KR102113350B1

KR102113350B1 - Exposure device of indium tin oxide pattern

Info

Publication number: KR102113350B1
Application number: KR1020130127141A
Authority: KR
Inventors: 미치토모 코다; 마사토시 아사미
Original assignee: 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링
Priority date: 2013-01-15
Filing date: 2013-10-24
Publication date: 2020-05-20
Anticipated expiration: 2033-10-24
Also published as: JP6096515B2; CN103926808B; TWI599855B; CN103926808A; JP2014137420A; KR20140092208A; TW201428429A

Abstract

본 발명은 간섭 무늬의 발생을 방지하고, 필름 마크의 화상 인식을 양호하게 유지하는 것이 가능한 ITO 패턴 노광 장치를 제공한다.
필름형 마스크 1의 필름 마크 60에 대응하는 위치에 마스크 공 2가 형성되고, 필름형 마스크 1이 절단되어 져 구멍이 뚫려 진다. 마스크 공 2는 필름 마크 60의 크기보다 충분히 크고 마스크 공 2는 필름 마크 60의 상단에서는 필름형 마스크 1과 마스크 홀더 3의 밀착이 없어져 마크 상에 간섭 무늬가 발생하지 않는다.The present invention provides an ITO pattern exposure apparatus capable of preventing the generation of interference fringes and maintaining good image recognition of film marks.
A mask ball 2 is formed at a position corresponding to the film mark 60 of the film-type mask 1, and the film-type mask 1 is cut and a hole is drilled. The mask ball 2 is sufficiently larger than the size of the film mark 60, and the mask ball 2 has no adhesion between the film type mask 1 and the mask holder 3 at the top of the film mark 60, so that no interference fringes are generated on the mark.

Description

{Exposure device of indium tin oxide pattern}

본 발명은 터치 패널(touch panel)용 필름 전극 제조에 있어서 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate; PET) 필름으로 지칭되는 투명 필름 상에 인듐 주석 산화물 패턴을 생성하기 위해 사용되어 지는 인듐 주석 산화물 패턴 노광 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an indium tin oxide pattern exposure apparatus used to create an indium tin oxide pattern on a transparent film called a polyethylene terephthalate (PET) film in the manufacture of a touch panel film electrode. It is about.

스마트 폰과 태블릿 단말기 화면 상에 터치 패널은 투명 필름 상에 형성된 투명 전극으로 구성되어 있다. 이 투명 전극은 투명 필름 상에 형성된 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide; ITO)의 막 패턴으로 구성되어 있다. 그런데, 최근 스마트 폰과 태블릿 단말기의 보급에 수반하여 이 ITO 막의 배선 패턴의 고정밀화의 요구가 높아지고 있어 그것을 실현하는 수단으로 포토리소그래피(Photolithography)가 채용되고 있다.The touch panel on the screen of a smart phone and a tablet terminal is composed of transparent electrodes formed on a transparent film. This transparent electrode is composed of a film pattern of indium tin oxide (ITO) formed on a transparent film. However, with the recent spread of smart phones and tablet terminals, the demand for high-precision wiring patterns of this ITO film is increasing, and photolithography has been adopted as a means to realize it.

포토리소그래피는 스테이지 상에 놓인 투명한 PET 필름에 회로 패턴을 그린 마스크를 중첩시키고, 각각의 표면에 설치된 위치맞춤용 필름 마크와 마스크 마크의 위치를 카메라로 관측하고, 그 위치 차이를 화상 처리에서 구한 후, 스테이지의 위치를 x, y, θ 방향으로 조정하여, 양자의 위치맞춤을 수행하고, 그런 후 자외선을 노광하고, 마스크 상의 패턴을 PET 필름 상에 도포된 감광성 레지스트에 전사하는 것으로 행하여 진다.Photolithography superimposes a mask with a circuit pattern on a transparent PET film placed on the stage, observes the position of the film mark for alignment and the mask mark installed on each surface with a camera, and obtains the difference in position from image processing. , It is performed by adjusting the position of the stage in the x, y, and θ directions, performing alignment of both, then exposing ultraviolet rays, and transferring the pattern on the mask to the photosensitive resist applied on the PET film.

마스크는 글라스 마스크와 필름형 마스크 등이 있지만, 비용 대비 효과의 측면에서 필름형 마스크가 주로 채용되고 있으며, 필름형 마스크는 그것을 지지하는 글라스와 수지 등의 투명체로 이루어진 마스크 홀더에 밀착되어 사용되고 있다.The mask includes a glass mask and a film-type mask, but in view of cost-effectiveness, a film-type mask is mainly employed, and the film-type mask is used in close contact with a mask holder made of a transparent material such as glass and resin supporting it.

이러한 ITO 패턴 노광 장치에 있어서 큰 문제점으로, 상기한 필름형 마스크와 PET 필름의 위치맞춤을 하는 것이 어려울 수 있다는 것이다.As a big problem in such an ITO pattern exposure apparatus, it may be difficult to align the above-described film-type mask and PET film.

그 이유의 하나로는 PET 필름 상의 필름 마크는 ITO 막(투명 전극)에 의해 형성되어 지고, ITO 막은 가시 광선에 대해 투명하기 때문에 필름 마크의 위치의 식별이 어려운 것이다.One of the reasons is that the film mark on the PET film is formed by an ITO film (transparent electrode), and it is difficult to identify the position of the film mark because the ITO film is transparent to visible light.

따라서, ITO 막의 투과율이 낮아지고 반사율이 상승하는 근자외역(파장 400nm 전후)보다 짧은 파장으로 조사를 실시하고 카메라로 촬영하거나, 마스크 홀더의 글라스 면에 대해 수직으로 조사하는 것에 의하여 ITO 막의 필름 마크와 글라스 표면부와의 반사율의 차이를 크게 하는 것 등이 이루어지고 있다.Therefore, the film mark of the ITO film is irradiated by irradiation with a wavelength shorter than the near-ultraviolet area (before and after the wavelength of 400 nm) where the transmittance of the ITO film is lowered and the reflectance is increased, and photographed with a camera or irradiated perpendicularly to the glass surface of the mask holder. Increasing the difference in reflectance from the glass surface portion has been made.

또한, ITO 막 위에 금속 막으로 별도 얼라이먼트 마크를 만들거나(특허 문헌 1), 장치 측에 ITO의 분광 반사율에 따라 조명 파장을 선택할 수 있는 구성을 채용하여 마크 인식을 행하는 것(특허 문헌 2) 등의 방법도 제안되어 있다.
In addition, a separate alignment mark is made of a metal film on the ITO film (patent document 1), or mark recognition is performed by adopting a configuration capable of selecting an illumination wavelength according to the spectral reflectance of ITO on the device side (patent document 2), etc. The method of is also proposed.

특허문헌 1: 일본국 특허공개공보 2011-100360호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 2011-100360 특허문헌 2: 일본국 특허공고공보 평5-87763호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Publication No. Hei 5-87763

필름 마크의 위치의 식별이 어려운 이유로서는 ITO 막이 투명 것 외에는 간섭 무늬의 발생이 있고, 이 간섭 무늬가 위치맞춤의 정확도를 크게 저하시키고 있다.The reason why the position of the film mark is difficult to identify is that interference fringes are generated except that the ITO film is transparent, and this interference fringing greatly reduces the accuracy of the alignment.

도 8에 있어서, PET 필름 5'에 ITO 막에서 형성되는 필름 마크 60'가 설치되어 있고, 그 위에 레지스트 막 51'이 형성되고, 여기에 글라스로 된 마스크 홀더 3'에 보지(保持)된 필름형 마스크 1'을 겹쳐서, 필름형 마스크 1'의 마스크 마크 10'와 필름 마크 60'의 위치맞춤을 수행할 상태가 표시되며, 위쪽에서 카메라의 조명장치의 조명 입사광 95가 조사된다.In Fig. 8, a film mark 60 'formed from an ITO film is provided on the PET film 5', a resist film 51 'is formed thereon, and a film held on the mask holder 3' made of glass thereon. The type mask 1 'is superimposed, and the state to perform the alignment of the mask mark 10' and the film mark 60 'of the film type mask 1' is displayed, and the illumination incident light 95 of the lighting device of the camera is irradiated from the top.

필름형 마스크 1'와 마스크 홀더 3'의 마스크 홀더 글라스 30' 사이에는 미크론 수준의 틈새 S가 있고, 이 틈새 S 때문에, 도시된 바와 같이 조명입사광 95가 마스크 홀더 글라스 30'의 배면 32'에서 반사하는 반사광과 필름형 마스크 1' 표면 12'에서 반사하는 반사광과 간섭하여 간섭 무늬 F가 나타나는 현상이 생긴다. 이 간섭 무늬 F는 틈새 S의 크기의 변화에 따라 변화한다. 간섭 무늬 F가 가지는 광의 강도 변화는 적기는 하지만, ITO 막의 위치맞춤 마크 60' 자체의 콘트라스트가 작기 때문에, 노이즈 이미지가 되어, 화상 처리에 의한 필름 마크 인식이 방해되어 지는 문제가 있다.Between the mask-like mask 1 'and the mask holder glass 30' of the mask holder 3 'is a micron-level clearance S, because of this clearance S, the illumination incident light 95 is reflected from the back 32' of the mask holder glass 30 'as shown. The interference pattern F appears by interfering with the reflected light and the reflected light reflected from the film-type mask 1 'surface 12'. This interference fringe F changes with the change in the size of the gap S. Although the intensity change of the light of the interference fringe F is small, the contrast of the alignment mark 60 'of the ITO film is small, resulting in a noisy image, and there is a problem that the recognition of the film mark by image processing is hindered.

본 발명은 상기 종래 기술의 문제를 해결하는 것을 목적으로 한다.
The present invention aims to solve the problems of the prior art.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 노광되는 회로 패턴을 그린 필름형 마스크와, 상기 필름형 마스크를 지지하는 투명체로 이루어진 마스크 홀더를 구비하고, 상기 회로 패턴을 형성하는 ITO 막을 가지는 투명 필름 상에 노광을 행하는 ITO 패턴 노광 장치에 있어서, 상기 투명 필름 상에 설치된 ITO 막을 갖는 위치맞춤용의 필름 마크와, 상기 필름형 마스크의 상기 필름 마크에 대응하는 위치에 설치된 상기 필름 마크보다 큰 마스크 공(孔)과, 상기 마스크 공의 주위에 설치된 위치맞춤용 마스크 마크와를 갖는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is provided on a transparent film having an ITO film that includes a film-shaped mask that draws a circuit pattern to be exposed, a mask holder made of a transparent body that supports the film-type mask, and forms the circuit pattern. In the ITO pattern exposure apparatus for performing, a film mark for alignment with an ITO film provided on the transparent film, and a mask ball larger than the film mark provided at a position corresponding to the film mark of the film-like mask. And a mask mark for alignment provided around the mask ball.

이상의 구성에 있어서는, 마스크 공에 의해 필름형 마스크 표면에서의 반사광이 없어 마스크 홀더 뒷면의 반사 광과의 간섭 줄무늬가 없어 필름 마크의 인식이 양호하게 행해질 수 있다.In the above structure, there is no reflected light on the surface of the film-like mask due to the mask ball, and there is no interference fringe with the reflected light on the back side of the mask holder, so that the recognition of the film mark can be performed satisfactorily.

또한, 상기 마스크 홀더에 설치되고, 상기 필름형 마스크의 마스크 구멍 주위를 마스크 홀더에 흡착시키기 위한 흡착 홈을 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의해 마스크 공에서 공기가 유입되는 것을 방지하고 구멍을 중심으로 한 광범위하고 필름형 마스크와 마스크 홀더와의 밀착도의 저하를 방지하고 노출 해상도의 악화를 방지할 수 있다.Also, it is preferable that the mask holder further includes an adsorption groove for adsorbing the periphery of the mask hole of the film-type mask to the mask holder. With this configuration, it is possible to prevent air from entering the mask ball, to prevent the deterioration of the adhesion between the wide and centered film-type mask and the mask holder, and to deteriorate the exposure resolution.

본 발명의 ITO 패턴 노광 장치에 의하면, 간섭 무늬의 발생을 방지하고, 필름 마크의 화상인식을 양호하게 유지하는 것이 가능하게 되어, 노광 해상도를 유지하면서 정밀한 얼라이먼트 노광이 가능하게 되는 효과가 있다.
According to the ITO pattern exposure apparatus of the present invention, it is possible to prevent the generation of interference fringes and to maintain the image recognition of the film mark satisfactorily, thereby enabling precise alignment exposure while maintaining the exposure resolution.

도 1은 본 발명의 일 실시형태를 나타내는 개략 사시도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시형태를 나타내는 부분 측단면도이고,
도 3은 본 발명의 일 실시형태의 동작을 나타내는 설명도이고,
도 4는 본 발명의 일 실시형태의 흡착 홈 4의 구성을 나타내는 부분 확대평면도이고,
도 5는 본 발명의 일 실시형태의 흡착 홈 4의 구성을 나타내는 평면도이고,
도 6은 본 발명의 일 실시형태의 흡착 홈 4의 효과를 나타내는 설명도이고,
도 7은 본 발명의 일 실시형태의 흡착 홈 4의 다른 구성을 나타내는 평면도이고,
도 8은 종래의 노광 장치에 있어서의 간섭 무늬의 발생을 나타내는 설명도이다.1 is a schematic perspective view showing an embodiment of the present invention,
2 is a partial side cross-sectional view showing an embodiment of the present invention,
3 is an explanatory diagram showing the operation of one embodiment of the present invention,
4 is a partially enlarged plan view showing the configuration of the adsorption groove 4 in one embodiment of the present invention,
5 is a plan view showing the configuration of an adsorption groove 4 in one embodiment of the present invention,
6 is an explanatory diagram showing the effect of the adsorption groove 4 in one embodiment of the present invention,
7 is a plan view showing another configuration of the adsorption groove 4 of one embodiment of the present invention,
8 is an explanatory diagram showing the generation of interference fringes in a conventional exposure apparatus.

이하 본 발명의 실시 형태를 도면에 기초하여 설명한다.
EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described based on drawing.

도 1은 본 발명에 따른 ITO 패턴 노광 장치의 개략 사시도를 나타낸다.1 shows a schematic perspective view of an ITO pattern exposure apparatus according to the present invention.

도 1에서 ITO 막 6이 형성된 PET 필름 5는 XYθ 방향으로 움직일 수 있는 XYθ 스테이지 98에 적재되어 위쪽에 있는 마스크 홀더 3에 유지된 필름형 마스크 1에 그려진 회로 패턴 15를 노광광원 99에서 노광 광에 의해 노광되도록 구성되어 있다.In FIG. 1, the PET film 5 formed with the ITO film 6 is loaded on the XYθ stage 98 that can move in the XYθ direction, and the circuit pattern 15 drawn on the film type mask 1 held in the mask holder 3 at the top is exposed to the exposure light from the exposure light source 99. It is configured to be exposed by.

PET 필름 5에는 4 모서리의 4 군데에 필름 마크 60이 형성되고, 또한 필름형 마스크 1에는 필름 마크 60에 대응하는 위치에 4개의 마스크 마크 10이 그려져 있으며, 이 필름 마크 60과 마스크 마크 10을 카메라 조명장치 96을 구비한 카메라 97로 촬영하고, 양자의 위치의 차이를 화상 처리에 의해 구하고, XYθ 스테이지 98에 의해 PET 필름 5를 XYθ 방향으로 이동시켜 필름 마크 60과 마스크 마크 10을 일치시킴에 의하여 PET 필름 5와 필름형 마스크 1의 위치 맞춤을 수행하도록 구성되어 진다. 카메라 조명 장치 96에서는 ITO 막 6의 투과율이 하락하여 반사율이 상승하는 근자외역(파장 400nm 전후) 혹은 보다 짧은 파장의 조명광을 조사하도록 되어 있다.PET film 5 is formed with four film marks 60 at four corners, and four mask marks 10 are drawn on film-type mask 1 at positions corresponding to film marks 60. By photographing with the camera 97 equipped with the lighting device 96, obtaining the difference in the position of both by image processing, and moving the PET film 5 in the XYθ direction by the XYθ stage 98 to match the film mark 60 and the mask mark 10 It is configured to perform alignment of PET film 5 and film-type mask 1. In the camera lighting device 96, the transmittance of the ITO film 6 is decreased, and the near-ultraviolet region (before and after the wavelength of 400 nm) or the shorter wavelength of illumination light is irradiated.

이 노광 장치의 제어는 제어 장치 8에 의해 수행되며, 상기 필름 마크 60과 마스크 마크 10의 화상 처리 및 위치맞춤도 제어 장치 8에 의해 이루어지도록 구성되어 있다. 또한, 후술하는 흡입 장치 40을 구비하고 있다.Control of this exposure apparatus is performed by the control apparatus 8, and the image processing and alignment of the film mark 60 and the mask mark 10 are also configured by the control apparatus 8. Moreover, the suction device 40 mentioned later is provided.

또한, 도 1에서는 마스크 마크 10, 필름 마크 60, 카메라 조명장치 96, 카메라 97을 생략하고 2개 그려져 있는 실제로는 각각 4개 갖추고 있다.In addition, in Fig. 1, four mask marks 10, a film mark 60, a camera lighting device 96, and a camera 97 are omitted, and four are actually drawn.

도 2는 부분 확대도를 나타낸다. PET 필름 5 위에는 상기한 바와 같이 ITO 막 6이 형성되어 있고, 필름 마크 60도 ITO 막 6으로 형성되어 있다. ITO 막 6 위에는 또한 레지스트 막 51이 형성되어 있다. 또한, 도 2에서는 레지스트 막 51의 도시를 생략하였다.2 shows a partial enlarged view. ITO film 6 is formed on the PET film 5 as described above, and the film mark 60 is also formed of the ITO film 6. A resist film 51 is also formed on the ITO film 6. 2, illustration of the resist film 51 is omitted.

필름형 마스크 1은 마스크 홀더 3의 마스크 홀더 글라스 30에 밀착하여 지고, 마스크 홀더 글라스 30에 설치된 흡입 홈 31에 의해 마스크 홀더 3에 흡착되어 진다. 마스크 홀더 글라스 30은 흡입 장치 40에 의해 흡입되어 부압이 되고, 필름형 마스크 1을 흡착하도록 되어 진다.The film-shaped mask 1 is in close contact with the mask holder glass 30 of the mask holder 3, and is adsorbed to the mask holder 3 by the suction groove 31 provided in the mask holder glass 30. The mask holder glass 30 is sucked by the suction device 40, becomes negative pressure, and is adapted to adsorb the film-shaped mask 1.

필름형 마스크 1의 상기 필름 마크 60에 대응하는 위치에 마스크 공 2가 형성되어 짐에 의해, 필름형 마스크 1이 절단 흠결되어 져 구멍이 뚫려 진다. 상기 마스크 공 2는 필름 마크 60의 크기보다 직경으로 약 2배의 크기를 가지고 있으며, 이 실시형태에서는, 필름 마크 60이 φ2mm의 크기에 대응하여 마스크 공 2가 φ5mm 크기로 되어 진다.When the mask ball 2 is formed at a position corresponding to the film mark 60 of the film-type mask 1, the film-type mask 1 is cut and flawed, and a hole is drilled. The mask ball 2 has a diameter about twice as large as the size of the film mark 60, and in this embodiment, the film mark 60 has a size of φ5 mm corresponding to the size of φ2 mm.

이러한 마스크 공 2에 있어서 필름 마크 60의 상단에서는 필름형 마스크 1과 마스크 홀더 글라스 30의 밀착이 없게 되어 마크에 간섭 무늬가 발생하지 않게 된다.In such a mask ball 2, there is no close contact between the film type mask 1 and the mask holder glass 30 at the top of the film mark 60, so that no interference fringes are generated in the mark.

마스크 공 2의 주위에는 원 환상의 마스크 마크 10이 그려져 있다. 마스크 마크 10의 크기(외경)는 마스크 공 2의 직경보다 커지게 되고, 마스크 공 2의 형상 변화와 위치 변화가 있어도 위치맞춤의 정밀도에 문제가 생기지 않도록 되어 있다. 이 실시형태에서는 마스크 마크 10은 외경 φ6mm로 되도록, 미리 φ6mm의 흑환을 만들어 놓고 그 중앙에 φ5mm 마스크 공 2를 열고 링 형상의 마스크 마크 10을 형성하고 있다.A circle-shaped mask mark 10 is drawn around the mask ball 2. The size (outer diameter) of the mask mark 10 becomes larger than the diameter of the mask ball 2, and even if there is a shape change and a position change of the mask ball 2, there is no problem in the accuracy of the alignment. In this embodiment, a black ring of φ6 mm is previously made so that the mask mark 10 has an outer diameter of φ6 mm, and a φ5 mm mask ball 2 is opened in the center to form a ring-shaped mask mark 10.

도 2의 (B)에 카메라 97로 촬영한 필름 마크 60과 마스크 마크 10의 영상을 보여준다.Fig. 2B shows the images of the film mark 60 and the mask mark 10 taken with the camera 97.

마스크 홀더 3의 위쪽에는 카메라 97과 카메라 조명 장치 96이 설치되어 있으며, 카메라 조명 장치 96에서 조명 광을 대략 수직으로 조사하여 마스크 마크 10과 필름 마크 60을 촬영하고 상기 도 2의 (B)의 영상을 얻어 위치맞춤이 이루어지게 되어있다.A camera 97 and a camera lighting device 96 are installed on the upper side of the mask holder 3, and the light from the camera lighting device 96 is irradiated approximately vertically to take the mask mark 10 and the film mark 60, and the image of FIG. 2B. The position alignment is made by obtaining.

도 3의 (A) (B)와 같이, 상기 구성의 필름형 마스크 1을 PET 필름 5에 중첩하여서 필름 마크 60과 마스크 마크 10의 위치맞춤을 한다. As shown in Fig. 3 (A) and (B), the film type mask 1 having the above-described configuration is superimposed on the PET film 5 to align the film marks 60 and the mask marks 10.

상기한 바와 같이, 마스크 공 2에 의해 필름 5의 일부를 절취하도록 하기 위해, 도 8에 설명된 바와 같은 필름형 마스크 표면 12로부터의 카메라 조명 장치 96의 조명 입사광 95의 반사광이 없어 글라스 30의 뒷면 32의 반사광 a와의 간섭 무늬가 없어진다. 또한, 레지스트 막 51의 반사광 b는 글라스 30의 이면 32의 반사광 a와는 도시된 바와 같이 광로 차이가 커지기 때문에 간섭 무늬는 생기지 않는다. 조명 입사광 95의 입사각은 거의 수직이기 때문에 이 광로차의 크기는 필름형 마스크 1의 두께(100μm ~ 200μm 정도) × 2가 된다. 한편, 카메라 조명 장치 96에서 조명광은 파장 400nm 전후의 근자외선이고, 상기 광로 차이는 조명광의 허용 간섭 거리보다 충분히 크기 때문에 간섭이 일어나지 않고 간섭 무늬는 생기지 않는다.As described above, in order to cut a portion of the film 5 by the mask ball 2, there is no reflected light of the illumination incident light 95 of the camera illumination device 96 from the film-like mask surface 12 as described in FIG. The interference fringe with the reflected light a of 32 disappears. In addition, since the reflected light b of the resist film 51 is larger than the reflected light a of the back surface 32 of the glass 30, an interference fringe does not occur. Since the incident angle of the illumination incident light 95 is almost vertical, the size of this optical path difference is the thickness of the film-type mask 1 (about 100 μm to 200 μm) × 2. On the other hand, in the camera illumination device 96, the illumination light is near-ultraviolet rays with a wavelength of about 400 nm, and since the difference in the optical path is sufficiently larger than the allowable interference distance of the illumination light, interference does not occur and an interference fringe does not occur.

마스크 홀더 글라스 30에는 상기 마스크 공 2에 대응하는 위치에 흡착 홈 4가 형성되어 진다. 이 흡착 홈 4를 흡입 장치 40에 의해 흡인하여, 마스크 공 2 주위를 마스크 홀더 글라스 30에 밀착시키도록 구성되어 진다.In the mask holder glass 30, an adsorption groove 4 is formed at a position corresponding to the mask ball 2. This suction groove 4 is suctioned by the suction device 40, and is configured to be in close contact with the mask holder glass 30 around the mask ball 2.

흡착 홈 4는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 각 마스크 공 2를 둘러싸는 위치에 각각 형성되어 있으며, 각 흡착 홈 4는 상기 흡입 홈 31에 연통하도록 형성되어 진다.The suction grooves 4 are respectively formed at positions surrounding each mask ball 2 as shown in FIGS. 4 and 5, and each suction groove 4 is formed to communicate with the suction groove 31.

흡입 홈 31, 31은 도시되 바와 같이, 마스크 홀더 글라스 30의 주위에 2중으로 프레임 형상으로 형성되고, 필름형 마스크 1의 주위를 마스크 홀더 글라스 30에 밀착시키도록 되어있다. 흡착 홈 4는 내측의 흡입 홈 31에 연통하는 U자 모양의 홈 이 있어 흡착 홈 4와 흡입 홈 31의 일부에 의해 마스크 공 2를 주변으로 홈을 형성하고 있다.As shown in the drawing, the suction grooves 31 and 31 are formed in a double frame shape around the mask holder glass 30, and are adapted to adhere the periphery of the film-shaped mask 1 to the mask holder glass 30. The suction groove 4 has a U-shaped groove communicating with the suction groove 31 inside, thereby forming a groove around the mask ball 2 by a portion of the suction groove 4 and the suction groove 31.

흡입 장치 40은 이러한 흡착 홈 4와 흡입 홈 31, 31을 함께 흡입하여 필름형 마스크 1을 마스크 홀더 글라스 30에 밀착시키도록 구성되어 있다.The suction device 40 is configured to suck the suction grooves 4 and the suction grooves 31 and 31 together to make the film type mask 1 adhere to the mask holder glass 30.

도 6은 흡착 홈 4의 작용 효과를 도시한다.6 shows the effect of the adsorption groove 4.

흡착 홈 4를 마련하지 않는 경우에는 (A)와 같이, 마스크 공 2에서 공기가 유입하여, 마스크 공 2를 중심으로 광범위하여 필름형 마스크 1과 마스크 홀더 글라스 30과의 밀착도가 떨어지고, 마스크 공 2에서 떨어진 장소에서 노출 해상도가 악화된다. 그러나, 이 실시형태에 따르면 마스크 공 2 주위에 마스크 홀더 글라스 30에 흡착 홈 4를 형성함으로써 필름형 마스크 1에 열려 진 마스크 공 2에서 유입되는 공기가 흡입되고, 흡착 홈 4의 외측의 회로 패턴 15가 존재하는 필름형 마스크 1의 중심부로의 공기 유입을 막고, 필름형 마스크 1과 마스크 홀더 글라스 30과의 밀착도의 저하를 방지할 수 있다.When the adsorption groove 4 is not provided, as shown in (A), air flows in from the mask ball 2, and the adhesiveness between the film-shaped mask 1 and the mask holder glass 30 is poor due to the wide range around the mask ball 2, and the mask ball 2 Exposure resolution deteriorates at a place away from. However, according to this embodiment, by forming the adsorption groove 4 in the mask holder glass 30 around the mask ball 2, the air flowing in from the mask ball 2 opened in the film type mask 1 is sucked, and the circuit pattern 15 outside the adsorption groove 4 It is possible to prevent the inflow of air into the center of the film-shaped mask 1 where is present, and to prevent a decrease in the adhesion between the film-shaped mask 1 and the mask holder glass 30.

도 7은 흡입 홈 4의 다른 실시형태를 나타낸 것이다. 본 실시형태에서는 흡입 홈 4', 4'는 흡입 홈 31, 31과 같은 길이를 가진 평행선이 되도록 종방향으로 2 개 형성되어 있다. 흡착 홈 4'는 복수 개소에 연통 홈 45를 갖추고있어 이 연통 홈 45에 의해 내측의 흡입 홈 31과 연통되어 진다. 이 구성에 있어서 흡착 홈 4'와 연통 홈 45 및 내측의 흡입 홈 31에 의해 복수의 테두리 형상의 흡입 홈을 형성하고 있다.7 shows another embodiment of the suction groove 4. In this embodiment, two suction grooves 4 'and 4' are formed in the longitudinal direction such that the suction grooves 31 and 31 are parallel lines having the same length. The suction groove 4 'is provided with a communication groove 45 at a plurality of places, and the communication groove 45 communicates with the suction groove 31 inside. In this configuration, a plurality of rim-shaped suction grooves are formed by the suction groove 4 ', the communication groove 45, and the inner suction groove 31.

이 구성에 의해 광범위한 영역의 흡입이 가능해진다. 또한, 필름형 마스크 1의 장변 방향과 단변 방향의 여러 장소에 위치하는 마스크 공 2에도 대응 가능하며, 다른 마스크 공 2가 있어, 다른 필름형 마스크 1에도 광범위하게 대응 가능하다.This configuration makes it possible to inhale a wide range of areas. In addition, it is possible to cope with the mask ball 2 located in various places in the long side direction and the short side direction of the film-type mask 1, and there is another mask ball 2, and thus, it is also widely applicable to other film-type mask 1.

이상 설명한 실시형태에 있어서, 마스크 공 2는 필름형 마스크 표면 12에서의 조명광의 반사가 없어 간섭 무늬의 발생을 방지할 수 있어 필름 마크 60의 인식을 양호하게 행할 수 있어 위치 맞춤하는 정밀도의 향상을 도모한다.In the above-described embodiment, the mask ball 2 has no reflection of the illumination light on the film-like mask surface 12 and can prevent the occurrence of interference fringes, and thus can recognize the film mark 60 satisfactorily, thereby improving the positioning accuracy. Do it.

1 : 필름형 마스크, 2 : 마스크 홀, 3 : 마스크 홀더, 4 : 흡착 홈, 5 : PET 필름, 6 : ITO 막, 8 : 제어 장치, 10 : 마스크 마크, 12 : 필름형 마스크 표면, 15 : 회로 패턴, 30 : 마스크 홀더 글라스, 31 : 흡입 홈, 32 : 마스크 홀더 글라스 배면, 40 : 흡입 장치, 45 : 연통 홈, 51 : 레지스터 막, 95 : 조명 입사광, 96 : 카메라 조명 장치, 97 : 카메라, 98 : XYθ 스테이지, 99 : 노광 광원.DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film-type mask 2 Mask hole 3 Mask holder 4 5 PET film 6 ITO film 8 Control device 10 Mask mark 12 Film-type mask surface 15 Circuit pattern, 30: mask holder glass, 31: suction groove, 32: mask holder glass back, 40: suction device, 45: communication groove, 51: resistor film, 95: light incident light, 96: camera lighting device, 97: camera , 98: XYθ stage, 99: exposure light source.

Claims

An ITO pattern exposure apparatus comprising a film-type mask having a circuit pattern transferred by exposure and a mask holder having a transparent body supporting the film-type mask, and performing exposure on a transparent film having an ITO film through which a circuit pattern is transferred. In,
A film mark for alignment formed of ITO on the transparent film,
A mask ball larger than the film mark and provided in the film-like mask at a position corresponding to the film mark,
And an alignment mask mark provided around the mask ball on the film type mask.

The ITO pattern exposure apparatus according to claim 1, further comprising an adsorption groove provided on the mask holder in order to chuck the film-like mask into a mask holder in a part of the periphery of the mask ball.

According to claim 1,
An ITO pattern exposure apparatus provided on the mask holder, further comprising a plurality of frame-shaped suction grooves surrounding a plurality of predetermined ranges.