KR101844327B1 - 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 및 그 제조방법 - Google Patents
가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 및 그 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 적층 구조의 다양한 예를 나타낸 모식도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예로서, 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 적층 구조를 예시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예로서, 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 적층 구조를 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 적용되는 발광모듈의 적층구조를 예시한 도면이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 또 다른 실시예로서, 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 제조방법의 흐름을 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자의 적층 구조를 TEM 사진이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 발광소자의 원소에 따른 적층도 분석 실험 결과를 나타낸 그래프이다.
도 10 내지 도 13는 본 발명의 실시예에 따른 발광소자에 직류 정 및 역전압 그리고 교류전압 인가 시 발광특성을 비교하여 나타낸 실험의 결과이다.
도 14은 교류전압의 양 및 음전압의 크기 조절에 따른 상부 오렌지 하부 청색광 유닛이 적층된 발광다이오드 소자의 스펙트라 측정 실험의 결과이다.
도 15는 교류전압의 양 및 음전압의 크기 조절에 따른 상부 적색광 하부 청색광 유닛이 적층된 발광소자의 스펙트라 측정 실험의 결과이다.
도 16는 교류전압의 양 및 음전압의 크기 조절에 따른 상부 오렌지 혹은 적색광 하부 청색광 유닛이 적층된 발광소자의 색좌표 측정 실험 결과이다.
300: 제1 고분자 발광부 310: 전자 전달층
330: 제1 정공 전달층 350: 제1 고분자 발광층
400: 고전도성 고분자층 500: 제2 고부자 발광부
530: 제2 정공 전달층 550: 제2 고분자 발광층
600: 상부전극 700: 제3 고분자 발광부
900: 제4 고분자 발광부 980: 제2 상부전극
Claims (25)
- 기판에 형성된 하부전극 상부에 적층되어 형성되는 제1 고분자 발광부;
상기 제1 고분자 발광부 상부에 적층되어 형성되는 고전도성 고분자층;
상기 고전도성 고분자층 상부에 적층되어 형성되는 제2 고분자 발광부; 및
상기 제2 고분자 발광부 상부에 형성되는 상부전극을 포함하되;
상기 제1 고분자 발광부는, 상기 하부전극 상부에 적층되어 형성되는 전자 전달층; 상기 전자 전달층 상부에 적층되어 형성되는 제1 고분자 발광층; 및 상기 제1 고분자 발광층 상부에 적층되어 형성되는 제1 정공 전달층을 포함하고;
상기 전자 전달층은, ZnO(Zinc Oxide) 및 PEI(polyethyleneimine) 중 적어도 하나를 재질로 하고, 상기 제1 정공 전달층은, 이소프로필 알콜(isopropyl alcohol)과 PEDOT:PSS를 1:1로 혼합 개질된 PEDOT:PSS층이고, 상기 고전도성 고분자층은, PEDOT:PSS 층이고;
상기 제2 고분자 발광부는, 상기 고전도성 고분자층 상부에 적층되어 형성되는 제2 정공 전달층; 및 상기 제2 정공 전달층 상부에 적층되어 형성되는 제2 고분자 발광층을 포함하고;
상기 제2 정공 전달층은, 이소프로필 알콜(isopropyl alcohol)과 PEDOT:PSS를 1:1로 혼합 개질된 PEDOT:PSS층이며;
상기 고전도성 고분자층은 외부회로와 전기적으로 연결되지 않는; 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 고분자 발광부는 상기 하부전극에서 전자를 제1 발광층으로 전달하는 역구조(inverted)이고,
상기 제2 고분자 발광부는 상기 고전도성 고분자층을 상기 하부전극으로 하여 정공을 제2 발광층으로 전달하는 정구조(regular)인 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자. - 삭제
- 삭제
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- 삭제
- 삭제
- 청구항 1에 있어서,
상기 제1 고분자 발광부는 상기 하부전극에서 정공을 제1 발광층으로 전달하는 정구조(regular)이고,
상기 제2 고분자 발광부(500)는 상기 고전도성 고분자층을 상기 하부전극으로 하여 전자를 제2 발광층으로 전달하는 역구조(inverted)인 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자. - 기판에 형성된 하부전극 상부에 적층되어 형성되는 제1 고분자 발광부와, 상기 제1 고분자 발광부 상부에 적층되어 형성되는 제1 고전도성 고분자층, 상기 제1 고전도성 고분자층 상부에 적층되어 형성되는 제2 고분자 발광부와, 상기 제2 고분자 발광부 상부에 형성되는 상부전극을 포함하여 구비되는 제1 발광모듈; 및
상기 상부전극 상부에 적층되어 형성되는 제3 고분자 발광부와, 상기 제3 고분자 발광부 상부에 적층되어 형성되는 제2 고전도성 고분자층과, 상기 제2 고전도성 고분자층 상부에 적층되어 형성되는 것으로 상기 제3 고분자 발광부와 발광 파장과 서로 다른 발광 파장을 갖는 제4 고분자 발광부와, 상기 제4 고분자 발광부 상부에 적층되어 형성되는 제2 상부전극을 포함하여 구비되는 제2 발광모듈을 포함하되;
상기 제1 고분자 발광부 및 상기 제3 고분자 발광부는 상기 하부전극에서 전자를 발광층으로 전달하는 역구조(inverted)이고 상기 제2 고분자 발광부 및 상기 제4 고분자 발광부는 상기 제1 또는 상기 제2 고전도성 고분자층을 하부전극으로 하여 정공을 발광층으로 전달하는 정구조(regular)이거나, 상기 제1 고분자 발광부(300) 및 상기 제3 고분자 발광부는 상기 하부전극에서 정공을 발광층으로 전달하는 정구조(regular)이고 상기 제2 고분자 발광부 및 상기 제4 고분자 발광부는 상기 제1 또는 상기 제2 고전도성 고분자층을 하부전극으로 하여 전자를 발광층으로 전달하는 역구조(inverted)이고;
상기 제1 내지 상기 제4 고분자 발광부 각각은, 정공을 발광층으로 전달하는 정공 전달층, 발광층 및 전자를 발광층으로 전달하는 전자 전달층을 포함하고;
상기 전자 전달층은, ZnO(Zinc Oxide) 및 PEI(polyethyleneimine) 중 적어도 하나를 재질로 하고, 상기 정공 전달층은, 이소프로필 알콜(isopropyl alcohol)과 PEDOT:PSS를 1:1로 혼합된 개질된 PEDOT:PSS층이고;
상기 제1 및 상기 제2 고전도성 고분자층은 PEDOT:PSS 층으로 형성하며;
상기 제1 및 상기 제2 고전도성 고분자층은 외부회로와 전기적으로 연결되지 않는 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자. - 청구항 10에 있어서,
상기 제1 발광모듈 및 상기 제2 발광모듈은 서로 다른 발광 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 청구항 10에 있어서,
상기 제1 발광모듈 및 상기 제2 발광모듈 중 적어도 어느 하나에 백색광이 발광되는 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자. - 청구항 10에 있어서,
상기 상부전극 및 상기 제2 상부전극에 직류전압 또는 교류전압이 인가되는 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자. - 삭제
- 삭제
- (a) 기판에 형성된 하부전극 상부에 용액공정으로 제1 고분자 발광부를 적층하는 단계;
(b) 상기 제1 고분자 발광부 상부에 용액공정으로 고전도성 고분자층을 적층하는 단계;
(c) 상기 고전도성 고분자층 상부에 용액공정으로 상기 제1 고분자 발광부와 서로 다른 발광 파장을 갖는 제2 고분자 발광부를 적층하는 단계; 및
(d) 상기 제2 고분자 발광부 상부에 상부전극을 형성하는 단계를 포함하되;
상기 용액공정은, 스핀코팅으로 박막 형성하는 공정이고;
상기 제1 고분자 발광부는 상기 하부전극에서 전자를 발광층으로 전달하는 역구조로 형성되고, 상기 제2 고분자 발광부는 상기 고전도성 고분자층을 상기 하부전극으로 하여 정공을 발광층으로 전달하는 정구조로 형성되고;
상기 제1 고분자 발광부는, 상기 하부전극 상부에 적층되어 형성되는 전자 전달층; 상기 전자 전달층 상부에 적층되어 형성되는 제1 고분자 발광층; 및 상기 제1 고분자 발광층 상부에 적층되어 형성되는 제1 정공 전달층을 포함하여 형성되고;
상기 전자 전달층은, ZnO(Zinc Oxide) 및 PEI(polyethyleneimine) 중 적어도 하나를 재질로 형성되고, 상기 제1 정공 전달층은, 이소프로필 알콜(isopropyl alcohol)과 PEDOT:PSS를 1:1로 혼합 개질된 PEDOT:PSS층으로 형성되고, 상기 고전도성 고분자층은, PEDOT:PSS 층으로 형성되고;
상기 제2 고분자 발광부는, 상기 고전도성 고분자층 상부에 적층되어 형성되는 제2 정공 전달층; 및 상기 제2 정공 전달층 상부에 적층되어 형성되는 제2 고분자 발광층을 포함하여 형성되고;
상기 제2 정공 전달층은, 이소프로필 알콜(isopropyl alcohol)과 PEDOT:PSS를 1:1로 혼합 개질된 PEDOT:PSS층으로 형성되며;
상기 고전도성 고분자층은 외부회로와 전기적으로 연결되지 않도록 형성되는; 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 제조방법. - (a) 기판에 하부전극 상부에 제1 고분자 발광부, 제1 고전도성 고분자층, 제2 고분자 발광부 및 상부전극이 용액공정으로 적층되어 구비되는 제1 발광 모듈을 형성하는 단계; 및
(b) 상기 상부전극 상부에 제3 고분자 발광부, 제2 고전도성 고분자층, 제4 고분자 발광부 및 제2 상부전극이 용액공정으로 적층되어 구비되는 제2 발광 모듈을 형성하는 단계를 포함하되;
상기 용액공정은, 스핀코팅으로 박막 형성하는 공정이고;
상기 제1 고분자 발광부 및 상기 제3 고분자 발광부는 상기 하부전극에서 전자를 발광층으로 전달하는 역구조이고 상기 제2 고분자 발광부 및 상기 제4 고분자 발광부는 상기 제1 또는 상기 제2 고전도성 고분자층을 상기 하부전극으로 하여 정공을 발광층으로 전달하는 정구조이거나, 상기 제1 고분자 발광부 및 상기 제3 고분자 발광부는 상기 하부전극에서 정공을 발광층으로 전달하는 정구조이고 상기 제2 고분자 발광부 및 상기 제4 고분자 발광부는 상기 제1 또는 상기 제2 고전도성 고분자층을 상기 하부전극으로 하여 전자를 발광층으로 전달하는 역구조로 형성되고;
상기 제1 내지 상기 제4 고분자 발광부 각각은, 정공을 발광층으로 전달하는 정공 전달층, 발광층 및 전자를 발광층으로 전달하는 전자 전달층을 포함하여 형성되고;
상기 전자 전달층은, ZnO(Zinc Oxide) 및 PEI(polyethyleneimine) 중 적어도 하나를 재질로 형성되고, 상기 정공 전달층은, 이소프로필 알콜(isopropyl alcohol)과 PEDOT:PSS를 1:1로 혼합된 개질된 PEDOT:PSS층으로 형성되고;
상기 제1 및 상기 제2 고전도성 고분자층은 PEDOT:PSS 층으로 형성하며;
상기 제1 및 상기 제2 고전도성 고분자층은 외부회로와 전기적으로 연결되지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 가시광 파장 가변형 적층 고분자 발광소자 제조방법. - 삭제
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