KR101123802B1 - 반도체 칩 - Google Patents
반도체 칩 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101123802B1 KR101123802B1 KR1020100034737A KR20100034737A KR101123802B1 KR 101123802 B1 KR101123802 B1 KR 101123802B1 KR 1020100034737 A KR1020100034737 A KR 1020100034737A KR 20100034737 A KR20100034737 A KR 20100034737A KR 101123802 B1 KR101123802 B1 KR 101123802B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- semiconductor chip
- test
- electrode
- pads
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 123
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 75
- 230000008439 repair process Effects 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
- H01L22/34—Circuits for electrically characterising or monitoring manufacturing processes, e. g. whole test die, wafers filled with test structures, on-board-devices incorporated on each die, process control monitors or pad structures thereof, devices in scribe line
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
- H01L22/32—Additional lead-in metallisation on a device or substrate, e.g. additional pads or pad portions, lines in the scribe line, sacrificed conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/481—Internal lead connections, e.g. via connections, feedthrough structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/0401—Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/0557—Disposition the external layer being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/05571—Disposition the external layer being disposed in a recess of the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/1302—Disposition
- H01L2224/13023—Disposition the whole bump connector protruding from the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/14—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/141—Disposition
- H01L2224/1418—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/14181—On opposite sides of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
Description
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 칩을 나타낸 단면도이다.
도 3 및 도 4는 도 2의 반도체 칩의 일면을 나타낸 각각의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 칩의 테스트 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 반도체 칩을 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 반도체 칩을 나타낸 단면도이다.
도 8은 도 7의 반도체 칩의 일면을 나타낸 평면도이다.
도 9는 접촉 불량이 발생된 반도체 칩을 리페어한 상태를 나타낸 단면도이다.
도 10은 도 9의 반도체 칩의 타면을 나타낸 평면도이다.
Claims (20)
- 패드부가 형성된 일면 및 상기 일면에 대향하는 타면을 갖는 반도체 칩 몸체;
상기 패드부에 연결되며 상기 반도체 칩 몸체를 관통하여 형성된 관통전극; 및
상기 반도체 칩 몸체의 일면 및 타면 중 어느 하나에 배치된 판별 소자와, 상기 판별 소자와 상기 관통전극을 연결하는 테스트 연결배선을 포함하며, 상기 패드부와 관통전극의 전기적 접촉 여부를 판별하는 판별부;
를 포함하는 반도체 칩. - 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 판별 소자는 발광 소자, 열전 소자 및 압전 소자 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 1 항에 있어서,
상기 테스트 연결배선은,
상기 판별 소자의 일단과 관통전극을 연결하는 제1 테스트 연결배선; 및
상기 판별 소자의 일단에 대향하는 타단에 연결되어 그라운드 처리된 제2 테스트 연결배선;
을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 패드부들이 형성된 일면 및 상기 일면에 대향하는 타면을 갖는 반도체 칩 몸체;
상기 패드부들 상호 간을 연결하는 연결배선;
상기 반도체 칩 몸체 내의 패드부들 하부에 각각 배치된 테스트 패드들;
상기 패드부들에 연결되며 상기 반도체 칩 몸체의 타면으로부터 상기 테스트 패드들을 각각 관통하여 형성된 관통전극들; 및
상기 패드부들과 관통전극들의 전기적 접촉 여부를 판별하는 판별부들;
을 포함하는 반도체 칩. - 제 5 항에 있어서,
상기 판별부는,
상기 일면 또는 타면에 배치된 판별 소자; 및
상기 판별 소자와 상기 테스트 패드들을 연결하는 테스트 연결배선;
을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 6 항에 있어서,
상기 판별 소자는 발광 소자, 열전 소자 및 압전 소자 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 6 항에 있어서,
상기 테스트 연결배선은,
상기 판별 소자의 일단과 관통전극을 연결하는 제1 테스트 연결배선; 및
상기 판별 소자의 일단에 대향하는 타단에 연결되어 그라운드 처리된 제2 테스트 연결배선;
을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 5 항에 있어서,
상기 연결배선은, 평면상으로 볼 때, 시리얼 형태로 배치되어 상기 패드부들 모두와 연결된 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 5 항에 있어서,
상기 연결배선은 레이저 또는 전기적 커팅에 의해 선택적으로 절단되는 퓨즈 회로로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 5 항에 있어서,
상기 반도체 칩 몸체는 상기 테스트 연결배선들의 일부분을 노출시키는 개구들을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 패드부들이 형성된 일면 및 상기 일면에 대향하는 타면을 갖는 반도체 칩 몸체;
상기 패드부들 상호 간을 연결하는 연결배선;
상기 반도체 칩 몸체의 타면에 각각 형성된 테스트 패드들;
상기 패드부들에 각각 연결되며 상기 반도체 칩 몸체의 타면으로부터 상기 테스트 패드들을 관통하도록 형성된 관통전극들; 및
상기 패드부들과 관통전극들의 전기적 접촉 여부를 판별하는 판별부들;
을 포함하는 반도체 칩. - 제 12 항에 있어서,
상기 판별부는,
상기 일면 또는 타면에 배치된 판별 소자; 및
상기 판별 소자와 상기 관통전극을 연결하는 테스트 연결배선;
을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 13 항에 있어서,
상기 판별 소자는 발광 소자, 열전 소자 및 압전 소자 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 13 항에 있어서,
상기 테스트 연결배선은,
상기 판별 소자의 일단과 관통전극을 연결하는 제1 테스트 연결배선; 및
상기 판별 소자의 일단에 대향하는 타단에 연결되어 그라운드 처리된 제2 테스트 연결배선;
을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 12 항에 있어서,
상기 연결배선은, 평면상으로 볼 때, 시리얼 형태로 배치되어 상기 패드부들 모두와 연결된 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 12 항에 있어서,
상기 연결배선은 레이저 또는 전기적 커팅에 의해 선택적으로 절단되는 퓨즈 회로로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 12 항에 있어서,
상기 관통전극들은 데이터 신호 또는 파워 신호를 인가받는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 18 항에 있어서,
상기 관통전극들 중 상기 데이터 신호를 인가받는 관통전극들의 주변에 배치된 리페어용 관통전극들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 칩. - 제 19 항에 있어서,
상기 관통전극과 상기 리페어용 관통전극이 상호 연결되도록 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 칩.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100034737A KR101123802B1 (ko) | 2010-04-15 | 2010-04-15 | 반도체 칩 |
US12/980,843 US8586983B2 (en) | 2010-04-15 | 2010-12-29 | Semiconductor chip embedded with a test circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100034737A KR101123802B1 (ko) | 2010-04-15 | 2010-04-15 | 반도체 칩 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110115306A KR20110115306A (ko) | 2011-10-21 |
KR101123802B1 true KR101123802B1 (ko) | 2012-03-12 |
Family
ID=44787575
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100034737A Expired - Fee Related KR101123802B1 (ko) | 2010-04-15 | 2010-04-15 | 반도체 칩 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8586983B2 (ko) |
KR (1) | KR101123802B1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6054029B2 (ja) * | 2011-12-22 | 2016-12-27 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. | 半導体チップおよび半導体装置 |
KR20140008174A (ko) * | 2012-07-11 | 2014-01-21 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 칩 모듈 및 이를 갖는 반도체 패키지 |
KR101977699B1 (ko) | 2012-08-20 | 2019-08-28 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 멀티 칩 반도체 장치 및 그것의 테스트 방법 |
KR20180138472A (ko) * | 2017-06-21 | 2018-12-31 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치 |
KR20230118347A (ko) | 2022-02-04 | 2023-08-11 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 적층형 반도체 장치 및 그것의 테스트 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002076075A (ja) | 2000-08-24 | 2002-03-15 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
KR100621438B1 (ko) * | 2005-08-31 | 2006-09-08 | 삼성전자주식회사 | 감광성 폴리머를 이용한 적층 칩 패키지 및 그의 제조 방법 |
JP2008294127A (ja) | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Nec Electronics Corp | 半導体装置、半導体装置の製造方法 |
WO2009139070A1 (ja) | 2008-05-16 | 2009-11-19 | 株式会社アドバンテスト | 製造方法および試験用ウエハユニット |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI229401B (en) * | 2003-02-19 | 2005-03-11 | Via Tech Inc | A wafer lever test and bump process and a chip structure with test pad |
US7081679B2 (en) * | 2003-12-10 | 2006-07-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Structure and method for reinforcing a bond pad on a chip |
JP2009139273A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Elpida Memory Inc | 積層型半導体装置および導通テスト方法 |
-
2010
- 2010-04-15 KR KR1020100034737A patent/KR101123802B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-29 US US12/980,843 patent/US8586983B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002076075A (ja) | 2000-08-24 | 2002-03-15 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
KR100621438B1 (ko) * | 2005-08-31 | 2006-09-08 | 삼성전자주식회사 | 감광성 폴리머를 이용한 적층 칩 패키지 및 그의 제조 방법 |
JP2008294127A (ja) | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Nec Electronics Corp | 半導体装置、半導体装置の製造方法 |
WO2009139070A1 (ja) | 2008-05-16 | 2009-11-19 | 株式会社アドバンテスト | 製造方法および試験用ウエハユニット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8586983B2 (en) | 2013-11-19 |
KR20110115306A (ko) | 2011-10-21 |
US20110254000A1 (en) | 2011-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI443349B (zh) | 具有偵知晶片斷裂結構之半導體裝置 | |
US9230938B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
US20080054434A1 (en) | Semiconductor stack package for optimal packaging of components having interconnections | |
US8378346B2 (en) | Circuit architecture for the parallel supplying during electric or electromagnetic testing of a plurality of electronic devices integrated on a semiconductor wafer | |
US9129914B2 (en) | Electronic device, test board, and semiconductor device manufacturing method | |
US20110204357A1 (en) | Semiconductor device and penetrating electrode testing method | |
CN105358991A (zh) | 用于微电路和晶圆级ic测试的测试装置和方法 | |
KR100690922B1 (ko) | 반도체 소자 패키지 | |
US10062668B2 (en) | Semiconductor electronic device with improved testing features and corresponding packaging method | |
KR101123802B1 (ko) | 반도체 칩 | |
US8994397B2 (en) | Thermal pad shorts test for wire bonded strip testing | |
US6788092B2 (en) | Test assembly for integrated circuit package | |
TWI694567B (zh) | 印刷電路板及其測試方法以及製造半導體封裝的方法 | |
JP2005322921A (ja) | バンプテストのためのフリップチップ半導体パッケージ及びその製造方法 | |
KR101497608B1 (ko) | 반도체 테스트 소켓 및 수직형 피치 컨버터 제조방법 | |
US7474113B2 (en) | Flexible head probe for sort interface units | |
US7208758B2 (en) | Dynamic integrated circuit clusters, modules including same and methods of fabricating | |
TW201340283A (zh) | 晶圓結構、晶片結構以及堆疊型晶片結構 | |
JPH11344521A (ja) | 積層型コネクター装置および回路基板の検査装置 | |
KR20140134812A (ko) | 단선 테스트가 용이한 회로기판, 및 이를 포함하는 반도체 디바이스 | |
KR20020022558A (ko) | 반도체장치의 검사장치 및 그를 이용한 반도체제조방법 | |
US20030234660A1 (en) | Direct landing technology for wafer probe | |
US9535108B2 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
JP2003273313A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
KR100679167B1 (ko) | 동축케이블을 이용한 반도체 웨이퍼 테스트용 프로브 카드 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20100415 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20110527 Patent event code: PE09021S01D |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20120112 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20120228 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20120229 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20160109 |