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KR101308136B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR101308136B1
KR101308136B1 KR1020110130296A KR20110130296A KR101308136B1 KR 101308136 B1 KR101308136 B1 KR 101308136B1 KR 1020110130296 A KR1020110130296 A KR 1020110130296A KR 20110130296 A KR20110130296 A KR 20110130296A KR 101308136 B1 KR101308136 B1 KR 101308136B1
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KR
South Korea
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substrate
conveying
chamber
support roller
processing liquid
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KR1020110130296A
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정홍구
김진호
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명의 실시예는 기판 상에 유체를 공급하여 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다. 기판처리장치는 기판으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 부재 및 기판 상에 잔류하는 처리액을 회수하는 처리액 회수 유닛을 포함하되, 처리액 회수 유닛은 반송 샤프트들과 나란히 배치되는 제 1 지지롤러 및 제 1 지지 롤러에 지지된 기판의 영역으로 가압 유체를 분사하는 가압 유체 공급 부재를 가진다. 이로 인해 본 발명의 실시예는 기판의 영역에 따라 유체를 균일하게 공급할 수 있고, 유체가 공급되는 기판의 영역들 간에 서로 평행을 유지할 수 있으며, 기판을 고속으로 반송 시 기판의 슬립을 최소화하고자 한다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for treating substrate}
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반송되는 기판 상에 처리액을 공급하여 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하는 표시 패널(display panel)을 가진다. 최근에는 기술의 급속한 발전에 따라 액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널의 사용이 급격히 증대하고 있으며, 그 크기 및 무게 또한 증대되고 있다.
이와 같은 평판 표시 패널을 제조하기 위해서는 포토 레지스트, 노광, 현상, 그리고 세정 등 다양한 공정들이 요구된다. 이러한 공정들 중 현상 공정으로는 기판 상에 현상액을 공급 및 회수하고, 이후에 기판으로 세정액을 공급한다. 도 1은 현상 공정 및 세정 공정을 수행하는 일반적인 장치를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 현상 챔버(10) 내에서는 기판(S)의 현상 처리 공정이 수행되고, 세정 챔버(20) 내에서는 기판(S)의 세정 처리 공정이 수행된다. 각각의 챔버(10,20) 내에서는 기판(S)이 일방향으로 반송되는 중에 공정 처리된다. 현상 챔버(10)의 수평구간(A)에서는 기판(S)이 수평 상태로 반송되는 중에 기판(S) 상으로 현상액이 공급된다. 현상 챔버(10)의 경사 변환 구간(B)에서는 기판(S)을 경사진 상태로 반송하여 기판(S) 상에 잔류되는 현상액을 회수한다.
그러나 현상액은 기판의 경사면을 따라 흐르는 중 기판 상에 얼룩을 발생시킨다. 이를 해결하고자 기판을 경사진 상태로 고속 반송하였으나, 기판의 슬립과 같은 공정 불량이 발생된다.
본 발명은 반송되는 기판을 처리액으로 처리하는 기판처리장치 및 방법을 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 반송되는 기판 상에 잔류되는 처리액을 회수 시 얼룩이 발생되는 것을 최소화하고자 한다.
또한 본 발명은 반송되는 기판 상에 잔류되는 처리액의 회수율을 높히고자 한다.
또한 본 발명은 기판을 고속으로 반송 시 기판의 슬립을 최소화하고자 한다.
본 발명의 실시예는 반송되는 기판 상에 처리액을 공급하여 기판을 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 기판처리장치는 제1챔버와; 내부가 상기 제1챔버와 서로 통하도록 제공되는 제2챔버와; 기판을 제1방향으로 반송하는 기판반송부재와; 상기 제1챔버 내에서, 기판 상으로 처리액을 공급하는 처리액 공급부재와; 상기 제2챔버 내에서, 기판 상으로 세정액을 공급하는 세정액 공급부재를 가지는 세정액 공급유닛과; 상기 기판반송부재는, 상기 제1챔버 및 상기 제2챔버 각각의 내부에 제공되고, 상기 제1방향을 따라 복수 개로 제공되는 반송 샤프트와; 상기 반송 샤프트들을 지지하는 프레임을 포함하되; 상기 프레임은, 상기 제1챔버 내에 제공되고, 상기 반송 샤프트들의 상단이 수평하도록 상기 반송 샤프트들을 지지하는 수평 프레임과; 상기 제2챔버 내에 제공되고, 상기 반송 샤프트들의 상단이 경사지도록 상기 반송 샤프트들을 지지하는 경사 프레임과; 상기 제2챔버 내에서 상기 수평 프레임과 상기 경사 프레임의 사이에 제공되고, 상기 반송 샤프트들의 상단이 수평 상태에서 경사 상태로 변환되도록 상기 반송 샤프트들을 지지하는 경사 변환 프레임을 포함한다.
상기 제1챔버 내에 제공되고, 기판 상에 잔류하는 처리액을 회수하는 처리액 회수유닛을 더 포함하되; 상기 처리액 회수유닛은, 제1지지롤러와; 상기 제1지지롤러에 지지된 기판의 영역으로 가압유체를 분사하는 가압유체공급부재를 포함할 수 있다. 상기 제1지지롤러는 상기 반송샤프트들 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단과 동일한 높이를 가질 수 있다. 상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단보다 높게 제공될 수 있다. 상기 제1지지롤러는 원통 형상을 가지고, 그 길이방향이 상기 반송 샤프트와 평행할 수 있다. 상기 제1지지롤러의 직경은 상기 반송 샤프트보다 클 수 있다. 상기 처리액 회수 유닛은 상기 제1챔버의 끝단에 위치될 수 있다. 상기 경사 변환 프레임은, 상기 반송 샤프트들의 일단을 지지하는 제1경사 변환 프레임과; 상기 반송 샤프트들의 타단을 지지하고, 상하로 이동 가능한 제2경사 변환 프레임을 포함할 수 있다. 상기 세정액 공급부재는 상기 경사 변환 프레임의 상부에 위치될 수 있다. 상기 세정액 공급유닛은, 상기 반송샤프트들 사이에 배치되고, 양단이 상기 경사 변환 프레임에 지지되는 제2지지롤러를 더 포함하되; 상기 세정액 공급부재는 상기 제2지지롤러에 지지된 기판의 영역으로 세정액를 분사할 수 있다.
또한 기판처리장치는 챔버와; 상기 챔버 내에 제공되고, 기판을 제1방향으로 수평하게 반송하도록 상기 제1방향을 따라 복수 개로 제공되는 반송 샤프트 및 각각의 상기 반송 샤프트의 외주면에 복수 개로 제공되어 기판과 접촉되는 반송롤러를 가지는 기판반송부재와; 상기 챔버 내에 제공되고, 기판 상으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 부재와; 상기 기판 상에 잔류하는 처리액을 회수하는 처리액 회수 유닛을 포함하되, 상기 처리액 회수 유닛은, 상기 반송 샤프트들 사이에 배치되는 제1지지롤러와; 상기 제1지지롤러에 지지된 기판의 영역으로 가압 유체를 분사하는 가압 유체 공급 부재를 가진다.
상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단과 동일한 높이를 가질 수 있다. 상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단보다 높게 제공될 수 있다. 상기 제1지지롤러는 원통 형상을 가지고, 그 길이방향을 상기 반송 샤프트와 평행할 수 있다. 상기 제1지지롤러의 길이는 기판의 폭과 동일하거나 이보다 길 수 있다.
또한 기판처리방법은 제1챔버에 반입된 기판을 수평하게 반송하는 동안 상기 기판 상으로 처리액을 공급하고, 가압 유체를 분사하여 상기 기판 상에 잔류되는 처리액을 회수하고, 상기 기판이 제2챔버에 반입되면 상기 기판을 수평 상태에서 경사진 상태로 변환하여 반송한다.
상기 기판을 수평 상태에서 경사진 상태로 변환하는 중에 상기 기판 상으로 세정액을 공급할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 반송되는 기판을 처리액으로 처리하는 기판처리장치 및 방법을 제공한다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 반송되는 기판 상에 잔류되는 처리액을 회수 시 얼룩이 발생되는 것을 최소화할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 반송되는 기판 상에 잔류되는 처리액의 회수율을 높힐 수 있다.
또한 본 발명은 기판을 고속으로 반송 시 기판의 슬립을 최소화할 수 있다.
도 1은 현상 공정 및 세정 공정을 수행하는 일반적인 장치를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 3은 도 2의 세정 챔버 내의 기판 반송 부재를 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 2의 기판 처리 장치에 제 1 지지 롤러가 제공되지 않을 시 발생되는 문제점을 보여주는 사시도이다.
도 5는 도 2의 기판 처리 장치에 제 1 지지 롤러가 제공되지 않을 시 발생되는 문제점을 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 2의 제 1 지지 롤러를 보여주는 정면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도 2 내지 도 8을 참조하면서 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 실시예에서 기판(S)은 평판 표시 패널 제조에 사용되는 기판(S)을 예로 들어 설명한다. 그러나 이와 달리 기판(S)은 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼일 수 있다. 또한 본 실시예에는 기판(S)을 현상 처리하는 공정에 대해 설명한다. 그러나 본 발명은 반송되는 기판(S) 상에 처리액을 공급 및 회수하고 기판(S)을 세정 처리하는 공정을 수행하는 다양한 구조 및 다양한 공정의 장치에 적용될 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 장치(1000)는 기판을 현상 처리하는 공정을 수행한다. 기판 처리 장치(1000)는 현상 챔버(100), 세정 챔버(200), 기판 반송 부재(300), 처리액 공급 부재(400), 처리액 회수 유닛(500), 그리고 세정액 공급 유닛(600)을 가진다.
현상 챔버(100) 및 세정 챔버(200)는 그 내부에 기판(S)을 처리하는 공정이 수행되는 공간을 제공한다. 현상 챔버(100)에는 기판(S)을 현상 처리하는 공정이 수행되고, 세정 챔버(200)에는 기판(S) 상에 잔류하는 처리액을 세정하는 공정이 수행된다. 현상 챔버(100)와 세정 챔버(200)는 제 1 방향(12)을 따라 일렬로 배치된다. 현상 챔버(100)와 세정 챔버(200)는 서로 동일한 형상으로 제공될 수 있다. 현상 챔버(100)와 세정 챔버(200) 각각은 대체로 직육면체의 형상을 가진다. 현상 챔버(100)와 세정 챔버(200) 각각의 일단에는 기판(S)이 반입되는 입구(102,202)가 제공되고, 타단에는 기판(S)이 반출되는 출구(104,204)가 제공된다. 현상 챔버(100)의 출구(104)는 세정 챔버(200)의 입구(202)와 대향되게 배치된다. 현상 챔버(100)의 내부는 세정 챔버(200)의 내부와 서로 통하도록 제공된다.
기판 반송 부재(300)는 기판(S)을 제 1 방향(12)으로 반송한다. 기판 반송 부재(300)는 현상 챔버(100)와 세정 챔버(200) 내에 각각 배치된다. 기판 반송 부재(300)는 반송 샤프트(330), 반송 롤러(320), 프레임(340), 그리고 가이드 롤러(350)를 가진다. 반송 샤프트(330)는 복수 개로 제공된다. 각각의 반송 샤프트(330)는 그 길이방향이 제 1 방향(12)과 수직한 제 2 방향(14)을 향하도록 제공된다. 반송 샤프트(330)들은 제 1 방향(12)을 따라 나란히 배치된다. 각각의 반송 샤프트(330)는 서로 간에 이격되게 배치된다. 반송 샤프트(330)는 그 높이가 입구(102,202) 및 출구(104,204)에 대응되도록 제공된다.
반송 롤러(320)는 각각의 반송 샤프트(330)에 장착되어 기판(S)의 저면을 지지한다. 반송 롤러(320)는 각각의 반송 샤프트(330)에 복수 개로 제공된다. 반송 롤러(320)는 그 중심축에 홀이 형성되고, 반송 샤프트(330)는 홀에 강제 끼움된다. 반송 롤러(320)는 반송 샤프트(330)와 함께 회전된다.
프레임(340)은 반송 샤프트(330)들을 회전 가능하도록 지지한다. 프레임(340)은 반송 샤프트(330)의 양측에 각각 배치되어 반송 샤프트(330)들의 양단을 지지한다. 프레임(340)은 수평 프레임(342), 경사프레임, 그리고 경사 변환 프레임(344)을 가진다. 수평 프레임(342)은 현상 챔버(100) 내에 제공된다. 수평 프레임(342)은 반송 샤프트(330)의 양단이 서로 동일한 높이를 가지도록 고정 설치된다.
경사 프레임(346)은 반송 샤프트(330)의 양단이 서로 상이한 높이를 가지도록 고정 설치된다. 경사 프레임(346)은 세정 챔버(200) 내에 배치된다. 경사 프레임(346)은 반송 샤프트(330)의 일단이 수평 프레임(342)에 지지되는 반송 샤프트(330)와 동일한 높이를 가지도록 고정 설치된다. 경사 프레임(346)은 반송 샤프트(330)의 타단이 수평 프레임(342)에 지지되는 반송 샤프트(330)보다 높게 위치되도록 고정 설치된다. 예컨대, 반송 샤프트(330)가 지면에 대해 경사진 각은 약 5°일 수 있다.
경사 변환 프레임(344)은 반송샤프트의 경사각을 조절한다. 도 3은 도 2의 세정 챔버 내의 기판 반송 부재를 보여주는 사시도이다. 도 3을 참조하면, 경사 변환 프레임(344)은 반송 샤프트(330)가 틸팅 가능하도록 반송 샤프트(330)의 양단을 지지한다. 경사 변환 프레임(344)은 세정 챔버(200) 내에 배치된다. 경사 변환 프레임(344)은 기판(S)이 수평 프레임(342)에 지지된 반송 샤프트(330)를 통해 경사 프레임(346)에 지지된 반송 샤프트(330)로 반송되도록 반송 샤프트(330)의 각도를 변환한다. 경사 변환 프레임(344)은 제1경사 변환 프레임(344a) 및 제2경사 변환 프레임(344b)을 가진다. 제1경사 변환 프레임(344a)은 반송 샤프트(330)들의 일단을 지지한다. 제1경사 변환 프레임(344a)은 수평 프레임(342)과 동일한 높이를 가지도록 고정 설치된다. 제2경사 변환 프레임(344b)은 반송 샤프트(330)들의 타단을 지지한다. 제2경사 변환 프레임(344b)은 구동부재(미도시)에 의해 상하방향으로 수평위치 및 경사위치 간을 이동한다. 수평 위치는 제2경사 변환 프레임(344b)이 수평 프레임(342)과 동일한 높이를 가지는 위치이다. 경사 위치는 제2경사 변환 프레임(344b)이 수평 프레임(342)에 비해 높은 높이를 가지는 위치이다.
가이드 롤러(350)는 기판(S)이 제 1 방향(12)으로 반송되도록 기판(S)을 가이드한다. 가이드 롤러(350)는 반송되는 기판(S)의 측부를 지지한다. 가이드 롤러(350)는 현상 챔버(100) 및 세정 챔버(200) 각각에 제공된다. 가이드 롤러(350)는 반송 샤프트(330)들의 사이에 배치된다. 현상 챔버(100) 내에 배치되는 가이드 롤러(350)들은 기판(S)의 양측을 지지한다. 세정 챔버(200) 내에 배치되는 가이드 롤러(350)들은 기판(S)의 일측을 지지한다. 세정 챔버(200) 내에 배치되는 가이드 롤러(350)들은 반송 샤프트(330)들의 타단과 인접하게 배치된다.
다시 도 2를 참조하면, 처리액 공급 부재(400)는 기판(S) 상으로 처리액을 공급한다. 처리액 공급 부재(400)는 현상 챔버(100) 내에 제공된다. 처리액 공급 부재(400)는 반송 샤프트(330)의 상부에 배치되어 제 1 방향(12)으로 반송되는 기판(S) 상에 처리액을 공급한다. 예컨대, 처리액은 현상액일 수 있다. 처리액 공급 부재(400)는 몸체 및 노즐을 가진다. 몸체는 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제 2 방향(14)을 향하도록 제공된다. 일 예에 의하면, 몸체의 길이방향은 반송 샤프트(330)와 평행하게 제공될 수 있다. 몸체는 그 길이가 기판(S)의 폭과 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 몸체의 저면에는 제 2 방향(14)을 따라 복수 개의 홀들이 나란히 제공된다. 각각의 홀에는 노즐들이 장착된다.
처리액 회수 유닛(500)은 기판(S) 상에 잔류하는 처리액을 회수한다. 처리액 회수 유닛(500)은 현상 챔버(100) 내에 제공된다. 처리액 회수 유닛(500)은 현상 챔버(100)의 출구(104)와 인접한 영역에 배치된다. 처리액 회수 유닛(500)은 가압 유체 공급 부재(510) 및 제 1 지지 롤러(530)를 가진다. 가압 유체 공급 부재(510)는 기판(S) 상에 가압유체를 분사하여 잔류된 처리액을 회수한다. 예컨대, 가압 유체는 대기 중의 공기이거나 비활성 가스일 수 있다. 가압 유체 공급 부재(510)는 반송 샤프트(330)의 상부에 배치된다. 가압 유체 공급 부재(510)는 몸체 및 노즐을 가진다. 몸체는 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제 2 방향(14)을 향하도록 제공된다. 몸체는 그 길이가 기판(S)의 폭과 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 몸체의 저면에는 제 2 방향(14)을 따라 복수 개의 홀들이 나란히 제공된다. 각각의 홀에는 노즐들이 장착된다. 각각의 노즐의 토출구는 현상 챔버(100)의 출구(104)와 멀어지는 방향으로 하향 경사지게 제공된다. 가압 유체 공급 부재(510)는 처리액이 기판의 반송되는 방향과 반대되는 방향으로 흐르도록 가압 유체를 분사한다.
복수 개의 반송 샤프트(330)들은 제 1 방향(12)을 따라 서로 이격되게 배치된다. 기판(S)은 그 무게 및 부피가 증대되고 있어 기판 반송 부재(300)에 지지되는 영역들 사이 아래로 처진다. 이로 인해 기판의 상면은 제 1 방향(12)을 따라 굴곡진 형상을 가진다. 특히 기판(S)의 상면 중 오목한 영역에 고인 처리액은 도 4 및 도 5와 같이 회수가 용이하지 않다.
또한 반송 롤러(320)에 지지되는 기판(S)의 영역의 경우에도, 기판(S)은 반송 롤러(320)들 사이 공간 아래로 처질 수 있다. 이로 인해 기판(S)의 상면은 제2방향을 따라 굴곡진 형상을 가질 수 있다.
제 1 지지 롤러(530)는 가압 유체가 공급되는 기판(S)의 영역이 수평하도록 기판(S)을 지지한다. 제 1 지지 롤러(530)는 가압 유체가 공급되는 기판(S)의 상면이 평평하도록 기판(S)의 저면을 지지한다. 도 6은 도 2의 제 1 지지 롤러를 보여주는 정면도이다. 도 6을 참조하면, 제 1 지지롤러는 원통 형상을 가진다. 제 1 지지 롤러(530)는 그 길이방향을 제 2 방향(14)을 향하도록 제공된다. 제 1 지지롤러는 반송 샤프트(330)들 사이에 배치된다. 제 1 지지 롤러(530)는 가압 유체가 분사되는 기판(S)의 영역을 지지하도록 위치된다. 제 1 지지 롤러(530)의 상단은 반송 롤러(320)의 상단과 동일하거나 이보다 조금 높게 제공된다. 예컨대, 제 1 지지 롤러(530)의 외주면은 반송 롤러(320)와 동일한 종류의 재질로 이루어질 수 있다.
다시 도 2를 참조하면, 세정액 공급 유닛(600)은 기판(S)을 세정한다. 세정액 공급 유닛(600)은 세정 챔버(200) 내에 제공된다. 세정액 공급 유닛(600)은 세정 챔버(200)의 입구(202)와 인접한 영역에 배치된다. 세정액 공급 유닛(600)은 세정액 공급 부재(610)를 가진다. 세정액 공급 부재(610)는 세정 챔버(200)에 반입된 기판(S) 상으로 세정액을 분사한다. 예컨대, 세정액는 탈이온수일 수 있다. 세정액 공급 부재(610)는 경사 변환 프레임(344)에 의해 지지되는 반송 샤프트(330)의 상부에 위치된다. 세정액 공급 부재(610)는 몸체 및 노즐을 가진다. 몸체는 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제 2 방향(14)을 향하도록 제공된다. 몸체는 그 길이가 기판(S)의 폭과 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 몸체의 저면에는 제 2 방향(14)을 따라 복수 개의 홀들이 나란히 제공된다. 각각의 홀에는 노즐들이 장착된다. 일 예에 의하면, 세정액 공급 부재(610)의 몸체는 상하로 대향되는 반송 샤프트(330)와 그 길이방향이 평행하게 제공될 수 있다. 세정액 공급 부재(610)의 몸체는 이와 대향되는 반송 샤프트(330)의 경사각이 조절될 시 그 길이방향이 함께 조절될 수 있다.
선택적으로 세정액 공급 부재(610)의 몸체는 그 길이방향이 수평하게 고정될 수 있다.
이와 달리 도 7의 세정액 공급 유닛(600)은 제 2 지지 롤러(630)를 더 포함할 수 있다. 제 2 지지 롤러(630)는 세정액이 공급되는 기판(S)의 상면이 평평하도록 기판(S)의 저면을 지지할 수 있다. 제 2 지지 롤러(630)는 원통 형상을 가질 수 있다. 제 2 지지 롤러(630)는 그 길이방향을 제2방향을 향하도록 제공될 수 있다. 제 2 지지 롤러(630)는 반송 샤프트(330)들 사이에 배치될 수 있다. 제 2 지지 롤러(630)의 상단은 제 1 지지 롤러(530)의 상단과 동일한 높이를 가지도록 제공될 수 있다. 제 2 지지 롤러(630)의 양단은 경사 변환 프레임(344)에 설치되어 반송 샤프트(330)들과 함께 틸팅 가능하게 제공될 수 있다.
다음은 상술한 기판 처리 장치(1000)를 이용하여 기판(S)을 반송하는 방법에 대해 설명한다. 기판(S)이 현상 챔버(100) 내에 반입되면, 기판(S)은 기판 반송 부재(300)에 의해 제 1 방향(12)으로 반송된다. 기판(S)은 그 상면이 수평하게 반송된다. 기판(S)은 수평하게 반송되는 중에 처리액이 공급되고, 이후 기판(S) 상에 잔류되는 처리액을 회수한다. 기판(S)은 현상 챔버(100)의 출구(104)를 통해 반출되는 동시에 세정 챔버(200) 내에 반입된다. 기판(S)은 반송되는 중에 점진적으로 그 상면이 수평상태에서 경사진 상태로 틸팅된다. 기판(S)은 틸팅되며 반송되는 중에 기판(S) 상으로 세정액을 공급한다. 기판(S)은 세정액 공급이 완료된 후에 경사진 상태로 반송된다. 기판(S) 상에 잔류되는 세정액은 기판(S)의 경사각을 따라 아래로 회수된다.
다음은 상술한 기판 처리 장치(1000)를 이용하여 현상 및 세정 처리하는 방법에 대해 설명한다. 노광 공정이 완료된 기판(S)이 현상 챔버(100) 내에 반입되면, 반송되는 기판(S) 상으로 처리액을 공급한다. 가압 유체 공급 부재(510)는 기판(S)이 반송되는 중에 제 1 지지 롤러(530)에 지지된 기판(S)의 영역으로 가압 유체를 분사한다. 기판(S) 상에 잔류된 처리액은 가압 유체가 밀어내는 힘에 의해 제 1 방향(12)과 반대되는 방향으로 회수된다. 기판(S)은 제 1 지지 롤러(530)를 지나 세정 챔버(200) 내에 반입된다. 세정액 공급 유닛(600)은 세정 챔버(200) 내에서 반송되는 기판(S) 상으로 세정액을 분사한다. 이와 동시에 기판(S)은 수평 상태에서 경사진 상태를 변환되어 제1방향으로 반송된다. 기판(S) 상에 잔류되는 세정 유체는 기판(S)의 경사각을 따라 아래로 흐른다.
상술한 본 발명의 실시예와 달리, 도 8의 제 1 지지 롤러(530a)는 처리액 공급 부재(400)로부터 처리액이 공급되는 기판(S)의 영역을 지지하도록 위치될 수 있다. 제 1 지지 롤러(530a)는 처리액이 기판(S) 상에 균일하게 공급되도록 기판(S)을 지지할 수 있다.
100: 현상 챔버 200: 세정 챔버
300: 기판 반송 부재 340: 프레임
342: 수평 프레임 344: 경사 변환 프레임
346: 경사 프레임 400: 처리액 공급 부재
500: 처리액 회수 유닛 510: 가압 유체 공급 부재
530: 제 1 지지 롤러 600: 세정액 공급 유닛

Claims (18)

  1. 제1챔버와;
    내부가 상기 제1챔버와 서로 통하도록 제공되는 제2챔버와;
    기판을 제1방향으로 반송하는 기판반송부재와;
    상기 제1챔버 내에서, 기판 상으로 처리액을 공급하는 처리액 공급부재와;
    상기 제1챔버 내에 제공되고, 기판 상에 잔류하는 처리액을 회수하는 처리액 회수유닛과;
    상기 제2챔버 내에서, 기판 상으로 세정액을 공급하는 세정액 공급부재를 가지는 세정액 공급유닛을 포함하되,
    상기 기판반송부재는,
    상기 제1챔버 및 상기 제2챔버 각각의 내부에 제공되고, 상기 제1방향을 따라 복수 개로 제공되는 반송 샤프트들과;
    각각의 상기 반송샤프트의 외주면에 복수 개로 제공되어 기판의 저면을 지지하는 반송롤러들과;
    상기 반송 샤프트들을 지지하는 프레임을 포함하고,
    상기 프레임은,
    상기 제1챔버 내에 제공되고, 상기 반송 샤프트들의 상단이 수평하도록 상기 반송 샤프트들을 지지하는 수평 프레임과;
    상기 제2챔버 내에 제공되고, 상기 반송 샤프트들의 상단이 경사지도록 상기 반송 샤프트들을 지지하는 경사 프레임과;
    상기 제2챔버 내에서 상기 수평 프레임과 상기 경사 프레임의 사이에 제공되고, 상기 반송 샤프트들의 상단이 수평 상태에서 경사 상태로 변환되도록 상기 반송 샤프트들을 지지하는 경사 변환 프레임을 포함하며,
    상기 처리액 회수유닛은,
    원통 형상을 가지고, 그 길이방향이 상기 반송 샤프트와 평행하게 제공되며, 그 길이가 기판의 폭과 동일하거나 이보다 길게 제공되고, 외주면으로 기판의 저면을 지지하는 제1지지롤러와;
    상기 제1지지롤러에 지지된 기판의 저면영역과 대응되는 상면영역으로 가압유체를 분사하는 가압유체공급부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1챔버 내에 제공되고, 기판 상에 잔류하는 처리액을 회수하는 처리액 회수유닛을 더 포함하되;
    상기 처리액 회수유닛은,
    제1지지롤러와;
    상기 제1지지롤러에 지지된 기판의 영역으로 가압유체를 분사하는 가압유체공급부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1지지롤러는 상기 반송샤프트들 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단과 동일한 높이를 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단보다 높게 제공되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1지지롤러의 직경은 상기 반송 샤프트보다 큰 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 처리액 회수 유닛은 상기 제1챔버의 끝단에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 경사 변환 프레임은,
    상기 반송 샤프트들의 일단을 지지하는 제1경사 변환 프레임과;
    상기 반송 샤프트들의 타단을 지지하고, 상하로 이동 가능한 제2경사 변환 프레임을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 세정액 공급부재는 상기 경사 변환 프레임의 상부에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 세정액 공급유닛은,
    상기 반송샤프트들 사이에 배치되고, 양단이 상기 경사 변환 프레임에 지지되는 제2지지롤러를 더 포함하되;
    상기 세정액 공급부재는 상기 제2지지롤러에 지지된 기판의 영역으로 세정액를 분사하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  12. 챔버와;
    상기 챔버 내에 제공되고, 기판을 제1방향으로 수평하게 반송하도록 상기 제1방향을 따라 복수 개로 제공되는 반송 샤프트 및 각각의 상기 반송 샤프트의 외주면에 복수 개로 제공되어 기판의 저면과 접촉되는 반송롤러를 가지는 기판반송부재와;
    상기 챔버 내에 제공되고, 기판 상으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 부재와;
    상기 기판 상에 잔류하는 처리액을 회수하는 처리액 회수 유닛을 포함하되,
    상기 처리액 회수 유닛은,
    원통 형상을 가지고, 그 길이방향이 상기 반송 샤프트와 평행하게 제공되며, 그 길이가 기판의 폭과 동일하거나 이보다 길게 제공되고, 외주면으로 기판의 저면을 지지하는 제1지지롤러와;
    상기 제1지지롤러에 지지된 기판의 저면영역과 대응되는 상면영역으로 가압 유체를 분사하는 가압 유체 공급 부재를 가지는 기판 처리 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단과 동일한 높이를 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 제1지지롤러의 상단은 상기 반송롤러의 상단보다 높게 제공되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
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