서로 이격되어 형성된다. 상기 소스 전극은 상기 데이터 라인들 중에서 대응하는 데이터 라인으로부터 분기될 수 있다.
상기 영상 표시층은 영상을 표시하는 방식에 따라 액정층, 전기 영동층, 전기 습윤층, 유기발광층, 등을 포함할 수 있다. 상기 영상 표시 층은 상기 전극(들)에 인가된 전압에 대응하여 구동된다. 상기 화소에 대해서는 후술한다.
도 1 및 도 2e를 참조하면, 상기 공정 기판(PS)이 상기 캐리어 기판(CS)으로부터 분리된다.
상기 무기 접착층(ADL)은 친수성 물질로 이루어지므로, 상기 공정 기판(PS)이 상기 캐리어 기판(CS)으로부터 분리될 때 상기 공정 기판(PS)에 부착된 채로 상기 공정 기판(PS)과 함께 상기 캐리어 기판(CS)으로부터 분리된다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS)을 분리하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS) 사이의 계면에 쐐기나 나이프의 날끝을 삽입한 후, 상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS) 중 적어도 어느 하나에 두 기판(PS, CS)의 외부면에 수직한 방향으로 힘을 가함으로써 두 기판을 분리할 수 있다.
또는 분리 부재를 상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS) 각각의 외부면에 상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS) 각각의 외부면에 부착시킨 후, 상기 분리 부재에 상기 두 기판(PS, CS)의 외부면에 수직한 바깥 방향으로 힘을 가함으로써 두 기판(PS, CS)을 분리할 수도 있다.
상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS)의 분리 단계에 있어서, 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 기판(PS)은 상기 탈착층(DBL)을 가지기 때문에 상기 캐리어 기판(CS)과의 접착력이 약화된다. 상기 탈착층(DBL)과 상기 캐리어 기판(CS) 사이에는 반 데르 발스 힘 및/또는 정전기력이 작용하여, 상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS) 사이에 인력이 작용할 수 있다. 그러나, 상기 공정 기판(PS)과 상기 캐리어 기판(CS) 사이의 표면 에너지 차이가 크고, 특히, 상기 공정 기판(PS)의 탈착층(DBL)이 소수성을 띠기 때문에, 상기 인력의 크기가 크지 않다. 이에 따라, 작은 힘으로도 상기 공정 기판(PS)을 상기 캐리어 기판(CS)으로부터 분리할 수 있으며, 상기 공정 기판(PS)을 상기 캐리어 기판(CS)으로부터 분리할 때 상기 공정 기판(PS)의 손상 또한 감소된다.
일반적으로 가요성 기판을 사용하는 공정에서는 가요성 기판이 휘어지는 특성 때문에 종래의 공정에 사용되는 장비에 적용하기 어려운 문제가 있었다. 일례로, 반송 로봇에 의한 기판 반송시 로봇 암에 가요성 기판을 배치하게 되면 가요성 기판이 휘어져 로봇 암 사이로 빠져나가게 되는 등의 어려움이 있다.
그러나, 본 발명의 실시예에 따르면, 캐리어 기판과 같이 단단한 재질로 형성된 캐리어기판(Carrier Substrate)에 부착한 상태로 제조 공정을 수행할 수 있기 때문에 가요성 기판에 안정적으로 소자를 형성할 수 있다. 또한, 공정 기판을 캐리어 기판으로부터, 또는 그 반대로 분리함으로써 용이하게 소자 기판을 제조할 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 금속 산화물 및 실란계 화합물로 캐리어 기판상에 탈착층을 형성하고, 상기 탈착층 상에 무기 접착층을 형성함으로써, 공정 기판과 캐리어 기판 사이의 적절한 인력을 유지함으로써 소자 형성 공정이 용이하며, 이 후 공정 기판과 캐리어 기판 사이의 탈착 또한 용이하게 수행 가능하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 공정 기판을 캐리어 기판으로부터 분리할 때 공정 기판의 손상이 최소화된다. 이를 설명하면 다음과 같다.
기존의 발명에서는 공정 기판을 캐리어 기판으로부터 분리하기 위해 레이저를 공정 기판과 캐리어 기판의 계면에 조사하였다. 또는 캐리어 기판 상에 탈착층으로서 유기 고분자층을 형성하였다. 그러나, 레이저를 이용하는 경우 레이저가 조사된 공정 기판의 투명도가 감소하거나 외부광, 특히 레이저에 취약한 소자의 수명이 감소될 수 있다. 또한, 탈착층으로 유기 고분자층이 형성된 경우, 공정 기판 경화나 소자 형성에서 수반되는 고온 공정으로 인해 상기 유기 고분자층으로부터의 기체가 방사됨으로써 공정 기판에 버블 불량을 발생시킬 수 있다.
이에 비해, 본 발명의 일 실시예에 따르면 레이저를 사용하지 않기 때문에 레이저에 의한 공정 기판의 손상이 없으며, 탈착층과 무기 접착층을 사용함으로써 방출되는 기체가 감소하여 버블 불량이 방지된다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법으로 공정 기판을 제조할 때 온도에 따른 공정 기판의 무게를 도시한 그래프이다. 도 3에 있어서, 캐리어 기판 상에 형성된 경화성 고분자층의 최초 무게가 100%로 설정되었으며, 이후 온도를 상승시키면서 상기 경화성 고분자층을 경화시킬 때의 무게가 그래프로 표시되었다.
도 3을 참조하면, 100도 이하에서는 온도가 높아질수록 공정 기판의 무게가 감소한다. 이는 경화성 고분자층을 형성한 후 경화가 진행됨과 동시에 상기 경화성 고분자층 내의 용매가 증발하기 때문으로 판단된다. 그러나, 100도 이상으로 온도가 높아지더라도 공정 기판의 무게는 거의 변하지 않는다. 이는, 100도 이상의 온도에서 추가적인 기체의 방출이 없기 때문에 공정 기판의 무게가 유지되는 것으로 판단된다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면 공정 기판을 제조한 후 상기 공정 기판 상에 소자를 형성하는 과정 등에서 상기 공정 기판이 고온에 노출되더라도 기체가 방출되지 않는다. 따라서, 방출되는 기체에 의한 버블 결함이 발생하지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 무기 접촉층은 상기 캐리어 기판 상의 일부에 섬 형상으로 형성되었으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 캐리어 기판의 전면(全面)에 형성될 수 있다. 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법을 도시한 것으로, 도 2d에 대응하는 단면도이다. 본 발명의 다른 실시예에 따르면 무기 접착층(ADL)은 상기 캐리어 기판(CS)의 전면에 형성되되, 본 발명의 일 실시예에 따른 무기 접착층(ADL)보다 상대적으로 더 두껍게 형성될 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법에 있어서도, 본 발명의 일 실시예에서와 같이 상기 무기 접착층(ADL)에 의해 공정 기판(PS)이 캐리어 기판(CS) 상에 안정적으로 안착되며, 소자 형성 후, 상기 공정 기판(PS)이 상기 캐리어 기판(CS)으로부터 용이하게 분리될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 소자 기판 제조 방법은 박형 기판에 소자를 형성하기 위한 것이면 그 용도가 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 소자 기판 제조 방법을 이용하여 표시 장치를 형성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위해 먼저 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에 의해 제조된 표시 장치를 먼저 설명한 후, 제조 방법을 후술한다. 여기서, 설명의 중복을 방지하기 위해, 전술한 실시예와 다른 점을 위주로 설명한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에 의해 제조된 표시 장치의 단면도이다.
도 5을 참조하면, 상기 표시 장치는 제1 기판(SUB1), 상기 제1 기판(SUB1)에 대향하는 제2 기판(SUB2), 및 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 사이에 제공된 화소(PXL)를 포함한다.
상기 제1 기판(SUB1)은 서로 반대되는 두 면, 즉, 제1 면과 제2 면을 갖는다. 상기 제1 면은 상기 제2 기판(SUB2)과 대향한다.
상기 화소는 상기 제1 기판(SUB1) 상에 제공된다. 상기 화소(PXL)는 적어도 하나의 전극, 상기 전극에 의해 구동되는 영상 표시층을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 표시 장치가 액정 표시 장치인 경우, 상기 전극은 서로 이격된 적어도 두 개의 전극들, 예를 들어, 제1 전극과 제2 전극을 포함할 수 있다다. 여기서, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 전계를 형성하며, 화소 전극(PE) 및 공통 전극(CE)으로 지칭될 수 있는 바, 본 발명의 일 실시예에서는 상기 제1 전극과 상기 제2 전극이 각각 화소 전극(PE) 및 공통 전극(CE)으로 표시되었다. 또한, 영상 표시층으로는 액정층(LC)이 도시되었다.
상기 제2 기판(SUB2)은 서로 반대되는 두 면, 즉, 제3 면과 제4 면을 갖는다. 상기 제3 면은 상기 제1 기판(SUB1)의 제1 면과 대향한다.
상기 제2 기판(SUB2)은 상기 제1 기판(SUB1)과 서로 동일한 물질로 이루어질 수 있으나, 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시예에서는 상기 제1 기판(SUB1) 및 상기 제2 기판(SUB2) 모두 폴리이미드로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 제1 기판(SUB1)은 폴리이미드로, 상기 제2 기판(SUB2)은 폴리에테르술폰으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 사이에는 봉지부(SL)가 제공된다. 상기 봉지부(SL)는 평면상에서 볼 때 상기 제1 기판(SUB1) 및 상기 제2 기판(SUB2)의 가장자리를 따라 제공되며 상기 액정층(LC)을 봉지한다.
본 발명의 일 실시예에서는 상기 제2 기판(SUB2)이 상기 제1 기판(SUB1)과 함께 도시되었으나, 상기 제2 기판(SUB2)의 경우에 따라 생략될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 기판(SUB1) 상에 화소(PXL)가 형성되고, 상기 화소(PXL) 상에 봉지층(encapsulation layer)이 제공될 수 있다.
여기서, 도시하지는 않았으나, 상기 화소(PXL)는 배선부와 박막 트랜지스터 등을 더 포함할 수 있다. 상기 배선부는 게이트 라인 및 데이터 라인을 포함할 수 있으며, 상기 게이트 라인이나 상기 데이터 라인에는 박막 트랜지스터가 연결될 수 있다. 상기 박막 트랜지스터는 상기 화소의 화소 전극(PE)에 연결될 수 있다.
상기 제1 기판(SUB1)의 제2 면 및 상기 제2 기판(SUB2)의 제4 면에는 각각 제1 및 제2 무기 접착층(ADL1, ADL2)이 제공된다.
상기 표시 장치에 있어서, 상기 게이트 라인에 게이트 신호가 인가되면, 상기 박막 트랜지스터가 턴-온된다. 따라서, 상기 데이터 라인으로 인가된 상기 데이터 신호는 상기 박막 트랜지스터를 통해 상기 화소 전극(PE)으로 인가된다. 상기 박막 트랜지스터가 온 상태가 되어 화소 전극(PE)에 데이터 신호가 인가되면, 상기 화소 전극(PE)과 상기 공통 전극(CE) 사이에 전계가 형성된다. 상기 공통 전극(CE)과 상기 화소 전극(PE)에 인가되는 전압의 차이에 의해 생성된 전계에 의해 상기 액정층(LC)의 액정 분자들이 구동된다. 이에 따라, 상기 액정층(LC)을 투과하는 광량이 변화되어 영상이 표시된다.
도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다. 이하, 도 6a 내지 도 6e를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 제조하는 방법을 상세히 설명한다. 여기서, 설명의 중복을 피하기 위해, 상술한 소자 기판 제조 방법과 다른 점을 위주로 설명하며, 상술한 소자 기판 제조 방법에서 기술한 내용은 생략한다.
도 6a를 참조하면, 제1 캐리어 기판(CS1) 상에 제1 탈착층(DBL1)이 형성된다. 이와 별개로 상기 제2 캐리어 기판(CS2) 상에 제2 탈착층(DBL2)이 형성된다. 상기 제1 탈착층(DBL1) 및 제2 탈착층(DBL2)은 각각 실란계 화합물층으로 형성될 수 있다.
도 6b를 참조하면, 상기 제1 탈착층(DBL1) 상에 제1 무기 접착층(ADL1)이 형성되고, 이와 별개로 상기 제2 탈착층(DBL2) 상에 제2 무기 접착층(ADL2)이 형성된다.
도 6c를 참조하면, 상기 제1 탈착층(DBL1) 및 제1 무기 접착층(ADL1)이 형성된 제1 캐리어 기판(CS1) 상에 공정 기판으로서 제1 기판(SUB1)이 형성된다. 이와 별개로, 상기 제2 탈착층(DBL2) 및 상기 제2 무기 접착층(ADL2)이 형성된 제2 캐리어 기판(CS2) 상에 공정 기판으로서 제2 기판(SUB2)이 형성된다.
도 6d를 참조하면, 상기 제1 기판(SUB1) 상에 화소 전극(PE) 등이 형성된다. 또한, 상기 제2 기판(SUB2) 상에 공통 전극(CE) 등이 형성된다.
상기 화소 전극(PE)과 상기 공통 전극(CE)은 각각 상기 제1 기판(SUB1) 및 상기 제2 기판(SUB2) 상에 투명 도전 물질을 증착하고 포토리소그래피를 이용하여 패터닝함으로써 형성될 수 있다. 상기 제1 기판(SUB1) 상에는 배선부와 박막 트랜지스터 등이 함께 형성될 수 잇으며, 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터 등은 복수 회의 포토리소그래피를 이용하여 패터닝함으로써 형성될 수 있다. 그러나, 상기 화소 전극(PE), 상기 공통 전극(CE) 등의 형성 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 공지된 다양한 방식으로 형성될 수 있다.
상기 화소 전극(PE)과 상기 공통 전극(CE)을 비롯하여, 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터 등을 형성하는 공정은 상기 제1 기판(SUB1) 및 상기 제2 기판(SUB2)이 상기 제1 캐리어 기판(CS1) 및 상기 제2 캐리어 기판(CS2) 상에 지지된 채로 수행된다. 이에 따라 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2)의 두께가 얇거나 가요성을 가지는 경우에도 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2)이 안정적으로 상기 제1 캐리어 기판(CS1) 및 상기 제2 캐리어 기판(CS2)에 의해 진동없이 편평하게 유지될 수 있다.
도 6e를 참조하면, 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 사이에 액정층(LC)이 개재되어 표시 장치가 완성된다. 상기 액정층(LC)은 ODF(one drop filling) 공법으로 형성될 수 있다. 여기서, 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2)의 둘레에는 봉지재(SL)가 제공되어, 상기 액정층(LC)이 외부로 노출되지 않도록 봉지한다. 상기 봉지재(SL)는 상기 액정층(LC)을 상기 두 기판 사이에 위치시키기 전에 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 중 어느 일측에 제공될 수 있으며, 상기 액정이 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2)에 배치된 후 경화됨으로써 상기 액정층(LC)을 봉지할 수 있다.
도 6e를 참조하면, 상기 표시 장치로부터 제1 캐리어 기판(CS1) 및 제2 캐리어 기판(CS2)이 제거된다. 상세하게는 상기 제1 기판(SUB1)으로부터 제1 캐리어 기판(CS1)이 분리되고, 상기 제2 기판(SUB2)으로부터 제2 캐리어 기판(CS2)이 분리된다. 상기 제1 기판(SUB1) 및 상기 제2 기판(SUB2)을 상기 제1 캐리어 기판(CS1) 및 상기 제2 캐리어 기판(CS2)으로부터 분리하는 방법은 각각 상술한 방법을 이용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제1 캐리어 기판(CS1)의 분리 공정 및 상기 제2 기판(SUB2)과 상기 제2 캐리어 기판(CS2)의 분리 공정은 상기 제1 탈착층(DBL1)과 상기 제2 탈착층(DBL2)에 의해 용이하게 실시될 수 있다. 상기 제1 탈착층(DBL1)과 상기 제2 탈착층(DBL2)은 상기 표시 장치의 표면을 소수성을 가지도록 만들며, 이에 따라, 상기 제1 기판(SUB1) 및 상기 기판과의 접착력을 약화시키기 때문이다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
CE : 공통 전극 CS : 캐리어 기판
LC : 액정층 PE : 화소 전극
PS : 공정 기판 DBL: 탈착층
SUB1 : 제1 기판 SUB2 : 제2 기판

Claims (18)

  1. 캐리어 기판 상에 탈착층(debonding layer)를 형성하는 단계;
    상기 탈착층의 적어도 일부 상에 무기 접착층을 형성하는 단계;
    상기 캐리어 기판 상에 공정 기판을 형성하는 단계;
    상기 공정 기판 상에 소자를 형성하는 단계; 및
    상기 무기 접착층이 부착된 공정 기판을 상기 탈착층이 부착된 캐리어 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 탈착층은 상기 공정 기판보다 큰 소수성을 가지는 소자 기판 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 탈착층은 실란계 화합물을 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 실란계 화합물은 폴리디메틸실록산을 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 탈착층을 형성하는 단계는 상기 캐리어 기판 상에 자기 조립 단층막으로 이루어진 실란계 화합물층을 형성하는 단계, 및 상기 캐리어 기판을 세정하는 단계를 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 무기 접착층은 상기 탈착층보다 큰 친수성을 가지는 소자 기판 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 무기 접착층은 금속 산화물을 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 금속 산화물은 Al2O3 및 AlZnO 중 적어도 하나를 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 무기 접착층은 금속 산화물을 증착하여 형성하는 소자 기판 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 무기 접착층은 상기 탈착층 상에 서로 이격된 섬 형상으로 형성되어 평면 상에서 볼 때 상기 탈착층의 일부와 중첩하는 소자 기판 제조 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 무기 접착층은 상기 탈착층의 전면(全面)에 형성되는 소자 기판 제조 방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 공정 기판을 형성하는 단계는
    상기 탈착층과 상기 공정 기판이 형성된 상기 캐리어 기판 상에 경화성 고분자층을 형성하는 단계; 및
    상기 경화성 고분자층을 경화시키는 단계를 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 공정 기판은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리탄산에스테르(PC), 폴리술폰(polysulfone), 페놀수지(phenolic resin), 에폭시수지(epoxy resin), 폴리에스테르(polyester), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에스터(polyetherester), 폴리에테르마이드(polyetheramide), 아세트산 셀룰로이드(cellulose acetate), 지방성 폴리우레탄(aliphatic polyurethanes), 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile), 폴리테트라플루오르에틸렌(polytetrafluoroethlenes), 폴리비닐덴 불화물(polyvinylidene fluorides), 폴리(메틸(X-메타크릴레이트;methyl(x-methacrylates))), 알리파틱 또는 사이클릭 폴리올레핀(aliphatic or cyclic polyolefin), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리이미드(polyimide), 테플론과 같은 불소계 중합체(fluoropolymer), 폴리(에테르 에테르 케톤)(poly(ehterether ketone)), 폴리(에테르케톤)(poly(ether ketone)), 폴리(에틸렌 테트라플루오르에틸렌)불소중합체(poly (ethylene tetrafluoroethylene) fluoropolymer), 폴리(메타크릴산 메틸(methyl methacrylate)), 및 아릴레이트/메타크릴레이트 공중합체(acrylate/methacrylatecopolymers) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 공정 기판은 폴리이미드를 포함하는 소자 기판 제조 방법.
  15. 서로 반대되는 제1 면과 제2 면을 갖는 제1 기판;
    상기 제1 면에 제공된 화소; 및
    상기 제2 면에 제공되며 친수성을 갖는 제1 무기 접착층을 포함하고,
    상기 제2 면에 복수의 개구부들이 정의되고, 상기 제1 무기 접착층은 상기 복수의 개구부들에 각각 배치되는 복수의 제1 무기 패턴들을 포함하는 표시 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제1 기판에 대향하는 제3 면과 상기 제3 면에 반대되는 제4 면을 갖는 제2 기판; 및
    상기 제4 면에 제공되며 친수성을 갖는 제2 무기 접착층을 더 포함하는 표시 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 무기 접착층은 금속 산화물을 포함하는 표시 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 금속 산화물은 Al2O3 및 AlZnO 중 적어도 하나를 포함하는 표시 장치.
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