KR101371286B1 - 그래핀 롤투롤 코팅 장치 및 이를 이용한 그래핀 롤투롤 코팅 방법 - Google Patents
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- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 308
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 289
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 117
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 186
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 186
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 92
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 92
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 85
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 67
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 55
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 35
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 26
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 10
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims description 9
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 9
- 229910000537 White brass Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010951 brass Substances 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 claims 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 abstract description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 Polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001505 atmospheric-pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000001289 rapid thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 2
- WJCNZQLZVWNLKY-UHFFFAOYSA-N thiabendazole Chemical compound S1C=NC(C=2NC3=CC=CC=C3N=2)=C1 WJCNZQLZVWNLKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000002918 waste heat Substances 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241000533950 Leucojum Species 0.000 description 1
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004093 laser heating Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract
Description
도 2는 본원의 일 구현예에 따른 수직 배열된 챔버 형태의 그래핀 롤투롤 코팅 장치를 보여 주는 단면도이다.
도 3은 본원의 일 구현예에 따른 튜브 형태의 그래핀 롤투롤 코팅 장치의 개략도이다.
도 4는 본원의 일 실시예에 따른 수직 배열된 튜브 형태의 그래핀 롤투롤 코팅 장치를 보여 주는 개략도이다.
도 5는 본원의 일 실시예에 따른 수평 배열된 튜브 형태의 그래핀 롤투롤 코팅 장치를 보여 주는 도면이다.
도 6은 본원의 일 실시예에 따른 그래핀이 코팅된 금속부재를 보여 주는 도면 및 상기 금속부재 상에 그래핀 코팅 유무를 보여주는 라만 스펙트럼을 이용한 분석 결과이다.
도 7은 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 전열관 내 흐르는 유체 저항을 평가하기 위한 유체의 접촉각(contact angle) 분석 결과이다.
도 8은 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 유체 및 대기 분위기 하에서 그래핀 필름이 코팅된 금속층 표면의 내화학/내부식성을 평가한 결과이다.
도 9는 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 전열관에 대한 고온 유체(기체 포함)의 열전도 평가 결과 및 이를 위한 실험 장치이다.
도 10은 본원의 일 실시예에 따른 전열관 또는 전열판의 응용예 들을 보여 주는 사진이다.
도 11은 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 Cu/Ni 와이어의 표면 및 직경변화를 전자현미경으로 관찰한 사진이다.
도 12는 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 금속와이어의 비저항을 측정하는 방법 및 측정기구를 나타낸 그림이다.
도 13은 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 Cu/Ni 와이어의 직경에 따른 비저항을 나타낸 그래프이다.
도 14는 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 Cu 와이어의 표면 및 직경변화를 전자현미경으로 관찰한 사진이다.
도 15는 본원의 일 실시예 및 비교예에 따른 Cu 와이어의 직경에 따른 비저항을 나타낸 그래프이다.
20: 제 2 가스 도입부
30: 제 3 가스 도입부
40: 제 1 가스 배출부
50: 제 4 가스 도입부
60: 제 2 가스 배출부
100: 가열 자켓
150: 금속부재
200: 냉각 자켓
220: 롤러
250: 제 1 롤러
300: 제 2 롤러
400: 전처리부
410: 플라즈마
420: 레이져
430: 격벽
500: 그래핀 합성부
510: 가스 노즐
520: 열원
600: 냉각부
700: 그래핀 롤투롤 코팅 장치
Claims (29)
- 금속부재를 롤투롤 방식으로 공급하기 위한 제 1 롤러;
상기 제 1 롤러를 통해 공급된 금속부재의 표면 처리를 위한 전처리부;
상기 전처리된 금속부재의 표면에 그래핀을 합성과 동시에 코팅하기 위한 그래핀 합성부; 및
상기 그래핀 합성부를 통과한 그래핀이 코팅된 금속부재를 롤투롤 방식으로 연속적으로 회수하기 위한 제 2 롤러:
를 포함하는, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 그래핀이 코팅된 금속부재를 상기 제 2 롤러로 회수하기 전에 냉각하기 위한, 냉각부를 추가 포함하는,
그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 롤러, 상기 전처리부, 상기 그래핀 합성부, 상기 냉각부 및 상기 제 2 롤러는 수직 또는 수평으로 배치되는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 전처리부는 상기 제 1 롤러를 통해 공급되는 금속부재 표면 상에 플라즈마, 레이져, 예열 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 공정이 수행되는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 금속부재는 금속관, 금속판, 금속 시트, 금속와이어, 또는 금속 호일을 포함하는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 전처리부 및 상기 그래핀 합성부는 각각 챔버 형태를 가지는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 챔버 형태의 전처리부 및 상기 챔버 형태의 그래핀 합성부는 격벽을 추가 포함하는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 챔버 형태의 전처리부의 입구, 또는 출구, 또는 입구 및 출구에 롤러를 추가 포함하는, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 챔버 형태의 그래핀 합성부의 입구, 또는 출구, 또는 입구 및 출구에 롤러를 추가 포함하는, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 챔버 형태의 그래핀 합성부는 한 개 또는 복수개의 가스 노즐을 포함하는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 챔버 형태의 그래핀 합성부는 온도 조절이 가능한 열원을 추가 포함하는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 2 항에 있어서,
상기 전처리부, 상기 그래핀 합성부 및 상기 냉각부는 각각 튜브 형태를 갖는 것으로서 서로 연통되도록 배치되는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 12 항에 있어서,
상기 제 1 롤러와 상기 전처리부 사이에 형성된 제 1 가스 도입부, 상기 전처리부와 상기 그래핀 합성부 사이에 형성된 제 2 가스 도입부, 상기 그래핀 합성부와 상기 냉각부 사이에 형성된 제 3 가스 도입부, 및 상기 냉각부와 상기 제 2 롤러 사이에 형성된 제 1 가스 배출부를 추가 포함하는, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 12 항에 있어서,
상기 제 1 롤러는 상기 금속부재 내부로 가스를 공급하기 위한 제 4 가스 도입부가 구비되어 있으며, 상기 제 2 롤러는 상기 금속부재 내부로부터 가스를 제거하기 위한 제 2 가스 배출부가 구비되어 있는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 12 항에 있어서,
상기 전처리부 및 상기 그래핀 합성부에는 온도 조절이 가능한 가열 자켓이 각각 구비되어 있고, 상기 냉각부에는 온도 조절이 가능한 냉각 자켓이 구비되어 있는, 그래핀 롤투롤 코팅 장치.
- 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 따른 그래핀 롤투롤 코팅 장치를 이용하는 그래핀 롤투롤 코팅 방법으로서,
롤투롤 방식에 의하여 제 1 롤러로부터 금속부재를 전처리부로 공급하고;
상기 제 1 롤러를 통해 공급된 금속부재를 전처리부에서 표면 처리하고;
상기 전처리된 금속부재를 그래핀 합성부로 이동시켜 상기 금속부재의 표면에 그래핀을 합성과 동시에 코팅하고; 및
상기 그래핀 합성부를 통과한 상기 그래핀이 코팅된 금속부재를 롤투롤 방식으로 제 2 롤러에 감아 회수하는 것:
을 포함하는, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 있어서,
상기 그래핀이 코팅된 금속부재를 상기 제 2 롤러에 감아 회수하기 전에, 냉각부로 이동시켜 냉각시키는 것을 추가 포함하는, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 있어서,
상기 금속부재는 Ni, Co, Fe, Pt, Au, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Zr, 황동(brass), 청동(bronze), 백동(white brass), 스테인레스 스틸(stainless steel), Ge 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 있어서,
상기 금속부재는 그의 표면에 형성된 그래핀 성장용 금속 촉매층을 포함하는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 19 항에 있어서,
상기 그래핀 성장용 금속 촉매층은 Ni, Co, Fe, Pt, Au, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Zr, 황동(brass), 청동(bronze), 백동(white brass), 스테인레스 스틸(stainless steel), Ge 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 있어서,
챔버 형태의 상기 그래핀 합성부 내의 가스 노즐을 통해 탄소 소스를 포함하는 반응 가스를 주입하여 상기 금속부재 표면에 화학기상증착법에 의하여 그래핀이 합성되어 동시에 코팅되는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 있어서,
상기 제 1 롤러와 상기 전처리부 사이에 형성된 제 1 가스 도입부를 통하여 환원 가스가 주입되는, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 있어서,
상기 전처리부와 상기 그래핀 합성부 사이에 형성된 제 2 가스 도입부를 통하여 그래핀 합성을 위한 탄소 소스를 포함하는 반응 가스를 주입하여 상기 그래핀 합성부에서 상기 금속부재 표면에 화학 기상 증착법에 의하여 그래핀이 합성되어 코팅되는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 있어서,
상기 제 1 롤러에 구비된 제 4 가스 도입부를 통하여 그래핀 합성을 위한 탄소 소스를 포함하는 반응 가스가 상기 금속부재 내부로 주입되어, 상기 그래핀 합성부 통과 시 추가로 상기 금속부재의 내부 표면에 그래핀이 합성되어 코팅되는 것인, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 17 항에 있어서,
상기 그래핀 합성부와 상기 냉각부 사이에 형성된 제 3 가스 도입부를 통하여 퍼지용 가스가 주입되는, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 17 항에 있어서,
상기 냉각부와 상기 제 2 롤러 사이에 형성된 제 1 가스 배출부를 통하여 상기 전처리부, 상기 그래핀 합성부 및 상기 냉각부를 통과한 가스가 배출되는, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 17 항에 있어서,
상기 제 2 롤러에 의하여 회수된 그래핀이 코팅된 금속부재 표면에 그래핀 성장용 금속 촉매층을 형성하고; 상기 그래핀 성장용 금속 촉매층이 형성된 그래핀이 코팅된 금속부재에 상기 그래핀 롤투롤 코팅장치를 이용하여 추가로 그래핀을 합성과 코팅하는 것: 을 포함하는 공정을 1 회 이상 수행하여 상기 금속부재에 다층 그래핀을 코팅하는 것을 포함하는, 그래핀 롤투롤 코팅 방법.
- 제 16 항에 따른 방법에 의하여 형성되고, 그래핀이 상기 금속부재의 내부 및 외부에 코팅된 것인, 그래핀이 코팅된 금속부재.
- 제 28 항에 있어서,
상기 금속부재는 전열관 또는 전열판으로 사용되는 것인, 그래핀이 코팅된 금속부재.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20100011437 | 2010-02-08 | ||
KR1020100011437 | 2010-02-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110092207A KR20110092207A (ko) | 2011-08-17 |
KR101371286B1 true KR101371286B1 (ko) | 2014-03-07 |
Family
ID=43802121
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20110195207A1 (ko) |
EP (1) | EP2354272B1 (ko) |
JP (1) | JP5424210B2 (ko) |
KR (1) | KR101371286B1 (ko) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20101231 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20120926 Patent event code: PE09021S01D |
|
N231 | Notification of change of applicant | ||
PN2301 | Change of applicant |
Patent event date: 20130118 Comment text: Notification of Change of Applicant Patent event code: PN23011R01D |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20130426 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20140227 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20140303 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20140304 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170303 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170303 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180305 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180305 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200114 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200114 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210216 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220121 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20231212 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20250108 Start annual number: 12 End annual number: 12 |