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KR101293872B1 - 액정 필름 - Google Patents

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KR101293872B1
KR101293872B1 KR1020120085810A KR20120085810A KR101293872B1 KR 101293872 B1 KR101293872 B1 KR 101293872B1 KR 1020120085810 A KR1020120085810 A KR 1020120085810A KR 20120085810 A KR20120085810 A KR 20120085810A KR 101293872 B1 KR101293872 B1 KR 101293872B1
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KR
South Korea
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liquid crystal
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crystal layer
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KR1020120085810A
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장준원
이대희
박문수
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 출원은 액정 필름에 관한 것이다. 예시적인 액정 필름은, 예를 들면, LCD 등의 디스플레이 장치의 광 이용 효율을 개선하고, 휘도를 향상시키는 것에 사용될 수 있다.

Description

액정 필름{Liquid crystal film}
본 출원은 액정 필름, 액정 필름의 제조 방법, 광학 소자 및 LCD에 관한 것이다.
LCD(Liquid crystal display)는, 액정 패널 및 상기 액정 패널의 상부측과 하부측에 배치된 편광판을 포함할 수 있고, 상기 편광판 외에도 다양한 기능성 광학 소자를 포함할 수 있다. LCD에서는, 액정 패널의 각 화소별로 액정의 배향을 변화시켜 영상을 표시할 수 있다. LCD는 자체 발광형의 소자가 아니기 때문에, 통상적으로 액정 패널의 하부측 편광판의 이면에 BLU(Backlight unit) 등의 광원을 위치시키고, 상기 광원으부터 출사되는 광을 패널에 투과시켜 영상을 표시한다.
본 출원은 액정 필름, 반사형 편광판 및 LCD를 제공한다.
본 출원은, 액정 필름(LCF; Liquid Crystal Film)에 관한 것이다. 예시적인 액정 필름은 기재층; 상기 기재층의 일면에 형성된 액정층; 및 상기 기재층의 다른 면에 형성된 콜레스테릭 액정층을 포함할 수 있다. 도 1은, 액정 필름의 측면을 예시적으로 보여주는 도면이고, 기재층(101), 상기 기재층(101)의 일면의 액정층(102) 및 상기 기재층(101)의 다른 면의 콜레스테릭 액정층(103)을 포함하는 액정 필름(100)이다. 이하, 본 명세서에서는 구별을 위하여 기재층의 일면에 형성되는 액정층을 제 1 액정층으로 호칭하고, 기재층의 다른 면에 형성되는 콜레스테릭 액정층을 제 2 액정층으로 호칭하기로 한다.
기재층으로는 특별한 제한 없이 다양한 종류의 층이 사용될 수 있다. 예를 들면, 기재층은 투광성 기재층, 예를 들면 투과율이 80% 이상, 85% 이상 또는 90% 이상인 기재층으로서, 광학적으로 등방성인 기재층이거나, 위상지연층(retardation layer) 등과 같이 광학적으로 이방성인 기재층 등이 사용될 수 있다. 특별히 제한되는 것은 아니나, 기재층으로는 굴절률이 약 1.6 이하인 것을 사용할 수 있다.
광학적 등방성 기재층으로는, 유리 또는 투명 플라스틱 기재층 등과 같은 기재층이 사용될 수 있다. 플라스틱 기재층으로는, DAC(diacetyl cellulose) 또는 TAC(triacetyl cellulose) 기재층과 같은 셀룰로오스 기재층; 노르보르넨 유도체 수지 기재층 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 기재층; PMMA(poly(methyl methacrylate) 기재층 등의 아크릴 기재층; PC(polycarbonate) 기재층; PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene) 기재층 등과 같은 올레핀 기재층; PVA(polyvinyl alcohol) 기재층; PES(poly ether sulfone) 기재층; PEEK(polyetheretherketone) 기재층; PEI(polyetherimide) 기재층; PEN(polyethylenenaphthatlate) 기재층; PET(polyethyleneterephtalate) 기재층 등과 같은 폴리에스테르 기재층; PI(polyimide) 기재층; PSF(polysulfone) 기재층; PAR(polyarylate) 기재층 또는 플루오르수지 기재층 등이 예시될 수 있다. 상기 기재층은 예를 들면, 시트 또는 필름 형상일 수 있다.
광학적 이방성 기재층이 사용되는 경우에 상기 이방성 기재층으로는, 면상 위상차가 약 10 nm 이하인 기재층을 사용할 수 있다. 용어 「면상 위상차」는, 기재층 또는 액정층에 대하여 「(Nx-Ny)×d」로 계산되는 수치이다. 상기에서 Nx는, 기재층 또는 액정층의 x축 방향의 굴절률이고, Ny는 기재층 또는 액정층의 y축 방향의 굴절률이며, d는 기재층 또는 액정층의 두께이다.
상기에서 x축은, 예를 들면, 도 2에 나타난 바와 같이, 기재층 또는 액정층(200)의 면상의 어느 일 방향을 의미하고, y축은 상기 x축에 수직한 면상 방향을 의미할 수 있다. 또한, 도 2에서 z축은, 상기 x축과 y축에 의해 형성되는 평면(xy 평면)의 법선의 방향, 예를 들면 기재층 또는 액정층(200)의 두께 방향을 의미할 수 있다. 하나의 예시에서 상기 x축은 기재층 또는 액정층의 지상축(slow axis)과 평행한 방향이고, y축은 기재층 또는 액정층의 진상축(fast axis)과 평행한 방향일 수 있다.
광학 이방성 기재층이 사용되는 경우에, 상기 기재층의 광축은 제 1 액정층의 광축과 15도 또는 그 이상을 이루도록 액정 필름 내에 배치되는 것이 적절하다. 다른 예시에서 상기 액정 필름이 후술하는 바와 같이 반사형 편광판에 적용되는 경우에는, 상기 기재층의 광축은 반사형 편광판의 선형 편광자의 광 흡수축과 30도 또는 그 이내의 각도를 이루도록 할 수 있다. 용어 「광축」은, 이방성층의 지상축(slow axis) 또는 진상축(fast axis)을 의미하고, 특별히 달리 규정하지 않는 한 지상축을 의미할 수 있다.
광학 이방성 기재층으로는, 예를 들면, 위상 지연층이 사용될 수 있고, 위상 지연층으로는 1/4 파장층 또는 1/2 파장층 등이 예시될 수 있다. 용어 「n 파장층」은, 입사되는 광을 그 파장의 n배만큼 위상 지연시킬 수 있는 광학 소자를 의미할 수 있다. 위상 지연층은, 예를 들면, 액정 고분자층 또는 연신 또는 수축 공정 등에 의하여 복굴절성을 부여한 플라스틱 필름일 수 있다.
액정 필름의 제 1 액정층은, 위상 지연 특성을 가지는 위상 지연층일 수 있다. 예를 들면, 제 1 액정층은 1/4 파장층으로 작용할 수 있다.
제 1 액정층은, 중합성 액정 화합물을 포함할 수 있다. 제 1 액정층은, 예를 들면, 중합성 액정 화합물을 중합된 형태로 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 「중합성 액정 화합물」은, 액정성을 나타낼 수 있는 부위, 예를 들면, 메소겐(mesogen) 골격 등을 포함하고, 또한 중합성 관능기를 하나 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다. 「중합성 액정 화합물이 중합된 형태로 포함되어 있다는 것」은 상기 액정 화합물이 중합되어 액정층 내에서 액정 고분자의 주쇄 또는 측쇄와 같은 골격을 형성하고 있는 상태를 의미할 수 있다.
제 1 액정층은 또한 중합성 액정 화합물을 비중합된 상태로 포함하거나, 중합성 비액정 화합물, 안정제, 비중합성 비액정 화합물 또는 개시제 등의 공지의 첨가제를 추가로 포함하고 있을 수 있다.
하나의 예시에서 제 1 액정층은, 다관능성 중합성 액정 화합물과 단관능성 중합성 액정 화합물을 포함할 수 있다.
용어 「다관능성 중합성 액정 화합물」은, 상기 액정 화합물 중에서 중합성 관능기를 2개 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다. 하나의 예시에서 다관능성 중합성 액정 화합물은 중합성 관능기를 2개 내지 10개, 2개 내지 8개, 2개 내지 6개, 2개 내지 5개, 2개 내지 4개, 2개 내지 3개 또는 2개 포함할 수 있다. 또한, 용어 「단관능성 중합성 액정 화합물」은, 상기 액정 화합물 중에서 하나의 중합성 관능기를 포함하는 화합물을 의미할 수 있다.
다관능성 및 단관능성 중합성 화합물을 함께 사용하면, 제 1 액정층의 위상 지연 특성을 효과적으로 조절할 수 있고, 또한 구현된 위상 지연 특성, 예를 들면, 위상 지연층의 광축이나, 위상 지연값을 안정적으로 유지할 수 있다. 제 1 액정층은, 단관능성 중합성 액정 화합물을 다관능성 중합성 액정 화합물을 100 중량부 대비 0 중량부 초과 100 중량부 이하, 1 중량부 내지 90 중량부, 1 중량부 내지 80 중량부, 1 중량부 내지 70 중량부, 1 중량부 내지 60 중량부, 1 중량부 내지 50 중량부, 1 중량부 내지 30 중량부 또는 1 중량부 내지 20 중량부로 포함할 수 있다.
상기 범위 내에서 다관능성 및 단관능성 중합성 액정 화합물의 혼합 효과를 극대화할 수 있으며, 또한, 제 1 액정층이 상기 접착제층과 우수한 접착성을 나타내도록 할 수 있다. 본 명세서에서 특별히 달리 규정하지 않는 한, 단위 「중량부」는 중량의 비율을 의미할 수 있다.
제 1 액정층은, 하기 일반식 1의 조건을 만족할 수 있다.
[일반식 1]
X < 8%
일반식 1에서 X는 제 1 액정층의 초기 위상차 수치 대비 제 1 액정층 또는 상기 액정 필름을 80℃에서 100시간 또는 250 시간 동안 방치한 후의 제 1 액정층의 위상차 수치의 변화량의 절대값의 백분율이다.
제 1 액정층의 위상차 수치의 변화량의 절대값의 백분율(X)은, 「100×(|R0-R1|)/R0」로 계산될 수 있다. 상기에서 R0는 제 1 액정층의 초기 위상차 수치이고, R1은 제 1 액정층 또는 상기 액정 필름을 80℃에서 100시간 또는 250 시간 동안 방치한 후의 제 1 액정층의 위상차 수치를 의미한다.
제 1 액정층의 위상차 수치의 변화량의 절대값의 백분율(X)은, 예를 들어, 7% 이하, 6% 이하 또는 5% 이하일 수 있다. 상기 위상차 수치의 변화량은 하기 실시예에서 제시된 방법으로 측정할 수 있다.
하나의 예시에서 다관능성 또는 단관능성 중합성 액정 화합물은, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112012062715749-pat00001
화학식 1에서 A는 단일 결합,-COO- 또는 -OCO-이고, R1 내지 R10은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기, 니트로기, -O-Q-P 또는 하기 화학식 2의 치환기이거나, R1 내지 R5 중 인접하는 2개의 치환기의 쌍 또는 R6 내지 R10 중 인접하는 2개의 치환기의 쌍은 서로 연결되어 -O-Q-P로 치환된 벤젠을 형성하되, R1 내지 R10 중 적어도 하나는 -O-Q-P 또는 하기 화학식 2의 치환기이거나, R1 내지 R5 중 인접하는 2개의 치환기 또는 R6 내지 R10 중 인접하는 2개의 치환기 중 적어도 하나의 쌍은 서로 연결되어 -O-Q-P로 치환된 벤젠을 형성하고, 상기에서 Q는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이며, P는, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기 등의 중합성 관능기이다.
[화학식 2]
Figure 112012062715749-pat00002
화학식 2에서 B는 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이고, R11 내지 R15는, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기, 니트로기 또는 -O-Q-P이거나, R11 내지 R15 중 인접하는 2개의 치환기의 쌍은 서로 연결되어 -O-Q-P로 치환된 벤젠을 형성하되, R11 내지 R15 중 적어도 하나가 -O-Q-P이거나, R11 내지 R15 중 인접하는 2개의 치환기의 쌍은 서로 연결되어 -O-Q-P로 치환된 벤젠을 형성하고, 상기에서 Q는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이며, P는, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기 등의 중합성 관능기이다.
화학식 1 및 2에서 인접하는 2개의 치환기가 서로 연결되어 -O-Q-P로 치환된 벤젠을 형성한다는 것은, 인접하는 2개의 치환기가 서로 연결되어 전체적으로 -O-Q-P로 치환된 나프탈렌 골격을 형성하는 것을 의미할 수 있다.
화학식 2에서 B의 좌측의 "-"는 B가 화학식 1의 벤젠에 직접 연결되어 있음을 의미할 수 있다.
화학식 1 및 2에서 용어 「단일 결합」은, A 또는 B로 표시되는 부분에 별도의 원자가 존재하지 않는 경우를 의미한다. 예를 들어, 화학식 1에서 A가 단일 결합인 경우, A의 양측의 벤젠이 직접 연결되어 비페닐(biphenyl) 구조를 형성할 수 있다.
화학식 1 및 2에서 할로겐으로는, 예를 들면, 염소, 브롬 또는 요오드 등이 예시될 수 있다.
본 명세서에서 용어 「알킬기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 예를 들면, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기를 의미하거나, 또는, 예를 들면, 탄소수 3 내지 20, 탄소수 3 내지 16 또는 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기를 의미할 수 있다. 상기 알킬기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.
본 명세서에서 용어 「알콕시기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 예를 들면, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시기를 의미할 수 있다. 상기 알콕시기는, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알콕시기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.
또한, 본 명세서에서 용어 「알킬렌기」 또는 「알킬리덴기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 예를 들면, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 4 내지 10 또는 탄소수 6 내지 9의 알킬렌기 또는 알킬리덴기를 의미할 수 있다. 상기 알킬렌기 또는 알킬리덴기는, 예를 들면, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알킬렌기 또는 알킬리덴기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.
또한, 본 명세서에서 「알케닐기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 예를 들면, 탄소수 2 내지 20, 탄소수 2 내지 16, 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 알케닐기를 의미할 수 있다. 상기 알케닐기는, 예를 들면, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알케닐기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.
또한, 화학식 1 및 2에서 P는, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이거나, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기일 수 있고, 다른 예시에서는 아크릴로일옥시기일 수 있다.
본 명세서에서 특정 관능기에 치환되어 있을 수 있는 치환기로는, 알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 에폭시기, 옥소기, 옥세타닐기, 티올기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 또는 아릴기 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
화학식 1 및 2에서 적어도 하나 이상 존재할 수 있는 -O-Q-P 또는 화학식 2의 잔기는, 예를 들면, R3, R8 또는 R13의 위치에 존재할 수 있다. 또한, 서로 연결되어 -O-Q-P로 치환된 벤젠을 구성하는 치환기는, 예를 들면, R3 및 R4이거나, 또는 R12 및 R13일 수 있다. 또한, 상기 화학식 1의 화합물 또는 화학식 2의 잔기에서 -O-Q-P 또는 화학식 2의 잔기 이외의 치환기 또는 서로 연결되어 벤젠을 형성하고 있는 치환기 외의 치환기는 예를 들면, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알콕시기를 포함하는 알콕시카보닐기, 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기일 수 있으며, 다른 예시에서는 염소, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알콕시기를 포함하는 알콕시카보닐기 또는 시아노기일 수 있다.
중합성 액정 화합물은 수평 배향된 상태로 제 1 액정층에 포함되어 있을 수 있다. 하나의 예시에서 중합성 액정 화합물은, 수평 배향 상태로 중합되어 제 1 액정층에 포함되어 있을 수 있다. 용어 「수평 배향」은, 제 1 액정층의 광축이 제 1 액정층의 평면에 대하여 약 0도 내지 약 25도, 약 0도 내지 약 15도, 약 0도 내지 약 10도, 약 0도 내지 약 5도 또는 약 0도의 경사각을 가지는 경우를 의미할 수 있다.
제 1 액정층은, 면내 지상축 방향의 굴절률과 면내 진상축 방향의 굴절률의 차이가 0.05 내지 0.2, 0.07 내지 0.2, 0.09 내지 0.2 또는 0.1 내지 0.2의 범위일 수 있다. 면내 지상축 방향의 굴절률은, 제 1 액정층의 평면에서 가장 높은 굴절률을 나타내는 방향의 굴절률을 의미하고, 진상축 방향의 굴절률은, 제 1 액정층의 평면상에서 가장 낮은 굴절률을 나타내는 방향의 굴절률을 의미할 수 있다. 상기 각각의 굴절률은, 550 nm 또는 589 nm의 파장의 광에 대하여 측정한 굴절률일 수 있다. 상기 굴절률의 차이는, 예를 들면, Axomatrix사의 Axoscan을 이용하여 제조사의 매뉴얼에 따라 측정할 수 있다. 제 1 액정층은 또한, 두께가 약 0.5㎛ 내지 2.0㎛ 또는 약 0.5㎛ 내지 1.5㎛일 수 있다.
상기 굴절률의 관계와 두께를 가지는 제 1 액정층은, 적용되는 용도에 적합한 위상 지연 특성, 예를 들면, 1/4 파장판으로의 특성을 구현할 수 있다.
예시적인 액정 필름은 기재층과 제 1 액정층의 사이에 배향층을 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 1를 참조하면, 액정 필름(100)은, 기재층(101)과 제 1 액정층(102)의 사이에 추가적인 층으로서 배향층을 포함할 수 있다. 배향층은, 액정 필름의 형성 과정에서 액정 화합물을 배향시키는 역할을 하는 층일 수 있다. 배향층으로는, 이 분야에서 공지되어 있는 통상의 배향층, 예를 들면, 나노 임프린팅 등의 임프린팅(imprinting) 방식으로 형성된 배향층, 광배향층 또는 러빙 배향층 등이 사용될 수 있다. 배향층은 임의적인 구성이며, 경우에 따라서는, 기재층을 직접 러빙하거나 연신하는 방식으로 배향층 없이 배향성을 부여할 수도 있다.
기재층의 다른 면에는 제 2 액정층이 형성된다. 제 2 액정층은, 콜레스테릭 콜레스테릭 배향된 액정 영역(이하, CLC 영역)을 포함하는 소위 콜레스테릭 액정층이다. 제 2 액정층은 단일층일 수 있다. 제 2 액정층이 단일층이라는 것은, 2개 이상의 제 2 액정층을 적층 또는 부착시켜서 형성되거나, 액정 조성물을 복수 회 코팅하여 형성되는 층은 제외되는 의미일 수 있다.
CLC 영역은 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 액정 영역을 포함할 수 있다.
제 2 액정층은, CLC 영역을 포함한다. 도 3을 참조하면, 콜레스테릭 액정(이하, CLC)은, 액정 분자의 도파기(도 3의 n)가 나선축(도 3의 X)을 따라 꼬이면서 층을 이루며 배향한 나선형의 구조를 가진다. CLC의 구조에서 액정 분자의 도파기가 360도의 회전을 완성하기까지의 거리(도 3의 P)를 「피치(pitch)」라고 호칭한다. 용어 「액정 영역 또는 CLC 영역」은, CLC의 도파기가 360도의 회전을 완성하고 있는 CLC 영역을 의미할 수 있다. 본 명세서에서 각 CLC 영역은, 예를 들면, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장에 따라 구분될 수 있다.
CLC는 원형 편광의 광을 선택적으로 반사시킬 수 있다. CLC에 의해 반사되는 광의 파장은 액정의 굴절율 및 피치에 의존한다. CLC 도파기의 나선형 뒤틀림은 재료의 유전체 텐서에서 공간적으로 주기적인 변형을 가져오고, 이것은 광의 파장 선택적 반사를 일으킨다. 일반적으로 CLC에서는 나선 축을 따라 전파되는 광에 대하여, 파장 λ가 하기 일반식 1의 범주일 때 브래그(Bragg) 반사가 일어난다.
[일반식 1]
NoP < λ < NeP
일반식 1에서, P는 CLC 영역의 피치이고, Ne는 CLC의 도파기에 대해 평행하게 편광된 광에 대한 CLC의 굴절율을 나타내며, No은 CLC의 도파기에 수직으로 편광된 광에 대한 CLC의 굴절율을 나타낸다.
CLC에 의해 반사되는 광, 즉 반사광의 파장 범위의 중심 파장 λ0는 하기 일반식 2에 의해 근사될 수 있다.
[일반식 2]
λo = 0.5(No+Ne)P
일반식 2에서, P, Ne 및 No은 상기 일반식 1에서 정의된 바와 같다.
CLC에 의해 반사되는 광의 스펙트럼 폭 △λ0은 하기 일반식 3에 의해 근사될 수 있다.
[일반식 3]
△λ0 =2λo(Ne-No)/(No+Ne) = P(Ne-No)
일반식 3에서, P, Ne 및 No은 상기 일반식 1에서 정의된 바와 같다
제 2 액정층은 2종류 이상의 CLC 영역을 포함한다. 2종류 이상의 CLC 영역은 각각 반사할 수 있는 광, 즉 반사광의 중심 파장이 서로 상이하다.
하나의 예시에서 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 CLC 영역은, 서로 상이한 범위의 피치를 가질 수 있다. 하나의 예시에 따라서 단일층의 제 2 액정층 내에 2종류 이상의 CLC 영역이 포함되면, 제 2 액정층을 얇게 구성하면서도, 제 2 액정층에 의한 선택적 반사 특성을 넓은 파장 범위에서 활용할 수 있다. 상기 단일층이면서 2종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 제 2 액정층은 광대역 CLC층이라고 호칭할 수 있다.
제 2 액정층에서 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 CLC 영역의 배치는 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 상기 CLC 영역들은 제 2 액정층의 일 측에서 다른 측까지 각 영역의 반사광의 중심 파장이 순차적으로 길어지거나 또는 짧아지도록 배치되어 있거나, 혹은 상기 중심 파장이 길어지다가 다시 짧아지도록 배치되거나, 혹은 짧아지다가 다시 길어지도록 배치되거나, 혹은 불규칙적으로 상기 중심 파장이 변화하도록 배치되어 있을 수 있다. 하나의 예시에서 제 2 액정층에 포함되는 CLC가 동일한 종류의 화합물이면, CLC 영역의 피치는 각 CLC 영역이 상기와 같은 반사광의 중심 파장을 나타내도록 변화할 수 있다.
제 2 액정층에서는, 제 2 액정층의 하나의 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 가시 광선의 적색(red)광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되고, 제 2 액정층의 다른 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 청색(blue)광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되면서, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장이 제 2 액정층의 두께 방향을 따라서 순차적으로 변화하도록 상기 영역들이 배치되어 있을 수 있다. 일 예시에서 반사광의 중심 파장이 청색광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되는 주표면이 액정 필름의 기재층과 접하건, 혹은 반사광의 중심 파장이 적색광에 속하는 CLC 영역이 배치되는 주표면이 기재층과 접할 수 있다.
본 명세서에서 용어 「제 2 액정층의 두께 방향」은, 상기 제 2 액정층의 하나의 주표면과 그와 대향하는 주표면을 최단거리로 연결하는 가상의 선과 평행한 방향을 의미할 수 있다. 예를 들면, 제 2 액정층의 두께 방향은, 제 2 액정층이 형성되어 있는 기재층의 면과 수직한 방향으로 형성된 가상의 선과 평행한 방향일 수 있다. 또한, 본 명세서에서 각도를 정의하면서, 수직, 평행, 직교 또는 수평 등의 용어를 사용하는 경우, 이는 목적하는 효과를 손상시키지 않는 범위에서의 실질적인 수직, 평행, 직교 또는 수평을 의미하는 것으로, 예를 들면, 제조 오차(error) 또는 편차(variation) 등을 감안한 오차를 포함하는 것이다. 예를 들면, 상기 각각의 경우는, 약 ±15도 이내의 오차, 약 ±10도 이내의 오차 또는 약 ±5도 이내의 오차를 포함할 수 있다.
도 4는, 제 2 액정층(4)을 추상적으로 도식한 모식도로서, 제 2 액정층(4)의 하나의 주표면(41)측으로부터 다른 주표면(42)측 방향으로 반사광의 중심 파장이 적색(Red)광의 범주에 속하는 CLC 영역(433), 녹색(Green)광의 범주에 속하는 CLC 영역(432) 및 청색(Blue)광의 범주에 속하는 CLC 영역(431)이 순차적으로 배치된 예시를 나타낸다. 도 4에서 예를 들면, 반사광의 중심 파장이 청색광의 범주에 속하는 CLC 영역(431)이 인접하여 배치되는 표면(41) 또는 반사광의 중심 파장이 적색광의 범주에 속하는 CLC 영역(433)이 인접하여 배치되는 표면(42)이 액정 필름의 기재층과 접할 수 있다.
하나의 예시에서 제 2 액정층은, 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 내지 700 nm인 제 3 영역을 적어도 포함할 수 있다. 하나의 예시에서 제 1 내지 제 3 영역은, 제 2 액정층의 두께 방향을 따라서 각 영역의 반사광의 중심 파장이 순차적으로 변화하도록 배치될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. CLC 영역의 반사광의 중심 파장은, 공지되어 있는 방식에 따라서 측정할 수 있다.
하나의 예시에서 제 2 액정층은, 액정 분자의 도파기의 나선축이 상기 제 2 액정층의 두께 방향과 평행하지 않도록 형성되어 있는 CLC 영역을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제 2 액정층은, 상기 나선축이 상기 두께 방향과 평행하도록 형성되어 있는 CLC 영역과 상기 나선축이 상기 두께 방향과 평행하지 않은 방향으로 형성되어 있는 CLC 영역을 포함할 수 있다.
CLC 영역의 나선축의 배치를 도 5를 참조하여 예시적으로 설명하면, 하기와 같다.
통상적으로 CLC 영역은 나선형으로 회전하고 있는 CLC 분자를 포함하고, CLC 분자의 도파기, 예를 들면, CLC 분자의 장축의 나선축은 제 2 액정층의 두께 방향에 대하여 평행하게 되도록 정렬하게 된다. CLC 영역은, 도 5의 A에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이, 제 2 액정층의 두께 방향(31)과 평행하게 배향되는 것이 일반적이다. 도 5에서 두께 방향(31)과 수직한 방향(32)은, 예를 들면, 기재층의 면 방향을 의미할 수 있다. 본 명세서에서 상기와 같이 나선축이 제 2 액정층의 두께 방향과 평행한 상태로 배향되어 있는 CLC 영역은, 플래너(planar) 배향된 CLC 영역으로 호칭될 수 있다.
CLC의 배향 조건이나, 혹은 CLC가 형성되는 기재층의 면의 특성에 따라서는, 상기 CLC 분자의 도파기의 나선축의 방향이 상기 제 2 액정층의 두께 방향과는 평행하지 않은 방향으로 정렬할 수 있다. 예를 들면, 도 5의 B에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이 제 2 액정층의 두께 방향(31)과 수직한 방향으로 배향하거나, 도 5의 C에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이 제 2 액정층의 두께 방향(31)과 수직 및 평행한 방향 이외의 방향을 이루면서 배향이 이루어질 수 있다. 본 명세서에서는 상기 나선축이 제 2 액정층의 두께 방향과 수직한 상태로 배향되어 있는 CLC 영역은, 호메오트로픽(homeotropic) 배향된 CLC 영역으로 호칭되고, 나선축이 제 2 액정층의 두께 방향과 수직 및 평행한 방향 이외의 방향으로 배향한 상태의 CLC 영역은, 포컬 코틱(focal conic) 배향된 CLC 영역으로 호칭될 수 있다.
통상적인 방식으로 형성된 제 2 액정층 내에서 CLC 영역은 나선축이 제 2 액정층의 두께 방향과 평행을 이루면서 배향된다. 그렇지만, 액정 필름의 제 2 액정층에는, 인위적으로 나선축이 제 2 액정층의 두께 방향과 평행 이외의 방향으로 형성되는 CLC 영역을 포함시킬 수 있다. 나선축이 제 2 액정층의 두께 방향과 평행 이외의 방향으로 형성되는 CLC 영역은, 액정 필름의 헤이즈를 조절할 수 있다.
호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역의 제 2 액정층 내에서의 양이나 위치 내지는 분포 상태 또는 포컬 코닉 배향에서 나선축이 제 2 액정층의 두께 방향과 이루는 각도 등은 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 호메오트로픽 또는 포컬 코틱 배향된 CLC 영역은, 액정 필름이 후술하는 범위의 헤이즈를 가지도록 형성되어 배치되어 있을 수 있다.
호메오트로픽 또는 포컬 코틱 배향된 CLC 영역은, 예를 들면, 후술하는 바와 같이, 제 2 액정층이 형성되는 면의 표면 특성을 조절하거나, 혹은 CLC의 배향 조건을 적절하게 설정함으로써 형성시킬 수 있다.
하나의 예시에서 제 2 액정층은 액정 고분자를 포함할 수 있다. 예시적인 제 2 액정층의 제조 방법은, 중합성 액정 화합물 및 중합성 또는 비중합성인 키랄제(chiral agent)를 포함하는 조성물을 코팅하고, 상기 키랄제에 의해 액정 화합물의 나선 피치를 유도한 상태로 상기 조성물을 중합시켜서 형성할 수 있고, 이 경우, 제 2 액정층은 중합된 액정 고분자를 포함할 수 있다.
예를 들면, 제 2 액정층은, 상기 제 1 액정층에서 기술한 것과 같은 중합성 액정 화합물을 중합된 형태로 포함할 수 있다. 이러한 중합성 액정 화합물은, 제 2 액정층의 형성 과정에서 사용되는 키랄제에 의해 나선 피치가 유도된 상태에서 중합될 수 있다.
제 2 액정층에 포함될 수 있는 키랄제(chiral agent)로는, 액정성, 예를 들면, 네마틱 규칙성을 손상시키지 않고, 목적하는 나선 피치를 유발할 수 있는 것이라면, 특별히 제한되지 않고 사용될 수 있다. 액정에 나선 피치를 유발하기 위한 키랄제는 분자 구조 중에 키랄리티(chirality)를 적어도 포함할 필요가 있다. 키랄제로는, 예를 들면, 1개 또는 2개 이상의 비대칭 탄소(asymmetric carbon)를 가지는 화합물, 키랄 아민 또는 키랄 술폭시드 등의 헤테로원자 상에 비대칭점(asymmetric point)이 있는 화합물 또는 크물렌(cumulene) 또는 비나프톨(binaphthol) 등의 축부제를 가지는 광학 활성인 부위(axially asymmetric, optically active site)를 가지는 화합물이 예시될 수 있다. 키랄제는 예를 들면 분자량이 1,500 이하인 저분자 화합물일 수 있다. 키랄제로는, 시판되는 키랄 네마틱 액정, 예를 들면, Merck사에서 시판되는 키랄 도판트 액정 S-811 또는 BASF사의 LC756 등을 사용할 수도 있다.
제 2 액정층은, 예를 들면, 3 ㎛ 내지 8 ㎛ 또는 4 ㎛ 내지 6 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 제 2 액정층의 두께를 상기 범위로 제어하여, 광대역 제 2 액정층을 효과적으로 구현하고, 필요한 경우 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배항된 CLC 영역을 효과적으로 형성할 수 있다.
액정 필름은, 기재층과 제 2 액정층의 사이에 배향막을 추가로 포함할 수 있다. 배향막은, 제 2 액정층이 형성되는 과정에서 정렬 균일성을 개선 또는 제공하거나, 액정의 도파기의 정렬을 생성하는 표면 정렬 특성을 나타내는 층일 수 있다. 배향막은, 예를 들면, 패턴화되어 있는 복수의 홈 영역을 제공하는 수지막, 광배향막 또는 러빙 처리되어 있는 폴리이미드 등과 같은 러빙 처리막 등일 수 있고, 이러한 배향막은 예를 들면, 기재층에 제 2 액정층이 형성되는 표면상에 형성될 수 있다. 경우에 따라서는, 별도의 배향막을 형성하지 않고, 기재층을 단순히 러빙 또는 연신하거나, 그 표면에 친수성을 부여함으로써 기재층에 배향성을 부여하는 방식을 사용할 수도 있다. 예를 들어, 기재층이 후술하는 범위의 젖음각을 가진다면, 배향막이 없이도 기재층은, CLC의 배향이나 CLC 영역의 나선축의 위치를 목적하는 범위로 제어할 수 있는 특성을 나타낼 수도 있다.
액정 필름은, 예를 들면, 헤이즈(haze)가 5% 이상, 10% 이상 또는 15% 이상일 수 있다. 헤이즈는, 액정 필름이 적용되는 용도에 따라서 가장 적합한 효과를 발휘하도록 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 액정 필름이 후술하는 바와 같이 반사형 편광판에 포함되면, 상기 헤이즈의 범위에서 상기 액정 필름은, 입사되는 광을 적절하게 산란 및/또는 확산시켜 장치가 우수한 휘도 특성을 나타낼 수 있다. 또한, 상기 헤이즈의 범위에서 상기 액정 필름은 광원의 색좌표를 효과적으로 재현할 수 있다. 상기 액정 필름의 헤이즈는, 예를 들면, 세풍사의 HR-100 또는 HM-150 등과 같은 헤이즈미터(hazemeter)를 사용하여 제조사의 매뉴얼에 따라 측정할 수 있다. 상기 액정 필름의 헤이즈의 상한은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 30%, 25% 또는 20% 정도일 수 있다.
액정 필름의 헤이즈는, 예를 들면, 전술한 바와 같이 제 2 액정층 내에서 콜레스테릭 배향된 액정 영역의 배향 상태를 조절하거나, 또는 헤이즈층(haze layer)을 필름의 적절한 위치에 포함시킴으로써 조절할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
예를 들어, 액정 필름은, 헤이즈층을 추가로 포함할 수 있다. 용어 헤이즈층에는 액정 필름에 적절한 헤이즈를 부여할 수 있는 공지된 모든 층이 포함될 수 있다. 헤이즈층은, 필요에 따라서 적절한 위치에 형성될 수 있고, 예를 들면, 제 1 또는 제 2 액정층의 외면이나, 제 1 또는 제 2 액정층과 기재층의 사이에 형성될 수 있다.
헤이즈층은, 입자를 포함하는 수지층일 수 있고, 상기에서 입자는 수지층과 상이한 굴절률을 가질 수 있다. 굴절률이 상이한 입자를 포함하는 수지층은, 입사되는 광을 산란 및/또는 확산시켜서 액정 필름의 헤이즈를 조절할 수 있다. 하나의 예시에서 수지층에 포함되는 입자는, 수지층과는 상이한 굴절률을 가질 수 있다. 상기 입자는, 예를 들면, 수지층과의 굴절률의 차이가 0.03 이하 또는 0.02 내지 0.2일 수 있다. 굴절률의 차이가 지나치게 작으면, 헤이즈를 유발하기 어렵고, 반대로 지나치게 크게 되면, 수지층 내에서의 산란이 많이 발생하여, 헤이즈를 증가시키지만, 광투과도 또는 콘트라스트 특성 등의 저하가 유도될 수 있으므로, 이를 고려하여 적절한 입자를 선택할 수 있다. 상기 수지층은, 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물을 경화된 상태로 포함할 수 있다. 용어 「경화된 상태」란, 조성물에 포함되는 성분들이 가교 반응 또는 중합 반응 등을 거친 후의 상태를 의미할 수 있다. 또한, 상기 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물은, 상기 경화된 상태가 각각 상온 또는 습기의 존재 하, 열 또는 활성 에너지선의 조사에 의하여 유도되거나, 또는 상기 중 2개 이상의 메커니즘이 동시 또는 순차로 작용하여 경화되는 조성물을 의미할 수 있다. 또한, 상기에서 활성 에너지선은, 예를 들면, 자외선 또는 전자선 등과 같은 전자기파를 의미할 수 있다.
상기 조성물은, 아크릴 화합물, 에폭시 화합물, 우레탄 화합물, 페놀 화합물 또는 폴리에스테르 화합물 등을 포함할 수 있다. 상기 「화합물」은, 단량체성, 올리고머성 또는 중합체성 화합물일 수 있다.
하나의 예시에서는, 상기 수지층은, 투명성 등의 광학 특성이 우수하고, 황변 등에 대한 저항성이 있는 아크릴 조성물, 바람직하게는 활성에너지선 경화형 아크릴 조성물을 경화된 상태로 포함할 수 있다.
또한, 예를 들면, 상기 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역들을 형성시키기 위하여, 기재층의 제 2 액정층이 형성되는 면은 친수성일 수 있다. 하나의 예시에서 기재층의 제 2 액정층이 형성되는 면은, 물에 대한 젖음각(wetting angle)이 0도 내지 50도, 0도 내지 40도, 0도 내지 30도, 0도 내지 20도 또는 0도 내지 10도이거나, 10도 내지 50도, 20도 내지 50도, 30도 내지 50도 정도일 수 있다. 이러한 범위의 젖음각을 가지는 기재층의 면에 제 2 액정층을 형성하면, 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역들을 적절하게 형성할 수 있다. 기재층의 물에 대한 젖음각을 측정하는 방식은 특별히 제한되지 않고, 이 분야에서 공지되어 있는 젖음각의 측정 방식을 사용할 수 있으며, 예를 들면, KRUSS사제의 DSA100 기기를 사용하여, 제조사의 매뉴얼에 따라 측정할 수 있다.
기재층이 상기 젖음각을 가지도록 하기 위해서는, 기재층의 면에 친수화 처리를 수행하거나, 또는 기재층으로서 친수성 관능기를 포함하는 기재층을 사용하면 된다. 이 분야에서는 기재층의 젖음각을 상기 범위로 제어할 수 있는 다양한 친수화 처리 방식이나, 상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층이 다양하게 공지되어 있다. 친수화 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리 또는 알칼리 처리 등이 예시될 수 있다. 따라서, 하나의 예시에서 상기 기재층의 면에는 코로나 처리층, 플라즈마 처리층 또는 알칼리 처리층이 형성되어 있을 수 있다.
본 출원은, 또한 액정 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법은, 예를 들면, 기재층의 일면에 상기 제 1 액정층을 형성하고, 다른 면에는 상기 제 2 액정층을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기에서 제 1 및 제 2 액정층의 형성 순서는 특별히 제한되지 않으며, 필요한 경우에 적절하게 변경될 수 있다.
제 1 액정층은, 예를 들면, 기재층상에 배향층을 형성하고, 상기 배향층상에 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물의 도포층을 형성하며, 상기 액정 조성물을 배향시킨 상태에서 중합시켜서 액정층을 형성하는 방식으로 제조할 수 있다. 배향층은 예를 들면, 기재층에 폴리이미드 등의 고분자막을 형성하고 러빙 처리하거나, 광배향성 화합물을 코팅하고, 직선 편광의 조사 등을 통하여 배향 처리하는 방식 또는 나노 임프린팅 방식 등과 같은 임프린팅 방식으로 형성할 수 있다. 이 분야에서는, 목적하는 배향 패턴을 고려하여, 배향층을 형성하는 다양한 방식이 공지되어 있다. 액정 조성물의 도포층은, 조성물을 공지의 방식으로 기재층의 배향층상에 코팅하여 형성할 수 있다. 도포층의 하부에 존재하는 배향층의 배향 패턴에 따라서 배향시킨 후에 중합시켜서 액정층을 형성할 수 있다.
제 2 액정층은 중합성 액정 화합물 및 키랄제를 포함하는 CLC 조성물을 도포하고, 상기 액정 화합물을 중합시켜 제조할 수 있다.
용어 「CLC 조성물」은, 목적하는 패턴으로 액정 영역을 포함하는 제 2 액정층을 형성하기 위하여 사용될 수 있는 모든 종류의 조성물이 포함될 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 조성물은, CLC 화합물, CLC 중합체 또는 CLC 중합체를 형성하기 위해 반응할 수 있는 단량체 또는 올리고머 등과 같은 저분자량 화합물을 포함할 수 있다. 또한, CLC 조성물은 하나 이상의 다른 첨가제, 예를 들어 가교제나 중합 개시제 등을 포함할 수 있다. 단량체 또는 기타 저 분자량 화합물의 중합 또는 가교를 개시하기 위하여 중합 개시제가 CLC 조성물 내에 포함될 수 있다. 적절한 중합 개시제는 중합 또는 가교를 개시하고 전파하기 위해 자유 라디칼을 발생시킬 수 있는 것을 포함한다. 자유 라디칼 개시제는 예를 들어 안정성 또는 반감기에 따라 선택될 수 있다. 바람직하게는, 자유 라디칼 개시제는 흡수 또는 다른 방식에 의해 CLC 층에서 추가의 색을 발생하지 않는다. 자유 라디칼 개시제는 전형적으로 열적 자유 라디칼 개시제 또는 광개시제이다. 열적 자유 라디칼 개시제는 예를 들어 퍼옥시드, 퍼술페이트 또는 아조니트릴 화합물을 포함한다. 자유 라디칼 개시제는 열적 분해시에 자유 라디칼을 생성한다.
전자기 복사선 또는 입자 조사에 의해 광개시제가 활성화될 수 있다. 적절한 광개시제의 예는 오늄 염 광개시제, 유기 금속 광개시제, 양이온성 금속 염 광개시제, 광분해가능한 유기실란, 잠재성 술폰산, 포스핀 옥시드, 시클로헥실 페닐케톤, 아민 치환된 아세토페논 및 벤조페논을 포함할 수 있다. 일반적으로, 다른 광원들이 사용될 수 있긴 하지만 광개시제를 활성화시키기 위해 자외선(UV) 조사가 사용될 수 있다. 광개시제는 광의 특정 파장의 흡수를 기초로 하여 선택될 수 있다.
CLC 조성물은 전형적으로 하나 이상의 용매를 포함하는 코팅 조성물의 일부일 수 있다. 코팅 조성물은 예를 들어 분산제, 산화방지제 및 오존발생방지제를 포함할 수 있다. 추가로, 코팅 조성물은 원한다면 자외선, 적외선 또는 가시광선을 흡수하기 위해 다양한 염료 및 안료를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 증점제 및 충진제와 같은 점도 개질제를 첨가하는 것이 적절할 수 있다.
CLC 조성물은 각종 액체 코팅 방법에 의해 상기 기재층에 적용될 수 있다. 일부 구현 양태에서, 코팅 후에, CLC 조성물은 제 2 액정층으로 중합되거나 전환된다. 이러한 전환은, 용매의 증발, CLC 물질을 정렬하기 위한 가열; CLC 조성물의 가교; 또는 예를 들어 화학선(actinic) 조사와 같은 열의 인가; 자외선, 가시광선 또는 적외선 등의 광의 조사 및 전자 빔의 조사, 또는 이들의 조합 또는 유사한 기술을 사용한 CLC 조성물의 경화를 포함한 다양한 기술에 의해 달성될 수 있다.
하나의 예시에서 CLC 조성물은 상기 화학식 1의 중합성 액정 화합물, 광개시제 및 키랄제를 포함할 수 있다.
광개시제는, 화학식 1의 화합물의 중합 또는 가교를 개시시키기 위한 것으로, 상기 화합물과의 상용성에 문제가 없는 한, 이 분야에서 공지된 일반적인 성분을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 광개시제로는, 예를 들면, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로파논(2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-(4-morpholinyl)-1-propanone), 2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 (2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one), 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤(1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone), 트리아릴 술포늄 헥사플루오로안티모네이트염(Triaryl sulfonium hexafluoroantimonate salts) 및 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드(diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide) 등에서 선택되는 1종 또는 2종 이상이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. CLC 조성물은, 상기 광개시제를 상기 화학식 1의 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 내지 10 중량부의 비율로 포함할 수 있다. 광개시제의 함량을 상기와 같이 조절함으로써, 액정 화합물의 효과적인 중합 및 가교를 유도하고, 중합 및 가교 후에 잔존 개시제에 의한 물성 저하를 방지할 수 있다. 본 명세서에서 단위 중량부는 특별히 달리 규정하지 않는 한, 각 성분의 중량의 비율을 의미할 수 있다.
키랄제로는, 예를 들면, 전술한 종류의 화합물이 사용될 수 있다. CLC 조성물은, 키랄제를 상기 화학식 1의 화합물 100 중량부에 대하여 1 중량부 내지 10 중량부의 비율로 포함할 수 있다. 키랄제의 함량을 상기와 같이 조절함으로써, CLC의 효과적인 비틀림을 유도할 수 있다.
CLC 조성물은 필요에 따라서 용매를 추가로 포함할 수 있다. 용매로는, 예를 들면, 클로로포름, 디클로로메탄, 테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메톡시 벤젠, 1,2-디메톡시벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 사이클로펜타논 등의 알코올류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 디에틸렌글리콜 디메틸에테르(DEGDME), 디프로필렌글리콜 디메틸에테르(DPGDME)등의 에테르류 등을 들 수 있다. 또한, 상기 용매의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 코팅 효율이나 건조 효율 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.
CLC 조성물은, 계면 활성제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 계면 활성제는 액정 표면에 분포하여 표면을 고르게 만들어 줄 뿐만 아니라, 액정 배향을 안정화시켜 제 2 액정층의 형성 후에 필름 표면이 매끄럽게 유지할 수 있도록 하며, 그 결과 외관 품질을 향상시킬 수 있다.
계면 활성제로는, 예를 들면, 플루오르 카본 계열의 계면 활성제 및/또는 실리콘 계열의 계면 활성제가 사용될 수 있다. 플루오르 카본 계열의 계면활성제로는 3M사 제조 제품인 플루오라드(Fluorad) FC4430™, 플루오라드 FC4432™, 플루오라드 FC4434™와 Dupont사 제조 제품인 조닐(Zonyl)등이 사용될 수 있고, 실리콘 계열의 계면활성제로는 BYK-Chemie사 제조 제품인 BYK™등이 사용될 수 있다. 계면 활성제의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 코팅 효율이나 건조 효율 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.
CLC 조성물을 도포한 후에, 예를 들면, 상기 조성물 내에 액정 화합물의 CLC 배향이 유도된 상태에서, 상기 조성물의 성분들을 중합시켜서 제 2 액정층을 형성할 수 있다.
제 2 액정층의 형성은, CLC 조성물의 도포층에 상대적으로 약한 자외선을 조사하여 키랄제의 농도 구배를 형성하고, 농도 구배가 형성되어 있는 도포층에 상대적으로 강한 자외선을 조사하여, 조성물의 성분들을 중합시키는 것을 포함할 수 있다. 이와 같은 방식으로, 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 단일층의 제 2 액정층을 효과적으로 형성할 수 있다.
CLC 조성물의 도포층에 상대적으로 약한 강도의 자외선을 소정 온도에서 조사하는 경우, 도포층 내에서 키랄제의 농도 구배, 즉 도포층 내에서 소정 방향을 따라서 키랄제의 농도의 변화를 유도할 수 있다. 하나의 예시에서 상기 키랄제의 농도 구배는 도포층의 두께 방향을 따라서 형성되어 있을 수 있다. 키랄제의 농도 구배를 형성한 자외선의 조사는, 예를 들면, 40℃ 내지 80℃, 50℃ 내지 70℃ 또는 약 60℃ 전후의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 또한, 상기 농도 구배의 형성을 위한 자외선의 조사는 자외선 A 영역의 자외선을 약 10 mJ/cm2 내지 500 mJ/cm2의 광량으로 조사하여 수행될 수 있다.
상기와 같은 방식으로 농도 구배를 형성한 후, 조성물의 성분을 중합시키기에 충분한 양의 자외선을 조사하여 제 2 액정층을 형성할 수 있다. 상기 자외선 조사에 의하여 도포층은 형성된 키랄제의 농도 구배에 따라 액정이 상이한 피치를 가진 상태로 고정되어 CLC 영역이 형성될 수 있다. 상기 강한 자외선의 조사의 조건은, 조성물의 성분의 중합이 충분하게 진행될 정도로 수행되는 한 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 상기 자외선의 조사는, 자외선 A 내지 C 영역의 자외선을 약 1 J/cm2 내지 10 J/cm2의 광량으로 조사하여 수행될 수 있다.
하나의 예시에서 CLC 조성물의 도포층이 형성되는 기재층의 면에는 배향성이 부여되어 있을 수 있다. 배향성은, 예를 들면 상기와 같이 친수성 표면의 기재층을 사용하거나, 기재층을 러빙 또는 연신하거나, 혹은 기재층의 표면에 배향막을 형성하여 부여할 수 있다. 기재층의 면에 적절한 배향성을 부여함으로써 광대역 제 2 액정층의 형성 효과를 높일 수 있다. 기재층에 배향막을 형성하는 방식은 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에서 공지된 적절한 방식이 사용될 수 있다.
액정 필름의 제조 방법은, 상기 필름의 헤이즈를 5% 이상으로 조절하는 것을 포함할 수 있다. 헤이즈의 조절은, 예를 들면, 상기 제 2 액정층의 형성 시에 제 2 액정층 내에 전술한 호메오트로픽 또는 포컬 코틱 배향된 CLC 영역을 형성하는 방식으로 수행하거나, 또는 액정 필름의 적절한 위치에 헤이즈층을 형성하는 방식으로 수행할 수 있다.
호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역을 형성하는 방식은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, CLC 조성물의 도포층을 상기 범위의 젖음각을 가지는 기재층의 친수성 표면에 형성한 후에, 상기 기술한 방식으로 제 2 액정층을 형성하거나, CLC 조성물에 액정의 배향을 조절할 수 있는 적절한 첨가제를 배합하는 방식을 사용할 수 있다.
이에 따라, 하나의 예시에서 상기 CLC 조성물의 도포층은, 젖음각이 0도 내지 50도, 0도 내지 40도, 0도 내지 30도, 0도 내지 20도 또는 0도 내지 10도인 기재층의 표면에 형성될 수 있다. 상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층으로는, 표면에 적절한 친수화 처리를 수행한 기재층, 또는 그 자체가 친수성 관능기를 포함하여 처음부터 친수성을 가지는 기재층을 사용할 수 있다. 상기에서 친수화 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리 또는 알칼리 처리 등이 예시될 수 있다. 상기 처리 조건은 특별히 제한되지 않는다. 이 분야에서는 기재층에 친수성을 부여하기 위한 다양한 방식들이 공지되어 있고, 상기와 같은 방식을 채용하여 상기 젖음각을 기재층이 나타내도록 친수화 처리를 수행할 수 있다.
본 출원은 또한 반사형 편광판에 관한 것이다. 반사형 편광판은, 상기 액정 필름; 및 상기 액정 필름의 일면에 배치되어 있는 선편광자를 포함할 수 있다. 예를 들면, 도 6과 같이, 반사형 편광판(6)은 선편광자(601), 상기 제 1 액정층(102), 기재층(101) 및 제 2 액정층(103)을 순차로 포함할 수 있다.
선편광자는 여러 방향으로 진동하는 입사광으로부터 한쪽 방향으로 진동하는 광을 추출할 수 있는 기능성 소자이다. 선편광자로는, 예를 들면, PVA(poly(viNyl alcohol)) 선편광자와 같은 통상의 선편광자를 사용할 수 있다. 하나의 예시에서 선편광자는, 이색성 색소 또는 요오드가 흡착 및 배향되어 있는 폴리비닐알코올 필름 또는 시트일 수 있다. 상기 폴리비닐알코올은, 예를 들면, 폴리비닐아세테이트를 겔화하여 얻을 수 있다. 폴리비닐아세테이트로는, 비닐 아세테이트의 단독 중합체; 및 비닐 아세테이트 및 다른 단량체의 공중합체 등이 예시될 수 있다. 상기에서 비닐 아세테이트와 공중합되는 다른 단량체로는, 불포화 카복실산 화합물, 올레핀 화합물, 비닐에테르 화합물, 불포화 술폰산 화합물 및 암모늄기를 가지는 아크릴아미드 화합물 등의 일종 또는 이종 이상이 예시될 수 있다. 폴리비닐아세테이트의 겔화도는, 일반적으로 약 85몰% 내지 약 100몰% 또는 98몰% 내지 100몰% 정도이다. 또한, 선편광자에 사용되는 폴리비닐알코올의 중합도는, 일반적으로 약 1,000 내지 약 10,000 또는 약 1,500 내지 약 5,000일 수 있다.
반사형 편광판에서 선편광자와 제 1 액정층은, 예를 들면, 공지의 적절한 점착제층 또는 접착제층에 의해 서로 부착되어 있을 수 있다. 상기 구조에서 상기 선편광자의 광 흡수축과 제 1 액정층의 광축은 예를 들면, 약 40도 내지 50도 또는 약 45도를 이루거나, 또는 약 130도 내지 140도 또는 약 135도를 이룰 수 있다.
제 1 액정층과 선편광자는 점착제층 또는 접착제층을 통하여 직접 부착되어 있을 수도 있고, 필요에 따라서는, 선편광자와 점착제층 또는 접착제층의 사이 또는 제 1 액정층과 점착제층 또는 접착제층의 사이에 프라이머층을 추가로 포함하여 부착되어 있을 수도 있다. 프라이머층의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 일반적으로 접착성 향상을 위하여 사용되는 다양한 종류가 모두 사용될 수 있다.
반사형 편광판은, 또한 선편광자의 일면, 예를 들면, 선편광자의 제 1 액정층과 접하는 면과는 반대측면에 존재하거나, 혹은 선편광자의 양면에 존재하는 선편광자의 보호층을 추가로 포함할 수도 있다.
본 출원은 또한 LCD에 관한 것이다. 예시적인 LCD는 상기 액정 필름 또는 반사형 편광판을 포함할 수 있다.
하나의 예시에서 상기 LCD는, 액정 패널과 상기 액정 패널의 일측에 배치된 광원을 추가로 포함할 수 있고, 상기 액정 필름과 반사형 편광판이 상기 액정 패널과 광원의 사이에 배치되어 있을 수 있다. 또한, 반사형 편광판 또는 액정 필름은, 제 2 액정층이 제 1 액정층에 비하여 광원이 가깝게 위치하도록 배치되어 있을 수 있다.
도 7에 예시적으로 나타난 바와 같이, LCD(7)는, 예를 들면, 상부에 편광판(701)이 배치되어 있는 액정 패널(702); 상기 액정 패널(702)의 하부에 배치되어 있는 광원(704)을 포함할 수 있고, 액정 패널(702)과 광원(704)의 사이에 배치되어 있는 상기 반사형 편광판(703)을 포함할 수 있다. 이러한 경우아 반사형 편광판(703)의 선편광자(601)가 액정 패널(702)측에 배치될 수 있다.
다른 예시에서 LCD는, 도 8에 예시적으로 나타난 바와 같이, 상부 및 하부 편광판(701, 801)이 배치되어 있는 액정 패널(702); 상기 하부 편광판(801)의 하부에 배치되어 있는 광원(704)을 포함하고, 상기 하부 편광판(801)과 광원(704)의 사이에 배치되는 상기 액정 필름(802)을 포함할 수 있다. 이 경우 액정 필름(802)의 제 1 액정층(102)이 제 2 액정층(103)에 비하여 하부 편광판(801)에 가깝게 배치될 수 있다.
도 7 및 8의 구조에서 반사형 편광판(703) 또는 액정 필름(802)의 제 2 액정층(103)은, 광원(704)에서 출사되는 광의 일부는 투과시켜 액정 패널(702)측으로 보내고, 나머지 광은 다시 광원(704)측으로 반사시킬 수 있다. 액정 패널(702)측으로 보내진 광은 제 1 액정층(102)에 의하여 직선 편광으로 변환되어 상부로 전달될 수 있다. 제 2 액정층(103)에 의해 반사된 광은 장치의 내부에서 재반사되며, 그 편광 특성이 변하여 다시 반사형 편광판(703) 또는 액정 필름(802)으로 입사되며, 이러한 과정이 반복되면서 장치의 휘도 특성이 향상될 수 있다.
LCD는 상기 반사형 편광판 또는 액정 필름을 포함하는 한, 다른 부품 내지는 구조 등은 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에서 공지되어 있는 모든 내용이 적절하게 적용될 수 있다.
액정 필름 또는 반사형 편광판은, 예를 들면, LCD 등의 디스플레이 장치의 광 이용 효율을 개선하고, 휘도를 향상시키는 것에 사용될 수 있다. 예시적인 액정 필름 또는 반사형 편광판은 입사되는 광의 색감을 휘도의 손실을 최소화하면서 효과적으로 재현할 수 있어서, 영상 품질이 탁월한 디스플레이 장치를 제공할 수 있다.
도 1은, 예시적인 액정 필름의 모식도이다.
도 2는 기재층 또는 액정층의 x축, y축 및 z축을 설명하기 위한 모식도이다.
도 3은, CLC의 설명을 위한 예시적인 도면이다.
도 4는 CLC 영역의 배치를 예시적으로 설명하는 도면이다.
도 5는, CLC의 배향을 설명하기 위한 예시적인 도면이다.
도 6는, 예시적인 반사형 편광판을 나타내는 도면이다.
도 7 및 8은, 예시적인 LCD를 나타내는 도면이다.
도 9는 실시예의 필름의 투과율 측정 결과를 나타내는 도면이다.
이하 실시예 및 비교예를 통하여 상기 액정 필름을 보다 구체적으로 설명하지만, 상기 액정 필름의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
제조예 1. 제 1 액정층(A)의 제조
TAC(Triacetyl cellulose) 기재층(굴절률: 1.49, 두께: 80,000 nm)의 일면에 광배향층 형성용 조성물을 건조 후의 두께가 약 1,000Å이 되도록 코팅하고, 80℃의 오븐에서 2 분 동안 건조시켰다. 광배향층 형성용 조성물로는, 하기 화학식 3의 신나메이트기를 갖는 폴리노르보넨(분자량(Mw) = 150,000) 및 아크릴 단량체의 혼합물을 광개시제(Igacure 907)와 혼합하고, 다시 그 혼합물을 톨루엔 용매에 폴리노르보넨의 고형분 농도가 2 wt%가 되도록 용해시켜 제조한 조성물을 사용하였다(폴리노르보넨: 아크릴 단량체:광개시제 = 2:1:0.25(중량비)).
이어서, 건조된 광배향층 형성용 조성물에 직선 편광을 TAC 기재층의 길이 방향과 45도를 이루는 방향으로 조사하여 배향 처리하여, 광배향층을 형성하였다. 직선 편광의 조사는, 광배향층이 형성되어 있는 TAC 기재층을 약 3 m/min의 속도로 이동시키면서, 직선 편광 자외선(300 mW/cm2)을 약 30초 동안 조사하여 수행하였다. 이어서, 배향 처리된 배향층 상에 액정층을 형성하였다. 구체적으로는, 액정 조성물로서 하기 화학식 4로 표시되는 다관능성 중합성 액정 화합물 70 중량부 및 하기 화학식 5로 표시되는 단관능성 중합성 액정 화합물 30 중량부를 포함하고, 적정량의 광개시제를 포함하는 액정 조성물을 약 1 ㎛ 의 건조 두께가 되도록 도포하고, 하부의 배향층에 배향에 따라 배향시킨 후에, 자외선(300mW/cm2)을 약 10초 동안 조사하여 액정을 가교 및 중합시켜, 제 1 액정층(A)을 형성하였다. 제 1 액정층(A)에서 지상축 방향의 굴절률과 진상축 방향의 굴절률의 차이는 약 0.125였다. 상기 굴절률은 Axomatrix사의 Axoscan을 이용하여 제조사의 매뉴얼에 따라 측정하였다
[화학식 3]
Figure 112012062715749-pat00003
[화학식 4]
Figure 112012062715749-pat00004
[화학식 5]
Figure 112012062715749-pat00005

제조예 2 내지 5. 제 1 액정층 (B) 내지 제 1 액정층(E)의 제조
액정 조성물에 포함되는 다관능성 중합성 액정 화합물과 단관능성 중합성 액정 화합물의 중량 비율을 하기 표 1과 같이 조절한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일한 방식으로 제 1 액정층을 제조하였다.
액정층(B) 액정층(C) 액정층(D) 액정층(E)
다관능성 중합성 액정 화합물(A) 55 45 40 10
단관능성 중합성 액정 화합물(B) 45 55 60 90
굴절률 차이 0.125 0.125 0.125 0.125
두께(㎛) 1 1 1 1
굴절률의 차이: 지상축 방향의 굴절률과 진상축 방향의 굴절률의 차이
함량 단위: 중량부
제조예 6. CLC 조성물(A)의 조제
CLC 조성물은, Merck사에서 입수할 수 있는 CLC 혼합물인 RMM856을 톨루엔 및 시클로헥사논의 혼합 용매(중량 비율 = 7:3(톨루엔:시클로헥사논)에 고형분이 40 중량% 정도가 되도록 용해시킨 후에, 균일한 용액의 형성을 위하여 60℃에서 1 시간 정도 가열한 후 충분히 식혀서 제조하였다.
실시예 1.
액정 필름의 제조
제조예 1에서 제조된 제 1 액정층(A)이 일면에 형성된 TAC 기재층의 제 1 액정층이 형성되어 있지 않은 면에 CLC 조성물(A)를 와이어바로 코팅하고, 100℃에서 2 분 동안 건조시켜서 두께가 약 5 ㎛인 제 2 액정층의 전구층을 형성하였다. 그 후 약 60℃의 온도에서 건조된 상기 전구층에 파장이 자외선 조사 장비(TLK40W/10R, Philips사제)로 350 nm 내지 400 nm 정도의 범위 내인 자외선을 조사하여 키랄제의 농도 구배를 유도하였다(광량: 약 100 mJ/cm2). 농도 구배를 유도한 후에 다시 자외선 조사 장비(Fusion UV, 400W)로 조성물이 충분히 경화되도록 자외선을 조사하여 코팅층을 중합시켜서 제 2 액정층을 형성하여 액정 필름을 제조하였다.
실시예 2.
제조예 2에서 제조된 제 1 액정층(B)이 형성된 기재층을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방식으로 액정 필름을 제조하였다.
비교예 1 내지 3
비교예 1의 경우 제조예 3에서 제조된 제 1 액정층(C)이 형성된 기재층, 비교예 2의 경우 제조예 4에서 제조된 제 1 액정층(D)이 형성된 기재층, 비교예 3의 경우, 제조예 5에서 제조한 제 1 액정층(E)이 형성된 기재층을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방식으로 액정 필름을 제조하였다.
시험예 1. 제 1 액정층의 내구성 평가
제 1 액정층의 내구성은, 실시예 및 비교예에서 의해 제조된 액정 필름에 대하여 내구 테스트 후에 발생하는 위상차 값의 변화율을 측정하여 평가하였다. 구체적으로는 액정 필름을 가로 및 세로의 길이가 10 cm이 되도록 재단한 후에 점착제층을 매개로 유리 기판에 부착하고, 내열 조건인 80℃에서 100시간 또는 250시간 동안 방치한 후, 상기 내열 조건에 방치되기 전의 제 1 액정층의 위상차 수치 대비 방치 후의 위상차 수치의 감소량을 백분율로 환산하여 하기 표 2에 기재하였다. 상기에서 위상차 수치는, Axomatrix사의 Axoscan을 이용하여 제조사의 매뉴얼에 따라서 550 nm의 파장에서 측정하였다.
내구성 평가 시의 기준은 하기와 같다.
<평가 기준>
○: 내열 조건에서 100 시간 및 250 시간 방치 후의 위상차 수치의 변화량이 모두 8% 미만인 경우
×: 내열 조건에서 100 시간 및 250 시간 방치 후의 위상차 수치의 변화량이 어느 하나의 경우이든 8% 이상인 경우

 제1액정층
내구성		 위상차 변화율(100 시간 방치 후)(제1액정층)
초기 위상차 내열 조건 방치 후 위상차 위상차 변화율
실시예1 ○ 125.4 119.7 4.5
실시예2 ○ 120.7 114.1 5.5
비교예1 × 77.2 69.4 10.1
비교예2 × - - -
비교예3 × - - -
-: 제 1 액정층이 미배향 상태가 되어 위상차 측정 불가능
위상차 단위: nm
시험예 2. 파장에 따른 투과율의 측정
Axo metrics사의 Axo Scan 기기를 사용하여, 실시예에서 제조된 액정 필름의 광대역 반사 특성을 확인하고, 그 중에서 실시예 1의 결과를 도 9에 각각 첨부하였다. 도면에서 x축은 파장을 나타내고, y축은 투과율을 나타낸다. 또한, 도 9에서 "0"로 표시된 선은 정면에서 측정한 결과이고, "55"로 표시된 선은, 55도의 경사각에서 측정한 결과이다. 도 9의 결과로부터 실시예에서는 정면 및 경사각에서 안정적인 광대역 특성을 나타내는 것을 확인할 수 있다(실시예 2의 경우, 실시예 1과 동등한 결과를 확인하였다.).
100, 802: 액정 필름
102: 제 1 액정층
101, 200: 기재층
4, 103: 제 2 액정층
n: CLC 도파기
P: 피치
X: 나선축
41, 42: 제 2 액정층의 표면
431, 432, 433: CLC 영역
HA: CLC 영역의 나선축
31: 제 2 액정층의 두께 방향
32: 제 2 액정층의 두께 방향과 수직한 방향
6, 703: 반사형 편광판
601: 선편광자
7, 8: LCD
701, 801: 편광판
702: 액정 패널
704: 광원

Claims (18)

  1. 기재층; 상기 기재층의 일면에 형성되어 있고, 하기 일반식 1을 만족하는 제 1 액정층; 및 기재층의 다른 면에 형성되어 있고, 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 콜레스테릭 액정층을 가지는 액정 필름:
    [일반식 1]
    X < 8%
    상기 일반식 1에서 X는 상기 제 1 액정층의 초기 위상차 수치 대비 상기 제 1 액정층을 80℃에서 100시간 동안 방치한 후의 위상차 수치의 변화량의 백분율이다.
  2. 제 1 항에 있어서, 기재층은 광학적 등방성 또는 이방성 기재층인 액정 필름.
  3. 제 1 항에 있어서, 기재층은, 굴절률이 1.6 이하인 액정 필름.
  4. 제 1 항에 있어서, 기재층은, 면상 위상차가 10 nm 이하인 액정 필름.
  5. 제 1 항에 있어서, 기재층의 콜레스테릭 액정층이 형성되어 있는 면은 젖음각이 0도 내지 50도인 액정 필름.
  6. 제 1 항에 있어서, 제 1 액정층은, 면 내 지상축 방향의 굴절률과 진상축 방향의 굴절률의 차이가 0.05 내지 0.2이며, 두께가 0.5 ㎛ 내지 2.0 ㎛인 액정 필름.
  7. 제 1 항에 있어서, 제 1 액정층은 다관능성 중합성 액정 화합물 및 단관능성 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 필름.
  8. 제 7 항에 있어서, 제 1 액정층은, 단관능성 중합성 액정 화합물을, 다관능성 중합성 액정 화합물 100 중량부 대비 0 중량부를 초과하고, 100 중량부 이하의 양으로 포함하는 액정 필름.
  9. 제 1 항에 있어서, 콜레스테릭 배향된 액정 영역은, 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 내지 700 nm인 제 3 영역을 포함하는 액정 필름.
  10. 기재층의 일면에 다관능성 중합성 액정 화합물과 단관능성 중합성 액정 화합물을 포함하는 제 1 액정층을 형성하고, 다른 면에 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 nm 내지 700 nm인 제 3 영역을 포함하는 콜레스테릭 액정층을 형성하는 것을 포함하는 액정 필름의 제조 방법.
  11. 제 10 항에 있어서, 콜레스테릭 액정층은, 중합성 액정 화합물, 키랄제 및 광개시제를 포함하는 콜레스테릭 액정 조성물의 도포층에 40℃ 내지 80℃에서 자외선 A 영역의 자외선을 10 mJ/cm2 내지 500 mJ/cm2로 조사하고, 다시 자외선 A 내지 C 영역의 자외선을 1 J/cm2 내지 10 J/cm2로 조사하는 것을 포함하는 방식으로 형성되는 액정 필름의 제조 방법.
  12. 제 11 항에 있어서, 콜레스테릭 액정 조성물의 도포층이 형성되는 기재층의 면은 젖음각이 0도 내지 50도인 액정 필름의 제조 방법.
  13. 기재층; 상기 기재층의 일면에 형성되어 있고, 하기 일반식 1을 만족하는 제 1 액정층; 상기 제 1 액정층의 상부에 형성되어 있는 선편광자 및 상기 기재층의 다른 면에 형성되어 있고, 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 콜레스테릭 액정층을 가지는 반사형 편광판:
    [일반식 1]
    X < 8%
    상기 일반식 1에서 X는 상기 제 1 액정층의 초기 위상차 수치 대비 상기 제 1 액정층을 80℃에서 100시간 동안 방치한 후의 위상차 수치의 변화량의 백분율이다.
  14. 제 13 항에 있어서, 제 1 액정층의 광축과 선편광자의 광 흡수축은 40도 내지 50도 또는 130도 내지 140도를 이루는 반사형 편광판.
  15. 제 1 항의 액정 필름을 포함하는 액정 표시 장치.
  16. 제 13 항의 반사형 편광판을 포함하는 액정 표시 장치.
  17. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서, 액정 패널과 상기 액정 패널의 일측에 배치된 광원을 추가로 포함하고, 반사형 편광판 또는 액정 필름이 상기 액정 패널과 광원의 사이에 배치되어 있는 액정 표시 장치.
  18. 제 17 항에 있어서, 반사형 편광판 또는 액정 필름은 콜레스테릭 액정층이 제 1 액정층에 비하여 광원이 가깝게 위치하도록 배치되어 있는 액정 표시 장치.
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