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KR101314779B1 - 정전용량 방식 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 - Google Patents

정전용량 방식 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 Download PDF

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KR101314779B1
KR101314779B1 KR1020100079689A KR20100079689A KR101314779B1 KR 101314779 B1 KR101314779 B1 KR 101314779B1 KR 1020100079689 A KR1020100079689 A KR 1020100079689A KR 20100079689 A KR20100079689 A KR 20100079689A KR 101314779 B1 KR101314779 B1 KR 101314779B1
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명은 마스크 공정수를 절감하여 생산성을 향상시키고 시인성과 접촉저항을 개선하기 위한 터치 스크린 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 터치 스크린 패널 제조방법은 기판의 전면 상에 제 1 도전층 및 제 2 도전층을 형성하고, 하프톤 마스크를 이용하여 형성된 제 1 포토레지스트 패턴을 이용하여 단일층 구조로 된 복수의 제 1 연결패턴들, 복층 구조로 된 복수의 제 1 라우팅 배선들 및 복수의 제 2 라우팅 배선들을 포함하는 제 1 도전성 패턴을 형성하는 제 1 공정; 상기 제 1 도전성 패턴이 형성된 상기 기판의 전면 상에 절연층을 형성하고, 상기 제 1 연결패턴의 양단부가 노출되도록 상기 절연층을 패터닝하여 제 1 절연패턴을 형성하는 제 2 공정; 및 상기 절연패턴이 형성된 기판의 전면 상에 제 3 도전층을 형성하고, 상기 제 3 도전층을 패터닝하여 제 1 방향으로 평행하게 배열되는 복수의 제 1 전극열들과, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 평행하게 배열되는 복수의 제 2 전극열들을 포함하는 제 2 도전성 패턴을 형성하는 제 3 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

정전용량 방식 터치 스크린 패널 및 그 제조방법{ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE TOUCH SCREEN PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 정정용량 방식의 터치 스크린 패널(Touch Screen Panel)에 관한 것이다.
최근, 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display), 전계발광 디스플레이(Electroluminescent Display) 및 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel) 등의 디스플레이 장치는 응답속도가 빠르고, 소비전력이 낮으며, 색재현율이 뛰어나 주목받아 왔다. 이러한 디스플레이 장치들은 TV, 컴퓨터용 모니터, 노트북 컴퓨터, 휴대폰(mobile phone), 냉장고의 표시부, 개인 휴대용 정보 단말기(Personal Digital Assistant), 현금 자동 입출금기(Automated Teller Machine) 등 다양한 전자제품에 사용되어 왔다. 일반적으로, 이러한 표시장치들은 키보드, 마우스, 디지타이저(Digitizer) 등의 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 사용자와의 인터페이스를 구성한다. 그러나, 키보드와 마우스 등과 같은 별도의 입력장치를 사용하는 것은 사용법을 익혀야 하고 공간을 차지하는 등의 불편을 야기하여 제품의 완성도를 높이기 어려운 면이 있었다. 따라서, 편리하면서도 간단하고 오작동을 감소시킬 수 있는 입력장치에 대한 요구가 날로 증가되고 있다. 이와 같은 요구에 따라 사용자가 손이나 펜 등으로 화면과 직접 접촉하여 정보를 입력하는 터치 스크린 패널(Touch Screen Panel)이 제안되었다.
터치 스크린 패널은 간단하고, 오작동이 적으며, 별도의 입력기기를 사용하지 않고도 입력이 가능할 뿐아니라 사용자가 화면에 표시되는 내용을 통해 신속하고 용이하게 조작할 수 있다는 편리성 때문에 다양한 표시장치에 적용되고 있다.
터치 스크린 패널은 터치된 부분을 감지하는 방식에 따라, 상판 또는 하판에 금속 전극을 형성하여 직류전압을 인가한 상태에서 터치된 위치를 저항에 따른 전압 구배로 판단하는 저항막 방식(Resistive type), 도전막에 등전위를 형성하고 터치에 따른 상하판의 전압 변화가 일어난 위치를 감지하여 터치된 부분을 감지하는 정전용량 방식(Capacitive type), 전자펜이 도전막을 터치함에 따라 유도되는 LC값을 읽어들여 터치된 부분을 감지하는 전자 유도 방식(Electro Magnetic type) 등으로 구별될 수 있다.
이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 종래기술에 따른 정정용량 방식 터치 스크린 패널에 대하여 설명하기로 한다. 도 1은 종래의 기술에 따른 정전용량 방식의 터치 스크린 패널의 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 터치 스크린 패널의 I-I'선 및 II-II'선을 따라 취한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 종래의 정전용량 방식 터치 스크린 패널은 전극형성부(20), 라우팅 배선부(40), 패드부(60) 및 보호층(50)으로 이루어진다.
전극형성부(20)는 기판(10) 상에 형성되며 제 1 방향(예컨대, X축 방향)으로 나란하게 배열된 복수의 제 1 전극들(21) 및 상기 제 1전극들(21)과 수직방향(예컨대, Y축 방향)으로 교차하여 배열되는 복수의 제 2 전극들(22)로 이루어진다. 제 1 전극들(21)과 제 2 전극들(22)은 서로 교차하지만 절연층(30)에 의해 전기적으로 절연상태를 유지한다. 또한, 이웃하는 제 1 전극들(21)은 브릿지(41)에 의해 서로 연결된다. 즉, 브릿지(41)는 제 1 및 제 2 전극들(21, 22) 상부에 덮인 절연층(30)에 형성된 콘택홀들(30a , 30b)을 통해 이웃하는 제 1 전극들(21)을 상호 접속시킨다.
라우팅 배선부(40)는 전극형성부(20)의 외곽에 형성되며 복수의 제 1 전극들(21)과 각각 연결되는 복수의 제 1 라우팅 배선들(42)과 복수의 제 2 전극들(22)과 각각 연결되는 복수의 제 2 라우팅 배선들(43)로 이루어 진다.
패드부(60)는 복수의 제 1 라우팅 배선들(42)을 통해 복수의 제 1 전극들(21)과 각각 접속되는 복수의 제 1 패드들(61)과 복수의 제 2 라우팅 배선들(43)을 통해 복수의 제 2 전극들(22)과 각각 접속되는 복수의 제 2 패드들(62)로 이루어 진다.
보호층(50)은 상기 전극형성부(20) 및 라우팅 배선부(40)를 커버하며, 제 1 및 제 2 전극들(21, 22)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(42, 43)이 외부로 노출되는 것을 방지하여 준다.
이하, 도 3a 내지 도 3d를 참조하여, 종래의 기술에 따른 정전용량 방식 터치 스크린 패널의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.
도 3a를 참조하면, 전극형성부, 라우팅 배선부 및 패드부를 구비하는 기판(10) 상에 스퍼터링 등의 증착공정을 통해 제 1 및 제 2 전극 형성용의 제 1 도전층을 전면 증착시킨다. 제 1 도전층으로서는 ITO층(Indium Tin Oxide 층)이 주로 사용된다. 제 1 도전층이 형성된 기판 상에 포토레지스트를 전면 도포한 후 제 1 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 전극형성부에 제 1 도전층을 노출시키는 제 1 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고 제 1 포토레지스트 패턴에 의해 노출된 제 1 도전층을 습식 에칭(wet etching)을 통해 제거한 후 잔류하는 제 1 포토레지스트 패턴을 애싱함으로써, 기판(10)상에 복수의 제 1 전극들(21) 및 제 1 전극들과 교차하는 복수의 제 2 전극들(22)을 형성한다.
도 3b를 참조하면, 복수의 제 1 및 제 2 전극들(21, 22)이 형성된 기판(10) 상에 제 1 절연층(30)을 형성한 후, 제 2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각공정으로 라우팅 배선부와 패드부의 제 1 절연층을 제거하고, 전극형성부의 제 1 절연층(30)을 관통하는 제 1 및 제 2 콘택홀들(30a, 30b)을 형성한다. 제 1 및 제 2 콘택홀들(30a, 30b)은 이웃하는 제 1 전극들(21)의 일부를 노출시킨다. 제 1 절연층(30)으로서는 실리콘 질화물, 실리콘 산화물, 또는 유기 수지 등이 사용될 수 있다.
도 3c를 참조하면, 제 1 및 제 2 콘택홀(30a, 30b)이 형성된 기판의 전면 상에 스퍼터링 등의 증착공정을 통해 제 2 도전층을 형성한다. 제 2 도전층으로서는 알루미늄(Al) 또는 몰리브덴(Mo)이 사용될 수 있다. 제 2 도전층이 형성된 기판 상에 포토레지스트를 전면 도포한 후 제 3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정을 수행함으로써 기판(10)상의 라우팅부에는 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(42, 43)이 형성되고, 전극형성부에는 제 1 절연층(30) 상에 연결전극(41)이 형성된다. 연결전극(41)은 제 1 절연층(30)에 형성된 제 1 및 제 2 콘택홀(30a, 30b)을 통해 분리된 제 1 전극들(21)을 연결하는 구성으로 된다.
도 3d를 참조하면, 연결전극(41)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(42, 43)이 형성된 기판의 전면 상에 보호막으로서의 제 2 절연층(50)을 형성한 후, 제 4 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각공정으로 패드부의 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(42, 43)이 노출되도록 제 2 절연층(50)을 관통하는 스루홀(50a, 50b, 50c)을 형성한다.
그러나, 종래기술에 따른 정전용량 방식 터치 스크린 패널은 상술한 바와 같이 4 마스크 공정으로 제조되고, 각 마스크 공정은 포토레지스트(photo resist: PR), 도포(coating), 정렬(alignmnet) 및 노광(exposure), 현상(developement), 세정(cleaning) 등의 일련의 연속공정을 필요로 하는 포토리소그래피(photolithography) 공정을 수반하므로, 그에 따른 시간 및 비용상의 부담으로 인해 마스크 공정을 절감하기 위한 필요성이 대두되었다.
따라서, 본 발명의 목적은 정전용량 방식 터치 스크린 패널의 마스크 공정수를 절감하여 공정 택트타임(tact time)을 줄임으로써 생산성을 향상시키기 위한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 터치 스크린 패널을 통해 절연층 하부의 금속층이 시인되는 문제를 개선하고, 터치 전극들 간의 접촉저항 및 그로 인해 발생하는 정전기 문제를 개선하기 위한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 방식 터치 스크린 패널의 제조방법은 기판의 전면 상에 제 1 도전층 및 제 2 도전층을 형성하고, 하프톤 마스크를 이용하여 제 1 포토레지스트 패턴을 형성하며, 상기 제 1 포토레지스트 패턴을 이용하여 제 1 도전층으로 이루어지는 복수의 제 1 연결패턴들, 제 1 및 제 2 도전층으로 이루어지는 복수의 제 1 라우팅 배선들 및 복수의 제 2 라우팅 배선들을 포함하는 제 1 도전성 패턴을 형성하는 제 1 공정; 상기 제 1 도전성 패턴이 형성된 상기 기판의 전면 상에 절연층을 형성하고, 상기 제 1 연결패턴의 양단부가 노출되도록 상기 절연층을 패터닝하여 제 1 절연패턴을 형성하는 제 2 공정; 및 상기 절연패턴이 형성된 기판의 전면 상에 제 3 도전층을 형성하고, 상기 제 3 도전층을 패터닝하여 제 1 방향으로 평행하게 배열되는 복수의 제 1 전극열들과, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 평행하게 배열되는 복수의 제 2 전극열들을 포함하는 제 2 도전성 패턴을 형성하는 제 3 공정을 포함하며, 상기 복수의 제 1 전극열들의 각각은 서로 분리된 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 서로 인접한 제 1 전극패턴들은 제 1 연결패턴에 의해 전기적으로 연결되고, 상기 제 1 절연패턴은 상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열의 교차부에서 상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열을 절연시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1 공정은, 상기 기판의 전면 상에 상기 제 1 및 제 2 도전층을 형성하는 단계; 상기 하프톤 마스크를 이용하여 제 1 높이를 갖는 제 1-1 포토레지스트 패턴과 상기 제 1 높이보다 큰 제 2 높이를 갖는 제 2 포토 레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 제 1-1 포토레지스트 패턴을 상기 제 1 및 제 2 라우팅 배선이 형성될 위치의 제 2 도전층 상에 배치하고, 상기 제 1-2 포토레지스트 패턴을 상기 연결패턴이 형성될 위치의 제 2 도전층 상에 배치하는 단계; 상기 복수의 제 2 연결패턴들이 형성될 위치에 배치된 상기 제 1-1 포토레지스트 패턴이 제거되도록 상기 제 1 및 제 2 포토레지스트 패턴을 애싱하여 상기 제 1 도전층의 일부를 노출시키는 단계; 상기 애싱후 잔존하는 제 1-2 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함한다.
또한 상기 제 2 공정은, 상기 제 1 도전성 패턴이 형성된 상기 기판의 전면 상에 상기 절연층을 형성하는 단계; 제 2 포토레지스트 패턴을 상기 제 1 및 제 2 라우팅 배선이 형성될 위치와 상기 제 1 연결패턴이 형성될 위치의 상기 절연층 상에 배치하는 단계; 및 상기 제 2 포토레지스트 패턴을 마스크로서 이용하여, 상기 절연층을 패터닝하여 상기 제 1 연결패턴의 양 단부가 노출되도록 상기 절연패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
상술한 공정에 따르면, 상기 복수의 제 1 전극열의 각각은 상기 제 1 연결패턴들에 의해 접속되는 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 제 2 전극열들은 상기 제 1 전극열들과 교차하는 방향으로 배열되며, 제 2 연결패턴에 의해 접속되는 복수의 제 2 전극패턴들을 포함하며, 상기 복수의 제 1 전극패턴의 각각은 서로 인접한 상기 제 1 연결패턴들의 서로 대향하는 단부들과, 상기 단부들 사이의 상기 기판 및 상기 제 1 절연패턴의 측면 및 상면의 일부 상에 형성되게 된다.
또한, 상기 복수의 제 1 전극열의 각각은 상기 제 1 연결패턴들에 의해 접속되는 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 제 2 전극열들은 상기 제 1 전극열들과 교차하는 방향으로 배열되며, 제 2 연결패턴에 의해 접속되는 복수의 제 2 전극패턴들을 포함하며, 상기 복수의 제 1 전극패턴의 각각은 서로 인접한 상기 제 1 연결패턴들의 서로 대향하는 단부들과, 상기 단부들 사이의 상기 기판 상에 형성되는 것으로 된다.
또한, 본 발명의 특징에 따른 정전용량 방식 터치 스크린 패널은 기판; 상기 기판 상에 제 1 방향으로 나란하게 배열되는 복수의 제 1 전극열들과, 상기 제 1 전극열들과 교차하도록 배열되는 복수의 제 2 전극열들을 포함하는 전극 형성부; 상기 전극 형성부의 외곽부에서 상기 기판 상에 형성되고, 상기 복수의 제 1 전극열들과 각각 연결되며, 제 1 및 제 2 도전층의 복층구조로 이루어지는 복수의 제 1 라우팅 배선들과, 상기 전극 형성부의 외곽부에서 상기 기판 상에 형성되고, 상기 복수의 제 2 전극열들과 각각 연결되며, 상기 제 1 및 제 2 도전층의 복층구조 이루어지는 복수의 제 2 라우팅 배선들을 포함하는 라우팅 배선부; 상기 복수의 제 1 및 제 2 라우팅 배선들과 동일층에 형성되며, 서로 분리되어 형성되는 상기 제 1 도전층으로 이루어지는 복수의 제 1 연결패턴들; 및 상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열의 교차부에서 상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열을 절연시키며, 상기 제 1 연결패턴의 양단부를 노출시키는 절연층을 포함하며, 상기 복수의 제 1 전극열들의 각각은 서로 분리된 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 제 1 전극패턴의 각각은 서로 인접한 상기 제 1 연결패턴들의 서로 대향하는 단부들 상과, 상기 단부들 사이의 기판 상에 형성되며, 상기 서로 인접한 제 1 전극패턴들은 상기 제 1 연결패턴에 의해 서로 접속되는 것을 특징으로 한다.
상술한 구성에서, 상기 제 1 및 제 3 도전층은 ITO 및 IZO 중의 어느 하나를 포함하며, 상기 제 2 도전층은 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr 중의 어느 하나를 포함하는 것으로 구성한다. 을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
본 발명의 실시예에 따른 정전용량 방식 터치 스크린 패널 및 그 제조방법에 따르면, 복층구조의 라우팅 배선과 이웃하는 전극패턴들을 전기적으로 접속시키는 단일층 구조의 연결패턴을 하프톤 마스크 공정을 이용하여 1회의 마스크 공정으로 달성할 수 있기 때문에 종래에 비해 1개의 마스크 공정을 생략할 수 있다. 따라서, 마스크수 절감에 따른 비용절감 및 택트타임(tact time)을 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 터치 전극(전극패턴)들과 그들을 연결하는 연결패턴을 동일물질을 이용하여 형성하기 때문에 접촉저항과 정전기에 의한 불량을 억제할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 종래의 기술에 따른 정전용량 방식의 터치 스크린 패널의 평면도,
도 2는 도 1에 도시된 터치 스크린 패널의 I-I'선, II-II'선 및 III-III'을 따라 취한 단면도,
도 3a 내지 도 3d는 도 1에 도시된 종래의 기술에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정을 도시한 단면도,
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 평면도,
도 5a 및 도 5b는 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 IV-IV'선, V-V' 및 VI-VI'선을 따라 취한 단면도의 예시도들,
도 6a 내지 도 6g는 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정 중 하프톤 마스크를 이용한 제 1 공정을 도시한 평면도 및 단면도,
도 7a 내지 도 7d는 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정 중 제 2 공정을 도시한 평면도 및 단면도,
도 8a 내지 도 8d는 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정 중 제 3 공정을 도시한 평면도 및 단면도.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명하기로 한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 나타낸다.
우선, 도 4 및 도 5a, 5b를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널에 대해 설명하기로 한다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 평면도, 도 5a 및 도 5b는 도 4에 도시된 터치 스크린 패널의 IV-IV'선, V-V'선, 및 VI-VI'선을 따라 취한 단면도의 예시도들이다.
도 4 및 도 5a, 도 5b를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 방식 터치 스크린 패널은 전극형성부(A), 라우팅 배선부(B) 및 패드부(C)를 포함한다.
전극형성부(A)는 제 1 방향(예컨대, X축 방향)으로 나란하게 배열된 복수의 제 1 전극열들(130)과 상기 제 1 전극열들(130)과 교차하는 제 2 방향(예컨대, Y축 방향)으로 배열되는 복수의 제 2 전극열들(135)을 포함한다. 제 1 전극열들(130)의 각각은 삼각형, 사각형, 마름모꼴, 다각형 등으로 형성된 제 1 전극패턴들(131)과 이들 제 1 전극패턴들(131)을 연결하는 제 1 연결패턴들(110)을 포함한다. 제 2 전극열들(135)의 각각 또한 제 1 전극패턴들(131)과 유사한 삼각형, 사각형, 마름모꼴, 다각형 등으로 형성된 제 2 전극패턴들(136)과 이들 제 2 전극패턴들(136)을 서로 연결하는 제 2 연결패턴들(137)을 포함한다. 또한, 제 1 연결패턴들(110)은 제 1 전극패턴들(131)과 별도로 형성되며, 제 2 연결패턴들(137)은 제 2 전극패턴들(136)과 일체로 형성된다.
라우팅 배선부(B)는 전극형성부(A)의 외곽부에 형성되며 복수의 제 1 전극열들(130)과 각각 연결되는 복수의 제 1 라우팅 배선들(112)과 복수의 제 2 전극열들(135)과 각각 연결되는 복수의 제 2 라우팅 배선들(114)로 이루어 진다.
패드부(C)는 복수의 제 1 라우팅 배선들(112)을 통해 복수의 제 1 전극열들(130)과 각각 접속되는 복수의 제 1 패드들(116)과, 복수의 제 2 라우팅 배선들(114)을 통해 복수의 제 2 전극열들(135)과 각각 접속되는 복수의 제 2 패드들(118)로 이루어 진다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널에서는 제 1 연결패턴들(110)은 ITO와 같은 투명 도전성 물질로 형성되고, 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(112, 114)은 ITO와 같은 투명 도전성 물질로 이루어지는 하부층(112a, 114a)과 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr와 같은 금속물질로 이루어지는 상부층(112b, 114b)으로 형성되며, 제 1 및 제 2 패드들(116, 118)은 ITO와 같은 투명 도전성 물질로 이루어지는 제 1층(116a, 118a)과, Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr와 같은 금속물질로 이루어지는 제 2 층(116b, 118b)과, ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전성 물질로 이루어지는 제 3 층(116c, 118c)으로 형성된다. 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(112, 114)의 상부층(112b, 114b)과 제 1 및 제 2 패드(116, 118)의 제 2 층(116b, 118b)를 구성하는 금속물질은 비저항이 낮은 물질이기 때문에 전극 연결부위의 저항을 낮추는 효과가 있다. 한편, 본 발명의 실시예에서는 제 1 및 제 2 패드들(116, 118)이 3층 구조로 형성되는 것으로 설명하였으나, 제 2 층(116b, 118b)은 생략될 수도 있다.
또한, 본 발명의 실시예에서는 제 1 연결패턴(110), 제 1 및 제 2 라우팅 배선(112, 114)의 상부층(112b, 114b) 및 하부층(112a, 114a), 제 1 및 제 2 패드(116, 118)의 제 1 층(116a, 118a) 및 제 2 층(116b, 118b)은 하프톤 마스크 공정을 이용한 하나의 마스크 공정으로 형성된다. 이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제 1 연결패턴들(110)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(112, 114)은 동일 공정을 통해 형성되기 때문에, 전극패턴들을 연결하는 제 1 연결패턴들과 라우팅 배선들을 서로 상이한 공정으로 형성하는 종래기술에 비해 하나의 마스크 공정을 생략할 수 있게 된다. 따라서, 생략되는 마스크 공정에 수반하는 만큼의 비용절감 및 택트타임(tact time: 일간 목표량을 달성하기 위한 제품 단위당 제작 소요시간)을 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 전극 형성부(A)에서는 제 1 연결패턴(110)의 제 1 부분(110a) 및 제 2 부분(110b)이 노출되도록 제 1 연결패턴(110)의 중앙부(110c) 상에 형성되며, 교차하는 제 1 연결패턴(110)과 제 2 연결패턴(137)이 서로 접촉되지 않도록 하는 제 1 절연패턴(120a)이 형성된다. 제 1 전극패턴들(131)의 중앙부(131c)는 기판(100) 상에 형성되나, 도 5a에 도시된 바와 같이 제 1 전극패턴(131)의 제 1 부분(131a)은 제 1 연결패턴(110)의 제 1 부분(110a) 상과, 제 1 절연패턴(120a)의 측면 및 상면 일부 상에, 제 1 전극패턴(131)의 제 2 부분(131b)은 이웃하는 다른 제 1 연결패턴(110)의 제 2 부분(110b)과 제 1 절연패턴(120a)의 측면 및 상면 일부 상에 각각 형성된다. 그러나, 도 5b에 도시된 바와 같이 제 1 전극패턴(131)의 제 1 부분(131a')은 제 1 연결패턴(110)의 제 1 부분(110a) 상에만 형성되고, 제 1 전극패턴(131)의 제 2 부분(131b')은 이웃하는 다른 제 1 연결패턴(110)의 제 2 부분(110b) 상에만 형성될 수도 있다. 따라서, 서로 인접하는 제 1 전극패턴들(131)은 제 1 연결패턴(110)에 의해 전기적으로 접속된다.
전극 형성부(A)에 형성되는 제 1 및 제 2 전극패턴들(131, 136)과 제 2 연결패턴들(137)은 동일 공정을 통해 동일 재료로 형성된다. 제 1 및 제 2 전극패턴들(131, 136)과 제 2 연결패턴들(137)의 재료로는 ITO 또는 IZO 등의 투명전극물질이 이용될 수 있다. ITO의 경우 경도가 매우 높기 때문에, 터치 스크린 패널의 최상위층에 형성되는 제 1 및 제 2 전극패턴들(131, 136)과 제 2 연결패턴들(137)의 재료로서 ITO를 이용할 경우, 터치 스크린 패널의 기판(100)에 표시장치를 형성하기 위한 후공정에서 스크래치가 발생하지 않게 되므로 양호한 품질의 터치 스크린 패널을 얻을 수 있게 된다.
또한, 라우팅 배선부(B)에서는 전극 형성부(A)를 향한 제 1 라우팅 배선(112)의 단부(도시생략)와 제 2 라우팅 배선(114)의 단부(도시생략)가 노출되도록 제 2 절연패턴(120b)이 형성된다. 전극 형성부(A)의 최외측에 있는 제 1 전극패턴(131)의 일부분은 제 1 라우팅 배선(112)의 상기 노출된 단부 상에 형성되고, 전극 형성부(A)의 최외측에 있는 제 2 전극패턴(136) 또한 그 일부가 제 1 전극패턴(131)과 유사하게 제 2 라우팅 배선(114)의 상기 노출된 단부 상에 형성된다.
또한, 패드부(C)에서는 도 5a에 도시된 바와 같이 제 1 패드들(116) 및 제 2 패드들(118)을 노출시키는 콘택홀들(150)을 갖는 제 2 절연패턴(120b)이 형성된다. 제 1 패드들(116)의 각각은 기판(100) 상에 순차적으로 형성되는 ITO와 같은 투명도전물질로 이루어지는 제 1 층(116a)과 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr와 같은 금속물질로 이루어지는 제 2 층(116b)으로 형성되고, 제 2 패드들(118)의 각각또한 제 1 패드들과 동일한 물질로 이루어지는 제 1 층(118a) 및 제 2 층(118b)으로 형성된다.
이하, 도 6a 내지 도 8d를 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 방식 터치 스크린 패널의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.
도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정 중 하프톤 마스크를 이용한 제 1 공정을 도시한 평면도 및 단면도이다.
도 6a 내지 도 6g를 참조하면, 하프톤 마스크 공정을 이용하여 전극형성부(A), 라우팅 배선부(B) 및 패드부(C)를 구비하는 기판(100) 상에 단일층 구조의 제 1 연결패턴(110), 복층 구조의 제 1 라우팅 배선(112) 및 제 2 라우팅 배선(114), 복층구조의 제 1 패드들(116) 및 제 2 패드들(118)을 포함하는 제 1 도전성 패턴군이 형성된다.
이를 보다 상세히 설명하면, 도 6b에 도시된 바와 같이, 기판(100) 상에 스퍼터링 등의 증착공정을 통해 제 1 도전층(102)과 제 2 도전층(104)이 순차적으로 전면 증착된다. 제 1 도전층(102)을 형성하는 재료로는 ITO 또는 IZO가 이용되고, 제 2 도전층을 형성하는 재료로는 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr 등이 이용된다.
기판(100) 상에 제 1 및 제 2 도전층(102, 104)이 형성된 후, 도 6c에 도시된 바와 같이, 하프톤 마스크(half-tone mask)를 이용한 포토리소그래피 공정을 이용하여 제 1 높이(h1)를 갖는 제 1-1 포토레지스트 패턴(1000)과 상기 제 1 높이(h1)보다 큰 제 2 높이(h2)를 갖는 제 1-2 포토레지스트 패턴(1010)을 형성한다. 제 1-1 포토레지스트 패턴(1000)은 후술하는 제 1 연결패턴들이 형성될 전극 형성부(A) 상에 배치되고, 제 1-2 포토레지스트 패턴(1010)은 라우팅 배선부(B) 및 패드부(C) 상에 배치된다.
다음으로, 제 1-1 및 제 1-2 포토레지스트 패턴(1000, 1010)을 마스크로 이용하여 제 1 및 제 2 도전층(102, 104)를 노광 및 현상하고, 습식 식각(wet etching)을 하여 제 1-1 및 제 1-2 포토레지스트 패턴(1000. 1010)이 위치되지 않은 부분의 제 1 및 제 2 도전층(102, 104)을 제거함으로써 도 6d에 도시된 바와 같은 제 1 도전성 패턴(102')과 제 2 도전성 패턴(104')으로 이루어지는 제 1 도전성 패턴군을 형성한다. 제 1 및 제 2 도전층(102, 104)을 식각할 때에는 후공정에서 제 1-1 및 제 1-2 포토레지스트 패턴(1000, 1010)의 제거가 용이하게 되도록, 제 1 및 제 2 도전층(102, 104)을 과식각하여 제 1 도전성 패턴군이 언더컷(under-cut) 구조를 갖도록 형성하는 것이 바람직하다.
이어서, 도 6e에 도시된 바와 같이, 산소 플라즈마를 이용한 애싱(ashing) 공정을 이용하여, 제 2 연결패턴들이 형성될 위치에 배치된 제 1-1 포토레지스트 패턴(1000)을 제거하여 제 2 도전성 패턴(104')을 노출시킨다. 이 때, 라우팅 배선부(B)와 패드부(C) 상의 제 1-2 포토레지스트 패턴(1010)은 h1의 높이만큼 낮아져 h2-h1의 높이를 갖는 제 1-3 포토레지스트 패턴(1010')으로 된다.
그리고, 도 6f에 도시된 바와 같이, 높이가 낮아진 제 1-3 포토레지스트 패턴(1010')을 마스크로 이용하여, 전극 형성부(A) 상의 제 2 도전성 패턴(104')을 습식 식각으로 제거함으로써 제1 도전성 패턴(102')의 제 1 연결패턴(110)을 형성한다.
다음으로 제 1-3 포토레지스트 패턴(1010')을 리프트 오프하여 제거하면 도 6g에 도시된 바와 같이, 복층구조의 제 1 및 제 2 라우팅 배선(112, 114), 단일층 구조의 제 1 연결패턴(110), 복층구조의 제 1 및 제 2 패드(116, 118)가 형성된다. 여기에서, 제 1 연결패턴들(110)은 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전성 물질로 형성되고, 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(112, 114)은 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전성 물질로 이루어지는 하부층(112a, 114a)과 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr와 같은 금속물질로 이루어지는 상부층(112b, 114b)으로 형성되며, 제 1 및 제 2 패드들(116, 118)은 ITO 또는 IZO와 같은 투명 도전성 물질로 이루어지는 하부층(116a, 118a)과, Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr와 같은 금속물질로 이루어지는 상부층(116b, 118b)으로 형성된다.
도 7a 및 도 7d는 본 발명의 실시예에 따르는 정전용량 방식 터치 스크린 패널의 제조방법 중 제 2 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도이다. 도 7a에서 점선으로 표시된 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(112, 114)은 제 2 절연패턴(120b)으로 덮여 있기 때문에 실질적으로는 평면도 상에서는 보이지 않는 부분이지만, 본 발명에서는 이해를 돕기 위해 점선으로 표시하였다.
도 7a 및 도 7b를 참조하면, 제 1 연결패턴(110), 제 1 라우팅 배선(112), 제 2 라우팅 배선(114), 제 1 패드(116) 및 제 2 패드(118)를 포함하는 제 1 도전성 패턴군이 형성된 기판(100) 상의 전면에 스퍼터링 등의 증착방법을 통해 절연층(120)이 형성된다. 절연층(120)의 재료로는 질화 실리콘(SiNx), 산화 실리콘 등의 무기 절연물질이 바람직하지만, 포토아크릴 등의 유기 절연물질이 이용될 수도 있다.
절연층(120)이 형성된 후, 도 7c에 도시된 바와 같이 제 2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 이용하여, 절연층(120)이 존재해야 하는 부분에 포토레지스트 패턴(1100)을 형성한다. 그리고, 포토레지스트 패턴(1100)을 절연층(120) 상에 위치시킨 후, 이를 마스크로 이용하여 절연층(120)을 노광 및 현상하고, 건식 식각을 하면 절연층(120)이 패터닝되어, 도 7d에 도시된 바와 같이 제 1 절연패턴(120a) 및 제 2 절연패턴(120b)이 각각 형성된다. 즉, 전극 형성부(A)에서는 도 7d에 도시된 바와 같이, 제 1 연결패턴(110)의 제 1 부분(110a) 및 제 2 부분(110b)이 노출되도록 제 1 연결패턴(110)의 중앙부(110c) 상에 제 1 절연패턴(120a)이 형성되고, 라우팅부(B)에서는 제 1 라우팅 배선(112) 및 제 2 라우팅 배선(114)의 일부가 노출되도록 제 1 및 제 2 라우팅 배선(112, 114) 상에 제 2 절연패턴(120b)이 형성되며, 패드부(C)에서는 제 1 및 제 2 패드의 하부층들(116a, 118a)이 노출되도록 제 2 절연패턴(120b)이 형성된다.
절연층(120)을 식각할 때에는 후공정에서 포토레지스트 패턴(1100)의 제거가 용이하게 되도록, 절연층(120)을 과식각하여 제 1 및 제 2 절연패턴(120a, 120b)이 언더컷(under-cut) 구조를 갖도록 형성하는 것이 바람직하다.
도 8a 내지 도 8d는 본 발명의 실시예에 따르는 정전용량 방식 터치 스크린 패널의 제조방법 중 전극열들을 형성하기 위한 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도이다. 도 8a는 본 발명의 실시예에 따르는 정전용량 방식 터치 스크린 패널의 제조방법 중 전극열들 형성 공정에 의해 터치 스크린 패널이 형성된 평면도를 도시한 도면으로서, 이해를 돕기 위해 라우팅 배선부(B)에 형성된 제 2 절연패턴(120b)을 생략한 도면이다.
도 8a 내지 도 8d를 참조하면, 제 3 마스크 공정을 이용하여 제 1 연결패턴(110) 및 제 1 절연패턴(120a)이 형성된 기판(100) 상의 전극 형성부(A)에 제 1 방향(예를 들면, x 방향)으로 평행하게 배열되는 복수의 제 1 전극패턴들(131)과, 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향(예를 들면, y 방향)으로 평행하게 배열되는 복수의 제 2 전극패턴들(131, 136), 및 제 2 연결패턴들(137)을 포함하는 제 3 도전성 패턴군들을 형성된다.
도 8b에 도시된 바와 같이, 제 1 연결패턴(110) 및 제 1 절연패턴(120a)이 형성된 기판(100) 상의 전극 형성부(A), 라우팅 배선부(B) 및 패드부(C) 상에 스퍼터링 등의 증착공정을 통해 제 3 도전층(130)을 전면 증착한다.
도 8c에 도시된 바와 같이, 제 3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 이용하여 포토레지스트 패턴(1200)을 형성한 후, 포토레지스트 패턴(1200)을 제 1 및 제 2 전극패턴들(131, 136)이 형성될 위치와 제 1 및 제 2 패드들(116, 118)이 형성될 위치 상에 배치한다. 그리고, 노광, 현상 및 식각공정을 이용하여 포토레지스트 패턴(1200)이 배치되지 않은 부분의 제 3 도전층(130)을 제거하여, 도 8d에 도시된 바와 같은, 제 1 및 제 2 전극패턴들(131, 136), 제 2 연결패턴들(137), 제1 패드의 상부층(116c) 및 제 2 패드의 상부층(118c)을 포함하는 제 3 도전성 패턴들을 형성한다. 여기에서, 복수의 제 2 전극패턴들(136)과 서로 이웃하는 제 2 전극패턴들(136)을 연결하는 제 2 연결패턴들(137)은 제 2 전극열들(135)을 구성한다. 제 3 도전층의 재료로서는 ITO 또는 IZO 등의 투명도전물질이 이용된다.
제 3 마스크 공정의 결과로서, 터치 스크린 패널의 전극 형성부(A)에서는 제 1 전극패턴(131)의 제 1 부분(131a)이 제 1 연결패턴(110)의 제 1 부분(110a), 제 1 절연패턴(120a)의 측면 및 상면 일부 상에, 제 1 전극패턴(131)의 제 2 부분(131b)이 이웃하는 제 1 연결패턴(110)의 제 2 부분(110b)과, 제 1 절연패턴(120a)의 측면 및 상면 일부 상에 각각 형성되며, 제 1 전극패턴(131)의 제 1 부분(131a)과 제 2 부분(131b)의 중간부(131c)는 기판(100) 상에 형성된다. 따라서, 서로 인접하는 제 1 전극패턴들(131)은 제 1 연결패턴(110)에 의해 전기적으로 접속된다.
또한, 도 8d에서는 제 1 전극패턴(131)의 제 1 부분(131a) 및 제 2 부분(131b)이 제 1 연결패턴(1 10)의 제 1 및 제 2 부분(131a, 131b)의 상면, 제 1 절연패턴(120a)의 측면 및 상면 일부 상에 각각 형성되는 것으로 도시되어 있으나, 도 5b에 도시된 바와 같이 제 1 전극패턴(131)의 제 1 부분(131a') 및 제 2 부분(131b')은 제 1 연결패턴(110)의 제 1 및 제 2 부분(110a, 110b)의 상면 상에만 형성되게 할 수도 있다.
또한, 라우팅 배선부(B)에서는 제 1 전극열(130) 및 제 2 전극열(135)과의 접속을 위해 제 1 라우팅 배선(112)의 일부와 제 2 라우팅 배선(114)의 일부가 노출되도록 제 2 절연패턴(120b)이 형성된다. 전극 형성부(A)의 최외측에 있는 제 1 전극패턴(131)의 단부는 제 1 라우팅 배선(112)의 노출된 부분들과 전기적으로 접속되도록 형성된다. 전극 형성부(A)의 최외측에 있는 제 2 전극패턴(136)의 단부 또한 그 일부가 제 2 라우팅 배선(114)의 노출된 부분과 전기적으로 접속되도록 형성된다.
또한, 패드부(C)에서는 제 3 층들(116c, 118c)이 제 1 및 제 2 층들(116a, 118a; 116b, 118b)을 각각 감싸도록 형성되는 제 1 패드(116) 및 제 2 패드(118)가 형성된다. 한편 패드부(C)에서는 도 8d에 도시된 바와 같이 제 1 패드들(116) 및 제 2 패드들(118)이 제 2 절연패턴(120b)의 콘택홀(150)을 통해 노출되는 것으로 도시되어 있으나, 제 2 절연패턴(120b)이 형성되지 않은 형태로 구성될 수도 있다. 또한, 본 발명의 실시예에서는 제 1 및 제 2 패드(116, 118)가 3층 구조로 형성되는 것으로 도시되어 있으나, 제 2 층을 생략한 형태로 구성할 수도 있다.
상술한 본원 발명의 터치 스크린 패널 제조방법에 따르면, 제 1 연결패턴들(110)과, 제 1 및 제 2 라우팅 배선들(112, 114)의 하부층(112a, 114a) 및 상부층(112b, 114b)과, 제 1 및 제2 패드(116, 118)의 제 1 층(116a, 118a) 및 제 2 층(116b, 118b)을 한 번의 마스크 공정으로 동시에 형성할 수 있기 때문에 종래에 비해 1개의 마스크 수를 줄일 수 있는 효과가 있다.
또한, 전극패턴들과 그들을 연결하는 연결패턴을 동일물질을 이용하여 형성하기 때문에 접촉저항과 정전기에 의한 불량을 억제할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널은 액정표시장치(Liquid Crystal Display, LCD), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display, FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 전계발광 표시장치(Electroluminescence Device, EL), 전기영동 표시장치 등을 포함하는 표시장치에 적용될 수 있다. 이 경우, 본 발명의 실시예들에 따른 터치 스크린 패널의 기판은 상기 표시장치의 기판으로서 사용될 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
100 : 기판 110 : 제 1 연결패턴
112 : 제 1 라우팅 배선 114 : 제 2 라우팅 배선
116 : 제 1 패드 118 : 제 2 패드
120 : 절연층 120a : 제 1 절연패턴
120b : 제 2 절연패턴 130 : 제 1 전극열
131 : 제 1 전극패턴 135 : 제 2 전극열
136 : 제 2 전극패턴 137 : 제 2 연결패턴
1000, 1010, 1100 : 포토레지스트 패턴 A : 전극형성부
B : 라우팅 배선부 C : 패드부

Claims (10)

  1. 기판의 전면 상에 제 1 도전층 및 제 2 도전층을 형성하고, 하프톤 마스크를 이용하여 제 1 포토레지스트 패턴을 형성하며, 상기 제 1 포토레지스트 패턴을 이용하여 제 1 도전층으로 이루어지는 복수의 제 1 연결패턴들, 제 1 및 제 2 도전층으로 이루어지는 복수의 제 1 라우팅 배선들 및 복수의 제 2 라우팅 배선들을 포함하는 제 1 도전성 패턴을 형성하는 제 1 공정;
    상기 제 1 도전성 패턴이 형성된 상기 기판의 전면 상에 절연층을 형성하고, 상기 제 1 연결패턴의 양단부가 노출되도록 상기 절연층을 패터닝하여 제 1 절연패턴을 형성하는 제 2 공정; 및
    상기 절연패턴이 형성된 기판의 전면 상에 제 3 도전층을 형성하고, 상기 제 3 도전층을 패터닝하여 제 1 방향으로 평행하게 배열되는 복수의 제 1 전극열들과, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 평행하게 배열되는 복수의 제 2 전극열들을 포함하는 제 2 도전성 패턴을 형성하는 제 3 공정을 포함하며,
    상기 복수의 제 1 전극열들의 각각은 서로 분리된 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 서로 인접한 제 1 전극패턴들은 제 1 연결패턴에 의해 전기적으로 연결되고, 상기 제 1 절연패턴은 상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열의 교차부에서 상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열을 절연시키는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 공정은,
    상기 기판의 전면 상에 상기 제 1 및 제 2 도전층을 형성하는 단계;
    상기 하프톤 마스크를 이용하여 제 1 높이를 갖는 제 1-1 포토레지스트 패턴과 상기 제 1 높이보다 큰 제 2 높이를 갖는 제 2 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제 1-1 포토레지스트 패턴을 상기 제 1 및 제 2 라우팅 배선이 형성될 위치의 제 2 도전층 상에 배치하고, 상기 제 1-2 포토레지스트 패턴을 상기 연결패턴이 형성될 위치의 제 2 도전층 상에 배치하는 단계;
    상기 복수의 제 2 연결패턴들이 형성될 위치에 배치된 상기 제 1-1 포토레지스트 패턴이 제거되도록 상기 제 1 및 제 2 포토레지스트 패턴을 애싱하여 상기 제 1 도전층의 일부를 노출시키는 단계;
    상기 애싱후 잔존하는 제 1-2 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 2 공정은,
    상기 제 1 도전성 패턴이 형성된 상기 기판의 전면 상에 상기 절연층을 형성하는 단계;
    제 2 포토레지스트 패턴을 상기 제 1 및 제 2 라우팅 배선이 형성될 위치와 상기 제 1 연결패턴이 형성될 위치의 상기 절연층 상에 배치하는 단계; 및
    상기 제 2 포토레지스트 패턴을 마스크로서 이용하여, 상기 절연층을 패터닝하여 상기 제 1 연결패턴의 양 단부가 노출되도록 상기 절연패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 복수의 제 1 전극열의 각각은 상기 제 1 연결패턴들에 의해 접속되는 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 제 2 전극열들은 상기 제 1 전극열들과 교차하는 방향으로 배열되며, 제 2 연결패턴에 의해 접속되는 복수의 제 2 전극패턴들을 포함하며,
    상기 복수의 제 1 전극패턴의 각각은 서로 인접한 상기 제 1 연결패턴들의 서로 대향하는 단부들과, 상기 단부들 사이의 상기 기판 및 상기 제 1 절연패턴의 측면 및 상면의 일부 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 복수의 제 1 전극열의 각각은 상기 제 1 연결패턴들에 의해 접속되는 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 제 2 전극열들은 상기 제 1 전극열들과 교차하는 방향으로 배열되며, 제 2 연결패턴에 의해 접속되는 복수의 제 2 전극패턴들을 포함하며,
    상기 복수의 제 1 전극패턴의 각각은 서로 인접한 상기 제 1 연결패턴들의 서로 대향하는 단부들과, 상기 단부들 사이의 상기 기판 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  6. 청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 3 도전층은 ITO 및 IZO 중의 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  7. 청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 도전층은 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr 중의 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  8. 기판;
    상기 기판 상에 제 1 방향으로 나란하게 배열되는 복수의 제 1 전극열들과, 상기 제 1 전극열들과 교차하도록 배열되는 복수의 제 2 전극열들을 포함하는 전극 형성부;
    상기 전극 형성부의 외곽부에서 상기 기판 상에 형성되고, 상기 복수의 제 1 전극열들과 각각 연결되며, 제 1 및 제 2 도전층의 복층구조로 이루어지는 복수의 제 1 라우팅 배선들과, 상기 전극 형성부의 외곽부에서 상기 기판 상에 형성되고, 상기 복수의 제 2 전극열들과 각각 연결되며, 상기 제 1 및 제 2 도전층의 복층구조 이루어지는 복수의 제 2 라우팅 배선들을 포함하는 라우팅 배선부;
    상기 복수의 제 1 및 제 2 라우팅 배선들과 동일층에 형성되며, 서로 분리되어 형성되는 상기 제 1 도전층으로 이루어지는 복수의 제 1 연결패턴들; 및
    상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열의 교차부에서 상기 제 1 전극열과 상기 제 2 전극열을 절연시키며, 상기 제 1 연결패턴의 양단부를 노출시키는 절연층을 포함하며,
    상기 복수의 제 1 전극열들의 각각은, 제 3 도전층으로 형성되며, 서로 분리된 복수의 제 1 전극패턴들을 포함하고, 상기 제 1 전극패턴의 각각은 서로 인접한 상기 제 1 연결패턴들의 서로 대향하는 단부들 상에 형성되며, 상기 단부들 사이의 기판 상에 형성되며, 상기 서로 인접한 제 1 전극패턴들은 상기 제 1 연결패턴에 의해 서로 접속되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 3 도전층은 ITO 및 IZO 중의 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 2 도전층은 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, CuOx, Cr 중의 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.
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